JPH06313802A - 赤外域多層膜 - Google Patents
赤外域多層膜Info
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- JPH06313802A JPH06313802A JP5102580A JP10258093A JPH06313802A JP H06313802 A JPH06313802 A JP H06313802A JP 5102580 A JP5102580 A JP 5102580A JP 10258093 A JP10258093 A JP 10258093A JP H06313802 A JPH06313802 A JP H06313802A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 赤外光学用基板に形成された赤外域多層膜に
おいて、基板側からの最外層にY2O3からなる耐磨耗性強
化層を設けたことを特徴とする赤外域多層膜。 【効果】 最外層がY2O3層である本発明の赤外反射防止
膜は、分光特性が劣化することなく、耐磨耗性が向上し
ている。
おいて、基板側からの最外層にY2O3からなる耐磨耗性強
化層を設けたことを特徴とする赤外域多層膜。 【効果】 最外層がY2O3層である本発明の赤外反射防止
膜は、分光特性が劣化することなく、耐磨耗性が向上し
ている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、赤外線領域の光学部材
として用いられる赤外域多層膜、特に赤外反射防止膜及
びフィルターに関する。
として用いられる赤外域多層膜、特に赤外反射防止膜及
びフィルターに関する。
【従来技術】最近、赤外光を用いた光学機器の開発が盛
んに行われ、特に８〜１４μm 領域の赤外光の利用が注
目されている。これに伴い、この領域の赤外光に有効な
赤外反射防止膜が種々提案されている。例えば、ZnSe基
板にPbF2膜とThF4膜からなる２層膜を積層した赤外反射
防止膜 (特公昭61-28962号公報) 、 ZnS又はZnSe基板に
YF3 、ZnS 、YF3 の３層膜を積層した赤外反射防止膜
（特開昭64-15703号公報) 、Ge基板にZnS 、Ge、ZnS 、
BaF2、ZnS のそれぞれの膜を形成してなる赤外反射防止
膜 (特公平2-11121 号公報) 、或いはGe基板にZnS 又は
ZnSe、Ge、ZnS 、BaF2のそれぞれの膜を形成してなる赤
外反射防止膜 (特公平2-13761 号公報) 等が知られてい
る。しかしこれら従来の赤外反射防止膜は、耐磨耗性が
低い。これは、中間屈折率層、低屈折率層を構成する例
えば、CaF2、BaF2、SrF2、ZnSe、ZnS 、BK７（ガラ
ス）、Ge、Siなどの物性に起因するものである。これら
の物質の耐磨耗性の指標となるヌープ硬度は以下のとお
りである。 種類 CaF2 BaF2 SrF2 ZnSe ZnS BK7 Ge Si 硬度 158 82 130 105 160 570 190 1150 また、"Optical Coating for High Energy ZnSe Laser
Windows" Appl. Opt.,30, 2075-2080 の Table IV.に
も、ZnS やZnSeを基板とする赤外反射防止膜の耐磨耗性
が低いことが示されている。また、これらの ZnSやZnSe
を基板とする赤外反射防止膜においては、膜全体の内部
応力が不均衡であるため、膜の剥離が起こり、耐久性が
低いという問題もあった。例えばYF3 、ZnS 、YF3 の３
層膜を積層した ZnS基板の反射防止膜では、YF3 膜の引
っ張り応力が大きいため、膜全体の内部応力が緩和され
ず、膜剥離等が生じる原因となっていた。
んに行われ、特に８〜１４μm 領域の赤外光の利用が注
目されている。これに伴い、この領域の赤外光に有効な
赤外反射防止膜が種々提案されている。例えば、ZnSe基
板にPbF2膜とThF4膜からなる２層膜を積層した赤外反射
防止膜 (特公昭61-28962号公報) 、 ZnS又はZnSe基板に
YF3 、ZnS 、YF3 の３層膜を積層した赤外反射防止膜
（特開昭64-15703号公報) 、Ge基板にZnS 、Ge、ZnS 、
BaF2、ZnS のそれぞれの膜を形成してなる赤外反射防止
膜 (特公平2-11121 号公報) 、或いはGe基板にZnS 又は
ZnSe、Ge、ZnS 、BaF2のそれぞれの膜を形成してなる赤
外反射防止膜 (特公平2-13761 号公報) 等が知られてい
る。しかしこれら従来の赤外反射防止膜は、耐磨耗性が
低い。これは、中間屈折率層、低屈折率層を構成する例
えば、CaF2、BaF2、SrF2、ZnSe、ZnS 、BK７（ガラ
ス）、Ge、Siなどの物性に起因するものである。これら
の物質の耐磨耗性の指標となるヌープ硬度は以下のとお
りである。 種類 CaF2 BaF2 SrF2 ZnSe ZnS BK7 Ge Si 硬度 158 82 130 105 160 570 190 1150 また、"Optical Coating for High Energy ZnSe Laser
Windows" Appl. Opt.,30, 2075-2080 の Table IV.に
も、ZnS やZnSeを基板とする赤外反射防止膜の耐磨耗性
が低いことが示されている。また、これらの ZnSやZnSe
を基板とする赤外反射防止膜においては、膜全体の内部
応力が不均衡であるため、膜の剥離が起こり、耐久性が
低いという問題もあった。例えばYF3 、ZnS 、YF3 の３
層膜を積層した ZnS基板の反射防止膜では、YF3 膜の引
っ張り応力が大きいため、膜全体の内部応力が緩和され
ず、膜剥離等が生じる原因となっていた。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、分光
特性を劣化させることなく、膜表面を硬化させ、耐磨耗
性に優れた赤外域多層膜、特に赤外反射防止膜及びフィ
ルターを提供することである。本発明の他の目的は、膜
全体の内部応力の不均衡を緩和し、膜剥離等を生じるこ
とのない、耐久性に優れた赤外域多層膜、特に赤外反射
防止膜及びフィルターを提供することである。
特性を劣化させることなく、膜表面を硬化させ、耐磨耗
性に優れた赤外域多層膜、特に赤外反射防止膜及びフィ
ルターを提供することである。本発明の他の目的は、膜
全体の内部応力の不均衡を緩和し、膜剥離等を生じるこ
とのない、耐久性に優れた赤外域多層膜、特に赤外反射
防止膜及びフィルターを提供することである。
【０００３】
【課題を解決するための手段】本発明は、赤外光学用基
板に形成された赤外域多層膜において、基板側からの最
外層にY2O3からなる耐磨耗性強化層を設けたことを特徴
とする赤外域多層膜を提供するものである。本発明はま
た、Al2O3 、Y2O3、Ti2O3 、TiO 及びTiO2からなる群か
ら選ばれる密着力強化層を有する赤外域多層膜を提供す
るものである。本発明の赤外域多層膜に使用される赤外
光学用基板は、好ましくはZnS 、ZnSe、Ge、Si又はカル
コゲナイドガラスである。本発明の赤外域多層膜の成分
の例としては、CaF2、BaF2、SrF2、ZnSe、ZnS 、YF3 、
TiO2、PbF2、ThF4、Ge、Si等が挙げられる。これらの膜
の形成方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング
等の、従来公知の真空薄膜堆積技術が用いられる。最外
層に設けられるY2O3又はAl2O3 からなる耐磨耗性強化層
の膜厚は、３００nm以下、好ましくは１６０〜２００nm
が適当である。分光特性を変化させないという点からは
Y2O3の方が好ましい。これらの膜の形成方法としては、
真空蒸着、イオンプレーティング等の、従来公知の真空
薄膜堆積技術が用いられる。
板に形成された赤外域多層膜において、基板側からの最
外層にY2O3からなる耐磨耗性強化層を設けたことを特徴
とする赤外域多層膜を提供するものである。本発明はま
た、Al2O3 、Y2O3、Ti2O3 、TiO 及びTiO2からなる群か
ら選ばれる密着力強化層を有する赤外域多層膜を提供す
るものである。本発明の赤外域多層膜に使用される赤外
光学用基板は、好ましくはZnS 、ZnSe、Ge、Si又はカル
コゲナイドガラスである。本発明の赤外域多層膜の成分
の例としては、CaF2、BaF2、SrF2、ZnSe、ZnS 、YF3 、
TiO2、PbF2、ThF4、Ge、Si等が挙げられる。これらの膜
の形成方法としては、真空蒸着、イオンプレーティング
等の、従来公知の真空薄膜堆積技術が用いられる。最外
層に設けられるY2O3又はAl2O3 からなる耐磨耗性強化層
の膜厚は、３００nm以下、好ましくは１６０〜２００nm
が適当である。分光特性を変化させないという点からは
Y2O3の方が好ましい。これらの膜の形成方法としては、
真空蒸着、イオンプレーティング等の、従来公知の真空
薄膜堆積技術が用いられる。
【０００４】本発明はまた、赤外光学用基板に形成され
た赤外反射防止膜において、基板がZnSe基板であり、基
板側から数えて第１層に中間屈折率の ZnS膜、第２層に
低屈折率の YF3膜、第３層に中間屈折率の ZnS膜、第４
層に低屈折率の YF3膜を積層してなる赤外反射防止膜を
提供するものである。さらに本発明は、赤外光学用基板
に形成された赤外反射防止膜において、基板が ZnS基板
であり、基板側から数えて第１層に中間屈折率の ZnS
膜、第２層に低屈折率の YF3膜、第３層に中間屈折率の
ZnS膜、第４層に低屈折率の YF3膜を積層してなる赤外
反射防止膜を提供するものである。これらの赤外反射防
止膜において、第１層〜第４層の各層の光学膜厚は、以
下の条件を満足することが好ましい。 0.０５λ0 ≦４n1d1≦１0.０λ0 0.０４λ0 ≦４n2d2≦0.２５λ0 0.２５λ0 ≦４n3d3≦0.６５λ0 0.７５λ0 ≦４n4d4≦1.２５λ0 式中d1、d2、d3及びd4は各層の光学膜厚であり、n1、
n2、n3及びn4は各層の屈折率であり、λ0 は設計基準波
長である。これらの赤外反射防止膜は、Al2O3 、Y2O3、
Ti2O3 、TiO 及びTiO2からなる群から選ばれる密着力強
化層を有することが好ましい。またこれらの赤外反射防
止膜の最外層にY2O3からなる耐磨耗性強化層を設けるこ
とによりその耐磨耗性を改善することができる。
た赤外反射防止膜において、基板がZnSe基板であり、基
板側から数えて第１層に中間屈折率の ZnS膜、第２層に
低屈折率の YF3膜、第３層に中間屈折率の ZnS膜、第４
層に低屈折率の YF3膜を積層してなる赤外反射防止膜を
提供するものである。さらに本発明は、赤外光学用基板
に形成された赤外反射防止膜において、基板が ZnS基板
であり、基板側から数えて第１層に中間屈折率の ZnS
膜、第２層に低屈折率の YF3膜、第３層に中間屈折率の
ZnS膜、第４層に低屈折率の YF3膜を積層してなる赤外
反射防止膜を提供するものである。これらの赤外反射防
止膜において、第１層〜第４層の各層の光学膜厚は、以
下の条件を満足することが好ましい。 0.０５λ0 ≦４n1d1≦１0.０λ0 0.０４λ0 ≦４n2d2≦0.２５λ0 0.２５λ0 ≦４n3d3≦0.６５λ0 0.７５λ0 ≦４n4d4≦1.２５λ0 式中d1、d2、d3及びd4は各層の光学膜厚であり、n1、
n2、n3及びn4は各層の屈折率であり、λ0 は設計基準波
長である。これらの赤外反射防止膜は、Al2O3 、Y2O3、
Ti2O3 、TiO 及びTiO2からなる群から選ばれる密着力強
化層を有することが好ましい。またこれらの赤外反射防
止膜の最外層にY2O3からなる耐磨耗性強化層を設けるこ
とによりその耐磨耗性を改善することができる。
【０００５】以下実施例により本発明を更に詳細に説明
する。
する。
〔実施例１〕（赤外反射防止膜） 基 板 ZnSe 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 BaF2 光学膜厚 0.135 λ0 第２層 ZnS 光学膜厚 0.055 λ0 なお、基準となる波長λ0 は、１0.６μm である。TiO2
は基準波長に拘らず１００nmであれば、分光特性を劣化
させることなく、密着性を向上させることができる。 〔比較例１〕（赤外反射防止膜） 密着力強化層を設けなかったほかは実施例１と同じ。上
記試料について、密着性及び耐磨耗性を以下の試験方法
により調べた。 密着性テスト (MIL-C-13508C 4.4.6): セロテープをは
りつけ、これを剥がしたときに膜が剥がれるかどうかを
目視により観察する。 耐磨耗性テスト(MIL-C-13508C 4.4.5): チーズクロスを
用い５００ｇの圧力を掛けて５０ストロークテストを行
い膜面に傷ができるかどうかを目視により観察する。 結果を以下に示す。 上記結果は、TiO2からなる密着力強化層を設けることに
より密着性が著しく向上することを示している。 〔実施例２〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnSe 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 YF3 〃 0.038 λ0 第２層 ZnS 〃 0.130 λ0 第３層 YF3 〃 0.250 λ0 なお、基準となる波長λ0 は9.０μｍである。
は基準波長に拘らず１００nmであれば、分光特性を劣化
させることなく、密着性を向上させることができる。 〔比較例１〕（赤外反射防止膜） 密着力強化層を設けなかったほかは実施例１と同じ。上
記試料について、密着性及び耐磨耗性を以下の試験方法
により調べた。 密着性テスト (MIL-C-13508C 4.4.6): セロテープをは
りつけ、これを剥がしたときに膜が剥がれるかどうかを
目視により観察する。 耐磨耗性テスト(MIL-C-13508C 4.4.5): チーズクロスを
用い５００ｇの圧力を掛けて５０ストロークテストを行
い膜面に傷ができるかどうかを目視により観察する。 結果を以下に示す。 上記結果は、TiO2からなる密着力強化層を設けることに
より密着性が著しく向上することを示している。 〔実施例２〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnSe 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 YF3 〃 0.038 λ0 第２層 ZnS 〃 0.130 λ0 第３層 YF3 〃 0.250 λ0 なお、基準となる波長λ0 は9.０μｍである。
【０００６】〔実施例３〕（赤外反射防止膜） 基 板 ZnSe 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 BaF2 光学膜厚 0.135 λ0 第２層 ZnS 光学膜厚 0.055 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 光学膜厚 160 nm なお、基準となる波長λ0 は、１0.６μm である。Y2O3
は基準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を
劣化させることなく、耐磨耗性を向上させることができ
る。 〔実施例４〕（赤外反射防止膜） 耐磨耗性強化層をAl2O3 としたほかは実施例３と同じ。
上記試料について、密着性及び耐磨耗性を調べた。結果
を以下に示す。 上記実施例３及び実施例４の試料の分光特性を図１に示
す。最外層がY2O3層である実施例３の赤外反射防止膜
は、最外層がAl2O3 層である実施例４の赤外反射防止膜
と比較して、分光特性が劣化することなく、耐磨耗性が
向上することがわかる。すなわち、実施例３の赤外反射
防止膜は、赤外線をほぼ完全に透過させていることがわ
かる。図１において太い実線は耐磨耗性強化層を設ける
前の赤外反射防止膜の分光特性を示す。 〔実施例５〕 基板 ZnSe 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 YF3 〃 0.038 λ0 第２層 ZnS 〃 0.130 λ0 第３層 YF3 〃 0.250 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は9.０μｍである。
は基準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を
劣化させることなく、耐磨耗性を向上させることができ
る。 〔実施例４〕（赤外反射防止膜） 耐磨耗性強化層をAl2O3 としたほかは実施例３と同じ。
上記試料について、密着性及び耐磨耗性を調べた。結果
を以下に示す。 上記実施例３及び実施例４の試料の分光特性を図１に示
す。最外層がY2O3層である実施例３の赤外反射防止膜
は、最外層がAl2O3 層である実施例４の赤外反射防止膜
と比較して、分光特性が劣化することなく、耐磨耗性が
向上することがわかる。すなわち、実施例３の赤外反射
防止膜は、赤外線をほぼ完全に透過させていることがわ
かる。図１において太い実線は耐磨耗性強化層を設ける
前の赤外反射防止膜の分光特性を示す。 〔実施例５〕 基板 ZnSe 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 YF3 〃 0.038 λ0 第２層 ZnS 〃 0.130 λ0 第３層 YF3 〃 0.250 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は9.０μｍである。
【０００７】〔実施例６〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnSe 密着力強化層 Y2O3 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.25λ0 第２層 YF3 〃 0.25λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は、１０μｍである。Y2O3は
基準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣
化させることなく、耐磨耗性を向上させることができ
る。 〔実施例７〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnS 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.25λ0 第２層 YF3 〃 0.25λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 300 nm なお、基準となる波長λ0 は１０μｍである。Y2O3は基
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。
基準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣
化させることなく、耐磨耗性を向上させることができ
る。 〔実施例７〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnS 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.25λ0 第２層 YF3 〃 0.25λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 300 nm なお、基準となる波長λ0 は１０μｍである。Y2O3は基
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。
【０００８】〔実施例８〕（フィルター） 基板 Ge 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.25λ0 第２層 Ge 〃 0.25λ0 第３層 ZnS 〃 0.25λ0 第４層 Ge 〃 0.50λ0 第５層 ZnS 〃 0.25λ0 第６層 Ge 〃 0.25λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は１１μｍである。Y2O3は基
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。 〔実施例９〕（赤外反射防止膜） 基板 Ge 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.055 λ0 第２層 Ge 〃 0.109 λ0 第３層 ZnS 〃 0.270 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は7.５μｍである。Y2O3は基
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。 〔実施例９〕（赤外反射防止膜） 基板 Ge 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.055 λ0 第２層 Ge 〃 0.109 λ0 第３層 ZnS 〃 0.270 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は7.５μｍである。Y2O3は基
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。
【０００９】 〔実施例１０〕（赤外反射防止膜） 基板 Ge 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.089 λ0 第２層 Ge 〃 0.123 λ0 第３層 ZnS 〃 0.293 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 第５層 ZnS 〃 0.041 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は5.６μｍである。Y2O3は基
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。
図２に反射率特性を示す。 〔実施例１１〕（赤外反射防止膜） 基板 Ge 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.033 λ0 第２層 Ge 〃 0.210 λ0 第３層 ZnS 〃 0.098 λ0 第４層 Ge 〃 0.150 λ0 第５層 ZnS 〃 0.180 λ0 第６層 Ge 〃 0.048 λ0 第７層 ZnS 〃 0.243 λ0 第８層 YF3 〃 0.083 λ0 第９層 ZnS 〃 0.125 λ0 第１０層 YF3 〃 0.400 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は3.３μｍである。Y2O3は基
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。
図２に反射率特性を示す。 〔実施例１１〕（赤外反射防止膜） 基板 Ge 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.033 λ0 第２層 Ge 〃 0.210 λ0 第３層 ZnS 〃 0.098 λ0 第４層 Ge 〃 0.150 λ0 第５層 ZnS 〃 0.180 λ0 第６層 Ge 〃 0.048 λ0 第７層 ZnS 〃 0.243 λ0 第８層 YF3 〃 0.083 λ0 第９層 ZnS 〃 0.125 λ0 第１０層 YF3 〃 0.400 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は3.３μｍである。Y2O3は基
準波長に拘らず３００nm以下であれば、分光特性を劣化
させることなく、耐磨耗性を向上させることができる。
【００１０】上記実施例１１の赤外反射防止膜は反射防
止域の広帯域化を図ったものであり、図２に示すよう
に、３〜１２μｍの広い範囲で反射防止の効果を有す
る。実施例９〜１１はGe基板の反射防止膜であるが、密
着力強化層と第１層との間にGeを任意の膜厚で積層して
も反射防止効果にはほとんど影響を及ぼさない。実施例
６〜１１の赤外反射防止膜について、密着性テスト（MI
L-C-13508C 4.4.6) 及び耐磨耗性テスト（MIL-C-13508C
4.4.5) を行った。結果を以下に示す。 密着性テスト 耐磨耗性テスト 実施例６ 膜剥がれなし 膜面の傷なし 〃 ７ 〃 〃 〃 ８ 〃 〃 〃 ９ 〃 〃 〃 10 〃 〃 〃 11 〃 〃 密着力強化層としてY2O3又はTiO2、耐磨耗性強化層とし
てY2O3を積層することで、密着力が強化され、耐磨耗性
が向上することがわかる。なお、密着力強化層として、
TiO を積層することによっても同様に密着力を向上でき
る。
止域の広帯域化を図ったものであり、図２に示すよう
に、３〜１２μｍの広い範囲で反射防止の効果を有す
る。実施例９〜１１はGe基板の反射防止膜であるが、密
着力強化層と第１層との間にGeを任意の膜厚で積層して
も反射防止効果にはほとんど影響を及ぼさない。実施例
６〜１１の赤外反射防止膜について、密着性テスト（MI
L-C-13508C 4.4.6) 及び耐磨耗性テスト（MIL-C-13508C
4.4.5) を行った。結果を以下に示す。 密着性テスト 耐磨耗性テスト 実施例６ 膜剥がれなし 膜面の傷なし 〃 ７ 〃 〃 〃 ８ 〃 〃 〃 ９ 〃 〃 〃 10 〃 〃 〃 11 〃 〃 密着力強化層としてY2O3又はTiO2、耐磨耗性強化層とし
てY2O3を積層することで、密着力が強化され、耐磨耗性
が向上することがわかる。なお、密着力強化層として、
TiO を積層することによっても同様に密着力を向上でき
る。
【００１１】また、基板としてZnSeを使用した赤外反射
防止膜について、以下に実施例１２〜実施例１４を示
す。 〔実施例１２〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnSe 第１層 ZnS 光学膜厚 0.116 λ0 第２層 YF3 〃 0.030 λ0 第３層 ZnS 〃 0.109 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 なお、基準となる波長λ0 は9.５μｍである。 〔実施例１３〕 基板 ZnSe 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.116 λ0 第２層 YF3 〃 0.030 λ0 第３層 ZnS 〃 0.109 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 なお、基準となる波長λ0 は9.５μｍである。密着力強
化層TiO2により、密着力を向上させることができる。 〔実施例１４〕 基板 ZnSe 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.116 λ0 第２層 YF3 〃 0.030 λ0 第３層 ZnS 〃 0.109 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は9.５μｍである。密着力強
化層TiO2および耐磨耗性強化層Y2O3により、密着力を強
化させ、耐磨耗性を向上させることができる。図３に反
射率特性を示す。
防止膜について、以下に実施例１２〜実施例１４を示
す。 〔実施例１２〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnSe 第１層 ZnS 光学膜厚 0.116 λ0 第２層 YF3 〃 0.030 λ0 第３層 ZnS 〃 0.109 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 なお、基準となる波長λ0 は9.５μｍである。 〔実施例１３〕 基板 ZnSe 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.116 λ0 第２層 YF3 〃 0.030 λ0 第３層 ZnS 〃 0.109 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 なお、基準となる波長λ0 は9.５μｍである。密着力強
化層TiO2により、密着力を向上させることができる。 〔実施例１４〕 基板 ZnSe 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.116 λ0 第２層 YF3 〃 0.030 λ0 第３層 ZnS 〃 0.109 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は9.５μｍである。密着力強
化層TiO2および耐磨耗性強化層Y2O3により、密着力を強
化させ、耐磨耗性を向上させることができる。図３に反
射率特性を示す。
【００１２】実施例２、５、１３及び１４の赤外反射防
止膜を温度５０℃、湿度９５％の雰囲気中に４８時間放
置し（MIL-C-13508C 4.4.7) 、その後、−６２℃に１０
時間、次いで８５℃に１０時間放置する温度サイクルを
１サイクルとして、５サイクル繰り返す強制テストに付
した後、密着性及び耐磨耗性を調べた。結果を以下に示
す。 密着性テスト 耐磨耗性テスト 実施例２ 膜剥がれあり ────── 〃 ５ 〃 あり ────── 〃 １３ 〃 なし 膜面の傷あり 〃 １４ 〃 なし 〃 なし これから、ZnSe基板に３層膜を設けた実施例２及び５の
赤外反射防止膜に比較し、ZnSe基板に４層膜、すなわち
基板側から数えて第１層に中間屈折率のZnS 膜、第２層
に低屈折率のYF3 膜、第３層に中間屈折率のZnS 膜、第
４層に低屈折率のYF3 膜を積層して膜全体の内部応力を
緩和した実施例１３及び１４の赤外反射防止膜は、強制
条件下でも膜剥がれ等がなく、耐磨耗性も高いより優れ
た膜であることがわかる。
止膜を温度５０℃、湿度９５％の雰囲気中に４８時間放
置し（MIL-C-13508C 4.4.7) 、その後、−６２℃に１０
時間、次いで８５℃に１０時間放置する温度サイクルを
１サイクルとして、５サイクル繰り返す強制テストに付
した後、密着性及び耐磨耗性を調べた。結果を以下に示
す。 密着性テスト 耐磨耗性テスト 実施例２ 膜剥がれあり ────── 〃 ５ 〃 あり ────── 〃 １３ 〃 なし 膜面の傷あり 〃 １４ 〃 なし 〃 なし これから、ZnSe基板に３層膜を設けた実施例２及び５の
赤外反射防止膜に比較し、ZnSe基板に４層膜、すなわち
基板側から数えて第１層に中間屈折率のZnS 膜、第２層
に低屈折率のYF3 膜、第３層に中間屈折率のZnS 膜、第
４層に低屈折率のYF3 膜を積層して膜全体の内部応力を
緩和した実施例１３及び１４の赤外反射防止膜は、強制
条件下でも膜剥がれ等がなく、耐磨耗性も高いより優れ
た膜であることがわかる。
【００１３】〔実施例１５〕この実施例は、ZnSe基板に
４層膜を積層した赤外反射防止膜において、第４層と耐
磨耗性強化層Y2O3との間に中間屈折率のZnS 膜を挿入し
た例で、反射防止効果を変化させず、耐磨耗性を強化さ
せる効果を示すものである。 基板 ZnSe 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.155 λ0 第２層 YF3 〃 0.030 λ0 第３層 ZnS 〃 0.139 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 第５層 ZnS 〃 0.022 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は8.０μｍである。
４層膜を積層した赤外反射防止膜において、第４層と耐
磨耗性強化層Y2O3との間に中間屈折率のZnS 膜を挿入し
た例で、反射防止効果を変化させず、耐磨耗性を強化さ
せる効果を示すものである。 基板 ZnSe 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.155 λ0 第２層 YF3 〃 0.030 λ0 第３層 ZnS 〃 0.139 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 第５層 ZnS 〃 0.022 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は8.０μｍである。
【００１４】以下の実施例１６〜２０は、ZnS 基板を使
用した赤外反射防止膜の例を示すものである。 〔実施例１６〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnS 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 YF3 〃 0.044 λ0 第２層 ZnS 〃 0.103 λ0 第３層 YF3 〃 0.250 λ0 なお、基準となる波長λ0 は１0.５μｍである。 〔実施例１７〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnS 第１層 ZnS 光学膜厚 0.250 λ0 第２層 YF3 〃 0.044 λ0 第３層 ZnS 〃 0.103 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 なお、基準となる波長λ0 は１0.５μｍである。 〔実施例１８〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnS 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.250 λ0 第２層 YF3 〃 0.044 λ0 第３層 ZnS 〃 0.103 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 なお、基準となる波長λ0 は１0.５μｍである。密着力
強化層TiO2により、密着力を向上させることができる。 〔実施例１９〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnS 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 YF3 〃 0.044 λ0 第２層 ZnS 〃 0.103 λ0 第３層 YF3 〃 0.250 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は１0.５μｍである。 〔実施例２０〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnS 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.250 λ0 第２層 YF3 〃 0.044 λ0 第３層 ZnS 〃 0.103 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は１0.５μｍである。密着力
強化層TiO2および耐磨耗性強化層Y2O3により、密着力を
強化させ、耐磨耗性を向上させることができる。図４に
反射率特性を示す。上記実施例１６、１８、１９及び２
０の赤外反射防止膜の密着性および耐磨耗性を上述の強
制試験方法により調べた。その結果を以下に示す。 密着性テスト 耐磨耗性テスト 実施例１６ 膜剥がれあり ────── 〃 １８ 〃 なし 膜面の傷あり 〃 １９ 〃 あり ────── 〃 ２０ 〃 なし 〃 なし これから、ZnS 基板に３層膜を設けた実施例１６及び１
９の赤外反射防止膜に比較し、ZnS 基板に４層膜、すな
わち基板側から数えて第１層に中間屈折率のZnS 膜、第
２層に低屈折率のYF3 膜、第３層に中間屈折率のZnS
膜、第４層に低屈折率のYF3 膜を積層して膜全体の内部
応力を緩和した実施例１８及び２０の赤外反射防止膜
は、強制条件下でも膜剥がれ等がなく、耐磨耗性も高い
より優れた膜であることがわかる。
用した赤外反射防止膜の例を示すものである。 〔実施例１６〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnS 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 YF3 〃 0.044 λ0 第２層 ZnS 〃 0.103 λ0 第３層 YF3 〃 0.250 λ0 なお、基準となる波長λ0 は１0.５μｍである。 〔実施例１７〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnS 第１層 ZnS 光学膜厚 0.250 λ0 第２層 YF3 〃 0.044 λ0 第３層 ZnS 〃 0.103 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 なお、基準となる波長λ0 は１0.５μｍである。 〔実施例１８〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnS 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.250 λ0 第２層 YF3 〃 0.044 λ0 第３層 ZnS 〃 0.103 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 なお、基準となる波長λ0 は１0.５μｍである。密着力
強化層TiO2により、密着力を向上させることができる。 〔実施例１９〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnS 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 YF3 〃 0.044 λ0 第２層 ZnS 〃 0.103 λ0 第３層 YF3 〃 0.250 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は１0.５μｍである。 〔実施例２０〕（赤外反射防止膜） 基板 ZnS 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.250 λ0 第２層 YF3 〃 0.044 λ0 第３層 ZnS 〃 0.103 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は１0.５μｍである。密着力
強化層TiO2および耐磨耗性強化層Y2O3により、密着力を
強化させ、耐磨耗性を向上させることができる。図４に
反射率特性を示す。上記実施例１６、１８、１９及び２
０の赤外反射防止膜の密着性および耐磨耗性を上述の強
制試験方法により調べた。その結果を以下に示す。 密着性テスト 耐磨耗性テスト 実施例１６ 膜剥がれあり ────── 〃 １８ 〃 なし 膜面の傷あり 〃 １９ 〃 あり ────── 〃 ２０ 〃 なし 〃 なし これから、ZnS 基板に３層膜を設けた実施例１６及び１
９の赤外反射防止膜に比較し、ZnS 基板に４層膜、すな
わち基板側から数えて第１層に中間屈折率のZnS 膜、第
２層に低屈折率のYF3 膜、第３層に中間屈折率のZnS
膜、第４層に低屈折率のYF3 膜を積層して膜全体の内部
応力を緩和した実施例１８及び２０の赤外反射防止膜
は、強制条件下でも膜剥がれ等がなく、耐磨耗性も高い
より優れた膜であることがわかる。
【００１５】〔実施例２１〕この実施例は、ZnS 基板に
４層膜を積層した赤外反射防止膜において、第４層と耐
磨耗性強化層Y2O3との間に中間屈折率のZnS 膜を積層し
ても分光特性を変化させることなく、耐磨耗性を強化さ
せる効果を奏することを示すものである。 基板 ZnS 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.750 λ0 第２層 YF3 〃 0.047 λ0 第３層 ZnS 〃 0.134 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 第５層 ZnS 〃 0.017 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は9.０μｍである。
４層膜を積層した赤外反射防止膜において、第４層と耐
磨耗性強化層Y2O3との間に中間屈折率のZnS 膜を積層し
ても分光特性を変化させることなく、耐磨耗性を強化さ
せる効果を奏することを示すものである。 基板 ZnS 密着力強化層 TiO2 光学膜厚 100 nm 第１層 ZnS 〃 0.750 λ0 第２層 YF3 〃 0.047 λ0 第３層 ZnS 〃 0.134 λ0 第４層 YF3 〃 0.250 λ0 第５層 ZnS 〃 0.017 λ0 耐磨耗性強化層 Y2O3 〃 160 nm なお、基準となる波長λ0 は9.０μｍである。
【００１６】
【発明の効果】最外層がY2O3層である本発明の赤外反射
防止膜は、分光特性が劣化することなく、耐磨耗性が向
上している。また、ZnS 又はZnSe基板の赤外反射防止膜
において、基板側から数えて第１層に中間屈折率のZnS
膜、第２層に低屈折率の YF3膜、第３層に中間屈折率の
ZnS膜、第４層に低屈折率の YF3膜を積層して膜全体の
内部応力を緩和した赤外反射防止膜は、強制条件下でも
膜剥離等がなく、耐磨耗性も高い。
防止膜は、分光特性が劣化することなく、耐磨耗性が向
上している。また、ZnS 又はZnSe基板の赤外反射防止膜
において、基板側から数えて第１層に中間屈折率のZnS
膜、第２層に低屈折率の YF3膜、第３層に中間屈折率の
ZnS膜、第４層に低屈折率の YF3膜を積層して膜全体の
内部応力を緩和した赤外反射防止膜は、強制条件下でも
膜剥離等がなく、耐磨耗性も高い。
【図１】ZnSe基板の赤外反射防止膜、この赤外反射防止
膜の最外層にY2O3の耐磨耗性層を設けた本発明の実施例
３の赤外反射防止膜、及びこの赤外反射防止膜の最外層
にAl2O3 の耐磨耗性層を設けた実施例４の赤外反射防止
膜の分光特性を示す図面である。
膜の最外層にY2O3の耐磨耗性層を設けた本発明の実施例
３の赤外反射防止膜、及びこの赤外反射防止膜の最外層
にAl2O3 の耐磨耗性層を設けた実施例４の赤外反射防止
膜の分光特性を示す図面である。
【図２】本発明の実施例１０の赤外反射防止膜の分光特
性（点線）と、ZnS 膜とGe膜を交互に積層することによ
り赤外反射防止域を広帯域化した本発明の実施例１１の
赤外反射防止膜の分光特性（実線）を示す図面である。
性（点線）と、ZnS 膜とGe膜を交互に積層することによ
り赤外反射防止域を広帯域化した本発明の実施例１１の
赤外反射防止膜の分光特性（実線）を示す図面である。
【図３】ZnSe基板に、基板側から数えて第１層に中間屈
折率のZnS 膜、第２層に低屈折率の YF3膜、第３層に中
間屈折率の ZnS膜、第４層に低屈折率の YF3膜を積層し
て膜全体の内部応力を緩和した本発明の実施例１４の赤
外反射防止膜の分光特性を示す図面である。
折率のZnS 膜、第２層に低屈折率の YF3膜、第３層に中
間屈折率の ZnS膜、第４層に低屈折率の YF3膜を積層し
て膜全体の内部応力を緩和した本発明の実施例１４の赤
外反射防止膜の分光特性を示す図面である。
【図４】ZnS 基板に、基板側から数えて第１層に中間屈
折率のZnS 膜、第２層に低屈折率の YF3膜、第３層に中
間屈折率の ZnS膜、第４層に低屈折率の YF3膜を積層し
て膜全体の内部応力を緩和した本発明の実施例２０の赤
外反射防止膜の分光特性を示す図面である。
折率のZnS 膜、第２層に低屈折率の YF3膜、第３層に中
間屈折率の ZnS膜、第４層に低屈折率の YF3膜を積層し
て膜全体の内部応力を緩和した本発明の実施例２０の赤
外反射防止膜の分光特性を示す図面である。
Claims (12)
- 【請求項１】 赤外光学用基板に形成された赤外域多層
膜において、基板側からの最外層にY2O3からなる耐磨耗
性強化層を設けたことを特徴とする赤外域多層膜。 - 【請求項２】 Al2O3 、Y2O3、Ti2O3 、TiO 及びTiO2か
らなる群から選ばれる密着力強化層を有する赤外域多層
膜。 - 【請求項３】 赤外光学用基板がZnS 、ZnSe、Ge、Si又
はカルコゲナイドガラスである請求項１又は２記載の赤
外域多層膜。 - 【請求項４】 耐磨耗性強化層がY2O3からなり、その膜
厚が、３００nm以下である請求項１〜３のいずれか１項
記載の赤外域多層膜。 - 【請求項５】 赤外光学用基板に形成された赤外反射防
止膜において、基板がZnSe基板であり、基板側から数え
て第１層に中間屈折率の ZnS膜、第２層に低屈折率の Y
F3膜、第３層に中間屈折率の ZnS膜、第４層に低屈折率
の YF3膜を積層してなる赤外反射防止膜。 - 【請求項６】 第１層〜第４層の各層の各光学膜厚が、
各層の屈折率をn1、n2、n3、n4、設計基準波長をλ0 と
するとき、 0.０５λ0 ≦４n1d1≦１0.０λ0 0.０４λ0 ≦４n2d2≦0.２５λ0 0.２５λ0 ≦４n3d3≦0.６５λ0 0.７５λ0 ≦４n4d4≦1.２５λ0 である請求項５記載の赤外反射防止膜。 - 【請求項７】 Al2O3 、Y2O3、Ti2O3 、TiO 及びTiO2か
らなる群から選ばれる密着力強化層を有する請求項５又
は６記載の赤外反射防止膜。 - 【請求項８】 最外層にY2O3からなる耐磨耗性強化層を
有する請求項５又は６又は７記載の赤外反射防止膜。 - 【請求項９】 赤外光学用基板に形成された赤外反射防
止膜において、基板が ZnS基板であり、基板側から数え
て第１層に中間屈折率の ZnS膜、第２層に低屈折率の Y
F3膜、第３層に中間屈折率の ZnS膜、第４層に低屈折率
の YF3膜を積層してなる赤外反射防止膜。 - 【請求項１０】 第１層〜第４層の各層の各光学膜厚
が、各層の屈折率をn1、n2、n3、n4、設計基準波長をλ
0 とするとき、 0.０５λ0 ≦４n1d1≦１0.０λ0 0.０３λ0 ≦４n2d2≦0.３０λ0 0.１０λ0 ≦４n3d3≦0.７０λ0 0.７０λ0 ≦４n4d4≦1.３０λ0 である請求項９記載の赤外反射防止膜。 - 【請求項１１】 Al2O3 、Y2O3、Ti2O3 、TiO 及びTiO2
からなる群から選ばれる密着力強化層を有する請求項９
又は１０記載の赤外反射防止膜。 - 【請求項１２】 最外層にY2O3からなる耐磨耗性強化層
を有する請求項９又は１０又は１１記載の赤外反射防止
膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5102580A JPH06313802A (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 赤外域多層膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5102580A JPH06313802A (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 赤外域多層膜 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002203545A Division JP3639822B2 (ja) | 2002-07-12 | 2002-07-12 | 赤外反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06313802A true JPH06313802A (ja) | 1994-11-08 |
Family
ID=14331171
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5102580A Pending JPH06313802A (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 赤外域多層膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06313802A (ja) |
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998058280A1 (en) * | 1997-06-16 | 1998-12-23 | Laser Power Corporation | Low absorption coatings for infrared laser optical elements |
| JP2011150286A (ja) * | 2009-12-23 | 2011-08-04 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 光学部品 |
| CN102213777A (zh) * | 2010-04-02 | 2011-10-12 | 富士胶片株式会社 | 抗反射膜和红外线光学元件 |
| US8128225B2 (en) | 2009-03-04 | 2012-03-06 | Seiko Epson Corporation | Optical article and process for producing the same |
| WO2012073791A1 (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-07 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線用光学機能膜 |
| WO2012160979A1 (ja) * | 2011-05-24 | 2012-11-29 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 赤外線透過膜、赤外線透過膜の製造方法、赤外線用光学部品および赤外線装置 |
| JP2013041124A (ja) * | 2011-08-17 | 2013-02-28 | Mitsubishi Electric Corp | 赤外光学膜、スキャンミラーおよびレーザ加工機 |
| JP2015501001A (ja) * | 2011-05-31 | 2015-01-08 | コーニング インコーポレイテッド | 赤外光反射防止膜用耐久ＭｇＯ−ＭｇＦ２複合膜 |
| CN108802864A (zh) * | 2018-06-07 | 2018-11-13 | 云南北方驰宏光电有限公司 | 一种适用3．7-4．8μm波段的硅基底高效增透膜 |
| KR20190010221A (ko) * | 2017-07-21 | 2019-01-30 | 한국광기술원 | ta-C 및 Y2O3 코팅 박막층을 구비한 하이브리드 적외선 광학렌즈 |
| KR20190104780A (ko) * | 2018-03-02 | 2019-09-11 | 국방과학연구소 | 적외선 저반사 코팅막 및 이의 제조방법 |
| CN113466972A (zh) * | 2020-03-31 | 2021-10-01 | 华为技术有限公司 | 红外增透镜片及相关组件、设备 |
| WO2022045011A1 (ja) * | 2020-08-27 | 2022-03-03 | Ａｇｃ株式会社 | 遠赤外線透過部材及び遠赤外線透過部材の製造方法 |
| JP2022186810A (ja) * | 2017-09-12 | 2022-12-15 | 日本電気硝子株式会社 | カルコゲナイドガラス材 |
| TWI863057B (zh) * | 2022-12-12 | 2024-11-21 | 翔名科技股份有限公司 | 耐電漿侵蝕的光學結構 |
| WO2025053210A1 (ja) * | 2023-09-06 | 2025-03-13 | Ａｇｃ株式会社 | 透過部材及び透過部材の製造方法 |
-
1993
- 1993-04-28 JP JP5102580A patent/JPH06313802A/ja active Pending
Cited By (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1998058280A1 (en) * | 1997-06-16 | 1998-12-23 | Laser Power Corporation | Low absorption coatings for infrared laser optical elements |
| US8128225B2 (en) | 2009-03-04 | 2012-03-06 | Seiko Epson Corporation | Optical article and process for producing the same |
| JP2011150286A (ja) * | 2009-12-23 | 2011-08-04 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp | 光学部品 |
| CN102213777B (zh) * | 2010-04-02 | 2014-08-27 | 富士胶片株式会社 | 抗反射膜和红外线光学元件 |
| JP2011221048A (ja) * | 2010-04-02 | 2011-11-04 | Fujifilm Corp | 反射防止膜及び赤外線用光学素子 |
| US8535807B2 (en) | 2010-04-02 | 2013-09-17 | Fujifilm Corporation | Anti-reflection film and infrared optical element |
| CN102213777A (zh) * | 2010-04-02 | 2011-10-12 | 富士胶片株式会社 | 抗反射膜和红外线光学元件 |
| WO2012049888A1 (ja) * | 2010-10-12 | 2012-04-19 | 住友電工ハードメタル株式会社 | 光学部品 |
| CN102812386A (zh) * | 2010-10-12 | 2012-12-05 | 住友电工硬质合金株式会社 | 光学元件 |
| KR101470718B1 (ko) * | 2010-10-12 | 2014-12-08 | 스미또모 덴꼬오 하드메탈 가부시끼가이샤 | 광학 부품 |
| US9188706B2 (en) | 2010-10-12 | 2015-11-17 | Sumitomo Electric Hardmetal Corp. | Optical element |
| WO2012073791A1 (ja) * | 2010-11-30 | 2012-06-07 | 富士フイルム株式会社 | 赤外線用光学機能膜 |
| WO2012160979A1 (ja) * | 2011-05-24 | 2012-11-29 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 赤外線透過膜、赤外線透過膜の製造方法、赤外線用光学部品および赤外線装置 |
| US9575216B2 (en) | 2011-05-24 | 2017-02-21 | National Institute Of Advanced Industrial Science And Technology | Infrared-transmitting film, method for producing infrared-transmitting film, infrared optical component, and infrared device |
| JPWO2012160979A1 (ja) * | 2011-05-24 | 2014-07-31 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 赤外線透過膜、赤外線透過膜の製造方法、赤外線用光学部品および赤外線装置 |
| JP6016037B2 (ja) * | 2011-05-24 | 2016-10-26 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 赤外線透過膜、赤外線透過膜の製造方法、赤外線用光学部品および赤外線装置 |
| JP2015501001A (ja) * | 2011-05-31 | 2015-01-08 | コーニング インコーポレイテッド | 赤外光反射防止膜用耐久ＭｇＯ−ＭｇＦ２複合膜 |
| US9963773B2 (en) | 2011-05-31 | 2018-05-08 | Corning Incorporated | Durable MgO—MgF2 composite film for infrared anti-reflection coatings |
| JP2013041124A (ja) * | 2011-08-17 | 2013-02-28 | Mitsubishi Electric Corp | 赤外光学膜、スキャンミラーおよびレーザ加工機 |
| KR20190010221A (ko) * | 2017-07-21 | 2019-01-30 | 한국광기술원 | ta-C 및 Y2O3 코팅 박막층을 구비한 하이브리드 적외선 광학렌즈 |
| JP2022186810A (ja) * | 2017-09-12 | 2022-12-15 | 日本電気硝子株式会社 | カルコゲナイドガラス材 |
| KR20190104780A (ko) * | 2018-03-02 | 2019-09-11 | 국방과학연구소 | 적외선 저반사 코팅막 및 이의 제조방법 |
| CN108802864A (zh) * | 2018-06-07 | 2018-11-13 | 云南北方驰宏光电有限公司 | 一种适用3．7-4．8μm波段的硅基底高效增透膜 |
| CN113466972A (zh) * | 2020-03-31 | 2021-10-01 | 华为技术有限公司 | 红外增透镜片及相关组件、设备 |
| WO2022045011A1 (ja) * | 2020-08-27 | 2022-03-03 | Ａｇｃ株式会社 | 遠赤外線透過部材及び遠赤外線透過部材の製造方法 |
| EP4209762A4 (en) * | 2020-08-27 | 2024-09-11 | Agc Inc. | FAR INFRARED TRANSMISSION ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING A FAR INFRARED TRANSMISSION ELEMENT |
| US12265202B2 (en) | 2020-08-27 | 2025-04-01 | AGC Inc. | Far-infrared ray transmission member and method for manufacturing far-infrared ray transmission member |
| TWI863057B (zh) * | 2022-12-12 | 2024-11-21 | 翔名科技股份有限公司 | 耐電漿侵蝕的光學結構 |
| WO2025053210A1 (ja) * | 2023-09-06 | 2025-03-13 | Ａｇｃ株式会社 | 透過部材及び透過部材の製造方法 |
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