JPH07243888A - 流量センサ - Google Patents
流量センサInfo
- Publication number
- JPH07243888A JPH07243888A JP6058199A JP5819994A JPH07243888A JP H07243888 A JPH07243888 A JP H07243888A JP 6058199 A JP6058199 A JP 6058199A JP 5819994 A JP5819994 A JP 5819994A JP H07243888 A JPH07243888 A JP H07243888A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- temperature
- temperature sensor
- flow rate
- heater
- sensor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims abstract description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 5
- 238000005259 measurement Methods 0.000 abstract description 3
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 31
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 9
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 230000002277 temperature effect Effects 0.000 description 3
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032683 aging Effects 0.000 description 1
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009529 body temperature measurement Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Measuring Volume Flow (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 製造が容易でしかも調整をほとんど要するこ
とがない広い流量範囲にわたって安定に測定を行うこと
ができる流量センサを得ること。 【構成】 内部にガスGが流れる管路11の表面にヒー
タ12を設けるとともに、このヒータ12の上流側、下
流側の管路11の表面にそれぞれ第1温度センサ14、
第2温度センサ15を設け、さらに、第1温度センサ1
4の上流側に第3温度センサ16を設け、第1温度セン
サ14における温度と第2温度センサ15における温度
との平均値が第3温度センサ16の温度より常に一定温
度だけ高くなるようにヒータ12に通電したときの温度
センサ14,15の出力の変化に基づいてガス流量を測
定するようにした。
とがない広い流量範囲にわたって安定に測定を行うこと
ができる流量センサを得ること。 【構成】 内部にガスGが流れる管路11の表面にヒー
タ12を設けるとともに、このヒータ12の上流側、下
流側の管路11の表面にそれぞれ第1温度センサ14、
第2温度センサ15を設け、さらに、第1温度センサ1
4の上流側に第3温度センサ16を設け、第1温度セン
サ14における温度と第2温度センサ15における温度
との平均値が第3温度センサ16の温度より常に一定温
度だけ高くなるようにヒータ12に通電したときの温度
センサ14,15の出力の変化に基づいてガス流量を測
定するようにした。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、ガス流量を測定する
ためのマスフローメータまたはガス流量を測定しガス流
量を制御するマスフローコントローラに用いられる流量
センサに関する。
ためのマスフローメータまたはガス流量を測定しガス流
量を制御するマスフローコントローラに用いられる流量
センサに関する。
【0002】
【従来の技術】例えばマスフローコントローラに用いら
れる従来の流量センサは、内径が0.3〜1mmのキャ
ピラリの外周にポリイミド樹脂などで被覆絶縁した数1
0μm程度の線材を上流側および下流側にヒータとして
巻設している。そして、キャピラリ内部にガスが流れる
ことによって、上流側のヒータは、ガス流によって熱を
奪われ、下流側のヒータは、ガス流によって運ばれる熱
によって温められる。この熱バランスによって流量を検
知することができる。
れる従来の流量センサは、内径が0.3〜1mmのキャ
ピラリの外周にポリイミド樹脂などで被覆絶縁した数1
0μm程度の線材を上流側および下流側にヒータとして
巻設している。そして、キャピラリ内部にガスが流れる
ことによって、上流側のヒータは、ガス流によって熱を
奪われ、下流側のヒータは、ガス流によって運ばれる熱
によって温められる。この熱バランスによって流量を検
知することができる。
【0003】この場合、前記構成の流量センサにおいて
は、巻線はヒータとしての機能のほかに、温度センサと
しての機能を有している。温度のバランスの変化を調べ
るために、上流側および下流側の温度センサをブリッジ
回路に組み込み、微妙な抵抗変化を出力としていた。
は、巻線はヒータとしての機能のほかに、温度センサと
しての機能を有している。温度のバランスの変化を調べ
るために、上流側および下流側の温度センサをブリッジ
回路に組み込み、微妙な抵抗変化を出力としていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記巻
線においては、抵抗値が数100Ω程度と小さい上に、
図4中のグラフIIに示すように、温度によって変化する
割合(TCR)が1℃当たり0.004%と非常に小さ
い。したがって、前記ブリッジ回路のアンプの増幅率が
大きく、アンプ自身の温度影響に大きく左右される。ま
た、経時変化による巻線の溶接箇所の微妙な接触抵抗の
変化によってもセンサ出力が大きく変化するといった不
都合があった。
線においては、抵抗値が数100Ω程度と小さい上に、
図4中のグラフIIに示すように、温度によって変化する
割合(TCR)が1℃当たり0.004%と非常に小さ
い。したがって、前記ブリッジ回路のアンプの増幅率が
大きく、アンプ自身の温度影響に大きく左右される。ま
た、経時変化による巻線の溶接箇所の微妙な接触抵抗の
変化によってもセンサ出力が大きく変化するといった不
都合があった。
【0005】さらに、前記ブリッジ回路がガスの温度や
環境温度を変化させても成り立つためには、前記2個の
巻線における抵抗値と抵抗温度係数が全く一致していな
ければならない。そして、巻線の製作時、抵抗温度係数
は、その測定の困難さから測定されることはないが、抵
抗値は測定し、±0.5Ωの範囲というような厳しい規
格範囲内に納めなければならず、このため、製作にかな
りの注意を払う必要があるところから、製造コストが高
くならざるを得なかった。
環境温度を変化させても成り立つためには、前記2個の
巻線における抵抗値と抵抗温度係数が全く一致していな
ければならない。そして、巻線の製作時、抵抗温度係数
は、その測定の困難さから測定されることはないが、抵
抗値は測定し、±0.5Ωの範囲というような厳しい規
格範囲内に納めなければならず、このため、製作にかな
りの注意を払う必要があるところから、製造コストが高
くならざるを得なかった。
【0006】この発明は、上述の事柄に留意してなされ
たもので、製造が容易でしかも調整をほとんど要するこ
とがない広い流量範囲にわたって安定に測定を行うこと
ができる流量センサを得ることを目的としている。
たもので、製造が容易でしかも調整をほとんど要するこ
とがない広い流量範囲にわたって安定に測定を行うこと
ができる流量センサを得ることを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の流量センサは、内部にガスが流れる管路
の表面にヒータを設けるとともに、このヒータの上流
側、下流側の管路の表面にそれぞれ第1温度センサ、第
2温度センサを設け、さらに、第1温度センサの上流側
に第3温度センサを設け、第1温度センサにおける温度
と第2温度センサにおける温度との平均値が第3温度セ
ンサの温度より常に一定温度だけ高くなるようにヒータ
を加熱し、ガス流量がゼロのときの第1温度センサ、第
2温度センサの抵抗値をそれぞれRu0 、Rd0 とし、
ガスが流れているときの第1温度センサ、第2温度セン
サの抵抗値をそれぞれRu、Rdとするとき、 {(Ru−Rd)−(Ru0 −Rd0 )}×f(Ru−
Rd) なる式に基づいて、前記管路中のガスの質量流量を求め
るようにしている。
め、この発明の流量センサは、内部にガスが流れる管路
の表面にヒータを設けるとともに、このヒータの上流
側、下流側の管路の表面にそれぞれ第1温度センサ、第
2温度センサを設け、さらに、第1温度センサの上流側
に第3温度センサを設け、第1温度センサにおける温度
と第2温度センサにおける温度との平均値が第3温度セ
ンサの温度より常に一定温度だけ高くなるようにヒータ
を加熱し、ガス流量がゼロのときの第1温度センサ、第
2温度センサの抵抗値をそれぞれRu0 、Rd0 とし、
ガスが流れているときの第1温度センサ、第2温度セン
サの抵抗値をそれぞれRu、Rdとするとき、 {(Ru−Rd)−(Ru0 −Rd0 )}×f(Ru−
Rd) なる式に基づいて、前記管路中のガスの質量流量を求め
るようにしている。
【0008】
【作用】前記流量センサにおいては、まず、調整時にガ
ス流量ゼロの状態でヒータに通電し、このときの第1サ
ーミスタおよび第2サーミスタの出力をマイクロコンピ
ュータに記憶しておき、これらサーミスタの温度との検
量線を得る。次に、ガスが流れている状態において、ヒ
ータの上下両側にそれぞれ設けられた第1、第2のサー
ミスタにおける温度の平均値が、第3サーミスタによっ
て検出されるガス温度より一定温度だけ高くなるよう
に、ヒータ12に電力を供給する。このときの、第1サ
ーミスタおよび第2サーミスタの出力差と前記検量線と
を用いることによって、ガス流量を得ることができる。
ス流量ゼロの状態でヒータに通電し、このときの第1サ
ーミスタおよび第2サーミスタの出力をマイクロコンピ
ュータに記憶しておき、これらサーミスタの温度との検
量線を得る。次に、ガスが流れている状態において、ヒ
ータの上下両側にそれぞれ設けられた第1、第2のサー
ミスタにおける温度の平均値が、第3サーミスタによっ
て検出されるガス温度より一定温度だけ高くなるよう
に、ヒータ12に電力を供給する。このときの、第1サ
ーミスタおよび第2サーミスタの出力差と前記検量線と
を用いることによって、ガス流量を得ることができる。
【0009】
【実施例】図1〜図3は、この発明に係る流量センサの
一例を示すものである。まず、図1および図2は、流量
センサのセンサ部10の構成を示しており、11は内部
にガスGが流れる管路で、断面形状が角形のキャピラリ
からなり、その表面には例えば小型のセラミックヒータ
12が貼り付けられている。13はキャピラリ11を水
平に保持するとともに、ヒータ12からキャピラリ11
への放熱を良好にするためのほぼU字状の放熱板で、キ
ャピラリ11は適宜の間隔をおいて立設された垂直部1
3a,13bを挿通し、垂直部13a,13bの間にヒ
ータ12が位置するように保持される。
一例を示すものである。まず、図1および図2は、流量
センサのセンサ部10の構成を示しており、11は内部
にガスGが流れる管路で、断面形状が角形のキャピラリ
からなり、その表面には例えば小型のセラミックヒータ
12が貼り付けられている。13はキャピラリ11を水
平に保持するとともに、ヒータ12からキャピラリ11
への放熱を良好にするためのほぼU字状の放熱板で、キ
ャピラリ11は適宜の間隔をおいて立設された垂直部1
3a,13bを挿通し、垂直部13a,13bの間にヒ
ータ12が位置するように保持される。
【0010】14,15はヒータ12のそれぞれ上流
側、下流側で、かつ、前記垂直部13a,13bの間に
おけるキャピラリ11の表面に貼り付けられる温度セン
サで、例えばチップタイプのサーミスタ(以下、第1サ
ーミスタ14、第2サーミスタ15と言う)よりなり、
ガス流によって温度が最も変化する部分に配置されてい
る。16は第1サーミスタ14の上流側のキャピラリ1
1の表面に、より詳しくは、上流側の垂直部13aより
もやや上流側のキャピラリ11の表面に貼り付けられる
温度センサで、例えばチップタイプのサーミスタ(以
下、第3サーミスタという)で、キャピラリ11内のガ
スGの温度を測定するものである。なお、以下、各サー
ミスタ14〜16の抵抗値をそれぞれRu、Rd、Rg
と表す。
側、下流側で、かつ、前記垂直部13a,13bの間に
おけるキャピラリ11の表面に貼り付けられる温度セン
サで、例えばチップタイプのサーミスタ(以下、第1サ
ーミスタ14、第2サーミスタ15と言う)よりなり、
ガス流によって温度が最も変化する部分に配置されてい
る。16は第1サーミスタ14の上流側のキャピラリ1
1の表面に、より詳しくは、上流側の垂直部13aより
もやや上流側のキャピラリ11の表面に貼り付けられる
温度センサで、例えばチップタイプのサーミスタ(以
下、第3サーミスタという)で、キャピラリ11内のガ
スGの温度を測定するものである。なお、以下、各サー
ミスタ14〜16の抵抗値をそれぞれRu、Rd、Rg
と表す。
【0011】そして、前記ヒータ12、サーミスタ14
〜16は、キャピラリ11の近傍に配置されたセラッミ
ク基板17に金線18を介してワイヤーボンディングさ
れている。19はセラッミク基板17に設けられた複数
のリード取り出し用ピンである。
〜16は、キャピラリ11の近傍に配置されたセラッミ
ク基板17に金線18を介してワイヤーボンディングさ
れている。19はセラッミク基板17に設けられた複数
のリード取り出し用ピンである。
【0012】ところで、一般に市販されているサーミス
タは、80℃以上の高温で酸化されてしまい抵抗値が変
化するのをふせぐため、サーミスタ本体はガラス封入さ
れている。したがって、これをその状態でキャピラリ1
1の表面に貼る付けることはできない。そこで、この実
施例においては、前記サーミスタ14〜16として、裸
のチップサーミスタをハーメチックシールを施してシー
ルし、その内部に窒素ガスなどの不活性ガスを封入した
り、内部を真空状態にしたものを用いている。
タは、80℃以上の高温で酸化されてしまい抵抗値が変
化するのをふせぐため、サーミスタ本体はガラス封入さ
れている。したがって、これをその状態でキャピラリ1
1の表面に貼る付けることはできない。そこで、この実
施例においては、前記サーミスタ14〜16として、裸
のチップサーミスタをハーメチックシールを施してシー
ルし、その内部に窒素ガスなどの不活性ガスを封入した
り、内部を真空状態にしたものを用いている。
【0013】図4は、従来の巻線に用いられてきた金属
抵抗体とこの発明で用いるサーミスタとの温度による抵
抗変化を示す図で、曲線Iは金属抵抗体(TCR400
0ppm)の抵抗変化を、曲線IIはサーミスタ(B定数
3800)の抵抗変化を、それぞれ示し、80℃におけ
る各抵抗値を1として表している。なお、各抵抗体の抵
抗値と温度との関数は、以下の通りである。 金属抵抗体: R=R0 {1+α(T−T0 )} サーミスタ: R=R0 exp{B(1/T−1/
T0 )} ここに、R:抵抗値、R0 :基準温度での抵抗値、T:
温度(K)、T0 :基準温度、α:抵抗温度係数、B:
B定数
抵抗体とこの発明で用いるサーミスタとの温度による抵
抗変化を示す図で、曲線Iは金属抵抗体(TCR400
0ppm)の抵抗変化を、曲線IIはサーミスタ(B定数
3800)の抵抗変化を、それぞれ示し、80℃におけ
る各抵抗値を1として表している。なお、各抵抗体の抵
抗値と温度との関数は、以下の通りである。 金属抵抗体: R=R0 {1+α(T−T0 )} サーミスタ: R=R0 exp{B(1/T−1/
T0 )} ここに、R:抵抗値、R0 :基準温度での抵抗値、T:
温度(K)、T0 :基準温度、α:抵抗温度係数、B:
B定数
【0014】上記図4に示されるように、数度の温度変
化では金属抵抗体の抵抗値はほとんど変化しない(約
0.004%/℃)。これに対し、サーミスタは、1℃
当たり数%も変化する。しかも、狭い温度範囲において
はほぼリニアに変化し、そのリニアリティは約2〜3%
と非常に優れている(B定数は通常3800程度)。な
お、前記リニアリティが仮に悪いとしても、後述するよ
うに、マイクロコンピュータ21内で検量線を作成する
ので、問題はない。
化では金属抵抗体の抵抗値はほとんど変化しない(約
0.004%/℃)。これに対し、サーミスタは、1℃
当たり数%も変化する。しかも、狭い温度範囲において
はほぼリニアに変化し、そのリニアリティは約2〜3%
と非常に優れている(B定数は通常3800程度)。な
お、前記リニアリティが仮に悪いとしても、後述するよ
うに、マイクロコンピュータ21内で検量線を作成する
ので、問題はない。
【0015】図3は、前記センサ部10におけるヒータ
12を駆動したり、センサ信号の処理を行うセンサ駆動
部20の一例を示し、この図において、21はマイクロ
コンピュータで、例えばEEPROM22が接続されて
いる。そして、マイクロコンピュータ21は、前記サー
ミスタ14〜16の抵抗変化を表す信号a,b,cが入
力され、また、ヒータ12への制御信号dが増幅回路2
3を介して出力される。サーミスタ14〜16の抵抗変
化を電気信号a,b,cに変換するには、マイクロコン
ピュータ21に定電流を流して電圧信号を得るようにし
てもよく、また、温度係数の小さいコンデンサを用い、
CRの発振回路を構成し、周波数信号としてもよい。
12を駆動したり、センサ信号の処理を行うセンサ駆動
部20の一例を示し、この図において、21はマイクロ
コンピュータで、例えばEEPROM22が接続されて
いる。そして、マイクロコンピュータ21は、前記サー
ミスタ14〜16の抵抗変化を表す信号a,b,cが入
力され、また、ヒータ12への制御信号dが増幅回路2
3を介して出力される。サーミスタ14〜16の抵抗変
化を電気信号a,b,cに変換するには、マイクロコン
ピュータ21に定電流を流して電圧信号を得るようにし
てもよく、また、温度係数の小さいコンデンサを用い、
CRの発振回路を構成し、周波数信号としてもよい。
【0016】前記EEPROM22には、検量線データ
や調整段階において得られるデータなどが記憶され、ま
た、電源を切ってもこれらが保存されるように構成され
ている。まず、検量線データについて説明すると、図5
は、第3サーミスタ16の抵抗値Rgと、第1サーミス
タ14および第2サーミスタ15の抵抗値の和(Ru+
Rd)との関係を表す検量線で、ガス温度を測定するた
めに第3サーミスタ16の抵抗値Rgのデータを取り込
み、次いで、前記(Ru+Rd)がこの検量線にしたが
った値になるように、ヒータ12に電力を供給する。こ
れによって、ヒータ12の加熱を(ガス温度+一定温度
差)に制御することができる。
や調整段階において得られるデータなどが記憶され、ま
た、電源を切ってもこれらが保存されるように構成され
ている。まず、検量線データについて説明すると、図5
は、第3サーミスタ16の抵抗値Rgと、第1サーミス
タ14および第2サーミスタ15の抵抗値の和(Ru+
Rd)との関係を表す検量線で、ガス温度を測定するた
めに第3サーミスタ16の抵抗値Rgのデータを取り込
み、次いで、前記(Ru+Rd)がこの検量線にしたが
った値になるように、ヒータ12に電力を供給する。こ
れによって、ヒータ12の加熱を(ガス温度+一定温度
差)に制御することができる。
【0017】そして、調整段階において、ガス流量ゼロ
の状態でヒータ12に電圧を供給すると、第1サーミス
タ14および第2サーミスタ15が温められて、それぞ
れ抵抗値に変化が生ずる。このときの第1サーミスタ1
4、第2サーミスタ15の抵抗値Ru0 、Rd0 を測定
する。このときのヒータ電圧と、第1サーミスタ14お
よび第2サーミスタ15の抵抗値の変化を示したものが
図5で、図中の曲線Iは第1サーミスタ14の抵抗値R
u0 を、曲線IIは第2サーミスタ15の抵抗値Rd
0 を、曲線III は(Ru0 +Rd0 )をそれぞれ示す。
また、(Ru0 +Rd0 )と(Ru0 −Rd0 )との関
係は、図6において実線で示すように表される。
の状態でヒータ12に電圧を供給すると、第1サーミス
タ14および第2サーミスタ15が温められて、それぞ
れ抵抗値に変化が生ずる。このときの第1サーミスタ1
4、第2サーミスタ15の抵抗値Ru0 、Rd0 を測定
する。このときのヒータ電圧と、第1サーミスタ14お
よび第2サーミスタ15の抵抗値の変化を示したものが
図5で、図中の曲線Iは第1サーミスタ14の抵抗値R
u0 を、曲線IIは第2サーミスタ15の抵抗値Rd
0 を、曲線III は(Ru0 +Rd0 )をそれぞれ示す。
また、(Ru0 +Rd0 )と(Ru0 −Rd0 )との関
係は、図6において実線で示すように表される。
【0018】以上のように調整した後、次のようにして
ガス流量を測定する。すなわち、ヒータ12の上下両側
にそれぞれ設けられた第1、第2のサーミスタ14,1
5における温度の平均値が、第3サーミスタ16によっ
て検出されるガス温度より一定温度だけ高くなるよう
に、ヒータ12に電力を供給し、このときの第1、第2
のサーミスタ14,15の出力Ru、Rdをマイクロコ
ンピュータ21に入力し、これらの和(Ru+Rd)を
求める。そして、このときの(Ru+Rd)に相当する
(Ru0 −Rd0 )の値を差し引いたものに、(Ru−
Rd)の関数、すなわち、f(Ru−Rd)を乗ずるこ
とによって、ガス流量Xが得られる。これを式で表すと
次のようになる。 X={(Ru−Rd)−(Ru0 −Rd0 )}×f(Ru−Rd) (1)
ガス流量を測定する。すなわち、ヒータ12の上下両側
にそれぞれ設けられた第1、第2のサーミスタ14,1
5における温度の平均値が、第3サーミスタ16によっ
て検出されるガス温度より一定温度だけ高くなるよう
に、ヒータ12に電力を供給し、このときの第1、第2
のサーミスタ14,15の出力Ru、Rdをマイクロコ
ンピュータ21に入力し、これらの和(Ru+Rd)を
求める。そして、このときの(Ru+Rd)に相当する
(Ru0 −Rd0 )の値を差し引いたものに、(Ru−
Rd)の関数、すなわち、f(Ru−Rd)を乗ずるこ
とによって、ガス流量Xが得られる。これを式で表すと
次のようになる。 X={(Ru−Rd)−(Ru0 −Rd0 )}×f(Ru−Rd) (1)
【0019】そして、この発明の流量センサにおけるゼ
ロ点は、上記(1)式における(Ru−Rd)−(Ru
0 −Rd0 )の項で補正されている。したがって、従来
のように、抵抗値のバランスによってゼロ点が変動する
ことはほとんどない。また、スパンの方も上記f(Ru
−Rd)によって温度影響がないように補正される。
ロ点は、上記(1)式における(Ru−Rd)−(Ru
0 −Rd0 )の項で補正されている。したがって、従来
のように、抵抗値のバランスによってゼロ点が変動する
ことはほとんどない。また、スパンの方も上記f(Ru
−Rd)によって温度影響がないように補正される。
【0020】この発明の流量センサにおいては、温度測
定に使用しているサーミスタ14〜16は、巻線に比べ
て検出出力の変化が大きいので、アンプのゲインは小さ
くてよい。その結果、アンプの温度影響を考慮する必要
がなくなる。そして、抵抗値が大きく、抵抗変化が大き
いので安定した出力を得ることができる。また、マイク
ロコンピュータ21にガス流量ゼロにおけるサーミスタ
14,15の出力を入力するので、サーミスタ14,1
5の抵抗値やB定数のバラツキを考慮する必要がない。
したがって、容易にセンサを製作することができ、歩留
りも大いに向上する。
定に使用しているサーミスタ14〜16は、巻線に比べ
て検出出力の変化が大きいので、アンプのゲインは小さ
くてよい。その結果、アンプの温度影響を考慮する必要
がなくなる。そして、抵抗値が大きく、抵抗変化が大き
いので安定した出力を得ることができる。また、マイク
ロコンピュータ21にガス流量ゼロにおけるサーミスタ
14,15の出力を入力するので、サーミスタ14,1
5の抵抗値やB定数のバラツキを考慮する必要がない。
したがって、容易にセンサを製作することができ、歩留
りも大いに向上する。
【0021】そして、前記サーミスタ14,15の抵抗
値のバランスはマイクロコンピュータ21に記憶されて
いるので、環境温度やガス温度が変化しても、ガス流量
ゼロの状態は、前記記憶内容から割り出すことができ
る。したがって、環境温度が変化しても、流量指示の変
化はほとんどなく、また、センサを恒温槽に収容して温
度調整を行う必要もない。
値のバランスはマイクロコンピュータ21に記憶されて
いるので、環境温度やガス温度が変化しても、ガス流量
ゼロの状態は、前記記憶内容から割り出すことができ
る。したがって、環境温度が変化しても、流量指示の変
化はほとんどなく、また、センサを恒温槽に収容して温
度調整を行う必要もない。
【0022】この発明は、上述の実施例に限られるもの
ではなく、例えばキャピラリ11として内径0.3〜1
mmの円筒状のものを用いてもよい。そして、ヒータ1
2として巻線タイプのものを用いてもよい。
ではなく、例えばキャピラリ11として内径0.3〜1
mmの円筒状のものを用いてもよい。そして、ヒータ1
2として巻線タイプのものを用いてもよい。
【0023】また、サーミスタは、大気中の酸素により
酸化され、特性が変化しやすい。そして、シリコン半導
体のPNジャンクションに逆バイアスをかけたときのリ
ーク電流がサーミスタと同様の特性を有するところか
ら、温度センサ14〜16として、サーミスタに代えて
PNダイオードを用いてもよい。
酸化され、特性が変化しやすい。そして、シリコン半導
体のPNジャンクションに逆バイアスをかけたときのリ
ーク電流がサーミスタと同様の特性を有するところか
ら、温度センサ14〜16として、サーミスタに代えて
PNダイオードを用いてもよい。
【0024】
【発明の効果】以上説明したように、この発明において
は、内部にガスが流れる管路の表面ににヒータを設け、
このヒータの上流側位置および下流側位置にそれぞれ温
度センサを設け、ヒータに通電したときの温度センサの
出力の変化に基づいてガス流量を測定するようにしてい
るので、温度センサの規格が不要になり、流量センサを
安価に得ることができる。また、調整段階においても、
温度調整のための調整が不要になる。したがって、前記
温度センサ相互のバラツキによって生じる温度影響がな
くなり、広い温度範囲にわたって安定に動作する流量セ
ンサを得ることができる。
は、内部にガスが流れる管路の表面ににヒータを設け、
このヒータの上流側位置および下流側位置にそれぞれ温
度センサを設け、ヒータに通電したときの温度センサの
出力の変化に基づいてガス流量を測定するようにしてい
るので、温度センサの規格が不要になり、流量センサを
安価に得ることができる。また、調整段階においても、
温度調整のための調整が不要になる。したがって、前記
温度センサ相互のバラツキによって生じる温度影響がな
くなり、広い温度範囲にわたって安定に動作する流量セ
ンサを得ることができる。
【図1】流量センサのセンサ部の構成の一例を示す斜視
図である。
図である。
【図2】前記センサ部の主要部を概略的に示す断面図で
ある。
ある。
【図3】前記流量センサのセンサ駆動部の構成の一例を
概略的に示す図である。
概略的に示す図である。
【図4】従来の巻線に用いられてきた金属抵抗体とこの
発明で用いるサーミスタとの温度による抵抗変化を示す
図である。
発明で用いるサーミスタとの温度による抵抗変化を示す
図である。
【図5】検量線の一例を示す図である。
【図6】ガス流量がゼロのときにおけるヒータ電圧と、
第1サーミスタおよび第2サーミスタの抵抗値の変化を
示した図である。
第1サーミスタおよび第2サーミスタの抵抗値の変化を
示した図である。
【図7】2つのサーミスタ出力の和と差との関係を表し
た図である。
た図である。
11…管路、12…ヒータ、14…第1温度センサ、1
5…第2温度センサ、16…第3温度センサ、G…ガ
ス。
5…第2温度センサ、16…第3温度センサ、G…ガ
ス。
Claims (1)
- 【請求項1】 内部にガスが流れる管路の表面にヒータ
を設けるとともに、このヒータの上流側、下流側の管路
の表面にそれぞれ第1温度センサ、第2温度センサを設
け、さらに、第1温度センサの上流側に第3温度センサ
を設け、第1温度センサにおける温度と第2温度センサ
における温度との平均値が第3温度センサの温度より常
に一定温度だけ高くなるようにヒータを加熱し、ガス流
量がゼロのときの第1温度センサ、第2温度センサの抵
抗値をそれぞれRu0 、Rd0とし、ガスが流れている
ときの第1温度センサ、第2温度センサの抵抗値をそれ
ぞれRu、Rdとするとき、 {(Ru−Rd)−(Ru0 −Rd0 )}×f(Ru−
Rd) なる式に基づいて、前記管路中のガスの質量流量を求め
ることを特徴とする流量センサ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05819994A JP3424974B2 (ja) | 1994-03-02 | 1994-03-02 | 流量センサ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05819994A JP3424974B2 (ja) | 1994-03-02 | 1994-03-02 | 流量センサ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07243888A true JPH07243888A (ja) | 1995-09-19 |
JP3424974B2 JP3424974B2 (ja) | 2003-07-07 |
Family
ID=13077365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP05819994A Expired - Fee Related JP3424974B2 (ja) | 1994-03-02 | 1994-03-02 | 流量センサ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3424974B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10254436A (ja) * | 1997-03-10 | 1998-09-25 | Yamatake:Kk | 電子式管楽器 |
JP2003121226A (ja) * | 2001-10-19 | 2003-04-23 | Yamatake Corp | フローセンサ |
WO2003093838A1 (fr) * | 2002-05-02 | 2003-11-13 | Yamatake Corporation | Capteur de vitesse d'ecoulement |
JP2005172451A (ja) * | 2003-12-08 | 2005-06-30 | Almex Koosei Kk | 熱式流量計 |
DE10215954B4 (de) * | 2001-08-22 | 2006-08-10 | Mitsubishi Denki K.K. | Durchflussmessvorrichtung |
JP2008157754A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Shimadzu Corp | 熱式質量流量計 |
US7752909B2 (en) | 2004-09-07 | 2010-07-13 | Yamatake Corporation | Flow sensor with non-contact temperature detecting means |
JP2017101955A (ja) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | アズビル株式会社 | 測定装置及び測定装置の製造方法 |
CN110960763A (zh) * | 2019-09-16 | 2020-04-07 | 温州医科大学 | 一种基于温差测量原理的医用吸氧流量检测方法及装置 |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101405581B (zh) * | 2006-03-28 | 2011-07-20 | 株式会社岛津制作所 | 热质流量计 |
-
1994
- 1994-03-02 JP JP05819994A patent/JP3424974B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH10254436A (ja) * | 1997-03-10 | 1998-09-25 | Yamatake:Kk | 電子式管楽器 |
DE10215954B4 (de) * | 2001-08-22 | 2006-08-10 | Mitsubishi Denki K.K. | Durchflussmessvorrichtung |
JP2003121226A (ja) * | 2001-10-19 | 2003-04-23 | Yamatake Corp | フローセンサ |
WO2003093838A1 (fr) * | 2002-05-02 | 2003-11-13 | Yamatake Corporation | Capteur de vitesse d'ecoulement |
CN100405066C (zh) * | 2002-05-02 | 2008-07-23 | 株式会社山武 | 流速传感器 |
JP2005172451A (ja) * | 2003-12-08 | 2005-06-30 | Almex Koosei Kk | 熱式流量計 |
US7752909B2 (en) | 2004-09-07 | 2010-07-13 | Yamatake Corporation | Flow sensor with non-contact temperature detecting means |
JP2008157754A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Shimadzu Corp | 熱式質量流量計 |
JP2017101955A (ja) * | 2015-11-30 | 2017-06-08 | アズビル株式会社 | 測定装置及び測定装置の製造方法 |
CN110960763A (zh) * | 2019-09-16 | 2020-04-07 | 温州医科大学 | 一种基于温差测量原理的医用吸氧流量检测方法及装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3424974B2 (ja) | 2003-07-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6883370B2 (en) | Mass flow meter with chip-type sensors | |
US5279154A (en) | Thermal mass flow sensor | |
US4909078A (en) | Fluid flow detector | |
US8359919B2 (en) | Thermal humidity sensor | |
KR940000140B1 (ko) | 열식 유량계 | |
US4805296A (en) | Method of manufacturing platinum resistance thermometer | |
CN113196046B (zh) | 气体传感器 | |
JPH07243888A (ja) | 流量センサ | |
JPH063389B2 (ja) | 流体の流量測定装置 | |
EP0353996B1 (en) | A flow sensor | |
JP6631049B2 (ja) | ガス検出装置 | |
US7469583B2 (en) | Flow sensor | |
JPH0854268A (ja) | 質量流量センサ | |
JPH08304136A (ja) | 発熱抵抗式空気流量計 | |
JP2789272B2 (ja) | 流量計の流量補正方法 | |
JPH1164061A (ja) | 流速センサ及び流速計測方法 | |
JP2010002329A (ja) | 流量センサ | |
JP2000074750A (ja) | ブリッジ回路を用いた計測装置 | |
JP2553622Y2 (ja) | 湿度検知装置 | |
JP2003106884A (ja) | 気流センサ | |
JPH0516530B2 (ja) | ||
JPH0668452B2 (ja) | 質量流量計 | |
JPH07120339A (ja) | ピラニ真空計 | |
JP2003106883A (ja) | 気流センサ | |
JPS63135866A (ja) | フロ−センサ |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |