[go: up one dir, main page]

JPH06322118A - 半導体封止用樹脂組成物 - Google Patents

半導体封止用樹脂組成物

Info

Publication number
JPH06322118A
JPH06322118A JP10841493A JP10841493A JPH06322118A JP H06322118 A JPH06322118 A JP H06322118A JP 10841493 A JP10841493 A JP 10841493A JP 10841493 A JP10841493 A JP 10841493A JP H06322118 A JPH06322118 A JP H06322118A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
compound
formula
group
resin composition
bis
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP10841493A
Other languages
English (en)
Inventor
Mikio Kitahara
幹夫 北原
Tetsuya Oishi
哲也 大石
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Original Assignee
Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Toatsu Chemicals Inc filed Critical Mitsui Toatsu Chemicals Inc
Priority to JP10841493A priority Critical patent/JPH06322118A/ja
Publication of JPH06322118A publication Critical patent/JPH06322118A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】ポリマレイミド化合物と一般式(1)および一
般式(2)で表されるジグアナミン類の中から選ばれる
少なくとも1種を含有するアミノ化合物と無機充填剤、
あるいはこれに多官能エポキシ化合物をを必須成分とす
る半導体封止用樹脂組成物。 (式中、(4,6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン
−2−イル)基の結合位置は、2,5−、または2,6
−位を示す) (式中、(4,6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン
−2−イル)基の結合位置は、1,2−、1,3−また
は1,4−位を示す) 【効果】高ガラス転移温度を示し、高温時においても高
い強度を有する樹脂組成物が得られる。耐半田浸漬性を
要求される半導体装置用の封止材として最適である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、耐熱性、耐クラック性
に優れた樹脂組成物に関する。すなわち、電子・電気部
品の樹脂封止用材料として、耐熱性、耐クラック性の向
上をはかる樹脂組成物に関わり、特に耐半田クラック性
を要求される表面実装型の半導体装置を封止するのに適
した樹脂組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、電気・電子部品、半導体等の分野
で耐熱性、耐クラック性の優れた樹脂組成物が求められ
ている。例えば、電気・電子部品、とりわけ半導体の分
野では、これを使用する機器、装置の小型化、薄型化に
ともなって部品を取り付ける配線基板への実装密度が高
くなる傾向にあり、また、部品そのものも多機能化の傾
向にある。これを封止する材料には、配線基板への半田
付け工程における高温半田に対して、耐熱性に優れた樹
脂組成物の開発が強く望まれている。
【0003】従来、このような用途に対する樹脂組成
物、いわゆる半導体封止用樹脂組成物としては、O-クレ
ゾ−ルノボラック型エポキシ樹脂に代表されるエポキシ
樹脂、その硬化剤としてフェノールノボラック樹脂およ
びシリカを主成分とする樹脂組成物が成形性、信頼性の
点で優れており、この分野での主流となっている(例え
ば特開昭52ー86069)。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、樹脂封
止型半導体装置について言えば、前述の高密度実装化の
流れにより表面実装型の半導体装置に変わりつつある。
このような表面実装型の半導体装置においては、従来の
挿入型半導体装置と違って、基板への半田付け工程は、
予め半田クリームが印刷された基盤に半導体装置を仮止
めし、これを加熱された不活性液体の蒸気中に投入し、
半田を溶融させて実装する方法(半田付け温度215
℃)、熱源として赤外線を用いた炉の中に投入し、半田
を溶融させて実装する方法(半田付け温度、最高240
℃)、あるいは溶融した半田浴の中に投入して実装する
方法(半田付け温度260℃)などがある。この中で最
も経済的な方法として溶融半田中に投入する方法が採ら
れる。この際、封止樹脂にクラックが発生し、半導体装
置の信頼性を大幅に低下させるという問題が生じてきた
(日経エレクトロニクス、 1988年6月13日号、p1
14-118)。この半田付け時におけるクラックは、半導体
装置の保管中に吸湿した水分が 200℃以上の温度で爆発
的に膨張し、応力が発生し、これが封止樹脂の強度を超
えるとクラックが発生する。この際、樹脂に加わる応力
は、近似的に次式で表される(成岡、丹羽、山田、白
石、「構造力学III」、丸善)。 σ=k・p・a2 /t2 ただしσ:樹脂に加わる応力 k:定数 p:水蒸気圧 a:ダイパッドの短辺の長さ t:ダイパッド下部の樹脂の厚み
【0005】従って、封止樹脂のガラス転移温度を高く
し水分の膨張により発生する応力に打ち勝つだけの十分
な樹脂強度をもたせることが必要である。本発明の目的
は、実装時に於ける耐半田クラック性を要求される樹脂
封止型半導体装置に適用できる、特に、溶融半田浸漬に
おいて優れた耐熱性、耐クラック性を有する樹脂組成物
を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するため、鋭意研究を重ねた結果、ポリマレイミ
ド化合物と、特殊な構造を有するジグアナミン化合物を
使用することで、高温において高い強度を付与すること
に成功し、本発明を完成するに至った。すなわち本発明
は、ポリマレイミド化合物とジグアナミン化合物を、あ
るいはこれに多官能エポキシ化合物を加えた物を樹脂成
分とし、更に無機充填剤を配合してなる半導体封止用と
して最適な樹脂組成物である。より詳しくは、ポリマレ
イミド化合物と一般式(1)(化8)
【0007】
【化8】 [式中、(4,6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン
−2−イル)基の結合位置は、2,5−又は2,6−位
を示す]、及び一般式(2)(化9)
【0008】
【化9】 [式中、(4,6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン
−2−イル)基の結合位置は、1,2−、1,3−又は
1,4−位を示す]で表されるジグアナミン類の中から
選ばれる少なくとも1種を含有するアミノ化合物と無機
充填剤を必須成分として含有する半導体封止用樹脂組成
物、または前記成分に加えて多官能エポキシ化合物を必
須成分とする半導体封止用樹脂組成物である。本発明に
係わる(a)ポリマレイミド化合物としては、1分子中
に2個以上のマレイミド基を有する化合物ならば全て使
用可能である。例えば、一般式(3)(化10)
【0009】
【化10】 (式中、R1 は水素原子または炭素数1〜4のアルキル
基、Xは直結、 -CH2 -、-CO-、-SO2- 、-SO-、-S- 、-O
- またはシクロアルキル基を示す。nは0または1を示
す。)で表されるビスマレイミド化合物、より詳しく例
示すれば、N,N'-4,4'−ジフェニルビスマレイミド、N,
N'-(1,3-フェニレン) ビスマレイミド、N,N'-[1,3-(2ー
メチルフェニレン)]ビスマレイミド、N,N'-(1,4-フェニ
レン)ビスマレイミド、ビス(4- マレイミドフェニル)メ
タン、ビス(3- メチル-4- マレイミドフェニル) メタ
ン、ビス(4- マレイミドフェニル) エーテル、ビス(4-
マレイミドフェニル) スルホン、ビス(4−マレイミド
フェニル)スルフィン、ビス(4- マレイミドフェニル)
スルフィド、ビス(4- マレイミドフェニル) ケトン、1,
4-ビス(4- マレイミドフェニル) シクロヘキサン等が挙
げられる。また、一般式(4)(化11)
【0010】
【化11】 (式中、Yは置換または非置換の芳香環を一個以上有す
る2価の有機基を示す。)で表されるビスマレイミド化
合物、より詳しく例示すれば、1,3-ビス(4- マレイミド
フェノキシ) ベンゼン、1,3-ビス(3- マレイミドフェノ
キシ) ベンゼン、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ) フ
ェニル] メタン、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ) フ
ェニル] メタン、1,1-ビス[4-(3-マレイミドフェノキ
シ) フェニル] エタン、1,1-ビス[4-(4-マレイミドフェ
ノキシ) フェニル] エタン、1,2-ビス[4-(3-マレイミド
フェノキシ) フェニル] エタン、1,2-ビス[4-(4-マレイ
ミドフェノキシ) フェニル] エタン、2,2-ビス[4-(3-マ
レイミドフェノキシ) フェニル] プロパン、2,2-ビス[4
-(4-マレイミドフェノキシ) フェニル] プロパン、2,2-
ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ) フェニル] ブタン、
2,2-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ) フェニル] ブタ
ン、2,2-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ) フェニル]-
1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロプロパン、2,2-ビス[4-(4-
マレイミドフェノキシ) フェニル]-1,1,1,3,3,3-ヘキサ
フルオロプロパン、4,4'- ビス(3- マレイミドフェノキ
シ) ビフェニル、4,4'- ビス(4- マレイミドフェノキ
シ) ビフェニル、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ) フ
ェニル] ケトン、ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ) フ
ェニル] ケトン、ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ) フ
ェニル] スルフィド、ビス[4-(4-マレイミドフェノキ
シ) フェニル] スルフィド、ビス[4-(3-マレイミドフェ
ノキシ) フェニル] スルホキシド、ビス[4-(4-マレイミ
ドフェノキシ) フェニル] スルホキシド、ビス[4-(3-マ
レイミドフェノキシ) フェニル] スルホン、ビス[4-(4-
マレイミドフェノキシ) フェニル] スルホン、ビス[4-
(3-マレイミドフェノキシ) フェニル] エーテル、ビス
[4-(4-マレイミドフェノキシ) フェニル] エーテル、1,
4-ビス[4-(4-マレイミドフェノキシ)-α, α- ジメチル
ベンジル] ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-マレイミドフェノ
キシ)-α, α- ジメチルベンジル] ベンゼン、1,4-ビス
[4-(3-マレイミドフェノキシ)-α, α- ジメチルベンジ
ル] ベンゼン、1,3-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-
α, α- ジメチルベンジル] ベンゼン、1,4-ビス[4-(4-
マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル- α, α- ジメチ
ルベンジル] ベンゼン、1,3-ビス[4-(4-マレイミドフェ
ノキシ)-3,5-ジメチル- α, α- ジメチルベンジル] ベ
ンゼン、1,4-ビス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジ
メチル- α, α- ジメチルベンジル] ベンゼン、1,3-ビ
ス[4-(3-マレイミドフェノキシ)-3,5-ジメチル- α, α
- ジメチルベンジル] ベンゼン等が挙げられる。更に、
一般式(5)(化12)
【0011】
【化12】 (式中、Zはメチレン基またはp−キシリレン基を示
す。mは0を含まない0〜5の数を示す。)で表される
ポリマレイミド化合物、より詳しく例示すれば、このよ
うなポリマレイミド化合物は、アニリンとホルムアルデ
ヒド、またはα,α’−ジクロロ−p−キシレンとの反
応生成物であるポリアミンと無水マレイン酸とを酸性触
媒下に縮合・脱水反応させて得られるポリマレイミド化
合物である。これらのビスマレイミド化合物あるいはポ
リマレイミド化合物は、単独で用いても2種類以上を混
合して用いてもよい。
【0012】本発明に係わる(b)ジグアナミン類
(1)において、(4,6−ジアミノ−1,3,5−ト
リアジン−2−イル)基の結合位置は、2,5−又は
2,6−位であるが、かかる基の立体配置は、エンド−
エンド形、エンド−エキソ形又はエキソ−エキソ形であ
り、いずれも有用な化合物である。さらには、ジグアナ
ミン類(1)は、上記した結合位置、立体配置の異性体
からなる群より選ばれる化合物であるが、かかる群より
選ばれる異なる化合物の集合体においても、単一化合物
の場合と同様に産業上きわめて有用なものである。かか
るジグアナミン類(1)の具体例としては、2,5−ビ
ス(4,6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン−2−
イル)−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン(エンド−エ
キソ形)、2,5−ビス(4,6−ジアミノ−1,3,
5−トリアジン−2−イル)−ビシクロ[2,2,1]
ヘプタン(エキソ−エキソ形)、2,6−ビス(4,6
−ジアミノ−1,3,5−トリアジン−2−イル)−ビ
シクロ[2,2,1]ヘプタン(エンド−エンド形)、
2,6−ビス(4,6−ジアミノ−1,3,5−トリア
ジン−2−イル)−ビシクロ[2,2,1]ヘプタン
(エキソ−エキソ形)等が挙げられるが、これらの化合
物に限定されるものではない。本発明に係わる(b)ジ
グアナミン類(1)は、一般式(6)(化13)
【0013】
【化13】 (式中、シアノ記の結合位置は、2,5−または2,6
−位を示す)で表されるジカルボニトリル類(6)とジ
シアンジアミドとを塩基性触媒存在下にて反応せしめる
方法、ジカルボニトリル類(6)に相当するジカルボン
酸のエステルとビグアニド類とを必要により塩基性化合
物の存在下にて反応せしめる方法等により得ることがで
きる。前者の方法は、原料の入手が容易であり取扱が簡
単であること、副生物が著しく少なく高純度で初期目的
化合物が得られ、精製分離工程等製造が簡便であり、原
料ロスが著しく少なく、且つ初期目的化合物を高収率で
得ることができること等の点から、技術的、経済的に優
れ、極めて実用性のあるものである。尚、かかるジグア
ナミン類(1)の製造方法はこれらの方法に限定される
ものではない。
【0014】本発明に係わる(b)ジグアナミン類
(1)の製造方法におけるジカルボニトリル類(6)
は、シアノ基の結合位置が2,5−または2,6−位で
あるが、かかる基の立体配置はエンド−エンド形、エン
ド−エキソ形またはエキソ−エキソ形であり、いずれも
有用である。また、かかるジカルボニトリル類(6)
は、上記した結合位置、立体配置の異性体からなる群よ
り選ばれる化合物であるが、かかる群より選ばれる異な
る化合物の集合体においても、単一化合物の場合と同様
に有用である。
【0015】上記したジカルボニトリル類(6)は、例
えば、米国特許第2666748号等に開示されている
如く、ビシクロ[2,2,1]ヘプタ−5−エン−2−
カルボニトリルとシアン化水素とをCo2 (CO)8
Fe(CO)5 、Ni[P(OC6 5 3 4 等の特
定の触媒存在下にて反応せしめる方法、米国特許第31
43570号等に開示されている5−(および/または
6−)シアノ−ビシクロ[2,2,1]ヘプタ−2−カ
ルバルデヒドとヒドロキシルアミン類とを反応せしめる
方法、2,5−(および/または2,6−)ジクロロ−
ビシクロ[2,2,1]ヘプタンとシアノ化アルカリ金
属塩、シアノ化アルカリ土類金属塩等のシアノ化剤とを
反応せしめる方法等により得ることができるが、これら
の方法に限定されるものではない。
【0016】かかるジカルボニトリル類(6)の具体例
としては、ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,5−
ジカルボニトリル(エンド−エキソ形)、ビシクロ
[2,2,1]ヘプタン−2,5−ジカルボニトリル
(エンド−エンド形)、ビシクロ[2,2,1]ヘプタ
ン−2,6−ジカルボニトリル(エンド−エキソ形)、
ビシクロ[2,2,1]ヘプタン−2,6−ジカルボニ
トリル(エキソ−エキソ形)等が挙げられるがこれらの
化合物に限定されるものではない。
【0017】本発明に係わる(b)ジグアナミン類
(2)において、(4,6−ジアミノ−1,3,5−ト
リアジン−2−イル)基の結合位置は、1,2−、1,
3−又は1,4−位であるが、かかる基の立体配置は、
トランス形又はシス形であり、いずれも有用な化合物で
ある。さらには、かかるジグアナミン類(2)は、上記
したで結合位置、立体配置の異性体からなる群より選ば
れる化合物であるが、かかる群より選ばれる異なる化合
物の集合体においても、単一化合物の場合と同様に産業
上きわめて有用なものである。
【0018】かかるジグアナミン類(2)の具体例とし
ては、1,2−ビス(4,6−ジアミノ−1,3,5−
トリアジン−2−イル)−シクロヘキサン(シス形)、
1,3−ビス(4,6−ジアミノ−1,3,5−トリア
ジン−2−イル)−シクロヘキサン(トランス形)、
1,3−ビス(4,6−ジアミノ−1,3,5−トリア
ジン−2−イル)−シクロヘキサン(シス形)、1,4
−ビス(4,6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン−
2−イル)−シクロヘキサン(トランス形)、1,4−
ビス(4,6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン−2
−イル)−シクロヘキサン(シス形)等が挙げられる
が、これらの化合物に限定されるものではない。本発明
に係わる(b)ジグアナミン類(2)は、一般式(7)
(化14)
【0019】
【化14】 (式中、シアノ記の結合位置は、1,2−1,3−また
は1,4−位を示す)で表されるジカルボニトリル類
(7)とジシアンジアミドとを塩基性触媒存在下にて反
応せしめる方法、ジカルボニトリル類(7)に相当する
ジカルボン酸のエステルとビグアニド類とを必要により
塩基性化合物の存在下にて反応せしめる方法等により得
ることができる。前者の方法は、原料の入手が容易であ
り取扱が簡単であること、副生物が著しく少なく高純度
で初期目的化合物が得られ、精製分離工程等製造が簡便
であり、原料ロスが著しく少なく、且つ初期目的化合物
を高収率で得ることができること等の点から、技術的、
経済的に優れ、極めて実用性のあるものである。尚、か
かるジグアナミン類(2)の製造方法はこれらの方法に
限定されるものではない。
【0020】本発明に係わる(b)ジグアナミン類
(2)の製造方法におけるジカルボニトリル類(7)
は、シアノ基の結合位置が1,2−、1,3−または
1,4−位であるが、かかる基の立体配置はトランス形
またはシス形であり、いずれも有用である。また、かか
るジカルボニトリル類(7)は、上記した結合位置、立
体配置の異性体からなる群より選ばれる化合物である
が、かかる群より選ばれる異なる化合物の集合体におい
ても、単一化合物の場合と同様に有用である。
【0021】上記したジカルボニトリル類(7)は、例
えば、米国特許第3496217号等に開示されている
如く、4−シアノ−シクロヘキセンとシアン化水素と
を、Ni[P(OC6 5 3 4 等の触媒存在下にて
反応せしめる方法、3−(および/または4−)シアノ
−シクロヘキサンカルバルデヒドとヒドロキシルアミン
類とを反応せしめる方法、上記したジカルボニトリル類
(7)に相当するジハロゲン化シクロヘキサンとシアノ
化アルカリ金属塩、シアノ化アルカリ土類金属塩等のシ
アノ化剤とを反応せしめる方法、上記したジカルボニト
リル類(7)に相当するジカルボン酸あるいはそれらの
ジアンモニウム塩、ジアミド、ジエステル誘導体とアン
モニアとをアルミナ触媒あるいは塩化チオニル等の脱水
剤を用いて反応せしめる方法、1−シアノ−シクロヘキ
センとシアン化水素とを苛性ソーダ等のアルカリ存在下
にて反応せしめる方法等により得ることができるが、こ
れらの方法に限定されるものではない。
【0022】かかるジカルボニトリル類(7)の具体例
としては、1,2−シクロヘキサンジカルボニトリル
(トランス形)、1,3−シクロヘキサンジカルボニト
リル(トランス形)、1,3−シクロヘキサンジカルボ
ニトリル(シス形)、1,4−シクロヘキサンジカルボ
ニトリル(トランス形)、1,4−シクロヘキサンジカ
ルボニトリル(シス形)等が挙げられるがこれらの化合
物に限定されるものではない。
【0023】本発明の樹脂組成物において、(a)ポリ
マレイミド化合物と(b)ジグアナミン類の配合割合
は、(a)ポリマレイミド化合物100重量部に対して
(b)ジグアナミン類が5〜200重量部、好ましくは
10〜100重量部である。本発明に係わる(c)無機
充填剤は、無機質の粉体、例えば、溶融シリカ、結晶シ
リカ、アルミナ、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、炭化
ケイ素、タルク、ケイ酸カルシュウム、炭酸カルシュウ
ム、マイカ、クレー、チタンホワイト等の粉体が使用で
きる。これらの中で、熱膨張率と熱伝導率の点から、溶
融シリカおよび/または結晶シリカ粉末が好ましい。さ
らに、成形時の流動性の点から球形、または球形と不定
形のシリカ粉末の混合物が好ましい。
【0024】(c)無機充填剤の配合量は、(a)ポリ
マレイミド化合物と(b)ジグアナミン類との合計量1
00重量部に対して、100〜900重量部であること
が必要であり、好ましくは200〜600重量部であ
る。また上記の無機充填剤は、機械的強度、耐熱性の点
から、樹脂との接着性向上の目的でカップリング剤を併
用することが好ましく、かかるカップリング剤として
は、シラン系、チタネート系、アルミネート系およびジ
ルコアルミネート系等のカップリング剤が使用できる。
その中でもシラン系カップリング剤が好ましく、特に、
反応性の官能基を有するシラン系カップリング剤が最も
好ましい。
【0025】かかるシラン系カップリング剤の例として
は、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−
アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピ
ルトリエトキシシラン、3−アニリノプロピルトリメト
キシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシ
ラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラ
ン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルト
リメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシ
ラン等を挙げることができ、これらの1種類または2種
類以上が使用される。これらのシラン系カップリング剤
は、予め無機充填剤表面に吸着ないしは反応により固定
されていることが好ましい。
【0026】本発明における(a)ポリマレイミド化合
物、(b)ジグアナミン類及び(c)無機充填剤を必須
成分とする樹脂組成物の硬化物は耐熱性に優れており、
本発明の目的を達成することは可能であるが、可撓性の
点で問題があり、熱衝撃に対しては十分な効果が得られ
ない。従って可撓性を改良して更に優れた性能を付与す
るためには、(d)多官能エポキシ化合物を併用するこ
とが好ましい。この(d)多官能エポキシ化合物として
は、分子内に2個以上のエポキシ基を有するエポキシ化
合物が全て使用できる。
【0027】このようなエポキシ化合物を例示すると、
フェノール、クレゾール、レゾルシノール、ナフトール
等のフェノール類、あるいはこれらをハロゲン化したフ
ェノール類と、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、
ベンズアルデヒド、ヒドロキシベンズアルデヒド、トル
アルデヒド、グリオキザール、アルカンジアール等のア
ルデヒド類との縮合反応により得られる反応生成物とエ
ピクロルヒドリンとの反応により得られるエポキシ化合
物。上記フェノール類とアラルキルアルコール誘導体と
の反応物とエピクロルヒドリンとの反応により得られる
エポキシ化合物が最も好ましく使用されるが、次に示し
た1分子中に2個以上の活性水素を有する化合物から誘
導されるエポキシ化合物も使用できる。例えば、ビスフ
ェノールA、ビスフェノールF、レゾルシン、ビスヒド
ロキシジフェニルエーテル、ビスヒドロキシビフェニ
ル、ビスヒドロキシナフタレン、トリヒドロキシフェニ
ルメタン等の多価フェノール類;エチレングリコール、
ネオペンチルグリコール、グリセリン、トリメチロール
プロパン、ペンタエリスリトール、ジエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール等の多価アルコール類;
エチレンジアミン、アニリン、ビス(4−アミノフェニ
ル)メタン等のアミン類;アジピン酸、フタル酸、イソ
フタル酸等の多価カルボン酸類とエピクロルヒドリンを
反応させて得られるエポキシ化合物が挙げられる。これ
らのエポキシ化合物の1種類又は2樹類以上の混合物が
使用できる。また、前記のエポキシ化合物は、オイル
状、ゴム状のシリコーン化合物等で変性して使用するこ
ともできる。
【0028】(d)多官能エポキシ化合物の配合量は、
(a)ポリマレイミド化合物と(b)ジグアナミン類の
合計量100重量部に対して、5〜200重量部、好ま
しくは10〜100重量部である。この多官能エポキシ
化合物はジグアナミン類のアミノ基と反応して硬化物を
形成するが、この他にポリアミノ化合物、ポリフェノー
ル化合物、酸無水物等の公知の硬化剤を併用してもかま
わない。本発明において、樹脂組成物を短時間で硬化さ
せるにあたっては、硬化促進剤を含有させることが望ま
しく、かかる硬化促進剤としては、2−メチルイミダゾ
ール、2−メチル−4−エチルイミダゾール、2−ヘプ
タデシルイミダゾール等のイミダゾール類;トリエタノ
ールアミン、トリエチレンジアミン、N−メチルモルホ
リン等のアミン類;トリブチルホスフィン、トリフェニ
ルホスフィン、トリトリルホスフィン等の有機ホスフィ
ン類;テトラフェニルホスホニウムテトラフェニルボレ
ート、トリエチルアンモニウムテトラフェニルボレート
等のテトラフェニルボロン塩類;1,8−ジアザ−ビシ
クロ(5,4,0)ウンデセン−7およびその誘導体が
挙げられる。これらの硬化促進剤は、単独で用いても2
種類以上を併用してもよい。
【0029】これら硬化促進剤の含有量は、(a)ポリ
マレイミド化合物、(b)ジグアナミン類、あるいはこ
れに(d)多官能エポキシ化合物を加えた合計量に対し
て、0.01〜10重量%の範囲である。本発明の樹脂
組成物は前記成分の他、必要に応じて各種シリコーンオ
イル;脂肪酸、脂肪酸塩、ワックスなどの離型剤;ブロ
ム化合物、アンチモン、リン等の難燃剤;カーボンブラ
ック等の着色剤等を配合し、混合・混練し、成形材料と
することができる。
【0030】
【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
る。なお、実施例において、組成物の性能の試験方法は
次の通りである。 ・ガラス転移温度:TMA法 ・曲げ強さ及び曲げ弾性率:JIS K−6911 ・半田浸漬テスト:試験用の半導体装置を85℃、85
%の恒温恒湿槽に168時間放置した後、直ちに260
℃の溶融半田浴に投入し、パッケージ樹脂にクラックの
発生した半導体装置の数を数えた。(分子はクラックの
発生した半導体装置の数、分母は試験に供した半導体装
置の総数)。
【0031】参考例1 ジグアナミン類(1)の製造 温度計、撹拌機、液導入管および冷却器を装着した500m
lフラスコに、ビシクロ[2,2,1]ヘプタ−5−エ
ン−2−カルボニトリル297.92g (2.50モル)、 Ni[P(O
6H5)3]4 8.77g(6.75 ミリモル) 、ZnCl2 4.80g(35.22
ミリモル) 、P(O 6H5) 32.27g(0.104 モル) を仕込み、
窒素ガスで十分系内を置換した後、撹拌しながら反応混
合物を65℃に保った。次に、氷冷した液状青酸 94.59
g( 3.50 モル) を、流量45〜55ml/hr にて3時間かけて
反応器に供給した後、更に1時間反応を行った。
【0032】次に、窒素ガスにて系内を置換した後、脱
イオン水を加え、水層部を分離除去して、半固形状の油
状物を得た。この油状物を濾過後減圧蒸留し、362.20g
(収率99.1%)のビシクロ[2,2,1]ヘプタン−
2,5−ジカルボニトリルおよびビシクロ[2,2,
1]ヘプタン−2,6−ジカルボニトリルの混合物(沸
点129 〜137 ℃/1mmHg )を得た。
【0033】撹拌機、温度計、還流冷却器を装着した3
リットルフラスコに、上記の方法により得られたジカル
ボニトリルの混合物 146.2g(1.0 モル) 、ジシアンジア
ミド210.2g(2.5 モル) 、苛性カリ 16.8g、メチルセロ
ソルブ 1000ml を仕込、徐々に加熱した。温度が上昇し
てゆくと反応溶液は透明になり、温度が150 ℃近くにな
ると急激に反応が進行し、発熱が著しく溶媒が還流し
た。還流開始後しばらくすると反応溶液は濁ってきた。
この溶液を温度120 〜125 ℃で撹拌しながら10時間反
応を行った。
【0034】次に、この反応混合物より脱溶剤を行った
後、3リットルの脱イオン水を注ぎ、析出した白色沈澱
を濾別し、この固形分を脱イオン水で洗浄後、メタノー
ルで洗浄し減圧乾燥した。更に、この固形分をエチルセ
ロソルブに溶解させ、この溶液に脱イオン水を加えて再
沈澱後濾別を行い、得られた固形分を水洗した。この固
形分を減圧乾燥して、2,5−ビス(4,6−ジアミノ
−1,3,5−トリアジン−2−イル)−ビシクロ
[2,2,1]ヘプタンおよび2,6−ビス(4,6−
ジアミノ−1,3,5−トリアジン−2−イル)−ビシ
クロ[2,2,1]ヘプタンの混合物[白色粉末状結
晶、融点 317〜324 ℃(DSC測定)]を得た。尚、こ
の反応混合物(処理前)を液体クロマトグラフィーで分
析した結果、上記したグアナミン類(1)の収率(モル
%)は98.2%[対ジカルボニトリル仕込量]であり原料
および初期目的化合物以外の化合物は0.08%[対ジカル
ボニトリル仕込量]であった。該目的物の元素分析、 1
H核磁気共鳴吸収スO)ペクトル分析結果を下
記に示す。 元素分析 C H N 測定値: 49.7 % 5.8 % 44.5 % 計算値: 49.67 % 5.77 % 44.56 %1 H核磁気共鳴吸収スペクトル分析(内部標準物質:TMS
、溶媒:d6-DMSO ) NH2基にもとづく吸収 δ値 6.50ppm (シング
レット) 6.72ppm (シングレット)
【0035】参考例2 ジグアナミン類(2−1)の製造 温度計、撹拌機、ガス導入管および冷却器を装着した50
0ml フラスコに、4−シアノ−シクロヘキセン 188.6g
、Ni[P(O6 H5)3]4 6.0g 、ZnCl2 3.0g 、P(O6 H5)23.9
g を仕込み、窒素ガスで十分系内を置換した後、撹拌
しながら反応混合物を75℃に保った。次に、窒素希釈
された42モル%の青酸ガスを 177.0ミリモル/時間の
速度で反応器に7時間供給した。次に、窒素ガスにて系
内を置換した後、反応液を冷却し分析した結果、収率6
4.9%のジカルボニトリルを得た。この反応液に水およ
び酢酸エチルを各々 500g 加え、撹拌後、5時間放置さ
せた後、有機層を分離し、酢酸エチルを蒸発留去させ
た。次に、減圧蒸留を行い、圧力 0.5〜1.0mmHg、温度
120〜130 ℃の留分として、132.0gの1,3−シクロヘ
キサンジカルボニトリルおよび1,4−シクロヘキサン
ジカルボニトリルの混合物を得た。尚、この留分を分析
した結果、1,3−シクロヘキサンジカルボニトリル 6
4.4 %、1,4−シクロヘキサンジカルボニトリル 35.
6 %の組成であった。
【0036】撹拌機、温度計、還流冷却器を装着した3
リットルフラスコに、上記の方法により得られたジカル
ボニトリルの混合物 134.2g(1.0 モル) 、ジシアンジア
ミド210.2g(2.5 モル) 、苛性カリ 15.8g、メチルセロ
ソルブ 1000ml を仕込、徐々に加熱した。温度が上昇し
てゆくと反応溶液は透明になり、温度が150 ℃近くにな
ると急激に反応が進行し、発熱が著しく溶媒が還流し
た。還流開始後しばらくすると反応溶液は濁ってきた。
この溶液を温度120 〜125 ℃撹拌しながら10時間反応
を行った。
【0037】次に、この反応混合物より脱溶剤を行った
後、3リットルの脱イオン水を注ぎ、析出した白色沈澱
を濾別し、この固形分を脱イオン水で洗浄後、メタノー
ルで洗浄し減圧乾燥した。更に、この固形分をエチルセ
ロソルブに溶解させ、この溶液に脱イオン水を加えて再
沈澱後濾別を行い、得られた固形分を水洗した。この固
形分を減圧乾燥して、1,3−ビス(4,6−ジアミノ
−1,3,5−トリアジン−2−イル)−シクロヘキサ
ンおよび1,4−ビス(4,6−ジアミノ−1,3,5
−トリアジン−2−イル)−シクロヘキサンの混合物
[白色粉末状結晶、融点 317〜321 ℃(DSC測定)]
を得た。尚、この反応混合物(処理前)を液体クロマト
グラフィーで分析した結果、上記したグアナミン類
(2)の収率(モル%)は97.3%[対ジカルボニトリル
仕込量]であり原料および初期目的化合物以外の化合物
は0.12%[対ジカルボニトリル仕込量]であった。該目
的物の元素分析、 1H核磁気共鳴吸収スペクトル分析結
果を下記に示す。 元素分析 C H N 測定値: 47.6 % 6.1 % 46.3 % 計算値: 47.67 % 6.00 % 46.33 %1 H核磁気共鳴吸収スペクトル分析(内部標準物質:TMS
、溶媒:d6-DMSO ) NH2基にもとづく吸収 δ値 6.49ppm (シング
レット)
【0038】参考例3 ジグアナミン類(2−2)の製造 参考例2におけるジカルボニトリルの混合物 134.2g(1.
0 モル) の代わりに1,4−シクロヘキサンジカルボニ
トリル 147.6g(1.1 モル) を用いる以外は参考例2と同
様の手順で反応を行い、反応混合物の処理を行った。こ
の得られた固形分を減圧乾燥して、1,4−ビス(4,
6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン−2−イル)−
シクロヘキサン[白色粉末状結晶、融点 319〜322 ℃
(DSC測定)]を得た。尚、この反応混合物(処理
前)を液体クロマトグラフィーで分析した結果、上記し
たグアナミン類(2)の収率(モル%)は95.8%[対ジ
カルボニトリル仕込量]であった。該目的物の赤外線吸
収スペクトルには、原料化合物の有するニトリルの吸収
(2237cm-1)が消失し、新たにトリアジン環の吸収(82
1cm -1)が現れ、元素分析の測定値は下記の通り計算値
とよく一致した。 元素分析 C H N 測定値: 47.7 % 6.1 % 46.2 % 計算値: 47.67 % 6.00 % 46.33 %1 H核磁気共鳴吸収スペクトル分析(内部標準物質:TMS
、溶媒:d6-DMSO ) NH2基にもとづく吸収 δ値 6.50ppm (シング
レット)
【0039】実施例1〜8および比較例1〜3 第1表に示す組成(重量部)の配合物をヘンシェルミキ
サーで混合し、さらに100〜120 ℃の熱ロールにて3分
間溶融・混練した。この混合物を冷却、粉砕し、打錠し
て成形用樹脂組成物を得た。なお、第1表中で使用した
原料で、参考例以外の物は、次のものを使用した。 ・ポリマレイミド化合物(1); ビス(4-マレイミ
ドフェニル)メタン(三井東圧化学(株)製) ・ポリマレイミド化合物(2); 4,4’−ビス(3
- マレイミドフェノキシ)ビフェニル(三井東圧化学
(株)製) ・ポリマレイミド化合物(3); 一般式(5)におい
てZがp−メチレン基であるポリマレイミド化合物(三
井東圧化学(株)製) ・エポキシ化合物(1); o−クレゾールノボラック
型エポキシ樹脂(EOCN-1020 、日本化薬(株)製) ・エポキシ化合物(2); 臭素化フェノールノボラッ
ク型エポキシ樹脂(BREN-S 、日本化薬(株)製) ・フェノール化合物; ノボラック型フェノール樹脂
(PN-80 、日本化薬(株)製) ・無機充填剤; 球形溶融シリカ(FB−20S、電気
化学工業(株)製) ・シランカップリング剤; 3-アニリノプロピルトリメ
トキシシラン(SZ−6083、東レダウコ−ニング・
シリコ−ン(株)製) 以上のようにして得られた成形用樹脂組成物を用いてト
ランスファー成形(180 ℃、30kg/cm2、3分間)によ
り、物性測定用の試験片を成形した。また、フラットパ
ッケージ型半導体装置用リードフレームの素子搭載部
に、試験用素子(12mm×12mm角)を搭載した後トランス
ファー成形(180 ℃、30kg/cm2、3分間)により、試験
用半導体装置を得た。これらの試験用成形物は、各試験
を行う前に、180 ℃で6時間、後硬化を行った。試験結
果を第2表に示す。
【0040】
【表1】
【0041】
【表2】
【0042】
【発明の効果】実施例および比較例にて説明したごと
く、本発明による樹脂組成物は、ガラス転移温度が高
く、高温における強度が高いので、溶融半田浴に浸漬す
るような最も過酷な半田付け方法が適用される表面実装
型の半導体装置を封止した場合、優れた耐半田クラック
性を示し、信頼性の高い樹脂封止型半導体装置を得るこ
とができ、工業的に有益な発明である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 79/00 LQZ H01L 23/29 23/31

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】(a)ポリマレイミド化合物、(b)一般
    式(1)(化1) 【化1】 [式中、(4,6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン
    −2−イル)基の結合位置は、2,5−又は2,6−位
    を示す]、及び一般式(2)(化2) 【化2】 [式中、(4,6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン
    −2−イル)基の結合位置は、1,2−、1,3−又は
    1,4−位を示す]で表されるジグアナミン類の中から
    選ばれる少なくとも1種を含有するアミノ化合物及び、
    (c)無機充填剤を必須成分として含有する事を特徴と
    する半導体封止用樹脂組成物。
  2. 【請求項2】(a)ポリマレイミド化合物、(b)一般
    式(1)(化3) 【化3】 [式中、(4,6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン
    −2−イル)基の結合位置は、2,5−又は2,6−位
    を示す]、及び一般式(2)(化4) 【化4】 [式中、(4,6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン
    −2−イル)基の結合位置は、1,2−、1,3−又は
    1,4−位を示す]で表されるジグアナミン類の中から
    選ばれる少なくとも1種を含有するアミノ化合物、
    (c)無機充填剤及び、(d)多官能エポキシ化合物を
    必須成分として含有する事を特徴とする半導体封止用樹
    脂組成物。
  3. 【請求項3】(a)ポリマレイミド化合物が、一般式
    (3)(化5) 【化5】 (式中、R1 は水素原子または炭素数1〜4のアルキル
    基、Xは直結、 -CH2-、-CO-、-SO2- 、−SO-、-S- 、-O
    - またはシクロアルキル基を示す。nは0または1を示
    す。)で表されるビスマレイミド化合物である請求項1
    または2記載の半導体封止用樹脂組成物。
  4. 【請求項4】(a)ポリマレイミド化合物が、一般式
    (4)(化6) 【化6】 (式中、Yは置換または非置換の芳香環を一個以上有す
    る2価の有機基を示す。)で表されるビスマレイミド化
    合物である請求項1または2記載の半導体封止用樹脂組
    成物。
  5. 【請求項5】(a)ポリマレイミド化合物が、一般式
    (5)(化7) 【化7】 (式中、Zはメチレン基またはp−キシリレン基を示
    す。mは0を含まない0〜5の数を示す。)で表される
    ポリマレイミド化合物である請求項1または2記載の半
    導体封止用樹脂組成物。
JP10841493A 1993-05-10 1993-05-10 半導体封止用樹脂組成物 Pending JPH06322118A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10841493A JPH06322118A (ja) 1993-05-10 1993-05-10 半導体封止用樹脂組成物

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10841493A JPH06322118A (ja) 1993-05-10 1993-05-10 半導体封止用樹脂組成物

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06322118A true JPH06322118A (ja) 1994-11-22

Family

ID=14484159

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10841493A Pending JPH06322118A (ja) 1993-05-10 1993-05-10 半導体封止用樹脂組成物

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06322118A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017110051A (ja) * 2015-12-14 2017-06-22 住友ベークライト株式会社 封止用樹脂組成物、半導体装置および車載用電子制御ユニット
JP2018115233A (ja) * 2017-01-16 2018-07-26 住友ベークライト株式会社 封止用樹脂組成物および半導体装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017110051A (ja) * 2015-12-14 2017-06-22 住友ベークライト株式会社 封止用樹脂組成物、半導体装置および車載用電子制御ユニット
JP2018115233A (ja) * 2017-01-16 2018-07-26 住友ベークライト株式会社 封止用樹脂組成物および半導体装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI422637B (zh) 半導體密封用樹脂組成物及使用其之半導體裝置
KR100243708B1 (ko) 반도체 캡슐화 에폭시 수지조성물 및 그것으로 캡슐화된 반도체장치(Semiconductor Encapsulating Epoxy Resin Compositions and Semiconductor Devices Encapsulated Therewith)
US8048969B2 (en) Semiconductor encapsulating epoxy resin composition and semiconductor device
JP5363704B2 (ja) 封止用エポキシ樹脂及びその用途
US9850390B2 (en) Epoxy resin composition for encapsulating semiconductor device and semiconductor device prepared using the same
US9896465B2 (en) Phosphonium compound, preparation method thereof, epoxy resin composition including the same, and semiconductor device prepared by using the same
US5134204A (en) Resin composition for sealing semiconductors
JPH06322118A (ja) 半導体封止用樹脂組成物
JP2870903B2 (ja) 半導体封止用樹脂組成物
JPH06322076A (ja) 半導体封止用エポキシ樹脂組成物
JP2022075509A (ja) 半導体素子封止用エポキシ樹脂組成物およびそれを用いて封止された半導体素子
JP3852540B2 (ja) ホスホニウムボレート化合物、その製造方法、エポキシ樹脂組成物用硬化触媒及びエポキシ樹脂組成物
JP2004359672A (ja) アニリン系化合物、およびその製造方法
JP3042897B2 (ja) 樹脂組成物
JP2912470B2 (ja) 樹脂組成物
JP2912467B2 (ja) 樹脂組成物
JPH03725A (ja) 耐熱性エポキシ樹脂組成物
JP2912468B2 (ja) 樹脂組成物
JP2003064142A (ja) 多価フェノール化合物と該化合物を用いたエポキシ樹脂用硬化剤、及びエポキシ樹脂組成物
EP0397395A2 (en) Resin composition for sealing semiconductors
JPH03724A (ja) 耐熱性熱硬化性樹脂組成物
JPH0822901B2 (ja) 新規なエポキシ樹脂変性体及びその製造法
JPH03192113A (ja) 半導体封止用樹脂組成物
JP2003192771A (ja) フェノール樹脂、その製法、エポキシ樹脂用硬化剤、エポキシ樹脂組成物及び半導体装置
JP2947644B2 (ja) 樹脂組成物