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JPH06297629A - Ultrafine particle film, method of forming the same, transparent plate and image display device - Google Patents

Ultrafine particle film, method of forming the same, transparent plate and image display device

Info

Publication number
JPH06297629A
JPH06297629A JP5092651A JP9265193A JPH06297629A JP H06297629 A JPH06297629 A JP H06297629A JP 5092651 A JP5092651 A JP 5092651A JP 9265193 A JP9265193 A JP 9265193A JP H06297629 A JPH06297629 A JP H06297629A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ultrafine particle
particle film
ultrafine
film
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5092651A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kiju Endo
喜重 遠藤
Masahiko Ono
雅彦 小野
Hiromitsu Kawamura
啓溢 河村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP5092651A priority Critical patent/JPH06297629A/en
Priority to KR1019940008173A priority patent/KR0169514B1/en
Priority to US08/230,252 priority patent/US5742118A/en
Publication of JPH06297629A publication Critical patent/JPH06297629A/en
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/34Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
    • C03C17/42Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating of an organic material and at least one non-metal coating
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/42Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of particles only
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00Coatings on glass
    • C03C2217/40Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
    • C03C2217/43Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
    • C03C2217/46Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
    • C03C2217/47Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
    • C03C2217/475Inorganic materials

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
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  • Laminated Bodies (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
  • Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は汚れ付着防止に優れた帯電防止、可視
光反射防止に有効な超微粒子膜に係り、特に低コストで
大面積に適用できる超微粒子膜とこれを適用したブラウ
ン管などの画像表示板を、簡単な方法により形成するこ
とにある。 【構成】塗布液槽22にブラウン管21を取付け、この塗布
液槽22に先ず帯電防止用のSnO2超微粒子を混合した塗布
溶液23を満たしその後所定の速度でブラウン管21の表面
を塗布溶液で覆った後に露出させて導電性膜を形成し、
次に別の塗布液槽に可視光反射防止用超微粒子を混合し
た塗布溶液を用いて同様の操作を行い可視光反射防止膜
をその上に形成し、さらに撥水処理を施す。
(57) [Summary] [Object] The present invention relates to an ultrafine particle film which is excellent in preventing stains from adhering and which is effective in preventing visible light reflection. Particularly, the ultrafine particle film applicable to a large area at a low cost and the application thereof An image display plate such as a cathode ray tube is formed by a simple method. [Structure] A Braun tube 21 is attached to a coating solution tank 22, and the coating solution tank 22 is first filled with a coating solution 23 containing antistatic SnO 2 ultrafine particles, and then the surface of the Braun tube 21 is covered with the coating solution at a predetermined speed. Exposed to form a conductive film,
Next, the same operation is carried out by using a coating solution prepared by mixing ultrafine particles for preventing visible light reflection in another coating solution tank to form a visible light antireflection film on the coating solution, and then water repellent treatment is performed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は超微粒子膜及びその形成
方法、並びにこれを応用した透明板並びに画像表示板と
これらの製造方法に係り、特に画像表示板の反射と帯電
を防止しかつその表面に撥水性を有する超微粒子膜と、
それを利用した透明板及び画像表示板の製造方法に関す
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an ultrafine particle film and a method for forming the same, a transparent plate and an image display plate to which the film is applied, and a method for manufacturing the same, and more particularly to preventing reflection and electrification of the image display plate and An ultrafine particle film having water repellency on the surface,
The present invention relates to a transparent plate and an image display plate manufacturing method using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】透明性板表面の反射光を低減する膜(反
射防止膜)は古くから研究されており、カメラ、顕微
鏡、双眼鏡などの光学機器に利用されてきた。現在は、
ビジュアル・デイスプレイ・タ−ミナル(VDT)の反
射光を低減するための反射防止フィルタなどに用いられ
ている。反射防止膜には様々なものが考えられている
が、現在利用されているものは主に多層膜と不均質膜で
ある。
2. Description of the Related Art A film (antireflection film) for reducing the reflected light on the surface of a transparent plate has been studied for a long time and has been used for optical instruments such as cameras, microscopes and binoculars. Currently,
It is used as an antireflection filter for reducing the reflected light of the visual display terminal (VDT). Although various antireflection films have been considered, the ones currently used are mainly multilayer films and heterogeneous films.

【0003】多層膜は透明性板表面に低屈折率物質と高
屈折率物質とを交互に少なくとも三層積層した構造であ
り、各層間での光学的干渉作用の総合効果により反射防
止を図っている。多層膜に関してはフィジックス・オブ
・シン・フィルムの2巻(1964年)242頁〜28
4頁(Phyiscs of Thin Films
2,(1964)p.242〜p284)に論じられて
いる。
The multilayer film has a structure in which at least three layers of a low refractive index substance and a high refractive index substance are alternately laminated on the surface of a transparent plate, and antireflection is achieved by a total effect of optical interference between the layers. There is. Regarding the multilayer film, Physics of Thin Film Volume 2 (1964), pages 242 to 28
Page 4 (Phyiscs of Thin Films
2, (1964) p. 242-p284).

【0004】また、膜厚方向に屈折率分布を持つ不均質
膜は、透明性板表面を多孔質化したものが一般的であ
る。
In addition, the heterogeneous film having a refractive index distribution in the film thickness direction is generally a transparent plate whose surface is made porous.

【0005】ガラス表面に島状の金属蒸着膜を形成後、
スパッタエッチングにより微細な凹凸を形成して不均質
膜を作り、反射率を低減する方法がアプライド・フィジ
ックス・レター36号(1980)の727頁〜730頁(Apl.Phys.Le
tt,36(1980)p.727〜p730)において論じられている。
After forming an island-shaped metal vapor deposition film on the glass surface,
A method of forming a non-uniform film by forming fine unevenness by sputter etching to reduce the reflectance is described in Applied Physics Letter No. 36 (1980), pages 727 to 730 (Apl. Phys. Le.
tt, 36 (1980) p.727-p730).

【0006】一方、陰極管においてはガラス面の帯電防
止の為に導電性膜を形成すると共に反射防止の工夫も要
求されている。
On the other hand, in the cathode ray tube, it is required to form a conductive film in order to prevent the electrification of the glass surface and to devise an antireflection method.

【0007】ところで、ブラウン管などの陰極管の前面
パネル表面(画像表示板)が帯電する理由は図9に示す
ごとく、通常ブラウン管91の内面92に塗布されている蛍
光体93の上に薄く均一なアルミニウム膜94を蒸着してお
り、そのアルミニウム膜94に高電圧が印加されると、そ
の印加時及び遮断時にブラウン管前面パネル95に静電誘
導により帯電現象を起こすことによる。
By the way, the reason why the front panel surface (image display plate) of a cathode ray tube such as a cathode ray tube is charged is as shown in FIG. 9, which is thin and uniform on the phosphor 93 usually coated on the inner surface 92 of the cathode ray tube 91. This is because the aluminum film 94 is vapor-deposited, and when a high voltage is applied to the aluminum film 94, a charging phenomenon is caused by electrostatic induction on the cathode ray tube front panel 95 when the high voltage is applied and cut off.

【0008】このような表示管表面での帯電を防止し、
さらに表面の反射を防止する方法は、特開昭61-51101号
公報に開示されている。この方法ではまずガラス基板に
真空蒸着法、スパッタリング法などの物理的気相法ある
いは化学的気相法などにより、導電性膜を形成し、その
上に反射防止膜を形成するようになっていた。
[0008] Preventing such electrification on the surface of the display tube,
Further, a method of preventing reflection on the surface is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 61-51101. In this method, first, a conductive film is formed on a glass substrate by a physical vapor phase method such as a vacuum vapor deposition method or a sputtering method or a chemical vapor phase method, and an antireflection film is formed on the conductive film. .

【0009】一方、ガラス表面を撥水性処理する方法
は、特開平4-124047号公報に開示されている。この方法
では、まずゾルゲル法等によりガラス基板上に金属酸化
物皮膜を作製し、その表面に微細な凹凸を作り、さらに
その上に撥水性処理剤をコーティングするようになって
いた。これらの方法ではまず強固な金属酸化物を形成す
るために、500℃程度の高温で焼成する必要がある。こ
のため、撥水性処理剤との官能基である表面の水酸基(O
H)が減少し、密着強度が弱くなる。このため、表面に微
小凹凸を形成し、アンカー効果を持たして密着強度を高
めるようになっていた。
On the other hand, a method of treating the glass surface with water repellency is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-124047. In this method, first, a metal oxide film is formed on a glass substrate by a sol-gel method or the like, fine irregularities are formed on the surface thereof, and a water repellent treatment agent is further coated thereon. In these methods, first, it is necessary to bake at a high temperature of about 500 ° C. in order to form a strong metal oxide. For this reason, surface hydroxyl groups (O
H) decreases and the adhesion strength becomes weak. For this reason, minute irregularities have been formed on the surface to have an anchor effect and enhance the adhesion strength.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の反射防
止膜の形成方法はスパッタリング法、真空蒸着法に限ら
れ、かつ膜厚の高精度制御が必要であるため、コストが
高く、大面積の基板への適用が困難であるという問題点
があった。
The above-mentioned prior art method of forming an antireflection film is limited to the sputtering method and the vacuum deposition method and requires high-precision control of the film thickness, so that the cost is high and the area is large. There is a problem that it is difficult to apply to a substrate.

【0011】この場合の反射防止膜は基本的にはガラス
表面に屈折率の異なる物質を何層か蒸着したものであ
り、各層間での光学的干渉作用により反射防止を図って
いる。この反射防止機構を考える上で、今最も単純な単
層蒸着膜を例に取る。屈折率Ngのガラス表面に、ガラス
よりも低い屈折率Nfをもつ物質を厚さdでコーティング
した場合、この表面に入射する光の反射挙動はフルネル
の公式によって導くことができ、反射率Rは式「数1」
で表される。
In this case, the antireflection film is basically formed by vapor-depositing several layers of substances having different refractive indexes on the glass surface, and antireflection is achieved by the optical interference action between the layers. In considering this antireflection mechanism, the simplest single-layer vapor deposition film is taken as an example. When a material having a refractive index Nf lower than that of glass is coated on a glass surface having a refractive index Ng with a thickness d, the reflection behavior of light incident on this surface can be derived by the Fresnel formula, and the reflectance R is Expression "Number 1"
It is represented by.

【0012】[0012]

【数1】 [Equation 1]

【0013】[0013]

【数2】 [Equation 2]

【0014】上式よりNfが平方根NgでR=0となり、波長
λの光に対してまったく反射光がない状態となる。最も
一般的なソーダガラスではNg=1.52であるので、Nf=1.23
の物質をコーティングすれば膜厚dによって決まる波長
λにおける理想的な反射防止膜となる。しかしながらこ
のような低い屈折率をもつ物質は実在せず、今のところ
利用できる物質の中ではNf=1.38のフッ化マグネシウム
(MgF2)が最も低い屈折率を有する。
From the above equation, Nf is the square root Ng and R = 0, and there is no reflected light at all for the light of wavelength λ. The most common soda glass has Ng = 1.52, so Nf = 1.23
By coating with the substance (1), an ideal antireflection film with a wavelength λ determined by the film thickness d is obtained. However, no substance with such a low refractive index actually exists, and magnesium fluoride with Nf = 1.38 is currently available.
(MgF 2 ) has the lowest refractive index.

【0015】この場合の反射率はR=1.3%となる。また単
層膜の反射防止条件は「数1」、「数2」から明らかな
ようにある特定の波長λに対するものであり、λの前後
で反射率は大きくなる。このため、可視光領域全域(40
0〜700nm)で反射を低減するためには屈折率の異なる物
質を、膜厚を厳密に制御しながら何層も重ねる必要があ
った。一方、膜厚方向に屈折率分布を持つ不均質膜によ
っても表面の反射を低減することができる。今、ガラス
表面が図10のような凹凸を持つ場合、この層の深さ方
向の座標をxとすると屈折率(nF(x))は式「数3」で表す
ことができる。
In this case, the reflectance is R = 1.3%. The antireflection condition of the monolayer film is for a certain specific wavelength λ, as is clear from “Equation 1” and “Equation 2”, and the reflectance increases before and after λ. Therefore, the entire visible light range (40
In order to reduce the reflection at 0 to 700 nm), it was necessary to stack many layers of substances having different refractive indexes while strictly controlling the film thickness. On the other hand, a non-uniform film having a refractive index distribution in the film thickness direction can also reduce surface reflection. Now, in the case where the glass surface has irregularities as shown in FIG. 10, the refractive index (nF (x)) can be expressed by the formula "Equation 3", where x is the coordinate in the depth direction of this layer.

【0016】[0016]

【数3】 [Equation 3]

【0017】ここに、ngはガラスの屈折率、V(x)はxで
のガラスの占める体積、n0は空気の屈折率である。◆こ
の場合、空気と膜との界面及び膜とガラス基板との界面
では、図11に示すように不連続的に屈折率が変化する
のでこの点における屈折率をそれぞれn1、n2とすると、
この層の反射率Rは式「数4」で表すことができる。
Here, ng is the refractive index of the glass, V (x) is the volume occupied by the glass at x, and n 0 is the refractive index of air. ◆ In this case, the refractive index changes discontinuously at the interface between the air and the film and the interface between the film and the glass substrate as shown in FIG. 11, so let the refractive indices at this point be n 1 and n 2 , respectively. ,
The reflectance R of this layer can be expressed by the equation "Equation 4".

【0018】[0018]

【数4】 [Equation 4]

【0019】この式において、n0=1.0(空気の屈折率)、
n1=1.1、n2=1.47、ng=1.53(ガラスの屈折率)として可視
光波長での反射率を求めたのが図12である。図から最
も低い反射率が得られるのは表面の凹凸が100nm(0.1μ
m)程度であることが明らかである。しかし、この大きさ
の凹凸を規則正しくガラス表面に設けることは困難であ
り、エッチング法によっても多くの時間を要する。本発
明者らは、これまでにこの凹凸を超微粒子によって形成
することにより三層蒸着膜に匹敵する低反射特性を有す
る膜を提案した。この場合、得られた反射率は約0.2〜
0.3%であった。この超微粒子の凹凸による反射防止膜
は、反射防止特性に止まらず解像度、コントラストとも
三層蒸着膜に匹敵した特性が得られる。しかし指紋など
の汚れが付着した場合にはこの凹凸の中に汚れが入り込
んで取れにくいという問題点があった。
In this equation, n 0 = 1.0 (refractive index of air),
FIG. 12 shows the reflectance at the visible light wavelength, where n 1 = 1.1, n 2 = 1.47, and ng = 1.53 (refractive index of glass). The lowest reflectance can be obtained from the figure because the surface roughness is 100 nm (0.1 μm).
It is clear that it is about m). However, it is difficult to form irregularities of this size regularly on the glass surface, and much time is required even by the etching method. The inventors of the present invention have proposed a film having low reflection characteristics comparable to a three-layer vapor-deposited film by forming the unevenness with ultrafine particles. In this case, the obtained reflectance is about 0.2 ~
It was 0.3%. The antireflection film formed by the unevenness of the ultrafine particles has not only antireflection properties but also resolution and contrast characteristics comparable to those of the three-layer vapor deposition film. However, when stains such as fingerprints are attached, there is a problem that the stains get into the irregularities and are difficult to remove.

【0020】そこでさらに鋭意検討した結果、この凹凸
表面にクロロシラン化合物、アルコキシシラン化合物及
びフルオロアルキルシラン化合物からなる群から選ばれ
たシリル化合物を含有した撥水性を有する膜を形成する
処理剤を塗布し、超微粒子の凹凸を残すように極薄く好
ましくは一分子層形成することにより、光学的特性及び
電気的特性を損なわずに対汚れ付着性を大幅に向上させ
ることができることを見出した。
As a result of further intensive study, a treatment agent for forming a water-repellent film containing a silyl compound selected from the group consisting of a chlorosilane compound, an alkoxysilane compound and a fluoroalkylsilane compound was applied to the uneven surface. It has been found that by forming an ultrathin film, preferably a monolayer so as to leave the irregularities of the ultrafine particles, it is possible to significantly improve the antifouling property without impairing the optical and electrical properties.

【0021】本発明の目的は、低コストで汚れが付きに
くくかつ大面積に適用できる可視光反射防止膜と帯電防
止膜及び/又は赤外線反射膜と、これを適用した画像表
示装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a visible light antireflection film, an antistatic film and / or an infrared reflection film which are low in cost, hard to be stained, and applicable to a large area, and an image display device to which the same is applied. It is in.

【0022】[0022]

【課題を解決するための手段】上記目的は、基板表面に
超微粒子と、超微粒子群を構成する各超微粒子の間隔を
充填するバインダーとによって形成される膜を少なくと
も一層以上形成し、その表面に撥水性を有する層を設け
ることにより達成される。
The above-mentioned object is to form at least one or more films formed on the surface of a substrate by ultrafine particles and a binder filling a space between the ultrafine particles constituting the ultrafine particle group, and forming the surface thereof. This is achieved by providing a layer having water repellency.

【0023】撥水性を有する層は、撥油性も兼ねるも
の、シリル化合物からなるもの、表面が微小の凹凸を呈
するもの、膜厚が10nm以下であるもの、表面はCH3基又
はCF3基を有するもの、表面の接触角が90°以上である
ものの少なくとも一つを有するものであれば良い。
The water-repellent layer also has oil repellency, is composed of a silyl compound, has a surface with minute irregularities, has a film thickness of 10 nm or less, and has a CH 3 group or CF 3 group on the surface. Any material having at least one of those having a contact angle of 90 ° or more on the surface may be used.

【0024】また撥水性を有する層は、超微粒子群とバ
インダーとによって少なくとも一層以上形成した超微粒
子層の表面に一分子層形成したものであってもよい。ま
た微小の凹凸の深さが20〜100nmである。また表面の凹
凸を形成する超微粒子が可視光反射防止用超微粒子であ
る。
The water-repellent layer may be formed by forming one molecular layer on the surface of the ultrafine particle layer formed by at least one layer of the ultrafine particle group and the binder. In addition, the depth of minute irregularities is 20 to 100 nm. The ultrafine particles that form the surface irregularities are the ultrafine particles for preventing visible light reflection.

【0025】超微粒子は、可視光反射防止用超微粒子が
二酸化ケイ素(SiO2)、フッ化マグネシウム(MgF2)の群か
ら、帯電防止用超微粒子が二酸化スズ(SnO2),SnO2+酸
化アンチモン(Sb2O3),酸化インジウム(In2O3),In2O3+
SnO2の群からさらに赤外線反射用超微粒子がSnO2,SnO2+
Sb2O3,In2O3,In2O3+SnO2,酸化チタン(TiO2),酸化ジル
コニウム(ZrO2)の群から選ばれるものである。◆基板が
ガラスのとき、バインダーとしてSi(OR)4(Rはアルキ
ル基)を使用する。また基板がプラスチックのときは、
バインダーとしてSi(OR)4(Rはアルキル基)と、プラ
スチックに対する官能基を有するカップリング剤を使用
し、さらにアルカリ及び/又はフッ酸で基板を前処理す
るのが良い。◆また、カップリング剤はプラスチックが
アクリル樹脂のとき、γーメタクリルオキシプロピルト
リメトキシシランとし、プラスチックがエポキシ樹脂の
とき、γーグリシドオキシプロピルトリメトキシシラン
とするのが良い。
The ultrafine particles include those for preventing visible light reflection from the group of silicon dioxide (SiO 2 ) and magnesium fluoride (MgF 2 ), and those for antistatic are tin dioxide (SnO 2 ), SnO 2 + oxidation. Antimony (Sb 2 O 3 ), Indium oxide (In 2 O 3 ), In 2 O 3 +
Ultrafine particles for further infrared radiation reflecting from the group of SnO 2 is SnO 2, SnO 2 +
It is selected from the group consisting of Sb 2 O 3 , In 2 O 3 , In 2 O 3 + SnO 2 , titanium oxide (TiO 2 ) and zirconium oxide (ZrO 2 ). ◆ When the substrate is glass, Si (OR) 4 (R is an alkyl group) is used as a binder. When the substrate is plastic,
It is preferable to use Si (OR) 4 (R is an alkyl group) as a binder and a coupling agent having a functional group for plastics, and further pretreat the substrate with alkali and / or hydrofluoric acid. ◆ Also, the coupling agent is preferably γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane when the plastic is an acrylic resin, and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane when the plastic is an epoxy resin.

【0026】超微粒子膜は基板の両面に形成しても、片
面にのみ形成しても良い。◆可視光反射防止用超微粒子
が粒径40nm〜200nmのSiO2超微粒子からなるもの、帯電
防止用超微粒子が粒径10nm以下の酸化スズ化合物からな
るものが良い。◆さらに、上記の方法により超微粒子膜
を形成する基板は透明板とし、この透明板を液晶パネ
ル、自動車用窓ガラスまたは展示用保護板に備えても良
い。◆また、透明基板に上記の方法により超微粒子膜を
形成し画像表示板または画像表示保護板としても良く、
さらにこの画像表示板または画像表示保護板をブラウン
管に備えても良い。透明板、画像表示板及び画像表示保
護板の表面に形成する超微粒子膜の基板側の一層目は、
帯電防止用超微粒子又は赤外線反射用超微粒子を含有す
るのが良い。◆又最外層は、可視光反射防止用超微粒子
とするのが良い。◆尚、上記に述べた基板は平板状のも
のに限らず超微粒子膜を形成する表面を有するものも含
まれる。
The ultrafine particle film may be formed on both sides of the substrate or only on one side. ◆ It is preferable that the ultrafine particles for preventing visible light reflection are made of SiO 2 ultrafine particles having a particle size of 40 nm to 200 nm, and the antistatic ultrafine particles are made of a tin oxide compound having a particle size of 10 nm or less. Further, the substrate on which the ultrafine particle film is formed by the above method is a transparent plate, and the transparent plate may be provided in a liquid crystal panel, a window glass for automobiles or a protective plate for exhibition. ◆ Alternatively, an ultrafine particle film may be formed on the transparent substrate by the above method to serve as an image display plate or an image display protection plate,
Further, the image display plate or the image display protection plate may be provided in the cathode ray tube. The transparent plate, the first side of the substrate side of the ultrafine particle film formed on the surface of the image display plate and the image display protection plate,
It is preferable to contain antistatic ultrafine particles or infrared reflective ultrafine particles. ◆ Also, the outermost layer is preferably made of ultrafine particles for preventing visible light reflection. The substrate described above is not limited to a flat plate, but includes a substrate having a surface on which an ultrafine particle film is formed.

【0027】撥水性処理剤としては、シリル化合物を用
いれば良い。
A silyl compound may be used as the water repellent treatment agent.

【0028】シリル化合物としては、クロロシラン化合
物、アルコキシシラン化合物及びフルオロアルキルシラ
ン化合物の少なくとも一種以上が含有された処理剤を用
いる。上記クロロシラン化合物としては、例えばCH3SiC
l3、(CH3)HSiCl2、(CH3)2SiCl2、(CH3)3SiClなどが挙げ
られる。◆アルコキシシラン化合物としては、例えばCH
3Si(OCH3)3、(CH3)2Si(OCH3)2、CH3Si(OC2H5)3、(CH3)2
Si(OC2H5)2などが挙げられる。
As the silyl compound, a treating agent containing at least one of a chlorosilane compound, an alkoxysilane compound and a fluoroalkylsilane compound is used. Examples of the chlorosilane compound include CH 3 SiC
l 3, (CH 3) HSiCl 2, (CH 3) 2 SiCl 2, and the like (CH 3) 3 SiCl. ◆ Examples of alkoxysilane compounds include CH
3 Si (OCH 3 ) 3 , (CH 3 ) 2 Si (OCH 3 ) 2 , CH 3 Si (OC 2 H 5 ) 3 , (CH 3 ) 2
Si (OC 2 H 5 ) 2 and the like can be mentioned.

【0029】また、フルオロアルキルシラン化合物とし
ては、例えばCF3CH2CH2Si(OCH3)3、CF3CH2CH2SiCl3、CF
3(CF2)7CH2CH2SiCH3Cl2などが挙げられる。
Examples of the fluoroalkylsilane compound include CF 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 , CF 3 CH 2 CH 2 SiCl 3 , CF
Such as 3 (CF 2) 7 CH 2 CH 2 SiCH 3 Cl 2 and the like.

【0030】超微粒子とバインダーとによって形成され
た前記超微粒子膜の上にこれらシリル化合物を処理する
場合、超微粒子、バインダーとも表面には多量の水酸基
を保有しているので特別の前処理を施さなくとも容易に
反応させシロキサン結合させることができる。
When the silyl compound is treated on the ultrafine particle film formed by the ultrafine particles and the binder, a special pretreatment is performed because both the ultrafine particles and the binder have a large amount of hydroxyl groups on their surfaces. Even if it does not exist, it can be easily reacted to form a siloxane bond.

【0031】撥水性を有する層を設ける撥水処理剤の処
理方法は、クロロシラン化合物の(CH3)2SiCl2のように
発煙性溶剤の場合には、その蒸気を超微粒子膜に当てる
だけでよい。また、アルコキシシラン化合物、フルオロ
アルキルシラン化合物は超微粒子膜を施した基板に通常
の塗布方法例えばスプレー法、スピン法、ディッピング
法などを用いても処理できる。
In the case of a fuming solvent such as (CH 3 ) 2 SiCl 2 which is a chlorosilane compound, the method for treating the water repellent agent to form a layer having water repellency is to apply the vapor to the ultrafine particle film. Good. Further, the alkoxysilane compound and the fluoroalkylsilane compound can also be treated on the substrate on which the ultrafine particle film has been applied, by using a usual coating method such as a spray method, a spin method or a dipping method.

【0032】上記のようにして得られた超微粒子膜は、
良好な反射防止、帯電防止特性を有すると共に優れた対
汚れ付着性をも有する。
The ultrafine particle film obtained as described above is
It has good anti-reflection and anti-static properties as well as excellent stain resistance.

【0033】[0033]

【作用】一般に超微粒子を混合していない塗布溶液を用
いて、ディッピング法により膜形成を行った場合、膜厚
tと引上げ速度vとの間には次の式「数5」が成り立つ
ことが知られている。
In general, when a film is formed by a dipping method using a coating solution in which ultrafine particles are not mixed, the following formula "Equation 5" may be established between the film thickness t and the pulling speed v. Are known.

【0034】[0034]

【数5】 [Equation 5]

【0035】ここにηは溶液の粘性、pは溶液の密度、
gは重力加速度、Kは定数である。
Where η is the viscosity of the solution, p is the density of the solution,
g is gravitational acceleration, and K is a constant.

【0036】一方、本発明者等は、反射防止用の比較的
大きな超微粒子(40〜200nm)を混合した塗布液を一定
速度で基板表面上を上昇あるいは下降させた場合、基板
の材質あるいは基板表面の状態によって超微粒子の配列
の形態が大きく異なることを見出した。例えば同じ市販
の板ガラスでも表と裏では配列の形態が異なり、反射特
性が変わる。この種の板ガラスの表面状態をX線光電子
分光分析装置(XPS)等の表面分析計で分析すると、片
側の表面から酸化スズ(SiO2)が多く検出された。これ
は板ガラスを製造する工程で、スズ浴上を溶融ガラスが
通過する際にスズがガラスに付着することによると考え
られる。この付着したSiO2はガラス洗浄の前処理を行っ
ても取り除くことが困難である。このような表面状態の
基板に超微粒子混合溶液を塗布した場合には、ぬれ性が
通常のガラスと異なるために薄く塗布できることを見出
した。言い替えれば同じ膜厚を得ようとするならば「数
5」から塗布速度を速くすることができる。塗布速度が
速ければ塗布時間は当然短くなるので製造コストは安価
になる。
On the other hand, when the coating liquid containing relatively large ultrafine particles (40 to 200 nm) for antireflection is raised or lowered on the substrate surface at a constant speed, the present inventors It was found that the morphology of the array of ultrafine particles varies greatly depending on the surface condition. For example, even in the same commercially available flat glass, the arrangement form is different between the front and the back, and the reflection characteristics change. When the surface condition of this type of plate glass was analyzed by a surface analyzer such as an X-ray photoelectron spectroscopy analyzer (XPS), a large amount of tin oxide (SiO 2 ) was detected from the surface on one side. It is considered that this is due to the fact that tin adheres to the glass when the molten glass passes over the tin bath in the process of manufacturing the plate glass. It is difficult to remove the adhered SiO 2 even if the glass cleaning pretreatment is performed. It has been found that when the ultrafine particle mixed solution is applied to a substrate having such a surface state, it can be applied thinly because the wettability is different from that of ordinary glass. In other words, if the same film thickness is to be obtained, the coating speed can be increased from "Equation 5". If the coating speed is high, the coating time is naturally shortened and the manufacturing cost is low.

【0037】また、前述のように基板の材質が異なると
表面状態も異なるために、ぬれ性が変わり超微粒子膜の
膜厚が変化する。従って同一の膜厚、超微粒子の配列状
態を得ようとする場合にはその都度塗布条件を変化させ
なければならない。特にガラスとプラスチックスとでは
表面状態が全く異なるので、前処理の工程から考慮する
必要がある。しかし本発明では、あらかじめ帯電防止及
び/又は赤外線反射用超微粒子としてSnO2、酸化インジ
ウム(In2O3)などの小さな酸化物超微粒子(10nm以
下)を塗布するので、基板の表面状態あるいは基板材質
が異なっていても常に一定の表面状態を得ることができ
る。従って同様の塗布条件で同一の特性が得られる。こ
の時、粒径10nm程度の小さな超微粒子を混合した溶液の
場合でも、基板の表面状態の違いによる超微粒子の配列
状態は変化するが、反射防止用超微粒子膜のように規則
正しく配列されている必要はないので、同様の前処理で
もほぼ一定の特性(帯電防止、または赤外線反射特性)
が得られる。
Further, as described above, when the material of the substrate is different, the surface condition is also different, so that the wettability is changed and the film thickness of the ultrafine particle film is changed. Therefore, in order to obtain the same film thickness and the arrangement state of ultrafine particles, the coating conditions must be changed each time. In particular, since glass and plastics have completely different surface states, it is necessary to consider them from the pretreatment step. However, in the present invention, small oxide ultrafine particles (10 nm or less) such as SnO 2 and indium oxide (In 2 O 3 ) are previously applied as antistatic and / or infrared reflecting ultrafine particles, so that the surface state of the substrate or the substrate Even if the material is different, a constant surface condition can be always obtained. Therefore, the same characteristics can be obtained under similar coating conditions. At this time, even in the case of a solution in which ultrafine particles with a particle size of about 10 nm are mixed, the array state of the ultrafine particles changes depending on the surface state of the substrate, but they are regularly arrayed like an ultrafine particle film for antireflection. Since it is not necessary, almost constant characteristics (antistatic or infrared reflection characteristics) even with similar pretreatment
Is obtained.

【0038】また上記のシラン化合物で撥水性処理を行
うと、超微粒子及びバインダー表面の水酸基の活性水素
をシリル基で置換するため最外層はCH3基又はCF3基のみ
となり撥水性を有する。
Further, when the above-mentioned silane compound is subjected to a water-repellent treatment, the active hydrogen of the hydroxyl groups on the surface of the ultrafine particles and the binder is replaced with a silyl group, so that the outermost layer has only CH 3 groups or CF 3 groups and is water-repellent.

【0039】また、本発明の超微粒子膜のように表面に
凹凸がある場合、水と表面との接触角が90°以下の時に
はさらに親水性を示してよくぬれるようになる。ところ
が、接触角が90°以上になると見かけの接触角は大きく
なって撥水性が顕著になる。このため、撥水性処理を施
して接触角を90°以上にすると通常の平板よりも優れた
撥水性を示すようになる。この傾向は油でも同様であ
り、優れた撥油性を示すようになる。したがって、油な
どを含んでいる指紋などの汚れに対しても効果がある。
撥水層は上記のように凹凸の有る超微粒子膜の表面に形
成するより効果が大きくなるものであり、凹凸を形成す
る可視光反射防止超微粒子の粒径40nm〜200nmによって
形成される膜表面の凹凸の谷の深さの最小値20nmを考慮
しその厚さは10nm以下であることが良い。
When the surface of the ultrafine particle film of the present invention has irregularities, when the contact angle between water and the surface is 90 ° or less, it further exhibits hydrophilicity and becomes wet well. However, when the contact angle is 90 ° or more, the apparent contact angle becomes large and the water repellency becomes remarkable. Therefore, when the contact angle is 90 ° or more by applying the water repellency treatment, the water repellency is superior to that of a normal flat plate. This tendency is the same for oils, and it exhibits excellent oil repellency. Therefore, it is also effective against stains such as fingerprints containing oil.
The water repellent layer is more effective than forming it on the surface of the ultrafine particle film having unevenness as described above, and the film surface formed by the visible light antireflection ultrafine particle size 40 nm to 200 nm that forms the unevenness. Considering the minimum value of 20 nm of the depth of the valleys of the unevenness, the thickness is preferably 10 nm or less.

【0040】[0040]

【実施例】以下、本発明の実施例につき図面に従って説
明する。先ず、本発明の構成要件につき分説する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, the constituent features of the present invention will be divided.

【0041】(超微粒子)超微粒子の機能は透明性、透
光性に支障のない限り特に限定はされないが、サブミク
ロンの平均粒径のものをいう。代表的な機能は可視光反
射防止、帯電防止及び/又は赤外線反射である。
(Ultrafine Particles) The function of the ultrafine particles is not particularly limited as long as it does not affect the transparency and translucency, but refers to those having an average particle size of submicron. Typical functions are antireflection of visible light, antistatic and / or infrared reflection.

【0042】反射防止用超微粒子は二酸化ケイ素(Si
O2)、好ましくは空隙を有するSiO2超微粒子又はMgF2
群から選ばれることが望ましい。帯電防止用超微粒子は
SnO2、SnO2+酸化アンチモン(Sb2O3)、In2O3、In2O3+S
nO2の群から選ばれることが望ましい。また赤外線反射
超微粒子はIn2O3、In2O3+SnO2、酸化チタン(TiO2)、酸
化ジルコニウム(ZrO2)の群から選ばれることが好まし
い。
Ultrafine particles for antireflection are silicon dioxide (Si
O 2 ), preferably SiO 2 ultrafine particles having voids or MgF 2 is desirably selected. Ultrafine particles for antistatic
SnO 2 , SnO 2 + antimony oxide (Sb 2 O 3 ), In 2 O 3 , In 2 O 3 + S
It is preferably selected from the group of nO 2 . The infrared-reflecting ultrafine particles are preferably selected from the group consisting of In 2 O 3 , In 2 O 3 + SnO 2 , titanium oxide (TiO 2 ) and zirconium oxide (ZrO 2 ).

【0043】上記反射防止用超微粒子の平均粒径は40〜
200nmが望ましい。40nmより小さい粒径の超微粒子では
形成された膜の最外表面が平坦になりすぎて十分な反射
防止効果が得られない。一方200nmより大きな粒径の超
微粒子では反射防止効果は十分得られるが、拡散反射が
大きくなり、そこ結果白濁すると同時に解像度が低下す
る恐れがあるからである。従って反射防止用超微粒子の
粒径は40〜200nmが好ましい。このことから超微粒子間
で形成される谷の深さは20〜100nmが好ましい。尚、SiO
2やMgF2などの反射防止用超微粒子材料は、いずれもそ
の屈折率が1.50以下である。
The average particle size of the antireflection ultrafine particles is 40 to
200nm is desirable. With ultrafine particles having a particle size smaller than 40 nm, the outermost surface of the formed film becomes too flat and a sufficient antireflection effect cannot be obtained. On the other hand, ultrafine particles having a particle size larger than 200 nm can sufficiently obtain the antireflection effect, but the diffuse reflection becomes large, and as a result, the cloudiness may occur and the resolution may decrease at the same time. Therefore, the particle size of the antireflection ultrafine particles is preferably 40 to 200 nm. From this, the depth of the valley formed between the ultrafine particles is preferably 20 to 100 nm. Incidentally, SiO
The ultrafine particle material for antireflection such as 2 and MgF 2 has a refractive index of 1.50 or less.

【0044】帯電防止用超微粒子の平均粒径は10nm以下
が望ましい。また帯電防止用超微粒子は2種以上併用し
ても良い。平均粒径が10nm以下の超微粒子を塗布液に混
合した場合には、基板の表面状態が異なっていても比較
的均一な膜が得られる。またかなり厚く塗布しても、透
過率の低下および白濁を招く恐れが比較的少ない。
The average particle size of the antistatic ultrafine particles is preferably 10 nm or less. Also, two or more kinds of antistatic ultrafine particles may be used in combination. When ultrafine particles having an average particle diameter of 10 nm or less are mixed with the coating liquid, a relatively uniform film can be obtained even if the surface state of the substrate is different. Moreover, even if it is applied to a considerably thick layer, it is relatively unlikely to cause a decrease in transmittance and cloudiness.

【0045】帯電防止機能或いは赤外線反射機能或いは
電磁遮断機能を有する超微粒子としては、SnO2、In2O3、T
iO2、ZrO2などの金属酸化物或いはこれらの混合物などが
挙げられる。この中でSnO2+10重量%Sb2O3、或いはIn2O
3+5重量%SnO2は帯電防止特性と赤外線反射特性が優れて
いるので好ましい。膜厚は0.1〜0.5μm、粒径は5〜50nm
が望ましい。帯電防止の機能を有する金属酸化物あるい
はこれらの混合物は、エネルギ−バンドギャップが3eV
以上あるために可視光域で高い透過性を示すと同時に、
化学量論組成からのずれ、及び不純物添加による高い自
由電子濃度を有するために高導電性を示す。また直接超
微粒子同志が接触状態になくとも、言い替えればバイン
ダー等が超微粒子間に存在していても、その厚さが薄け
ればトンネル効果によって導電性を示す。帯電防止機能
を有するためには106〜109Ω/cm2程度の導電性があれば
良いので、これら超微粒子とバインダーとの混合比率を
比較的広範囲に設定することが可能である。
Ultrafine particles having an antistatic function, an infrared reflecting function or an electromagnetic shielding function include SnO 2 , In 2 O 3 and T
Examples thereof include metal oxides such as iO 2 and ZrO 2 , or mixtures thereof. Of these, SnO 2 +10 wt% Sb 2 O 3 or In 2 O
3 +5 wt% SnO 2 is preferable because it has excellent antistatic properties and infrared reflection properties. Thickness is 0.1-0.5μm, particle size is 5-50nm
Is desirable. Metal oxides or their mixtures with antistatic function have energy-bandgap of 3 eV
Because of the above, it shows high transparency in the visible light region,
It exhibits high conductivity due to deviation from stoichiometric composition and high free electron concentration due to impurity addition. Further, even if the ultrafine particles are not in direct contact with each other, in other words, even if a binder or the like is present between the ultrafine particles, if the thickness is thin, conductivity is exhibited by the tunnel effect. In order to have an antistatic function, conductivity of about 10 6 to 10 9 Ω / cm 2 is sufficient, so that the mixing ratio of these ultrafine particles and the binder can be set in a relatively wide range.

【0046】(透光性基板)◆透光性基板としてはガラ
ス板でもプラスチックス板でもプラスチックスフィルム
でも差し支えない。プラスチック材としては主成分が例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ウレタン、アク
リル、フェノール、エポキシ、メラニン、ナイロン、ポ
リイミド、ポリカーボネート、ブチル、エポキシフェノ
ール、塩化ビニル、ポリエステルなどのものが挙げられ
る。尚、基板の超微粒子形成面は平板上はもちろんのこ
と、ブラウン管のように曲率を有していても良い。また
超微粒子形成面は片面でも両面でも差し支えない。
(Translucent Substrate) ◆ The translucent substrate may be a glass plate, a plastics plate or a plastics film. Examples of the plastic material include those whose main component is polyethylene, polypropylene, urethane, acryl, phenol, epoxy, melanin, nylon, polyimide, polycarbonate, butyl, epoxyphenol, vinyl chloride, polyester and the like. The surface of the substrate on which the ultrafine particles are formed may be a flat plate or may have a curvature like a cathode ray tube. Further, the surface on which the ultrafine particles are formed may be either one surface or both surfaces.

【0047】(前処理)◆基板とのぬれ性を考慮するな
らば、アルカリ処理やフッ酸処理等の前処理が好まし
い。また、プラスチックス基板の場合には中性洗剤等に
よる前処理も有効である。
(Pretreatment) Considering the wettability with the substrate, pretreatment such as alkali treatment or hydrofluoric acid treatment is preferable. In the case of a plastic substrate, pretreatment with a neutral detergent is also effective.

【0048】(塗布方法)◆塗布液が基板などの被塗布
物を覆った後露出させる速度は10mm/s以下が望ましい。
また、この速度は被塗布物の形状により一定速度でも変
化させても良い。基板は容器内に設置するか、或いはこ
れに代えて容器の側面部に開けた穴から基板面を露出さ
せても良い。後者の方法はブラウン管など製品形状がほ
ぼ出来上がったものに超微粒子膜を形成するのに適して
いる。
(Coating method) ◆ It is desirable that the coating liquid should cover the object to be coated such as the substrate and then expose it at a speed of 10 mm / s or less.
Further, this speed may be constant or may be changed depending on the shape of the object to be coated. The substrate may be installed in the container, or alternatively, the substrate surface may be exposed through a hole formed in the side surface of the container. The latter method is suitable for forming an ultrafine particle film on an almost finished product such as a cathode ray tube.

【0049】塗布面の加熱処理としては炉中で50〜200
℃で焼成するのが実用的であるが、高圧水銀灯などを用
いて紫外線により短時間に焼成しても良い。
The heating of the coated surface is carried out in a furnace at 50 to 200
Although it is practical to bake at ℃, it may be fired in a short time by ultraviolet rays using a high pressure mercury lamp or the like.

【0050】以上はデイッピング方法の一例で説明した
が、プラスチックス基板への塗布方法や膜表面の均一さ
を問わないならば、このデイッピング法に限らず他のデ
ィッピング法やスピンコート法、スプレー法、或いはこ
れらの組合せやこれらとデイッピング法との組合せも有
効である。
Although the example of the dipping method has been described above, the dipping method, the spin coating method, and the spray method are not limited to this dipping method as long as the application method to the plastics substrate and the uniformity of the film surface are not required. Alternatively, a combination of these and a combination of these and the dipping method are also effective.

【0051】(塗布溶液)◆本発明の超微粒子膜の形成
には、所定量の超微粒子にバインダーや必要に応じてカ
ップリング剤、その他添加物を加えた塗布溶液を用い
る。◆透光性板がガラス体のときは、バインダーとして
Si(OR)4(但しRはアルキル基)を使用することが好ま
しく、透光性板がプラスチックスの時はバインダーとし
てSi(OR)x(X=2〜4,好ましくは3)を使用することが好ま
しい。更に透光性板がプラスチックスの時はこのプラス
チックス材に対する官能基を有するカップリング剤を併
用することが望ましい。◆透光性板がガラス体の場合に
はSi(OR)4(但しRはアルキル基)を溶解したアルコー
ル溶液に、透光性板がプラスチックスの場合にはこの高
分子体と容易に反応する官能基とSi(OR)x(X=2〜4,好ま
しくは3)を保有するシランカップリング剤、或いは上
記Si(OR)4とシランカップリング剤との混合溶液を溶解
したアルコール溶液に超微粒子を分散させる。
(Coating Solution) ◆ In order to form the ultrafine particle film of the present invention, a coating solution in which a predetermined amount of ultrafine particles are added with a binder and, if necessary, a coupling agent and other additives is used. ◆ When the translucent plate is glass, it is used as a binder
It is preferable to use Si (OR) 4 (where R is an alkyl group), and when the light-transmissive plate is plastics, Si (OR) x (X = 2 to 4, preferably 3) is used as a binder. It is preferable. Further, when the translucent plate is made of plastics, it is desirable to use a coupling agent having a functional group for the plastics material together. ◆ Easily reacts with alcohol solution in which Si (OR) 4 (where R is an alkyl group) is dissolved when the translucent plate is glass, and with this polymer when the translucent plate is plastics. A silane coupling agent having a functional group and Si (OR) x (X = 2 to 4, preferably 3), or an alcohol solution in which a mixed solution of the Si (OR) 4 and the silane coupling agent is dissolved. Disperse the ultrafine particles.

【0052】この基板を透光性板上に前記方法により塗
布した後、この塗布面を加熱(或いは焼成)して膜形成
を行う。この加熱処理によりSi(OR)4或いはシランカッ
プリング剤は分解してSiO2などそれぞれ超微粒子と基板
との接着剤としての役目を果たす。◆Si(OR)4のRとして
は一般に炭素数1〜5のアルキル基が好ましい。一方、
シランカップリング剤は透光性板の高分子材料によって
適宜選択する必要がある。◆例えば主成分がポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ウレタン、アクリルなどの場合に
はビニルトリエトキシシラン、γーメタクリルオキシプ
ロピルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤が
有効である。またフェノール、エポキシ、メラニン、ナ
イロン、ポリイミド、ポリカーボネートの場合にはγー
アミノプロピルエトキシシラン、γーグリシドオキシプ
ロピルトリメトキシシランなどのシランカップリング剤
が有効である。更にブチル、エポキシフェノール、塩化
ビニル、ポリエステルの場合にはβ,3,4ーエポキシ
シクロヘキシルエチルトリメトキシシラン、γーグリシ
ドオキシプロピルトリメトキシシラン等のシランカップ
リング剤が有効である。
After the substrate is coated on the transparent plate by the above method, the coated surface is heated (or fired) to form a film. By this heat treatment, Si (OR) 4 or the silane coupling agent is decomposed to serve as an adhesive between the ultrafine particles such as SiO 2 and the substrate. As R of Si (OR) 4 , an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms is generally preferable. on the other hand,
The silane coupling agent needs to be appropriately selected depending on the polymer material of the transparent plate. For example, when the main component is polyethylene, polypropylene, urethane, acrylic or the like, a silane coupling agent such as vinyltriethoxysilane or γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane is effective. In the case of phenol, epoxy, melanin, nylon, polyimide, and polycarbonate, silane coupling agents such as γ-aminopropylethoxysilane and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane are effective. Further, in the case of butyl, epoxyphenol, vinyl chloride and polyester, silane coupling agents such as β, 3,4-epoxycyclohexylethyltrimethoxysilane and γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane are effective.

【0053】またSi(OR)4或いはシランカップリング剤
を溶融させるためのアルコールは、上記Rの炭素数の増
加と共に混合アルコール溶液の粘性が高くなるので作業
性を考慮して粘性が高くなり過ぎないように適宜アルコ
ールを選択すれば良い。◆一般に使用可能なアルコール
としては炭素数が1乃至5のアルコールが挙げられる。
◆さらにSi(OR)4が加水分解するために水及び触媒とし
て鉱酸、例えば硝酸などを加えて塗膜溶液を調整しても
良い。
Further, the alcohol for melting Si (OR) 4 or the silane coupling agent becomes too viscous in view of workability because the viscosity of the mixed alcohol solution becomes high as the number of carbon atoms of R is increased. Alcohol may be appropriately selected so as not to exist. ◆ Generally usable alcohols include alcohols having 1 to 5 carbon atoms.
Further, since the Si (OR) 4 is hydrolyzed, a coating solution may be prepared by adding water and a mineral acid such as nitric acid as a catalyst.

【0054】(撥水・撥油処理剤)◆撥水・撥油処理剤と
しては、クロロシラン化合物、アルコキシシラン化合物
及びフルオロアルキルシシラン化合物等のシリル化合物
を含有したもの群から選ばれる。シリル化合物が低粘度
の場合にはそのまま処理剤として用いることができる。
また高粘度の場合には前記塗布溶液と同様に調合して用
いることができる。処理方法は、処理剤の蒸気が充満し
た容器中に超微粒子膜を施した基板を一定時間入れるだ
けでよい。また前記塗布方法と同様に処理剤を液状で用
い、ディッピング法やスピンコート法、スプレー法等に
より塗布しても良い。
(Water / Oil Repellent Treatment Agent) The water / oil repellent treatment agent is selected from the group containing silyl compounds such as chlorosilane compounds, alkoxysilane compounds and fluoroalkyl silane compounds. When the silyl compound has a low viscosity, it can be directly used as a treating agent.
When it has a high viscosity, it can be prepared and used in the same manner as the coating solution. As the treatment method, it is only necessary to put the substrate on which the ultrafine particle film is provided in a container filled with the vapor of the treatment agent for a certain period of time. Further, as in the case of the coating method, the treatment agent may be used in a liquid state and may be coated by a dipping method, a spin coating method, a spray method or the like.

【0055】以下、本発明をブラウン管の前面パネル表
面(ガラス面板)に適用した実施例を述べる。◆図1は
本実施例の工程図である。まずブラウン管表面をアルカ
リ洗浄し、純水で水洗後、水滴の跡が残らないように窒
素ガス等でブローする。次にこのブラウン管を塗布装置
に装着し、導電性超微粒子を混合した塗布液を塗布す
る。尚、塗布装置と塗布方法は後述する。この時の混合
塗布溶液組成及び塗布条件の一実施例を表1に示す。塗
布後、所定時間放置したあと、ブラウン管を装置から脱
着し、窒素ガスで乾燥する。乾燥はガス或いはクリーン
エアーによる冷風乾燥、熱風乾燥、若しくは炉中乾燥で
もよい。乾燥した後、同一仕様の別塗布装置に装着し、
反射防止用超微粒子を混合した塗布溶液を塗布する。次
にこのブラウン管をクロロシラン化合物の蒸気が充満し
た密閉容器に所定時間入れ、その後前記方法と同様に乾
燥する。この時の混合塗布溶液組成、撥水油処理剤及び
塗布条件の一実施例を「表1」に示す。
Examples in which the present invention is applied to the front panel surface (glass face plate) of a cathode ray tube will be described below. ◆ FIG. 1 is a process diagram of this embodiment. First, the surface of the cathode ray tube is washed with alkali, washed with pure water, and then blown with nitrogen gas or the like so that no traces of water drops remain. Next, this Braun tube is mounted on a coating device, and a coating liquid mixed with conductive ultrafine particles is coated. The coating device and coating method will be described later. An example of the composition of the mixed coating solution and the coating conditions at this time is shown in Table 1. After the application, the cathode ray tube is detached from the apparatus after being left for a predetermined time, and dried with nitrogen gas. Drying may be cold air drying with gas or clean air, hot air drying, or oven drying. After drying, attach it to another coating device with the same specifications,
A coating solution containing ultrafine particles for antireflection is applied. Next, this cathode ray tube is placed in a closed container filled with vapor of a chlorosilane compound for a predetermined time, and then dried in the same manner as the above method. An example of the composition of the mixed coating solution, the water-repellent oil treating agent and the coating conditions at this time is shown in "Table 1".

【0056】[0056]

【表1】 [Table 1]

【0057】次に炉中で160℃、30分焼成する。焼成は
炉中加熱の他、紫外線あるいは赤外線による加熱でもよ
い。この焼成工程により、超微粒子がブラウン管に強固
に接着される。以上の塗布工程によって、帯電防止、反
射防止膜及び撥水性を有する膜が形成される。
Next, it is baked in a furnace at 160 ° C. for 30 minutes. The firing may be heating in a furnace or heating by ultraviolet rays or infrared rays. By this firing step, the ultrafine particles are firmly adhered to the cathode ray tube. Through the above coating process, an antistatic film, an antireflection film and a film having water repellency are formed.

【0058】また図2は本実施例の塗布装置構成を示す
図である。図2において、21はブラウン管、22は塗布液
槽、23は塗布溶液、24は溶液供給用バルブ、25は引き抜
き用バルブ、26は定量ポンプ、27は溶液タンク、28は溶
液供給加圧バルブ、29はリーク用バルブである。◆かか
る構成において、塗布液槽22にブラウン管21を装着す
る。この場合、塗布液槽22の取付け面には、塗布工程で
塗布液が漏れないようにパッキン或いはOリングが施さ
れており、かつ作業性を考慮してブラウン管を押し当て
るだけでシールできる構造になっている。
FIG. 2 is a diagram showing the construction of the coating apparatus of this embodiment. In FIG. 2, 21 is a cathode ray tube, 22 is a coating solution tank, 23 is a coating solution, 24 is a solution supply valve, 25 is a drawing valve, 26 is a metering pump, 27 is a solution tank, 28 is a solution supply pressurizing valve, 29 is a leak valve. ◆ In such a configuration, the cathode ray tube 21 is attached to the coating liquid tank 22. In this case, the mounting surface of the coating liquid tank 22 is provided with packing or an O-ring to prevent the coating liquid from leaking in the coating process, and has a structure that can be sealed simply by pressing the CRT in consideration of workability. Has become.

【0059】次に超微粒子が混合された塗布溶液を塗布
液槽22とブラウン管表面との間に形成された空間に導入
する。この塗布液の導入は、先ず引き抜きバルブ25及び
リーク用バルブ29を閉にし、溶液供給用バルブ24及び溶
液供給加圧バルブ28を開にする。溶液供給加圧バルブ28
は空気圧縮機に結合されており、空気圧縮機で発生した
圧縮空気を徐々に溶液タンクに加える。この操作により
溶液タンク27に充填されている塗布溶液23はブラウン管
表面上に充たされる。次に溶液供給用バルブ24及び溶液
供給加圧バルブ28を閉にした後、引き抜きバルブ25とリ
ーク用バルブ29を開し、定量ポンプ26を起動させるとブ
ラウン管表面に充たされている塗布溶液23は溶液タンク
27に戻される。この場合定量ポンプ26の液送給速度を適
宜変えることにより、塗布溶液23がブラウン管表面上を
下降する速度を調整することができる。塗布溶液をブラ
ウン間に充たす時、圧縮空気のほかに不活性ガス例えば
N2ガスを用いても良い。
Next, the coating solution in which the ultrafine particles are mixed is introduced into the space formed between the coating liquid tank 22 and the surface of the cathode ray tube. To introduce the coating liquid, first, the extraction valve 25 and the leak valve 29 are closed, and the solution supply valve 24 and the solution supply pressurization valve 28 are opened. Solution supply pressurizing valve 28
Is connected to an air compressor, and the compressed air generated by the air compressor is gradually added to the solution tank. By this operation, the coating solution 23 filled in the solution tank 27 is filled on the surface of the cathode ray tube. Next, after closing the solution supply valve 24 and the solution supply pressurization valve 28, the withdrawal valve 25 and the leak valve 29 are opened, and the metering pump 26 is activated to apply the coating solution 23 filled on the surface of the cathode ray tube. Is the solution tank
Returned to 27. In this case, the speed at which the coating solution 23 descends on the surface of the cathode ray tube can be adjusted by appropriately changing the liquid feed rate of the metering pump 26. When filling the coating solution between browns, in addition to compressed air, an inert gas such as
N 2 gas may be used.

【0060】次にこの塗布溶液の混合方法について述べ
る。まず一層目に塗布する帯電防止膜用塗布溶液は、エ
チルシリケート〔Si(OC2H5)4〕をエタノールに溶解し、
更に加水分解のためのH2Oと、触媒としてのHNO3とを添
加した溶液を作り、この溶液に粒径6nmのSnO2超微粒子
を重量%で2%添加する。また二層目に塗布する反射防止
用塗布溶液は、エチルシリケート〔Si(OC2H5)4〕をエタ
ノールに溶解し、更に加水分解のためのH2Oと、触媒と
してのHNO3とを添加した溶液を作り、この溶液に粒径12
0nmのSiO2超微粒子を重量%で5%添加する。この時充分
分散するように溶液のPHを調整する。
Next, a method of mixing the coating solution will be described. First, the coating solution for the antistatic film applied to the first layer is ethyl silicate [Si (OC 2 H 5 ) 4 ] dissolved in ethanol,
Further, a solution containing H 2 O for hydrolysis and HNO 3 as a catalyst is prepared, and 2% by weight of SnO 2 ultrafine particles having a particle size of 6 nm is added to this solution. The antireflection coating solution to be applied to the second layer was prepared by dissolving ethyl silicate [Si (OC 2 H 5 ) 4 ] in ethanol, and further adding H 2 O for hydrolysis and HNO 3 as a catalyst. Make the added solution and add 12
Add 5% by weight of 0 nm SiO 2 ultrafine particles. At this time, the pH of the solution is adjusted so that it is sufficiently dispersed.

【0061】次にこの帯電防止膜用塗布溶液を前記方法
によりブラウン管表面に満たし、3.0mm/sの速度で塗布
液を降下して塗布を行った。塗布後は冷風によって強制
乾燥させた。次にこの上に反射防止用塗布溶液を同様の
方法で塗布し超微粒子膜を形成した。この時の塗布速度
は2.5mm/sである。次に撥水処理剤であるクロロシラン
化合物の蒸気が充満した容器内に放置し超微粒子膜の表
面に撥水処理を施した。その後、160℃で30分空気中で
焼成し、エチルシリケートを分解した。溶液に添加した
SnO2及びSiO2超微粒子は、分解してできたSiO2がバイン
ダーの役目を果たすので、ブラウン管表面に強固に接
着、固定される。また、一層目の表面は、SnO2超微粒子
が均一に分散、塗布されているので、ぬれ性が良好かつ
均一である。
Next, the surface of the cathode ray tube was filled with the coating solution for the antistatic film by the above-mentioned method, and the coating solution was dropped at a rate of 3.0 mm / s for coating. After coating, it was forcedly dried with cold air. Next, an antireflection coating solution was applied on the above in the same manner to form an ultrafine particle film. The coating speed at this time is 2.5 mm / s. Next, the surface of the ultrafine particle film was subjected to water repellent treatment by leaving it in a container filled with vapor of a chlorosilane compound as a water repellent treatment agent. Then, it was baked in air at 160 ° C. for 30 minutes to decompose ethyl silicate. Added to the solution
SnO 2 and SiO 2 ultrafine particles, SiO 2 was Deki by decomposition because serves binder, firmly adhered to the CRT surface, are fixed. Moreover, since the SnO 2 ultrafine particles are uniformly dispersed and applied to the surface of the first layer, the wettability is good and uniform.

【0062】従って、二層目のSiO2超微粒子は均一に配
列されて、連続的な凹凸を形成することができる。さら
に撥水性処理剤のクロロシラン化合物は超微粒子及びバ
インダー表面の水酸基(OH)の活性水素をシリル基(R3Si)
で置換する(シリル化)。たとえばトリメチルクロロシラ
ン(Me3SiCl)の場合、超微粒子表面のSi-OHと反応する
と,Si-OH+Me3SiClがSi-OSiMe3+HClとなり、最外層はMe3
となるためを撥水性を有するようになる。この反応は、
一分子層が強固に接着し、最外層はCH3基のみとなるた
め撥水性を有する。従って超微粒子と超微粒子とで形成
される谷の深さは処理前とほとんど変化しない。このた
め前記のように反射防止効果は変化しない。
Therefore, the second-layer SiO 2 ultrafine particles can be uniformly arranged to form continuous irregularities. Furthermore, the chlorosilane compound, which is a water repellent treatment agent, converts the active hydrogen of the hydroxyl group (OH) on the ultrafine particles and the binder surface into the silyl group (R 3 Si).
Replace with (silylation). For example, in the case of trimethylchlorosilane (Me 3 SiCl), when it reacts with Si-OH on the surface of ultrafine particles, Si-OH + Me 3 SiCl becomes Si-OSiMe 3 + HCl, and the outermost layer is Me 3
Therefore, it becomes water repellent. This reaction is
It has water repellency because the monolayer adheres firmly and the outermost layer is composed of only CH 3 groups. Therefore, the depth of the valley formed by the ultrafine particles and the ultrafine particles hardly changes from that before the treatment. Therefore, the antireflection effect does not change as described above.

【0063】図3はブラウン管と同材質のガラス板にこ
の膜を被覆し、破断してその断面を走査型電子顕微鏡(S
EM)により観察した結果を模式的に表した斜視図であ
る。ガラス板31にほぼ均一の膜厚で形成された一層目の
導電性膜32の上に120nmのSiO2超微粒子33が一層配列し
ている。一部超微粒子が欠落している個所があるが、こ
の大きさは超微粒子2〜3個分、即ち約240〜360nm程度の
距離であり可視光波長よりも十分小さいために反射特性
には大きな影響はない。◆この膜を形成したブラウン管
表面に入射角5°で光を入射させ、反射率を測定した結
果、図4に示すように波長550nmにおいて0.3%の低反射
率が得られた。
In FIG. 3, a glass plate of the same material as the cathode ray tube is coated with this film, and the film is broken and its cross section is taken by a scanning electron microscope (S
It is a perspective view which represented typically the result observed by EM). 120 nm SiO 2 ultrafine particles 33 are further arranged on a first-layer conductive film 32 formed on a glass plate 31 with a substantially uniform film thickness. There is a part where some ultrafine particles are missing, but this size is equivalent to a few ultrafine particles, that is, a distance of about 240 to 360 nm, which is sufficiently smaller than the wavelength of visible light, and therefore has a large reflection characteristic. There is no effect. ◆ As a result of measuring the reflectance by making light incident on the surface of the cathode ray tube having this film at an incident angle of 5 °, a low reflectance of 0.3% was obtained at a wavelength of 550 nm as shown in FIG.

【0064】一方、この膜の表面抵抗値を測定した結
果、約108Ω/□であり、この帯電特性は図5に示すよう
に、参考として示した従来の特性(無処理品)と比べると
ほとんど帯電しないことが判った。この時導電性超微粒
子の間には薄い絶縁性のバインダーが存在することにな
るが、SnO2等の物質はトンネル効果により電子が移動す
ることが知られており、この作用により導電性の機能が
発揮される。
On the other hand, as a result of measuring the surface resistance value of this film, it was about 10 8 Ω / □, and this charging characteristic is, as shown in FIG. 5, compared with the conventional characteristic (untreated product) shown as a reference. It turns out that it is hardly charged. At this time, a thin insulating binder exists between the conductive ultrafine particles, but it is known that electrons move in the substance such as SnO 2 due to the tunnel effect. Is demonstrated.

【0065】次に、本実施例の帯電防止低反射膜を消し
ゴム(ライオン社製、50ー30タイプ)を用いて1kgfの
荷重で50回擦った結果、反射率は0.1%程度変化しただけ
で、膜品質上はまったく問題がなかった。また指を強く
膜に押しつけて指紋を付着させた後エチルアルコールを
含ませた布で拭き取った結果、すべて除去することがで
きた。
Next, as a result of rubbing the antistatic low-reflection film of this embodiment with an eraser (Lion Co., 50-30 type) 50 times under a load of 1 kgf, the reflectance was changed by about 0.1%. There was no problem in film quality. Moreover, as a result of pressing the finger strongly against the film to attach the fingerprint and wiping with a cloth soaked in ethyl alcohol, it was possible to remove all.

【0066】このような帯電、反射防止膜を形成するプ
ロセスでは、完成したブラウン管に直接膜を形成するこ
とが出来、また既存のSi(OR)4アルコール溶液にSnO2
微粒子あるいはSiO2超微粒子とを混合して塗布、焼成す
るだけで良く、品質一定でしかも低コストで製造するこ
とができる。◆また上記実施例では、Si(OR)4としてR
がエチル基の例を示したが、前述の通りR=CnHm(m=2n+1)
としたとき、n=1〜5の範囲で実施可能でありnが大きく
なる場合、溶液の粘性が少し高くなるので溶媒としては
作業性を考慮してそれに応じたアルコールを選択すれば
良い。
In the process of forming such an electrification / antireflection film, the film can be directly formed on the completed cathode ray tube, and SnO 2 ultrafine particles or SiO 2 ultrafine particles can be added to the existing Si (OR) 4 alcohol solution. It suffices to mix and apply and to apply, and it is possible to manufacture with constant quality and at low cost. Also, in the above embodiment, R is used as Si (OR) 4.
Shows an example of an ethyl group, but as described above, R = CnHm (m = 2n + 1)
In such a case, it is possible to carry out in the range of n = 1 to 5, and when n becomes large, the viscosity of the solution becomes a little high, and therefore, as the solvent, alcohol corresponding to it may be selected in consideration of workability.

【0067】以上のように、本実施例によれば、反射防
止効果に優れ、かつ帯電防止機能を有する膜を形成した
画像表示板が簡単な装置と簡便な塗布工程で形成するこ
とができる。したがって、本実施例の表示板は、量産性
に好適で、耐汚染性にも優れている。
As described above, according to this embodiment, an image display plate having a film having an excellent antireflection effect and an antistatic function can be formed by a simple apparatus and a simple coating process. Therefore, the display board of this embodiment is suitable for mass production and has excellent stain resistance.

【0068】他の実施例につき図6を用いて説明する。
◆図6は本実施例の装置構成を示す。図6において61は
透明基板で複数枚を治具62に設置し、塗布液槽22内に納
める。第1実施例のブラウン管の透明基板がガラス板で
あったのに対して、透明基板61はプラスチックス板であ
る。◆この場合、塗布液槽22に治具及び被塗物の出し入
れように設けた出入口には、塗布工程で塗布液が漏れな
いようにパッキンあるいはOリングを施した。◆次に超
微粒子が混合された塗布溶液を塗布液槽22の空間に導入
した。この塗布液の導入には、まず先ず引き抜きバルブ
25及びリーク用バルブ29を閉にし、供給バルブ用バルブ
24及び溶液供給加圧バルブ28を開にする。この操作によ
り溶液タンク27に充填されている塗布溶液23を加圧して
塗布液槽22内に充たす。
Another embodiment will be described with reference to FIG.
◆ FIG. 6 shows a device configuration of this embodiment. In FIG. 6, reference numeral 61 denotes a transparent substrate, and a plurality of transparent substrates are set on the jig 62 and housed in the coating liquid tank 22. The transparent substrate of the cathode ray tube of the first embodiment is a glass plate, whereas the transparent substrate 61 is a plastic plate. In this case, a packing or an O-ring is provided at the entrance and exit provided in the coating liquid tank 22 so that the jig and the article to be coated are taken in and out, so that the coating solution does not leak during the coating process. Next, the coating solution containing the ultrafine particles was introduced into the space of the coating liquid tank 22. To introduce this coating liquid, first of all, withdrawal valve
25 and leak valve 29 closed, supply valve valve
24 and the solution supply pressure valve 28 are opened. By this operation, the coating solution 23 filled in the solution tank 27 is pressurized to fill the coating solution tank 22.

【0069】次に溶液供給バルブ24及び溶液供給加圧バ
ルブ28を閉にした後、引き抜きバルブ25とリーク用バル
ブ29を開にし、定量ポンプ26を起動させると塗布浴槽22
に充たされている塗布溶液23は溶液タンク27に戻され
る。この場合、定量ポンプ26の送給速度を適宜変えるこ
とにより塗布溶液23が複数枚の透明基板61の各表面上を
所定速度で下降するよう速度調整することができる。こ
の場合の塗布工程は図1とほぼ同様であるが、ブラウン
管装着の工程が治具62を塗布液槽61に設置する工程、ブ
ラウン管脱着の工程が治具62を塗布液槽61から引き上げ
て別の塗布装置に設置する工程になる。また三層塗布の
場合には異なる三種類の塗布液、同一仕様の塗布装置を
三台用いて塗布を行う。
Next, after closing the solution supply valve 24 and the solution supply pressurization valve 28, the withdrawal valve 25 and the leak valve 29 are opened, and the metering pump 26 is activated.
The coating solution 23 filled in is returned to the solution tank 27. In this case, by appropriately changing the feed rate of the metering pump 26, the speed of the coating solution 23 can be adjusted so as to descend at a predetermined rate on each surface of the transparent substrates 61. The coating process in this case is almost the same as that in FIG. 1, except that the process of installing the cathode ray tube sets the jig 62 in the coating liquid tank 61, and the process of removing the cathode ray tube separates the jig 62 from the coating liquid tank 61. It becomes the process of installing in the coating device. In the case of three-layer coating, three different types of coating liquids and three coating devices having the same specifications are used for coating.

【0070】次にこの塗布溶液の混合方法について述べ
る。◆まず一層目に塗布する帯電防止膜用塗布溶液は、
γーメタクリルオキシプロピルトリメトキシシランを含
むエチルシリケート〔Si(OC2H5)3〕をエタノールに溶解
し、更に加水分解のためのH2Oと、触媒としてのHNO3
を添加した溶液を作り、この溶液に粒径6nmのSnO2超微
粒子を重量%で2%添加する。次に二層目に塗布する反射
防止用塗布溶液は、エチルシリケート〔Si(OC2H5)4〕を
エタノールに溶解し、更に加水分解のためのH2Oと、触
媒としてのHNO3とを添加した溶液を作り、この溶液に粒
径40nmのSiO2超微粒子を重量%で5%添加する。この時
充分分散するように溶液のPHを調整する。さらに撥
水、撥油処理剤としてフルオロアルコキシシラン化合物
を用いる。次にこの三種類の塗布溶液を順次図6の装置
を用いて前述の手順により塗布を行った。「表2」はこ
の時の塗布条件である。
Next, a method for mixing the coating solution will be described. ◆ The coating solution for the antistatic film, which is applied on the first layer, is
A solution prepared by dissolving ethyl silicate [Si (OC 2 H 5 ) 3 ] containing γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane in ethanol, and further adding H 2 O for hydrolysis and HNO 3 as a catalyst was prepared. 2% by weight of SnO 2 ultrafine particles having a particle size of 6 nm is added to this solution. Next, the antireflection coating solution to be applied to the second layer is a solution of ethyl silicate [Si (OC 2 H 5 ) 4 ] dissolved in ethanol, H 2 O for hydrolysis, and HNO 3 as a catalyst. 5% by weight of SiO 2 ultrafine particles having a particle diameter of 40 nm is added to the solution. At this time, the pH of the solution is adjusted so that it is sufficiently dispersed. Further, a fluoroalkoxysilane compound is used as a water and oil repellent treatment agent. Next, these three kinds of coating solutions were sequentially coated using the apparatus shown in FIG. "Table 2" shows the coating conditions at this time.

【0071】[0071]

【表2】 [Table 2]

【0072】三回の塗布工程を終了した後はプラスチッ
クの種類によって50〜120℃の焼成を行った。図7はこ
の膜を被覆した基板11を破断しその断面をSEMで観察し
た結果を示す模式図である。基板71の表面に一層目の帯
電防止層72が、その上に反射防止層74が夫々ほぼ均一厚
さで形成されており、反射防止機能もガラス基板の場合
と同等である。更に最外層表面にはフルオロアルコキシ
シラン化合物が反応して前記と同様にCH3が撥水性を有
する層75として均一に薄くオーバーコートされている。
尚、73はバインダーである。これにより、反射防止機
能、帯電防止機能及び耐摩耗性、耐久性及び汚れ除去性
にも優れた膜ができた。尚、本実施例においては三層構
成から成る超微粒子膜について述べたが、四層以上の超
微粒子膜を形成する場合も上記の塗布工程を追加するこ
とによって行うことができる。
After completion of the three coating steps, baking was carried out at 50 to 120 ° C. depending on the type of plastic. FIG. 7 is a schematic view showing the result of rupturing the substrate 11 coated with this film and observing its cross section by SEM. An antistatic layer 72 of the first layer is formed on the surface of the substrate 71, and an antireflection layer 74 is formed thereon with a substantially uniform thickness, and the antireflection function is the same as that of the glass substrate. Further, a fluoroalkoxysilane compound reacts on the surface of the outermost layer, and CH 3 is uniformly thinly overcoated as a layer 75 having water repellency as described above.
In addition, 73 is a binder. As a result, a film excellent in antireflection function, antistatic function, abrasion resistance, durability and stain removability was formed. Although the ultrafine particle film having a three-layer structure has been described in the present embodiment, the formation of an ultrafine particle film having four or more layers can be performed by adding the above-mentioned coating step.

【0073】図8はこの超微粒子膜を液晶パネル表面に
適用した例を示す部分断面斜視図である。液晶86の層の
一方に近接して共通電極85、その上にガラス基板83、偏
光板82が積層されている。また液晶86の層の他方にはガ
ラス基板811、偏光板812が積層されている。ガラス基板
811上には微小領域に画素電極87がカラーフィルタ層上
に形成した画素841とそれぞれ対抗する位置に形成され
ている。本発明の超微粒子膜81はこのような構造の液晶
パネルの偏向板82の表面に施した。このような本実施例
の超微粒子膜を施した液晶パネルを図14に示すパーソ
ナルコンピュータなどの液晶表示装置(TFT)に用いると
液晶パネル87に表示される像の解像度が向上する。◆従
来、液晶表示板の表面には、例えばミクロンオーダーの
凹凸を設けて表面の反射を拡散させていた。このような
処理では、反射光による結像は無くなるが、拡散反射に
よって、本来の画像がぼやけて解像度が低下する、或い
はコントラストが無くなると云った問題があり、このこ
とが作業者の目の疲労の一因となっていた。これに対し
て本実施例では前述のようにほとんど反射を防止するた
めにこのような問題は生じない。従来方式では65〜70本
/cmしか人間の目に感知できないが、本実施例では人間
の目の解像度の限界とされている85本/cm以上感知でき
る。また図13は、本発明の超微粒子膜を自動車用窓ガ
ラスに適用した例を示す。自動車用の窓ガラス、特にフ
ロントガラス131に水滴或いは不均一な水膜が形成され
ると視界が悪くなり、安全上問題となる。このため、ワ
イパーで水を除去する方法がこれまで主として用いられ
ている。最近は撥水性処理剤が市販され、簡便に処理で
きるが、これらの処理剤で撥水処理を施したものは接触
角が約90度前後であり、時速60km/h以上で初めて水滴が
風圧により除去される。これに対し本発明の超微粒子膜
を施したガラスでは接触角が130度前後となるため時速4
0km/h以下でも除去され、安全上好ましい。このような
水滴除去効果はフロントガラスに限らずドア用ガラス13
2やリア用ガラス133等にも発揮できる。
FIG. 8 is a partial sectional perspective view showing an example in which this ultrafine particle film is applied to the surface of a liquid crystal panel. A common electrode 85 is provided adjacent to one of the layers of the liquid crystal 86, and a glass substrate 83 and a polarizing plate 82 are laminated on the common electrode 85. A glass substrate 811 and a polarizing plate 812 are laminated on the other layer of the liquid crystal 86. Glass substrate
Pixel electrodes 87 are formed in minute areas on 811 at positions facing pixels 841 formed on the color filter layer, respectively. The ultrafine particle film 81 of the present invention was applied to the surface of the deflection plate 82 of the liquid crystal panel having such a structure. When the liquid crystal panel provided with the ultrafine particle film of this embodiment is used in a liquid crystal display device (TFT) such as a personal computer shown in FIG. 14, the resolution of the image displayed on the liquid crystal panel 87 is improved. ◆ Conventionally, the surface of a liquid crystal display plate is provided with, for example, micron-order unevenness to diffuse the reflection on the surface. In such a process, the image formation by the reflected light disappears, but there is a problem that the original image is blurred and the resolution is lowered or the contrast is lost due to the diffuse reflection. Was one of the causes. On the other hand, in the present embodiment, such a problem does not occur because the reflection is almost prevented as described above. 65 to 70 in the conventional method
Only / cm can be detected by the human eye, but in the present embodiment, 85 lines / cm or more, which is the limit of the resolution of the human eye, can be detected. Further, FIG. 13 shows an example in which the ultrafine particle film of the present invention is applied to an automobile window glass. If water droplets or a non-uniform water film is formed on a window glass for an automobile, especially on the windshield 131, the visibility is deteriorated, which is a safety problem. Therefore, a method of removing water with a wiper has been mainly used so far. Recently, water repellent treatments are available on the market and can be easily treated.However, those treated with water repellent have a contact angle of about 90 degrees, and water droplets are not generated by wind pressure for the first time at 60 km / h or more. To be removed. On the other hand, in the case of the glass coated with the ultrafine particle film of the present invention, the contact angle is around 130 degrees, so that the speed is 4
It can be removed even at 0 km / h or less, which is preferable for safety. Such water drop removal effect is not limited to windshield
It can be used for 2 and rear glass 133.

【0074】一方美術館などで絵画などの美術品の前に
保護用として設けられている透明板(主にガラスかプラ
スチック)に照明或いは他の物が反射し、中の美術品が
良く見えないことは日常良く経験することである。この
ため、照明或いは採光に工夫を施しているが、鑑賞する
角度によっては効果がなく、ほとんど見えないことがあ
る。一般に美術品に用いられる透明板は大きなサイズの
物が多く、たとえば従来反射防止皮膜として用いられて
いる3層蒸着膜を施すことは物理的に困難な場合が多
い。また大きなサイズの透明板に膜を被覆できても装置
が大がかりになり高価なものになる。これに対して本発
明法を用いると大きなサイズの物であっても簡便に皮膜
の塗布が可能である。またその皮膜は3層蒸着膜と同等
の反射防止特性が得られ、耐汚れ付着性も良い。したが
って本願発明によると従来困難であった大きなサイズの
美術品保護用の透明保護板を容易に作れるという効果が
ある。
On the other hand, a transparent plate (mainly glass or plastic) provided as a protection in front of a work of art such as a painting in a museum or the like should be reflected by lighting or other objects, and the work of art inside cannot be seen well. Is a good experience every day. Therefore, although lighting or lighting is devised, it may not be effective depending on the viewing angle, and it may be almost invisible. In general, many transparent plates used for arts have a large size, and it is often physically difficult to apply, for example, a three-layer vapor-deposited film conventionally used as an antireflection film. Further, even if a transparent plate of a large size can be coated with a film, the device becomes large and expensive. On the other hand, when the method of the present invention is used, it is possible to easily apply a film even for a large size product. Further, the film has the same antireflection property as that of the three-layer vapor-deposited film and has good stain resistance. Therefore, according to the present invention, there is an effect that it is possible to easily manufacture a transparent protective plate for protecting a large-sized work of art, which has been difficult in the past.

【0075】[0075]

【発明の効果】本発明によれば、超微粒子を用い簡単な
塗布方法により被塗物上に対汚れ付着性に優れた可視光
反射防止膜、帯電防止膜及び/又は赤外線反射膜を容易
に形成することができる。
According to the present invention, it is possible to easily form a visible light antireflection film, an antistatic film and / or an infrared reflection film having excellent adhesion to stains on an article by a simple coating method using ultrafine particles. Can be formed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例に係る膜形成工程図である。FIG. 1 is a film forming process diagram according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例に係る装置構成図である。FIG. 2 is a device configuration diagram according to an embodiment of the present invention.

【図3】本発明の一実施例に係る超微粒子膜の断面斜視
図である。
FIG. 3 is a sectional perspective view of an ultrafine particle film according to an embodiment of the present invention.

【図4】本発明の超微粒子膜を反射防止膜に適用した場
合の反射特性図である。
FIG. 4 is a reflection characteristic diagram when the ultrafine particle film of the present invention is applied to an antireflection film.

【図5】本発明の超微粒子膜を帯電防止膜に適用した場
合の帯電特性図である。
FIG. 5 is a charging characteristic diagram when the ultrafine particle film of the present invention is applied to an antistatic film.

【図6】本発明の他の実施例に係る装置構成図である。FIG. 6 is a device configuration diagram according to another embodiment of the present invention.

【図7】本発明の他の実施例に係る超微粒子膜の断面図
である。
FIG. 7 is a cross-sectional view of an ultrafine particle film according to another embodiment of the present invention.

【図8】本発明の適用対象例である液晶パネルの一部断
面斜視図である。
FIG. 8 is a partial cross-sectional perspective view of a liquid crystal panel that is an application example of the present invention.

【図9】本発明の適用対象例であるブラウン管の一般的
な断面図である。
FIG. 9 is a general cross-sectional view of a CRT as an application example of the present invention.

【図10】本発明の反射防止原理説明図である。FIG. 10 is an explanatory view of the antireflection principle of the present invention.

【図11】本発明の反射防止原理説明図である。FIG. 11 is an explanatory view of the antireflection principle of the present invention.

【図12】本発明の反射防止原理を説明する反射特性図
である。
FIG. 12 is a reflection characteristic diagram for explaining the antireflection principle of the present invention.

【図13】本発明の適用対象例である自動車の外観図で
ある。
FIG. 13 is an external view of an automobile to which the present invention is applied.

【図14】本発明の適用対象例である液晶パネルを用い
たパーソナルコンピュータの斜視図である。
FIG. 14 is a perspective view of a personal computer using a liquid crystal panel which is an application example of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…超微粒子層、2…ガラス板、3…導電性膜、4…反
射防止層、5…超微粒子、21…ブラウン管、22…塗
布液槽、23…塗布溶液、24…溶液供給用バルブ、2
5…引き抜きバルブ、26…定量ポンプ、27…溶液タ
ンク、28…溶液供給用加圧バルブ、30…可視光反射
防止層、31…ガラス板、32…導電性膜、33…超微
粒子、91…ブラウン管、92…ブラウン管内面、93
…蛍光体、94…アルミニウム膜、95…ブラウン管前
面パネル。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Ultrafine particle layer, 2 ... Glass plate, 3 ... Conductive film, 4 ... Antireflection layer, 5 ... Ultrafine particle, 21 ... Braun tube, 22 ... Coating solution tank, 23 ... Coating solution, 24 ... Solution supply valve, Two
5 ... Extraction valve, 26 ... Metering pump, 27 ... Solution tank, 28 ... Solution supply pressure valve, 30 ... Visible light antireflection layer, 31 ... Glass plate, 32 ... Conductive film, 33 ... Ultra fine particles, 91 ... CRT, 92 ... CRT inner surface, 93
... Phosphor, 94 ... Aluminum film, 95 ... CRT front panel.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01J 29/89 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location H01J 29/89

Claims (33)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板表面に形成する膜であって、前記膜は
超微粒子群と前記超微粒子群を構成する各超微粒子の間
隔を充填するバインダーとによって少なくとも一層以上
形成し、その表面に撥水性を有する層を設けたことを特
徴とする超微粒子膜。
1. A film formed on the surface of a substrate, wherein the film is formed by at least one layer of ultrafine particles and a binder filling the space between the ultrafine particles constituting the ultrafine particles, and the film is repelled on the surface. An ultrafine particle film having a water-soluble layer.
【請求項2】前記撥水性を有する層は、撥油性も兼ねる
ことを特徴とする請求項1に記載の超微粒子膜。
2. The ultrafine particle film according to claim 1, wherein the water-repellent layer also serves as oil repellency.
【請求項3】前記撥水性を有する層は、シリル化合物か
らなることを特徴とする請求項1又は2に記載の超微粒
子膜。
3. The ultrafine particle film according to claim 1, wherein the water-repellent layer is made of a silyl compound.
【請求項4】前記撥水性を有する層は、表面が微小の凹
凸を呈するものであることを特徴とする請求項1又は2
に記載の超微粒子膜。
4. The layer having water repellency is characterized in that the surface thereof presents minute irregularities.
The ultrafine particle film described in 1.
【請求項5】前記撥水性を有する層は、膜厚が10nm以下
であることを特徴とする請求項4に記載の超微粒子膜。
5. The ultrafine particle film according to claim 4, wherein the water-repellent layer has a film thickness of 10 nm or less.
【請求項6】前記撥水性を有する層の表面は、CH3基又
はCF3基を有することを特徴とする請求項1乃至5のいず
れかに記載の超微粒子膜。
6. The ultrafine particle film according to claim 1, wherein the surface of the water-repellent layer has a CH 3 group or a CF 3 group.
【請求項7】前記超微粒子膜はその表面の接触角が90°
以上であることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか
に記載の超微粒子膜。
7. The ultrafine particle film has a surface contact angle of 90 °.
7. The ultrafine particle film according to any one of claims 1 to 6, which is the above.
【請求項8】前記撥水性を有する層は、超微粒子群とバ
インダーとによって少なくとも一層以上形成した超微粒
子層の表面に一分子層形成したことを特徴とする請求項
1に記載の超微粒子膜。
8. The ultrafine particle film according to claim 1, wherein the water-repellent layer is formed as a monolayer on the surface of the ultrafine particle layer formed by at least one layer of the ultrafine particle group and the binder. .
【請求項9】前記微小の凹凸の深さが20〜100nmである
ことを特徴とする請求項4に記載の超微粒子膜。
9. The ultrafine particle film according to claim 4, wherein the depth of the fine irregularities is 20 to 100 nm.
【請求項10】表面の凹凸を形成する超微粒子が可視光
反射防止用超微粒子であることを特徴とする請求項9に
記載の超微粒子膜。
10. The ultrafine particle film according to claim 9, wherein the ultrafine particles forming the surface irregularities are ultrafine particles for preventing visible light reflection.
【請求項11】前記可視光反射防止用超微粒子が粒径40
nm〜200nmのSiO2超微粒子であることを特徴とする請求
項10に記載の超微粒子膜。
11. The ultrafine particles for preventing visible light reflection have a particle size of 40.
11. The ultrafine particle film according to claim 10, wherein the ultrafine particle is SiO 2 ultrafine particles having a size of nm to 200 nm.
【請求項12】透明基板の表面の少なくとも片面に超微
粒子膜を備える透明板であって、前記超微粒子膜は請求
項1乃至11のいずれかに記載のものであることを特徴
とする透明板。
12. A transparent plate having an ultrafine particle film on at least one surface of a transparent substrate, wherein the ultrafine particle film is as defined in any one of claims 1 to 11. .
【請求項13】透明基板の表面の少なくとも片面に超微
粒子膜を備える透明板であって、前記超微粒子膜は多層
からなり、前記透明基板側の一層目が帯電防止用超微粒
子又は赤外線反射用超微粒子を含有し、前記超微粒子膜
の表面に撥水性を有する層を設けたことを特徴とする透
明板。
13. A transparent plate having an ultrafine particle film on at least one surface of a transparent substrate, wherein the ultrafine particle film is composed of multiple layers, and the first layer on the transparent substrate side is ultrafine particles for antistatic or infrared reflection. A transparent plate comprising ultrafine particles, wherein a layer having water repellency is provided on the surface of the ultrafine particle film.
【請求項14】透明基板の表面の少なくとも片面に超微
粒子膜を備える透明板であって、前記超微粒子膜は多層
からなり、最外層は可視光反射防止用超微粒子を含有
し、前記超微粒子膜の表面に撥水性を有する層を設けた
ことを特徴とする透明板。
14. A transparent plate comprising an ultrafine particle film on at least one surface of a transparent substrate, wherein the ultrafine particle film is composed of multiple layers, and the outermost layer contains ultrafine particles for preventing visible light reflection. A transparent plate having a water-repellent layer on the surface of a film.
【請求項15】透明基板の表面の少なくとも片面に超微
粒子膜を備える画像表示板であって、前記超微粒子膜は
請求項1乃至11のいずれかに記載のものであることを
特徴とする画像表示板。
15. An image display plate comprising an ultrafine particle film on at least one surface of a transparent substrate, wherein the ultrafine particle film is that according to any one of claims 1 to 11. Display board.
【請求項16】透明基板の表面の少なくとも片面に超微
粒子膜を備える画像表示板であって、前記超微粒子膜が
多層からなり前記透明基板側の一層目が帯電防止用超微
粒子及び/又は赤外線反射用超微粒子を含有し、前記超
微粒子膜の表面に撥水性を有する層を設けたことを特徴
とする画像表示板。
16. An image display panel comprising an ultrafine particle film on at least one surface of a transparent substrate, wherein the ultrafine particle film is composed of multiple layers, and the first layer on the transparent substrate side is ultrafine particles for preventing static electricity and / or infrared rays. An image display plate comprising ultrafine particles for reflection, and a layer having water repellency provided on the surface of the ultrafine particle film.
【請求項17】透明基板の表面の少なくとも片面に超微
粒子膜を備える画像表示板であって、前記超微粒子膜は
多層からなり、最外層は可視光反射防止用超微粒子を含
有し、前記超微粒子膜の表面に撥水性を有する層を設け
たことを特徴とする画像表示板。
17. An image display plate comprising an ultrafine particle film on at least one surface of a transparent substrate, wherein the ultrafine particle film is composed of multiple layers, and the outermost layer contains ultrafine particles for preventing visible light reflection. An image display plate, wherein a layer having water repellency is provided on the surface of a fine particle film.
【請求項18】透明基板の表面の少なくとも片面に超微
粒子膜を備える画像表示保護板であって、前記超微粒子
膜は請求項1乃至11のいずれかに記載のものであるこ
とを特徴とする画像表示保護板。
18. An image display protection plate having an ultrafine particle film on at least one surface of a transparent substrate, wherein the ultrafine particle film is as defined in any one of claims 1 to 11. Image display protection plate.
【請求項19】透明基板の表面の少なくとも片面に超微
粒子膜を備える画像表示保護板であって、前記超微粒子
膜が多層からなり前記透明基板側の一層目が帯電防止用
超微粒子又は赤外線反射用超微粒子を含有し、前記超微
粒子膜の表面に撥水性を有する層を設けたことを特徴と
する画像表示保護板。
19. An image display protective plate comprising an ultrafine particle film on at least one surface of a transparent substrate, wherein the ultrafine particle film is composed of multiple layers, and the first layer on the transparent substrate side is ultrafine particles for preventing electrification or infrared reflection. An image display protective plate comprising ultrafine particles for use, and a layer having water repellency provided on the surface of the ultrafine particle film.
【請求項20】透明基板の表面の少なくとも片面に超微
粒子膜を備える画像表示保護板であって、前記超微粒子
膜が多層からなり最外層が可視光反射防止用超微粒子を
含有し前記超微粒子膜の表面に撥水性を有する層を設け
たことを特徴とする画像表示保護板。
20. An image display protection plate comprising an ultrafine particle film on at least one surface of a transparent substrate, wherein the ultrafine particle film is composed of multiple layers and the outermost layer contains ultrafine particles for preventing visible light reflection. An image display protection plate comprising a water-repellent layer on the surface of a film.
【請求項21】請求項15乃至17のいずれかに記載の
画像表示板を備えてなることを特徴とするブラウン管。
21. A cathode ray tube comprising the image display plate according to any one of claims 15 to 17.
【請求項22】請求項18乃至20のいずれかに記載の
画像表示保護板を備えてなることを特徴とするブラウン
管。
22. A cathode ray tube comprising the image display protection plate according to claim 18.
【請求項23】請求項21又は22に記載のブラウン管
を備えてなることを特徴とする画像表示装置。
23. An image display device comprising the cathode ray tube according to claim 21 or 22.
【請求項24】請求項12乃至14のいずれかに記載の
透明板、請求項15乃至17のいずれかに記載の画像表
示板及び請求項18乃至20のいずれかに記載の画像表
示保護板のいずれかを備えてなる液晶パネル。
24. A transparent plate according to any one of claims 12 to 14, an image display plate according to any one of claims 15 to 17, and an image display protective plate according to any one of claims 18 to 20. A liquid crystal panel equipped with either.
【請求項25】請求項24に記載の液晶パネルを備えて
なることを特徴とする画像表示装置。
25. An image display device comprising the liquid crystal panel according to claim 24.
【請求項26】請求項12乃至14のいずれかに記載の
透明板を備えてなることを特徴とする自動車用窓ガラ
ス。
26. An automobile window glass comprising the transparent plate according to any one of claims 12 to 14.
【請求項27】請求項26に記載の自動車用窓ガラスを
備えてなることを特徴とする自動車。
27. An automobile comprising the automobile window glass according to claim 26.
【請求項28】請求項12乃至14のいずれかに記載の
透明板を備えてなることを特徴とする展示品保護板。
28. An exhibit protection plate comprising the transparent plate according to any one of claims 12 to 14.
【請求項29】超微粒子群と前記超微粒子群を構成する
各超微粒子の間隔を充填するバインダーとによる超微粒
子膜を基板上に形成する超微粒子膜の形成方法におい
て、前記超微粒子膜を形成すべき基板を容器に設置し前
記超微粒子とバインダーとを含む混合塗布溶液を前記容
器内に導入し、少なくとも前記基板の超微粒子膜形成部
分を前記混合塗布溶液が覆った後に容器から混合塗布溶
液を吐出させ基板を露出させることを少なくとも2回行
い、基板表面に多層の超微粒子膜を形成した後、前記超
微粒子膜の表面に撥水性処理剤を塗布し撥水性を有する
層を形成してなることを特徴とする超微粒子膜の形成方
法。
29. A method for forming an ultrafine particle film, which comprises forming an ultrafine particle film on a substrate by using an ultrafine particle group and a binder filling a space between the ultrafine particles forming the ultrafine particle group, wherein the ultrafine particle film is formed. The substrate to be placed is placed in a container and a mixed coating solution containing the ultrafine particles and a binder is introduced into the container, and the mixed coating solution is covered from the container after the mixed coating solution covers at least the ultrafine particle film forming portion of the substrate. Is discharged at least twice to form a multilayer ultrafine particle film on the surface of the substrate, and then a water repellent treatment agent is applied to the surface of the ultrafine particle film to form a layer having water repellency. And a method for forming an ultrafine particle film.
【請求項30】前記混合塗布液が前記基板を露出させる
速度が10mm/s以下であることを特徴とする請求項29に
記載の超微粒子膜の形成方法。
30. The method of forming an ultrafine particle film according to claim 29, wherein the rate at which the mixed coating liquid exposes the substrate is 10 mm / s or less.
【請求項31】超微粒子群と前記超微粒子群を構成する
各超微粒子の間隔を充填するバインダーとによる超微粒
子膜を基板上に形成する超微粒子膜の形成方法におい
て、前記超微粒子膜を形成すべき基板を容器に設置し、
前記超微粒子として可視光反射防止用超微粒子、帯電防
止用超微粒子及び/又は赤外線反射用超微粒子を用い、
前記超微粒子とバインダーとを含む混合塗布溶液を前記
容器内に導入し、前記混合塗布溶液が前記基板の超微粒
子膜形成部分を覆った後に容器から混合塗布溶液を吐出
させることを少なくとも2回行い、前記基板表面に二層
からなる超微粒子膜を形成した後、前記超微粒子膜の表
面に撥水性処理剤を塗布し撥水性を有する層を形成して
なることを特徴とする超微粒子膜の形成方法。
31. A method for forming an ultrafine particle film, which comprises forming an ultrafine particle film on a substrate by using an ultrafine particle group and a binder filling the space between the respective ultrafine particles forming the ultrafine particle group. Place the substrate to be placed in the container,
As the ultrafine particles, visible light antireflection ultrafine particles, antistatic ultrafine particles and / or infrared reflective ultrafine particles are used.
The mixed coating solution containing the ultrafine particles and the binder is introduced into the container, and the mixed coating solution is discharged at least twice from the container after the mixed coating solution covers the ultrafine particle film forming portion of the substrate. The ultrafine particle film is characterized in that after forming an ultrafine particle film consisting of two layers on the surface of the substrate, a water repellent treatment agent is applied to the surface of the ultrafine particle film to form a water repellent layer. Forming method.
【請求項32】前記混合塗布液が前記基板を露出させる
速度が10mm/s以下であることを特徴とする請求項30に
記載の超微粒子膜の形成方法。
32. The method of forming an ultrafine particle film according to claim 30, wherein the rate at which the mixed coating solution exposes the substrate is 10 mm / s or less.
【請求項33】撥水性処理剤がクロロシラン化合物、ア
ルコキシシラン化合物及びフルオロアルキルシラン化合
物からなる群から選ばれたシリル化合物でシリル化する
ものであることを特徴とする請求項29乃至32のいず
れかに記載の超微粒子膜の形成方法。
33. The water repellent treatment agent is one which is silylated with a silyl compound selected from the group consisting of chlorosilane compounds, alkoxysilane compounds and fluoroalkylsilane compounds. The method for forming an ultrafine particle film according to [4].
JP5092651A 1988-09-09 1993-04-20 Ultrafine particle film, method of forming the same, transparent plate and image display device Pending JPH06297629A (en)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2002050577A1 (en) * 2000-12-19 2002-06-27 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Reflection reducing coating, base material and photoelectric transducer with the reflection reducing coating
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