JPH07242600A - チオールプロテアーゼ阻害剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【構成】式〔Ｉ〕 〔式中、Ｒは、水素原子、置換されてもよいアリール基
若しくはアラルキル基、シクロアルキル基、シクロアル
ケニル基、低級アルキル基又はトリ低級アルキルシリル
基又は−（ＣＨ₂）_n−ＯＲ³（ここで、ｎは１乃至４の
整数を意味し、Ｒ³は水素原子、水酸基の保護基、５ −
ジメチルアミノ−１−ナフタレンスルホニル基、保護さ
れてもよいアミノ酸残基又は置換されてもよいジ若しく
はトリペプチド残基を意味する）を意味し、Ｒ¹は水素
原子又はカルボキシル保護基を意味し、Ｒ²はヒドロキ
シ基、低級アルコキシ基又は−ＮＲ⁴Ｒ⁵（ここで、Ｒ⁴
は水素原子、低級アルキル基又はアミノ保護基を意味
し、Ｒ⁵は水素原子、低級アルキル基、アミノ酸残基、
保護されてもよいアミノ酸残基又は置換されてもよいジ
若しくはトリペプチド残基を意味する）を意味する〕で
示される２−アルキニルマロン酸誘導体又はその塩を含
有してなるチオールプロテアーゼ阻害剤。 【効果】骨粗鬆症治療剤及び高カルシウム血症治療剤と
して有用である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、２−アルキニルマロン
酸誘導体又はその塩を含有してなるカテプシンＬ、カテ
プシンＢ等のチオールプロテアーゼ阻害剤に関するもの
であり、骨粗鬆症治療剤や高カルシウム血症治療剤等の
医薬として有用である。また本発明はチオールプロテア
ーゼ阻害活性を有する新規２−アルキニルマロン酸誘導
体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】活性中心にチオール基を有する蛋白分解
酵素はチオールプロテアーゼと総称されている。カテプ
シンＬ、カテプシンＢは、カルシウム依存性中性プロテ
アーゼ（ＣＡＭＰ）、パパイン、フィシン、プロメリ
ン、プロメラン等とともに代表的なチオールプロテアー
ゼの一つである。そしてこれらチオールプロテアーゼに
対して阻害作用を有する物質は、チオールプロテアーゼ
が関与するとされる疾患、例えば筋ジストロフィー症、
炎症、腎性高血圧、白内症、心筋梗塞、ウィルス感染
症、悪性腫瘍、骨粗鬆症、アレルギー疾患等の予防又は
治療に有効であろうことが期待されている。また、近年
に至り、勝沼等の研究によってカテプシンＬ、カテプシ
ンＢと骨粗鬆症乃至悪性腫瘍性高カルシウム血症の関係
が解明され、それによって、とりわけカテプシンＬ阻害
剤の骨粗鬆症治療剤乃至悪性腫瘍性高カルシウム血症治
療剤としての医薬への適用が注目されつつある。（勝沼
信彦「ＢＩＯ ｍｅｄｉａ」７（６）、１９９２、７３
−７７他）。骨組織においては、骨芽細胞（ｏｓｔｅｏ
ｂｌａｓｔ）による骨形成と、破骨細胞（ｏｓｔｅｏｃ
ｌａｓｔ）による骨吸収が生涯を通じて行われており、
成長期には骨形成が骨吸収を上回ることにより骨重量が
増加し、一方老年期には逆に骨吸収が骨形成を上回るた
めに骨重量が減少し、骨粗鬆症の発症となる。これら骨
粗鬆症の原因としては様々なものがあるが、特に骨崩壊
（骨吸収）を主原因の一つとして挙げることができる。
これを更に２つの原因に分けると次のようになる。即
ち、一つはカルシウムの吸収と沈着不全に起因するもの
であり、更に詳しくはカルシウムの供給量、転送、吸
収、及び沈着が関係するものであり、ビタミンＤ誘導
体、女性ホルモン（エストロゲン）等が関与していると
考えられる。いま一つは、骨支持組織であるコラーゲン
の分解促進を内容とするものであり、破骨細胞内リソゾ
ームから分泌されるチオールプロテアーゼ群、中でも特
にカテプシンＬ、カテプシンＢによる骨コラーゲン分解
が主たる原因である。破骨細胞内のリソゾームから分泌
されたこれらカテプシンＬ及びＢは骨組織中のコラーゲ
ンの分解を促進し、それによって古い骨は溶解され、ヒ
ドロキシプロリンとともにカルシウムが血中に遊離放出
させられる。従って、カテプシンＬ及びＢのコラーゲン
分解能を阻害することによって過剰な骨崩壊を防止する
ことが可能であり、ひいては骨粗鬆症の治療が可能とな
る。これら骨粗鬆症の治療剤としては、エストロゲン、
タンパク同化ホルモン、カルシウム剤、ビタミンＤ、カ
ルシトニン、あるいはビスホスホネート等が知られてい
るが、本発明のごとき、カテプシンＬ阻害、カテプシン
Ｂ阻害のいわゆるチオールプロテアーゼ阻害を作用機序
とする骨粗鬆症治療剤は知られていない。

【０００３】一方、高カルシウム血症は、血清中のカル
シウム濃度が正常値以上となる代謝異常であり、腫瘍患
者に多く見受けられる。これを放置した場合、患者の寿
命は１０日程度であると言われている。原因の多くは腫
瘍の骨転移である。腫瘍が骨に転移すると、骨破壊が起
こり、カルシウムが血中に放出される。このカルシウム
は腎臓で処理されるが、骨破壊のスピードが腎臓の処理
能力を上回ったとき、高カルシウム血症の発現となる。
治療方法としては、フロセミドを併用した生理的食塩水
の輸液を用いることにより腎臓からのカルシウム排泄を
促進する方法や、骨粗鬆症治療薬であるカルシトニンを
使用する方法等が知られている。即ち、骨吸収を抑制す
るがごとき骨粗鬆症治療薬は悪性腫瘍性高カルシウム血
症の治療剤としても有効であるといえる。しかしなが
ら、本発明のごときカテプシンＬ阻害、カテプシンＢ阻
害を作用機序とする高カルシウム血症治療薬は知られて
いない。なお、本発明の医薬の有効成分である２−アル
キニルマロン酸誘導体のうちのある種の化合物は既に我
々が発表したところであり（「日本薬学会第１１２年
会」１９９２）、また出願したところである（特願平４
−２６０５８３）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】上記のとおり、骨粗鬆
症に対する治療方法は種々知られているが、実際に臨床
の場で行われているのは食事や運動による体質改善や、
ビタミンＤ₃ 、カルシトニン投与のみである。また悪性
疾患（例えば、多発性骨髄腫、肺癌等）の末期にみられ
る悪性高カルシウム血症は致命的であるにもかかわら
ず、その治療法は補液を基本としたグルココルチコイド
とカルシトニンの併用等を行うのみである。このように
骨粗鬆症や悪性高カルシウム血症の治療法は未だ十分と
いえるものではなく、新たな作用機序に基づく新しい治
療薬の出現が望まれている。そこで、本発明者等はカテ
プシンＬ乃至カテプシンＢと骨崩壊の関係に注目し、鋭
意研究を行った結果、２−アルキニルマロン酸誘導体が
優れたカテプシンＬ阻害活性、カテプシンＢ阻害活性を
有することを見い出し、本発明を完成するに至った。

【０００５】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、下記の
ごとき、チオールプロテアーゼ阻害剤、カテプシンＬ阻
害剤、カテプシンＢ阻害剤、骨粗鬆症治療剤、高カルシ
ウム血症治療剤に関するものであり、また、ある種の新
規２−アルキニルマロン酸誘導体に関するものである。 （１）下記一般式〔Ｉ〕

【０００６】

【化１】

【０００７】〔式中、Ｒは、水素原子、置換されてもよ
いアリール基若しくはアラルキル基、シクロアルキル
基、シクロアルケニル基、低級アルキル基、トリ低級ア
ルキルシリル基又は

【０００８】

【化２】

【０００９】（ここで、ｎは１乃至４の整数を意味し、
Ｒ³は水素原子、水酸基の保護基、５−ジメチルアミノ
−１−ナフタレンスルホニル基、保護されてもよいアミ
ノ酸残基又は置換されてもよいジ若しくはトリペプチド
残基を意味する）を意味し、Ｒ ¹は水素原子又はカルボ
キシル保護基を意味し、Ｒ²はヒドロキシ基、低級アル
コキシ基又は

【００１０】

【化３】

【００１１】（ここで、Ｒ⁴は水素原子、低級アルキル
基又はアミノ保護基を意味し、Ｒ⁵は水素原子、低級ア
ルキル基、アミノ酸残基、保護されてもよいアミノ酸残
基又は置換されてもよいジ若しくはトリペプチド残基を
意味する）を意味する〕で示される２−アルキニルマロ
ン酸誘導体又はその塩を含有してなるチオールプロテア
ーゼ阻害剤。

【００１２】（２）上記（１）記載の２−アルキニルマ
ロン酸誘導体又はその塩を含有してなるカテプシンＢ阻
害剤。

【００１３】（３）上記（１）記載の２−アルキニルマ
ロン酸誘導体又はその塩を含有してなるカテプシンＬ阻
害剤。

【００１４】（４）上記（１）記載の２−アルキニルマ
ロン酸誘導体又はその塩を含有してなる骨粗鬆症治療
剤。

【００１５】（５）上記（１）記載の２−アルキニルマ
ロン酸誘導体又はその塩を含有してなる高カルシウム血
症治療剤。

【００１６】（６）下記一般式〔II〕

【００１７】

【化４】

【００１８】（式中、Ｒ及びＲ¹は上記と同じであり、
Ｒ⁶はヒドロキシ基、低級アルコキシ基を意味する）で
示される２−ヒドロキシ−２−アルキニルマロン酸誘導
体。

【００１９】（７）下記一般式〔III〕

【００２０】

【化５】

【００２１】（式中、Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びｎは上記と同
じであり、Ｒ⁷は保護されてもよいアミノ酸残基又は保
護されてもよいジ若しくはトリペプチド残基を意味す
る）で示される２−アミノ−２−アルキニルマロン酸誘
導体。

【００２２】（８）下記一般式〔IV〕

【００２３】

【化６】

【００２４】（式中、Ｒ、Ｒ¹及びＲ⁴は上記と同じであ
り、Ｒ⁸は保護されてもよいアミノ酸残基又は保護され
てもよいジ若しくはトリペプチド残基を意味する）で示
される２−置換アミノ−２−アルキニルマロン酸誘導
体。

【００２５】なお、本明細書中における置換基に関する
用語の意味は下記の通りである。「アリール基」とは、
フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、ビフェ
ニル基等の芳香族炭化水素基を意味し、好ましくはフェ
ニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基であり、特に
好ましくはフェニル基である。「アラルキル基」とは、
ベンジル基、フェネチル基等のフェニル低級アルキル基
を意味し、特に好ましくはベンジル基である。これら
「アリール基」、「アラルキル基」はメチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基等の低級アルキル基；
水酸基；メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等の低
級アルコキシ基等の置換基の１つ以上で置換されてもよ
い。「シクロアルキル基」とは、炭素数３乃至７の飽和
脂肪族炭化水素環であり、具体的には、シクロプロピル
基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシ
ル基又はシクロヘプチル基を意味する。好ましくはシク
ロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シ
クロヘキシル基であり、特に好ましくは、シクロペンチ
ル基、シクロヘキシル基である。「シクロアルケニル
基」とは、上記のごときシクロアルキル基の飽和脂肪族
炭化水素環中の少なくとも１対の隣接炭素原子が二重結
合で結ばれた、例えばシクロペンテニル基、シクロヘキ
セニル基等を意味する。「低級アルキル基」とは、メチ
ル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル
基、イソブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の、直鎖又は
分岐の炭素数１乃至４のアルキル基を意味する。これら
「アルキル基」は、メルカプト基、カルボキシ基、低級
アルコキシカルボニル基等の置換基で置換されてもよ
い。「水酸基の保護基」とは、加水分解又は水素添加分
解により離脱することのできるものであれば如何なるも
のでもよいが、特に好ましくはテトラヒドロピラニル基
である。「トリ低級アルキルシリル基」とは、例えばト
リメチルシリル基、トリエチルシリル基である。「カル
ボキシル保護基」とは、カルボキシル基を実質的に保護
するようなものなら如何なるものでもよいが、特に好ま
しくはメチル基、エチル基等の低級アルキル基又はアラ
ルキル基である。「アミノ保護基」とは、通常のアミノ
酸化学の分野で用いられるアミノ保護基であり、アミノ
基又はイミノ基を諸反応から保護するものであれば、い
かなる保護基も採用し得る。例えば、ホルミル基、アセ
チル基、プロピオニル基、トリフルオロアセチル基等の
置換又は非置換の低級アルカノイル、ベンジル基、フタ
ロイル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ）
等の低級アルコキシカルボニル基、ベンジルオキシカル
ボニル基（Ｚ）等のアリールオキシカルボニル基、ベン
ゼンスホニル基、トシル基等のアリールスルホニル基、
トリチル基、ベンジル基等のアラルキル基を挙げること
ができる。「低級アルコキシ基」とは、炭素数１乃至４
の直鎖又は分岐のアルコキシ基であり、例えばメトキシ
基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等であ
り、好ましくはメトキシ基、エトキシ基である。「アミ
ノ残基」とは、アミノ酸のカルボキシル基から水酸基が
はずれた形の残基であり、例えばＬ−Ａｒｇ−等を挙げ
ることができる。これらアミノ残基は、Ｂｏｃ、Ｍｔｓ
（２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニル基等のア
ミノ保護基で保護されていてもよい。「ジ若しくはトリ
ペプチド残基」とはジペプチド、トリペプチドのＣ末端
のカルボキシル基から水酸基がはずれた形の残基であ
り、例えばＬ−Ｐｈｅ−Ｌ−Ａｒｇ−、Ｌ−Ａｒｇ−Ｌ
−Ａｒｇ−等を挙げることができる。これらアミノ残基
は、Ｂｏｃ（ｔ−ブトキシカルボニル基）、Ｍｔｓ
（２，４，６−トリメチルベンゼンスルホニル基）等の
アミノ保護基で保護されていてもよい。

【００２６】次に、本発明に係る新規２−アルキニルマ
ロン酸誘導体〔Ｉ〕の製造方法について、一般的製造方
法と具体的製造例を以て述べるが、これら誘導体〔Ｉ〕
の製造は下記方法に限定されるものでないことは勿論で
ある。また、より詳しくは個々の製造例を参考にすると
よい。 製造方法１（Ｒが水素原子、置換されてもよいアリール
基若しくはアラルキル基、シクロアルキル基、シクロア
ルケニル基、低級アルキル基又はトリ低級アルキルシリ
ル基の場合）

【００２７】

【化７】

【００２８】（第１工程） 化合物〔３〕の製造 この工程自体は、アザ−ビッティヒ（ａｚａ−Ｗｉｔｔ
ｉｇ）反応としてよく知られている（Ｔｅｔｒａｈｅｄ
ｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，２２（４６），４６０７（１９８
１））。化合物〔１〕は、ケトマロン酸のジエステル体
であり、例えばジエチル ケトマロン酸エステル、ジメ
チル ケトマロン酸エステル、ジベンジル ケトマロン
酸エステル、ジフェナセチル ケトマロン酸エステル等
を挙げることができる。化合物〔２〕は、アセチル基、
ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基（Ｂｏｃ）、ベンジル
オキシカルボニル基（Ｚ）、ｐ−ニトロベンジルオキシ
カルボニル基等のアミノ保護基（Ｒ²）で保護されてな
るイミノトリフェニルホスフィンであり、好ましくはア
セチルイミノトリフェニルホスフィンである。化合物
〔３〕は、化合物〔２〕を無水テトラヒドロフラン（Ｔ
ＨＦ）、無水ジオキサン等の有機溶媒に溶解させた後、
更に同溶液中に１当量の化合物〔１〕を加え、不活性ガ
ス雰囲気下で数時間乃至数十時間反応させることによっ
て得ることができる。

【００２９】（第２工程） 化合物〔Ｉ〕の製造 化合物〔Ｉ〕は、第１工程で得られた化合物〔３〕を単
離し、又は単離することなくそのままリチウムアセチラ
イド〔４〕と不活性ガス雰囲気下、−１０℃〜−８０℃
の条件下に反応させてアルキニル化することによって得
られる。リチウムアセチライド〔４〕は、例えば対応す
る置換基Ｒ（Ｒは前記のとおり）を有するアセチレン誘
導体をｎ−ブチルリチウムと無水ＴＨＦ、無水エーテ
ル、無水ジメトキシエタン等の有機溶媒中で交換反応に
付することにより容易に得ることができる。なお、Ｒ基
としてヒドロキシ置換低級アルキル基、例えば２−ヒド
ロキシエチル基を有する化合物〔Ｉ〕を望む場合は、化
合物〔４〕としてＬｉ−Ｃ≡Ｃ−Ｃ₂Ｈ₄−Ｏ−保護基
（テトラヒドロピラニル基、メトキシメチル基、ベンジ
ル基、ｐ−ニトロベンジル基等）のごときを用いて、反
応させた後、これを脱保護すればよい。

【００３０】 （第３工程） 化合物〔Ｉ〕（但し、Ｒ＝−Ｈ）の製造 前記第１工程及び第２工程の方法に従ってトリメチルシ
リルエチニル基を有する化合物〔５〕、例えばエチル
２−アセトアミド−２−エトキシカルボニル−４−トリ
メチルシリル−３−ブチン酸エステルを得た後、脱シリ
ル化することにより容易にトリメチルシリル基を脱離さ
せて、Ｒが−Ｈである目的化合物〔Ｉ〕を得ることがで
きる。具体的には、化合物〔５〕をＴＨＦ、ジオキサ
ン、アセトン等の非反応性の極性有機溶媒に溶解させ、
不活性ガス雰囲気下、２０℃乃至−８０℃、好ましくは
−８０℃で、１当量乃至２当量の酸の存在下に反応させ
ることによりトリメチルシリル基を脱離することができ
る。好ましい酸としては、酢酸、シュウ酸、クエン酸等
の有機酸、または塩酸等の無機酸を挙げることができ
る。特に好ましいのは酢酸であり、この場合更にテトラ
ブチルアンモニウムフルオリド等の四級アミンのフッ素
塩を併用することにより好結果が得られる。

【００３１】製造方法２〔Ｒが−（ＣＨ₂）_n−ＯＲ
³（ｎ、Ｒ³は上記のとおり）の場合〕

【００３２】

【化８】

【００３３】（第４工程）化合物〔７〕の製造 Ｒ³が水酸基の保護基、例えばＴＨＰ（テトラヒドロピ
ラン−２−イル）であるような化合物〔７〕の製造方法
である。化合物〔７〕は前記第１工程で得られた化合物
〔３〕にリチオ体化合物〔６〕を室温乃至冷却下で反応
させることによって得られる。

【００３４】（第５工程）化合物〔８〕の製造 第４工程で得られた化合物〔７〕を酢酸−テトラヒドロ
フラン−水からなる混合溶媒に溶解させ、室温乃至加温
下で反応させることによって得られる。

【００３５】（第６工程）化合物〔１０〕の製造 化合物〔８〕の無水テトラヒドロフラン溶液にメチルリ
チウムのエーテル溶液を加え、これを好ましくは窒素雰
囲気下、冷却下に攪拌した後、ダンシルクロリド

〔９〕
を加えて室温で反応させることにより得られる。

【００３６】以下第１１工程までは、アミノ酸又はペプ
チド置換体を製造する方法である。 （第７工程）化合物〔１２〕の製造 第５工程で得られたヒドロキシ化合物〔８〕の無水塩化
メチレン溶液とＤＣＣ（ジシクロヘキシルカルボジイミ
ド）等の縮合剤の存在下、好ましくはジメチルアミノピ
リジン等の塩基の存在下にＢｏｃ−Ｌ−Ａｒｇ（Ｍｔ
ｓ）−ＯＨ（化合物〔１１〕）を反応させることによっ
て得られる。

【００３７】（第８工程）化合物〔１３〕の製造 第７工程で得られた化合物〔１２〕の保護基であるＢｏ
ｃ（ｔ−ブトキシカルボニル基）を脱離する工程であ
る。化合物〔１２〕にトリフルオロ酢酸を加え、攪拌し
た後、これを留去し、さらに塩酸ジオキサン溶液に溶解
し、攪拌反応させることによって得られる。

【００３８】（第９工程）化合物〔１４〕の製造 化合物〔１３〕に残存するＭｔｓ（２，４，６−トリメ
チルベンゼンスルホニル基）を脱離してアミノ酸置換化
合物を得る工程である。化合物〔１３〕をトリフルオロ
酢酸等の有機溶媒に溶解させ、これにチオアニソールを
加え室温で反応させ、さらに塩酸ジオキサン溶液に溶解
し、攪拌反応させることによって得られる。

【００３９】（第１０工程）化合物〔１５〕の製造 アミノ酸置換化合物〔１３〕を原料として、さらに別の
アミノ酸を反応させてジペプチド体を得るための工程で
ある。反応自体は通常のペプチド合成反応を用いればよ
い。化合物〔１３〕とＢｏｃ（ｔ−ブトキシカルボニル
基）で保護したＢｏｃ−Ｌ−Ｐｈｅ−ＯＨ又はＢｏｃ−
Ｌ−Ａｒｇ（Ｍｔｓ）−ＯＨを縮合剤の存在下に反応さ
せることによって得られる。

【００４０】（第１１工程）化合物〔１５〕の保護基の
脱離 化合物〔１５〕をトリフルオロ酢酸等の有機溶媒に溶解
させ、これにチオアニソールを加え室温で反応させ、さ
らに塩酸ジオキサン溶液に溶解し、攪拌反応させること
によって得られる。

【００４１】製造方法３（２−ｔ−ブトキシカルボキサ
ミド置換体の製造）

【００４２】

【化９】

【００４３】（第１２工程）化合物〔１７〕の製造 ｔ−ブトキシカルボニル−イミノ−トリフェニルホスフ
ィンを用いる以外は第１工程、第２工程と全く同様であ
る。

【００４４】（第１３工程）化合物〔１８〕の製造 第１２工程で得られた化合物〔１７〕に塩酸ジオキサン
溶液を加え、好ましくは冷却下乃至室温下で攪拌反応さ
せることによって得られる。

【００４５】（第１４工程）化合物〔１９〕の製造 通常のペプチド合成反応を利用することによって得られ
る。より具体的には、縮合剤の存在下に化合物〔１８〕
に保護されたアミノ酸、例えばＢｏｃ−Ｌ−Ａｒｇ（Ｍ
ｔｓ）−ＯＨ（化合物〔１１〕）を反応させることによ
って得られる。

【００４６】（第１５工程）化合物〔１９〕の保護基の
脱離 第１４工程で得られた化合物〔１９〕の保護基の脱離反
応であり、第１１工程と同様の方法に従えばよい。

【００４７】（第１６工程）化合物〔２１〕の製造 化合物〔１９〕の保護基の脱離反応であり、第８工程と
同様の方法に従えばよい。

【００４８】（第１７工程）化合物〔２２〕の製造 化合物〔２１〕から第１０工程と同様にして得ることが
できる。

【００４９】（第１８工程）化合物〔２３〕の製造 第１７工程で得られた化合物〔２２〕の保護基の脱離反
応であり、第１１工程と同様の方法に従えばよい。

【００５０】製造方法４（２位ヒドロキシ又は低級アル
コキシ置換体化合物の製造）

【００５１】

【化１０】

【００５２】（第１９〜２１工程）リチウム化合物〔２
４〕は化合物〔１〕に有機溶媒中でリチウムフェニルア
セチライドと反応させることによって得られる。２位に
水酸基を有する化合物〔２５〕を所望の場合は、化合物
〔２４〕に塩酸等の酸を反応させればよいし、また２位
に低級アルキル基を有する化合物〔２６〕を所望の場合
は化合物〔２４〕にジメチル硫酸を反応させればよい。

【００５３】本発明における一般式〔Ｉ〕で示される化
合物は例えば下記表１乃至び表４に示すとおりである。

【００５４】

【表１】

【００５５】

【表２】

【００５６】

【表３】

【００５７】

【表４】

【００５８】次に、これら化合物の具体的製造方法につ
いて述べる。 製造例１ エチル ２−アセチルアミノ−２−エトキシカルボニル
−４−フェニル−３−ブチノエート アセチルアミノ−トリフェニルホスフィン（1.500g、4.
69mmol）を無水テトラヒドロフラン（40ml）に溶解し、
室温にてジエチルケトマロナート（0.7ml、4.69mmol）
を加え窒素雰囲気下攪拌した後、得られた淡黄色の溶液
を１０時間加熱還流した。次いでフェニルアセチレン
（0.515mg、4.69mmol）をｎ−ブチルリチウムのヘキサ
ン溶液（2.80ml、4.69mmol）と反応させて調製したリチ
ウムフェニルアセチライドを先の反応溶液に窒素雰囲気
下、−７８℃にて加え１時間攪拌した。３時間後、５％
塩酸（4ml）を加えることによって、反応を終結させ、
反応液を室温まで昇温させた後、エーテル（50ml×３）
で抽出し、エーテル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（40ml）、飽和食塩水（40ml）で洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで脱水した。ろ過後、褐色の粘調液となるまで
減圧留去し、カラムクロマトグラフ法（エーテル−ｎ−
ヘキサン（5:1））にて精製し、淡黄色油状の標記化合
物（1.000g、収率68％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.33(6H,t,J=7.1Hz),2.10(3H,
s),4.36(4H,q,J=7.1Hz),7.04(1H,brs),7.21-7.52(5H,
m);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.88,22.80,60.72,63.71,82.4
7,84.70,121.87,128.15,128.86,132.16,165.08,168.73; IR(neat)3362,2985,2239,1752,1673,1491cm^-1 理論値 C₁₇H₁₉NO₅:C,64.34;H,6.03;N,4.41,測定値 C,6
3.88;H,6.24;N,4.28

【００５９】製造例２ エチル ２−アセチルアミノ−２−エトキシカルボニル
−４−ｐ−トルイル−３−ブチノエート ｐ−トリルアセチレンを製造例１と同様の反応に付し、
無色針状晶の標記化合物を得た。 融点：132〜133℃¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.32(6H,t,J=7.1Hz),2.09(3H,
s),2.33(3H,s),4.35(4H,q,J=7.1Hz),7.04(1H,brs),7.10
(2H,AB,J_AB=8.3Hz),7.37(2H,AB,J_AB=8.3Hz);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.89,21.53,22.85,60.73,63.6
8,81.74,84.96,118.79,128.89,132.08,139.03,165.18,1
68.68; IR(KBr)3363,2985,2238,1757,1682,1505cm^-1 理論値 C₁₈H₂₁NO₅:C,65.24;H,6.39;N,4.23,測定値 C,6
4.84;H,6.56;N,4.11

【００６０】製造例３ エチル ２−アセチルアミノ−２−エトキシカルボニル
−４−（１−シクロヘキセン−１−イル）−３−ブチノ
エート １−シクロヘキセン−１−イルアセチレンを製造例１と
同様の反応に付し、無色針状晶の標記化合物を得た。 融点：82℃¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.30(6H,t,J=7.1Hz),1.50-1.80
(4H,m),2.06(3H,s),2.00-2.35(4H,m),4.32(4H,q,J=7.1H
z),6.17-6.28(1H,m),6.93(1H,brs),;¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.88,21.36,22.13,22.86,25.6
3,28.71,60.60,63.57,79.64,86.61,119.54,137.07,165.
29,168.54; IR(KBr)3251,2215,1752,1656,1510cm^-1 理論値 C₁₇H₂₃NO₅:C,63.52;H,7.22;N,4.36,測定値 C,6
3.39;H,7.25;N,4.12

【００６１】製造例４ エチル ２−アセチルアミノ−２−エトキシカルボニル
−−３−ヘプチノエート １−ペンチンを製造例１と同様の反応に付し、白色粉状
の標記化合物を得た。 融点：53〜54℃¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ0.97(3H,t,J=7.3Hz),1.30(6H,t,
J=7.1Hz),1.48-1.60(2H,m),2.06(3H,s),4.31(4H,q,J=7.
1Hz),6.94(1H,brs),;¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.33,13.86,20.80,21.67,22.7
9,60.28,63.49,73.84,86.01,165.45,168.68; IR(neat)3370,2968,2875,2247,1752,1668,1505,1370,12
68,1125,1016cm^-1 理論値 C₁₄H₂₁NO₅:C,59.33;H,7.47;N,4.95,測定値 C,5
9.40;H,7.54;N,4.72

【００６２】製造例５ エチル ２−アセチルアミノ−２−エトキシカルボニル
−４−トリメチルシリル−３−ブチノエート トリメチルシリルアセチレンを製造例１と同様の反応に
付し、無色針状晶の標記化合物を得た。 融点：97℃¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ0.18(9H,s),1.30(6H,t,J=7.1H
z),2.06(3H,s),4.31(2H,q,J=7.1Hz),4.32(2H,q,J=7.1H
z),6.88(1H,brs),;¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ0.34,14.13,23.14,61.00,63.9
1,90.84,97.85,165.22,168.82; IR(KBr)3286,2986,2239,1752,1671,1490cm^-1 理論値 C₁₄H₂₃NO₅Si:C,53.65;H,7.40;N,4.47,測定値 C,
53.39;H,7.53;N,4.22

【００６３】製造例６ エチル ２−アセチルアミノ−２−エトキシカルボニル
−３−ブチノエート 製造例５で得られた化合物（0.157mg、0.5mmol）を無水
テトラヒドロフラン（12ml）に溶解し、酢酸（0.057m
l、1mmol）及びテトラブチルアンモニウムフルオライド
の無水テトラヒドロフラン溶液（1mmol、1.0M）1mlを加
え、窒素雰囲気下、−７８℃で３時間攪拌した。反応液
を室温まで昇温させた後、酢酸エチル（40ml×３）で抽
出し、酢酸エチル層を水（20ml）、飽和食塩水（20ml）
で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで脱水した。ろ過後、褐
色の残渣が得られるまで減圧留去し、カラムクロマトグ
ラフ法（エーテル−ｎ−ヘキサン（5:1））にて精製
し、白色個体の標記化合物（0.095g、収率80％）を得
た。 融点：125℃¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.31(6H,t,J=7.1Hz),2.08(3H,
s),2.56(1H,s),4.34(4H,q,J=7.1Hz),6.95(1H,brs),;¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.82,22.72,60.03,63.93,73.3
1,76.92,164.56,168.87; IR(neat)3282,2120,1769,1659,1515cm^-1 理論値 C₁₁H₁₅NO₅:C,54.75;H,6.27;N,5.81,測定値 C,5
4.41,H;6.30;N,5.73

【００６４】製造例７ エチル ２−ベンゾイルアミノ−２−エトキシカルボニ
ル−４−ｐ−トルイル−３−ブチノエート ベンゾイルイミノトリフェニルホスフィン（0.381g、1m
mol）を無水テトラヒドロフラン（10ml）に溶解し、室
温にてジエチルケトマロナート（0.15ml、1mmol）を加
え窒素雰囲気下攪拌した。得られた淡黄色の溶液を２０
時間加熱還流した後、−７８℃まで冷却した。次いでこ
の溶液にｐ−トリルアセチレン（0.15ml、1.2mmol）と
ｎ−ブチルリチウム（1.61M）のヘキサン溶液（0.75m
l、1.2mmol）を０℃で３０分間反応させて調製したリチ
ウム−ｐ−トリルアセチリドの無水テトラヒドロフラン
（5ml）溶液を加えた。３時間後、５％塩酸（4ml）を加
えることによって、反応を終結させ、反応液を室温まで
昇温させた後、エーテル（50ml）で希釈した。得られた
エーテル層を水（15ml）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液（15ml）、飽和食塩水（15ml）で洗浄後、無水硫酸マ
グネシウムで脱水した。減圧濃縮して、トリフェニルホ
スフィン酸化物の結晶と共に得られた黄色油状物（0.67
9g）をカラムクロマトグラフ法（エーテル−ｎ−ヘキサ
ン（2:1））にて精製し、淡黄色油状の標記化合物（0.0
42g、収率11％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.34(6H,t,J=7.1Hz),2.36(3H,
s),4.39(4H,q,J=7.1Hz),7.07(2H,AB,J_AB=8.3Hz),7.36(2
H,AB,J_AB=8.3Hz),7.41-7.54(3H,m),7.69(1H,s),7.86-7.
90(2H,m);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.92,21.52,61.01,63.75,77.2
2,85.16,118.83,127.38,128.62,128.86,132.11,132.99,
139.00,165.26,165.56; IR(neat)3418,2982,2238,1751,1674,1603,1581,1509,14
73,1369,1269,1207,1097,1070cm^-1 HRMS 理論値 C₂₃H₂₃NO₅ MW:393.1576,測定値 m/z:39
3.1571

【００６５】製造例８ エチル ２−ブタノイルアミノ−２−エトキシカルボニ
ル−４−ｐ−トルイル−３−ブチノエート ブタノイルイミノトリフェニルホスフィン（0.521g、1.
5mmol）を無水テトラヒドロフラン（15ml）に溶解し、
室温にてジエチルケトマロナート（0.23ml、1.5mmol）
を加え窒素雰囲気下攪拌した。得られた淡黄色の溶液を
１２時間加熱還流した後、−７８℃まで冷却した。次い
でこの溶液に、ｐ−トルイルアセチレン（0.23ml、1.8m
mol）とｎ−ブチルリチウム（1.61M）のヘキサン溶液
（1.12ml、1.8mmol）を０℃で３０分間反応させて調製
したリチウム−ｐ−トリルアセチリドの無水テトラヒド
ロフラン（10ml）溶液を加えた。３時間後、５％塩酸
（4ml）を加えることによって、反応を終結させ、反応
液を室温まで昇温させた後、エーテル（80ml）で希釈し
た。得られたエーテル層を水（20ml）、飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液（20ml）、飽和食塩水（20ml）で洗浄
後、無水硫酸マグネシウムで脱水した。減圧濃縮して、
トリフェニルホスフィン酸化物の結晶と共に得られた黄
色油状物（0.902g）をカラムクロマトグラフ法（エーテ
ル−ｎ−ヘキサン（2:1））にて精製し、白色固体の標
記化合物（0.291g、収率54％）を得た。 融点：60.5〜61℃¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ0.98(3H,t,J=7.3Hz),1.32(6H,t,
J=7.1Hz),1.56-1.58(2H,m),2.28(2H,t,J=7.3Hz),2.34(3
H,s),4.35(4H,q,J=7.1Hz),6.98(1H,s),7.08(2H,AB,J_AB=
8.1Hz),7.34(2H,AB,J_AB=8.1Hz);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.54,13.88,18.89,21.52,37.8
2,38.14,60.65,63.61,81.94,84.82,118.89,128.89,132.
05,138.98,165.22,171.57; IR(KBr)3387,3034,2973,2872,2236,1911,1763,1688,148
4,1389,1364,1287,1161,1097,1044,1016cm^-1 HRMS 理論値 C₂₀H₂₅NO₅ MW:359.1733,測定値 m/z:35
9.1753

【００６６】製造例９ エチル ２−メトキシ−２−エトキシカルボニル−４−
ｐ−トルイル−３−ブチノエート ジエチルケトマロナート（0.76ml、5mmol）の無水テト
ラヒドロフラン（10ml）溶液に、ｐ−トリルアセチレン
（0.63ml、5mmol）とｎ−ブチルリチウム（1.63M）のヘ
キサン溶液（3.07ml、5mmol）を０℃で３０分間反応さ
せて調製したリチウム−ｐ−トリル−アセチリドの無水
テトラヒドロフラン（20ml）溶液を窒素雰囲気下、−７
８℃にて滴下した。２時間後、ジメチル硫酸（0.49ml、
5mmol）を滴下した後、反応液を室温まで１時間かけて
昇温し、次いで加熱還流した。３．５時間後、反応液を
室温まで冷却し、エーテル（80ml）で希釈した。得られ
たエーテル層を水（30ml）、飽和炭酸水素ナトリウム水
溶液（30ml）、飽和食塩水（30ml）で洗浄後、無水硫酸
マグネシウムで脱水した。減圧濃縮して得られた褐色油
状物（1.4g）をカラムクロマトグラフ法（エーテル−ｎ
−ヘキサン（2:3））にて精製し、白色固体の標記化合
物（0.942g、収率62％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.33(6H,t,J=7.1Hz),2.36(3H,
s),3.58(3H,s),4.34(4H,q,J=7.1Hz),7.12(2H,AB,J_AB=8.
3Hz),7.39(2H,AB,J_AB=8.3Hz);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.99,21.54,54.37,62.97,79.8
7,80.08,89.52,118.30,129.10,132.07,139.58,165.40; IR(neat)2984,2232,1752,1510,1447,1368,1255,1109,10
35cm^-1 HRMS 理論値 C₁₇H₂₀O₅ MW:304.1311,測定値 m/z:30
4.1295

【００６７】製造例１０ エチル ２−メトキシ−２−エトキシカルボニル−４−
フェニル−３−ブチノエート ジエチルケトマロナート（0.46ml、3mmol）の無水テト
ラヒドロフラン（10ml）溶液に、フェニルアセチレン
（0.33ml、3mmol）とｎ−ブチルリチウム（1.63M）のヘ
キサン溶液（1.84ml、3mmol）を０℃で３０分間反応さ
せて調製したリチウム−フェニルアセチリドの無水テト
ラヒドロフラン（15ml）溶液を窒素雰囲気下、−７８℃
にて滴下した。２時間後、ジメチル硫酸（0.28ml、3mmo
l）を滴下した後、反応液を室温まで１時間かけて昇温
し、次いで加熱還流した。３．５時間後、反応液を室温
まで冷却し、エーテル（80ml）で希釈した。得られたエ
ーテル層を水（30ml）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液
（30ml）、飽和食塩水（30ml）で洗浄後、無水硫酸マグ
ネシウムで脱水した。減圧濃縮して得られた残渣をカラ
ムクロマトグラフ法（エーテル−ｎ−ヘキサン（2:
3））にて精製し、黄色油状の標記化合物（0.454g、収
率52％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.34(6H,t,J=7.1Hz),3.60(3H,
s),4.35(4H,q,J=7.1Hz),7.27-7.38(3H,m),7.50-7.55(2
H,m);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ14.12,54.44,62.98,80.06,80.5
8,89.31,121.42,128.39,129.35,132.20,165.35; IR(neat)2984,2833,2233,1752,1491,1446,1391,1369,12
55,1110,1034cm^-1 HRMS 理論値 C₁₆H₁₈O₅ MW:290.1154,測定値 m/z:29
0.1158

【００６８】製造例１１ エチル ２−メトキシ−２−エトキシカルボニル−４−
（１−シクロヘキセン−１−イル）−３−ブチノエート ジエチルケトマロナート（0.763ml、5mmol）の無水テト
ラヒドロフラン（10ml）溶液に、１−シロヘキセン−１
−イルアセチレン（0.59ml、5mmol）とｎ−ブチルリチ
ウム（1.61M）のヘキサン溶液（3.11ml、5mmol）を０℃
で３０分間反応させて調製したリチウム−１−シクロヘ
キセニルアセチリドの無水テトラヒドロフラン（20ml）
溶液を窒素雰囲気下、−７８℃にて滴下した。２時間
後、ジメチル硫酸（0.47ml、5mmol）を滴下した後、反
応液を室温まで１時間かけて昇温し、次いで加熱還流し
た。３．５時間後、反応液を室温まで冷却し、エーテル
（80ml）で希釈した。得られたエーテル層を水（30m
l）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（30ml）、飽和食
塩水（30ml）で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで脱水し
た。減圧濃縮して得られた残渣をカラムクロマトグラフ
法（エーテル−ｎ−ヘキサン（2:3））にて精製し、黄
色油状の標記化合物（0.911g、収率62％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.31(6H,t,J=7.1Hz),1.46-1.72
(4H,m),1.97-2.21(4H,m),3.51(3H,s),4.31(4H,q,J=7.1H
z),6.20-6.32(1H,m);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.98,14.02,21.35,22.12,25.7
0,28.71,54.23,62.80,77.74,80.02,91.31,119.38,137.7
3,165.57; IR(neat)2937,2220,1752,1448,1391,1368,1222,1109,10
39cm^-1 HRMS 理論値 C₁₆H₂₂O₅ MW:294.1467,測定値 m/z:29
4.1475 理論値 C₁₆H₂₂O₅:C,65.29;H,7.53,測定値 C,64.82;H,7.
73

【００６９】製造例１２ エチル ２−メトキシ−２−エトキシカルボニル−３−
ヘプチノエート ジエチルケトマロナート（0.76ml、5mmol）の無水テト
ラヒドロフラン（10ml）溶液に、１−ペンチン（0.49m
l、5mmol）とｎ−ブチルリチウム（1.61M）のヘキサン
溶液（3.11ml、5mmol）を０℃で３０分間反応させて調
製したリチウム−プロピルアセチリドの無水テトラヒド
ロフラン（20ml）溶液を窒素雰囲気下、−７８℃にて滴
下した。２時間後、ジメチル硫酸（0.47ml、5mmol）を
滴下した後、反応液を室温まで１時間かけて昇温し、次
いで加熱還流した。３．５時間後、反応液を室温まで冷
却し、エーテル（80ml）で希釈した。得られたエーテル
層を水（30ml）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（30m
l）、飽和食塩水（30ml）で洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで脱水した。減圧濃縮して得られた残渣をカラムク
ロマトグラフ法（エーテル−ｎ−ヘキサン（1:1））に
て精製し、黄色油状の標記化合物（0.521g、収率41％）
を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.01(3H,t,J=7.3Hz),1.30(6H,t,
J=7.1Hz),1.50-1.72(2H,m),2.30(2H,t,J=7.0Hz),3.50(3
H,s),4.30(4H,q,J=7.1Hz);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.39,13.98,20.82,21.67,54.1
0,62.80,71.96,79.67,90.92,165.70; IR(neat)2967,2833,2242,1752,1465,1368,1269,1109,10
44cm^-1 理論値 C₁₃H₂₀O₅:C,60.91;H,7.87,測定値 C,60.61;H,8.
07

【００７０】製造例１３ エチル ２−ヒドロキシ−２−エトキシカルボニル−４
−ｐ−トルイル−３−ブチノエート ジエチルケトマロナート（0.46ml、3mmol）の無水テト
ラヒドロフラン（10ml）溶液に、ｐ−トリルアセチレン
（0.46ml、3mmol）とｎ−ブチルリチウム（1.63M）のヘ
キサン溶液（1.84ml、3mmol）を０℃で３０分間反応さ
せて調製したリチウム−ｐ−トリルアセチリドの無水テ
トラヒドロフラン（15ml）溶液を窒素雰囲気下、−７８
℃にて滴下した。２時間後、５％塩酸（4ml）を加える
ことによって、反応を終結させ、反応液を室温まで昇温
させ、エーテル（50ml）で希釈した。得られたエーテル
層を水（20ml）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（20m
l）、飽和食塩水（20ml）で洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで脱水した。減圧濃縮して得られた黄色油状物（0.
893g）をカラムクロマトグラフ法（エーテル−ｎ−ヘキ
サン（1:1））にて精製し、黄色固体の標記化合物（0.6
35g、収率73％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.34(6H,t,J=7.1Hz),2.35(3H,
s),4.20(1H,s),4.36(4H,q,J=7.2Hz),7.11(2H,AB,J_AB=8.
1Hz),7.36(2H,AB,J_AB=8.1Hz);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.88,21.47,63.59,66.74,72.9
6,81.94,118.35,129.96,131.95,139.34,167.26; IR(KBr)3467,2983,2238,1757,1511,1450,1369,1264,122
8,1104,1064,1026cm^-1 HRMS 理論値 C₁₆H₁₈O₅ MW:290.1154,測定値 m/z:29
0.1151

【００７１】製造例１４ エチル ２−ヒドロキシ−２−エトキシカルボニル−４
−フェニル−３−ブチノエート ジエチルケトマロナート（0.46ml、3mmol）の無水テト
ラヒドロフラン（10ml）溶液に、フェニルアセチレン
（0.33ml、3mmol）とｎ−ブチルリチウム（1.63M）のヘ
キサン溶液（1.84ml、3mmol）を０℃で３０分間反応さ
せて調製したリチウム−フェニルアセチリドの無水テト
ラヒドロフラン（15ml）溶液を窒素雰囲気下、−７８℃
にて滴下した。２時間後、５％塩酸（4ml）を加えるこ
とによって、反応を終結させ、反応液を室温まで昇温さ
せ、エーテル（50ml）で希釈した。得られたエーテル層
を水（20ml）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（20m
l）、飽和食塩水（20ml）で洗浄後、無水硫酸マグネシ
ウムで脱水した。減圧濃縮して得られた残渣をカラムク
ロマトグラフ法（エーテル−ｎ−ヘキサン（1:1））に
て精 製し、黄色油状の標記化合物（0.572g、収率69
％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.34(6H,t,J=7.1Hz),4.23(1H,
s),4.36(4H,q,J=7.1Hz),7.26-7.35(3H,m),7.46-7.52(2
H,m);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.89,63.65,72.94,82.64,86.5
0,121.43,128.22,129.11,132.05,167.19; IR(KBr)3468,2985,2238,1747,1491,1445,1369,1216,110
7,1071,1024cm^-1 HRMS 理論値 C₁₅H₁₆O₅ MW:276.0998,測定値 m/z:27
6.0979 理論値 C₁₅H₁₆O₅:C,65.21;H,5.84,測定値 C,64.88;H,5.
98

【００７２】製造例１５ エチル ２−ヒドロキシ−２−エトキシカルボニル−４
−（１−シクロヘキセン−１−イル）−３−ブチノエー
ト ジエチルケトマロナート（0.15ml、1mmol）の無水テト
ラヒドロフラン（10ml）溶液に、１−シクロヘキセン−
１−イルアセチレン（0.12ml、1mmol）とｎ−ブチルリ
チウム（1.63M）のヘキサン溶液（0.61ml、1mmol）を０
℃で３０分間反応させて調製したリチウム−１−シクロ
ヘキシルアセチリドの無水テトラヒドロフラン（5ml）
溶液を窒素雰囲気下、−７８℃にて滴下した。２時間
後、５％塩酸（4ml）を加えることによって、反応を終
結させ、反応液を室温まで昇温させ、エーテル（50ml）
で希釈した。得られたエーテル層を水（20ml）、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液（20ml）、飽和食塩水（20ml）
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで脱水した。減圧濃縮
して得られた残渣をカラムクロマトグラフ法（エーテル
−ｎ−ヘキサン（1:1））にて精製し、黄色油状の標記
化合物（0.188g、収率67％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.32(6H,t,J=7.1Hz),1.43-1.72
(4H,m),2.05-2.18(4H,m),4.09(1H,s),4.33(4H,q,J=7.1H
z),6.20-6.26(1H,m);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.92,21.35,22.12,25.67,28.6
1,63.51,72.96,80.05,88.51,119.39,137.56,165.45; IR(neat)3474,2937,2225,1747,1448,1369,1207,1098,10
29cm^-1 HRMS 理論値 C₁₅H₂₀O₅ MW:280.1311,測定値 m/z:28
0.1300 理論値 C₁₅H₂₀O₅:C,64.26;H,7.20,測定値 C,64.38;H,7.
40

【００７３】製造例１６ エチル ２−ヒドロキシ−２−エトキシカルボニル−３
−ヘプチノエート ジエチルケトマロナート（0.15ml、1mmol）の無水テト
ラヒドロフラン（10ml）溶液に、１−ペンチン（0.1m
l、1mmol）とｎ−ブチルリチウム（1.63M）のヘキサン
溶液（0.61ml、1mmol）を０℃で３０分間反応させて調
製したリチウム−プロピルアセチリドの無水テトラヒド
ロフラン（5ml）溶液を窒素雰囲気下、−７８℃にて滴
下した。２時間後、５％塩酸（4ml）を加えることによ
って、反応を終結させ、反応液を室温まで昇温させ、エ
ーテル（50ml）で希釈した。得られたエーテル層を水
（20ml）、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（20ml）、飽
和食塩水（20ml）で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで脱
水した。減圧濃縮して得られた残渣をカラムクロマトグ
ラフ法（エーテル−ｎ−ヘキサン（1:1））にて精製
し、黄色油状の標記化合物（0.133g、収率55％）を得
た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.00(3H,t,J=7.3Hz),1.32(6H,t,
J=7.1Hz),2.00-2.20(2H,m),2.26(2H,t,J=7.1Hz),4.04(1
H,s),4.33(4H,q,J=7.1Hz);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.35,13.92,20.75,21.57,63.4
7,72.62,74.29,88.12,165.59; IR(neat)3475,2967,2245,1747,1466,1369,1269,1176,10
94,1028cm^-1 理論値 C₁₂H₁₈O₅:C,59.48,H,7.49,測定値 C,59.13;H,7.
63

【００７４】製造例１７ エチル ２−ヒドロキシ−２−エトキシカルボニル−４
−トリメチルシリル−３−ブチノエート ジエチルケトマロナート（0.46ml、3mmol）の無水テト
ラヒドロフラン（10ml）溶液に、トリメチルシリルアセ
チレン（0.42ml、1mmol）とｎ−ブチルリチウム（1.63
M）のヘキサン溶液（1.84ml、3mmol）を０℃で３０分間
反応させて調製したリチウム−トリメチルシリルアセチ
リドの無水テトラヒドロフラン（15ml）溶液を窒素雰囲
気下、−７８℃にて滴下した。２時間後、５％塩酸（4m
l）を加えることによって、反応を終結させ、反応液を
室温まで昇温させ、エーテル（50ml）で希釈した。得ら
れたエーテル層を水（20ml）、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液（20ml）、飽和食塩水（20ml）で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで脱水した。減圧濃縮して得られた残渣
をカラムクロマトグラフ法（エーテル−ｎ−ヘキサン
（1:1））にて精製し、黄色油状の標記化合物（0.512
g、収率63％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ0.20(9H,s),1.32(6H,t,J=7.1H
z),4.08(1H,s),4.33(4H,q,J=7.1Hz);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ-0.50,13.81,63.54,72.72,92.5
6,97.90,166.97; IR(neat)3475,2965,2117,1747,1369,1252,1129,1082,10
25cm^-1 HRMS 理論値 C₁₂H₂₀O₅Si MW:272.1080,測定値 m/z:2
72.1100 理論値 C₁₂H₂₀O₅Si:C,52.92;H,7.41,測定値 C,52.69;H,
7.61

【００７５】製造例１８ エチル ２−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミノ）−２
−エトキシカルボニル−４−ｐ−トルイル−３−ブチノ
エート アセチルアミノ−トリフェニル−ホスフィン（0.320g、
1.0mmol）を無水テトラヒドロフラン（8ml）に溶解し、
室温にてジエチルケトマロナート（0.16ml、1.0mmol）
を加え窒素雰囲気下攪拌した。得られた淡黄色の溶液を
１２時間加熱還流した後、−７８℃まで冷却した。次い
でこの溶液に、ｐ−トリルアセチレン（0.13ml、1.0mmo
l）とｎ−ブチルリチウム（1.61M）のヘキサン溶液（0.
65ml、1.0mmol）を０℃で３０分間反応させて調製した
リチウム−ｐ−トルイルアセチリドの無水テトラヒドロ
フラン（10ml）溶液を加えた。３時間後、ジメチル硫酸
（0.01ml、1mmol）を滴下した後、反応液を室温まで１
時間昇温させ、次いで加熱還流した。３時間後、反応液
を室温まで冷却し、エーテル（50ml）で希釈した。得ら
れたエーテル層を水（20ml）、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液（20ml）、飽和食塩水（20ml）で洗浄後、無水硫
酸マグネシウムで脱水した。減圧濃縮して、得られた黄
色油状物（0.694g）をカラムクロマトグラフ法（エーテ
ル−ｎ−ヘキサン（2:1））にて精製し、黄色油状の標
記化合物（0.064g、収率19％）及びエチル ２−アセチ
ルアミノ−２−エトキシカルボニル−４−ｐ−トルイル
−３−ブチノエート（0.100g、収率30％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.33(6H,t,J=7.1Hz),2.20(3H,
s),2.36(3H,s),3.24(3H,s),4.22-4.48(4H,m),7.12(2H,A
B,J_AB=8.3Hz),7.35(2H,AB,J_AB=8.3Hz);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.96,21.56,22.48,34.55,62.9
3,80.69,88.91,118.30,129.07,131.87,139.61,164.66,1
71.79; IR(neat)2984,2235,1751,1668,1511,1447,1387,1346,12
12,1083,1047cm^-1 HRMS 理論値 C₁₉H₂₃NO₅ MW:345.1576,測定値 m/z:34
5.1577

【００７６】製造例１９ エチル ２−（Ｎ−アセチル−Ｎ−メチルアミノ）−２
−エトキシカルボニル−４−（１−シクロヘキセン−１
−イル）−３−ブチノエート アセチルイミノ−トリフェニル−ホスフィン（1.597g、
5mmol）を無水テトラヒドロフラン（8ml）に溶解し、室
温にてジエチルケトマロナート（0.763ml、5mmol）を加
え窒素雰囲気下攪拌した。得られた淡黄色の溶液を１２
時間加熱還流した後、−７８℃まで冷却した。次いでこ
の溶液に１−シクロヘキセン−１−イルアセチレン（0.
71ml、6mmol）とｎ−ブチルリチウム（1.61M）のヘキサ
ン溶液（3.73ml、5mmol）を０℃で３０分間反応させて
調製したリチウム−１−シクロヘキセニルアセチリドの
無水テトラヒドロフラン（20ml）溶液を加えた。３時間
後、ジメチル硫酸（0.47ml、5mmol）を滴下した後、反
応液を室温まで１時間昇温させ、次いで加熱還流した。
３時間後、反応液を室温まで冷却し、エーテル（50ml）
で希釈した。得られたエーテル層を水（20ml）、飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液（20ml）、飽和食塩水（20ml）
で洗浄後、無水硫酸マグネシウムで脱水した。減圧濃縮
して、得られた黄色油状物（0.694g）をカラムクロマト
グラフ法（エーテル−ｎ−ヘキサン（5:1））にて精製
し、黄色油状の標記化合物（0.898g、収率54％）を得
た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.31(6H,t,J=7.1Hz),1.51-1.74
(4H,m),2.00-2.14(4H,m),2.17(3H,s),3.17(3H,s),4.14-
4.43(4H,m),6.14-6.29(1H,m);¹³ CNMR(100MHz,CDCl₃)δ13.95,21.31,22.06,22.48,25.6
6,28.58,34.43,62.79,67.70,78.65,90.61,119.40,137.5
1,164.82,171.71; IR(neat)2932,2223,1749,1668,1447,1387,1347,1207,10
49cm^-1 HRMS 理論値 C₁₈H₂₅NO₅ MW:335.1733測定値 m/z:33
5.1724

【００７７】製造例２０ エチル ２−アセチルアミノ−２−エトキシカルボニル
−６−（テトラヒドロピラン−２−イルオキシ）−３−
ヘキシノエート アセチルイミノトリフェニルフォスフィン（2.00g、6.2
36mmol）を無水テトラヒドロフラン（30ml）に溶解し、
室温にてジエチルケトマロナート（1.05ml、0.689mmo
l）を加え、窒素雰囲気下１１時間加熱還流した。次い
で２−（３−ブチニロキシ）−テトラヒドロ−２Ｈ−ピ
ラン（1.16g、7.522mmol）を無水テトラヒドロフラン
（30ml）に溶解し、ｎ−ブチルリチウムの（1.64M）ヘ
キサン溶液（4.58ml、7.522mmol）を加え、氷冷下３０
分間攪拌して調製したリチオ体溶液を先の反応溶液に−
７８℃にて滴下し、３時間攪拌した。反応溶液に５％塩
酸を加え、エーテルで抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム
水溶液で洗浄後、常法により処理することにより、得ら
れた残渣をカラムクロマトグラフ法（エーテル）にて精
製し、黄色透明油状物質の標記化合物（1.70g、収率74
％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.29(6H,t,J=7.1Hz),1.40-1.90
(6H,m),2.05(3H,s),2.56(2H,t,J=7.3Hz),3.45-3.65(2H,
m),3.75-3.95(2H,m),4.25-4.40(4H,m),4.60-4.70(1H,
m),6.92(1H,brs); IR(neat)2942,2254,1752,1687,1500,1369,1200,1123,10
34cm^-1

【００７８】製造例２１ エチル ２−アセチルアミノ−２−エトキシカルボニル
−６−ヒドロキシ−３−ヘキシノエート 製造例２０で得られた化合物を酢酸−テトラヒドロフラ
ン−水（4:2:1）混合溶媒（6ml）に溶解した後、４５℃
に加温し３時間攪拌した。反応溶液を酢酸エチルで抽出
し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄後、常法によ
り処理することにより、得られた残渣をカラムクロマト
グラフ法（エーテル）にて精製し、無色透明油状物質の
標記化合物（69.4mg、収率90％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.30(6H,t,J=7.1Hz),2.06(3H,
s),2.50(2H,t,J=6.1Hz),2.60-2.80(1H,brs),3.73(2H,t,
J=6.1Hz),4.32(4H,q,J=7.1Hz),7.06(1H,brs); IR(neat)3650-2600,2254,1751,1667,1500,1370,1196,11
26cm^-1 HRMS 理論値 C₁₃H₁₉NO₆ MW:285.1212,測定値 m/e:28
5.1200(M⁺)

【００７９】製造例２２ エチル ２−アセチルアミノ−６−（５−ジメチルアミ
ノ−１−ナフタレンスルホニルオキシ）−２−エトキシ
カルボニル−３−ヘキシノエート 製造例２１で得られた化合物（44.6mg、0.516mmol）を
無水テトラヒドロフラン（2ml）に溶解し、メチルリチ
ウムの（1.14M）エーテル溶液（137.1μl、0.171mmol）
を加え、窒素雰囲気下−７８℃で３０分間攪拌した後、
ダンシルクロリド（50.6mg、0.187mmol）を加え、室温
にて３時間攪拌した。反応溶液に飽和塩化 アンモニウ
ム水溶液を加えエーテルで抽出後、常法により処理する
ことにより、得られた残渣をカラムクロマトグラフ法
（エーテル）にて精製し、黄色透明油状物質の標記化合
物（33.5mg、収率41％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.26(6H,t,J=7.1Hz),2.01(3H,
s),2.61(2H,t,J=7.4Hz),2.90(3H,s),4.06(2H,t,J=7.4H
z),4.20-4.35(4H,m),6.87(1H,brs),7.22(1H,d,J=7.6H
z),7.45-7.65(2H,m),8.15-8.30(2H,m),8.62(1H,d,J=8.5
Hz); IR(neat)3416,3016,2261,1751,1687,1482,1361,1272,11
75,1013,981cm^-1 HRMS 理論値 C₂₅H₃₀N₂O₈S MW:518.1722,測定値 m/e:51
8.1701(M⁺) 理論値 C₂₅H₃₀N₂O₈S:C,57.90;H,5.83;N,5.40,測定値 C,
57.70;H,5.90;N,5.16

【００８０】製造例２３ エチル ２−アセチルアミノ−６−（Ｎα−ｔ−ブトキ
シカルボニル−Ｎ^g−２，３，６−トリメチルベンゼン
スルホニル−Ｌ−アルギニルオキシ）−２−エトキシカ
ルボニル−３−ヘキシノエート 製造例２１で得られた化合物（95.0mg、0.333mmol）を
無水塩化メチレンン（3ml）に溶解し、Ｎα−ｔ−ブト
キシカルボニル−Ｎ^g−メシチレン−２−スルホニル−
Ｌ−アルギニン（167.2mg、0.366mmol）、及び４−ジメ
チルアミノピリジン（4.07mg、0.033mmol）、ジシクロ
カルボジイミド（75.6mg、0.366mmol）を加え、氷冷下
２時間攪拌した。析出したジシクロヘキシルウレア（Ｄ
ＣＵrea）をろ過除去し、ろ液を５％塩酸 及び飽和炭酸
水素ナトリウム水溶液で洗浄後、常法により処理するこ
とにより、得られた残渣をカラムクロマトグラフ法（ヘ
キサン−酢酸エチル（1:4））にて 精製し、白色粉末
（アモルファス）の標記化合物（198mg、収率82％）を
得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.26(6H,t,J=7.1Hz),1.44(9H,
s),1.50-2.00(4H,m),2.07(3H,s),2.26(3H,s),2.51(2H,
t,J=5.7Hz),2.69(6H,s),3.10-3.45(2H,m),3.90-4.45(7
H,m),5.10-5.25(1H,brd),6.05-6.15(1H,brs),6.34(2H,b
rs),6.88(2H,s),7.12(1H,brs); IR(neat)3408,3032,3011,2254,1747,1709,1620,1556,15
00,1370,1163,1124cm^{- 1}

【００８１】製造例２４ エチル ２−アセチルアミノ−２−エトキシカルボニル
−６−（Ｎ^g−２，３，６−トリメチルベンゼンスルホ
ニル−Ｌ−アルギニルオキシ）−３−ヘキシノエート
塩酸塩 製造例２３で得られた化合物（1.56g、2.155mmol）をト
リフルオロ酢酸(10ml）に溶解し、氷冷下２時間攪拌し
た後、トリフルオロ酢酸を減圧下に留去した。得られた
残渣を４Ｎ塩酸ジオキサン溶液（10ml）に溶解し室温に
て１時間攪拌後、エーテルを加えて結晶化させ、さらに
エーテルで繰り返し洗浄することにより、白色粉末の標
記化合物（1.58g、収率100％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CD₃OD)δ1.25(6H,t,J=7.1Hz),1.50-2.00
(4H,m),2.03(3H,s),2.31(3H,s),2.67(6H,s),2.55-2.80
(2H,m),3.20-3.45(2H,m),4.05-4.45(7H,m),7.00-7.10(2
H,brs); IR(KBr)3650-2550,2260,1752,1672,1553,1370,1269,120
1,1166,1124,1073cm^-1 FABMS 理論値 C₂₈H₄₁N₅O₉S MW:624(M⁺ _-HCl+H),測定値 m
/e:624(M⁺ _-HCl+H)

【００８２】製造例２５ エチル ２−アセチルアミノ−６−Ｌ−アルギニルオキ
シ−２−エトキシカルボニル−３−ヘキシノエート ２
塩酸塩 製造例２４で得られた化合物（150mg、0.204mmol）をト
リフルオロ酢酸(3ml）に溶解し、チオアニソール（1.2m
l、10.21mmol）を加え、室温にて７２時間攪拌した後、
トリフルオロ酢酸を減圧下に留去した。得られた残渣を
４Ｎ塩酸ジオキサン溶液（4ml）に溶解し室温にて３０
分間攪拌後、エーテルを加えて生じた沈澱物をエーテル
で繰り返し洗浄した。さらにSephadex HL-20（メタノー
ル）を用いてゲルろ過し、エーテルを加えて結晶化する
ことにより、白色粉末の標記化合物（83.3mg、収率79
％）を得た。 融点：85〜89℃¹ HNMR(200MHz,CD₃OD)δ1.26(3H,t,J=7.1Hz),1.70-2.20
(4H,m),2.03(3H,s),2.68(2H,t,J=5.9Hz),3.20-3.45(2H,
m),4.05-4.45(7H,m); IR(KBr)3800-2400,2254,1752,1667,1520,1371,1203,112
7,1011cm^-1 FABMS 理論値 C₁₉H₃₁N₅O₇ MW:442(M⁺ _-2HCl+H),測定値 m
/e:442(M⁺ _-2HCl+H)

【００８３】製造例２６ エチル ２−アセチルアミノ−６−（ｔ−ブトキシカル
ボニル−Ｌ−フェニルアラニル−Ｎ^g−２，３，６−ト
リメチルベンゼンスルホニル−Ｌ−アルギニルオキシ）
−２−エトキシカルボニル−３−ヘキシノエート 製造例２４で得られた化合物（270mg、0.408mmol）とｔ
−ブトキシカルボニル−Ｌ−フェニルアラニン（130.1m
g、0.490mmol）を無水ジメチルホルムアミド（4ml）に
溶解し、氷冷下、Ｎ−メチルモルホリン（53.9μl、0.4
90mmol）、１−ヒドロキシベンゾトリアゾール（66.2m
g、0.490mmol）及びジシクロヘキシルカルボジイミド
（92.7mg、0.449mmol）を順次加え、同温にて３時間攪
拌した。さらに室温にて２６時間攪拌した後、生じた沈
澱物をろ過除去し、ろ液を１０％クエン酸水溶液、５％
炭酸水素ナトリウム水溶液、水順で洗浄した。さらに常
法により処理することにより、得られた残渣をカラムク
ロマトグラフ法（ヘキサン−酢酸エチル（1:5））にて
精製し、白色粉末（アモルファス）の標記化合物（267.
4mg、収率75％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.26(6H,t,J=7.1Hz),1.39(9H,
s),1.30-2.00(2H,m),2.05(3H,s),2.25(3H,s),2.51(2H,b
rt),2.69(6H,s),2.95-3.40(4H,m),4.00-4.65(8H,m),5.0
0-5.15(1H,brd),6.11(1H,brs),6.32(2H,brd),6.70-6.90
(1H,brs),6.88(2H,s),7.10-7.30(5H,m); IR(neat)3411,3025,3019,3010,2257,1747,1677,1620,15
56,1496,1274,1215,1199,1166,1124,1014cm^-1 FABMS 理論値 C₄₂H₅₈N₆O₁₂S MW:871(M⁺+H),測定値 m/e:
871(M⁺+H)

【００８４】製造例２７ エチル ２−アセチルアミノ−６−（Ｎα−ｔ−ブトキ
シカルボニル−Ｎ^g−２，３，６−トリメチルベンゼン
スルホニル−Ｌ−アルギニル−Ｎ^g−２，３，６−トリ
メチルベンゼンスルホニル−Ｌ−アルギニルオキシ）−
２−エトキシカルボニル−３−ヘキシノエート 製造例２４で得られた化合物を製造例２６と同様な方法
に付し、白色粉末（アモルファス）の標記化合物（収率
64％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ1.20-1.30(6H,m),1.40(9H,s),1.
50-2.00(8H,m),2.05(3H,s),2.26(6H,s),2.55(2H,t,J=6.
3Hz),2.64(6H,s),2.65(6H,s),3.10-3.40(4H,m),4.05-4.
60(8H,m),5.60-5.70(1H,brd),6.10-6.50(6H,brt),6.88
(4H,s),7.24(1H,brs),7.35-7.45(1H,brd); IR(CHCl₃)3356,3019,2256,1747,1673,1622,1555,1391,1
271,1216,1166,1122,1055cm^-1 FABMS 理論値 C₄₈H₇₁N₉O₁₄S₂ MW:1062(M⁺+H),測定値 m/
e:1063(M⁺+H)

【００８５】製造例２８ エチル ２−アセチルアミノ−２−エトキシカルボニル
−６−（Ｌ−フェニルアラニル−Ｌ−アルギニルオキ
シ）−３−ヘキシノエート ２塩酸塩 製造例２６で得られた化合物を製造例２５と同様な方法
に付し、白色粉末の標記化合物（収率90％）を得た。 融点：115〜118℃¹ HNMR(200MHz,CD₃OD)δ1.26(6H,t,J=7.1Hz),1.60-2.05
(4H,m),2.02(3H,s),2.59(2H,t,J=6.4Hz),3.00-3.30(4H,
m),4.10-4.35(7H,m),4.45-4.55(1H,m),7.25-7.40(5H,
m); IR(KBr)3700-2400,2258,1751,1668,1510,1268,1198,112
8cm^-1 FABMS 理論値 C₂₈H₄₀N₆O₈ MW:589(M⁺ _-2HCl+H),測定値 m
/e:589(M⁺ _-2HCl+H)

【００８６】製造例２９ エチル ２−アセチルアミノ−６−（Ｌ−アルギニル−
Ｌ−アルギニルオキシ）−２−エトキシカルボニル−３
−ヘキシノエート ３塩酸塩 製造例２７で得られた化合物を製造例２５と同様な方法
に付し、白色粉末の標記化合物（収率92％）を得た。 融点：136〜139℃¹ HNMR(200MHz,CD₃OD)δ1.26(3H,t,J=7.1Hz),1.70-2.10
(8H,m),2.03(3H,s),2.62(2H,t,J=6.4Hz),3.15-3.35(4H,
m),4.10-4.45(8H,m); IR(KBr)3700-2400,2361,2258,1748,1667,1510,1371,127
0,1201,1127cm^-1 FABMS 理論値 C₂₅H₄₃N₉O₈ MW:598(M⁺ _-3HCl+H),測定値 m
/e:598(M⁺ _-3HCl+H)

【００８７】製造例３０ エチル ２−ｔ−ブトキシカルボキサミド−２−エトキ
シカルボニル−３−ヘプチノエート ｔ−ブトキシカルボニルイミノトリフェニルフォスフィ
ンを製造例２０と同様な方法に付し、黄色透明油状の標
記化合物（収率77％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ0.98(3H,t,J=7.3Hz),1.29(6H,t,
J=7.1Hz),1.45(9H,s),1.50-1.70(2H,m),2.23(2H,t,J=7.
1Hz),4.15-4.45(4H,m),5.90-7.05(1H,brs); IR(neat)3435,2979,2937,2246,1724,1477,1393,1368,12
56,1168,1023cm^-1 HRMS 理論値 C₁₇H₂₇NO₆ MW:341.1916(M⁺+H),測定値 m/
e:341.1919(M⁺+H)

【００８８】製造例３１ エチル ２−アミノ−２−エトキシカルボニル−３−ヘ
プチノエート 製造例３０で得られた化合物（2.08g、6.092mmol）に４
Ｎ塩酸ジオキサン溶液（30ml）を加え、氷冷下１０分間
攪拌した後、室温で１時間攪拌し、ｎ−ヘキサンを加え
て生じた沈澱物をｎ−ヘキサンで繰り返し洗浄した。さ
らにカラムクロマトグラフ法（塩化メチレン−メタノー
ル（20:1））にて精製し、黄色透明油状の標記化合物
（1.40g、収率95％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ0.99(3H,t,J=7.3Hz),1.30(6H,t,
J=7.1Hz),1.45-1.70(2H,m),2.23(2H,t,J=7.1Hz),2.15-
2.35(2H,brs),4.28(4H,q,J=7.1Hz); IR(neat)3393,3324,2967,2938,2254,1747,1585,1239,10
96,1028cm^-1 FRBMS 理論値 C₁₂H₁₉NO₄ MW:242(M⁺+H),測定値 m/e:242
(M⁺+H)

【００８９】製造例３２ エチル ２−（Ｎα−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ^g−
２，３，６−トリメチルベンゼンスルホニル−Ｌ−アル
ギニルアミノ）−２−エトキシカルボニル−３−ヘプチ
ノエート 製造例３１で得られた化合物（124mg、0.514mmol）とＮ
α−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ^g−メシチレン−２−
スルホニル−Ｌ−アルギニン（281.6mg、0.617mmol）を
無水ジメチルホルムアミド（4ml）に溶解し、氷冷下、
Ｎ−メチルモルホリン（67.8μl、0.617mmol）、１−ヒ
ドロキシベンゾトリアゾール（83.3mg、0.617mmol）及
び１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）−
カルボジイミド（136.7mg、0.714mmol）を順次加え、同
温にて３時間攪拌した。さらに室温にて２２時間攪拌し
た後、酢酸エチルを加え、１０％クエン酸水溶液、５％
炭酸水素ナトリウム水溶液、水順で洗浄した。さらに常
法により処理することにより、得られた残渣をカラムク
ロマトグラフ法（ヘキサン−酢酸エチル（2:5））にて
精製し、白色粉末（アモルファス）の標記化合物（189.
0mg、収率54％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ0.91(3H,t,J=7.3Hz),1.27(6H,t,
J=7.1Hz),1.43(9H,s),1.35-2.00(6H,m),2.14(2H,t,J=7.
1Hz),2.26(3H,s),2.67(6H,s),3.10-3.40(2H,m),4.27(4
H,q,J=7.1Hz),5.30-5.50(1H,brd),5.95-6.15(1H,brs),
6.28(2H,brd),6.88(2H,s),7.60-7.75(1H,brs); IR(CHCl₃)3600-3100,3019,2247,1749,1687,1621,1556,1
495,1370,1271,1219,1165,1122,1053cm^-1 FABMS 理論値 C₄₂H₅₈N₆O₁₂S MW:871(M⁺+H),測定値 m/e:
871(M⁺+H)

【００９０】製造例３３ エチル ２−Ｌ−アルギニルアミノ−２−エトキシカル
ボニル−３−ヘプチノエート ２塩酸塩 製造例３２で得られた化合物を製造例２５と同様な方法
に付し、白色粉末の標記化合物（収率65％）を得た。 融点：120〜122℃¹ HNMR(200MHz,CD₃OD)δ1.00(3H,t,J=7.1Hz),1.29(6H,t,
J=7.1Hz),1.40-1.65(2H,m),1.65-2.10(4H,m),2.21(2H,
t,J=7.0Hz),3.20-3.50(2H,m),4.05-4.20(1H,m),4.20-4.
50(4H,m); IR(KBr)3800-2400,2361,2253,1752,1670,1520,1369,124
4,1098cm^-1

【００９１】製造例３４ エチル ２−エトキシカルボニル−２−（Ｎ^g−２，
３，６−トリメチルベンゼンスルホニル−Ｌ−アルギニ
ルアミノ）−３−ヘプチノエート 塩酸塩 製造例３２で得られた化合物を製造例２４と同様な方法
に付し、白色粉末の標記化合物（収率100％）を得た。 融点：98〜103℃¹ HNMR(200MHz,CD₃OD)δ0.99(3H,t,J=7.3Hz),1.28(3H,t,
J=7.1Hz),1.29(3H,t,J=7.1Hz),1.40-1.65(2H,m),1.65-
2.05(4H,m),2.20(2H,t,J=6.8Hz),2.32(3H,s),2.67(6H,
s),3.25-3.40(2H,m),4.05-4.20(1H,brt),4.20-4.35(4H,
m),7.10(2H,s); IR(KBr)3700-2400,2361,2255,1752,1673,1622,1558,136
8,1269,1190,1167,1118,1043cm^-1 FABMS 理論値 C₂₇H₄₁N₅O₇S MW:580(M⁺ _-HCl+H),測定値 m
/e:580(M⁺ _-HCl+H)

【００９２】製造例３５ エチル ２−（ｔ−ブトキシカルボニル−Ｌ−フェニル
アラニル−Ｎ^g−２，３，６−トリメチルベンゼンスル
ホニル−Ｌ−アルギニルアミノ）−３−ヘプチノエート 製造例３４で得られた化合物を製造例２７と同様な方法
に付し、白色粉末（アモルファス）の標記化合物（収率
87％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CD₃OD)δ0.92(3H,t,J=7.3Hz),1.27(6H,t,
J=7.1Hz),1.31(9H,s),1.35-2.00(6H,m),2.15(2H,t,J=7.
1Hz),2.26(3H,s),2.67(6H,s),2.80-3.00(1H,m),3.05-3.
30(2H,m),4.28(4H,J=7.1Hz),4.35-4.65(2H,m),5.25-5.4
5(1H,brt),6.00-6.20(1H,brs),6.31(2H,brs),6.88(2H,
s),7.10-7.35(6H,m),7.86(1H,brs); IR(CHCl₃)3600-3100,3019,2248,1751,1693,1621,1557,1
497,1370,1270,1209,1166,1122,1053cm^-1

【００９３】製造例３６ エチル ２−（Ｎα−ｔ−ブトキシカルボニル−Ｎ^g−
２，３，６−トリメチルベンゼンスルホニル−Ｌ−アル
ギニル−Ｎ^g−２，３，６−トリメチルベンゼンスルホ
ニル−Ｌ−アルギニルアミノ）−２−エトキシカルボニ
ル−３−ヘプチノエート 製造例３４で得られた化合物を製造例２６と同様な方法
に付し、白色粉末（アモルファス）の標記化合物（収率
90％）を得た。¹ HNMR(200MHz,CDCl₃)δ0.84(3H,t,J=7.3Hz),1.22(3H,t,
J=7.1Hz),1.24(3H,t,J=7.1Hz),1.40(9H,s),1.25-1.95(1
0H,m),2.00(2H,brt),2.26(6H,s),2.64(6H,s),2.68(6H,
s),3.05-3.20(4H,m),4.22(4H,q,J=7.1Hz),4.30-4.60(2
H,m),5.45-5.70(1H,brs),6.05-6.40(3H,brs),6.40-6.70
(1H,brs),6.87(2H,s),6.89(2H,s),7.50-7.70(1H,brd),
7.80(1H,brs); IR(CHCl₃)3450,3355,3019,2248,1749,1672,1621,1554,1
500,1390,1228,1221,1209,1167,1120,1054cm^-1

【００９４】製造例３７ エチル ２−エトキシカルボニル−２−（Ｌ−フェニル
アラニル−Ｌ−アルギニルアミノ）−３−ヘプチノエー
ト ２塩酸塩 製造例３５で得られた化合物を製造例２８と同様な方法
に付し、白色粉末の標記化合物（収率60％）を得た。 融点：125〜129℃¹ HNMR(200MHz,CD₃OD)δ0.98(3H,t,J=7.3Hz),1.27(6H,t,
J=7.1Hz),1.35-2.00(6 H,m),2.20(2H,t,J=6.8Hz),2.90-3.10(1H,m),3.10-3.30
(1H,m),4.27(4H,q,J=7.1Hz),4.10-4.35(1H,m),4.55-4.6
5(1H,m),7.20-7.45(5H,m); IR(KBr)3800-2400,2362,1752,1668,1500,1369,1237,109
7cm^-1

【００９５】製造例３８ エチル ２−（Ｌ−アルギニル−Ｌ−アルギニルアミ
ノ）−２−エトキシカルボニル−３−ヘプチノエート
３塩酸塩 製造例３６で得られた化合物を製造例２９と同様な方法
に付し、白色粉末の標記化合物（収率98％）を得た。 融点：145〜148℃¹ HNMR(200MHz,CD₃OD)δ0.98(3H,t,J=6.8Hz),1.27(3H,t,
J=7.1Hz),1.40-2.10(10H,m),2.20(2H,t,J=6.8Hz),3.10-
3.40(4H,m),4.00-4.40(5H,m),4.40-4.65(1H,m); IR(KBr)3800-2400,3182,2247,1751,1668,1509,1369,123
8,1098cm^-1

【００９６】このようにして得られた２−アルキニルマ
ロン酸誘導体を含有する医薬は、通常の製剤化方法によ
って、経口投与のための固体製剤、液体製剤又は非経口
投与のための注射剤、坐剤等の各種製剤となすことがで
きる。投与量は、年齢、体重、症状、治療効果、投与方
法により異なるが、通常１日１回〜数回あるいは期間を
おいて数日乃至週に一度、成人一人あたり０．１ｍｇ〜
５００ｍｇの範囲で経口投与されるか、又は成人一人あ
たり０．０２ｍｇ〜１００ｍｇの範囲で非経口投与され
る。経口投与のための固体組成物においては、ひとつ又
はそれ以上の活性物質が、少なくともひとつの不活性な
希釈剤と混合して用いられ、必要に応じて賦形剤、結合
剤、潤滑剤、崩壊剤、溶解補助剤や安定化剤等を含有し
てもよい。錠剤又は丸剤は、必要に応じ胃溶性又は腸溶
性物質フィルムで被膜してもよい。カプセル剤にはハー
ドカプセル及びソフトカプセルが含まれる。経口投与の
ための液体組成物としては、溶液剤、乳濁剤、懸濁剤、
シロップ剤、エリキシル剤が含まれる。このような液体
組成物においては、一般的に用いられる不活性な希釈剤
が含まれ、それ以外に、湿潤剤、懸濁剤のような補助
剤、甘味剤、風味剤、芳香剤、防腐剤を含有していても
よい。非経口投与のための注射剤としては、無菌の水性
又は非水性の溶液剤、懸濁剤、乳濁剤が含まれる。この
ような注射剤においては、ひとつ又はそれ以上の活性物
質が、少なくともひとつの不活性の水性の希釈剤や不活
性な非水性の希釈剤と混合して用いられ、必要に応じ
て、さらに防腐剤、湿潤剤、乳化剤、分散剤、安定化
剤、溶解補助剤のような補助剤を含有していてもよい。
これらは通常、濾過（バクテリア保留フィルター等）、
殺菌剤の配合又はガンマー線照射によって無菌化される
か、又はこれらの処理をした後、凍結乾燥等の方法によ
り固体組成物とし、使用直前に無菌水、又は無菌の注射
用希釈剤を加えて使用される。あるいはそのまま液状で
用いてもよい。次に、実施例を以て、より具体的な製剤
化方法、試験方法及びその結果について述べる。

【００９７】

【実施例】

１．製剤例 上記処方の粉末を混合し、６０メッシュの篩いを通した
後、この粉末２８０ｍｇを３号ゼラチンカプセルに入れ
てカプセル剤とした。 化合物５２ｍｇと、微結晶セルロース４９ｍｇと、トウ
モロコシデンプンの一部を混合し、常法により粒状化し
た。得られた粒状物を篩いに通した後、残りのトウモロ
コシデンプン及びステアリン酸マグネシウムを加えて混
合した。次いで、得られた粒状物を打錠機を用いて１５
０ｍｇの錠剤とした。 上記配合比で薬物を注射用蒸留水に溶解し、除塵、除
菌、濾過をする。濾過した薬液を洗浄、乾燥、滅菌した
アンプルに充填して注射剤とした。

【００９８】

【試験例】次に本発明化合物がチオールプロテアーゼを
抑制することを実証するため以下の試験を行った。 試験例１ （１）酵素の準備 ヒト組換カテプシンＬは、公知の手法に従って形質転換
マウスミエノーマ細胞の培養培地から得た〔例えば、掛
川、勝沼他、J.Bio.Chem,Vol.88,No.6,1805〜1811(198
0)〕 。形質転換マウスミエノーマ細胞は、ヒト腎カテ
プシンＬ遺伝子のクローニングによって増殖されたｃＤ
ＮＡフラグメントからなるプラスミドを用いたトランス
フェクションによって調整した。培地中で発現されたヒ
ト組換カテプシンＬは、硫酸アンモニウム沈降法によ
り、またセファデックスＧ−５０、Ｓ−セファローゼ及
びＨＰＬＣ TSKG3000Sを用いたクロマトグラフィーによ
って完全に精製した。

【００９９】（２）カテプシンＬ阻害活性の測定 カテプシンＬの阻害活性の測定は、AJ.Bannet及びH.Kin
schkeの方法〔MethodsEnzymol,Vol.80.534〜561(198
2)〕に従って人工基質（ＭＣＡ）を用いた蛍光法により
行った。基質であるＺ−Ｐｈｅ−Ａｒｇ−ＭＣＡは加水
分解されることによって、７−アミノ−４−メチルクマ
リンを放出する。この物質は、モノクロロ酢酸を用いて
反応が停止された後、その強い蛍光によって計測され
る。測定は、５０ｍＭ酢酸ナトリウム緩衝液中、ｐＨ
５．５でＥＤＴＡ Ｎａ₂（１ｍＭ）と、基質としてのＺ
−Ｐｈｅ−Ａｎｇ−ＭＣＡ（２０μＭ，蛋白研究所（大
阪）から購入）を用いて行った。阻害剤は、酵素ととも
に３７℃で２０分間プレインキュベートされた。更に該
反応混合物は基質とともに３７℃で２０分間インキュベ
ートされた。基質の加水分解はｐＨ４．３で１００ｍＭ
酢酸ナトリウム緩衝液中に１００ｍＭモノクロロ酢酸を
添加することにより停止された。酵素活性は、０．５単
位に調整された（ここで、酵素活性の１単位とは、３７
℃で１分間に１ｎｍｏｌの７−アミノ−４−メチルクマ
リン遊離をもって定義される。）基質から遊離された７
−アミノ−４−メチルクマリンの蛍光は日立蛍光分析器
（モデルＦ−２０００）でモニターされた。４６０ｎｍ
における放射は、３７０ｎｍにおける励起をもって測定
された。これらの試験結果を表５に示す。また、システ
インを添加した場合の阻害活性試験の結果を表６に示
す。

【０１００】

【表５】

【０１０１】

【表６】

【０１０２】表５から明かなように、対照では９８．８
ｍＵ／ｍｌが分解してしまったのに対し、本発明に係わ
る２−アルキニルマロン酸エステル誘導体の１０^-4Ｍ濃
度を用いることにより、加水分解は８８．３％抑制され
た。また、表３の試験結果から明かなように、システイ
ンを添加することによって、本発明に係わる化合物の阻
害活性が消失することから、これら化合物がＳＨアクセ
プターとして機能していること、即ち、カテプシンＬの
活性中心部のチオール基と反応してカテプシンＬの活性
を阻害していることが明かである。

【０１０３】（３）カテプシンＢ阻害活性の測定 カテプシンＢ阻害活性はBarrettらの方法に従って測定
した。ヒト肝カテプシンＢ（0.5単位;Athens Reseach a
nd Technology）とシステイン塩酸塩（8mM）及びジメチ
ルスルホキシドに溶解した阻害剤をEDTA-2Na（1mM）を
含有した50mM酢酸 緩衝液中にて混合させ、３７℃で３
０分間、プレインキュベーションした後、Z-Phe-Arg-MC
A（20μM）を加えて反応を開始した。３７℃で２０分
間、反応させた後、100mMモノクロロ酢酸ナトリウム溶
液（pH4.3）を加えて反応を停止し、反応液の蛍光強度
（励起波長:370nm、蛍光波長:460nm）を測定した。結果
は、阻害剤を加えない場合の蛍光強度から下記の式より
算出した阻害率で示した。

【０１０４】

【数１】

【０１０５】この結果を下記表７乃至表９に示す。

【０１０６】

【表７】

【０１０７】

【表８】

【０１０８】

【表９】

【０１０９】上記カテプシンＢ阻害活性試験の結果から
明きらかなとおり、本発明のいずれの２−アルキニルマ
ロン酸誘導体は優れたカテプシンＢ阻害活性を示し、と
りわけ製造例４、７、８、１５、１８、２４及び３６の
化合物は優れた活性を示した。 従って、本発明の２−
アルキニルマロン酸誘導体は優れたチオールプロテアー
ゼ阻害活性を有するものであり、チオールプロテアーゼ
が関与するとされる疾患、例えば筋ジストロフィー症、
炎症、腎性高血圧症、白内障、心筋梗塞、ウィルス感染
症、悪性腫瘍、アレルギー性疾患の予防、又は治療への
効果が大いに期待され、とりわけコラーゲン分解能を阻
害するという観点からして、骨粗鬆症治療剤及び高カル
シウム血症治療剤として有用である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 69/734 Ｚ 9279−4Ｈ 219/22 229/24 7537−4Ｈ 317/22 Ｃ０７Ｋ 5/065 5/068 ＺＮＡ 8318−4Ｈ 5/08

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記一般式〔Ｉ〕 【化１】 〔式中、Ｒは、水素原子、置換されてもよいアリール基
   若しくはアラルキル基、シクロアルキル基、シクロアル
   ケニル基、低級アルキル基、トリ低級アルキルシリル基
   又は 【化２】 （ここで、ｎは１乃至４の整数を意味し、Ｒ³は水素原
   子、水酸基の保護基、５−ジメチルアミノ−１−ナフタ
   レンスルホニル基、保護されてもよいアミノ酸残基又は
   置換されてもよいジ若しくはトリペプチド残基を意味す
   る）を意味し、Ｒ¹は水素原子又はカルボキシル保護基
   を意味し、Ｒ²はヒドロキシ基、低級アルコキシ基又は 【化３】 （ここで、Ｒ⁴は水素原子、低級アルキル基又はアミノ
   保護基を意味し、Ｒ⁵は水素原子、低級アルキル基、ア
   ミノ酸残基、保護されてもよいアミノ酸残基又は置換さ
   れてもよいジ若しくはトリペプチド残基を意味する）を
   意味する〕で示される２−アルキニルマロン酸誘導体又
   はその塩を含有してなるチオールプロテアーゼ阻害剤。
2. 【請求項２】請求項１記載の２−アルキニルマロン酸誘
   導体又はその塩を含有してなるカテプシンＢ阻害剤。
3. 【請求項３】請求項１記載の２−アルキニルマロン酸誘
   導体又はその塩を含有してなるカテプシンＬ阻害剤。
4. 【請求項４】請求項１記載の２−アルキニルマロン酸誘
   導体又はその塩を含有してなる骨粗鬆症治療剤。
5. 【請求項５】請求項１記載の２−アルキニルマロン酸誘
   導体又はその塩を含有してなる高カルシウム血症治療
   剤。
6. 【請求項６】下記一般式〔II〕 【化４】 （式中、Ｒ及びＲ¹は上記と同じであり、Ｒ⁶はヒドロキ
   シ基、低級アルコキシ基を意味する）で示される２−ヒ
   ドロキシ−２−アルキニルマロン酸誘導体。
7. 【請求項７】下記一般式〔III〕 【化５】 （式中、Ｒ¹、Ｒ⁴、Ｒ⁵及びｎは上記と同じであり、Ｒ⁷
   は保護されてもよいアミノ酸残基又は保護されてもよい
   ジ若しくはトリペプチド残基を意味する）で示される２
   −アミノ−２−アルキニルマロン酸誘導体。
8. 【請求項８】下記一般式〔IV〕 【化６】 （式中、Ｒ、Ｒ¹及びＲ⁴は上記と同じであり、Ｒ⁸は保
   護されてもよいアミノ酸残基又は保護されてもよいジ若
   しくはトリペプチド残基を意味する）で示される２−置
   換アミノ−２−アルキニルマロン酸誘導体。