JPH07138530A

JPH07138530A - ハードコートの製造方法

Info

Publication number: JPH07138530A
Application number: JP30759193A
Authority: JP
Inventors: Kazuaki Kato; 和明加藤; Takeshi Okubo; 毅大久保
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1993-11-12
Filing date: 1993-11-12
Publication date: 1995-05-30

Abstract

(57)【要約】【目的】高硬度を有し、光学製品の高屈折率化に対応
できる高い屈折率を有し、プラスチック基材との付着性
に優れ、ミクロドメインによる不均質を有さずに透明性
が高く、かつプラスチック基材が耐熱性を有する温度域
における加熱処理により膜の硬化が可能なハードコート
の製造方法の提供。【構成】例えば２つ又は３つのアルコキシド基を有す
るシラン化合物と金属アルコキシド（金属として、例え
ばＳｂ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｚｒを含有す
る）との混合物を作成し、得られた混合物を被コーティ
ング物、例えば光学レンズ、眼鏡レンズ、光学用プリズ
ム等、の表面に塗布し、次いで塗布した混合物中のシラ
ン化合物と金属アルコキシドとを共重合させ、得られた
共重合体膜を加熱して硬化させるハードコートの製造方
法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、シラン化合物及び金属
アルコキシドを用いて得られるハードコートの製造方法
に関する。特に、本発明は、光学レンズ、眼鏡レンズ、
光学用プリズム等のプラスチック製光学製品のハードコ
ートの製造方法として有用である。

【０００２】

【従来の技術】近年、光学レンズ、眼鏡レンズ、光学用
プリズム等の光学用製品は、無機ガラス製のものに代わ
り、耐衝撃性、軽量性、加工性、染色性等の点において
利点を有する有機ガラス製すなわちプラスチック製のも
のが増えてきている。しかしながらプラスチックは無機
ガラスに比べ表面硬度が低く、異物とのわずかな接触に
より傷がついてしまう。そのため、一般にプラスチック
製光学製品は、光学面にハードコートを形成して保護し
ている。現在用いられているハードコートは、例えば、
シランカップリング剤を含むコート液、又は金属酸化物
微粒子のゾルとシランカップリング剤を混合したコート
液を調製し、これを被コーティング物である光学製品に
ディップあるいはスピンコートし、熱処理することによ
り形成されている。

【０００３】具体的には、例えば特公平５−４５６１２
公報には、メタノール溶媒中、トリメトキシメチルシラ
ン及びグリシジロキシエチルトリメチルシランを重燐酸
アルミニウム水溶液を用いて室温で２４時間加水分解反
応及び部分縮合反応させてコーティング剤を作成し、こ
れをアクリル板にコートし加熱処理することによりハー
ドコート膜を形成することが開示されている。ところ
が、最近、光学製品の高屈折率化に伴い、高屈折率を有
するハードコートに対する要求が高まってきている。そ
れに対して、上記公報の実施例では、シラン化合物であ
るトリメトキシメチルシラン及びグリシジロキシエチル
トリメチルシランのみを原料に用いている。そのため、
作成された膜の屈折率は低く、高屈折率を有するハード
コートを提供できていない。また、上記コーティング剤
は、すでに加水分解反応及び部分縮合反応が進行してお
り、両シラン化合物の微粒子ゾルとなっている。従っ
て、これを用いて得られた膜は、微粒子ゾルがゲル化し
たものであり、ミクロドメインを多く有している。その
結果、得られた膜には曇りの発生などが認められ、不均
質であり膜質が悪いといった欠点もあった。

【０００４】

【本発明が解決しようとする課題】そこで、高屈折率を
有する金属酸化物微粒子のゾルとシランカップリング剤
を混合したコート液を用いて高屈折率ハードコートを作
成することが試行されている。ところが、高屈折率ハー
ドコートを作成するためには、高屈折率を有する金属酸
化物微粒子のゾルを用いたコート液を調製しなければな
らない。しかし、チタンやアンチモン等の高屈折率な金
属酸化物微粒子のゾルは、安定性に欠け、微粒子どうし
の凝集による白濁や沈殿が生じてしまう。そのため、そ
のようなコート液の調製は困難であり、実用化されてい
る例は少ない。また上記コート液を用いて得られるハー
ドコートは、金属酸化物微粒子とシランカップリング剤
がゲル化したものである。そのため、ミクロドメインを
有しており、不均質であるために膜質が悪いという欠点
があった。

【０００５】「色材協会誌」第６５巻、１１号、第６７
６〜６８３頁には、アルミニウムトリプロポキシド、ア
ルミニウムトリブトキシド、チタニウムテトラプロポキ
シド、ジルコニウムプロポキシド等の金属アルコキシド
溶液またはゾルを調製し、これをプラスチック基材上に
コートした後、加熱処理することによりハードコート膜
を作成することが報告されている。上記「色材協会誌」
において作成された膜は、原料に屈折率の高い金属アル
コキシドを用いており屈折率は比較的高かった。しか
し、金属アルコキシドのみを用いているために、プラス
チック基材との付着性が悪く、加熱処理時の熱膨張・収
縮により、どの金属アルコキシドから得られた膜も無数
のクラックが発生しており膜質が悪いという欠点があっ
た。

【０００６】「ジャーナルオブノン−クリスタリン
ソリッド」第１００巻、第４１８〜４２３頁（１９８
８年）には、チタニウムテトラエトキシドとジフェニル
シランジオールを原料としてゾル−ゲル法によりハード
コート膜を作成することが報告されている。この報告で
は、トルエン−エタノール混合溶媒にチタニウムテトラ
エトキシドを加えさらに氷酢酸を加え、５０℃でリフラ
ックスした後に、ジフェニルシランジオールを加え、リ
フラックス（還流）し、水を加え、１５０℃に加熱した
後、粘性黄色透明溶液を得ている。この溶液を燐酸ガラ
ス上にコートし加熱処理することによりハードコート膜
を作成している。上記「ジャーナルオブノン−クリ
スタリンソリッド」に報告されている膜の製造方法で
は、チタニウムテトラエトキシドとジフェニルシランジ
オールの混合溶液を、水を加える前後で加熱している。
そのため、最終的に得られた粘性黄色液体は、加水分解
反応及び縮合反応がかなり進行しており、両原料の微粒
子ゾルとなっている。そのため、これを用いて得られた
膜は、微粒子ゾルがゲル化したものであり、ミクロドメ
インを多く有している。その結果、得られる膜には曇り
の発生などが認められ、不均質であり膜質が悪かった。
また屈折率の高いチタニウムテトラエトキシドの添加量
が少ないため、得られた膜の屈折率が低いという問題も
あった。

【０００７】「マクロモレキュールズ」第２４巻、第３
４４９〜第３４５０頁（１９９１年）には、チタニウム
テトラプロポキシドと有機オリゴマー置換トリエトキシ
シランを原料としてゾル−ゲル法によりハードコート膜
を作成することが報告されている。この報告では、塩酸
（１０Ｎ）を加えたテトラヒドロフラン溶媒にチタニウ
ムテトラプロポキシドを加えてチタニアゾルとした後、
有機オリゴマー置換トリエトキシシランを加え、両原料
の混合ゾルを調整し、これをポリ（４−メチル−１−ペ
ンテン）基材上にコートし、６０℃で加熱処理すること
により膜を作成している。さらに得られた膜を、基材か
ら剥し、２００℃で加熱処理を施してハードコート膜を
得ている。上記の「マクロモレキュールズ」の報告にお
いて作成された膜は、屈折率が１．６〜１．７５と高い
値である。しかし、その製造方法では、加水分解触媒で
ある塩酸（１０Ｎ）を加えたテトラヒドロフラン溶媒に
チタニウムテトラプロポキシドを加え加水分解反応及び
縮合反応によりゾル化した後に、有機オリゴマー置換ト
リエトキシシランを加えゾル化しており、各原料単独の
微粒子ゾルが混在している。そのため、これを用いて得
られた膜は、微粒子ゾルがゲル化したものであり、ミク
ロドメインを多く有しており、曇りの発生などが認めら
れ、不均質であり膜質が悪かった。また十分な硬度を得
るためには２００℃程度で熱処理する必要があるが、プ
ラスチック基材は一般に２００℃の加熱に耐えられな
い。そのため、膜をプラスチック基材から剥がさなけれ
ばならず、光学製品用ハードコートへの応用には不適当
であった。

【０００８】以上のように、従来の方法では、前記のよ
うな問題点及び欠点があり、高屈折率プラスチック製光
学製品に有用なハードコートは得られていない。そこ
で、本発明の目的は、ハードコート膜としての基本性能
である高硬度を有し、光学製品の高屈折率化に対応でき
る高い屈折率を有し、プラスチック基材との付着性に優
れ、ミクロドメインによる不均質を有さずに透明性が高
く、かつプラスチック基材が耐熱性を有する温度域にお
ける加熱処理により膜の硬化が可能な、ハードコートの
製造方法を提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】そこで本発明は、シラン
化合物と金属アルコキシドとの混合物を作成し、得られ
た混合物を被コーティング物の表面に塗布し、次いで塗
布した混合物中のシラン化合物と金属アルコキシドとを
共重合させ、得られた共重合体膜を加熱して硬化させる
ることを特徴とするハードコートの製造方法に関する。
本発明の特徴は、シラン化合物と金属アルコキシドとの
加水分解反応及び縮合反応を同時に開始し、かつ前記の
加水分解反応及び縮合反応を主に被コーティング物の表
面に塗布した後に進行させることにある。

【００１０】本発明の製造方法の好ましい態様において
は、（Ａ）一般式(I) Ｒ¹ _mＳｉＸ¹ _(4-m) (I) （式中、Ｒ¹は有機基を表し、Ｘ¹は−ＯＲ²を表し、
Ｒ²は炭素数１〜４のアルキル基を表し、ｍは１又は２
の整数である。）で表される１種又は２種以上のシラン
化合物（成分Ａ）と、（Ｂ）一般式(II) ＭＸ² _n (II) （式中、ＭはＳｂ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｚ
ｒを表し、Ｘ²は−ＯＲ³を表し、Ｒ³は炭素数１〜４
のアルキル基を表し、ｎはＭで表される金属原子の価数
であり３〜５の整数である。）で表される、一種又は２
種以上の金属アルコキシド（成分Ｂ）とを用いる。さら
に、成分Ａと成分Ｂとの混合比は、成分Ａと成分Ｂの総
量に対して、成分Ａは１０〜４０モル％、成分Ｂは９０
〜６０モル％の範囲であることが好ましい。

【００１１】以下に、本発明を詳説する。一般式(I) で
表されるシラン化合物（成分Ａ）は、シラン原子に一つ
または二つの、有機基が置換し、残りの結合手はすべ
て、アルコキシ基が置換したものである。Ｒ¹はプラス
チック基材との付着性を高める効果があるものである。
この付着性は、基材との間に、共有結合、イオン結合、
配位結合、水素結合などの結合形成やファンデルワール
ス力、静電引力などの親和力によるものである。有機基
Ｒ¹の例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−
プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチ
ル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、オクタ
デシル基、ｎ−オクチル基、クロロメチル基、メトキシ
エチル基、ヒドロキシエチル基、アミノエチル基、メル
カプトプロピル基、フェニル基、ベンジル基、ヒドロキ
シフェニル基、クロロフェニル基、アミノフェニル基、
ビニル基、アリル基、アクリロキシエチル基、メタクリ
ロキシエチル基、グリシドキシプロピル基、アセトキシ
基等を例示できる。Ｘ¹のアルコキシ基は、Ｓｉ−Ｏ−
Ｓｉ結合やＳｉ−Ｏ−Ｍ結合を形成するための官能基で
あり、水により加水分解されてアルコールとして脱離す
る。例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ
基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ
基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等を挙
げることができる。Ｒ²の炭素数は脱離するアルコール
の分子量が比較的小さく、除去が容易であり形成される
膜の緻密性の低下を抑制できるという観点から、１〜４
の範囲であることが好ましい。

【００１２】一般式(I) で表されるシラン化合物として
は、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシ
ラン、ジ−ｎ−プロピルジ−ｎ−プロポキシシラン、ジ
イソプロピルジイソプロポキシシラン、ジ−ｎ−ブチル
ジ−ｎ−ブチロキシシラン、ジ−ｓｅｃ−ブチルジ−ｓ
ｅｃ−ブチロキシシラン、ジ−ｔ−ブチルジ−ｔ−ブチ
ロキシシラン、メチルオクタデシルジメトキシシラン、
メチルドデシルジエトキシシラン、メチルオクタデシル
ジメトキシシラン、メチルオクタデシルジエトキシシラ
ン、ｎ−オクチルメチルジメトキシシラン、ｎ−オクチ
ルメチルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラ
ン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−プロ
ポキシシラン、メチルイソプロポキシシラン、メチル−
ｎ−ブチロキシシラン、メチルトリ−ｓｅｃ−ブチロキ
シシラン、メチルトリ−ｔ−ブチロキシシラン、エチル
トリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチ
ルトリ−ｎ−プロポキシシラン、エチルイソプロポキシ
シラン、エチル−ｎ−ブチロキシシラン、エチルトリ−
ｓｅｃ−ブチロキシシラン、エチルトリ−ｔ−ブチロキ
シシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、イソブチ
ルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラ
ン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ｎ−オクチルト
リメトキシシラン、ｎ−ドデシルトリメトキシシラン、
ｎ−オクタデシルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルト
リエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、ｎ
−ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリエト
キシシラン、ｎ−オクチルトリエトキシシラン、ｎ−ド
デシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリエト
キシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニル
ジエトキシシラン、ジベンジルジメトキシシラン、ジベ
ンジルジエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリエトキシシラン、ジベンジルトリメト
キシシラン、ジベンジルトリエトキシシラン、３−アセ
トキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラ
ン、アリルトリエトキシシラン、４−アミノブチルトリ
エトキシシラン、（アミノエチルアミノメチル）フェネ
チルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−
３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２
−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、６−（アミノヘキシルアミノプロピル）トリメト
キシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、
ｐ−アミノフェニルエトキシシラン、３−アミノプロピ
ルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキ
シシシラン、ω−アミノウンデシルトリメトキシシラ
ン、アミルトリエトキシシラン、ベンゾオキサシレピン
ジメチルエステル、５−（ビシクロヘプテニル）トリエ
トキシシラン、ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−ア
ミノプロピルトリエトキシシラン、８−ブロモオクチル
トリメトキシシラン、ブロモフェニルトリメトキシシラ
ン、３−ブロモプロピルトリメトキシシラン、ｎ−ブチ
ルトリメトキシシラン、２−クロロメチルトリエトキシ
シラン、クロロメチルメチルジエトキシシラン、クロロ
メチルメチルジイソプロポキシラン、ｐ−（クロロメチ
ル）フェニルトリメトキシシラン、クロロメチルトリエ
トキシシラン、クロロフェニルトリエトキシシラン、３
−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロ
プロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリ
メトキシシラン、２−（４−クロロスルフォニルフェニ
ル）エチルトリメトキシシラン、２−シアノエチルトリ
エトキシシラン、２−シアノエチルトリメトキシシラ
ン、シアノメチルフェネチルトリエトキシシラン、３−
シアノプロピルトリエトキシシラン、２−（３−シクロ
ヘキセニル）エチルトリメトキシシラン、（シクロヘキ
シルアミノメチル）メチルジエトキシシラン、（３−シ
クロペンタジエニルプロピル）トリエトキシシラン、
Ｎ，Ｎ−ジエチル−３−アミノプロピル）トリメトキシ
シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチ
ルトリメトキシシラン、（３−グリシドキシプロピル）
メチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、１，２，３，４，７，７，−ヘキサ
クロロ−６−メチルジエトキシシリル−２−ノルボルネ
ン、１，２，３，４，７，７，−ヘキサクロロ−６−ト
リエトキシシリル−２−ノルボルネン、３−ヨードプロ
ピルトリメトキシラン、３−イソシアネートプロピルト
リエトキシシラン、（メルカプトメチル）メチルジエト
キシシラン、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシ
シラン、３−メルカプトプロピルジメトキシシラン、３
−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３−メタク
リロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタク
リロキシプロピルトリメトキシシラン、メチル｛２−
（３−トリメトキシシリルプロピルアミノ）エチルアミ
ノ｝−３−プロピオネート、７−オクテニルトリメトキ
シシラン、Ｒ−Ｎ−α−フェネチル−Ｎ’−トリエトキ
シシリルプロピルウレア、Ｓ−Ｎ−α−フェネチル−
Ｎ’−トリエトキシシリルプロピルウレア、フェネチル
トリメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリ
メトキシシラン、フェニルビニルジエトキシシラン、３
−チオシアナートプロピルトリエトキシシラン、（トリ
デカフロオロ−１，１，２，２，−テトラヒドロオクチ
ル）トリエトキシシラン、Ｎ−｛３−（トリエトキシシ
リル）プロピル｝フタルアミド酸、（３，３，３−トリ
フルオロプロピル）メチルジメトキシシシラン、（３，
３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシシラ
ン、１−トリメトキシシリル−２−（クロロメチル）フ
ェニルエタン、２−（トリメトキシシリル）エチルフェ
ニルスルホニルアジド、β−トリメトキシシリルエチル
−２−ピリジン、トリメトキシシリルプロピルジエチレ
ントリアミン、Ｎ−｛（３−トリメトキシシリル）プロ
ピル｝エチレンジアミン三酢酸ソーダ塩、Ｎ−（３−ト
リメトキシシリルプロピル）ピロール、ビニルメチルジ
エトキシラン、ビニルエトキシシラン、ビニルトリメト
キシシラン、ビニルトリフェノキシシラン、ビニルトリ
ス−ｔ−ブトキシシラン等が挙げられる。

【００１３】一般式(II)で表される金属アルコキシド
（成分Ｂ）は、金属原子のすべての結合手にアルコキシ
基が置換したものである。Ｘ²のアルコキシ基は、Ｍ−
Ｏ−Ｍ結合やＳｉ−Ｏ−Ｍ結合を形成するための官能基
であり、水により加水分解されアルコールとして脱離す
る。前述のＸ¹で記載したアルコキシ基と同様のアルコ
キシ基を用いることができる。尚、Ｘ²として表される
アルコキシ基は炭素数が１〜４の範囲であることが適当
である。この範囲であれば、脱離するアルコールの分子
量が比較的小さく、その除去が容易であり、形成される
膜の緻密性を抑制することができる。Ｍで表される金属
原子はＳｂ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｚｒ等で
あることが好ましい。これらの金属原子は原子屈折率が
高いため、これらの金属原子を含む金属アルコキシドを
共重合することによって、得られる共重合膜の屈折率を
高めることができるからである。尚、アルカリ金属、ア
ルカリ土類金属など、他にも比較的原子屈折率の高い金
属原子は存在する。しかし、それらの金属原子は、生成
するＳｉ−Ｏ−Ｍ結合やＭ−Ｏ−Ｍ結合などの結合の安
定性が低かったり、結合が生成しない場合があり、使用
の際には注意を要する。

【００１４】一般式(II)で表される金属アルコキシドと
しては、アンチモントリメトキシド、アンチモントリエ
トキシド、アンチモントリ−ｎ−プロポキシド、アンチ
モントリ−ｉ−プロポキシド、アンチモントリ−ｎ−ブ
トキシド、アンチモントリ−ｓｅｃ−ブトキシド、アン
チモントリ−ｔ−ブトキシド、アンチモンペンタメトキ
シド、アンチモンペンタエトキシド、アンチモンペンタ
−ｎ−プロポキシド、アンチモンペンタ−ｉ−プロポキ
シド、アンチモンペンタ−ｎ−ブトキシド、アンチモン
ペンタ−ｓｅｃ−ブトキシド、アンチモンペンタ−ｔ−
ブトキシド、スズテトラメトキシド、スズテトラエトキ
シド、スズテトラ−ｎ−プロポキシド、スズテトラ−ｉ
−プロポキシド、スズテトラ−ｎ−ブトキシド、スズテ
トラ−ｓｅｃ−ブトキシド、スズテトラ−ｔ−ブトキシ
ド、スズテトラメトキシド、スズテトラエトキシド、ス
ズテトラ−ｎ−プロポキシド、スズテトラ−ｉ−プロポ
キシド、スズテトラ−ｎ−ブトキシド、スズテトラ−ｓ
ｅｃ−ブトキシド、スズテトラ−ｔ−ブトキシド、イン
ジウムトリメトキシド、インジウムトリエトキシド、イ
ンジウムトリ−ｎ−プロポキシド、インジウムトリ−ｉ
−プロポキシド、インジウムトリ−ｎ−ブトキシド、イ
ンジウムトリ−ｓｅｃ−ブトキシド、インジウムトリ−
ｔ−ブトキシド、ニオブペンタメトキシド、ニオブペン
タエトキシド、ニオブペンタ−ｎ−プロポキシド、ニオ
ブペンタ−ｉ−プロポキシド、ニオブペンタ−ｎ−ブト
キシド、ニオブペンタ−ｓｅｃ−ブトキシド、ニオブペ
ンタ−ｔ−ブトキシド、タンタルペンタメトキシド、タ
ンタルペンタエトキシド、タンタルペンタ−ｎ−プロポ
キシド、タンタルペンタ−ｉ−プロポキシド、タンタル
ペンタ−ｎ−ブトキシド、タンタルペンタ−ｓｅｃ−ブ
トキシド、タンタルペンタ−ｔ−ブトキシド、チタンテ
トラメトキシド、チタンテトラエトキシド、チタンテト
ラ−ｎ−プロポキシド、チタンテトラ−ｉ−プロポキシ
ド、チタンテトラ−ｎ−ブトキシド、チタンテトラ−ｓ
ｅｃ−ブトキシド、チタンテトラ−ｔ−ブトキシド、ジ
ルコニウムテトラメトキシド、ジルコニウムテトラエト
キシド、ジルコニウムテトラ−ｎ−プロポキシド、ジル
コニウムテトラ−ｉ−プロポキシド、ジルコニウムテト
ラ−ｎ−ブトキシド、ジルコニウムテトラ−ｓｅｃ−ブ
トキシド、ジルコニウムテトラ−ｔ−ブトキシド等が挙
げられる。

【００１５】上記のような、プラスチック基材との付着
力を高める有機基を有する一般式(I) で表されるシラン
化合物（成分Ａ）と原子屈折率の高い金属原子を有する
一般式(II)で表される金属アルコキシド（成分Ｂ）とを
共重合することによりプラスチック基材に対して付着性
が良く、高屈折率を有するハードコート膜が得られる。
上記の成分Ａと成分Ｂとの共重合は、有機溶媒中に成分
Ａ及び成分Ｂを加えて混合物を作製し、この混合物にさ
らに水及び加水分解触媒を添加することによって開始さ
れる加水分解反応及び加水分解反応に引き続いて起こる
縮合反応により進行する。尚、有機溶媒中の成分Ａ及び
成分Ｂの濃度は、成分Ａ及び成分Ｂの種類や混合比、ハ
ードコートの膜厚、塗布方法等により適宜選択できる。
一般には例えば、成分Ａ及び成分Ｂの合計で１０〜６０
重量％の範囲とすることが適当である。上記の混合物
は、常温以上５０℃以下の有機溶媒に攪拌下、所定量の
成分Ａ及び成分Ｂを加え、その後溶液が均質になるまで
攪拌を続けることにより得られる。また、上記混合物に
は、必要に応じて着色剤、紫外線吸収剤等の各種添加剤
を加えてもよい。成分Ａと成分Ｂの混合比は、成分Ａと
成分Ｂの総量に対して、成分Ａ１０〜４０モル％、成分
Ｂ９０〜６０モル％が好ましい。その理由は、成分Ａが
１０モル％より少なくなると（すなわち成分Ｂが９０モ
ル％より多くなると）プラスチック基材に対する付着力
が不十分となり、プラスチック基材からの剥がれやクラ
ックの発生などが起こり安くなるからである。一方、成
分Ｂが６０モル％より少なくなると（すなわち成分Ａが
４０モル％より多くなると）屈折率が低下する傾向があ
る。より好ましくは、成分Ａは２０〜３０モル％の範囲
であり、成分Ｂは８０〜７０モル％の範囲であることが
適当である。ここで用いられる有機溶媒としては、ベン
ゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、メタノ
ール、エタノール、ｉ−プロパノール等のアルコール溶
媒、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテ
ル溶媒等、公知の加水分解反応及び縮合反応に用いられ
る溶媒やこれらの溶媒の二種類以上の混合溶媒などを挙
げることができる。さらに、加水分解触媒としては、公
知の加水分解触媒をそのまま用いることができる。その
ような加水分解触媒としては、例えば塩酸、硝酸、硫
酸、酢酸、蓚酸、クエン酸、酒石酸、アンモニア、水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、エタノールアミン等を
挙げることができる。また、触媒量は、成分Ａ及び成分
Ｂの種類並びに触媒の種類等により適宜調整できるが、
例えば、成分Ａと成分Ｂの合計１モルに対して０．０１
〜０．５モルの範囲であることが適当である。

【００１６】本発明では、さらに上記の混合物に、常温
以上５０℃の温度で、攪拌下、水及び加水分解触媒を添
加することにより、成分Ａ及び成分Ｂは、ほぼ同時に加
水分解反応が開始される。水や加水分解触媒を添加して
加水分解反応が開始された後、攪拌を止めて被コーティ
ング物の表面に塗布する。但し、均質性の高いハードコ
ート膜を得るという観点からは、加水分解反応開始後、
速やかに塗布することが好ましい。但し、均質性を維持
できる時間は、混合物中に含まれる成分Ａ及び成分Ｂの
種類と混合比、有機溶媒の種類、水の添加量、触媒の種
類と量等により異なる。一般には、加水分解反応開始後
１０分以内、好ましくは５分以内に被コーティング物で
あるプラスチック基材の表面に塗布することが適当であ
る。加水分解が起こると続いて縮合反応が進む。成分Ａ
と成分Ｂとでは、加水分解及び縮合反応の反応速度に差
があり、この反応速度の差により、ハードコートが不均
質になることがある。このため本発明では、加水分解反
応開始後、縮合反応の進行により微粒子ゾルが実質的に
形成される前に、前記混合物をプラスチック基材に塗布
し、プラスチック基材上で引き続き加水分解反応さらに
縮合反応を進行させて共重合させる。従って、本発明に
より得られるハードコート（共重合）膜は、微粒子ゾル
の形成に起因するミクロドメインが形成されることな
く、シラン化合物と金属アルコキシドの三次元架橋構造
を有する均質なランダム共重合膜となる。

【００１７】上記の混合物の被コーティング物であるプ
ラスチック基材の表面への塗布は、スピンコート法、デ
ィップコート法、スプレー法等の方法により行うことが
できる。さらに、混合物の塗布量は、得られるハードコ
ート膜に必要とされる物性及び膜厚等を考慮として、適
宜決定することができる。膜厚が例えば０．１〜５．０
μｍの範囲となるようにすることが適当である。

【００１８】本発明においては、被コーティング物に形
成された共重合膜の架橋度を上げるために加熱処理を施
す。この加熱処理は、被コーティング物であるプラスチ
ック基材がガラス転移温度を示すものはガラス転移温度
以下の温度、ガラス転移温度を示さないものは軟化温度
以下の温度で、例えば２４〜３６時間行うことにより行
うことができる。このようにして得られる被膜は、ハー
ドコートとして十分な硬度及び緻密性を有する。架橋度
は、加熱処理温度が高いほど上昇し、膜の硬度、緻密性
共に高まる。しかし、上記の温度より高い温度で熱処理
すると膜にクラックが発生するなどのため膜質が悪化す
る。一般に、共重合膜の架橋度を上げるために加熱処理
は、１〜１０℃／分の速度で、所定温度まで加熱し、こ
の温度で２４〜３６時間保持して行う。加熱の後、５〜
１５℃／分の速度で冷却することにより室温に戻して、
ハードコートを有する物品を得ることができる。

【００１９】本発明における被コーティング物は、ハー
ドコートを必要とする全ての物品を包含する。例えば、
光学レンズ、眼鏡レンズ、光学用プリズム等のプラスチ
ック製光学製品のプラスチック基材を挙げることができ
る。但し、プラスチック基材は、ガラス移転温度が９０
℃以上であることが好ましい。そのようなプラスチック
として、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリ
ウレタン、ポリカーボネート、ポリエーテル、ポリスル
フィド、ポリスルフォン、ポリアセタール、フェノール
樹脂、尿素樹脂等の重縮合及び重付加によって合成され
るポリマーや、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリビ
ニルアルコール、ポリ（メタ）アクリレート、ポリスチ
レン等のビニル重合によって合成されるポリマーの公知
のポリマー、またこれらのポリマーを構成する二種以上
のモノマーのコポリマーやこれらの二種以上のポリマー
アロイ等を挙げることができる。

【００２０】以下、実施例により本発明を詳説する。

【実施例】以下の実施例によって得られたハードコート
の物性評価は下記の方法により行った。膜厚：触針式粗さ計（テーラー・ホブソン（株）社
製）により測定した。屈折率：基材から剥したハードコートをアッベ屈折計
（アタゴ（株）社製）を用い、フィルム測定の常法に従
って測定した。硬度：鉛筆硬度試験（ＪＩＳＫＳ４００）に基
づいて行った。付着力：ハードコート面に２ｍｍの等間隔の平行線及
びそれらに直交する２ｍｍの等間隔の平行線を、基材に
達しハードコートを切断するように引き、セロハン粘着
テープ（商品名”セロテープ”ニチバン株式会社製）を
コート全面に強く張り付けた後、その張り付け面と垂直
方向に急速に剥し、ハードコートの剥離面積が１０ｍｍ
²以下のものを３、剥離面積が１０〜４０ｍｍ²のもの
を２、剥離面積が４０ｍｍ²以上のものを１として表し
た。膜質：基材から剥したハードコートを目視及び電子
顕微鏡（明石（株）社製）により観察した。曇り、クラ
ック、ドメインの無いものを３、曇りのあるものを２、
曇り、ドメイン、クラックのあるものを１として表し
た。各実施例及び比較例において得られたハードコート
の物性評価結果は、表１〜表３にまとめて示す。

【００２１】

【表１】

【００２２】

【表２】

【００２３】

【表３】

【００２４】実施例１温度２４±１℃、相対湿度５０〜５５％の室内で、２０
０ｍｌのビーカー中の脱水処理した４０℃のエタノール
１００ｍｌに、マグネチックスターラーで攪拌しながら
トリエトキシフェニルシラン７．２ｇ（０．０３モル、
１５モル％（総原料量に対する比））とアンチモントリ
エトキシド４３．６ｇ（０．１７ｍｏｌ、８５モル％
（総原料量に対する比））を加え、均質な混合物を得
た。４０℃に保った混合物に、攪拌しながら、加水分解
触媒として、塩酸（１０Ｎ）１ｍｌを加え、３０秒後に
攪拌を停止し、１分間静置した後、２０ｍｍ×２０ｍｍ
×２ｍｍのポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）板
を、混合物中に、厚さ方向に対して垂直方向に浸漬し、
１分後、厚さ方向に対して垂直方向に２０ｍｍ／ｍｉｎ
の速度で引き上げた。コートしたＰＭＭＡ板を４０℃に
保たれている恒温槽に入れ、１０分後、２℃／ｍｉｎの
昇温速度で１００℃まで昇温し、そのまま２４時間加熱
処理した。その後５℃／ｍｉｎの冷却速度で室温に戻
し、減圧乾燥を２４時間行い、膜厚０．１８μｍの無
色、透明のハードコートを得た。

【００２５】実施例２シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
アンチモントリエトキシド４１．１ｇ（０．１６ｍｏ
ｌ、８０モル％（総原料量に対する比））を用い、実施
例１と同様の操作により、膜厚０．２１μｍの無色、透
明のハードコートを得た。

【００２６】実施例３シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン１６．８ｇ（０．０７ｍｏｌ、３５モル％（総原
料量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）とし
てアンチモントリエトキシド３３．４ｇ（０．１３ｍｏ
ｌ、６５モル％（総原料量に対する比））を用い、実施
例１と同様の操作により、膜厚０．２２μｍの無色、透
明のハードコートを得た。

【００２７】実施例４シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
スズテトラエトキシド４７．７ｇ（０．１６ｍｏｌ、８
０モル％（総原料量に対する比））を用い、実施例１と
同様の操作により、膜厚０．２３μｍの無色、透明のハ
ードコートを得た。

【００２８】実施例５シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
インジウムトリエトキシド４０．０ｇ（０．１６ｍｏ
ｌ、８０モル％（総原料量に対する比））を用い、実施
例１と同様の操作により、膜厚０．２１μｍの無色、透
明のハードコートを得た。

【００２９】実施例６シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
タンタルペンタエトキシド６５．０ｇ（０．１６ｍｏ
ｌ、８０モル％（総原料量に対する比））を用い、実施
例１と同様の操作により、膜厚０．２３μｍの無色、透
明のハードコートを得た。

【００３０】実施例７シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
ニオブペンタエトキシド５０．９ｇ（０．１６ｍｏｌ、
８０モル％（総原料量に対する比））を用い、実施例１
と同様の操作により、膜厚０．２３μｍの無色、透明の
ハードコートを得た。

【００３１】実施例８シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
チタンテトラエトキシド３６．５ｇ（０．１６ｍｏｌ、
８０モル％（総原料量に対する比））を用い、実施例１
と同様の操作により、膜厚０．２４μｍの無色、透明の
ハードコートを得た。

【００３２】実施例９−１シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
ジルコニウムテトラエトキシド４３．４ｇ（０．１６ｍ
ｏｌ、８０モル％（総原料量に対する比））を用い、実
施例１と同様の操作により、膜厚０．２３μｍの無色、
透明のハードコートを得た。

【００３３】実施例９−２シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
チタンテトラエトキシド３６．５ｇ（０．１６ｍｏｌ、
８０モル％（総原料量に対する比））を用い、実施例１
と同様の操作により、膜厚０．１８μｍの無色、透明の
ハードコートを得た。

【００３４】比較例１シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン４８．０ｇ（０．２ｍｏｌを用い、金属アルコキ
シド（成分Ｂ）は加えずに、実施例１と同様の操作によ
り、膜厚０．２６μｍの無色、透明のハードコートを得
た。

【００３５】比較例２シラン化合物（成分Ａ）は加えずに、金属アルコキシド
（成分Ｂ）としてチタンテトラエトキシド４５．６ｇ
（０．２モル）を用い、実施例１と同様の操作により、
膜厚０．１７μｍの無色、透明のハードコートを得た。

【００３６】比較例３温度２４±１℃、相対湿度５０〜５５％の室内で、２０
０ｍｌのビーカー中の脱水処理した４０℃のエタノール
１００ｍｌに、マグネチックスターラーで攪拌しながら
塩酸（１０Ｎ）１ｍｌを加えた後、トリエトキシフェニ
ルシラン９．６ｇ（０．０４モル、２０モル％（総原料
量に対する比））を加え、１０分間リフラックスした。
さらにチタンテトラエトキシド３６．５ｇ（０．１６モ
ル、８０モル％（総原料量に対する比））を加え、１０
分間リフラックスし粘性混合物を得た。４０℃に保った
混合物中に、２０ｍｍ×２０ｍｍ×２ｍｍのＰＭＭＡ板
を厚さ方向に対して垂直方向に浸漬し、１分後、厚さ方
向に対して垂直方向に２０ｍｍ／ｍｉｎの速度で引き上
げた。コートしたＰＭＭＡ板を４０℃に保たれている恒
温槽に入れ、１０分後、２℃／ｍｉｎの昇温速度で１０
０℃まで昇温し、そのまま２４時間加熱処理した。その
後５℃／ｍｉｎの冷却速度で室温に戻し、減圧乾燥を２
４時間行い、膜厚０．１７μｍの無色、透明のハードコ
ートを得た。

【００３７】実施例１０シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
アンチモントリエトキシド４１．１ｇ（０．１６ｍｏ
ｌ、８０モル％（総原料量に対する比））を用い、プラ
スチック基材をポリカーボネート（ＰＣ）、加熱処理を
１３０℃で２４時間とした以外は、実施例１と同様の操
作により、膜厚０．１９μｍの無色、透明のハードコー
トを得た。

【００３８】実施例１１シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
スズテトラエトキシド４７．７ｇ（０．１６ｍｏｌ、８
０モル％（総原料量に対する比））を用い、プラスチッ
ク基材をポリカーボネート（ＰＣ）、加熱処理を１３０
℃で２４時間とした以外は、実施例１と同様の操作によ
り、膜厚０．２１μｍの無色、透明のハードコートを得
た。

【００３９】実施例１２シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
インジウムトリエトキシド４０．０ｇ（０．１６ｍｏ
ｌ、８０モル％（総原料量に対する比））を用い、実施
例１１と同様の操作により、膜厚０．２１μｍの無色、
透明のハードコートを得た。

【００４０】実施例１３シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
タンタルペンタエトキシド６５．０ｇ（０．１６ｍｏ
ｌ、８０モル％（総原料量に対する比））を用い、実施
例１１と同様の操作により、膜厚０．２３μｍの無色、
透明のハードコートを得た。

【００４１】実施例１４シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
ニオブペンタエトキシド５０．９ｇ（０．１６ｍｏｌ、
８０モル％（総原料量に対する比））を用い、実施例１
１と同様の操作により、膜厚０．２４μｍの無色、透明
のハードコートを得た。

【００４２】実施例１５シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
チタンテトラエトキシド３６．５ｇ（０．１６ｍｏｌ、
８０モル％（総原料量に対する比））を用い、実施例１
１と同様の操作により、膜厚０．２５μｍの無色、透明
のハードコートを得た。

【００４３】実施例１６シラン化合物（成分Ａ）として、トリエトキシフェニル
シラン９．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、２０モル％（総原料
量に対する比））、金属アルコキシド（成分Ｂ）として
ジルコニウムエトキシド４３．４ｇ（０．１６ｍｏｌ、
８０モル％（総原料量に対する比））を用い、実施例１
１と同様の操作により、膜厚０．２４μｍの無色、透明
のハードコートを得た。

【００４４】実施例１７シラン化合物（成分Ａ）として、メタクリルオキシプロ
ピルトリエトキシシラン１１．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、
２０モル％（総原料量に対する比））、金属アルコキシ
ド（成分Ｂ）としてジルコニウムテトラエトキシド４
３．４ｇ（０．１６ｍｏｌ、８０モル％（総原料量に対
する比））を用い、実施例１と同様の操作により、膜厚
０．２４μｍの無色、透明のハードコートを得た。

【００４５】実施例１８シラン化合物（成分Ａ）として、メタクリルオキシプロ
ピルトリエトキシシラン１１．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、
２０モル％（総原料量に対する比））、金属アルコキシ
ド（成分Ｂ）としてアンチモントリエトキシド４１．１
ｇ（０．１６ｍｏｌ、８０モル％（総原料量に対する
比））を用い、実施例１と同様の操作により、膜厚０．
２３μｍの無色、透明のハードコートを得た。

【００４６】実施例１９シラン化合物（成分Ａ）として、メタクリルオキシプロ
ピルトリエトキシシラン１１．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、
２０モル％（総原料量に対する比））、金属アルコキシ
ド（成分Ｂ）としてニオブペンタエトキシド５０．９ｇ
（０．１６ｍｏｌ、８０モル％（総原料量に対する
比））を用い、実施例１と同様の操作により、膜厚０．
２２μｍの無色、透明のハードコートを得た。

【００４７】実施例２０シラン化合物（成分Ａ）として、メタクリルオキシプロ
ピルトリエトキシシラン１１．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、
２０モル％（総原料量に対する比））、金属アルコキシ
ド（成分Ｂ）としてチタンテトラエトキシド３６．５ｇ
（０．１６ｍｏｌ、８０モル％（総原料量に対する
比））を用い、実施例１と同様の操作により、膜厚０．
２５μｍの無色、透明のハードコートを得た。

【００４８】実施例２１シラン化合物（成分Ａ）として、グリシジルオキシプロ
ピルトリエトキシシラン１０．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、
２０モル％（総原料量に対する比））、金属アルコキシ
ド（成分Ｂ）としてジルコニウムテトラエトキシド４
３．４ｇ（０．１６ｍｏｌ、８０モル％（総原料量に対
する比））を用い、実施例１と同様の操作により、膜厚
０．２３μｍの無色、透明のハードコートを得た。

【００４９】実施例２２シラン化合物（成分Ａ）として、グリシジルオキシプロ
ピルトリエトキシシラン１０．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、
２０モル％（総原料量に対する比））、金属アルコキシ
ド（成分Ｂ）としてアンチモントリエトキシド４１．１
ｇ（０．１６ｍｏｌ、８０モル％（総原料量に対する
比））を用い、実施例１と同様の操作により、膜厚０．
２４μｍの無色、透明のハードコートを得た。

【００５０】実施例２３シラン化合物（成分Ａ）として、グリシジルオキシプロ
ピルトリエトキシシラン１０．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、
２０モル％（総原料量に対する比））、金属アルコキシ
ド（成分Ｂ）としてニオブペンタエトキシド５０．９ｇ
（０．１６ｍｏｌ、８０モル％（総原料量に対する
比））を用い、実施例１と同様の操作により、膜厚０．
２１μｍの無色、透明のハードコートを得た。

【００５１】実施例２４シラン化合物（成分Ａ）として、グリシジルオキシプロ
ピルトリエトキシシラン１０．６ｇ（０．０４ｍｏｌ、
２０モル％（総原料量に対する比））、金属アルコキシ
ド（成分Ｂ）としてチタンテトラエトキシド３６．５ｇ
（０．１６ｍｏｌ、８０モル％（総原料量に対する
比））を用い、実施例１と同様の操作により、膜厚０．
２４μｍの無色、透明のハードコートを得た。

【００５２】表１〜３に示すように、本実施例１〜２４
において得られた共重合体（ハードコート）は、屈折率
が１．６１〜１．７３と高く、硬度も６Ｈ〜９Ｈと硬
く、付着力及び膜質にも優れたものであった。これに対
し、比較例１は、硬度は高く、付着力及び膜質にも優れ
ているが、屈折率が１．５２と低いものであった。ま
た、比較例２及び比較例３は、屈折率及び硬度は高い
が、付着力及び膜質が劣るものであった。

【００５３】

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、ハードコー
ト膜としての基本性能である高硬度を有し、光学製品の
高屈折率化に対応できる高い屈折率を有し、プラスチッ
ク基材との付着性に優れ、ミクロドメインによる不均質
を有さずに透明性が高く、かつプラスチック基材が耐熱
性を有する温度域における加熱処理により膜の硬化が可
能な、ハードコートの製造方法を提供することができ
る。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】シラン化合物と金属アルコキシドとの混
合物を作成し、得られた混合物を被コーティング物の表
面に塗布し、次いで塗布した混合物中のシラン化合物と
金属アルコキシドとを共重合させ、得られた共重合体膜
を加熱して硬化させることを特徴とするハードコートの
製造方法。
【請求項２】シラン化合物が一般式（１）：Ｒ¹ _mＳ
ｉＸ¹ _(4-m)で表される化合物（但し、Ｒ¹は有機基を
表し、Ｘ¹は炭素数１〜４のアルキル基を有するアルコ
キシ基であり、ｍは１又は２である）の１種又は２種以
上であり、金属アルコキシドが一般式（２）：ＭＸ² _n
で表される化合物（但し、ＭはＳｂ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｎ
ｂ、Ｔａ、Ｔｉ及びＺｒからなる群から選ばれる金属原
子であり、Ｘ²は炭素数１〜４のアルキル基を有するア
ルコキシ基であり、ｎはＭで表される金属原子の価数で
あり、３〜５の整数である）の１種又は２種以上である
請求項１記載の製造方法。
【請求項３】一般式（１）で表されるシラン化合物と
一般式（２）で表される金属アルコキシドとの混合比率
が、両化合物の総量に対して、一般式（１）で表される
シラン化合物が１０〜４０モル％の範囲であり、一般式
（２）で表される金属アルコキシドが９０〜６０モル％
の範囲である請求項１又は２に記載の製造方法。
【請求項４】被コーティング物がプラスチック製光学
製品である請求項１〜３のいずれか１項に記載の製造方
法。