JPH06298683A - 光反応による4−(2−置換)フェニルベンジルブロミド類の製造法 - Google Patents
光反応による4−(2−置換)フェニルベンジルブロミド類の製造法Info
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/093—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens
- C07C17/10—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms
- C07C17/14—Preparation of halogenated hydrocarbons by replacement by halogens of hydrogen atoms in the side-chain of aromatic compounds
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Abstract
(57)【要約】
【構成】4−(2−置換)フェニルトルエン類とN−ブ
ロモコハク酸イミド(以下 NBSと略記)、あるいは
1, 3−ジブロモ−5, 5−ジメチルヒダントイン(以
下 DDHと略記)とを脂肪酸エステル溶媒中で光を照
射し反応させることを特徴とする4−(2−置換)フェ
ニルベンジルブロミド類の製造法。 【効果】アンジオテンシンII拮抗剤の製造に有用な中間
体である4−(2−置換)フェニルベンジルブロミド類
を工業的に有利に合成できる。
ロモコハク酸イミド(以下 NBSと略記)、あるいは
1, 3−ジブロモ−5, 5−ジメチルヒダントイン(以
下 DDHと略記)とを脂肪酸エステル溶媒中で光を照
射し反応させることを特徴とする4−(2−置換)フェ
ニルベンジルブロミド類の製造法。 【効果】アンジオテンシンII拮抗剤の製造に有用な中間
体である4−(2−置換)フェニルベンジルブロミド類
を工業的に有利に合成できる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、特願平4−34970
号記載のアンジオテンシンII拮抗剤
号記載のアンジオテンシンII拮抗剤
【0002】
【化3】
【0003】(式中、R1 ,R2 ,R3 ,R4 ,R6 は
水素原子、アルキル基、アルケニル基などを示し、R5
は保護されていてもよいカルボキシ基などを示し、R7
は保護されていてもよいカルボキシ基、テトラゾ−ル基
を示す。)の製造においてイミダゾ−ル環の窒素原子の
置換基を導入する際に有用な中間体である4−(2−置
換)フェニルベンジルブロミドの工業的製造法に関する
ものである。
水素原子、アルキル基、アルケニル基などを示し、R5
は保護されていてもよいカルボキシ基などを示し、R7
は保護されていてもよいカルボキシ基、テトラゾ−ル基
を示す。)の製造においてイミダゾ−ル環の窒素原子の
置換基を導入する際に有用な中間体である4−(2−置
換)フェニルベンジルブロミドの工業的製造法に関する
ものである。
【0004】
【従来の技術】特開平1−117876号公報には4−
(2−置換)フェニルベンジルブロミドの製造法とし
て、四塩化炭素あるいはベンゼン中、原料である4−
(2−置換)フェニルトルエン類とN−ブロモスクシン
イミド(NBS)を、触媒量の過酸化ベンゾイル等の過
酸化物の存在下、加熱反応させる方法が知られている。
(2−置換)フェニルベンジルブロミドの製造法とし
て、四塩化炭素あるいはベンゼン中、原料である4−
(2−置換)フェニルトルエン類とN−ブロモスクシン
イミド(NBS)を、触媒量の過酸化ベンゾイル等の過
酸化物の存在下、加熱反応させる方法が知られている。
【0005】一方、光反応については、特開平4−28
2327号公報に、p−キシレンをNBSの存在下、光
照射して、ビス(ブロモメチル)ベンゼンが好収率で得
られることが記載されている。
2327号公報に、p−キシレンをNBSの存在下、光
照射して、ビス(ブロモメチル)ベンゼンが好収率で得
られることが記載されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかし上記の方法は次
の欠点があるため、工業的製造法としては好ましくな
い。
の欠点があるため、工業的製造法としては好ましくな
い。
【0007】1)ラジカル開始剤として、爆発の危険のあ
る過酸化物を使用し、反応時間が比較的長い。
る過酸化物を使用し、反応時間が比較的長い。
【0008】2)高温下でのラジカル反応であるため、反
応の制御がし難く、ジブロモ体などの副生成物が生じ
る。
応の制御がし難く、ジブロモ体などの副生成物が生じ
る。
【0009】3)光反応によるブロム化では、ベンゼン、
四塩化炭素を使用している。
四塩化炭素を使用している。
【0010】4)本発明の出発物質を用いて、特開平4−
282327号記載の方法でブロム化しても、高純度の
ブロム体は得られない。
282327号記載の方法でブロム化しても、高純度の
ブロム体は得られない。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記欠点
を解決すべく鋭意努力検討の結果、欠点を画期的に克服
できる4−(2−置換)フェニルベンジルブロミドの製
造法を見いだし、本発明を完成した。
を解決すべく鋭意努力検討の結果、欠点を画期的に克服
できる4−(2−置換)フェニルベンジルブロミドの製
造法を見いだし、本発明を完成した。
【0012】すなわち、本発明は一般式
【0013】
【化4】
【0014】[式中、Rは水素原子、シアノ基、トリチ
ル基で保護されたテトラゾール−5−イル基を示す。]
の化合物を脂肪酸エステル溶媒中ブロム化剤と光反応さ
せる事を特徴とする一般式
ル基で保護されたテトラゾール−5−イル基を示す。]
の化合物を脂肪酸エステル溶媒中ブロム化剤と光反応さ
せる事を特徴とする一般式
【0015】
【化5】
【0016】(式中、Rは前述したものと同意義を示
す。)を有する4−(2−置換)フェニルベンジルブロ
ミド類の製造法に関するものである。
す。)を有する4−(2−置換)フェニルベンジルブロ
ミド類の製造法に関するものである。
【0017】以下、本発明を詳細に説明する。
【0018】原料となる4−(2−置換)フェニルトル
エン類としては、4−フェニルトルエン、4−(2−シ
アノ)フェニルトルエン、4−(2−テトラゾール−5
−イル)フェニルトルエン、4−[2−(1−トリチ
ル)テトラゾール−5−イル]フェニルトルエン等があ
げられる。
エン類としては、4−フェニルトルエン、4−(2−シ
アノ)フェニルトルエン、4−(2−テトラゾール−5
−イル)フェニルトルエン、4−[2−(1−トリチ
ル)テトラゾール−5−イル]フェニルトルエン等があ
げられる。
【0019】ブロム化剤としては臭素、NBS、1,3
−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイン(DDH)
があげられ、好適にはNBS、DDHである。
−ジブロモ−5,5−ジメチルヒダントイン(DDH)
があげられ、好適にはNBS、DDHである。
【0020】ブロム化剤の使用量としては、原料となる
4−(2−置換)フェニルトルエン類に対し通常1 〜3
モル倍、好ましくは 1.0モル倍程度が良い。
4−(2−置換)フェニルトルエン類に対し通常1 〜3
モル倍、好ましくは 1.0モル倍程度が良い。
【0021】反応温度としては通常0〜80℃、好ましく
は10〜40℃が良い。
は10〜40℃が良い。
【0022】反応時間は通常5分乃至2時間であり、好
適には10分乃至1時間である。
適には10分乃至1時間である。
【0023】照射する光としては、通常の光反応で使用
する高圧水銀燈を、直接外部あるいは内部から照射する
が、好ましくは390nm 以上の波長の光が良い。
する高圧水銀燈を、直接外部あるいは内部から照射する
が、好ましくは390nm 以上の波長の光が良い。
【0024】使用される溶媒の脂肪酸エステルとして
は、例えばギ酸エチル、ギ酸プロピルのようなギ酸エス
テル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのよう
な酢酸エステル類、プロピオン酸メチル、プロピオン酸
エチル、プロピオン酸プロピルのようなプロピオン酸エ
ステル類があげられ、好適には酢酸エステル類であり、
更に好適には酢酸エチルである。
は、例えばギ酸エチル、ギ酸プロピルのようなギ酸エス
テル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのよう
な酢酸エステル類、プロピオン酸メチル、プロピオン酸
エチル、プロピオン酸プロピルのようなプロピオン酸エ
ステル類があげられ、好適には酢酸エステル類であり、
更に好適には酢酸エチルである。
【0025】反応終了後生成物は、反応混合物より常法
により単離することができる。例えば反応終了後、反応
混合物を重曹水及び食塩水で洗浄し、減圧乾固すること
により単離できる。
により単離することができる。例えば反応終了後、反応
混合物を重曹水及び食塩水で洗浄し、減圧乾固すること
により単離できる。
【0026】
【発明の効果】本発明方法に従うと、大量合成の場合で
も安全に、4−(2−置換)フェニルトルエン類から、
緩和な条件下、短時間で選択性よく4−(2−置換)フ
ェニルベンジルブロミド類を合成できる上、副生成物が
少ないため、精製工程を必要とせず、本製造法は化合物
(I)の工業的製造法として好適である。
も安全に、4−(2−置換)フェニルトルエン類から、
緩和な条件下、短時間で選択性よく4−(2−置換)フ
ェニルベンジルブロミド類を合成できる上、副生成物が
少ないため、精製工程を必要とせず、本製造法は化合物
(I)の工業的製造法として好適である。
【0027】
【実施例】以下、実施例をあげ本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0028】実施例1 4−[ 2−(1−トリチル)テトラゾール−5−イル]
フェニルベンジルブロミド 窒素雰囲気下、500ml の内部光源式の光反応容器(理工
科学産業 UVL-400H-500PS )に、硫酸銅、アンモニア、
亜硝酸ナトリウムから調製した溶液フィルターを使用
し、酢酸エチル 200ml、4−[ 2−(1−トリチル)テ
トラゾール−5−イル] フェニルトルエン5.0g、1, 3
−ジブロモ−5, 5−ジメチルヒダントイン(DDH)
1.79g を加え、室温で10分間、光を内部照射し反応させ
た。(光を外部照射する場合には、L−39等のフィル
ターを使用してもよい。)次に、3%重曹水100ml と5
%食塩水で、 有機層を順次洗浄した。この有機層を減圧
乾固しイソプロピルエーテル(IPE)25mlを加え、目
的物の白色結晶5.24g (収率90%)を得た。このものを
高速液体クロマトグラフィ(HPLC)分析したところ
目的物の純度は90%であった。
フェニルベンジルブロミド 窒素雰囲気下、500ml の内部光源式の光反応容器(理工
科学産業 UVL-400H-500PS )に、硫酸銅、アンモニア、
亜硝酸ナトリウムから調製した溶液フィルターを使用
し、酢酸エチル 200ml、4−[ 2−(1−トリチル)テ
トラゾール−5−イル] フェニルトルエン5.0g、1, 3
−ジブロモ−5, 5−ジメチルヒダントイン(DDH)
1.79g を加え、室温で10分間、光を内部照射し反応させ
た。(光を外部照射する場合には、L−39等のフィル
ターを使用してもよい。)次に、3%重曹水100ml と5
%食塩水で、 有機層を順次洗浄した。この有機層を減圧
乾固しイソプロピルエーテル(IPE)25mlを加え、目
的物の白色結晶5.24g (収率90%)を得た。このものを
高速液体クロマトグラフィ(HPLC)分析したところ
目的物の純度は90%であった。
【0029】融点 137 〜138 ℃ NMR(CDCl3 ,δppm)4. 38(s,2
H),6. 80〜7. 65(m, 22H),7. 90〜
8. 10(m, 1H) 実施例2〜3 原料を他の4−(2−置換)フェニルトルエン類に替
え、実施例1と同様の処理を行った。
H),6. 80〜7. 65(m, 22H),7. 90〜
8. 10(m, 1H) 実施例2〜3 原料を他の4−(2−置換)フェニルトルエン類に替
え、実施例1と同様の処理を行った。
【0030】目的物である4−(2−置換)フェニルベ
ンジルブロミドの収率、純度を表1に示す。
ンジルブロミドの収率、純度を表1に示す。
【0031】
【表1】
【0032】実施例4 ブロム化剤をN−ブロモスクシンイミド(NBS)に替
え、実施例1と同様の処理を行った。
え、実施例1と同様の処理を行った。
【0033】目的物の収率、及び純度を表2に示す。
【0034】
【表2】 ──────────────────────────────────── 実施例 ブロム化剤 収率(%) 純度(%) ──────────────────────────────────── 実施例4 NBS 85 80 ────────────────────────────────────
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 233/90 A
Claims (1)
- 【請求項1】一般式 【化1】 [式中、Rは水素原子、シアノ基、トリチル基で保護さ
れたテトラゾール−5−イル基を示す。]の化合物を脂
肪酸エステル溶媒中ブロム化剤と光反応させる事を特徴
とする一般式 【化2】 (式中、Rは前述したものと同意義を示す。)を有する
4−(2−置換)フェニルベンジルブロミド類の製造
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5088591A JPH06298683A (ja) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | 光反応による4−(2−置換)フェニルベンジルブロミド類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5088591A JPH06298683A (ja) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | 光反応による4−(2−置換)フェニルベンジルブロミド類の製造法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06298683A true JPH06298683A (ja) | 1994-10-25 |
Family
ID=13947084
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5088591A Pending JPH06298683A (ja) | 1993-04-15 | 1993-04-15 | 光反応による4−(2−置換)フェニルベンジルブロミド類の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06298683A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2771090A1 (fr) * | 1997-11-17 | 1999-05-21 | Sanofi Sa | Procede de preparation de derives de bromomethyl-biphenyle |
WO2000063164A1 (de) * | 1999-04-15 | 2000-10-26 | Boehringer Ingelheim Pharma Kg | Verfahren zur seitenkettenbromierung von in 2'-stellung substituierten 4-methylbiphenyl-derivaten |
US7528258B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-05-05 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd | Preparation of olmesartan medoxomil |
US7563814B2 (en) | 2005-01-03 | 2009-07-21 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Olmesartan medoxomil with reduced levels of impurities |
-
1993
- 1993-04-15 JP JP5088591A patent/JPH06298683A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2771090A1 (fr) * | 1997-11-17 | 1999-05-21 | Sanofi Sa | Procede de preparation de derives de bromomethyl-biphenyle |
WO1999025681A1 (fr) * | 1997-11-17 | 1999-05-27 | Sanofi-Synthelabo | Procede de preparation de derives de bromomethyl-biphenyle |
JP2001523658A (ja) * | 1997-11-17 | 2001-11-27 | サノフィ−サンテラボ | ブロモメチル−ビフェニル誘導体の製造方法 |
WO2000063164A1 (de) * | 1999-04-15 | 2000-10-26 | Boehringer Ingelheim Pharma Kg | Verfahren zur seitenkettenbromierung von in 2'-stellung substituierten 4-methylbiphenyl-derivaten |
US7528258B2 (en) | 2004-09-02 | 2009-05-05 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd | Preparation of olmesartan medoxomil |
US7563814B2 (en) | 2005-01-03 | 2009-07-21 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Olmesartan medoxomil with reduced levels of impurities |
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