JPH0655148A - Glass substrate cleaning equipment - Google Patents
Glass substrate cleaning equipmentInfo
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- JPH0655148A JPH0655148A JP21007492A JP21007492A JPH0655148A JP H0655148 A JPH0655148 A JP H0655148A JP 21007492 A JP21007492 A JP 21007492A JP 21007492 A JP21007492 A JP 21007492A JP H0655148 A JPH0655148 A JP H0655148A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ガラス基板群の完全なる精密洗浄を達し得
る。簡単な構成での自動化を行い得る。
【構成】 ガラス基板２群を収納するカセット３を載置
するローダ部１００と、洗浄槽２７とこの洗浄槽２７内
にガラス基板２群を浸漬させる洗浄治具２２とを備える
洗浄部２００と、空のカセット３を載置するアンローダ
部３００と、前記ローダ部１００のカセット３からガラ
ス基板２群を取り出し、前記洗浄部２００の洗浄治具２
２に前記ガラス基板２群を受けわたし、洗浄後に前記洗
浄治具２２からガラス基板２群を取り出して前記アンロ
ーダ部３００のカセット３に収納する移載装置２０とを
備える。
(57) [Abstract] [Purpose] Complete precision cleaning of glass substrates can be achieved. Automation can be performed with a simple configuration. A cleaning unit 200 including a loader unit 100 on which a cassette 3 for accommodating a group of glass substrates 2 is placed, a cleaning tank 27, and a cleaning jig 22 for immersing the group of glass substrates 2 in the cleaning tank 27, The unloader unit 300 on which the empty cassette 3 is placed, and the glass substrate 2 group is taken out from the cassette 3 of the loader unit 100, and the cleaning jig 2 of the cleaning unit 200 is removed.
2 includes a transfer device 20 that receives the glass substrate 2 group, takes out the glass substrate 2 group from the cleaning jig 22 after cleaning, and stores the glass substrate 2 group in the cassette 3 of the unloader unit 300.
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス基板洗浄装置に
係り、たとえば液晶表示基板に用いられるガラス基板の
洗浄装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass substrate cleaning apparatus, and more particularly to a glass substrate cleaning apparatus used for a liquid crystal display substrate.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶表示基板に用いられるガラス基板
は、その表面においてフォトリソグラフィ技術等を用い
て微細加工された電子部品等を形成しなければならない
ことから、精密洗浄がなされなければならない。2. Description of the Related Art A glass substrate used as a liquid crystal display substrate must be precision cleaned because it is necessary to form finely processed electronic parts and the like on its surface by using a photolithography technique or the like.
【０００３】一方において、このガラス基板の精密洗浄
は、液晶表示基板の大量生産の目的から、複数枚をまと
めて同時になされることが要望されている。On the other hand, for the purpose of mass production of liquid crystal display substrates, it is required that the precision cleaning of the glass substrates be simultaneously performed on a plurality of glass substrates.
【０００４】このようなことから、従来では、複数枚か
らなるガラス基板群をカセットに収納し、このカセット
毎を洗浄槽に浸漬して洗浄を行うようになっていた。For this reason, conventionally, a plurality of glass substrate groups are housed in a cassette, and each cassette is immersed in a cleaning tank for cleaning.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな従来によるガラス基板の洗浄は、そのガラス基板を
収納するカセットを完全に清浄させた状態で使用して
も、該カセットの移動中に異物が付着したり、あるいは
収納してあるガラス基板群の振動等によりカセットその
ものが摩耗しその摩耗屑がカセットやガラス基板に付着
してしまうことを免れなかった。However, in the conventional cleaning of the glass substrate as described above, even if the cassette for storing the glass substrate is used in a completely cleaned state, foreign matters are not generated during the movement of the cassette. It is unavoidable that the cassette itself is abraded by the adhesion or vibration of the glass substrate group housed therein and the abrasion debris adheres to the cassette or the glass substrate.
【０００６】このため、ガラス基板群をカセット毎に洗
浄槽に浸漬した場合、そのまま洗浄槽に異物あるいは摩
耗屑が洗浄液内に溶け込み、該洗浄液を汚染させること
から、完全なる精密洗浄を達し得ないという問題点が残
されていた。For this reason, when the glass substrate group is immersed in the cleaning tank for each cassette, foreign matter or abrasion debris dissolves in the cleaning solution as it is and contaminates the cleaning solution, so that complete precision cleaning cannot be achieved. There was a problem left.
【０００７】また、ガラス基板群のカセット毎の洗浄槽
への浸漬は人手によっていたため、作業効率の劣化をも
たらし、簡単な構成での自動化が要望されていた。Further, since the glass substrate group is immersed in the cleaning tank for each cassette by hand, the work efficiency is deteriorated, and automation with a simple structure has been demanded.
【０００８】それ故、本発明はこのような事情に基づい
てなされたものであり、その目的とするところのもの
は、ガラス基板群の完全なる精密洗浄を達し得るガラス
基板洗浄装置を提供することにある。Therefore, the present invention has been made under such circumstances, and an object of the present invention is to provide a glass substrate cleaning apparatus capable of achieving complete precision cleaning of a glass substrate group. It is in.
【０００９】また、本発明の他の目的は、簡単な構成で
の自動化を行い得るガラス基板洗浄装置を提供すること
にある。Another object of the present invention is to provide a glass substrate cleaning apparatus which can be automated with a simple structure.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は、基本的には、ガラス基板群を収納
するカセットを載置するローダ部と、洗浄槽とこの洗浄
槽内にガラス基板群を浸漬させる洗浄治具とを備える洗
浄部と、空のカセットを載置するアンローダ部と、前記
ローダ部のカセットからガラス基板群を取り出し、前記
洗浄部の洗浄治具に前記ガラス基板群を受けわたし、洗
浄後に前記洗浄治具からガラス基板群を取り出して前記
アンローダ部のカセットに収納する移載装置と、を備え
ることを特徴とするものである。In order to achieve such an object, the present invention basically has a loader section for mounting a cassette for accommodating a group of glass substrates, a cleaning tank, and an inside of the cleaning tank. A cleaning unit having a cleaning jig for immersing the glass substrate group in the unloading unit; an unloader unit for mounting an empty cassette; and a glass substrate group taken out from the cassette of the loader unit, and the glass jig is used as a cleaning jig for the cleaning unit. A transfer device that receives the substrate group, takes out the glass substrate group from the cleaning jig after cleaning, and stores the glass substrate group in the cassette of the unloader unit.
【００１１】[0011]
【作用】このように構成したガラス基板洗浄装置は、移
載装置によって、ガラス基板群がローダ部のカセットか
ら取り出され、さらに洗浄部の洗浄治具に受けわたされ
て、洗浄後にアンローダ部のカセットに収納されるよう
になっている。In the glass substrate cleaning apparatus thus constructed, the glass substrate group is taken out from the cassette of the loader section by the transfer apparatus and is further transferred to the cleaning jig of the cleaning section, and after cleaning, the cassette of the unloader section is cleaned. It is designed to be stored in.
【００１２】このため、カセットは全く洗浄槽に浸漬さ
れることがなくなり、カセットによる洗浄液の汚染を完
全になくすことができるようになる。したがって、ガラ
ス基板群の完全なる精密洗浄を達し得ることができる。Therefore, the cassette is never immersed in the cleaning tank, and the contamination of the cleaning liquid by the cassette can be completely eliminated. Therefore, complete precision cleaning of the glass substrate group can be achieved.
【００１３】そして、ローダ部からアンローダ部へのガ
ラス基板群の搬送は移載装置によって行われ、また、こ
の移載装置から受けわたされたガラス基板群の洗浄槽へ
の浸漬は洗浄治具によって行っていることから、簡単な
構成で自動化を達し得ることができる。The transfer of the glass substrate group from the loader section to the unloader section is performed by the transfer device, and the immersion of the glass substrate group received from the transfer apparatus into the cleaning tank is performed by the cleaning jig. From what it does, automation can be achieved with a simple configuration.
【００１４】[0014]
【実施例】図１は、本発明によるガラス基板洗浄装置の
一実施例を示す全体構成図であり、（ａ）は正面図、
（ｂ）は（ａ）のｂ−ｂ線における断面図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 is an overall configuration diagram showing an embodiment of a glass substrate cleaning apparatus according to the present invention, (a) is a front view,
(B) is sectional drawing in the bb line of (a).
【００１５】同図において、まず、ローダ部１００があ
り、このローダ部１００にはカセット３をセットするよ
うになってる。このカセット３には複数のガラス基板２
が垂直かつ平行に収納されている。そして、各ガラス基
板２の全ては後に詳述する手段によってカセット３に対
して上方に持ち上げられ、これによって、カセット３か
ら突出されるようになっている。In FIG. 1, first, there is a loader section 100, and the cassette 3 is set in this loader section 100. This cassette 3 has a plurality of glass substrates 2
Are stored vertically and in parallel. Then, all of the glass substrates 2 are lifted upward with respect to the cassette 3 by means which will be described later in detail, and thereby projected from the cassette 3.
【００１６】前記カセット３の上方には、移載装置２０
が配置され、この移載装置２０によって前記各ガラス基
板２の全てが把持されるようになっている。そして、各
ガラス基板２の全てを把持した移載装置２０はガイドレ
ール２８、２９にガイドされて洗浄部２００側（図中Ｘ
方向）に移動できるようになっている。A transfer device 20 is provided above the cassette 3.
Are arranged, and all of the glass substrates 2 are gripped by the transfer device 20. Then, the transfer device 20 holding all of the glass substrates 2 is guided by the guide rails 28 and 29, and the cleaning unit 200 side (X in the figure).
Direction).
【００１７】洗浄部２００は、たとえば４個の洗浄槽２
７が順次並設されてなり、前記移載装置２０は、各洗浄
槽２７に位置づけられた際に、前記ガラス基板２を洗浄
槽２７内に浸漬しその後該ガラス基板２を取り出すま
で、その移動を停止するようになっている。The cleaning unit 200 includes, for example, four cleaning tanks 2
7 are sequentially arranged side by side, and when the transfer device 20 is positioned in each cleaning tank 27, the transfer device 20 moves the glass substrate 2 until the glass substrate 2 is immersed in the cleaning tank 27 and then the glass substrate 2 is taken out. Is supposed to stop.
【００１８】各洗浄槽２７には洗浄治具２２を備えてな
り、この洗浄治具２２は、前記移載装置２０からガラス
基板２の全てを受けわたされるようになっており、その
後に、洗浄治具支柱２３に沿って移動し、前記ガラス基
板２を洗浄槽２７に浸漬しその後該ガラス基板２を取り
出すようになっている。Each cleaning tank 27 is provided with a cleaning jig 22, and the cleaning jig 22 is adapted to receive all of the glass substrate 2 from the transfer device 20, and then to perform cleaning. The glass substrate 2 is moved along the jig column 23, the glass substrate 2 is immersed in the cleaning tank 27, and then the glass substrate 2 is taken out.
【００１９】このようにして、全ての洗浄槽２７におい
て各洗浄がなされたガラス基板２の全ては、移載装置２
０に受けわたされ、この移載装置２０によってアンロー
ダ部３００に移動され、このアンローダ部３００に備え
られているカセット３に収納されるようになっている。In this way, all of the glass substrates 2 that have been cleaned in each of the cleaning tanks 27 are transferred to the transfer device 2.
The transfer device 20 transfers it to the unloader unit 300 and stores it in the cassette 3 provided in the unloader unit 300.
【００２０】ここで、さらに、前記ローダ部１００、移
載装置２０、洗浄部２００、アンローダ部３００、につ
いて以下詳述する。The loader unit 100, the transfer device 20, the cleaning unit 200, and the unloader unit 300 will be described in detail below.
【００２１】ローダ部１００ 図２（ａ）に示すように、カセットベース１があり、こ
のカセットベース１にはカセット３を載置できるように
なっている。このカセット３内には複数のガラス基板２
が垂直にかつ平行状態を保って等間隔に収納されてい
る。 Loader section 100 As shown in FIG. 2A, there is a cassette base 1, and a cassette 3 can be placed on this cassette base 1. In this cassette 3, a plurality of glass substrates 2
Are stored at equal intervals vertically and in parallel.
【００２２】なお、このカセット３は、ガラス基板２を
収納した状態で洗浄前の他の工程から運搬され、このカ
セットベース１に配置されるものである。It should be noted that the cassette 3 is transported from another process before cleaning with the glass substrate 2 housed therein and placed on the cassette base 1.
【００２３】そして、カセットベース１の下方には、前
記ガラス基板２をカセット３に対して上方に移動させ、
これによりカセット３から該ガラス基板２を突出させる
機構が配置されている。Below the cassette base 1, the glass substrate 2 is moved upward with respect to the cassette 3,
Thereby, a mechanism for projecting the glass substrate 2 from the cassette 3 is arranged.
【００２４】すなわち、モータ４があり、このモータ４
の駆動によってボールねじ５が回転し、つめサポート７
を介してつめ８が上下動（図中Ａ、Ｂ方向）するように
なっている。このつめ８は、カセット３の底面に形成さ
れた孔に挿入されているもので、ガイド６に案内される
前記つめサポート７に支持されたものとなっている。That is, there is a motor 4, and this motor 4
Drives the ball screw 5 to rotate, and the pawl support 7
The pawl 8 moves up and down (in the directions A and B in the figure) via. The pawl 8 is inserted into a hole formed in the bottom surface of the cassette 3, and is supported by the pawl support 7 guided by the guide 6.
【００２５】ここで、前記つめ８は、同図（ａ）のｂ−
ｂ線における断面を示す図２（ｂ）に示すように、それ
ぞれのガラス基板２の下端辺を支持するように構成さ
れ、その詳細を同図（ｃ）に示すように、解放端側に角
度θ1の広がりをもち、さらに幅Ｗ1、深さＨ1を有する
溝８Ａが形成されて構成されたものとなっている。Here, the pawl 8 is the b-of FIG.
As shown in FIG. 2 (b) showing a cross section taken along the line b, it is configured to support the lower end sides of the respective glass substrates 2, and the details are shown in FIG. 2 (c). A groove 8A having a width of θ 1 and a width of W 1 and a depth of H 1 is formed.
【００２６】幅Ｗ1としては、ガラス基板２の厚さに対
して約０．０５ｍｍ程度大きく、深さＨ1としては、幅
Ｗ1の５〜６倍に設定するのが好適である。The width W 1 is preferably about 0.05 mm larger than the thickness of the glass substrate 2, and the depth H 1 is preferably set to 5 to 6 times the width W 1 .
【００２７】このようにして、カセット３に対して上方
に移動された各ガラス基板２は、その両側の側端辺をそ
れぞれ移載装置２０が備えるアーム９および１０によっ
て把持されるようになっている。In this way, each glass substrate 2 moved upward with respect to the cassette 3 is gripped by the arms 9 and 10 provided on the transfer device 20 on both side edges thereof. There is.
【００２８】移載装置２０ 図３（ａ）に示すように、アーム９および１０における
把持部には駒１１、１２、１３が配置され、この駒１
１、１２、１３によって、前記ガラス基板２の両側端辺
を挟持するようになっている。 Transfer Device 20 As shown in FIG. 3 (a), pieces 11, 12, and 13 are arranged at the gripping portions of the arms 9 and 10, and the pieces 1 and 12 are arranged.
Both sides of the glass substrate 2 are sandwiched by 1, 12, and 13.
【００２９】駒１１、１２、１３のそれぞれは、同図
（ｂ）に示すように、ほぼ円柱形状部材の周側面にガラ
ス基板２の配置ピッチに応じた間隔に溝が形成されたも
のであり、この溝は、解放端側に角度θ3の広がりをも
ち、さらに幅Ｗ2、深さＨ2を有するものとなっている。
幅Ｗ2としては、前記幅Ｗ1の１．３〜１．５倍に、深さ
Ｈ2としては、幅Ｗ1の３〜４倍に設定するのが好適であ
る。As shown in FIG. 2B, each of the pieces 11, 12 and 13 has a groove formed on the peripheral side surface of a substantially cylindrical member at intervals corresponding to the arrangement pitch of the glass substrates 2. The groove has a spread of an angle θ 3 on the open end side, and further has a width W 2 and a depth H 2 .
The width W 2, in 1.3 to 1.5 times the width W 1, as the depth H 2, it is preferable to set the 3-4 times the width W 1.
【００３０】なお、アーム９の先端部にはガラス基板２
の下端辺を係止させるための係止部１４が備えられ、こ
れにより、該ガラス基板２がアーム９および１０からず
り落ちないように構成されている。The glass substrate 2 is attached to the tip of the arm 9.
An engaging portion 14 for engaging the lower end side of the glass substrate 2 is provided so that the glass substrate 2 does not slide down from the arms 9 and 10.
【００３１】アーム９および１０のそれぞれの他端部
は、移載機構部２０Ａに連結され、この移載機構部２０
の駆動によって、前記アーム９および１０の開き角度が
支点１８、１９を中心として変化するようになってい
る。すなわち、ガラス基板２を把持する際は図中Ｃ方向
にアーム９および１０が偏移し、その把持を解く際は図
中Ｄ方向に偏移するようになってる。The other ends of the arms 9 and 10 are connected to a transfer mechanism section 20A.
The driving angle of the arms 9 and 10 is changed around the fulcrums 18 and 19 by driving. That is, when the glass substrate 2 is gripped, the arms 9 and 10 are displaced in the C direction in the figure, and when the grip is released, the arms 9 and 10 are displaced in the D direction in the figure.
【００３２】また、アーム９および１０を連結する移載
機構部２０Ａは、エアーシリンダ１６によって支点１７
を中心に回動できるようになっており、これによって、
アーム９および１０が把持するガラス基板２にたとえば
角度θ2の傾きを与えることができるようになってい
る。The transfer mechanism 20A connecting the arms 9 and 10 is supported by an air cylinder 16 at a fulcrum 17
It is possible to rotate around the
The glass substrate 2 held by the arms 9 and 10 can be tilted at an angle θ 2 , for example.
【００３３】図１（ａ）に示すように、移載装置２０が
ローダ部１００においてカセット３からガラス基板２を
取り出す場合は、前記移載機構部２０Ａは傾きを有しな
いが（θ2＝０）、洗浄部２００側に移動される際は、
上述の角度でガラス基板２が傾けられるようになる。洗
浄槽２７からガラス基板２を引き出す際に、ガラス基板
２に付着されている洗浄水を最下方に位置付けられてい
る角部から流し落すためであり、これにより、ガラス基
板２面に残存する洗浄固体物の残存領域をできるだけ少
なくするようにしている。As shown in FIG. 1A, when the transfer device 20 takes out the glass substrate 2 from the cassette 3 in the loader section 100, the transfer mechanism section 20A has no inclination (θ 2 = 0). ), When moved to the cleaning unit 200 side,
The glass substrate 2 is tilted at the above angle. This is because when the glass substrate 2 is pulled out from the cleaning tank 27, the cleaning water attached to the glass substrate 2 is drained from the corner located at the lowermost position, whereby the cleaning remaining on the surface of the glass substrate 2 is performed. The remaining area of the solid matter is made as small as possible.
【００３４】なお、移動機構部２０Ａの上述した角度θ
2は、アンロード部３００においては０になり、ガラス
基板２をカセットに収納するようになる。The above-mentioned angle θ of the moving mechanism section 20A.
The value 2 becomes 0 in the unload unit 300, and the glass substrate 2 is stored in the cassette.
【００３５】洗浄部２００ 図４に示すように、移載装置２０からガラス基板２の受
けわたしを行う洗浄治具２２があり、この洗浄治具２２
には、図３（ｂ）に示したと同様の構成からなる駒２
４、２５、２６が備えられている。この駒２４、２５、
２６は、ガラス基板２を傾かせたまま（図３に示した角
度と同一）でその受けわたしができるような配置となっ
ており、また、洗浄治具２２はガラス基板２をそのまま
の状態にして洗浄槽２７に浸漬できるようになってい
る。 Cleaning Unit 200 As shown in FIG. 4, there is a cleaning jig 22 for receiving and receiving the glass substrate 2 from the transfer device 20.
Is a piece 2 having the same structure as that shown in FIG.
4, 25, 26 are provided. These pieces 24, 25,
26 is arranged so that the glass substrate 2 can be received while tilted (same as the angle shown in FIG. 3), and the cleaning jig 22 keeps the glass substrate 2 as it is. So that it can be immersed in the cleaning tank 27.
【００３６】すなわち、洗浄治具２２は支柱２３をガイ
ドとして、洗浄槽２７内に移動（図中Ｆ方向）でき、浸
漬による洗浄後に元の位置に移動（図中Ｅ方向）できる
ようになっている。That is, the cleaning jig 22 can be moved into the cleaning tank 27 (F direction in the drawing) by using the support column 23 as a guide, and can be moved to the original position (E direction in the drawing) after cleaning by immersion. There is.
【００３７】アンローダ部３００ 上述したローダ部１００と同様の構成からなり、その操
作においてローダ部１００と逆になっているにすぎない
ものである。The unloader unit 300 has the same configuration as the loader unit 100 described above, and is merely the reverse of the loader unit 100 in its operation.
【００３８】このアンローダ部３００におけるカセット
３には洗浄されたガラス基板２が収納され、ガラス基板
２はカセット３ごと搬送され、次の工程で処理される。The cleaned glass substrate 2 is stored in the cassette 3 in the unloader unit 300, and the glass substrate 2 is conveyed together with the cassette 3 and processed in the next step.
【００３９】上述した実施例のようなガラス基板洗浄装
置によれば、移載装置２０によって、ガラス基板２がロ
ーダ部１００のカセット３から取り出され、さらに洗浄
部２００の洗浄治具２２に受けわたされて、洗浄後にア
ンローダ部３００のカセット３に収納されるようになっ
ている。According to the glass substrate cleaning apparatus of the above-described embodiment, the glass substrate 2 is taken out from the cassette 3 of the loader section 100 by the transfer apparatus 20 and further received by the cleaning jig 22 of the cleaning section 200. Then, after cleaning, it is stored in the cassette 3 of the unloader unit 300.
【００４０】このため、カセット３は全く洗浄槽２７に
浸漬されることがなくなり、カセット３による洗浄液の
汚染を完全になくすことができるようになる。したがっ
て、ガラス基板２の完全なる精密洗浄を達し得ることが
できる。Therefore, the cassette 3 is not immersed in the cleaning tank 27 at all, and the contamination of the cleaning liquid by the cassette 3 can be completely eliminated. Therefore, complete precision cleaning of the glass substrate 2 can be achieved.
【００４１】そして、ローダ部１００からアンローダ部
３００へのガラス基板２の搬送は移載装置２０によって
行われ、また、この移載装置２０から受けわたされたガ
ラス基板２の洗浄槽２７への浸漬は洗浄治具２２によっ
て行っていることから、簡単な構成で自動化を達し得る
ことができる。The transfer of the glass substrate 2 from the loader unit 100 to the unloader unit 300 is performed by the transfer device 20, and the glass substrate 2 received from the transfer device 20 is immersed in the cleaning tank 27. Since the cleaning jig 22 is used, the automation can be achieved with a simple configuration.
【００４２】上述したガラス基板洗浄装置は、たとえば
液晶表示基板に用いられるガラス基板を洗浄する場合に
適用させたものであるが、必ずしも液晶表示基板に用い
られるガラス基板にのみ適用させる必要がないことはい
うまでもない。The above-described glass substrate cleaning apparatus is applied to cleaning a glass substrate used for a liquid crystal display substrate, for example, but it is not always necessary to apply it to a glass substrate used for a liquid crystal display substrate. Needless to say.
【００４３】[0043]
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明によるガラス基板洗浄装置によれば、ガラス基板
群の完全なる精密洗浄を達し得ることができる。また、
簡単な構成での自動化を行い得ることができる。As is apparent from the above description,
According to the glass substrate cleaning apparatus of the present invention, complete precision cleaning of the glass substrate group can be achieved. Also,
Automation can be performed with a simple configuration.
【図１】 （ａ）は、本発明によるガラス基板洗浄装置
の一実施例を示す全体概略図、（ｂ）は、（ａ）のｂ−
ｂ線における断面図である。FIG. 1A is an overall schematic view showing an embodiment of a glass substrate cleaning apparatus according to the present invention, and FIG. 1B is a b- of FIG.
It is sectional drawing in the b line.
【図２】 （ａ）は、本発明によるガラス基板洗浄装置
におけるローダ部の一実施例を示す構成図、（ｂ）は、
該ローダ部のつめを、さらに（ｃ）は該つめの詳細を示
す説明図である。2A is a configuration diagram showing an embodiment of a loader section in the glass substrate cleaning apparatus according to the present invention, and FIG.
It is explanatory drawing which shows the pawl of this loader part, and further (c) shows the detail of this pawl.
【図３】 （ａ）は、本発明によるガラス基板洗浄装置
における移載装置の一実施例を示す構成図、（ｂ）は該
移載装置に備えられる駒の詳細を示す説明図である。3A is a configuration diagram showing an embodiment of a transfer device in the glass substrate cleaning apparatus according to the present invention, and FIG. 3B is an explanatory view showing details of a piece provided in the transfer device.
【図４】 本発明によるガラス基板洗浄装置における洗
浄部の一実施例を示す構成図である。FIG. 4 is a configuration diagram showing an example of a cleaning unit in the glass substrate cleaning apparatus according to the present invention.
２…ガラス基板、３…カセット、２０…移載装置、２２
…洗浄治具、２７…洗浄槽、１００…ローダ部、２００
…洗浄部、３００…アンローダ部。2 ... Glass substrate, 3 ... Cassette, 20 ... Transfer device, 22
... cleaning jig, 27 ... cleaning tank, 100 ... loader section, 200
... cleaning section, 300 ... unloader section
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松山 茂 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所茂原工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Shigeru Matsuyama 3300 Hayano, Mobara-shi, Chiba Hitachi, Ltd. Mobara factory
Claims (1)
するローダ部と、洗浄槽とこの洗浄槽内にガラス基板群
を浸漬させる洗浄治具とを備える洗浄部と、空のカセッ
トを載置するアンローダ部と、前記ローダ部のカセット
からガラス基板群を取り出し、前記洗浄部の洗浄治具に
前記ガラス基板群を受けわたし、洗浄後に前記洗浄治具
からガラス基板群を取り出して前記アンローダ部のカセ
ットに収納する移載装置と、を備えることを特徴とする
ガラス基板洗浄装置。1. A loader section for mounting a cassette containing a glass substrate group, a cleaning section including a cleaning tank and a cleaning jig for immersing the glass substrate group in the cleaning tank, and an empty cassette for mounting. The glass substrate group is taken out from the unloader unit and the cassette of the loader unit, the glass substrate group is received by the cleaning jig of the cleaning unit, the glass substrate group is taken out from the cleaning jig after cleaning, and the glass substrate group of the unloader unit is removed. A glass substrate cleaning device comprising: a transfer device that is housed in a cassette.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21007492A JPH0655148A (en) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | Glass substrate cleaning equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21007492A JPH0655148A (en) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | Glass substrate cleaning equipment |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0655148A true JPH0655148A (en) | 1994-03-01 |
Family
ID=16583392
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21007492A Pending JPH0655148A (en) | 1992-08-06 | 1992-08-06 | Glass substrate cleaning equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0655148A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| US5807730A (en) * | 1996-02-14 | 1998-09-15 | Mitsui Chemicals, Inc. | Nitrile hydratase |
| WO2007043466A1 (en) | 2005-10-07 | 2007-04-19 | Mitsui Chemicals, Inc. | Process for producing amide compound |
| WO2009113617A1 (en) | 2008-03-14 | 2009-09-17 | ダイヤニトリックス株式会社 | Method for stabilization of aqueous acrylamide solution |
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| CN110156307A (en) * | 2019-04-27 | 2019-08-23 | 江西晶阳光电科技有限公司 | A kind of full-automatic glass cover board tempering machine |
| WO2022172880A1 (en) | 2021-02-10 | 2022-08-18 | 三菱ケミカル株式会社 | Improved nitrile hydratase reactivity using aldehyde |
-
1992
- 1992-08-06 JP JP21007492A patent/JPH0655148A/en active Pending
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| EP3135767A1 (en) | 2005-10-07 | 2017-03-01 | Mitsui Chemicals, Inc. | Process for producing amide compound |
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