JPH0672082A - 高耐久性磁気カード - Google Patents
高耐久性磁気カードInfo
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- JPH0672082A JPH0672082A JP4252123A JP25212392A JPH0672082A JP H0672082 A JPH0672082 A JP H0672082A JP 4252123 A JP4252123 A JP 4252123A JP 25212392 A JP25212392 A JP 25212392A JP H0672082 A JPH0672082 A JP H0672082A
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- B42D25/30—Identification or security features, e.g. for preventing forgery
- B42D25/328—Diffraction gratings; Holograms
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 磁気記録層上にセラミック薄膜層を設け耐久
性を向上させた、高耐久性磁気カードを提供することを
目的とする。 【構成】 カード基体２の磁気記録層３側に、該カード
基体２の全面、或いは一部に磁気記録層３を隠蔽するセ
ラミック層５を形成してなる構成である。
性を向上させた、高耐久性磁気カードを提供することを
目的とする。 【構成】 カード基体２の磁気記録層３側に、該カード
基体２の全面、或いは一部に磁気記録層３を隠蔽するセ
ラミック層５を形成してなる構成である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、転写形成してなるセラ
ミック薄膜層により磁気記録層が隠蔽された高耐久性磁
気カードに関するものである。
ミック薄膜層により磁気記録層が隠蔽された高耐久性磁
気カードに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、表面に磁気記録層を有するカード
において、磁気記録層の色が黒或いは茶色等のため、見
栄えが悪く、意匠性にも優れたものとは言いがたかっ
た。そのために、隠蔽層を設けて磁気記録層を見えなく
した、所謂隠蔽カードと呼ばれるカードが一般に用いら
れている。この隠蔽層は主に印刷手法により、着色イン
キ又はアルミニウム等の金属粉を含むインキを用いて形
成されている。
において、磁気記録層の色が黒或いは茶色等のため、見
栄えが悪く、意匠性にも優れたものとは言いがたかっ
た。そのために、隠蔽層を設けて磁気記録層を見えなく
した、所謂隠蔽カードと呼ばれるカードが一般に用いら
れている。この隠蔽層は主に印刷手法により、着色イン
キ又はアルミニウム等の金属粉を含むインキを用いて形
成されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、インキ
により印刷形成した隠蔽層は、インキ表面の磨耗、傷付
き等の耐久性が劣り、通常は着色料なしのＯＰニスで最
表面を覆ったり、紫外線硬化型樹脂を用いて保護層を形
成する等して表面の耐久性を向上させていた（特開平３
−２７０９９１号公報）。しかし、このような方法によ
っても耐久性が不足する場合が多い。また、印刷した層
を厚くすることによって耐久性を向上させることも可能
ではあるが、磁気記録層上に設けた層の厚みが増すと、
磁気記録情報の読み取りに支障が生じるという問題があ
った。
により印刷形成した隠蔽層は、インキ表面の磨耗、傷付
き等の耐久性が劣り、通常は着色料なしのＯＰニスで最
表面を覆ったり、紫外線硬化型樹脂を用いて保護層を形
成する等して表面の耐久性を向上させていた（特開平３
−２７０９９１号公報）。しかし、このような方法によ
っても耐久性が不足する場合が多い。また、印刷した層
を厚くすることによって耐久性を向上させることも可能
ではあるが、磁気記録層上に設けた層の厚みが増すと、
磁気記録情報の読み取りに支障が生じるという問題があ
った。
【０００４】本発明は上記の欠点を解決するためになさ
れたものであって、磁気記録層上にセラミック薄膜層を
設け耐久性を向上させた、高耐久性磁気カードを提供す
ることを目的とする。
れたものであって、磁気記録層上にセラミック薄膜層を
設け耐久性を向上させた、高耐久性磁気カードを提供す
ることを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明高耐久性磁気カー
ドは、磁気記録層が表面の少なくとも一部に設けられた
磁気カードにおいて、該磁気記録層上の少なくとも一部
にセラミック薄膜層を有する被覆層を設けてなることを
特徴とする。また、本発明高耐久性磁気カードは、被覆
層にセラミック薄膜層の他に装飾層及び／又はホログラ
ム層を設けることができる。尚、磁気記録層の上に積層
形成された被覆層の厚みは１０μ以下であるのが好まし
い。
ドは、磁気記録層が表面の少なくとも一部に設けられた
磁気カードにおいて、該磁気記録層上の少なくとも一部
にセラミック薄膜層を有する被覆層を設けてなることを
特徴とする。また、本発明高耐久性磁気カードは、被覆
層にセラミック薄膜層の他に装飾層及び／又はホログラ
ム層を設けることができる。尚、磁気記録層の上に積層
形成された被覆層の厚みは１０μ以下であるのが好まし
い。
【０００６】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づき説明
する。図１は本発明高耐久性磁気カードを示す断面図で
あり、図中１は高耐久性磁気カードを表す。
する。図１は本発明高耐久性磁気カードを示す断面図で
あり、図中１は高耐久性磁気カードを表す。
【０００７】本発明高耐久性磁気カード１は、磁気記録
層３が設けられたカード基体２の該磁気記録層３側に、
少なくともセラミック薄膜層５を含む被覆層７が設けら
れている。上記セラミック薄膜層５は、磁気記録層３の
上に重ねてカード基体２の全面、或いは一部に接着剤層
４を介して形成されており、該磁気記録層３を隠蔽して
いる。
層３が設けられたカード基体２の該磁気記録層３側に、
少なくともセラミック薄膜層５を含む被覆層７が設けら
れている。上記セラミック薄膜層５は、磁気記録層３の
上に重ねてカード基体２の全面、或いは一部に接着剤層
４を介して形成されており、該磁気記録層３を隠蔽して
いる。
【０００８】カード基体２としては、熱可塑性樹脂より
なるシート、合成紙シート或いは紙等が用いられる。基
体２を構成する熱可塑性樹脂としては、例えばポリ塩化
ビニル、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリカーボネ
ート等が挙げられる。基体２は一層構成のものに限ら
ず、２層以上の積層構成とすることもでき、製造工程上
の手法や製造効率に応じて適宜数の層構成とすることが
できる。基材２を複数層の積層構成とする場合、各層は
熱圧着により積層したり、必要により接着剤を介して積
層することができる。尚、基体２の全体としての厚み
は、カードの規格上、0.７mm程度である。
なるシート、合成紙シート或いは紙等が用いられる。基
体２を構成する熱可塑性樹脂としては、例えばポリ塩化
ビニル、ポリオレフィン、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリスチレン、ポリメタクリレート、ポリカーボネ
ート等が挙げられる。基体２は一層構成のものに限ら
ず、２層以上の積層構成とすることもでき、製造工程上
の手法や製造効率に応じて適宜数の層構成とすることが
できる。基材２を複数層の積層構成とする場合、各層は
熱圧着により積層したり、必要により接着剤を介して積
層することができる。尚、基体２の全体としての厚み
は、カードの規格上、0.７mm程度である。
【０００９】磁気記録層３は、公知の転写法やコーティ
ング法によって形成することができ、厚み１０〜２０μ
程度に形成することが好ましい。通常、該磁気記録層３
は基体２の表面の一部にストライプ状に設けられている
が、基体２表面の全面に磁気記録層３設けることもでき
る。磁気記録層３を構成するための磁気組成物として
は、磁性粉を樹脂バインダー中に分散させた公知の磁気
組成物を用いることができる。
ング法によって形成することができ、厚み１０〜２０μ
程度に形成することが好ましい。通常、該磁気記録層３
は基体２の表面の一部にストライプ状に設けられている
が、基体２表面の全面に磁気記録層３設けることもでき
る。磁気記録層３を構成するための磁気組成物として
は、磁性粉を樹脂バインダー中に分散させた公知の磁気
組成物を用いることができる。
【００１０】セラミック薄膜層５を含む被覆層７をカー
ド基体２の磁気記録層３に重ねて形成するためには、例
えば転写法を採用することができる。転写法により磁気
記録層３がセラミック薄膜層５で隠蔽された本発明磁気
カード１を得るには、セラミック薄膜層５が設けられた
転写箔１４を予め作成しておく。該転写箔１４は、例え
ば図２に示すようにベースフィルム８上に剥離層６、セ
ラミック薄膜層５及び接着剤層４を順次積層してなる転
写層９を形成したものである。
ド基体２の磁気記録層３に重ねて形成するためには、例
えば転写法を採用することができる。転写法により磁気
記録層３がセラミック薄膜層５で隠蔽された本発明磁気
カード１を得るには、セラミック薄膜層５が設けられた
転写箔１４を予め作成しておく。該転写箔１４は、例え
ば図２に示すようにベースフィルム８上に剥離層６、セ
ラミック薄膜層５及び接着剤層４を順次積層してなる転
写層９を形成したものである。
【００１１】ベースフィルム８の材質としては転写層９
との離型性を有するものであれば良く、例えばポリエチ
レンテレフタレートが寸法安定性、耐熱性、強靱性等か
ら最も好ましいが、これ以外にポリ塩化ビニル、ポリプ
ロピレン、ポリエチレン、ポリカーボネート、セロファ
ン、ビニロン、アセテート、ナイロン、ポリビニルアル
コール、ポリアミド、ポリアミドイミド等の合成樹脂及
びコンデンサーペーパー等の紙が挙げられる。尚、ベー
スフィルム８の厚さは６μ〜２５μ程度のものが好まし
い。
との離型性を有するものであれば良く、例えばポリエチ
レンテレフタレートが寸法安定性、耐熱性、強靱性等か
ら最も好ましいが、これ以外にポリ塩化ビニル、ポリプ
ロピレン、ポリエチレン、ポリカーボネート、セロファ
ン、ビニロン、アセテート、ナイロン、ポリビニルアル
コール、ポリアミド、ポリアミドイミド等の合成樹脂及
びコンデンサーペーパー等の紙が挙げられる。尚、ベー
スフィルム８の厚さは６μ〜２５μ程度のものが好まし
い。
【００１２】剥離層６は転写箔１４から転写層９をカー
ド基体２に転写した後に被転写体の最表面側に位置する
層であり、剥離性、箔切れ性を向上させる目的で設けら
れ、ベースフィルム８の材質に応じて既知の各種材料が
利用できる。剥離層６の材質としては、例えばポリメタ
クリル酸エステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロー
ス樹脂、シリコーン樹脂、炭化水素を主体とするワック
ス類、ポリエチレン樹脂、塩化ゴム、カゼイン、各種界
面活性剤、金属酸化物等から１種或いは２種以上を混合
したものが用いられ、ベースフィルム８との組み合わせ
によって、その剥離力が１ｇ／ｉｎｃｈ〜５ｇ／ｉｎｃ
ｈ（９０度剥離）になるようにすることが可能である。
剥離層６は、インキ化塗布法等の公知の方法により、ベ
ースフィルム８上に薄膜形成させ、その厚みは剥離力、
箔切れ等を考慮すると０．１μ〜１．０μの範囲が好ま
しい。
ド基体２に転写した後に被転写体の最表面側に位置する
層であり、剥離性、箔切れ性を向上させる目的で設けら
れ、ベースフィルム８の材質に応じて既知の各種材料が
利用できる。剥離層６の材質としては、例えばポリメタ
クリル酸エステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、セルロー
ス樹脂、シリコーン樹脂、炭化水素を主体とするワック
ス類、ポリエチレン樹脂、塩化ゴム、カゼイン、各種界
面活性剤、金属酸化物等から１種或いは２種以上を混合
したものが用いられ、ベースフィルム８との組み合わせ
によって、その剥離力が１ｇ／ｉｎｃｈ〜５ｇ／ｉｎｃ
ｈ（９０度剥離）になるようにすることが可能である。
剥離層６は、インキ化塗布法等の公知の方法により、ベ
ースフィルム８上に薄膜形成させ、その厚みは剥離力、
箔切れ等を考慮すると０．１μ〜１．０μの範囲が好ま
しい。
【００１３】剥離層６の上に重ねてセラミック薄膜層５
を設ける手段としては真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング又は反応性蒸着等の真空成膜法が挙げ
られる。また、セラミック薄膜層７を形成する材質とし
ては、Ｓｂ2 Ｓ3 、ＳｉＯ、Ｆｅ2 Ｏ3 、ＩｎＯ3 、Ｔ
ｉＯ、Ｓｉ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、ＭｇＯ、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｚ
ｎＳ、ＺｎＯ、ＳｉＯ2 、Ｓｂ2 Ｏ3 、ＳｉＯ3 等が挙
げられ、これらは単独で用いる他に、それぞれを２種類
以上組み合わせて用いることもできる。このようにして
設けられたセラミック薄膜層５の厚みは、１００Å〜５
０００Åであるのが好ましく、より好ましくは５００Å
〜１０００Åである。
を設ける手段としては真空蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング又は反応性蒸着等の真空成膜法が挙げ
られる。また、セラミック薄膜層７を形成する材質とし
ては、Ｓｂ2 Ｓ3 、ＳｉＯ、Ｆｅ2 Ｏ3 、ＩｎＯ3 、Ｔ
ｉＯ、Ｓｉ2 Ｏ3 、ＴｉＯ2 、ＭｇＯ、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｚ
ｎＳ、ＺｎＯ、ＳｉＯ2 、Ｓｂ2 Ｏ3 、ＳｉＯ3 等が挙
げられ、これらは単独で用いる他に、それぞれを２種類
以上組み合わせて用いることもできる。このようにして
設けられたセラミック薄膜層５の厚みは、１００Å〜５
０００Åであるのが好ましく、より好ましくは５００Å
〜１０００Åである。
【００１４】接着剤層４は、上記セラミック薄膜層５の
上に重ねてヒートシール剤を塗布することにより設けら
れている。該接着剤層４を形成するヒートシール剤とし
てはアクリル系、塩化ビニル系、酢酸ビニル系等のヒー
トシール剤が挙げられる。これらのヒートシール剤のセ
ラミック薄膜層５に対する接着性が悪い場合には、セラ
ミック薄膜層５表面にプライマーを塗布する等して前処
理を行う。プライマーとしては、カップリング剤、キレ
ート剤、イソシアナート等が挙げられる。
上に重ねてヒートシール剤を塗布することにより設けら
れている。該接着剤層４を形成するヒートシール剤とし
てはアクリル系、塩化ビニル系、酢酸ビニル系等のヒー
トシール剤が挙げられる。これらのヒートシール剤のセ
ラミック薄膜層５に対する接着性が悪い場合には、セラ
ミック薄膜層５表面にプライマーを塗布する等して前処
理を行う。プライマーとしては、カップリング剤、キレ
ート剤、イソシアナート等が挙げられる。
【００１５】このようにして得られた転写箔１４の接着
剤層４側と、カード基体２の磁気記録層３側とが向かい
合うように、転写箔１４とカード基体２とを重ね合わせ
て加熱加圧した後ベースフィルム８を剥離すると、セラ
ミック薄膜層５を有する転写層９がカード基体２に転写
形成される。これにより、カード基体２上に磁気記録層
３を隠蔽するセラミック薄膜層５が薄膜状に形成され
る。尚、カード基体２に転写層９を転写形成する前に、
図３に示すように該カード基体２の磁気記録層５上に重
ねて、公知の着色インキ或いはアルミニウム等の金属粉
を含むインキ等によりインキ層１２を設けたり、絵柄印
刷１３を施しても良い。
剤層４側と、カード基体２の磁気記録層３側とが向かい
合うように、転写箔１４とカード基体２とを重ね合わせ
て加熱加圧した後ベースフィルム８を剥離すると、セラ
ミック薄膜層５を有する転写層９がカード基体２に転写
形成される。これにより、カード基体２上に磁気記録層
３を隠蔽するセラミック薄膜層５が薄膜状に形成され
る。尚、カード基体２に転写層９を転写形成する前に、
図３に示すように該カード基体２の磁気記録層５上に重
ねて、公知の着色インキ或いはアルミニウム等の金属粉
を含むインキ等によりインキ層１２を設けたり、絵柄印
刷１３を施しても良い。
【００１６】また、上記転写箔１４の転写層９に設けら
れたセラミック薄膜層５及び剥離層６の間に装飾層１０
及び／又はホログラム層１１を設けても良い。このよう
な転写箔１４を用いると、図３に示すようなセラミック
薄膜層５上に装飾層１０及び／又はホログラム層１１が
積層形成された磁気カード１を得ることができる。
れたセラミック薄膜層５及び剥離層６の間に装飾層１０
及び／又はホログラム層１１を設けても良い。このよう
な転写箔１４を用いると、図３に示すようなセラミック
薄膜層５上に装飾層１０及び／又はホログラム層１１が
積層形成された磁気カード１を得ることができる。
【００１７】装飾層１０はカード１の装飾性を向上する
ために設けられるものであり、通常のインキにより模
様、絵柄、図柄等を施した模様印刷層、或いは着色イン
キによるベタ印刷が施された着色層等の各層単独或いは
これらの層の２層以上からなる。
ために設けられるものであり、通常のインキにより模
様、絵柄、図柄等を施した模様印刷層、或いは着色イン
キによるベタ印刷が施された着色層等の各層単独或いは
これらの層の２層以上からなる。
【００１８】ホログラム層１１はホログラム効果を発現
するものであれば良く、例えば反射型レリーフホログラ
ム、回折格子等が挙げられ、該ホログラム層１１は熱可
塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等の各
種樹脂材料を用いて形成することができる。この場合、
セラミック薄膜層５が反射層を兼ねることになる。本発
明高耐久性磁気カード１の磁気記録層３上に積層形成さ
れた被覆層７の厚みは１０μ以下が好ましく、より好ま
しくは０．５μ〜５μの範囲である。尚、装飾層１０、
ホログラム層１１、インキ層１２、絵柄印刷１３等を設
ければ、被覆層７の厚みは１０μ以上になりうる。
するものであれば良く、例えば反射型レリーフホログラ
ム、回折格子等が挙げられ、該ホログラム層１１は熱可
塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂等の各
種樹脂材料を用いて形成することができる。この場合、
セラミック薄膜層５が反射層を兼ねることになる。本発
明高耐久性磁気カード１の磁気記録層３上に積層形成さ
れた被覆層７の厚みは１０μ以下が好ましく、より好ま
しくは０．５μ〜５μの範囲である。尚、装飾層１０、
ホログラム層１１、インキ層１２、絵柄印刷１３等を設
ければ、被覆層７の厚みは１０μ以上になりうる。
【００１９】以上のように、本発明におけるカード基体
２上に転写によって形成された磁気記録層３を隠蔽する
セラミック薄膜層５は、磁気記録層３の上に薄膜状に形
成されているので、磁気記録層３に記録された情報を読
み取る際に、その読み取りの妨げとならない。また、セ
ラミック薄膜層５は前述した材料により形成されている
ので耐久性に優れている。尚、磁気記録層３の上にセラ
ミック薄膜層５が薄膜状に形成された本発明高耐久性磁
気カード１を得るには、特に図示しないがベースフィル
ム／剥離層／セラミック層／磁気層／接着剤層のように
構成した転写泊１４を使用して、セラミック層５で被覆
された磁気層３を１度の転写で基材２上に転写形成する
こともできる。
２上に転写によって形成された磁気記録層３を隠蔽する
セラミック薄膜層５は、磁気記録層３の上に薄膜状に形
成されているので、磁気記録層３に記録された情報を読
み取る際に、その読み取りの妨げとならない。また、セ
ラミック薄膜層５は前述した材料により形成されている
ので耐久性に優れている。尚、磁気記録層３の上にセラ
ミック薄膜層５が薄膜状に形成された本発明高耐久性磁
気カード１を得るには、特に図示しないがベースフィル
ム／剥離層／セラミック層／磁気層／接着剤層のように
構成した転写泊１４を使用して、セラミック層５で被覆
された磁気層３を１度の転写で基材２上に転写形成する
こともできる。
【００２０】以下、具体的な実施例を挙げて本発明をさ
らに詳しく説明する。実施例１ 厚さ２５μのポリエチレンテレフタレートフィルムをベ
ースフィルム８として、該フィルムに溶剤に溶解したア
クリル樹脂を公知の塗布方法によりコーティングした後
乾燥させ、厚さ０．５μの剥離層６とする。この剥離層
６形成面にコロナ放電処理を行ってから、真空蒸着法に
より二酸化チタン（ＴｉＯ2 ）のセラミック薄膜層５を
厚さ４００Åの薄膜状に成膜した。次いで、該セラミッ
ク薄膜層５の上に重ねて、アクリル樹脂１００重量部に
マイクロシリカ１０重量部を含むヒートシール剤として
の塗液を、乾燥時の厚みが３μとなるように３本リバー
スコートにより塗布し、接着剤層４を形成して転写箔１
４を得た。一方、厚さ０．７６mmで、幅６mmのストライ
プ状の磁気記録層３を有するＪＩＳ規格に適合した、ポ
リ塩化ビニル製のカード基体２を用意した。このカード
基体２の磁気記録層３側と、上記転写箔１４の接着剤層
４側とが向かい合うように両者を重ね合わせ加熱加圧し
た後、ポリエチレンテレフタレートフィルム８を剥離し
てセラミック薄膜層５をカード基体２に転写形成して、
本発明高耐久性磁気カード１を得た。このカード１の磁
気記録層上の厚みは３．５μであった。上記カード１は
磁気の読み取り出力が良好である。更に、磁気ヘッドに
対する耐摩耗性も良好であり、読み取り作業を１０００
回行っても、読み取りには何の問題もなく、表面に生じ
る傷も軽微であった。
らに詳しく説明する。実施例１ 厚さ２５μのポリエチレンテレフタレートフィルムをベ
ースフィルム８として、該フィルムに溶剤に溶解したア
クリル樹脂を公知の塗布方法によりコーティングした後
乾燥させ、厚さ０．５μの剥離層６とする。この剥離層
６形成面にコロナ放電処理を行ってから、真空蒸着法に
より二酸化チタン（ＴｉＯ2 ）のセラミック薄膜層５を
厚さ４００Åの薄膜状に成膜した。次いで、該セラミッ
ク薄膜層５の上に重ねて、アクリル樹脂１００重量部に
マイクロシリカ１０重量部を含むヒートシール剤として
の塗液を、乾燥時の厚みが３μとなるように３本リバー
スコートにより塗布し、接着剤層４を形成して転写箔１
４を得た。一方、厚さ０．７６mmで、幅６mmのストライ
プ状の磁気記録層３を有するＪＩＳ規格に適合した、ポ
リ塩化ビニル製のカード基体２を用意した。このカード
基体２の磁気記録層３側と、上記転写箔１４の接着剤層
４側とが向かい合うように両者を重ね合わせ加熱加圧し
た後、ポリエチレンテレフタレートフィルム８を剥離し
てセラミック薄膜層５をカード基体２に転写形成して、
本発明高耐久性磁気カード１を得た。このカード１の磁
気記録層上の厚みは３．５μであった。上記カード１は
磁気の読み取り出力が良好である。更に、磁気ヘッドに
対する耐摩耗性も良好であり、読み取り作業を１０００
回行っても、読み取りには何の問題もなく、表面に生じ
る傷も軽微であった。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、磁気層を隠蔽する
ためのセラミック薄膜層を転写形成してなる本発明高耐
久性磁気カードは、磁気カードの磁気記録層の上に重ね
て形成されたセラミック薄膜層を含む各層の総厚みを、
従来の印刷法により印刷形成された磁気層を隠蔽する印
刷層と比較して著しく薄くすることができるので、磁気
記録の読み取りを支障なく行なうことができる。しかも
磁気記録層はセラミック薄膜層により保護されているの
で、磁気記録を読み取るときの磁気ヘッドとの接触及び
温度、湿度、酸・アルカリ等に対する耐久性が向上し
た。更に、インキ印刷のように合成樹脂主体のバインダ
ーを主成分とする印刷層ではなく、セラミック薄膜層が
磁気記録層の表面に形成されているので、溶剤に溶ける
ことがなく、耐溶剤性にも優れている。従って、磁気カ
ードの偽造や不正使用を防止することができる。また、
セラミック薄膜層の上に重ねて設けた装飾層やホログラ
ム層により、薄膜状のセラミック薄膜層を有する本発明
磁気カードの意匠性を向上させることができる等の効果
を有する。
ためのセラミック薄膜層を転写形成してなる本発明高耐
久性磁気カードは、磁気カードの磁気記録層の上に重ね
て形成されたセラミック薄膜層を含む各層の総厚みを、
従来の印刷法により印刷形成された磁気層を隠蔽する印
刷層と比較して著しく薄くすることができるので、磁気
記録の読み取りを支障なく行なうことができる。しかも
磁気記録層はセラミック薄膜層により保護されているの
で、磁気記録を読み取るときの磁気ヘッドとの接触及び
温度、湿度、酸・アルカリ等に対する耐久性が向上し
た。更に、インキ印刷のように合成樹脂主体のバインダ
ーを主成分とする印刷層ではなく、セラミック薄膜層が
磁気記録層の表面に形成されているので、溶剤に溶ける
ことがなく、耐溶剤性にも優れている。従って、磁気カ
ードの偽造や不正使用を防止することができる。また、
セラミック薄膜層の上に重ねて設けた装飾層やホログラ
ム層により、薄膜状のセラミック薄膜層を有する本発明
磁気カードの意匠性を向上させることができる等の効果
を有する。
【図１】本発明高耐久性磁気カードの実施例を示す断面
図である。
図である。
【図２】本発明高耐久性磁気カードの実施例を作成する
ために用いる転写箔の断面図である。
ために用いる転写箔の断面図である。
【図３】本発明高耐久性磁気カードの他の実施例を示す
断面図である。
断面図である。
１ 磁気カード ３ 磁気記録層 ５ セラミック薄膜層 ７ 被覆層 １０ 装飾層 １１ ホログラム層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ１１Ｂ 5/80 7303−5Ｄ
Claims (3)
- 【請求項１】 磁気記録層が表面の少なくとも一部に設
けられた磁気カードにおいて、該磁気記録層上の少なく
とも一部にセラミック薄膜層を有する被覆層を設けてな
ることを特徴とする高耐久性磁気カード。 - 【請求項２】 被覆層がセラミック薄膜層の他に装飾層
及び／又はホログラム層を有することを特徴とする請求
項１に記載の高耐久性磁気カード。 - 【請求項３】 磁気記録層の上に積層形成された被覆層
の厚みが１０μ以下であることを特徴とする請求項１又
は請求項２に記載の高耐久性磁気カード。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25212392A JP3308317B2 (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 高耐久性磁気カード |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25212392A JP3308317B2 (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 高耐久性磁気カード |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0672082A true JPH0672082A (ja) | 1994-03-15 |
| JP3308317B2 JP3308317B2 (ja) | 2002-07-29 |
Family
ID=17232797
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25212392A Expired - Lifetime JP3308317B2 (ja) | 1992-08-27 | 1992-08-27 | 高耐久性磁気カード |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3308317B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006120302A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-05-11 | Fuji Xerox Co Ltd | 磁気情報記録媒体及びその製造方法 |
| WO2011081563A1 (ru) * | 2009-12-30 | 2011-07-07 | Aibazov Oleg Umarovich | Платежная карта |
| US20170061269A1 (en) * | 2015-08-25 | 2017-03-02 | Morphotrust Usa, Llc | Magnetic stripe card with increased durability |
| JP2020104521A (ja) * | 2014-11-03 | 2020-07-09 | コンポーズキュア，リミティド ライアビリティ カンパニー | セラミックス含有取引カード及びセラミックス複合体取引カード |
| US11521035B2 (en) | 2014-11-03 | 2022-12-06 | Composecure, Llc | Ceramic-containing and ceramic composite transaction cards |
-
1992
- 1992-08-27 JP JP25212392A patent/JP3308317B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006120302A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-05-11 | Fuji Xerox Co Ltd | 磁気情報記録媒体及びその製造方法 |
| WO2011081563A1 (ru) * | 2009-12-30 | 2011-07-07 | Aibazov Oleg Umarovich | Платежная карта |
| GB2488486A (en) * | 2009-12-30 | 2012-08-29 | Oleg Umarovich Aibazov | Payment card |
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| JP2020104521A (ja) * | 2014-11-03 | 2020-07-09 | コンポーズキュア，リミティド ライアビリティ カンパニー | セラミックス含有取引カード及びセラミックス複合体取引カード |
| US11521035B2 (en) | 2014-11-03 | 2022-12-06 | Composecure, Llc | Ceramic-containing and ceramic composite transaction cards |
| US20170061269A1 (en) * | 2015-08-25 | 2017-03-02 | Morphotrust Usa, Llc | Magnetic stripe card with increased durability |
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3308317B2 (ja) | 2002-07-29 |
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