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JPH0699497B2 - Photopolymerizable composition - Google Patents

Photopolymerizable composition

Info

Publication number
JPH0699497B2
JPH0699497B2 JP9349787A JP9349787A JPH0699497B2 JP H0699497 B2 JPH0699497 B2 JP H0699497B2 JP 9349787 A JP9349787 A JP 9349787A JP 9349787 A JP9349787 A JP 9349787A JP H0699497 B2 JPH0699497 B2 JP H0699497B2
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JP
Japan
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group
substituted
atom
compound
alkyl
Prior art date
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Application number
JP9349787A
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Japanese (ja)
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JPS63258903A (en
Inventor
充 小池
浩一 川村
幸雄 安陪
信行 喜多
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP9349787A priority Critical patent/JPH0699497B2/en
Publication of JPS63258903A publication Critical patent/JPS63258903A/en
Publication of JPH0699497B2 publication Critical patent/JPH0699497B2/en
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/031Organic compounds not covered by group G03F7/029

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は光重合性組成物に関する。さらに詳しくは、エ
チレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と新規な
組成の光重合開始剤と、必要に応じて線状有機高分子重
合体とを含有する光重合性組成物に関し、たとえば、ア
ルゴンレーザー光源に対しても感応しうる感光性印刷版
の感光層等に有用な光重合性組成物に関するものであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION "Industrial field of use" The present invention relates to photopolymerizable compositions. More specifically, regarding a photopolymerizable composition containing a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, a photopolymerization initiator having a novel composition, and a linear organic high molecular polymer, if necessary, for example, The present invention relates to a photopolymerizable composition useful for a photosensitive layer of a photosensitive printing plate which is sensitive to an argon laser light source.

「従来の技術」 エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と光重
合開始剤と更に必要に応じて適当な皮膜形成能を有する
結合剤、熱重合禁止剤を混和させた感光性組成物を用い
て、写真的手法により画像の複製を行なう方法は、現在
知られるところである。すなわち、米国特許2,927,022
号、同2,902,356号あるいは同3,870,524号に記載されて
いるように、この種の感光性組成物は光照射により光重
合を起こし、硬化し不溶化することから、該感光性組成
物を適当な皮膜となし、所望の画像の陰画を通して光照
射を行ない、適当な溶媒により未露光部のみを除去する
(以下、単に現像と呼ぶ)ことにより所望の光重合性組
成物の硬化画像を形成させることができる。このタイプ
の感光性組成物は印刷版等を作成するために使用される
ものとして極めて有用であることは論をまたない。
"Prior Art" A photosensitive composition prepared by mixing a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, a photopolymerization initiator, and a binder having an appropriate film-forming ability, and a thermal polymerization inhibitor if necessary. A method of reproducing an image using a photographic method is currently known. That is, U.S. Pat.
No. 2,902,356 or 3,870,524, a photosensitive composition of this kind undergoes photopolymerization upon irradiation with light, and is cured and insolubilized. None, by performing light irradiation through a negative image of a desired image and removing only an unexposed portion with a suitable solvent (hereinafter, simply referred to as development), a cured image of a desired photopolymerizable composition can be formed. . It goes without saying that this type of photosensitive composition is extremely useful as a material used for producing printing plates and the like.

また、従来、エチレン性不飽和結合を有する重合可能な
化合物のみでは充分な感光性がなく、感光性を高めるた
めに光重合開始剤を添加することが提唱されており、か
かる光重合開始剤としてはベンジル、ベンゾイン、ベン
ゾインエチルエーテル、ミヒラーケトン、アントラキノ
ン、アクリジン、フェナジン、ベンゾフェノン、2−エ
チルアントラキノン等が用いられてきた。しかしなが
ら、これらの光重合開始剤を用いた場合、光重合性組成
物の硬化の感応度が低いので画像形成における像露光に
長時間を要した。このため細密な画像の場合には、操作
にわずかな振動があると良好な画質の画像が再現され
ず、さらに露光の光源のエネルギー放射量を増大しなけ
ればならないためにそれに伴なう多大な発熱の放散を考
慮する必要があった。加えて熱による組成物の皮膜の変
形および変質も生じ易い等の問題があった。
Further, conventionally, only a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond does not have sufficient photosensitivity, and it has been proposed to add a photopolymerization initiator to enhance the photosensitivity. For example, benzyl, benzoin, benzoin ethyl ether, Michler's ketone, anthraquinone, acridine, phenazine, benzophenone, 2-ethylanthraquinone and the like have been used. However, when these photopolymerization initiators are used, the photosensitivity of curing of the photopolymerizable composition is low, and thus it took a long time for image exposure in image formation. Therefore, in the case of a fine image, if there is a slight vibration in the operation, an image of good image quality cannot be reproduced, and the amount of energy emitted from the exposure light source must be increased. It was necessary to consider the dissipation of fever. In addition, there is a problem that the coating film of the composition is easily deformed or deteriorated by heat.

また、これらの光重合開始剤は400nm以下の紫外領域の
光源に対する光重合能力に比較し、400nm以上の可視光
線領域の光源に対する光重合能力は顕著に低い。従っ
て、従来の光重合開始剤を含む光重合性組成物は、応用
範囲が著しく限定されていた。
Further, these photopolymerization initiators have a remarkably low photopolymerization ability with respect to a light source in the visible light region of 400 nm or more, as compared with the photopolymerization ability with respect to a light source in the ultraviolet region of 400 nm or less. Therefore, the application range of the conventional photopolymerizable composition containing the photopolymerization initiator is extremely limited.

可視光線に感応する光重合系に関して従来いくつかの提
案がなされて来た。かかる提案として、米国特許第2850
445号によればある種の光還元性染料、例えば、ローズ
ベンガル、エオシン、エリスロシン等が効果的な可視光
感応性を有していると報告されている。また改良技術と
して、染料とアミンの複合開始系(特公昭44−2018
9)、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤
および染料の系(特公昭45−37377)、ヘキサアリール
ビイミダゾールとP−ジアルキルアミノベンジリデンケ
トンの系(特開昭47−2528、特開昭54−155292)、3−
ケト置換クマリン化合物と活性ハロゲン化合物の系(特
開昭58−15503)、置換トリアジンとメロシアニン色素
の系(特開昭54−151024)などの提案がなされて来た。
これらの技術は確かに可視光線に対して有効ではある。
しかし、未だその感光速度は充分満足すべきものではな
く、さらに改良技術が望まれていた。
Several proposals have been made in the past regarding photopolymerization systems sensitive to visible light. As such a proposal, US Pat.
According to No. 445, it is reported that certain photo-reducing dyes such as rose bengal, eosin, and erythrosine have effective visible light sensitivity. As an improved technology, a complex initiation system of dye and amine (Japanese Patent Publication No. 44-2018
9), a system of hexaarylbiimidazole and radical generator and dye (Japanese Patent Publication No. 45-37377), a system of hexaarylbiimidazole and P-dialkylaminobenzylidene ketone (Japanese Patent Publication No. 47-2528, Japanese Patent Publication No. 54-155292 ), 3-
Proposals have been made such as a system of keto-substituted coumarin compounds and active halogen compounds (JP-A-58-15503) and a system of substituted triazines and merocyanine dyes (JP-A-54-151024).
These techniques are certainly effective for visible light.
However, the photosensitivity rate is not yet satisfactory, and further improvement techniques have been desired.

また、近年、紫外線に対する高感度化や、レーザーを用
いて画像を形成する方法が検討され、印刷版作成におけ
るUVプロジェクション露光法、レーザー直接製版、レー
ザーファクシミリ、ホログラフィー等が既に実用の段階
にあり、これらに対応する高感度の感光材料が開発され
ているところである。しかし未だ十分な感度を有してい
るとは言えない。
Further, in recent years, high sensitivity to ultraviolet rays, a method of forming an image using a laser has been studied, UV projection exposure method in printing plate making, laser direct plate making, laser facsimile, holography, etc. are already in the stage of practical use, Highly sensitive light-sensitive materials corresponding to these are being developed. However, it cannot be said that it still has sufficient sensitivity.

「発明が解決しようとする問題点」 本発明は、高感度の光重合性組成物を提供することであ
る。
"Problems to be Solved by the Invention" The present invention is to provide a photopolymerizable composition having high sensitivity.

すなわち、本発明の目的は、広く一般にエチレン性不飽
和結合を有する重合可能な化合物を含む光重合性組成物
の光重合速度を増大させる光重合開始剤を含んだ光重合
性組成物を提供することである。
That is, an object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiator that increases the photopolymerization rate of a photopolymerizable composition containing a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond widely. That is.

また本発明の他の目的は、400nm以上の可視光線、特にA
r+レーザーの出力に対応する488nm付近の光に対しても
感度の高い光重合開始剤を含んだ光重合性組成物を提供
することにある。
Another object of the present invention is visible light of 400 nm or more, particularly A
Another object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiator that is highly sensitive to light around 488 nm corresponding to the output of an r + laser.

「問題点を解決するための手段」 本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた結
果、ある特定の光重合開始剤系がエチレン性不飽和結合
を有する重合可能な化合物の光重合速度を著しく増大さ
せ、また400nm以上の可視光線に対しても高感度を示す
ことを見出し、本発明に到達したものである。
"Means for Solving Problems" The present inventor has conducted extensive studies to achieve the above-mentioned object, and as a result, a certain photopolymerization initiator system has a photopolymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond. The present invention has been accomplished by finding that the polymerization rate is remarkably increased and that high sensitivity is exhibited even for visible light of 400 nm or more.

すなわち、本発明はエチレン性不飽和二重結合を少なく
とも1個有する付加重合可能な化合物と光重合開始剤
と、必要に応じて線状有機高分子重合体とを含む光重合
性組成物において、該光重合開始剤が少なくとも下記の
(イ)、(ロ)及び(ハ)の化合物の組合せであること
を特徴とする光重合性組成物に関する。
That is, the present invention provides a photopolymerizable composition containing an addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator, and, if necessary, a linear organic polymer. The photopolymerizable composition is characterized in that the photopolymerization initiator is a combination of at least the following compounds (a), (b) and (c).

(イ)一般式(I)の化合物 (ただし式中R1〜R4はお互いに独立して、水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換アル
コキシ基、アミノ基、置換アミノ基を表す。また、R1
R4はそれが結合できる炭素原子と共に非金属原子から成
る環を形成していても良い。
(A) Compound of general formula (I) (In the formula, R 1 to R 4 are independently of each other, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, an amino group, a substituted amino group. Represents a group, and R 1 ~
R 4 may form a ring composed of a non-metal atom together with the carbon atom to which it can bind.

R6はR7又は−Z−R7であり、Zはカルボニル基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、又はアリーレンジカルボニル
基を表し、R5、R7は互いに独立して、水素原子、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
ヘテロ芳香族基、置換ヘテロ芳香族基、シアノ基、アル
コキシ基、置換アルコキシ基、カルボキシ基、アルケニ
ル基、置換アルケニル基を表す。またR5:R6は共に非金
属原子から成る環を形成しも良い。XはO、S、NH、又
は置換基を有する窒素原子を表す。Yは、酸素原子、又
であり、G1、G2は同一でも異なっていても良く、水素原
子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換ア
リールオキシカルボニル基、アシル基、置換アシル基、
アリールカルボニル基、置換アリールカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、フルオロスルホニル基を表
す。但しG1とG2は共に水素原子ではない。又G1、G2はそ
れが形成できる炭素原子と共に非金属原子から成る環を
形成していても良い。) (ロ)一般式(II)で表わされる2,4,6−置換−1,3,5−
トリアジン化合物 (ただし、式中、X、YおよびZはそれぞれアルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ア
ラルキル基をあらわし、互いに同一でも異なってもよい
が、それらのうちの少なくとも1つはモノー、ジー又は
トリハロゲン置換メチル基を表わす。) または有機過酸化物 (ハ)一般式(III): 〔(R8)(R9M)〕+nYm-n (III) (ただし、式中、mおよびnは1または2の整数、R8
π−アレーン、R9はπ−アレーンまたはπ−アレーン陰
イオン、MはTi、Cr、Co、Mn、W、Fe、Mo、S、Se、T
e、N、P、As、BiおよびSbから選ばれる陽イオン、Y
はB▲F- 4▼、P▲F- 6▼、As▲F- 6▼、Sb▲F- 6▼、
FeC▲l- 4▼、SnC▲l2- 6▼、SbCl-およびBiC▲l- 6
から選ばれる陰イオンを表わす。) で表わされる化合物、芳香族オニウム塩および芳香族ハ
ロニウム塩から選ばれる少なくとも一種の化合物。
R 6 is R 7 or -Z-R 7, Z represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, or arylene group, R 5, R 7 independently of one another, a hydrogen atom, an alkyl group, A substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group,
It represents a heteroaromatic group, a substituted heteroaromatic group, a cyano group, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, a carboxy group, an alkenyl group or a substituted alkenyl group. R 5 : R 6 may form a ring composed of non-metal atoms. X represents O, S, NH, or a nitrogen atom having a substituent. Y is an oxygen atom, or And G 1 and G 2 may be the same or different, a hydrogen atom, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a substituted alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a substituted aryloxycarbonyl group, an acyl group, a substituted acyl group,
It represents an arylcarbonyl group, a substituted arylcarbonyl group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and a fluorosulfonyl group. But G 1 and G 2 are not hydrogen atoms. Further, G 1 and G 2 may form a ring composed of a non-metal atom together with the carbon atom which can form it. ) (B) 2,4,6-substituted-1,3,5-represented by the general formula (II)
Triazine compound (In the formula, X, Y, and Z each represent an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or an aralkyl group, and they may be the same or different, but at least one of them is mono- , D or trihalogen-substituted methyl group) or an organic peroxide (C) general formula (III): [(R 8 ) (R 9 M)] + nYm n (III) (wherein, m and n are integers of 1 or 2, R 8 is π-arene, R 9 is π-arene or π-arene anion, M is Ti, Cr, Co, Mn, W, Fe, Mo, S, Se, T
a cation selected from e, N, P, As, Bi and Sb, Y
Is B ▲ F - 4 ▼, P ▲ F - 6 ▼, As ▲ F - 6 ▼, Sb ▲ F - 6 ▼,
FeC ▲ l - 4 ▼, SnC ▲ l 2- 6 ▼, SbCl - and BiC ▲ l - 6
Represents an anion selected from ) At least one compound selected from the compound represented by :, an aromatic onium salt, and an aromatic halonium salt.

また、本発明はエチレン性不飽和二重結合を少なくとも
1個有する付加重合可能な化合物と光重合開始剤と、必
要に応じて線状有機高分子重合体とを含む光重合性組成
物において、該光重合開始剤が少なくとも下記の
(イ)、(ロ)及び(ニ)の化合物の組合せであること
を特徴とする光重合性組成物に関する。
The present invention also provides a photopolymerizable composition containing an addition-polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, a photopolymerization initiator, and, if necessary, a linear organic polymer. The present invention relates to a photopolymerizable composition, wherein the photopolymerization initiator is a combination of at least the following compounds (a), (b) and (d).

(イ)一般式(I)の化合物 (ただし式中R1〜R4はお互いに独立して、水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換アル
コキシ基、アミノ基、置換アミノ基を表す。また、R1
R4はそれが結合できる炭素原子と共に非金属原子から成
る環を形成していても良い。
(A) Compound of general formula (I) (In the formula, R 1 to R 4 are independently of each other, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, an amino group, a substituted amino group. Represents a group, and R 1 ~
R 4 may form a ring composed of a non-metal atom together with the carbon atom to which it can bind.

R6はR7又は−Z−R7であり、Zはカルボニル基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、又はアリーレンジカルボニル
基を表し、R5、R7は互いに独立して、水素原子、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
ヘテロ芳香族基、置換ヘテロ芳香族基、シアノ基、アル
コキシ基、置換アルコキシ基、カルボキシ基、アルケニ
ル基、置換アルケニル基を表す。またR5、R6は共に非金
属原子から成る環を形成しても良い。XはO、S、NH、
又は置換基を有する窒素原子を表す。Yは、酸素原子、
又は であり、G1、G2は同一でも異なっていても良く、水素原
子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、置換アルコキ
シカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換ア
リールオキシカルボニル基、アシル基、置換アシル基、
アリールカルボニル基、置換アリールカルボニル基、ア
ルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホニル
基、アリールスルホニル基、フルオロスルホニル基を表
す。但しG1とG2は共に水素原子ではない。又G1、G2はそ
れが形成できる炭素原子と共に非金属原子から成る環を
形成していても良い。) (ロ)一般式(II)で表わされる2,4,6−置換−1,3,5−
トリアジン化合物 (ただし、式中、X、YおよびZはそれぞれアルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ア
ラルキル基をあらわし、互いに同一でも異なってもよい
が、それらのうちの少なくとも1つはモノー、ジー又は
トリハロゲン置換メチル基を表わす。) (ニ)一般式(IV)のモルフォリノ化合物 (ただし、式中、Arは下記の一般式の一つから選ばれた
芳香族基を表し、R10、R11は水素原子又はアルキル基を
表し、又、R10とR11は互いに結合してアルキレン基を表
しても良い。) 一般式: (ただし式中、R12〜R13は互いに独立して水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、
置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換アルコキ
シ基、−S−R17基、−SO−R17基又は−SO2R17基を表す
が、但しR12〜R16基の少なくとも一つは−S−R17基、
−SO−R17基又は−SO2R17基を表し、R17はアルキル基、
アルケニル基、R18は水素原子、アルキル基、アシル基
を表す。Y1は水素原子又は を表す。) 以下、本発明について詳細に説明する。
R 6 is R 7 or -Z-R 7, Z represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, or arylene group, R 5, R 7 independently of one another, a hydrogen atom, an alkyl group, A substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group,
It represents a heteroaromatic group, a substituted heteroaromatic group, a cyano group, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, a carboxy group, an alkenyl group or a substituted alkenyl group. Both R 5 and R 6 may form a ring composed of a non-metal atom. X is O, S, NH,
Alternatively, it represents a nitrogen atom having a substituent. Y is an oxygen atom,
Or And G 1 and G 2 may be the same or different, a hydrogen atom, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a substituted alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a substituted aryloxycarbonyl group, an acyl group, a substituted acyl group,
It represents an arylcarbonyl group, a substituted arylcarbonyl group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and a fluorosulfonyl group. But G 1 and G 2 are not hydrogen atoms. Further, G 1 and G 2 may form a ring composed of a non-metal atom together with the carbon atom which can form it. ) (B) 2,4,6-substituted-1,3,5-represented by the general formula (II)
Triazine compound (In the formula, X, Y, and Z each represent an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or an aralkyl group, and they may be the same or different, but at least one of them is mono- , Di or trihalogen-substituted methyl group.) (D) Morpholino compound of the general formula (IV) (In the formula, Ar represents an aromatic group selected from one of the following general formulas, R 10 and R 11 represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 10 and R 11 are bonded to each other. May represent an alkylene group.) General formula: (In the formula, R 12 to R 13 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group,
Substituted aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, substituted alkoxy group, -S-R 17 group, represents an -SO-R 17 group or -SO 2 R 17 group, provided that at least one of R 12 to R 16 group - S-R 17 groups,
It represents -SO-R 17 group or -SO 2 R 17 group, R 17 represents an alkyl group having,
The alkenyl group and R 18 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an acyl group. Y 1 is a hydrogen atom or Represents ) Hereinafter, the present invention will be described in detail.

本発明に使用するエチレン性不飽和結合を有する重合可
能な化合物とは、その化学構造中に少なくとも1個のエ
チレン性不飽和結合を有する化合物である。例えばモノ
マー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体およびオ
リゴマー、又はそれらの混合物ならびにそれらの共重合
体などの化学的形態をもつものである。モノマーおよび
その共重合体の例としては、不飽和カルボン酸およびそ
の塩、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物
とのエステル、不飽和カルボン酸脂肪族多価アミン化合
物とのアミド等があげられる。
The polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond used in the present invention is a compound having at least one ethylenically unsaturated bond in its chemical structure. For example, it has a chemical form such as a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include unsaturated carboxylic acids and salts thereof, esters of unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyhydric alcohol compounds, and amides of unsaturated carboxylic acids with aliphatic polyvalent amine compounds. To be

不飽和カルボン酸のモノマーの具体例としては、アクリ
ル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソク
ロトン酸、マレイン酸などがある。
Specific examples of the unsaturated carboxylic acid monomer include acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, and maleic acid.

不飽和カルボン酸の塩としては、前述の酸のナトリウム
塩およびカリウム塩などがある。
Examples of the salts of unsaturated carboxylic acids include sodium salts and potassium salts of the aforementioned acids.

また、脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸
とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸
エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、
トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタン
ジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジ
アクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリ(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメ
チロールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジ
アクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリ
レート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペ
ンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリト
ールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラア
クリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、
ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレー
ト、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペ
ンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、
トリ(アクリイロイルオキシエチル)イソシアヌレー
ト、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。
Further, specific examples of the monomer of the ester of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate as an acrylic acid ester,
Triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate,
Neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, penta Erythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate,
Dipentaerythritol triacrylate, dipentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate,
Examples include tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate and polyester acrylate oligomer.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリコ
ールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタ
クリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコ
ールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタク
リレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリメタクリート、ペンタエリスリトールテトラメタ
クリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソ
ルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメ
タクリレート、ビス−(p−(3−メタクリルオキシ−
2−ヒドロキシプロポキシ)フエニル〕ジメチルメタ
ン、ビス−〔p−(アクリルオキシエトキシ)フエニ
ル〕ジメチルメタン等がある。
As the methacrylic acid ester, tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis- (p- (3-methacryl Oxy-
2-hydroxypropoxy) phenyl] dimethylmethane, bis- [p- (acryloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane and the like.

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジイ
タコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,
3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオー
ルジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコ
ネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビ
トールテトライタコネート等がある。
As the itaconic acid ester, ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,
Examples include 3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, and sorbitol tetritaconate.

クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジク
ロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトー
ルテトラジクロトネート等がある。
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.

イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコール
ジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロ
トネート、ソルビトールテトライソクロトネート等があ
る。
Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジマ
レート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエ
リスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレート
等がある。
Examples of the maleic acid ester include ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, and sorbitol tetramaleate.

さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあげること
ができる。
Furthermore, a mixture of the above-mentioned ester monomers can also be mentioned.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸との
アミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−ア
クリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6
−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサ
メチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミ
ントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミ
ド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
Further, specific examples of the amide monomer of the aliphatic polyvalent amine compound and the unsaturated carboxylic acid include methylenebis-acrylamide, methylenebis-methacrylamide, 1,6
-Hexamethylenebis-acrylamide, 1,6-hexamethylenebis-methacrylamide, diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide and the like.

その他の例としては、特公昭48−41708号公報中に記載
されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有す
るポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(A)で
示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加せしめ
た1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニ
ルウレタン化合物等があげられる。
As another example, vinyl containing a hydroxyl group represented by the following general formula (A) in a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in JP-B-48-41708. Examples thereof include vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a monomer is added.

CH2=C(R)COOCH2CH(R′)OH (A) (ただし、RおよびR′はHあるいはCH3を示す。) また、特開昭51−37193号に記載されているようなウレ
タンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−4
3191号、特公昭52−30490号各公報に記載されているよ
うなポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メ
タ)アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等
の多官能のアクリレートやメタクリレートをあげること
ができる。さらに日本接着協会誌Vol.20、No.7、300〜3
08ページに光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介
されているものも使用することができる。なお、これら
の使用量は、全成分に対して5〜50重量%(以下%と略
称する。)好ましくは、10〜40%である。
CH 2 ═C (R) COOCH 2 CH (R ′) OH (A) (wherein R and R ′ represent H or CH 3 ). Also, as described in JP-A-51-37193. Urethane acrylates, JP-A-48-64183, JP-B-49-4
Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates as described in Japanese Patent Publication No. 3191 and Japanese Patent Publication No. 52-30490, epoxy acrylates obtained by reacting an epoxy resin with (meth) acrylic acid can be mentioned. . Furthermore, Japan Adhesive Association Magazine Vol.20, No.7, 300-3
Those introduced as photocurable monomers and oligomers on page 08 can also be used. The amount of these used is 5 to 50% by weight (hereinafter abbreviated as%), preferably 10 to 40%, based on all components.

次に本発明の光重合性組成物において著しい特徴をなす
光重合開始剤について説明する。
Next, the photopolymerization initiator which is a remarkable feature of the photopolymerizable composition of the present invention will be described.

本発明で用いられる一般式(I) で表わされる化合物においてR1〜R5及びR7のアルキル基
としてはメチル、エチル、t−ブチル等炭素数1〜20個
までのものを使用でき、アリール基としてはフェニル等
炭素数1〜10個までのものを用いることができる。アル
コキシ基としてはメトキシ、エトキシ、ブトキシ等炭素
数1〜6個までのものを使用できる。
General formula (I) used in the present invention In the compound represented by, those having 1 to 20 carbon atoms such as methyl, ethyl and t-butyl can be used as the alkyl groups of R 1 to R 5 and R 7 , and the aryl group can have 1 to 10 carbon atoms such as phenyl. Up to individual ones can be used. As the alkoxy group, those having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy, ethoxy and butoxy can be used.

またR1〜R4の置換アミノ基としては、メチルアミノ、ジ
メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニルアミノ、ピ
ペリジノ、モルホリノ等炭素数1〜20個を有するアルキ
ルアミノ、アリールアミノ基を用いることができる。
Further, as the substituted amino group for R 1 to R 4 , an alkylamino or arylamino group having 1 to 20 carbon atoms such as methylamino, dimethylamino, diethylamino, diphenylamino, piperidino and morpholino can be used.

これらのアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アル
キルアミノ基、アリールアミノ基は置換基を有していて
も良く、例えば、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原
子、エトキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル
基、メトキシ、エトキシ等のアルコキシ基、フェニル等
のアリール基、シアノ基等がある。R1〜R4がそれと結合
せる炭素原子と共に非金属原子から成る環を形成する場
合、環を含む構造としては下記(A)(B)(C)に示
すものが挙げられる。
These alkyl group, aryl group, alkoxy group, alkylamino group, arylamino group may have a substituent, for example, a halogen atom such as fluorine, chlorine, bromine, an alkoxycarbonyl group such as an ethoxycarbonyl group, Examples include alkoxy groups such as methoxy and ethoxy, aryl groups such as phenyl, and cyano groups. When R 1 to R 4 form a ring composed of a non-metal atom together with the carbon atom to which it is bound, examples of the structure containing the ring include those shown in (A), (B) and (C) below.

R5、R7のアルケニル基としては、スチリル基等炭素数2
〜10個のものを、ヘテロ芳香族基の場合下記(D)〜
(H)に示すものを用いることができる。
The alkenyl group of R 5 and R 7 has 2 carbon atoms such as a styryl group.
In the case of a heteroaromatic group, the following (D)
What is shown in (H) can be used.

これらのヘテロ芳香族基も置換基を有しても良い。置換
基としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、ジ
メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジフェニルアミノ等の
炭素数1〜20個のアルキルアミノ基、アリールアミノ
基、炭素数1〜20個のアルキル基、炭素数1〜6個のア
ルコキシ基等がある。またR5、R6は共にそれと結合でき
る炭素原子と共に環を形成しても良い。例としては下記
(J)に示される構造が挙げられる。
These heteroaromatic groups may also have a substituent. As the substituent, a halogen atom such as fluorine, chlorine and bromine, an alkylamino group having 1 to 20 carbon atoms such as dimethylamino, diethylamino and diphenylamino, an arylamino group, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, carbon There are several 1 to 6 alkoxy groups and the like. R 5 and R 6 may form a ring together with the carbon atom which can be bonded to it. Examples include the structure shown in (J) below.

Xが置換基を有する窒素の場合、置換基としては、R1
R5及びR7で挙げたアルキル基、アリール基と同義のもの
を用いることができる。
When X is a nitrogen atom having a substituent, the substituent is R 1 to
It is possible to use those having the same meanings as the alkyl group and aryl group mentioned for R 5 and R 7 .

Yは、Oまたは であり、G1、G2は同一又は異なる水素原子、シアノ基、
エトキシカルボニル基等の炭素数1〜10個のアルキル基
を有するアルコキシカルボニル基、フェノキシカルボニ
ル基等炭素数6〜10個のアリール基を有するアリールオ
キシカルボニル基、アセチル基、プロピオニル基等炭素
数1〜6個のアシル基、ベンゾイル基等炭素数7〜11個
のアリールカルボニル基、メチルチオ基、エチルチオ基
等炭素数1〜6個のアルキルチオ基、フェニルチオ基等
炭素数6〜10個のアリールチオ基、フェニルスルホニル
基等の炭素数6〜10個のアリールスルホニル基、メチル
スルホニル基、エチルスルホニル基等の炭素数1〜6個
のアルキルスルホニル基またはフルオロスルホニル基を
表わす。
Y is O or And G 1 and G 2 are the same or different hydrogen atom, cyano group,
An alkoxycarbonyl group having an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms such as an ethoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group having an aryl group having 6 to 10 carbon atoms such as a phenoxycarbonyl group, an acetyl group, a propionyl group, etc. 6 acyl groups, benzoyl groups, etc., C7-11 arylcarbonyl groups, methylthio groups, ethylthio groups, etc., C1-6 alkylthio groups, phenylthio groups, etc., C6-10 arylthio groups, phenyl It represents an arylsulfonyl group having 6 to 10 carbon atoms such as a sulfonyl group, an alkylsulfonyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methylsulfonyl group, an ethylsulfonyl group or a fluorosulfonyl group.

これらのアルコキシカルボニル基、アリールオキシカル
ボニル基、アシル基、アリールカルボニル基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、アリールスルホニル基、アル
キルスルホニル基は置換基を有していても良い。また置
換基としては、塩素等のハロゲン原子、炭素数1〜6個
のアルキル基を有するアルコキシカルボニル基、カルボ
キシ基、炭素数6〜10個のアリール基、炭素数1〜6個
のアルコキシ基、シアノ基が挙げられる。さらにアリー
ルオキシカルボニル基、アリールカルボニル基、アリー
ルチオ基、アリールスルホニル基の場合上記の置換基の
外にメチル基等の炭素数1〜6個のアルキル基も用いる
ことができる。
These alkoxycarbonyl group, aryloxycarbonyl group, acyl group, arylcarbonyl group, alkylthio group, arylthio group, arylsulfonyl group and alkylsulfonyl group may have a substituent. As the substituent, a halogen atom such as chlorine, an alkoxycarbonyl group having an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a carboxy group, an aryl group having 6 to 10 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, A cyano group may be mentioned. Furthermore, in the case of an aryloxycarbonyl group, an arylcarbonyl group, an arylthio group, and an arylsulfonyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group can be used in addition to the above substituents.

またG1とG2はそれが結合せる炭素原子と共に非金属原子
から成る環を形成する場合、環としては通常メロシアニ
ン色素で酸性核として用いられるもので以下のものを挙
げることができる。
When G 1 and G 2 form a ring composed of a non-metal atom together with the carbon atom to which they are bound, the ring is usually used as an acidic nucleus in a merocyanine dye and includes the following.

(a) 1,3−ジカルボニル核、例えば1,3−インダンジ
オン、1,3−シクロヘキサンジオン、5,5−ジメチル−1,
3−シクロヘキサンジオン、1,3−ジオキサン−4,6−ジ
オンである。
(A) 1,3-dicarbonyl nucleus, such as 1,3-indandioneone, 1,3-cyclohexanedione, 5,5-dimethyl-1,
They are 3-cyclohexanedione and 1,3-dioxane-4,6-dione.

(b) ピラゾリノン核、例えば3−メチル−1−フェ
ニル−2−ピラゾリン−5−オン、1−フェニル−2−
ピラゾリン−5−オン、1−(2−ベンゾチアゾイル)
−3−メチル−2−ピラゾリン−5−オンである。
(B) Pyrazolinone nuclei, for example 3-methyl-1-phenyl-2-pyrazolin-5-one, 1-phenyl-2-
Pyrazolin-5-one, 1- (2-benzothiazoyl)
It is -3-methyl-2-pyrazolin-5-one.

(c) イソオキサゾリノン核、例えば3−フェニル−
2−イソオキサゾリン−5−オン、3−メチル−2−イ
ソオキサゾリン−5−オンである。
(C) an isoxazolinone nucleus, such as 3-phenyl-
2-isoxazolin-5-one and 3-methyl-2-isoxazolin-5-one.

(d) オキシインドール核、例えば1−アルキル−2,
3−ジヒドロ−2−オキシインドールである。
(D) Oxindole nuclei, for example 1-alkyl-2,
It is 3-dihydro-2-oxindole.

(e) 2,4,6−トリケトヘキサヒドロピリミジン核、
例えばバルビツル酸または2−チオバルビツル酸及びそ
の誘導体である。誘導体としては1−メチル、1−エチ
ル等の1−アルキル体、1,3−ジエチル、1,3−ジブチル
等の1,3−ジアルキル体、1,3−ジフェニル、1,3−ジ
(p−クロロフェニル)、1,3−ジ(p−エトキシカル
ボニルフェニル)等の1,3−ジアリール体、1−エチル
−3−フェニル等の1−アルキル−3−アリール体等が
挙げられる。
(E) 2,4,6-triketohexahydropyrimidine nucleus,
For example, barbituric acid or 2-thiobarbituric acid and its derivatives. The derivatives include 1-alkyl compounds such as 1-methyl and 1-ethyl, 1,3-dialkyl compounds such as 1,3-diethyl and 1,3-dibutyl, 1,3-diphenyl and 1,3-di (p -Chlorophenyl), 1,3-diaryl such as 1,3-di (p-ethoxycarbonylphenyl), 1-alkyl-3-aryl such as 1-ethyl-3-phenyl, and the like.

(f) 2−チオ−2,4−チアゾリジンジオン核、例え
ばローダニン及びその誘導体である。誘導体としては3
−エチルローダニン、3−アリルローダニン等の3−ア
ルキルローダニン、3−フェニルローダニン等の3−ア
リールローダニン等が挙げられる。
(F) 2-Thio-2,4-thiazolidinedione nuclei, such as rhodanine and its derivatives. 3 as a derivative
Examples thereof include 3-alkyl rhodanine such as ethyl rhodanine and 3-allyl rhodanine, and 3-aryl rhodanine such as 3-phenyl rhodanine.

(g) 2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン(2−
チオ−2,4−(3H,5H)−オキサゾールジオン)核、例え
ば2−エチル−2−チオ−2,4−オキサゾリジンジオン
である。
(G) 2-thio-2,4-oxazolidinedione (2-
Thio-2,4- (3H, 5H) -oxazoledione) nuclei, for example 2-ethyl-2-thio-2,4-oxazolidinedione.

(h) チアナフテノン核、例えば3(2H)−チアナフ
テノンおよび3(2H)−チアナフテノン−1,1−ジオキ
サイドである。
(H) thianaphthenone nuclei, such as 3 (2H) -thianaphthenone and 3 (2H) -thianaphthenone-1,1-dioxide.

(i) 2−チオ−2,5−チアゾリジンジオン核、例え
ば3−エチル−2−チオ−2,5−チアゾリジンジオンで
ある。
(I) a 2-thio-2,5-thiazolidinedione nucleus, such as 3-ethyl-2-thio-2,5-thiazolidinedione.

(j) 2,4−チアゾリジンジオン核、例えば2,4−チア
ゾリジンジオン、3−エチル−2,4−チアゾリジンジオ
ン、3−フェニル−2,4−チアゾリジンジオンである。
(J) 2,4-thiazolidinedione nucleus, for example, 2,4-thiazolidinedione, 3-ethyl-2,4-thiazolidinedione, 3-phenyl-2,4-thiazolidinedione.

(k) チアゾリジオン核、例えば4−チアゾリジノ
ン、3−エチル−4−チアゾリジノンである。
(K) Thiazolidione nuclei such as 4-thiazolidinone and 3-ethyl-4-thiazolidinone.

(l) 4−チアゾリジノン核、例えば2−エチルメル
カプト−5−チアゾリン−4−オン、2−アルキルフェ
ニルアミノ−5−チアゾリン−4−オンである。
(L) 4-thiazolidinone nucleus, such as 2-ethylmercapto-5-thiazolin-4-one, 2-alkylphenylamino-5-thiazolin-4-one.

(m) 2−イミノ−2−オキサゾリン−4−オン(凝
ヒダントイン)核である。
(M) 2-imino-2-oxazolin-4-one (coagulated hydantoin) nucleus.

(n) 2,4−イミダゾリジンジオン(ヒダントイン)
核、例えば、2,4−イミダゾリジンジオン、3−エチル
−2,4−イミダゾリジンジオンである。
(N) 2,4-imidazolidinedione (hydantoin)
A nucleus, for example, 2,4-imidazolidinedione, 3-ethyl-2,4-imidazolidinedione.

(o) 2−チオ−2,4−イミダゾリジンジオン(2−
チオヒダントイン)核、例えば2−チオ−2,4−イミダ
ゾリジンジオン、3−エチル−2−チオ−2,4−イミダ
ゾリジンジオンである。
(O) 2-thio-2,4-imidazolidinedione (2-
Thiohydantoin) nuclei, for example 2-thio-2,4-imidazolidinedione, 3-ethyl-2-thio-2,4-imidazolidinedione.

(p) 2−イミダゾリン−5−オン核、例として2−
n−プロピル−メルカプト−2−イミダゾリン−5−オ
ンである。
(P) 2-Imidazolin-5-one nucleus, for example 2-
It is n-propyl-mercapto-2-imidazolin-5-one.

(q) フラン−5−オンである。(Q) Furan-5-one.

本発明で用いられる一般式(I)で表わされる化合物の
具体例を下記に示す。
Specific examples of the compound represented by formula (I) used in the present invention are shown below.

この中で好ましくは(I−12)、(I−13)、(I−1
6)、(I−17)、(I−21)、(I−38)、(I−3
9)、(I−40)、(I−41)、(I−42)の化合物で
ある。
Of these, (I-12), (I-13) and (I-1) are preferred.
6), (I-17), (I-21), (I-38), (I-3
9), (I-40), (I-41) and (I-42) compounds.

本発明で用いられる一般式(II) で表わされる2,4,6−置換−1,3,5−トリアジン化合物と
しては若林ら著「ブリティン・オブ・ザ・ケミカル・ソ
サエティー・オブ・ジャパン(Bulletin of Chemical S
ociety of Japan)42、2924(1969)記載の化合物、た
とえば、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−S−トリアジン、2−(p−アセチルフェニル)
−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、
2−(p−クロルフェニル)−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−S−トリアジン、2−(p−トリル)−4,6
−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−
(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロルメ
チル)−S−トリアジン、2−(2′,4′−ジクロルフ
ェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリ
アジン、2,4,6−トリス(トリクロルメチル)−S−ト
リアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−S−トリアジン、2−n−ノニル−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(α,
α,β−トリクロルエチル)−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−S−トリアジン等が挙げられる。その他、英
国特許1388492号明細書記載の化合物、たとえば、2−
スチリル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリ
アジン、2−(p−メチルスチリル)−4,6−ビス(ト
リクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキ
シスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−
トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4−アミ
ノ−6−トリクロルメチル−S−トリアジン等、特開昭
53−133428号公報記載の化合物、たとえば、2−(4−
メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロ
ルメチル−S−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフ
ト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−
トリアジン、2−〔4−(2−エトキシエチル)ナフト
−1−イル〕−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−ト
リアジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジ
ン、2−(アセナフト−5−イル)−4,6−ビス−トリ
クロルメチル−S−トリアジン等、独国特許3337024号
明細書記載の化合物、たとえば 等を挙げることができる。
General formula (II) used in the present invention The 2,4,6-substituted-1,3,5-triazine compound represented by the formula is described in "Bulletin of the Chemical Society of Japan" by Wakabayashi et al.
ociety of Japan) 42 , 2924 (1969), for example, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-acetylphenyl).
-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine,
2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-tolyl) -4,6
-Bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-
(P-Methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (2 ', 4'-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2 , 4,6-Tris (trichloromethyl) -S-triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-n-nonyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S -Triazine, 2- (α,
Examples include α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine. In addition, compounds described in British Patent No. 1388492, for example, 2-
Styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methylstyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4, 6-bis (trichloromethyl) -S-
Triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4-amino-6-trichloromethyl-S-triazine, etc.
Compounds described in 53-133428, for example, 2- (4-
Methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4-ethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-
Triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphth-1-yl) -4 , 6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (acenaphtho-5-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, etc., compounds described in German Patent 3337024, for example, Etc. can be mentioned.

また、エフ、シー、スカエファー(F.C.Schaefer)等に
よるジャーナル、オーガニック、ケミストリー(J.Org.
Chem.);29、1527(1964)記載の化合物、たとえば2
−メチル−4,6−ビス(トリブロムメチル)−S−トリ
アジン、2,4,6−トリス(トリブロムメチル)−S−ト
リアジン、2,4,6−トリス(ジブロムメチル)−S−ト
リアジン、2−アミノ−4−メチル−6−トリブロムメ
チル−S−トリアジン、2−メトキシ−4−メチル−6
−トリクロルメチル−S−トリアジン等を挙げることが
できる。
In addition, journals such as F, C, and FC Schaefer, organic, chemistry (J.Org.
Chem.); 29 , 1527 (1964), for example 2
-Methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (dibromomethyl) -S-triazine, 2-Amino-4-methyl-6-tribromomethyl-S-triazine, 2-methoxy-4-methyl-6
-Trichloromethyl-S-triazine etc. can be mentioned.

さらに特願昭60−198868号明細書記載の化合物、たとえ
等を挙げることができる。
Furthermore, compounds described in Japanese Patent Application No. 60-198868, for example, Etc. can be mentioned.

また特願昭61−186238、特願昭61−227489号明細書記載
の化合物、たとえば である。
Further, compounds described in Japanese Patent Application No. 61-186238 and Japanese Patent Application No. 61-227489, for example, Is.

この中で、2−フェニル−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−S−トリアジン、2−(P−アセチルフェニル)
−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、
2−(P−クロルフェニル)−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−S−トリアジン、2−(P−メトキシフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジ
ン、2,4,6−トリス(トリクロルメチル)−S−トリア
ジンが好ましい。
Among these, 2-phenyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (P-acetylphenyl)
-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine,
2- (P-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (P-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2,4, 6-Tris (trichloromethyl) -S-triazine is preferred.

本発明に使用される「有機過酸化物」としては分子中に
酸素−酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとんど
全てが含まれるが、その例としては、メチルエチルケト
ンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド、
3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイド、
メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチルアセ
トンパーオキサイド、1,1−ビス(ターシャリィブチル
パーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、1,1
−ビス(ターシャリィブチルパーオキシ)シクロヘキサ
ン、n−ブチル−4,4−ビス(ターシャリィブチルパー
オキシ)バレラート、2,2−ビス(ターシャリィブチル
パーオキシ)ブタン、ターシャリィブチルハイドロパー
オキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプ
ロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、パラメンタン
ハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5
−ジハイドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチル
ブチルハイドロパーオキサイド、ジターシャリィブチル
パーオキサイド、ターシャリィブチルクミルパーオキサ
イド、ジクミルパーオキサイド、ビス(ターシャリィブ
チルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチ
ル−2,5−ジ(ターシャリィブチルパーオキシ)ヘキサ
ン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ターシャリィブチルパー
オキシ)ヘキシン−3、アセチルパーオキサイド、イソ
ブチリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイ
ド、デカノイルパーオキサイド、ウラロイルパーオキサ
イド、3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイ
ド、過酸化こはく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロ
ロベンゾイルパーオキサイド、メタートルオイルパーオ
キサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、
ジー2−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ
−2−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジメ
トキシイソプロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−
メチル−3−メトキシブチル)パーオキシジカーボネー
ト、ターシャリィブチルパーオキシアセテート、ターシ
ャリィブチルパーオキシピバレート、ターシャリィブチ
ルパーオキシネオデカノエート、ターシリリィブチルバ
ーオキシオクタノエート、ターシャリィブチルパーオキ
シ−3,5,5−トリメチルヘキサノエート、ターシャリィ
ブチルパーオキシラウレート、ターシャリィブチルパー
オキシベンゾエート、ジターシャリィブチルジパーオキ
シイソフタレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイ
ルバーオキシ)ヘキサン、ターシャリィブチル過酸化マ
レイン酸、ターシャリィブチルパーオキシイソプロピル
カーボネート、3,3′,4,4′−テトラ−(t−ブチルパ
ーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−
テトラ−(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフ
ェノン、3,3′,4,4′−テトラ(t−ヘキシルパーオキ
シカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ
(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、3,3′,4,4′−テトラ(クミルパーオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(p−イソ
プロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、カルボニルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタ
ラート)、カルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水
素二フタラート)等がある。
The "organic peroxide" used in the present invention includes almost all organic compounds having one or more oxygen-oxygen bonds in the molecule, examples of which include methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide,
3,3,5-trimethylcyclohexanone peroxide,
Methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tertiarybutylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1
-Bis (tertiarybutylperoxy) cyclohexane, n-butyl-4,4-bis (tertiarybutylperoxy) valerate, 2,2-bis (tertiarybutylperoxy) butane, tertiary butyl hydroperoxide, Cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, paramenthane hydroperoxide, 2,5-dimethylhexane-2,5
-Dihydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, ditertiary butyl peroxide, tertiary butyl cumyl peroxide, dicumyl peroxide, bis (tertiary butyl peroxyisopropyl) benzene, 2,5-Dimethyl-2,5-di (tertiarybutylperoxy) hexane, 2,5-Dimethyl-2,5-di (tertiarybutylperoxy) hexyne-3, acetyl peroxide, isobutyryl peroxide , Octanoyl peroxide, decanoyl peroxide, uraloyl peroxide, 3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, succinic acid peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, metatoluoyl peroxide Oxide, diisopropyl peroxy Carbonate,
Di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, di-2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-
Methyl-3-methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxy neodecanoate, tert-butyl butyl peroxyoctanoate, tert-butyl per Oxy-3,5,5-trimethylhexanoate, tert-butyl peroxylaurate, tert-butyl peroxybenzoate, ditert-butyl diperoxyisophthalate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoyl) Baroxy) hexane, tert-butyl peroxymaleic acid, tert-butyl peroxyisopropyl carbonate, 3,3 ', 4,4'-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4, 4'-
Tetra- (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (t-octylperoxy) Carbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t- Butyl peroxy dihydrogen diphthalate), carbonyl di (t-hexyl peroxy dihydrogen diphthalate) and the like.

これらの中で、3,3′,4,4′−テトラ−(t−ブチルパ
ーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−
テトラ−(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフ
ェノン、3,3′,4,4′−テトラ(t−ヘキシルパーオキ
シカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ
(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、3,3′,4,4′−テトラ(クミルパーオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(p−イソ
プロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレート等の過
酸化エステル系が好ましい。
Among these, 3,3 ', 4,4'-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-
Tetra- (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (t-octylperoxy) Carbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, di-t-butyl Peroxide ester systems such as diperoxyisophthalate are preferred.

次に一般式(III)で表わされる化合物において、R8
未置換または置換された炭素数6〜24の芳香族化合物、
または炭素数3〜30の複素環芳香族化合物のπ−アレー
ンを表わし、R9は未置換または置換された炭素数6〜24
の芳香族基炭素数3〜30の複素環芳香族基または炭素数
1〜10のアルキル基、シクロアルキル基または置換アル
キルである有機脂肪族基のπ−アレーンまたはπ−アレ
ーンの陰イオンを表わし、単核、結合多核または非結合
多核であっても良い。
Next, in the compound represented by the general formula (III), R 8 is an unsubstituted or substituted aromatic compound having 6 to 24 carbon atoms,
Or a π-arene of a heterocyclic aromatic compound having 3 to 30 carbon atoms, wherein R 9 is an unsubstituted or substituted 6 to 24 carbon atom
Represents an π-arene or π-arene anion of an organic aliphatic group which is an aromatic group having 3 to 30 carbon atoms, a heterocyclic aromatic group or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a cycloalkyl group or a substituted alkyl. It may be mononuclear, bound polynuclear or non-bound polynuclear.

また、一般式(III)で表わされる化合物として特開昭6
1−120827号明細書に記載されている金属アレーン化合
物をあげることができる。
Further, as a compound represented by the general formula (III), JP
The metal arene compound described in the specification of 1-120827 can be mentioned.

ここに、金属アレーン化合物とは、芳香族または不飽和
化合物のπ電子と金属とがπ結合した化合物であり、一
般に“π結合有機金属化合物”という。この種の有機金
属化合物のうちで安定なものの大部分は、芳香族または
不飽和化合物のπ電子数と金属またはイオンの電子数の
和が希ガスの原子番号に等しくなっている。
Here, the metal arene compound is a compound in which π electrons of an aromatic or unsaturated compound and a metal are π-bonded, and is generally called a “π-bonded organometallic compound”. In most of the stable organometallic compounds of this kind, the sum of the π electron number of the aromatic or unsaturated compound and the electron number of the metal or ion is equal to the atomic number of the rare gas.

具体的には(η−2−メチルナフタレン)(η−シ
クロペンタジエニル)鉄(II)のPF6塩、(η−クメ
ン)(η−シクロペンタジエニル)鉄(II)のPF
6塩、(η−イソプロピルベンゼン)(η−シクロ
ペンタジエニル)鉄(II)のPF6塩、(η−トルエ
ン)(η−インデニル)鉄(II)のPF6塩、(η
トルエン)(η−シクロペンタジエニル)鉄(II)の
PF6塩、(η−ナフタレン)(η−シクロペンタジ
エニル)鉄(II)のAsF6塩、(η−ベンゼン)(η
−シクロペンタジエニル)コバルト(II)のBF4塩をあ
げることができる。
PF 6 salt of - (cyclopentadienyl eta 5) iron (II), specifically (eta 6-2-methylnaphthalene) (eta 6 - cumene) (eta 5 - cyclopentadienyl) iron (II) PF
6 salt, (η 6 -isopropylbenzene) (η 5 -cyclopentadienyl) iron (II) PF 6 salt, (η 6 -toluene) (η 5 -indenyl) iron (II) PF 6 salt, ( η 6
Toluene) (η 5 -cyclopentadienyl) iron (II)
PF 6 salt, (η 6 -naphthalene) (η 5 -cyclopentadienyl) iron (II) AsF 6 salt, (η 6 -benzene) (η 5
The BF 4 salt of cyclopentadienyl) cobalt (II) may be mentioned.

また、芳香族オニウム塩として特公昭52−14278号、特
公昭52−14279号明細書に示されている化合物をあげる
ことができる。
As the aromatic onium salt, compounds shown in Japanese Patent Publication Nos. 52-14278 and 52-14279 can be cited.

具体的には などをあげることができる。In particular And so on.

さらに、芳香族ハロニウム塩として特公昭52−14277号
明細書に示される化合物をあげることができる。具体的
には をあげることができる。これらの中で好ましくは、BF4
塩、又はPF6塩の化合物さらに好ましくは金属アレーン
のPF6塩である。
Further, as the aromatic halonium salt, compounds shown in JP-B-52-14277 can be mentioned. In particular Can be raised. Of these, preferably BF 4
Salts or compounds of PF 6 salts, more preferably PF 6 salts of metal arenes.

次に本発明で用いられる一般式(IV) で表わされる化合物においてのR10、R11のアルキル基と
してはメチル、エチル、プロピル等の炭素数1〜20個の
ものがあげられる。また、R10とR11が結合して形成する
アルキレン基としては、テトラメチレン、ペンタメチレ
ン等があげられる。ArにおけるR12〜17のアルキル基と
しては炭素数1〜4個のものがあげられる。また、アル
ケニル基としては炭素数3〜12のものがあげられる。さ
らに、R12〜R16のアリール基としてはフェニル基があげ
られる。さらにアルコキシ基としては炭素数1〜4のも
のがあげられる。R18のアシル基としてはアセチル、プ
ロピオニル、アクリロイル等があげられる。
Next, the general formula (IV) used in the present invention Examples of the alkyl group represented by R 10 and R 11 in the compound represented by are those having 1 to 20 carbon atoms such as methyl, ethyl and propyl. Examples of the alkylene group formed by combining R 10 and R 11 include tetramethylene and pentamethylene. Examples of the alkyl group represented by R 12 to 17 in Ar include those having 1 to 4 carbon atoms. Further, examples of the alkenyl group include those having 3 to 12 carbon atoms. Furthermore, examples of the aryl group of R 12 to R 16 include a phenyl group. Furthermore, examples of the alkoxy group include those having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the acyl group of R 18 include acetyl, propionyl, acryloyl and the like.

このような一般式(IV)の具体例としては、 などがあげられる。Specific examples of such general formula (IV) include: And so on.

この中で好ましくは(IV−1)、(IV−2)、(IV−
8)、(IV−9)の化合物である。
Of these, (IV-1), (IV-2), (IV-
8) and (IV-9).

本発明の組成物中のこれらの光重合開始剤系の含有濃度
は通常わずかなものである。また、不適当に多い場合に
は有効光線の遮断等好ましくない結果を生じる。本発明
における光重合開始剤系の量は、光重合可能なエチレン
性不飽和化合物と必要に応じて添加される線状有機高分
子重合体との合計に対して0.01%から60%の範囲で使用
するのが好ましい。より好ましくは、1%から30%で良
好な結果を得る。
The content concentration of these photoinitiator systems in the composition of the present invention is usually low. On the other hand, if the amount is inappropriately large, undesired results such as the blocking of effective rays will occur. The amount of the photopolymerization initiator system in the present invention is in the range of 0.01% to 60% with respect to the total of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the linear organic high molecular polymer optionally added. Preference is given to using. More preferably, 1% to 30% gives good results.

また、本発明の光重合性組成物では、必要により種々の
有機アミン化合物を併用することができる。更に光重合
開始能を増大せしめることができる。これらの有機アミ
ン化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、ジ
メチルアミン、ジエタノールアニリン、p−ジメチルア
ミノ安息香酸エチルエステル、ミヒラーズケトン等があ
げられる。有機アミン化合物の添加量は、全光重合開始
剤量の50%〜200%程度が好ましい。
Further, in the photopolymerizable composition of the present invention, various organic amine compounds can be used in combination if necessary. Further, the photopolymerization initiation ability can be increased. Examples of these organic amine compounds include triethanolamine, dimethylamine, diethanolaniline, p-dimethylaminobenzoic acid ethyl ester, Michler's ketone, and the like. The amount of the organic amine compound added is preferably about 50% to 200% of the total amount of the photopolymerization initiator.

更に本発明で用いる光重合開始剤に必要に応じてN−フ
ェニルグリシン、2−メルカプトベンゾチアゾール、N,
N−ジアルキル安息香酸アルキルエステル等の水素供与
性化合物を加えることによって更に光重合開始能力を高
めることができる。
Further, the photopolymerization initiator used in the present invention may optionally contain N-phenylglycine, 2-mercaptobenzothiazole, N,
The photopolymerization initiation ability can be further enhanced by adding a hydrogen donating compound such as an N-dialkylbenzoic acid alkyl ester.

本発明に使用することのできる「線状有機高分子重合
体」としては、当然光重合可能なエチレン性不飽和化合
物と相溶性を有している線状有機高分子重合体である限
り、どれを使用しても構わない。望ましくは水現像或は
弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アルカリ水
可溶性又は膨潤性である線状有機高分子重合体を選択す
べきである。線状有機高分子重合体は、該組成物の皮膜
形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或は有機溶
剤現像剤としての用途に応じて使用される。例えば、水
可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能にな
る。この様な線上有機高分子重合体としては、側鎖にカ
ルボン酸を有する付加重合体、例えば特開昭59−44615
号、特公昭54−34327号、特公昭58−12577号、特公昭54
−25957号、特開昭54−92723号、特開昭59−53836号、
特開昭59−71048号各広報に記載されている。すなわ
ち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタ
コン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重
合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等がある。ま
た同様に側鎖にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導
体がある。この外に水酸基を有する付加重合体に環状酸
無水物を付加させたものなどが有用である。特にこれら
の中で〔ベンジル(メタ)アクリレート/(メタ)アク
リル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマ
ー〕共重合体及び〔アリル(メタ)アクリレート/(メ
タ)アクリル酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニ
ルモノマー〕共重合体が好適である。この他に水溶性線
状有機高分子として、ポリビニルピロリドンやポリエチ
レンオキサイド等が有用である。また硬化皮膜の強度を
あげるためにアルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−プロパンとエピクロロヒ
ドリンのポリエーテル等も有用である。これらの線状有
機高分子重合体は全組成中に任意な量を混和させること
ができる。しかし90重量%を越える場合は形成される画
像強度等の点で好ましい結果は与えない。好ましくは30
〜85%である。また光重合可能なエチレン性不飽和化合
物と線状有機高分子重合体は、重量比で0.5/9.5〜5/5の
範囲とするのが好ましい。より好ましい範囲は1/9〜4/6
の範囲である。
As the "linear organic high molecular weight polymer" that can be used in the present invention, any linear organic high molecular weight polymer which is compatible with the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound can be used. May be used. Desirably, a linear organic high molecular polymer which is soluble or swellable in water or weak alkaline water, which enables water development or weak alkaline water development, should be selected. The linear organic high molecular polymer is used not only as a film-forming agent for the composition but also as a developer for water, weak alkaline water or an organic solvent. For example, when a water-soluble organic polymer is used, water development becomes possible. Examples of such linear organic high molecular weight polymers include addition polymers having a carboxylic acid in the side chain, for example, JP-A-59-44615.
No. 54-34327, 58-12577, 54-54
-25957, JP-A-54-92723, JP-A-59-53836,
It is described in Japanese Patent Laid-Open No. 59-71048. That is, there are methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, and the like. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid in the side chain. In addition to these, a product obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group is useful. In particular, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / another addition-polymerizable vinyl monomer if necessary] copolymer and [allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally And other addition-polymerizable vinyl monomers] copolymers are preferred. In addition, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, etc. are useful as the water-soluble linear organic polymer. To increase the strength of the cured film, alcohol-soluble nylon or 2,2-bis-
Polyethers of (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin are also useful. These linear organic high molecular weight polymers can be mixed in arbitrary amounts in the entire composition. However, if it exceeds 90% by weight, favorable results are not obtained in terms of the strength of the image formed. Preferably 30
~ 85%. The weight ratio of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound to the linear organic polymer is preferably 0.5 / 9.5 to 5/5. More preferable range is 1/9 to 4/6
Is the range.

また、本発明においては以上の基本成分の他に感光性組
成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少量
の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱重
合防止剤としてはハイドロキノン、P−メトキシフェノ
ール、ジ−t−ブチル−P−クレゾール、ピロガロー
ル、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チ
オビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,
2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェ
ノール)、2−ソルカプトベンゾイミダゾール、N−ニ
トロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等があ
げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成量の重量に
対して約0.01%〜約5%が好ましい。また必要に応じ
て、酸素による重合阻害を防止するために高級脂肪酸誘
導体等を添加して表面に浮かせてもよい。高級脂肪酸誘
導体の添加量は、全組成量の約0.5%〜約10%が好まし
い。さらに、感光層の着色を目的として染料もしくは顔
料を添加してもよい。染料および顔料の添加量は全組成
量の約0.5%〜約5%が好ましい。加えて、硬化皮膜の
物性を改良するために無機充填剤や、その他の公知の添
加剤を加えてもよい。
Further, in the present invention, in addition to the above basic components, a small amount of a thermal polymerization inhibitor is added in order to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable ethylenically unsaturated compound during the production or storage of the photosensitive composition. It is desirable to do. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, P-methoxyphenol, di-t-butyl-P-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol). ), 2,
2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-solcaptobenzimidazole, N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like can be mentioned. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% to about 5% based on the total weight of the composition. If necessary, a higher fatty acid derivative or the like may be added to the surface to prevent polymerization inhibition by oxygen. The addition amount of the higher fatty acid derivative is preferably about 0.5% to about 10% of the total composition amount. Further, a dye or a pigment may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. The addition amount of the dye and pigment is preferably about 0.5% to about 5% of the total composition amount. In addition, inorganic fillers and other known additives may be added to improve the physical properties of the cured film.

本発明の光重合性組成物は、塗布する際には種々の有機
溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用する溶媒と
しては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロ
フラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジア
セトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、3−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタ
ノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、3−メトキシプロピルアセテート、N,N
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ−
ブチロラクトンなどがある。これらの溶媒は、単独ある
いは混合して使用することができる。そして、塗布溶液
中の固形分の濃度は、2〜50重量%が適当である。
When applied, the photopolymerizable composition of the present invention is dissolved in various organic solvents before use. As the solvent used here, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monoethyl ether. , Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, Ethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N
-Dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-
Butyrolactone, etc. These solvents can be used alone or as a mixture. And, the concentration of the solid content in the coating solution is suitably 2 to 50% by weight.

その被膜量は乾燥後の重量で約0.1gm2〜約10g/m2の範囲
が適当である。より好ましくは0.5〜5g/m2である。
The coating amount is preferably in the range of about 0.1 gm 2 to about 10 g / m 2 after dried. It is more preferably 0.5 to 5 g / m 2 .

上記支持体としては、寸度的に安定な板状物が用いられ
る。該寸度的に安定な板状物としては、紙、プラスチッ
ク(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ンなど)がラミネートされた紙、また、例えばアルミニ
ウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、銅などのよ
うな金属の板、さらに、例えば二酢酸セルロース、三酢
酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロー
ス、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリ
プロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
などのようなプラスチックのフィルム、上記の如き金属
がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチッ
クフィルムなどがあげられる。これらの支持体のうち、
アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しかも安
価であるので特に好ましい。更に、特公昭48−18327号
広報に記載されているようなポリエチレンテレフタレー
トフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体
シートも好ましい。
As the above support, a dimensionally stable plate-like material is used. Examples of the dimensionally stable plate-like material include paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), and aluminum (including aluminum alloy), zinc, copper, etc. Metal plates, and further plastic films such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. Examples include paper or plastic films laminated or vapor-deposited with the above metals. Of these supports,
Aluminum plates are particularly preferable because they are extremely dimensionally stable and inexpensive. Further, a composite sheet in which an aluminum sheet is bonded on a polyethylene terephthalate film as described in JP-B-48-18327 is also preferable.

また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場
合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウム
酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるいは
陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ま
しい。
Further, in the case of a support having a surface of metal, particularly aluminum, it is subjected to surface treatment such as graining treatment, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate or the like, or anodization treatment. Is preferred.

さらに、砂目立てしたのちに珪酸ナトリウム水溶液に浸
漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用できる。特
公昭47−5125号広報に記載されているようにアルミニウ
ム板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ金属珪酸塩の
水溶液に浸漬処理したものが好適に使用される。上記陽
極酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等
の無機酸、若しくは蓚酸、スルファミン酸等の有機酸ま
たはこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以
上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極とし
て電流を流すことにより実施される。
Furthermore, an aluminum plate that has been grained and then immersed in an aqueous sodium silicate solution can be preferably used. As described in JP-B-47-5125, an aluminum plate subjected to anodizing treatment and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used. The anodizing treatment is, for example, an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid or boric acid, or an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid, or an aqueous solution or a non-aqueous solution of these salts, or an electrolytic solution obtained by combining two or more kinds. It is carried out by passing an electric current through the aluminum plate as an anode.

また、米国特許第3,658,662号広報に記載されているよ
うなシリケート電着も有効である。
Further, silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective.

更に、特公昭46−27481号広報、特開昭52−58602号広
報、特開昭52−30503号広報に開示されているような電
解グレインを施した支持体と、上記陽極酸化処理及び珪
酸ソーダ処理を組合せた表面処理も有用である。
Further, a support subjected to electrolytic graining as disclosed in JP-B-46-27481, JP-A-52-58602, JP-A-52-30503 and the anodizing treatment and sodium silicate Surface treatments that combine treatments are also useful.

また、特開昭56−28893号広報に開示されているような
機械的粗面化、化学エッチ、電解グレイン、陽極酸化処
理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適であ
る。
Further, those which are sequentially subjected to mechanical surface roughening, chemical etching, electrolytic graining, anodizing treatment and sodium silicate treatment as disclosed in JP-A-56-28893 are also preferable.

更に、これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、たと
えばポリビニルフォスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有
する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金
属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミノ塩
等を下塗りしたものも好適である。
Further, after these treatments, a water-soluble resin such as polyvinyl phosphonic acid, a polymer or copolymer having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, a water-soluble metal salt (eg zinc borate) or Those undercoated with a yellow dye, an amino salt or the like are also suitable.

これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とするた
めに施される以外に、その上に設けられる光重合性組成
物の有害な反応を妨ぐため、かつ感光層の密着性の向上
等のために施されるものである。
These hydrophilization treatments, in addition to the treatment for rendering the surface of the support hydrophilic, prevent harmful reactions of the photopolymerizable composition provided thereon, and also improve the adhesion of the photosensitive layer. It is provided for improvement.

支持体上に設けられた光重合性組成物の層の上には、空
気中の酸素による重合禁止作用を防止するため、例えば
ポリビニルアルコール、酸性セルロース類などのような
酸素遮断性に優れたポリマーよりなる保護層を設けても
よい。この様な保護層の塗布方法については、例えば米
国特許第3,458,311号、特公昭55−49729号広報に詳しく
記載されている。
On the layer of the photopolymerizable composition provided on the support, in order to prevent the polymerization inhibiting action by oxygen in the air, for example, polyvinyl alcohol, a polymer having excellent oxygen barrier properties such as acidic celluloses. You may provide the protective layer which consists of. The coating method of such a protective layer is described in detail, for example, in U.S. Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

また本発明の光重合性組成物は通常の光重合反応に使用
できる。さらに、印刷版、プリント基板等作成の際のフ
ォトレジスト等多方面に適用することが可能である。特
に本発明の光重合性組成物の特徴である高感度性と可視
光領域までの幅広い分光感度特性により、Ar+レーザー
等の可視光レーザー用の感光材料に適用すると良好な効
果が得られる。
Further, the photopolymerizable composition of the present invention can be used in ordinary photopolymerization reaction. Further, it can be applied to various fields such as a photoresist when producing a printing plate, a printed circuit board and the like. In particular, the photopolymerizable composition of the present invention is characterized by high sensitivity and a wide range of spectral sensitivity characteristics up to the visible light region, so that when it is applied to a light-sensitive material for visible light laser such as Ar + laser, good effects can be obtained.

本発明の光重合性組成物を用いた印刷版を露光し、現像
液で感光層の未露光部を除去し、画像を得る。これらの
光重合性組成物を平版印刷版として使用する際の好まし
い現像液としては、特公昭57−7427号広報に記載されて
いるような現像液があげられ、ケイ酸ナトリウム、ケイ
酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸
化リチウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリ
ウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウ
ム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、アンモ
ニア水などのような無機アルカル剤やモノエタノールア
ミン又はジエタノールアミンなどのような有機アルカリ
剤の水溶液が適当である。該アルカリ溶液の濃度が0.1
〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%になるように添
加される。
A printing plate using the photopolymerizable composition of the present invention is exposed to light, and the unexposed portion of the photosensitive layer is removed with a developer to obtain an image. Preferred developers for using these photopolymerizable compositions as lithographic printing plates include the developers described in JP-B-57-7427, sodium silicate, potassium silicate, Such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, tribasic ammonium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, ammonia water etc. Aqueous solutions of inorganic alcal agents and organic alkaline agents such as monoethanolamine or diethanolamine are suitable. The concentration of the alkaline solution is 0.1
~ 10 wt%, preferably 0.5 to 5 wt% is added.

また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ界面活性剤
やベンジルアルコール、2−フェノキシエタノール、2
−ブトキシエタノールのような有機溶媒を少量含むこと
ができる。例えば、米国特許第3,375,171号および同第
3,615,480号公報に記載されているものを挙げることが
できる。
In addition, the alkaline aqueous solution may optionally contain a surfactant, benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol, or 2
-It may contain a small amount of an organic solvent such as butoxyethanol. For example, U.S. Pat. Nos. 3,375,171 and
The thing described in the 3,615,480 publication can be mentioned.

更に、特開昭50−26601号、同58−54341号、特公昭56−
39464号、同56−42860号の各公報に記載されている現像
液も優れている。
Furthermore, JP-A-50-26601, JP-A-58-54341 and JP-B-56-
The developers described in JP-A-39464 and JP-A-56-42860 are also excellent.

(発明の効果) 本発明の光重合性組成物は紫外光から可視光の幅広い領
域の活性光線に対して高感度を有する。したがって光源
としては超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカ
ルランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハラ
イド灯、可視及び紫外の各種レーザーランプ、蛍光灯、
タングステン灯、及び太陽光線等が使用できる。
(Effect of the Invention) The photopolymerizable composition of the present invention has high sensitivity to actinic rays in a wide range from ultraviolet light to visible light. Therefore, as a light source, ultra-high pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, various visible and ultraviolet laser lamps, fluorescent lamps,
Tungsten lamps and sun rays can be used.

以下実施例をもって本発明を説明するが本発明はこれに
限定されるものではない。
The present invention is described below with reference to examples, but the present invention is not limited thereto.

実施例1〜11 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと400メ
ッシュのパミストンの水懸濁液とを用いその表面を砂目
立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリウム
に70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水洗
後20%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。これをVA
12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1%硝
酸水溶液中で160クローン/dm2の陽極時電気量で電解粗
面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ、0.
6μ(Ra表示)であった。ひきつづいて30%の硫酸水溶
液中に浸漬し55℃で2分間デスマットした後、20%硫酸
水溶液中、電流密度2A/dm2において厚さが2.7g/m2にな
るように2分間陽極酸化処理した。
Examples 1 to 11 An aluminum plate having a thickness of 0.30 mm was grained on its surface using a nylon brush and an aqueous suspension of 400 mesh pumice, and then washed thoroughly with water. It was immersed in 10% sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds for etching, washed with running water, neutralized with 20% nitric acid, and then washed with water. This is V A =
Electrolytic surface roughening treatment was carried out in a 1% nitric acid aqueous solution under a condition of 12.7 V in an aqueous 1% nitric acid solution at an anodic electricity of 160 clones / dm 2 . When its surface roughness was measured, it was 0.
It was 6 μ (Ra indication). Next, after soaking in 30% sulfuric acid aqueous solution and desmutting at 55 ° C for 2 minutes, anodizing treatment in 20% sulfuric acid aqueous solution for 2 minutes at a current density of 2A / dm 2 to a thickness of 2.7g / m 2. did.

このように処理されたアルミニウム板上に、下記組成の
感光度を乾燥塗布重量が1.5g/m2となるように塗布し、8
0℃2分間乾燥させ感光層を形成させた。
On the aluminum plate thus treated, the photosensitivity of the following composition was applied so that the dry coating weight would be 1.5 g / m 2, and
A photosensitive layer was formed by drying at 0 ° C. for 2 minutes.

トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロ
ピル)エーテル 2.0g アリルメタアクリレート/メタクリル酸共重合体(共重
合モル比80/20) 2.0g 開始剤 Xg 銅フタロシアニン顔料 0.2g フッ素系ノニオン界面活性剤 0.03g 〔3M社製、フルオラッドFC−430(商品名)〕メチルエ
チルケトン 20g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート20
g この感光性層上にポリビニルアルコール(ケン化度86.5
〜89モル%、重合度1000)の3重量%の水溶液を乾燥塗
布重量が2g/m2となるように塗布し、100℃/2分間乾燥さ
せた。
Trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether 2.0g Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization molar ratio 80/20) 2.0g Initiator Xg Copper phthalocyanine pigment 0.2g Fluorine nonionic surfactant 0.03g [3M Fluorad FC-430 (trade name)] Methyl ethyl ketone 20 g Propylene glycol monomethyl ether acetate 20
g Polyvinyl alcohol (saponification degree 86.5
A 3% by weight aqueous solution of ˜89 mol% and a degree of polymerization of 1000) was applied so that the dry coating weight would be 2 g / m 2, and dried at 100 ° C. for 2 minutes.

可視光での感光性試験は、可視光(波長=488nm)、及
びAr+レーザー光(波長=488nm)の各単色光を用いた。
可視光の488nmの単光色はタングステンランプを光源と
しKenko optical filter BP49を通して得た。感度測定
には富士PSステップガイド(富士写真フイルム株式会社
製、初段の透過光学濃度が0.05で順次0.15増えていき15
段まであるステップタブレット)を使用して行った。感
光膜面部での照度が25LUXで120秒露光した時のPSステッ
プガイドのクリアー段数で示した。
For the photosensitivity test with visible light, each monochromatic light of visible light (wavelength = 488 nm) and Ar + laser light (wavelength = 488 nm) was used.
Single-color visible light of 488 nm was obtained through a Kenko optical filter BP49 using a tungsten lamp as a light source. For sensitivity measurement, Fuji PS Step Guide (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., the transmission optical density of the first stage was 0.05, increasing by 0.15 15
It was carried out using a step tablet having steps. It is indicated by the number of clear steps of the PS step guide when the illuminance on the photosensitive film surface was exposed for 120 seconds at 25 LUX.

レーザー光はAr+レーザー(レクセル製モデル95−3)
の波長488nmのシングルラインをビーム径100μで使用し
Ar+レーザーの強度を変え、スキャンした(NDフイルタ
ー使用)。現像後に得られた線巾を測定し100μの線巾
が再現された時のAr+レーザーの強度を感度とした。
Laser light is Ar + laser (Rexel model 95-3)
Using a single line with a wavelength of 488 nm with a beam diameter of 100 μ
The intensity of Ar + laser was changed and scanned (using ND filter). The line width obtained after development was measured, and the intensity of the Ar + laser when the line width of 100 μ was reproduced was taken as the sensitivity.

現像には、下記の現像液に25℃、1分間浸漬して行っ
た。
The development was carried out by immersing in the following developer at 25 ° C. for 1 minute.

光重合開始剤の組み合わせを変えた時の感度の結果を表
1〜3に示す。
Tables 1 to 3 show the results of sensitivity when the combination of photopolymerization initiators was changed.

実施例12〜18 実施例1のアルミニウム基板の作製において20%硫酸水
溶液中で陽極酸化処理する代りに5%りん酸水溶液中で
電流密度2A/dm2において厚さが0.8g/m2になるように2
分間陽極酸化処理した後、3%のケイ酸ナトリウム水溶
液で70℃、10秒間処理した基板を用いて、次の感光液処
方に従った感光板を作製した。
Examples 12 to 18 In the production of the aluminum substrate of Example 1, instead of anodizing in a 20% sulfuric acid aqueous solution, the thickness becomes 0.8 g / m 2 in a 5% phosphoric acid aqueous solution at a current density of 2 A / dm 2 . Like 2
After anodizing for a minute, a substrate treated with a 3% aqueous sodium silicate solution at 70 ° C. for 10 seconds was used to prepare a photosensitive plate according to the following photosensitive solution formulation.

〔感光液処方〕[Photosensitive solution formulation]

ペンタエリスリトールテトラアクリレート 1.5g ベンジルメタアクリレート/メタアクリル酸共重合体
(共重合モル比65/35) 3.0g 開始剤 Xg 銅フタロシアニン顔料 0.2g フッ素系ノニオン界面活性剤 0.03g 〔3M社製、フルオラッドFC−430(商品名)〕メチルエ
チルケトン 20g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート20
g この感光板の乾燥塗布重量は1.5g/m2であった。そして
実施例1と同様にこの感光板上にポリビニルアルコール
からなる酸素遮断層を設け、実施例1と同様に露光し現
像は特公昭56−42860号公報記載の現像液 で25℃、1分間浸漬し未露光部を除去することによって
行った。
Pentaerythritol tetraacrylate 1.5g Benzylmethacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization ratio 65/35) 3.0g Initiator Xg Copper phthalocyanine pigment 0.2g Fluorinated nonionic surfactant 0.03g [3M Fluorad FC -430 (trade name)] Methyl ethyl ketone 20 g Propylene glycol monomethyl ether acetate 20
g The dry coating weight of this photosensitive plate was 1.5 g / m 2 . An oxygen barrier layer made of polyvinyl alcohol was provided on the photosensitive plate in the same manner as in Example 1, and exposure and development were carried out in the same manner as in Example 1 to develop the developer described in JP-B-56-42860. It was carried out by immersing at 25 ° C. for 1 minute to remove the unexposed portion.

開始剤系の組み合わせを変えた時の感度の結果を表4〜
6に示す。
The results of the sensitivity when the combination of the initiator system is changed are shown in Table 4 to
6 shows.

BTTBとは、3,3′,4,4′−テトラ(t−ブチルパーオキ
シルカルボニル)ブンゾフェノンであり、また、PBIFと
はジ−t−ブチルジパーオキシハイソフタレートであ
る。
BTTB is 3,3 ', 4,4'-tetra (t-butylperoxylcarbonyl) bunzophenone, and PBIF is di-t-butyldiperoxyhighophthalate.

表1〜3であきらかなように三元系開始剤は、一元系、
二元系に比べて高感度であることを示している。
As is clear from Tables 1 to 3, the ternary initiator is a single-source initiator,
It shows higher sensitivity than the binary system.

表−4〜6で明らかなように、三元系開始剤は、一元
系、二元系に比べて高感度であることを示している。
As is clear from Tables 4 to 6, it is shown that the ternary initiator has a higher sensitivity than the ternary initiator and the binary initiator.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1
個有する付加重合可能な化合物と光重合開始剤と、必要
に応じて線状有機高分子重合体とを含む光重合性組成物
において、該光重合開始剤が少なくとも下記の(イ)、
(ロ)及び(ハ)の化合物の組合せであることを特徴と
する光重合性組成物。 (イ)一般式(I)の化合物 (ただし式中R1〜R4はお互いに独立して、水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換アル
コキシ基、アミノ基、置換アミノ基を表す。また、R1
R4はそれが結合できる炭素原子と共に非金属原子から成
る環を形成していても良い。 R6はR7又は−Z−R7であり、Zはカルボニル基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、又はアリーレンジカルボニル
基を表し、R5、R7は互いに独立して、水素原子、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
ヘテロ芳香族基、置換ヘテロ芳香族基、シアノ基、アル
コキシ基、置換アルコキシ基、カルボキシ基、アルケニ
ル基、置換アルケニル基を表す。またR5、R6は共に非金
属原子から成る環を形成しても良い。XはO、S、NH、
又は置換基を有する窒素原子を表す。Yは、酸素原子、
又は でであり、G1、G2は同一でも異なっていても良く、水素
原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、置換アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換
アリールオキシカルボニル基、アシル基、置換アシル
基、アリールカルボニル基、置換アリールカルボニル
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、フルオロスルホニル基
を表す。但しG1とG2は共に水素原子ではない。又G1、G2
はそれが形成できる炭素原子と共に非金属原子から成る
環を形成していても良い。) (ロ)一般式(II)で表わされる2,4,6−置換−1,3,5−
トリアジン化合物 (ただし、式中、X、YおよびZはそれぞれアルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ア
ラルキル基をあらわし、互いに同一でも異なってもよい
が、それらのうちの少なくとも1つはモノー、ジー又は
トリハロゲン置換メチル基を表わす。) または有機過酸化物 (ハ)一般式(III): 〔(R8)(R9M)〕+nYm-n (III) (ただし、式中、mおよびnは1または2の整数、R8
π−アレーン、R9はπ−アレーンまたはπ−アレーン陰
イオン、MはTi、Cr、Co、Mn、W、Fe、Mo、S、Se、T
e、N、P、As、BiおよびSbから選ばれる陽イオン、Y
はB▲F- 4▼、P▲F- 6▼、As▲F- 6▼、Sb▲F- 6▼、
FeC▲l- 4▼、SnC▲l2- 6▼、SbC▲l- 6▼およびBiC▲
- 6▼から選ばれる陰イオンを表わす。) で表わされる化合物、芳香族オニウム塩および芳香族ハ
ロニウム塩から選ばれる少なくとも一種の化合物。
1. At least one ethylenically unsaturated double bond.
In a photopolymerizable composition containing an addition-polymerizable compound and a photopolymerization initiator each having a linear organic high molecular polymer, the photopolymerization initiator is at least the following (a),
A photopolymerizable composition, which is a combination of the compounds (b) and (c). (A) Compound of general formula (I) (In the formula, R 1 to R 4 are independently of each other, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, an amino group, a substituted amino group. Represents a group, and R 1 ~
R 4 may form a ring composed of a non-metal atom together with the carbon atom to which it can bind. R 6 is R 7 or -Z-R 7, Z represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, or arylene group, R 5, R 7 independently of one another, a hydrogen atom, an alkyl group, A substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group,
It represents a heteroaromatic group, a substituted heteroaromatic group, a cyano group, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, a carboxy group, an alkenyl group or a substituted alkenyl group. Both R 5 and R 6 may form a ring composed of a non-metal atom. X is O, S, NH,
Alternatively, it represents a nitrogen atom having a substituent. Y is an oxygen atom,
Or And G 1 and G 2 may be the same or different, and are a hydrogen atom, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a substituted alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a substituted aryloxycarbonyl group, an acyl group, a substituted acyl group. Represents an arylcarbonyl group, a substituted arylcarbonyl group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and a fluorosulfonyl group. But G 1 and G 2 are not hydrogen atoms. Also G 1 , G 2
May form a ring composed of a non-metal atom together with the carbon atom which it can form. ) (B) 2,4,6-substituted-1,3,5-represented by the general formula (II)
Triazine compound (In the formula, X, Y, and Z each represent an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or an aralkyl group, and they may be the same or different, but at least one of them is mono- , D or trihalogen-substituted methyl group) or an organic peroxide (C) general formula (III): [(R 8 ) (R 9 M)] + nYm n (III) (wherein, m and n are integers of 1 or 2, R 8 is π-arene, R 9 is π-arene or π-arene anion, M is Ti, Cr, Co, Mn, W, Fe, Mo, S, Se, T
a cation selected from e, N, P, As, Bi and Sb, Y
Is B ▲ F - 4 ▼, P ▲ F - 6 ▼, As ▲ F - 6 ▼, Sb ▲ F - 6 ▼,
FeC ▲ l - 4 ▼, SnC ▲ l 2- 6 ▼, SbC ▲ l - 6 ▼ and BiC ▲
represents an anion selected from l - 6 . ) At least one compound selected from the compound represented by :, an aromatic onium salt, and an aromatic halonium salt.
【請求項2】エチレン性不飽和二重結合を少なくとも1
個有する付加重合可能な化合物と光重合開始剤と、必要
に応じて線状有機高分子重合体とを含む光重合性組成物
において、該光重合開始剤が少なくとも下記の(イ)、
(ロ)及び(ニ)の化合物の組合せであることを特徴と
する光重合性組成物。 (イ)一般式(I)の化合物 (ただし式中R1〜R4はお互いに独立して、水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、置換アルキル基、アリール
基、置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換アル
コキシ基、アミノ基、置換アミノ基を表す。また、R1
R4はそれが結合できる炭素原子と共に非金属原子から成
る環を形成していても良い。 R6はR7又は−Z−R7であり、Zはカルボニル基、スルホ
ニル基、スルフィニル基、又はアリーレンジカルボニル
基を表し、R5、R7は互いに独立して、水素原子、アルキ
ル基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、
ヘテロ芳香族基、置換ヘテロ芳香族基、シアノ基、アル
コキシ基、置換アルコキシ基、カルボキシ基、アルケニ
ル基、置換アルケニル基を表す。またR5、R6は共に非金
属原子から成る環を形成しても良い。XはO、S、NH、
又は置換基を有する窒素原子を表す。Yは、酸素原子、
又は でであり、G1、G2は同一でも異なっていても良く、水素
原子、シアノ基、アルコキシカルボニル基、置換アルコ
キシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、置換
アリールオキシカルボニル基、アシル基、置換アシル
基、アリールカルボニル基、置換アリールカルボニル
基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキルスルホ
ニル基、アリールスルホニル基、フルオロスルホニル基
を表す。但しG1とG2は共に水素原子ではない。又G1、G2
はそれが形成できる炭素原子と共に非金属原子から成る
環を形成していても良い。) (ロ)下記一般式(II)で表わされる2,4,6−置換−1,
3,5−トリアジン化合物 (ただし、式中、X、YおよびZはそれぞれアルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ア
ラルキル基をあらわし、互いに同一でも異なってもよい
が、それらのうちの少なくとも1つはモノー、ジー又は
トリハロゲン置換メチル基を表わす。) (ニ)一般式(IV)のモルフォリノ化合物 〔ただし、式中、Arは下記の一般式の一つから選ばれた
芳香族基を表し、R10、R11は水素原子又はアルキル基を
表し、又、R10とR11は互いに結合してアルキレン基を表
しても良い。) 一般式: (ただし式中、R12〜R16は互いに独立して水素原子、ハ
ロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、
置換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換アルコキ
シ基、−S−R17基、−SO−R17基又は−SO2R17基を表す
が、但しR12〜R16基の少なくとも一つは−S−R17基、
−SO−R17基又は−SO2R17基を表し、R17はアルキル基、
アルケニル基、R18は水素原子、アルキル基、アシル基
を表す。Y1は水素原子又は を表す。)〕
2. At least one ethylenically unsaturated double bond.
In a photopolymerizable composition containing an addition-polymerizable compound and a photopolymerization initiator each having a linear organic high molecular polymer, the photopolymerization initiator is at least the following (a),
A photopolymerizable composition, which is a combination of the compounds (b) and (d). (A) Compound of general formula (I) (In the formula, R 1 to R 4 are independently of each other, a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, an amino group, a substituted amino group. Represents a group, and R 1 ~
R 4 may form a ring composed of a non-metal atom together with the carbon atom to which it can bind. R 6 is R 7 or -Z-R 7, Z represents a carbonyl group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, or arylene group, R 5, R 7 independently of one another, a hydrogen atom, an alkyl group, A substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group,
It represents a heteroaromatic group, a substituted heteroaromatic group, a cyano group, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, a carboxy group, an alkenyl group or a substituted alkenyl group. Both R 5 and R 6 may form a ring composed of a non-metal atom. X is O, S, NH,
Alternatively, it represents a nitrogen atom having a substituent. Y is an oxygen atom,
Or And G 1 and G 2 may be the same or different, and are a hydrogen atom, a cyano group, an alkoxycarbonyl group, a substituted alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, a substituted aryloxycarbonyl group, an acyl group, a substituted acyl group. Represents an arylcarbonyl group, a substituted arylcarbonyl group, an alkylthio group, an arylthio group, an alkylsulfonyl group, an arylsulfonyl group, and a fluorosulfonyl group. But G 1 and G 2 are not hydrogen atoms. Also G 1 , G 2
May form a ring composed of a non-metal atom together with the carbon atom which it can form. ) (B) 2,4,6-substituted-1, represented by the following general formula (II),
3,5-triazine compound (In the formula, X, Y, and Z each represent an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, or an aralkyl group, and they may be the same or different, but at least one of them is mono- , Di or trihalogen-substituted methyl group.) (D) Morpholino compound of the general formula (IV) (In the formula, Ar represents an aromatic group selected from one of the following general formulas, R 10 and R 11 represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 10 and R 11 are bonded to each other. May represent an alkylene group. ) General formula: (In the formula, R 12 to R 16 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group,
Substituted aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, substituted alkoxy group, -S-R 17 group, represents an -SO-R 17 group or -SO 2 R 17 group, provided that at least one of R 12 to R 16 group - S-R 17 groups,
It represents -SO-R 17 group or -SO 2 R 17 group, R 17 represents an alkyl group having,
The alkenyl group and R 18 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an acyl group. Y 1 is a hydrogen atom or Represents )]
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