[go: up one dir, main page]

JP2547613B2 - Photopolymerizable composition - Google Patents

Photopolymerizable composition

Info

Publication number
JP2547613B2
JP2547613B2 JP63129647A JP12964788A JP2547613B2 JP 2547613 B2 JP2547613 B2 JP 2547613B2 JP 63129647 A JP63129647 A JP 63129647A JP 12964788 A JP12964788 A JP 12964788A JP 2547613 B2 JP2547613 B2 JP 2547613B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
organic
groups
compound
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP63129647A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPH01298348A (en
Inventor
安男 岡本
充 小池
信行 喜多
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP63129647A priority Critical patent/JP2547613B2/en
Publication of JPH01298348A publication Critical patent/JPH01298348A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2547613B2 publication Critical patent/JP2547613B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polymerisation Methods In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は光重合性組成物に関する。さらに詳しくは、
エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と新規
な組成の光重合開始剤と、必要に応じて線状有機高分子
重合体とを含有する光重合性組成物に関し、たとえば、
アルゴンレーザー光源に対しても感応しうる感光性印刷
版の感光層等に有用な光重合性組成物に関するものであ
る。
Description: TECHNICAL FIELD The present invention relates to a photopolymerizable composition. For more information,
Regarding a photopolymerizable composition containing a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, a photopolymerization initiator having a novel composition, and a linear organic high molecular polymer, if necessary, for example,
The present invention relates to a photopolymerizable composition useful for a photosensitive layer or the like of a photosensitive printing plate that can be sensitive to an argon laser light source.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

エチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物と光
重合開始剤と更に必要に応じて適当な皮膜形成能を有す
る結合剤、熱重合禁止剤を混和させた感光性組成物を用
いて、写真的手法により画像の複製を行なう方法は、現
在知られるところである。すなわち、米国特許2,927,02
2号、同2,902,356号あるいは同3,870,524号に記載され
ているように、この種の感光性組成物は光照射により光
重合を起こし、硬化し不溶化することから、該感光性組
成物を適当な皮膜となし、所望の画像の陰画を通して光
照射を行ない、適当な溶媒により未露光部のみを除去す
る(以下、単に現象と呼ぶ)ことにより所望の光重合性
組成物の硬化画像を形成することができる。このタイプ
の感光性組成物は印刷版等を作成するために使用される
ものとして極めて有用であることは論をまたない。
Using a photosensitive composition in which a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, a photopolymerization initiator, and a binder having a proper film-forming ability as necessary, and a thermal polymerization inhibitor are mixed, A method of duplicating an image by the method is currently known. That is, US Patent 2,927,02
As described in No. 2, No. 2,902,356 or No. 3,870,524, this type of photosensitive composition causes photopolymerization upon irradiation with light, and is cured and insolubilized. By performing light irradiation through a negative image of a desired image and removing only an unexposed portion with a suitable solvent (hereinafter, simply referred to as a phenomenon), a cured image of a desired photopolymerizable composition can be formed. it can. It goes without saying that this type of photosensitive composition is extremely useful as a material used for producing printing plates and the like.

また、従来、エチレン性不飽和結合を有する重合可能
な化合物のみでは充分な感光性がなく、感光性を高める
ために光重合開始剤を添加することが提唱されており、
かかる光重合開始剤としてはベンジル、ベンゾイン、ベ
ンゾインエチルエーテル、ミヒラーケトン、アントラキ
ノン、アクリジン、フェナジン、ベンゾフェノン、2−
エチルアントラキノン等が用いられてきた。しかしなが
ら、これらの光重合開始剤を用いた場合、光重合性組成
物の硬化の感応度が低いので画像形成における像露光に
長時間を要した。このため細密な画像の場合には、操作
にわずかな振動があると良好な画質の画像が再現され
ず、さらに露光の光源のエネルギー放射量を増大しなけ
ればならないためにそれに伴なう多大な発熱の放散を考
慮する必要があった。加えて熱による組成物の皮膜の変
形および変質も生じ易い等の問題があった。
Further, conventionally, there is not sufficient photosensitivity only with a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, and it has been proposed to add a photopolymerization initiator to enhance photosensitivity,
Such photopolymerization initiators include benzyl, benzoin, benzoin ethyl ether, Michler's ketone, anthraquinone, acridine, phenazine, benzophenone, 2-benzophenone,
Ethyl anthraquinone and the like have been used. However, when these photopolymerization initiators are used, the photosensitivity of curing of the photopolymerizable composition is low, and thus it took a long time for image exposure in image formation. Therefore, in the case of a fine image, if there is a slight vibration in the operation, an image of good image quality cannot be reproduced, and the amount of energy emitted from the exposure light source must be increased. It was necessary to consider the dissipation of fever. In addition, there is a problem that the coating film of the composition is easily deformed or deteriorated by heat.

また、これらの光重合開始剤は400nm以下の紫外領域
の光源に対する光重合能力に比較し、400nm以上の可視
光線領域の光源に対する光重合能力が顕著に低い。従っ
て、従来の光重合開始剤を含む光重合性組成物は、応用
範囲が著しく限定されていた。
Further, these photopolymerization initiators have remarkably low photopolymerization ability with respect to a light source in the visible light region of 400 nm or more as compared with light polymerization ability with respect to a light source in the ultraviolet region of 400 nm or less. Therefore, the application range of the conventional photopolymerizable composition containing the photopolymerization initiator is extremely limited.

可視光線に感応する光重合系に関して従来いくつかの
提案がなされて来た。かかる提案として、米国特許第28
50445号によればある種の光還元性染料、例えば、ロー
ズベンガル、エオシン、エリスロシン等が効果的な可視
光感応性を有していると報告されている。また改良技術
として、染料とアミンの複合開始系(特公昭44-20189
号)、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤
および染料の系(特公昭45-37377号)、ヘキサアリール
ビイミダゾールとP−ジアルキルアミノベンジリデンケ
トンの系(特公昭47-2528号、特開昭54-155292号)、3
−ケト置換クマリン化合物と活性ハロゲン化合物の系
(特開昭58-15503号)、置換トリアジンとメロシアニン
色素の系(特開昭54-15102号)などの提案がなされて来
た。これらの技術は確かに可視光線に対して有効ではあ
る。しかし、未だその感光速度は充分満足すべきもので
はなく、さらに改良技術が望まれていた。
Several proposals have been made in the past regarding photopolymerization systems sensitive to visible light. As such a proposal, U.S. Pat.
According to 50445, certain photoreducing dyes, for example, rose bengal, eosin, erythrosine, etc., are reported to have effective visible light sensitivity. As an improved technique, a complex initiation system of dye and amine (Japanese Patent Publication No.
No.), a system of hexaarylbiimidazole and a radical generator and a dye (Japanese Patent Publication No. 45-37377), a system of hexaarylbiimidazole and P-dialkylaminobenzylidene ketone (Japanese Patent Publication No. 47-2528, JP-A No. No. 155292), 3
Proposals have been made such as a system of a keto-substituted coumarin compound and an active halogen compound (JP-A-58-15503) and a system of a substituted triazine and a merocyanine dye (JP-A-54-15102). These techniques are certainly effective for visible light. However, the photosensitivity rate is not yet satisfactory, and further improvement techniques have been desired.

また、近年、紫外線に対する高感度化や、レーザーを
用いて画像を形成する方法が検討され、印刷版作成にお
けるUVプロジェクション露光法、レーザー直接製版、レ
ーザーファクシミリ、ホログラフィー等が既に実用の段
階であり、これらに対応する高感度な感光材料が開発さ
れているところである。しかし未だ十分な感度を有して
いるとは言えない。
In addition, in recent years, a method for forming an image using a laser with high sensitivity to ultraviolet rays has been investigated, and a UV projection exposure method in printing plate making, laser direct plate making, laser facsimile, holography and the like are already in a practical stage, Highly sensitive light-sensitive materials corresponding to these are being developed. However, it cannot be said that it still has sufficient sensitivity.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problems to be Solved by the Invention]

本発明の目的は、高感度の光重合性組成物を提供する
ことである。
It is an object of the present invention to provide a highly sensitive photopolymerizable composition.

すなわち、本発明の目的は、広く一般にエチレン性不
飽和結合を有する重合可能な化合物を含む光重合性組成
物の光重合速度を増大させる光重合開始剤を含んだ光重
合性組成物を提供することである。
That is, an object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiator that increases the photopolymerization rate of a photopolymerizable composition containing a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond widely. That is.

また本発明の他の目的は、400nm以上の可視光線、特
にAr+レーザーの出力に対応する488nm付近の光に対して
も感度の高い光重合開始剤を含んだ光重合性組成物を提
供することにある。
Another object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition containing a photopolymerization initiator that is highly sensitive to visible light of 400 nm or more, particularly light near 488 nm corresponding to the output of Ar + laser. Especially.

〔課題を解決するための手段〕[Means for solving the problem]

本発明者は、上記目的を達成すべく鋭意研究を重ねた
結果、ある特定の光重合開始剤系がエチレン性不飽和結
合を有する重合可能な化合物の光重合速度を著しく増大
させ、また400nm以上の可視光線に対しても高感度を示
すことを見出し、本発明に到達したものである。
The present inventor has conducted extensive studies to achieve the above-mentioned object, and a certain photopolymerization initiator system markedly increases the photopolymerization rate of a polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond, and is 400 nm or more. The present invention has been found to exhibit high sensitivity to visible light, and has reached the present invention.

すなわち、本発明は活性光線により光重合が可能な少
なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する重合可能
な化合物と、光重合開始剤と、必要に応じて線状有機高
分子重合体とを含む光重合性組成物において、前記光重
合開始剤が、下記A群、B群およびC群からそれぞれ選
ばれた少なくとも3種の化合物を含むことを特徴とする
ものである。
That is, the present invention includes a polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond capable of being photopolymerized by actinic rays, a photopolymerization initiator, and optionally a linear organic polymer. In the photopolymerizable composition, the photopolymerization initiator contains at least three kinds of compounds selected from the following groups A, B and C, respectively.

(A) (i)少なくとも一種の有機カチオン性色素の有機ホウ
素化合物アニオン塩 又は (ii)少なくとも一種の有機カチオン性色素と有機ホウ
素化合物アニオン塩の組合せ (B) (i)炭素−ハロゲン結合を有する化合物 (ii)芳香族オニウム塩又は芳香族ハロニウム塩 (iii)有機過酸化物 のうちの少なくとも一種 (C)一般式 (ただし、式中、Arは下記の一般式の一つから選ばれた
芳香族基を表し、R1、R2は水素原子又はアルキル基を表
し、又、R1とR2は互いに結合してアルキレン基を表して
も良い。) (ただし式中、R3〜R7は互いに独立して水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、置
換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換アルコキシ
基、-S-R9基、-SO-R9基又は-SO2R9基を表すが、但しR3
〜R7基の少なくとも一つは-S-R9基、-SO-R9基又は-SO2R
9基を表し、R9はアルキル基、アルケニル基、R8は水素
原子、アルキル基、アシル基を表す。Y1は水素原子又は を表す。
(A) (i) an organic boron compound anion salt of at least one organic cationic dye, or (ii) a combination of at least one organic cationic dye and an organic boron compound anion salt (B) (i) having a carbon-halogen bond Compound (ii) At least one of aromatic onium salt or aromatic halonium salt (iii) Organic peroxide (C) General formula (In the formula, Ar represents an aromatic group selected from one of the following general formulas, R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 and R 2 are bonded to each other. May represent an alkylene group.) (In the formula, R 3 to R 7 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, a —SR 9 group, a —SO group. Represents -R 9 group or -SO 2 R 9 group, provided that R 3
To at least one of R 7 groups are -SR 9 groups, -SO-R 9 groups, or -SO 2 R
Represents 9 group, R 9 represents an alkyl group, an alkenyl group, R 8 represents a hydrogen atom, an alkyl group, an acyl group. Y 1 is a hydrogen atom or Represents

本発明に使用するエチレン性不飽和結合を有する重合
可能な化合物とは、その化学構造中に少なくとも1個
の、より好ましくは少なくとも2個のエチレン性不飽和
結合を有する化合物である。例えばモノマー、プレポリ
マー、すなわち2量体、3量体およびオリゴマー、又は
それらの混合物ならびにそれらの共重合体などの化学的
形態をもつものである。モノマーおよびその共重合体の
例としては、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール
化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価ア
ミン化合物とのアミド等があげられる。
The polymerizable compound having an ethylenically unsaturated bond used in the present invention is a compound having at least one, and more preferably at least two ethylenically unsaturated bonds in its chemical structure. For example, it has a chemical form such as a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer and an oligomer, or a mixture thereof and a copolymer thereof. Examples of monomers and copolymers thereof include esters of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric alcohol compounds, amides of unsaturated carboxylic acids and aliphatic polyhydric amine compounds, and the like.

脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸との
エステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エス
テルとして、エチレングリコールジアクリレート、トリ
エチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオ
ールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアク
リレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ
(アクリロイルオキシプロピル)エーテル、トリメチロ
ールエタントリアクリレート、ヘキサンジオールジアク
リレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレー
ト、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタ
エリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリ
レート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトール
トリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、
ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサ
アクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソ
シアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等
がある。
Specific examples of the monomer of the ester of the aliphatic polyhydric alcohol compound and the unsaturated carboxylic acid include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate and tetramethylene glycol as acrylic acid ester. Diacrylate, propylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate , Tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pen Pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate,
There are sorbitol pentaacrylate, sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer and the like.

メタクリル酸エステルとしては、テトラメチレングリ
コールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメ
タクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレー
ト、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリ
メチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコ
ールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタク
リレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトー
ルトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメ
タクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソ
ルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメ
タクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2
−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、
ビス−〔p−(アクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジ
メチルメタン等がある。
As methacrylic acid esters, tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, Hexanediol dimethacrylate, pentaerythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy- 2
-Hydroxypropoxy) phenyl] dimethylmethane,
Bis- [p- (acryloxyethoxy) phenyl] dimethylmethane;

イタコン酸エステルとしては、エチレングリコールジ
イタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、
1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4−ブタンジオ
ールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタ
コネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソル
ビトールテトライタコネート等がある。
Examples of itaconic acid esters include ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate,
There are 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetritaconate and the like.

クロトン酸エステルとしては、エチレングリコールジ
クロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネー
ト、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトー
ルテトラジクロトネート等がある。
Examples of crotonic acid esters include ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, and sorbitol tetradicrotonate.

イソクロトン酸エステルとしては、エチレングリコー
ルジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソク
ロトネート、ソルビトールテトライソクロトネート等が
ある。
Examples of the isocrotonic acid ester include ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, and sorbitol tetraisocrotonate.

マレイン酸エステルとしては、エチレングリコールジ
マレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタ
エリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレー
ト等がある。
The maleic acid ester includes ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate, sorbitol tetramaleate and the like.

さらに、前述のエステルモノマーの混合物もあげるこ
とができる。
Furthermore, a mixture of the above-mentioned ester monomers can also be mentioned.

また、脂肪族多価アミン化合物と不飽和カルボン酸と
のアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビス−
アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,
6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサ
メチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミ
ントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミ
ド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
Further, specific examples of the amide monomer of an aliphatic polyvalent amine compound and an unsaturated carboxylic acid include methylenebis-
Acrylamide, methylenebis-methacrylamide, 1,
6-hexamethylenebis-acrylamide, 1,6-hexamethylenebis-methacrylamide, diethylenetriaminetrisacrylamide, xylylenebisacrylamide, xylylenebismethacrylamide and the like.

その他の例としては、特公昭48-41708号公報中に記載
されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有す
るポリイソシアネート化合物に、下記の一般式(A)で
示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加せしめ
た1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニ
ルウレタン化合物等があげられる。
As another example, a vinyl group containing a hydroxyl group represented by the following general formula (A) is added to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule described in JP-B-48-41708. Examples thereof include vinyl urethane compounds containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule to which a monomer is added.

CH2=C(R)COOCH2CH(R′)OH (A) (ただし、RおよびR′はHあるいはCH3を示す。) また、特開昭51-37193号に記載されているようなウレ
タンアクリレート類、特開昭48-64183号、特公昭49-431
91号、特公昭52-30490号各公報に記載されているような
ポリエステルアクリレート類、エポキシ樹脂と(メタ)
アクリル酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多
官能のアクリレートやメタクリレートをあげることがで
きる。さらに日本接着協会誌Vol.20、No.7、300〜308ペ
ージに光硬化性モノマー及びオリゴマーとして紹介され
ているものも使用することができる。なお、これらの使
用量は、全成分に対して5〜50重量%(以下%と略称す
る。)好ましくは、10〜40%である。
CH 2 ═C (R) COOCH 2 CH (R ′) OH (A) (wherein R and R ′ represent H or CH 3 ). Also, as described in JP-A-51-37193. Urethane acrylates, JP-A-48-64183, JP-B-49-431
No. 91, Japanese Patent Publication No. 52-30490 and polyester acrylates, epoxy resins and (meth)
Examples thereof include polyfunctional acrylates and methacrylates such as epoxy acrylates reacted with acrylic acid. Furthermore, those introduced as photocurable monomers and oligomers in Japan Adhesive Association magazine Vol. 20, No. 7, pages 300 to 308 can also be used. The amount of these used is 5 to 50% by weight (hereinafter abbreviated as%), preferably 10 to 40%, based on all components.

次に本発明の光重合性組成物において著しい特徴をな
す光重合開始剤について説明する。
Next, the photopolymerization initiator which is a remarkable feature of the photopolymerizable composition of the present invention will be described.

本発明で有効に用いることのできる有機カチオン性色
素の有機硼素化合物アニオン塩すなわち、成分(A)−
(i)は例えば、下記一般式(I)で表わされる。
An organic boron compound anion salt of an organic cationic dye that can be effectively used in the present invention, that is, component (A)-
(I) is represented by the following general formula (I), for example.

ここで、D+は有機カチオン性色素であり;R10、R11
R12及びR13は同一でも異なっていてもよく、アルキル
基、置換アルキル基、アリール基、置換アリール基、ア
ラルキル基、アルカリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基、アリサイクリック基、複素環基、アリル基及びこ
れらの誘導体から選ばれる基であり;R10、R11、R12
びR13はその2個以上の基が結合している環状構造であ
ってもよい。
Where D + is an organic cationic dye; R 10 , R 11 ,
R 12 and R 13 may be the same or different, an alkyl group, a substituted alkyl group, an aryl group, a substituted aryl group, an aralkyl group, an alkaryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an alicyclic group, a heterocyclic group, It is a group selected from an allyl group and derivatives thereof; R 10 , R 11 , R 12 and R 13 may be a cyclic structure in which two or more groups are bonded.

本発明では、有機カチオン性色素として例えば、カチ
オン性のメチン色素、好ましくはポリメチン色素、シア
ニン色素、アゾメチン色素、更に好ましくはシアニン、
カルボシアニン、ヘミシアニン;カルボニウム色素、好
ましくはトリアリールメタン色素、キサンテン色素、ア
クリジン色素、更に好ましくはローダミン;キノンイミ
ン色素、好ましくはアジン色素、オキサジン色素、チア
ジン色素;キノリン色素;チアゾール色素、(チア)ピ
リリウム色素等から選ばれた色素を1種もしくは組み合
わせて用いることができる。
In the present invention, as the organic cationic dye, for example, a cationic methine dye, preferably a polymethine dye, a cyanine dye, an azomethine dye, more preferably cyanine,
Carbocyanine, hemicyanine; carbonium dye, preferably triarylmethane dye, xanthene dye, acridine dye, more preferably rhodamine; quinoneimine dye, preferably azine dye, oxazine dye, thiazine dye; quinoline dye; thiazole dye, (thia) pyrylium One or a combination of dyes selected from dyes can be used.

本発明では市販品もしくは業界で公知の上述の有機カ
チオン性色素を用いることができる。これらの色素の例
としては、例えば有機化学協会編の染料便覧の塩基性塗
料の項やティー・エイチ・ジェームズ(T.H.James)著
「写真過程の理論(The Theory of the Photographic P
rocess)」マクミラン出版社(Macmillan Publishing C
o.,Inc)1977年の194〜290頁や「機能性色素の化学」シ
ー・エム・シー(CMC)出版社の1〜32頁や189〜206頁
や401〜413頁や特開昭59-189340号公報等を参考にする
ことができる。
In the present invention, commercially available products or the above-mentioned organic cationic dyes known in the art can be used. Examples of these pigments are, for example, the section on basic paints in the Handbook of Dyes edited by the Organic Chemistry Society and “The Theory of the Photographic P” by TH James.
rocess) "Macmillan Publishing C
o., Inc) 1977, 194-290 and "Chemistry of Functional Dyes", CMC Publishers, 1-32, 189-206, 401-413, and JP-A-59. -189340 publication can be referred to.

上記の色素の中で本発明にとくに有用な色素はシアニ
ン色素とキサンテン色素である。本発明に有用なシアニ
ン色素の具体例として、次の一般式(II)で表わされる
色素があげられる。
Among the above dyes, dyes particularly useful in the present invention are cyanine dyes and xanthene dyes. Specific examples of the cyanine dye useful in the present invention include dyes represented by the following general formula (II).

一般式(II) 式中Z1、Z2はシアニン色素に通常用いられるヘテロ環
核、特にチアゾール核、チアゾリン核、ベンゾチアゾー
ル核、ナフトチアゾール核、オキサゾール核、オキサゾ
リン核、ベイゾオキサゾール核、ナフトオキサゾール
核、テトラゾール核、ピリジン核、キノリン核、イミダ
ゾリン核、イミダゾール核、ベンゾイミダゾール核、ナ
フトイミダゾール核、セレナゾリン核、セレナゾール
核、ベンゾセレナゾール核、ナフトセレナゾール核又は
インドレニン核などを完成するのに必要な原子群を表わ
す。これらの核は、メチル基などの低級アルキル基、ハ
ロゲン原子、フェニル基、ヒドロキシル基、炭素数1〜
4のアルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボ
ニル基、アルキルスルファモイル基、アルキルカルバモ
イル基、アセチル基、アセトキシ基、シアノ基、トリク
ロロメチル基、トリフルオロメチル基、ニトロ基などに
よって置換されていてもよい。
General formula (II) In the formula, Z 1 and Z 2 are heterocyclic nuclei usually used for cyanine dyes, particularly thiazole nucleus, thiazoline nucleus, benzothiazole nucleus, naphthothiazole nucleus, oxazole nucleus, oxazoline nucleus, beizoxazole nucleus, naphthoxazole nucleus, tetrazole nucleus , Pyridine nucleus, quinoline nucleus, imidazoline nucleus, imidazole nucleus, benzimidazole nucleus, naphthimidazole nucleus, selenazoline nucleus, selenazole nucleus, benzoselenazole nucleus, naphthoselenazole nucleus or indolenine nucleus, etc. Represents These nuclei have a lower alkyl group such as a methyl group, a halogen atom, a phenyl group, a hydroxyl group, and a carbon number of 1 to 1.
4 alkoxy group, carboxyl group, alkoxycarbonyl group, alkylsulfamoyl group, alkylcarbamoyl group, acetyl group, acetoxy group, cyano group, trichloromethyl group, trifluoromethyl group, nitro group, etc. .

L1、L2またはL3はメチン基、置換メチン基を表わす。
置換メチン基としては、メチル基、エチル基、等の低級
アルキル基、フェニル基、置換フェニル基、メトキシ
基、エトキシ基、フェネチル基等のアラルキル基等によ
って置換されたメチン基などがある。
L 1 , L 2 or L 3 represents a methine group or a substituted methine group.
Examples of the substituted methine group include a lower alkyl group such as a methyl group and an ethyl group, a phenyl group, a substituted phenyl group, a methine group substituted with an aralkyl group such as a methoxy group, an ethoxy group, and a phenethyl group.

L1とR14、L3とR15及びω=3の時はL2とL2でアルキレ
ン架橋し5または6員環を形成してもよい。
When L 1 and R 14 , L 3 and R 15 and ω = 3, L 2 and L 2 may be alkylene bridged to form a 5- or 6-membered ring.

R14とR15は低級アルキル基(より好ましくは炭素数が
1〜8のアルキル基)、カルボキシ基、スルホ基、ヒド
ロキシ基、ハロゲン原子、炭素数が1〜4のアルコキシ
基、フェニル基、置換フェニル基等の置換基を有したア
ルキル基(好ましくはアルキレン部分がC1〜C5であ
る)、例えば、β−スルホエチル、γ−スルホプロピ
ル、γ−スルホブチル、δ−スルホブチル、2−〔2−
(3−スルホプロポキシ)エトキシ〕エチル、2−ヒド
ロキシスルホプロピル、2−クロロスルホプロピル、2
−メトキシエチル、2−ヒドロキシエチル、カルボキシ
メチル、2−カルボキシエチル、2,2,3,3−テトラフル
オロプロピル、3,3,3−トリフルオロエチル;アリル(a
llyl)基やその他の通常シアニン色素のN−置換基に用
いられている置換アルキル基を表わす。ωは1、2また
は3を表わす。X-は前記構造式(I)の硼素化合物アニ
オンを表わす。
R 14 and R 15 are lower alkyl groups (more preferably alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms), carboxy groups, sulfo groups, hydroxy groups, halogen atoms, alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms, phenyl groups, substituted An alkyl group having a substituent such as a phenyl group (preferably the alkylene moiety is C 1 to C 5 ), for example, β-sulfoethyl, γ-sulfopropyl, γ-sulfobutyl, δ-sulfobutyl, 2- [2-
(3-Sulfopropoxy) ethoxy] ethyl, 2-hydroxysulfopropyl, 2-chlorosulfopropyl, 2
-Methoxyethyl, 2-hydroxyethyl, carboxymethyl, 2-carboxyethyl, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl, 3,3,3-trifluoroethyl; allyl (a
llyl) group and other substituted alkyl groups usually used for N-substituents of cyanine dyes. ω represents 1, 2 or 3. X represents a boron compound anion of the above structural formula (I).

本発明に有用なキサンテン色素の具体例としては、例
えば次の一般式(III)で表わされる色素があげられ
る。
Specific examples of the xanthene dye useful in the present invention include dyes represented by the following general formula (III).

R16、R17、R18、R19はおのおの独立に水素原子、炭素
数1〜6のアルキル基または炭素数6〜14のアリール基
を表わし、Xは前記構造式(I)の硼素化合物アニオン
を表わし、Yはアルキル基又はアリール基又は水素原子
またはアルカリ金属を表わす。
R 16 , R 17 , R 18 , and R 19 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, and X is the boron compound anion of the structural formula (I). And Y represents an alkyl group, an aryl group, a hydrogen atom or an alkali metal.

本発明で用いることのできる好ましい有機カチオン性
色素化合物の有機硼素化合物アニオン塩の例を以下に挙
げる。ただし、本発明は以下の化合物に限定されるもの
ではない。
Examples of preferable organic boron compound anion salts of organic cationic dye compounds that can be used in the present invention are given below. However, the present invention is not limited to the following compounds.

また、本発明に使用する成分(A)としては、有機
カチオン性色素の有機硼素化合物アニオン以外のアニオ
ン塩、例えばCl-、Br-、I-などのハロゲンアニオン塩
や、BF4 -、PF6 -、ClO4 -、1/2SO4 --などのアニオン塩など、と;有機硼素化合物アニオン
の有機色素カチオン以外のカチオン塩、例えばN+(C
H3、N+(C2H5、N+(nC4H9などの四級アン
モニウムカチオン塩やNa+、K+などのアルカリ金属カチ
オン塩など、との混合物であってもよい。
As the component (A) used in the present invention, anion salts other than the organic boron compound anion of the organic cationic dye, for example, halogen anion salts such as Cl , Br and I , BF 4 and PF 6 are used. -, ClO 4 -, 1 / 2SO 4 -, Anion salts such as; and cation salts other than organic dye cations of organic boron compound anions, such as N + (C
It is a mixture with quaternary ammonium cation salts such as H 3 ) 4 , N + (C 2 H 5 ) 4 and N + (nC 4 H 9 ) 4 and alkali metal cation salts such as Na + and K +. May be.

上記化合物としては、前記の一般式(II)又は(II
I)におけるXがハロゲンイオン(例えばCl-、Br-、I-
など)、 ClO4 -、1/2SO4 --であるものを挙げることができる。また、上記化合物
の有機ホウ素化合物アニオン塩の他の例としては具体的
には米国特許3,567,453号、同4,343,891号、ヨーロッパ
特許109,772号、同109,773号に記載されている化合物お
よび以下に示すもの、が挙げられる。
Examples of the compound include the above general formula (II) or (II
X in I) is a halogen ion (eg Cl , Br , I
Etc.), ClO 4 -, 1 / 2SO 4 -, Can be mentioned. Further, as other examples of the organic boron compound anion salt of the above compound, specifically, U.S. Pat.Nos. 3,567,453, 4,343,891, European Patents 109,772, compounds described in 109,773 and those shown below, Can be mentioned.

A-20 (nC4H9 B-・N+(nC4H9 本発明で用いられる、炭素−ハロゲン結合を有する化
合物としては、たとえば、若林ら著、Bull.Chem.Soc.Ja
pan,42、2924(1969)記載の化合物、たとえば、2−フ
ェニル4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジ
ン、2−(p−クロルフェニル)−4,6−ビス(トリク
ロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−トリル)−
4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2
−(p−メトキシフェニル)−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−S−トリアジン、2−(2′,4′−ジクロル
フェニル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−ト
リアジン、2,4,6−トリス(トリクロルメチル)−S−
トリアジン、2−メチル−4,6−ビス(トリクロルメチ
ル)−S−トリアジン、2−n−ノニル−4,6−ビス
(トリクロルメチル)−S−トリアジン、2−(α,
α,β−トリクロルエチル)−4,6−ビス(トリクロル
メチル)−S−トリアジン等が挙げられる。その他、英
国特許1388492号明細書記載の化合物、たとえば、2−
スチリル−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−トリ
アジン、2−(p−メチルスチリル)−4,6−ビス(ト
リクロルメチル)−S−トリアジン、2−(p−メトキ
シスチリル)−4,6−ビス(トリクロルメチル)−S−
トリアジン、2−(p−メトキシスチリル)−4−アミ
ノ−6−トリクロルメチル−S−トリアジン等、特開昭
53-133428号記載の化合物、たとえば、2−(4−メト
キシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメ
チル−S−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−
1−イル)−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリ
アジン、2−〔4−(2−エトキシエチル)−ナフト−
1−イル〕−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリ
アジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イル〕
−4,6−ビス−トリクロルメチル−S−トリアジン、2
−(アセナフト−5−イル)−4,6−ビス−トリクロル
メチル−S−トリアジン等、独国特許3337024号明細書
記載の化合物、たとえば 等やその他 等を挙げることができる。
A-20 (nC 4 H 9 4 B - · N + (nC 4 H 9) 4 Examples of the compound having a carbon-halogen bond used in the present invention include Wakabayashi et al., Bull. Chem. Soc. Ja.
pan, 42, 2924 (1969), for example, 2-phenyl 4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-chlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl)- S-triazine, 2- (p-tolyl)-
4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2
-(P-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (2 ', 4'-dichlorophenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2,4,6-Tris (trichloromethyl) -S-
Triazine, 2-methyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2-n-nonyl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (α,
Examples include α, β-trichloroethyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine. In addition, compounds described in British Patent No. 1388492, for example, 2-
Styryl-4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methylstyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -S-triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4, 6-bis (trichloromethyl) -S-
Triazine, 2- (p-methoxystyryl) -4-amino-6-trichloromethyl-S-triazine, etc.
53-133428, for example, 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4-ethoxy-naphtho-
1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphtho-
1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2- (4,7-dimethoxy-naphth-1-yl]
-4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine, 2
-(Acenaphtho-5-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-S-triazine and the like, compounds described in German Patent 3337024, for example, Etc. and others Etc. can be mentioned.

また、F.C.Schaefer等によるJ.Org Chem.;29、1527
(1964)記載の化合物、たとえば2−メチル−4,6−ビ
ス(トリブロムメチル)−S−トリアジン、2,4,6−ト
リス(トリブロムメチル)−S−トリアジン、2,4,6−
トリス(ジブロムメチル)−S−トリアジン、2−アミ
ノ−4−メチル−6−トリブロムメチル−S−トリアジ
ン、2−メトキシ−4−メチル−6−トリクロルメチル
−S−トリアジン等を挙げることができる。
J. Org Chem .; 29, 1527 by FC Schaefer et al.
(1964), for example, 2-methyl-4,6-bis (tribromomethyl) -S-triazine, 2,4,6-tris (tribromomethyl) -S-triazine, 2,4,6-
Tris (dibromomethyl) -S-triazine, 2-amino-4-methyl-6-tribromomethyl-S-triazine, 2-methoxy-4-methyl-6-trichloromethyl-S-triazine and the like can be mentioned.

さらに特開昭62-58241号記載の化合物、たとえば 等を挙げることができる。Further, compounds described in JP-A-62-58241, for example, Etc. can be mentioned.

あるいはさらにM.P.Hutt、E.F.ElslagerおよびL.M.We
rbel著Journal of Heterocyclic Chemistry第7巻(No.
3)、第511頁以降(1970年)に記載されている合成方法
に準じて、当業者が容易に合成することができる次のよ
うな化合物群 あるいは、次のような化合物群 あるいは、ドイツ特許第2641100号に記載されている
ような化合物、例えば、4−(4−メトキシ−スチリ
ル)−6−(3・3・3−トリクロルプロペニル)−2
−ピロン及び4−(3・4・5−トリメトキシ−スチリ
ル)−6−トリクロルメチル−2−ピロン、あるいはド
イツ特許第3333450号に記載されている化合物、例え
ば、 あるいはドイツ特許第3021590号に記載の化合物群、 あるいはドイツ特許第3021599号に記載の化合物群例
えば、 を挙げることができる。
Or even MPHutt, EFElslager and LMWe
rbel, Journal of Heterocyclic Chemistry Volume 7 (No.
3), the following compound groups that can be easily synthesized by those skilled in the art according to the synthesis method described on page 511 et seq. (1970). Alternatively, the following compound group Alternatively, compounds as described in German Patent No. 2641100, for example 4- (4-methoxy-styryl) -6- (3.3-3-trichloropropenyl) -2
-Pyrone and 4- (3,4,5-trimethoxy-styryl) -6-trichloromethyl-2-pyrone, or the compounds described in DE 3333450, for example Alternatively, a compound group described in German Patent No. 3021590, Alternatively, the compounds described in German Patent No. 3021599, for example, Can be mentioned.

本発明で用いられる芳香族オニウム塩としては特公昭
52-14278号、特公昭52-14279号に示されている化合物を
あげることができる。
The aromatic onium salt used in the present invention is disclosed in
The compounds shown in JP-B No. 52-14278 and JP-B No. 52-14279 can be mentioned.

具体的には、 などをあげることができる。In particular, And so on.

さらに、芳香族ハロニウム塩としては特公昭52-14277
号に示される化合物をあげることができる。具体的には をあげることができる。これらの中で好ましいものは、
BF4塩、又はPF6塩の化合物さらに好ましくは芳香族ヨー
ドニウム塩のBF4塩、又はPF6塩である。
Further, as an aromatic halonium salt, Japanese Patent Publication No. 52-14277.
The compounds shown in No. 1 can be mentioned. In particular Can be raised. Preferred of these are:
A compound of a BF 4 salt or a PF 6 salt is more preferably a BF 4 salt or a PF 6 salt of an aromatic iodonium salt.

本発明に使用される「有機過酸化物」としては分子中
に酸素−酸素結合を1個以上有する有機化合物のほとん
ど全てが含まれるが、その例としては、メチルエチルケ
トンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイ
ド、3,3,5−トリメチルシクロヘキサノンパーオキサイ
ド、メチルシクロヘキサノンパーオキサイド、アセチル
アセトンパーオキサイド、1,1−ビス(ターシャリィブ
チルパーオキシ)−3,3,5−トリメチルシクロヘキサ
ン、1,1−ビス(ターシャリィブチルパーオキシ)シク
ロヘキサン、2,2−ビス(ターシャリィブチルパーオキ
シ)ブタン、ターシャリィブチルハイドロパーオキサイ
ド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルベ
ンゼンハイドロパーオキサイド、パラメンタンハイドロ
パーオキサイド、2,5−ジメチルヘキサン−2,5−ジハイ
ドロパーオキサイド、1,1,3,3−テトラメチルブチルハ
イドロパーオキサイド、ジターシャリィブチルパーオキ
サイド、ターシャリィブチルクミルパーオキサイド、ジ
クミルパーオキサイド、ビス(ターシャリィブチルパー
オキシイソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−2,5−
ジ(ターシャリィブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−
ジメチル−2,5−ジ(ターシャリィブチルパーオキシ)
ヘキシン−3、アセチルパーオキサイド、イソブチリル
パーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、デカノ
イルパーオキサイド、ラウロイルパーオキサイド、3,5,
5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、過酸化こ
はく酸、過酸化ベンゾイル、2,4−ジクロロベンゾイル
パーオキサイド、メタ−トルオイルパーオキサイド、ジ
イソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エチ
ルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−2−エトキ
シエチルパーオキシジカーボネート、ジメトキシイソプ
ロピルパーオキシカーボネート、ジ(3−メチル−3−
メトキシブチル)パーオキシジカーボネート、ターシャ
リィブチルパーオキシアセテート、ターシャリィブチル
パーオキシピバレート、ターシャリィブチルパーオキシ
ネオデカノエート、ターシャリィブチルパーオキシオク
タノエート、ターシャリィブチルパーオキシ−3,5,5−
トリメチルヘキサノエート、ターシャリィブチルパーオ
キシラウレート、ターシャリィブチルパーオキシベンゾ
エート、ジターシャリィブチルジパーオキシイソフタレ
ート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキ
シ)ヘキサン、ターシャリィブチル過酸化マレイン酸、
ターシャリィブチルパーオキシイソプロピルカーボネー
ト、3,3′,4,4′−テトラ−(t−ブチルパーオキシカ
ルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ−
(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、
3,3′,4,4′−テトラ(t−ヘキシルパーオキシカルボ
ニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(t−オ
クチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,
4,4′−テトラ(クミルパーオキシカルボニル)ベンゾ
フェノン、3,3′,4,4′−テトラ(p−イソプロピルク
ミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、カルボニ
ルジ(t−ブチルパーオキシ二水素二フタレート)、カ
ルボニルジ(t−ヘキシルパーオキシ二水素二フタレー
ト)等がある。
The "organic peroxide" used in the present invention includes almost all organic compounds having one or more oxygen-oxygen bonds in the molecule, and examples thereof include methyl ethyl ketone peroxide, cyclohexanone peroxide, 3 , 3,5-Trimethylcyclohexanone peroxide, methylcyclohexanone peroxide, acetylacetone peroxide, 1,1-bis (tertiarybutylperoxy) -3,3,5-trimethylcyclohexane, 1,1-bis (tertiarybutyl) Peroxy) cyclohexane, 2,2-bis (tertiarybutylperoxy) butane, tertiarybutyl hydroperoxide, cumene hydroperoxide, diisopropylbenzene hydroperoxide, paramenthane hydroperoxide, 2,5-dimethylhexa -2,5-dihydroperoxide, 1,1,3,3-tetramethylbutyl hydroperoxide, ditertiary butyl peroxide, tertiary butyl cumyl peroxide, dicumyl peroxide, bis (tertiary butyl peroxide) (Oxyisopropyl) benzene, 2,5-dimethyl-2,5-
Di (tertiary butyl peroxy) hexane, 2,5-
Dimethyl-2,5-di (tertiary butyl peroxy)
Hexine-3, acetyl peroxide, isobutyryl peroxide, octanoyl peroxide, decanoyl peroxide, lauroyl peroxide, 3,5,
5-trimethylhexanoyl peroxide, succinic acid peroxide, benzoyl peroxide, 2,4-dichlorobenzoyl peroxide, meta-toluoyl peroxide, diisopropyl peroxydicarbonate, di-2-ethylhexyl peroxydicarbonate, dicarbonate 2-ethoxyethyl peroxydicarbonate, dimethoxyisopropyl peroxycarbonate, di (3-methyl-3-)
(Methoxybutyl) peroxydicarbonate, tert-butyl peroxyacetate, tert-butyl peroxypivalate, tert-butyl peroxy neodecanoate, tert-butyl peroxy octanoate, tert-butyl peroxy-3, 5,5-
Trimethylhexanoate, tert-butyl peroxylaurate, tert-butyl peroxybenzoate, ditertiary butyl diperoxyisophthalate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, tert-butyl Maleic acid peroxide,
Tertiary butyl peroxy isopropyl carbonate, 3,3 ', 4,4'-tetra- (t-butyl peroxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra-
(T-amylperoxycarbonyl) benzophenone,
3,3 ', 4,4'-tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (t-octylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ',
4,4'-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, carbonyldi (t-butylperoxydihydrogen diphthalate), Carbonyldi (t-hexylperoxydihydrogen diphthalate) and the like.

これらの中で、3,3′,4,4′−テトラ−(t−ブチル
パーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′
−テトラ−(t−アミルパーオキシカルボニル)ベンゾ
フェノン、3,3′,4,4′−テトラ(t−ヘキシルパーオ
キシカルボニル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テト
ラ(t−オクチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、3,3′,4,4′−テトラ(クミルパーオキシカルボニ
ル)ベンゾフェノン、3,3′,4,4′−テトラ(p−イソ
プロピルクミルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノ
ン、ジ−t−ブチルジパーオキシイソフタレート等の過
酸化エステル系が好ましい。
Among these, 3,3 ', 4,4'-tetra- (t-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4 '
-Tetra- (t-amylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (t-hexylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (t-octylper) (Oxycarbonyl) benzophenone, 3,3 ', 4,4'-tetra (cumylperoxycarbonyl) benzophenone, 3,3', 4,4'-tetra (p-isopropylcumylperoxycarbonyl) benzophenone, di-t- Peroxide ester systems such as butyldiperoxyisophthalate are preferred.

一般式 (ただし、Arは下記の一般式のいずれかである。General formula (However, Ar is one of the following general formulas.

で表わされる化合物において、R1、R2で表されるアルキ
ル基としてはメチル、エチル、プロピル等の炭素数1〜
20個のものがあげられる。また、R1とR2が結合して形成
するアルキレン基としては、テトラメチレン、ペンタメ
チレン等があげられる。ArにおけるR3〜R7のアルキル基
としては炭素数1〜4個のものがあげられる。また、ア
ルケニル基としては炭素数3〜12のものがあげられる。
さらに、R3〜R7のアリール基としてはフェニル基があげ
られる。さらにアルコキシ基としては炭素数1〜4のも
のがあげられる。またR3〜R7の置換アリール基および置
換アルコキシ基の置換基としては、炭素数1〜4個のア
ルキル基、炭素数2〜4個のアルケニル基、炭素数1〜
4個のアルコキシ基、シアノ基、ハロゲン原子、ニトロ
基などを挙げることができる。R8のアシル基としてはア
セチル、プロピオニル、アクリロイル等があげられる。
さらにまたR9のアルキル基としては炭素数1〜8個のも
のがあげられ、R9のアルケニル基としては炭素数2〜8
個のものがあげられる。
In the compound represented by, the alkyl group represented by R 1 and R 2 has a carbon number of 1 to 1 such as methyl, ethyl and propyl.
There are 20 things. Examples of the alkylene group formed by combining R 1 and R 2 include tetramethylene and pentamethylene. Examples of the alkyl group represented by R 3 to R 7 in Ar include those having 1 to 4 carbon atoms. Examples of the alkenyl group include those having 3 to 12 carbon atoms.
Furthermore, examples of the aryl group of R 3 to R 7 include a phenyl group. Furthermore, examples of the alkoxy group include those having 1 to 4 carbon atoms. Moreover, as the substituents of the substituted aryl group and the substituted alkoxy group of R 3 to R 7 , an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 4 carbon atoms, and 1 to 1 carbon atoms
Examples thereof include four alkoxy groups, cyano groups, halogen atoms, nitro groups and the like. Examples of the acyl group of R 8 include acetyl, propionyl, acryloyl and the like.
Furthermore, examples of the alkyl group of R 9 include those having 1 to 8 carbon atoms, and examples of the alkenyl group of R 9 include 2 to 8 carbon atoms.
I can give you one.

このような化合物の具体例としては、 などがあげられる。Specific examples of such compounds include: And so on.

この中で好ましいものはC−1、C−2、C−8およ
びC−9である。
Among these, preferred are C-1, C-2, C-8 and C-9.

本発明の組成物中のこれらの光重合開始剤系の含有濃
度は通常わずかなものである。また、不適当に多い場合
には有効光線の遮断等好ましくない結果を生じる。本発
明における光重合開始剤系の量は、光重合可能なエチレ
ン性不飽和化合物と必要に応じて添加される線状有機高
分子重合体との合計に対して0.01%から60%の範囲で使
用するのが好ましい。より好ましくは、1%から30%で
良好な結果を得る。また本発明に使用される成分
(A):成分(B):成分(C)の重量比は1:0.001〜1
0:0.001〜10が適当であり、好ましくは1:0.005〜5:0.00
5〜5であり、最も好ましくは1:0.01〜3:0.01〜3であ
る。なお成分(B)を(ii)の態様で使用する場合、成
分の色素:成分の硼素化合物の重量比は1:0.05〜10
0が適当であり、好ましくは1:0.1〜10、最も好ましくは
1:0.2〜5である。
The content concentration of these photoinitiator systems in the composition of the present invention is usually low. On the other hand, if the amount is inappropriately large, undesired results such as the blocking of effective rays will occur. The amount of the photopolymerization initiator system in the present invention is in the range of 0.01% to 60% with respect to the total of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the linear organic high molecular weight polymer added as required. It is preferred to use. More preferably, 1% to 30% gives good results. The weight ratio of component (A): component (B): component (C) used in the present invention is 1: 0.001 to 1
0: 0.001 to 10 is suitable, and preferably 1: 0.005 to 5: 0.00
It is 5 to 5, most preferably 1: 0.01 to 3: 0.01 to 3. When the component (B) is used in the form of (ii), the weight ratio of the component dye to the component boron compound is 1: 0.05-10.
0 is suitable, preferably 1: 0.1 to 10, most preferably
1: 0.2-5.

また、本発明の光重合性組成物では、必要により種々
の有機アミン化合物を併用することにより更に光重合開
始能を増大せしめることができる。これらの有機アミン
化合物としては、例えば、トリエタノールアミン、ジメ
チルアミン、ジエタノールアニリン、p−ジメチルアミ
ン安息香酸エチルエステル、ミヒラーズケトン等があげ
られる。有機アミン化合物の添加量は、全光重合開始剤
量の50%〜200%程度が好ましい。
Further, in the photopolymerizable composition of the present invention, the photopolymerization initiating ability can be further increased by using together various organic amine compounds, if necessary. Examples of these organic amine compounds include triethanolamine, dimethylamine, diethanolaniline, p-dimethylamine benzoic acid ethyl ester, Michler's ketone, and the like. The amount of the organic amine compound added is preferably about 50% to 200% of the total amount of the photopolymerization initiator.

更に本発明で用いる光重合開始剤に必要に応じてN−
フェニルグリシン、2−メルカプトベンゾチアゾール、
N,N−ジアルキル安息香酸アルキルエステル等の水素供
与性化合物を加えることによって更に光重合開始能力を
高めることができる。このような水素供与性化合物は、
本発明の光重合性組成物の総重量に対して1〜30%添加
することが好ましい。
Further, the photopolymerization initiator used in the present invention may contain N-
Phenylglycine, 2-mercaptobenzothiazole,
The photopolymerization initiation ability can be further enhanced by adding a hydrogen-donating compound such as an N, N-dialkylbenzoic acid alkyl ester. Such a hydrogen donating compound is
It is preferable to add 1 to 30% of the total weight of the photopolymerizable composition of the present invention.

本発明に使用することのできる「線状有機高分子重合
体」としては、当然光重合可能なエチレン性不飽和化合
物と相溶性を有している線状有機高分子重合体である限
り、どれを使用しても構わない。望ましくは水現像或は
弱アルカリ水現像を可能とする水あるいは弱アルカリ水
可溶性又は膨潤性である線状有機高分子重合体を選択す
べきである。線状有機高分子重合体は、該組成物の皮膜
形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或は有機溶
剤現像剤としての用途に応じて使用される。例えば、水
可溶性有機高分子重合体を用いると水現像が可能にな
る。この様な線状有機高分子重合体としては、側鎖にカ
ルボン酸を有する付加重合体、例えば特開昭59-44615
号、特公昭54-34327号、特公昭58-12577号、特公昭54-2
5957号、特開昭54-92723号、特開昭59-53836号、特開昭
59-71048号に記載されているもの、すなわち、メタクリ
ル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合
体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エ
ステル化マレイン酸共重合体等がある。また同様に側鎖
にカルボン酸を有する酸性セルロース誘導体がある。こ
の外に水酸基を有する付加重合体に環状酸無水物を付加
させたものなどが有用である。特にこれらの中で〔ベン
ジル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル酸/必要
に応じてその他の付加重合体ビニルモノマー〕共重合体
及び〔アリル(メタ)アクリレート/(メタ)アクリル
酸/必要に応じてその他の付加重合性ビニルモノマー〕
共重合体が好適である。この他に水溶性線状有機高分子
として、ポリビニルピロリドンやポリエチレンオキサイ
ド等が有用である。また硬化皮膜の強度をあげるために
アルコール可溶性ナイロンや2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−プロパンとエピクロロヒドリンのポリ
エーテル等も有用である。これらの線状有機高分子重合
体は全組成中に任意な量を混和させることができる。し
かし90重量%を越える場合は形成される画像強度等の点
で好ましい結果を与えない。好ましくは30〜85%であ
る。また光重合可能なエチレン性不飽和化合物と線状有
機高分子重合体は、重量比で1/9〜7/3の範囲とするのが
好ましい。より好ましい範囲は3/7〜5/5である。
As the "linear organic high molecular weight polymer" that can be used in the present invention, any linear organic high molecular weight polymer which is compatible with the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound can be used. May be used. Desirably, a linear organic high molecular polymer which is soluble or swellable in water or weak alkaline water, which enables water development or weak alkaline water development, should be selected. The linear organic high molecular polymer is used not only as a film-forming agent for the composition but also as a developer for water, weak alkaline water or an organic solvent. For example, when a water-soluble organic high molecular polymer is used, water development becomes possible. Examples of such a linear organic high molecular polymer include addition polymers having a carboxylic acid in the side chain, for example, JP-A-59-44615.
No. 54/34327/58/12577 / 54-2
5957, JP 54-92723, JP 59-53836, JP
59-71048, that is, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer There is coalescence etc. Similarly, there is an acidic cellulose derivative having a carboxylic acid in the side chain. In addition to these, a product obtained by adding a cyclic acid anhydride to an addition polymer having a hydroxyl group is useful. In particular, among these, [benzyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / another addition polymer vinyl monomer if necessary] copolymer and [allyl (meth) acrylate / (meth) acrylic acid / optionally And other addition-polymerizable vinyl monomers]
Copolymers are preferred. In addition, polyvinylpyrrolidone, polyethylene oxide, etc. are useful as the water-soluble linear organic polymer. In addition, alcohol-soluble nylon and polyether of 2,2-bis- (4-hydroxyphenyl) -propane and epichlorohydrin are also useful for increasing the strength of the cured film. These linear organic high molecular weight polymers can be mixed in arbitrary amounts in the entire composition. However, if it exceeds 90% by weight, favorable results are not obtained in terms of the strength of the formed image. It is preferably 30 to 85%. Further, the weight ratio of the photopolymerizable ethylenically unsaturated compound and the linear organic polymer is preferably in the range of 1/9 to 7/3. A more preferred range is 3/7 to 5/5.

また、本発明においては以上の基本成分の他に感光性
組成物の製造中あるいは保存中において重合可能なエチ
レン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少
量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱
重合防止剤としてはハイドロキノン、p−メトキシフェ
ノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロー
ル、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4′−チ
オビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,
2′−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェ
ノール)、2−メルカプトベンゾイミダゾール、N−ニ
トロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等があ
げられる。熱重合防止剤の添加量は、全組成物の重量に
対して約0.01%〜約5%が好ましい。また必要に応じ
て、酸素による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベ
ヘン酸アミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して感
光層の表面に浮かせてもよい。高級脂肪酸誘導体の添加
量は、全組成物の約0.5%〜約10%が好ましい。さら
に、感光層の着色を目的として染料もしくは顔料を添加
してもよい。染料および顔料の添加量は全組成物の約0.
5%〜約5%が好ましい。加えて、硬化皮膜の物性を改
良するために無機充填剤や、その他の公知の添加剤を加
えてもよい。
In the present invention, in addition to the above basic components, a small amount of a thermal polymerization inhibitor is added to prevent unnecessary thermal polymerization of the polymerizable ethylenically unsaturated compound during the production or storage of the photosensitive composition. It is desirable to do. Suitable thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4'-thiobis (3-methyl-6-t-butylphenol). ), 2,
2'-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like can be mentioned. The addition amount of the thermal polymerization inhibitor is preferably about 0.01% to about 5% based on the weight of the whole composition. Further, if necessary, a higher fatty acid derivative such as behenic acid or behenic acid amide may be added to the surface of the photosensitive layer to prevent polymerization inhibition by oxygen. The amount of the higher fatty acid derivative added is preferably about 0.5% to about 10% of the total composition. Further, a dye or a pigment may be added for the purpose of coloring the photosensitive layer. The amount of dye and pigment added is about 0.
5% to about 5% is preferred. In addition, inorganic fillers and other known additives may be added to improve the physical properties of the cured film.

本発明の光重合性組成物を支持体上に塗布する際には
種々の有機溶剤に溶かして使用に供される。ここで使用
する溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テ
トラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノ
メチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコール
モノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサ
ノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチル
エーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロ
ピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル
アセテート、3−メトキシプロパノール、メトキシメト
キシシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエ
ーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジ
エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリ
コールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメ
チルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、3−メトキシプロピルアセテ
ート、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキ
シド、γ−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルな
どがある。これらの溶媒は、単独あるいは混合して使用
することができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度
は、2〜50重量%が適当である。
When the photopolymerizable composition of the present invention is coated on a support, it is dissolved in various organic solvents before use. As the solvent used here, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, Acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 3-methoxypropanol, methoxymethoxysiethanol, diethylene glycol monomethyl ether Diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N, N-dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, ethyl lactate and so on. These solvents can be used alone or as a mixture. And, the concentration of the solid content in the coating solution is suitably 2 to 50% by weight.

その被覆量は乾燥後の重量で約0.1g/m2〜約10g/m2
範囲が適当である。より好ましくは0.5〜5g/m2である。
The coating amount is suitably ranges from about 0.1 g / m 2 ~ about 10 g / m 2 in weight after drying. More preferably, it is 0.5 to 5 g / m 2 .

上記支持体としては、寸度的に安定な板状物が用いら
れる。該寸度的に安定な板状物としては、紙、プラスチ
ック(例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチ
レンなど)がラミネートされた紙、また、例えばアルミ
ニウム(アルミニウム合金も含む。)、亜鉛、鋼などの
ような金属の板、さらに、例えば二酢酸セルロース、三
酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロ
ース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチ
レンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポ
リプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセター
ルなどのようなプラスチックのフィルム、上記の如き金
属がラミネートもしくは蒸着された紙もしくはプラスチ
ックフィルムなどがあげられる。これらの支持体のう
ち、アルミニウム板は寸度的に著しく安定であり、しか
も安価であるので特に好ましい。さらに、特公昭48-183
27号に記載されているようなポリエチレンテレフタレー
トフィルム上にアルミニウムシートが結合された複合体
シートも好ましい。
As the above support, a dimensionally stable plate-like material is used. Examples of the dimensionally stable plate-like material include paper, paper laminated with plastic (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), and aluminum (including aluminum alloys), zinc, steel, etc. Metal plates, further, plastic films such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. Examples include paper or plastic films laminated or vapor-deposited with the above metals. Among these supports, the aluminum plate is particularly preferable because it is dimensionally remarkably stable and inexpensive. In addition, Japanese Patent Publication Sho-48-183
Composite sheets in which an aluminum sheet is bonded onto a polyethylene terephthalate film as described in No. 27 are also preferred.

また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の
場合には、砂目立て処理、珪酸ソーダ、弗化ジルコニウ
ム酸カリウム、燐酸塩等の水溶液への浸漬処理、あるい
は陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好
ましい。
In the case of a support having a surface of a metal, particularly aluminum, a surface treatment such as graining, immersion in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluorozirconate, phosphate, or anodizing is performed. Is preferred.

さらに、砂目立てしたのちに珪酸ナトリウム水溶液に
浸漬処理されたアルミニウム板が好ましく使用できる。
特公昭47-5125号に記載されているようにアルミニウム
板を陽極酸化処理したのちに、アルカリ金属珪酸塩の水
溶液に浸漬処理したものが好適に使用される。上記陽極
酸化処理は、例えば、燐酸、クロム酸、硫酸、硼酸等の
無機酸、若しくは酸、スルファミン酸等の有機酸また
はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上
を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極として
電流を流すことにより実施される。
Further, an aluminum plate that is grained and then immersed in an aqueous solution of sodium silicate can be preferably used.
As described in JP-B-47-5125, an aluminum plate subjected to anodizing treatment and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is preferably used. The anodizing treatment is carried out, for example, with an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, boric acid, or an acid, an organic acid such as sulfamic acid, or an aqueous solution or a non-aqueous solution of these salts, or an electrolytic solution obtained by combining two or more kinds. It is carried out by passing an electric current through the aluminum plate as an anode.

また、米国特許第3,658,662号に記載されているよう
なシリケート電着も有効である。
Also, silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is effective.

更に、特公昭46-27481号、特開昭52-58602号、特開昭
52-30503号に開示されているような電解グレインを施し
た支持体と、上記陽極酸化処理および珪酸ソーダ処理を
組合せた表面処理も有用である。
Furthermore, Japanese Patent Publication No. 46-27481, Japanese Patent Publication No. 52-58602, Japanese Patent Publication No.
A surface treatment in which a support subjected to electrolytic graining as disclosed in No. 52-30503 and the above anodizing treatment and sodium silicate treatment are combined is also useful.

また、特開昭56-28893号に開示されているような機械
的粗面化、化学的エッチング、電解グレイン、陽極酸化
処理さらに珪酸ソーダ処理を順に行ったものも好適であ
る。
Further, those which are sequentially subjected to mechanical surface roughening, chemical etching, electrolytic graining, anodizing treatment and sodium silicate treatment as disclosed in JP-A-56-28893 are also preferable.

更に、これらの処理を行った後に、水溶性の樹脂、た
とえばポリビニルホスホン酸、スルホン酸基を側鎖に有
する重合体および共重合体、ポリアクリル酸、水溶性金
属塩(例えば硼酸亜鉛)もしくは、黄色染料、アミン塩
等を下塗りしたものも好適である。
Further, after these treatments, a water-soluble resin, for example, polyvinylphosphonic acid, a polymer or copolymer having a sulfonic acid group in the side chain, polyacrylic acid, a water-soluble metal salt (for example, zinc borate), or Those undercoated with a yellow dye, an amine salt or the like are also suitable.

これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする
ために施される以外に、その上に設けられる光重合性組
成物の有害な反応を防ぐため、かつ感光層の密着性の向
上等のために施されるものである。
These hydrophilization treatments are performed in order to make the surface of the support hydrophilic, prevent the harmful reaction of the photopolymerizable composition provided thereon, and improve the adhesion of the photosensitive layer. And so on.

支持体上に設けられた光重合性組成物の層の上には、
空気中の酸素による重合禁止作用を防止するため、例え
ばポリビニルアルコール特にケン化度99%以上のポリビ
ニルアルコール、酸性セルロース類などのような酸素遮
断性に優れたポリマーよりなる保護層を設けてもよい。
この様な保護層の塗布方法については、例えば米国特許
第3,458,311号、特公昭55-49729号に詳しく記載されて
いる。
On the layer of the photopolymerizable composition provided on the support,
In order to prevent the polymerization inhibiting action due to oxygen in the air, a protective layer made of a polymer having excellent oxygen barrier properties such as polyvinyl alcohol, particularly polyvinyl alcohol having a saponification degree of 99% or more, and acidic celluloses may be provided. .
The method of coating such a protective layer is described in detail, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and JP-B-55-49729.

また本発明の光重合性組成物は通常の光重合反応に使
用できる。さらに、印刷版、プリント基板等作成の際の
フオトレジスト等多方面に適用することが可能である。
特に本発明の光重合性組成物の特徴である高感度性と可
視光領域までの幅広い分光感度特性により、Ar+レーザ
ー等の可視光レーザー用の感光材料に適用すると良好な
効果が得られる。
Further, the photopolymerizable composition of the present invention can be used for a usual photopolymerization reaction. Further, it can be applied to various fields such as a photoresist when producing a printing plate, a printed circuit board and the like.
Particularly, due to the high sensitivity and the wide spectral sensitivity characteristic up to the visible light region, which are characteristics of the photopolymerizable composition of the present invention, a good effect can be obtained when applied to a photosensitive material for a visible light laser such as an Ar + laser.

本発明の光重合性組成物を用いた感光材料は画像露光
し、現像液で感光層の未露光部を除去し、画像を得る。
これらの光重合性組成物を平版印刷版としう使用する際
の好ましい現像液としては、特公昭57-7427号に記載さ
れているような現像液があげられ、ケイ酸ナトリウム、
ケイ酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、
水酸化リチウム、第三リン酸ナトリウムン第二リン酸ナ
トリウム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモ
ニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸ナトリウム、ア
ンモニア水などのような無機アルカリ剤やモノエタノー
ルアミン又はジエタノールアミンなどのような有機アル
カリ剤の水溶液が適当である。該アルカリ溶液の濃度が
0.1〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%になるように
添加される。
The photosensitive material using the photopolymerizable composition of the present invention is imagewise exposed, and the unexposed portion of the photosensitive layer is removed with a developer to obtain an image.
Preferred developers for using these photopolymerizable compositions as lithographic printing plates include developers as described in JP-B-57-7427, sodium silicate,
Potassium silicate, sodium hydroxide, potassium hydroxide,
Inorganic alkaline agents such as lithium hydroxide, tribasic sodium phosphate, dibasic sodium phosphate, tribasic ammonium phosphate, dibasic ammonium phosphate, sodium metasilicate, sodium bicarbonate, aqueous ammonia, monoethanolamine or Aqueous solutions of organic alkaline agents such as diethanolamine are suitable. The concentration of the alkaline solution is
It is added in an amount of 0.1 to 10% by weight, preferably 0.5 to 5% by weight.

また、該アルカリ性水溶液には、必要に応じ海面活性
剤やベンジルアルコール、2−フェノキシエタノール、
2−ブトキシエタノールのような有機溶媒を少量含むこ
とができる。例えば、米国特許第3,375,171号および同
第3,615,480号に記載されているものを挙げることがで
きる。
Further, the alkaline aqueous solution, if necessary, a surfactant, benzyl alcohol, 2-phenoxyethanol,
A small amount of organic solvent such as 2-butoxyethanol may be included. For example, mention may be made of those described in U.S. Pat. Nos. 3,375,171 and 3,615,480.

更に、特開昭50−26601号、同58-54341号、特公昭56-
39464号、同56-42860号の各公報に記載されている現像
液も優れている。
Furthermore, JP-A-50-26601, JP-A-58-54341 and JP-B-56-
The developing solutions described in Japanese Patent Nos. 39464 and 56-42860 are also excellent.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

本発明の光重合性組成物は紫外光から可視光の幅広い
領域の活性光線に対して高感度を有する。従って光源と
しては超高圧、高圧、中圧、低圧の各水銀灯、ケミカル
ランプ、カーボンアーク灯、キセノン灯、メタルハライ
ド灯、可視及び紫外の各種レーザーランプ、蛍光灯、タ
ングステン灯、及び太陽光等が使用できる。
The photopolymerizable composition of the present invention has high sensitivity to actinic rays in a wide range from ultraviolet light to visible light. Therefore, ultra-high pressure, high pressure, medium pressure, low pressure mercury lamps, chemical lamps, carbon arc lamps, xenon lamps, metal halide lamps, various visible and ultraviolet laser lamps, fluorescent lamps, tungsten lamps, and sunlight are used as light sources. it can.

〔実施例〕〔Example〕

以下実施例をもって本発明を説明するが、本発明はこ
れらの実施例に限定されるものではない。実施例1〜
9、比較例1〜5 厚さ0.30mmのアルミニウム板をナイロンブラシと400
メッシュのパミストンの水懸濁液とを用いその表面を砂
目立てした後、よく水で洗浄した。10%水酸化ナトリウ
ムに70℃で60秒間浸漬してエッチングした後、流水で水
洗後20%硝酸で中和洗浄し、次いで水洗した。これをVA
=12.7Vの条件下で正弦波の交番波形電流を用いて1%
硝酸水溶液中で160クーロン/dm2の陽極時電気量で電解
粗面化処理を行った。その表面粗さを測定したところ、
0.6μ(Ra表示)であった。引き続いて30%の硫酸水溶
液中に浸漬し55℃で2分間デスマットした後、20%硫酸
水溶液中、電流密度2A/dm2において陽極酸化皮膜の厚さ
が2.7g/m2になるように2分間陽極酸化処理した。
Hereinafter, the present invention will be described with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples. Example 1
9, Comparative Examples 1 to 5 An aluminum plate with a thickness of 0.30 mm and a nylon brush and 400
The surface was grained using an aqueous suspension of mesh pumice and then thoroughly washed with water. It was immersed in 10% sodium hydroxide at 70 ° C. for 60 seconds for etching, washed with running water, neutralized with 20% nitric acid, and then washed with water. This is V A
= 12.7% using a sinusoidal alternating current under the condition of 12.7V
The electrolytic surface roughening treatment was performed in an aqueous nitric acid solution at an electric quantity of 160 Coulomb / dm 2 at the time of the anode. When the surface roughness was measured,
It was 0.6 μ (Ra display). After desmutting 2 minutes immersed 55 ° C. in a 30% aqueous solution of sulfuric acid successively, aqueous 20% sulfuric acid, so that the thickness of the anodized film in a current density of 2A / dm 2 is 2.7 g / m 2 2 It was anodized for a minute.

このように処理されたアルミニウム板上に、下記組成
の感光性組成物を乾燥塗布重量が1.4g/m2となるように
塗布し、80℃2分間乾燥させ感光層を形成させた。
On the thus treated aluminum plate, a photosensitive composition having the following composition was applied so as to have a dry coating weight of 1.4 g / m 2, and dried at 80 ° C. for 2 minutes to form a photosensitive layer.

トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロ
ピル)エーテル 2.0g アリルメタアクリレート/メタクリル酸共重合体(共重
合モル比80/20) 2.0g 光重合開始剤 Xg フッ素系ノニオン界面活性剤 0.03g メチルエチルケトン 20g プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート20
g この感光層上にポリビニルアルコール(ケン化度86.5
〜89モル%、重合度1000)の3重量%の水溶液を乾燥塗
布重量が2g/m2となるように塗布し、100℃/2分間乾燥さ
せた。
Trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether 2.0g Allyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (copolymerization molar ratio 80/20) 2.0g Photoinitiator Xg Fluorine nonionic surfactant 0.03g Methyl ethyl ketone 20g Propylene glycol monomethyl Ether acetate 20
g Polyvinyl alcohol (saponification degree 86.5
A 3% by weight aqueous solution of 8989 mol% and a degree of polymerization of 1000) was applied so as to have a dry application weight of 2 g / m 2 and dried at 100 ° C. for 2 minutes.

感光性試験は、可視光、及びAr+レーザー光(波長=4
88nm)の各単色光を用いた。可視光はタングステンラン
プを光源としケンコー光学フィルター(Kenko optical
filter)BP-49を通して得た。感光測定には富士PSステ
ップガイド(富士写真フィルム株式会社製、初段の透過
光学濃度が0.05で順次0.15増えていき15段まであるステ
ップタブレット)を使用して行った。
The photosensitivity test was performed using visible light and Ar + laser light (wavelength = 4
(88 nm). Visible light uses a tungsten lamp as a light source and a Kenko optical filter.
filter) BP-49. The photosensitivity was measured using a Fuji PS step guide (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., a step tablet having a transmission optical density of 0.05 at the first stage and increasing sequentially by 0.15 to 15 stages).

実施例10〜15 感光層の上に、上記保護層の代りに、ケン化度99.3〜
99.9%、重合度1000のポリビニルアルコールを用い、さ
らにこのポリビニルアルコール100重量部に対して1.4重
量部のフッ素系界面活性剤W1104(旭硝子(株)製)を
用いた以外は、実施例1、8、9と同様にして得られた
感光性平版印刷版を同実施例と同様にして感光測定を行
なった。結果を表2に示す。
Examples 10 to 15 On the photosensitive layer, instead of the above protective layer, a saponification degree of 99.3 to
Examples 1 and 8 except that 99.9% of polyvinyl alcohol having a polymerization degree of 1000 was used, and 1.4 parts by weight of a fluorosurfactant W1104 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) was used with respect to 100 parts by weight of this polyvinyl alcohol. The photosensitive lithographic printing plate obtained in the same manner as in No. 9 and No. 9 was subjected to photosensitivity measurement in the same manner as in the Example. Table 2 shows the results.

フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭62−150242(JP,A) 特開 昭62−143044(JP,A) 特開 昭63−32540(JP,A) 特開 昭59−211036(JP,A) 特開 昭62−10642(JP,A) 特公 昭52−14277(JP,B2)Continuation of the front page (56) Reference JP 62-150242 (JP, A) JP 62-143044 (JP, A) JP 63-32540 (JP, A) JP 59-211036 (JP , A) JP 62-10642 (JP, A) JP 52-14277 (JP, B2)

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】活性光線により光重合が可能な少なくとも
1個のエチレン性不飽和結合を有する重合可能な化合物
と、光重合開始剤と、必要に応じて線状有機高分子重合
体とを含む光重合性組成物において、前記光重合開始剤
が、下記A群、B群およびC群からそれぞれ選ばれた少
なくとも3種の化合物を含むことを特徴とする光重合性
組成物。 (A) (i)少なくとも一種の有機カチオン性色素の有機ホウ
素化合物アニオン塩又は (ii)少なくとも一種の有機カチオン性色素と有機ホウ
素化合物アニオン塩の組み合わせ (B) (i)炭素−ハロゲン結合を有する化合物 (ii)芳香族オニウム塩又は芳香族ハロニウム塩 (iii)有機過酸化物 のうち少なくとも1種 (C)一般式 (ただし、式中、Arは下記の一般式の一つから選ばれた
芳香族基を表し、R1、R2は水素原子又はアルキル基を表
し、又、R1とR2は互いに結合してアルキレン基を表して
もよい。) (ただし式中、R3〜R7は互いに独立して水素原子、ハロ
ゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、置
換アリール基、水酸基、アルコキシ基、置換アルコキシ
基、-S-R9基、-SO-R9基又は-SO2R9基を表すが、但しR3
〜R7基の少なくとも一つは-S-R9基、-SO-R9基又は-SO2R
9基を表し、R9はアルキル基、アルケニル基、R8は水素
原子、アルキル基又はアシル基を表す。Y1は水素原子又
を表す。)
1. A polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond capable of being photopolymerized by actinic rays, a photopolymerization initiator, and optionally a linear organic polymer. In the photopolymerizable composition, the photopolymerization initiator contains at least three compounds selected from the following groups A, B and C, respectively. (A) (i) an organic boron compound anion salt of at least one organic cationic dye or (ii) a combination of at least one organic cationic dye and an organic boron compound anion salt (B) (i) having a carbon-halogen bond Compound (ii) At least one kind of aromatic onium salt or aromatic halonium salt (iii) Organic peroxide (C) General formula (In the formula, Ar represents an aromatic group selected from one of the following general formulas, R 1 and R 2 represent a hydrogen atom or an alkyl group, and R 1 and R 2 are bonded to each other. May represent an alkylene group.) (In the formula, R 3 to R 7 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkenyl group, an aryl group, a substituted aryl group, a hydroxyl group, an alkoxy group, a substituted alkoxy group, a —SR 9 group, a —SO group. Represents -R 9 group or -SO 2 R 9 group, provided that R 3
To at least one of R 7 groups are -SR 9 groups, -SO-R 9 groups, or -SO 2 R
Represents 9 group, R 9 represents an alkyl group, an alkenyl group, R 8 is a hydrogen atom, an alkyl group or an acyl group. Y 1 is a hydrogen atom or Represents )
JP63129647A 1988-05-27 1988-05-27 Photopolymerizable composition Expired - Fee Related JP2547613B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63129647A JP2547613B2 (en) 1988-05-27 1988-05-27 Photopolymerizable composition

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63129647A JP2547613B2 (en) 1988-05-27 1988-05-27 Photopolymerizable composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01298348A JPH01298348A (en) 1989-12-01
JP2547613B2 true JP2547613B2 (en) 1996-10-23

Family

ID=15014690

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63129647A Expired - Fee Related JP2547613B2 (en) 1988-05-27 1988-05-27 Photopolymerizable composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2547613B2 (en)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2639748B2 (en) * 1990-10-31 1997-08-13 富士写真フイルム株式会社 Photosensitive element and method for producing the same
JP2764769B2 (en) * 1991-06-24 1998-06-11 富士写真フイルム株式会社 Photopolymerizable composition
JPH08101498A (en) 1994-08-03 1996-04-16 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive planographic printing plate
US6033829A (en) * 1997-06-30 2000-03-07 Showa Denko K.K. Photopolymerizable composition and dry film resist
JPWO2005064402A1 (en) * 2003-12-25 2007-07-19 コダックポリクロームグラフィックス株式会社 Negative photosensitive composition and negative photosensitive lithographic printing plate
JP2006065074A (en) 2004-08-27 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd Photosensitive lithographic printing plate
JP5089866B2 (en) 2004-09-10 2012-12-05 富士フイルム株式会社 Planographic printing method
JP4701042B2 (en) 2005-08-22 2011-06-15 富士フイルム株式会社 Photosensitive planographic printing plate
JP4890408B2 (en) 2007-09-28 2012-03-07 富士フイルム株式会社 Polymerizable composition, lithographic printing plate precursor using the same, alkali-soluble polyurethane resin, and method for producing diol compound
JP5264427B2 (en) 2008-03-25 2013-08-14 富士フイルム株式会社 Preparation method of lithographic printing plate
JP5228631B2 (en) 2008-05-29 2013-07-03 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate developing treatment solution and method for preparing a lithographic printing plate
JP5248203B2 (en) 2008-05-29 2013-07-31 富士フイルム株式会社 Lithographic printing plate developing treatment solution and method for preparing a lithographic printing plate
WO2010021364A1 (en) 2008-08-22 2010-02-25 富士フイルム株式会社 Process for producing lithographic printing plate
JP5405141B2 (en) 2008-08-22 2014-02-05 富士フイルム株式会社 Preparation method of lithographic printing plate
JP5171483B2 (en) 2008-08-29 2013-03-27 富士フイルム株式会社 Preparation method of lithographic printing plate
CN103782241B (en) 2011-09-15 2017-04-26 富士胶片株式会社 Method for recycling wastewater produced by plate-making process
WO2013065853A1 (en) 2011-11-04 2013-05-10 富士フイルム株式会社 Method for recycling plate-making processing waste solution

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5214277A (en) * 1975-07-25 1977-02-03 Nippon Steel Corp Panel positioning apparatus
JPS59211036A (en) * 1983-05-16 1984-11-29 Sekisui Chem Co Ltd Photopolymerizable image forming composition
JPS6210642A (en) * 1985-07-09 1987-01-19 Sony Corp Photosensitive resin composition
CA1284740C (en) * 1985-11-20 1991-06-11 Peter Gottschalk Photosensitive materials containing ionic dye compounds as initiators
US4772541A (en) * 1985-11-20 1988-09-20 The Mead Corporation Photohardenable compositions containing a dye borate complex and photosensitive materials employing the same
JPH0769606B2 (en) * 1986-07-25 1995-07-31 富士写真フイルム株式会社 Photopolymerizable composition
JPH089643B2 (en) * 1987-07-06 1996-01-31 富士写真フイルム株式会社 Photopolymerizable composition

Also Published As

Publication number Publication date
JPH01298348A (en) 1989-12-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2764769B2 (en) Photopolymerizable composition
US5168032A (en) Photopolymerizable composition initiated by a combination of boron compound, dye, and heterocyclic compound
US4950581A (en) Photopolymerizable composition
US4937161A (en) Photopolymerizable composition
JP2571113B2 (en) Photopolymerizable composition
EP0563925B1 (en) Photopolymerizable composition
JP3651713B2 (en) Photopolymerizable composition
JP2547613B2 (en) Photopolymerizable composition
JPH0699497B2 (en) Photopolymerizable composition
US4810618A (en) Photopolymerizable composition
JPH08334897A (en) Photopolymerizable composition
US4971891A (en) Photopolymerizable compositions containing organoboron compounds and pyrylium or thiopyrylium dyes
JPH089643B2 (en) Photopolymerizable composition
JPH0854735A (en) Photopolymerizable composition
JPH08305019A (en) Photopolymerizable composition
US5250385A (en) Photopolymerizable composition
US5346805A (en) Photopolymerizable composition
JPH08272096A (en) Photopolymerizable composition
JP3672137B2 (en) Photopolymerizable composition
JPS63168403A (en) Photopolymerizable composition
JP3611150B2 (en) Photopolymerizable composition
JPH08262715A (en) Photopoylymerizable composition
JPH05107758A (en) Photopolymerizable composition
JPH0725921A (en) Photopolymerizable composition
JPH06266102A (en) Photopolymerizable composition

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees