JPH06277600A - スライドビード塗布装置および方法 - Google Patents
スライドビード塗布装置および方法Info
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- JPH06277600A JPH06277600A JP5354491A JP35449193A JPH06277600A JP H06277600 A JPH06277600 A JP H06277600A JP 5354491 A JP5354491 A JP 5354491A JP 35449193 A JP35449193 A JP 35449193A JP H06277600 A JPH06277600 A JP H06277600A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/74—Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 塗布開始、基体のスプライスおよび基体表面
の異常による材料損失を減少する。 【構成】 スライドビード塗布技術はコーティングリッ
プで終了する傾斜スライド面を利用する。連続する液体
層（１，２）が供給源からスライド面に供給されコーテ
ィングリップとこのリップに隣接して配置された基体６
との間に液体ブリッジを形成する。基体６はリップを通
過して搬送され基体上に液体ブリッジから液体を連続的
に消耗する。この技術は液体供給源とコーティングリッ
プとの間のスライド面に対向する液体層の上面に衝突す
る空気流（１８）を供給することを含む。
の異常による材料損失を減少する。 【構成】 スライドビード塗布技術はコーティングリッ
プで終了する傾斜スライド面を利用する。連続する液体
層（１，２）が供給源からスライド面に供給されコーテ
ィングリップとこのリップに隣接して配置された基体６
との間に液体ブリッジを形成する。基体６はリップを通
過して搬送され基体上に液体ブリッジから液体を連続的
に消耗する。この技術は液体供給源とコーティングリッ
プとの間のスライド面に対向する液体層の上面に衝突す
る空気流（１８）を供給することを含む。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はスライドビード塗布方法
および、動いている基体上に塗布する装置に関する。よ
り詳しくは、本発明は塗布開始ないしは塗布中の異常に
よる材料損失を低減する空気助成に関する。
および、動いている基体上に塗布する装置に関する。よ
り詳しくは、本発明は塗布開始ないしは塗布中の異常に
よる材料損失を低減する空気助成に関する。
【０００２】なお、本明細書の記述は本件出願の優先権
の基礎たる米国特許出願第０７／９９９，２３８号（１
９９２年１２月３１日出願）の明細書の記載に基づくも
のであって、当該米国特許出願の番号を参照することに
よって当該米国特許出願の明細書の記載内容が本明細書
の一部分を構成するものとする。
の基礎たる米国特許出願第０７／９９９，２３８号（１
９９２年１２月３１日出願）の明細書の記載に基づくも
のであって、当該米国特許出願の番号を参照することに
よって当該米国特許出願の明細書の記載内容が本明細書
の一部分を構成するものとする。
【０００３】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】スラ
イドビード塗布法はこの分野で知られた方法である。そ
れは、単一または複数の液体層をスライド面で流出端、
すなわちリップまで流下させてから、リップの位置で、
リップと移動している基体との間のギャップ内に液体ブ
リッジ、すなわちビードが形成される。移動基体は、ス
ライド上に形成されている同一層形態内のビード内から
液体を運び去る。例えば、Ｒｕｓｓｅｌ ｅｔ ａｌ．
に付与された米国特許第２，７６１，８７９１号および
第２，７６１，４１９号に記載されている。
イドビード塗布法はこの分野で知られた方法である。そ
れは、単一または複数の液体層をスライド面で流出端、
すなわちリップまで流下させてから、リップの位置で、
リップと移動している基体との間のギャップ内に液体ブ
リッジ、すなわちビードが形成される。移動基体は、ス
ライド上に形成されている同一層形態内のビード内から
液体を運び去る。例えば、Ｒｕｓｓｅｌ ｅｔ ａｌ．
に付与された米国特許第２，７６１，８７９１号および
第２，７６１，４１９号に記載されている。
【０００４】スライドビード塗布プロセスの開始は、慣
行的に図１および図２に示す以下のシーケンスによって
行われている。図１において、塗布溶液１および２の流
れは最初にコーティングロール７およびコーティングプ
レート３でもって確立される。コーティングプレート３
は、塗布溶液１および２がこのコーティングプレート３
の面を液体の移動フィルムとして流れかつチャンバ１４
に流れ込むのを許容するに足りる程離れている。チャン
バ１４からはチューブ１６を介してたまり１７にドレイ
ンされる。それから、関連する装置と共にコーティング
プレート３およびコーティングロール７が近付けられ、
図２に示すように、コーティングプレート３とコーティ
ングロール７に支持されている基体６との間の塗布ギャ
ップ５を横切る流れを確立する。典型的に、スタート時
の塗布はこれに次ぐ安定状態時の塗布よりも厚い。基体
の初期動的ぬれ（ｄｙｎａｍｉｃ ｗｅｔｔｉｎｇ）の
ときに生ずる短い剪断流れ過程による。この初期の厚い
流れの結果として、すじや材料損失等のいくつかの問題
が発生する。動的ぬれは典型的に基体にわたって同一で
はなく、これにより塗布プロセスの不均一なスタートが
生ずる。これは図３に示すように、基体の非塗装部のせ
いで材料損失を生じさせる。
行的に図１および図２に示す以下のシーケンスによって
行われている。図１において、塗布溶液１および２の流
れは最初にコーティングロール７およびコーティングプ
レート３でもって確立される。コーティングプレート３
は、塗布溶液１および２がこのコーティングプレート３
の面を液体の移動フィルムとして流れかつチャンバ１４
に流れ込むのを許容するに足りる程離れている。チャン
バ１４からはチューブ１６を介してたまり１７にドレイ
ンされる。それから、関連する装置と共にコーティング
プレート３およびコーティングロール７が近付けられ、
図２に示すように、コーティングプレート３とコーティ
ングロール７に支持されている基体６との間の塗布ギャ
ップ５を横切る流れを確立する。典型的に、スタート時
の塗布はこれに次ぐ安定状態時の塗布よりも厚い。基体
の初期動的ぬれ（ｄｙｎａｍｉｃ ｗｅｔｔｉｎｇ）の
ときに生ずる短い剪断流れ過程による。この初期の厚い
流れの結果として、すじや材料損失等のいくつかの問題
が発生する。動的ぬれは典型的に基体にわたって同一で
はなく、これにより塗布プロセスの不均一なスタートが
生ずる。これは図３に示すように、基体の非塗装部のせ
いで材料損失を生じさせる。
【０００５】図３において、Ａは安定状態の確立の前に
生ずる不適切な材料を表わし、Ｂは所望の安定状態塗布
を表わしている。極端な場合には、動的ぬれが全く生ぜ
ず安定状態塗布が確立されない。これはこの分野で知ら
れているように、粘性が不適当、塗布速度が不適当であ
るようなときに典型的に生ずる。さらに、気泡、ゲル粒
子および他の材料が安定状態の塗布にまでしばしば継続
するすじを生じさせる傾向にある。
生ずる不適切な材料を表わし、Ｂは所望の安定状態塗布
を表わしている。極端な場合には、動的ぬれが全く生ぜ
ず安定状態塗布が確立されない。これはこの分野で知ら
れているように、粘性が不適当、塗布速度が不適当であ
るようなときに典型的に生ずる。さらに、気泡、ゲル粒
子および他の材料が安定状態の塗布にまでしばしば継続
するすじを生じさせる傾向にある。
【０００６】米国特許第３，２２０，８７７号は、コー
ティングローラがコーティングプレートの近くに移動さ
れるにつれ、塗布機の表面を横切る大空気流量を引起す
ために通常より大きな差圧を用いる方法を開示してい
る。その利益的結果は、塗布のスタート時における過剰
な塗布厚さを低減することである。この結果をクレーム
した他の技術は、Ｙａｍａｚａｋｉ ｅｔ ａｌ．へ発
行された米国特許第４，８０８，４４４号およびＷｉｌ
ｌｅｍｓｅｎｓ ｅｔ ａｌ．に発行された米国特許第
４，８７７，６３９号を含んでいる。前者は塗布位置と
非塗布位置との間でコーティングロールを急速に移動す
るための方法および装置であり、後者は異なる粘性およ
び異なる流量の少なくとも２つの液体層からなる方法で
ある。これらの発明は塗布のスタート時における過剰な
厚さを低減するという有利な効果を有し得る。しかしな
がら、塗布のスタートはまた通常の塗布厚さが確立され
た後でさえも塗布の均一性に有害に影響する。
ティングローラがコーティングプレートの近くに移動さ
れるにつれ、塗布機の表面を横切る大空気流量を引起す
ために通常より大きな差圧を用いる方法を開示してい
る。その利益的結果は、塗布のスタート時における過剰
な塗布厚さを低減することである。この結果をクレーム
した他の技術は、Ｙａｍａｚａｋｉ ｅｔ ａｌ．へ発
行された米国特許第４，８０８，４４４号およびＷｉｌ
ｌｅｍｓｅｎｓ ｅｔ ａｌ．に発行された米国特許第
４，８７７，６３９号を含んでいる。前者は塗布位置と
非塗布位置との間でコーティングロールを急速に移動す
るための方法および装置であり、後者は異なる粘性およ
び異なる流量の少なくとも２つの液体層からなる方法で
ある。これらの発明は塗布のスタート時における過剰な
厚さを低減するという有利な効果を有し得る。しかしな
がら、塗布のスタートはまた通常の塗布厚さが確立され
た後でさえも塗布の均一性に有害に影響する。
【０００７】連続的な塗布は典型的に、第１の基体の最
後端から第２の基体の最先端への連続する橋渡しを必要
とする。基体を交換するのに要する時間を短縮するに
は、第１の基体の最後端と第２の基体の最先端とを物理
的に接続し、連続する移動基体を形成することが望まし
い。この物理的接続は、この分野で知られているよう
に、対応する基体の最後端と最先端の両者を、スプライ
スされた継目をもたせて、好ましくはオーバラップする
スプライステープによって一般に行われている。スプラ
イスされた継目が液体ブリッジを通過するとき安定状態
流れ特性が乱され、塗布に欠陥を生じさせる。流れの乱
れそのものは、すじのような欠陥を生じさせる安定な状
態を充分に塗布の安定状態位置に及ぼさせることができ
る。スプライスされた継目による乱れを排除する方法
は、上述の開始プロセスをスプライスの直前に急速に逆
にし、そしてスプライスの直後にプロセスを再開始する
ことを含んでいる。このような方法は上述と同じ理由で
塗布の開始のためには劣っている。
後端から第２の基体の最先端への連続する橋渡しを必要
とする。基体を交換するのに要する時間を短縮するに
は、第１の基体の最後端と第２の基体の最先端とを物理
的に接続し、連続する移動基体を形成することが望まし
い。この物理的接続は、この分野で知られているよう
に、対応する基体の最後端と最先端の両者を、スプライ
スされた継目をもたせて、好ましくはオーバラップする
スプライステープによって一般に行われている。スプラ
イスされた継目が液体ブリッジを通過するとき安定状態
流れ特性が乱され、塗布に欠陥を生じさせる。流れの乱
れそのものは、すじのような欠陥を生じさせる安定な状
態を充分に塗布の安定状態位置に及ぼさせることができ
る。スプライスされた継目による乱れを排除する方法
は、上述の開始プロセスをスプライスの直前に急速に逆
にし、そしてスプライスの直後にプロセスを再開始する
ことを含んでいる。このような方法は上述と同じ理由で
塗布の開始のためには劣っている。
【０００８】スプライスの塗布性を改善する方法は、Ｈ
ｅｅｔｄｅｒｋｓに発行された米国特許第４，１７２，
００１号によって先行されており、これは２ピースのス
プライステープを教示している。２ピーススプライステ
ープでも頻度は少ないが乱れはまだ生じ、かつスプライ
スの作業は付加的ステップで複雑でもある。Ｔａｋａｇ
ｉ ｅｔ．ａｌ．に発行された米国特許第４，０２４，
３０２号は第２の基体上に不連続領域を突出させること
を教示しているが、これは基体表面の準備のために付加
的ステップを必要とし、さらに製造作業を複雑にする。
ｅｅｔｄｅｒｋｓに発行された米国特許第４，１７２，
００１号によって先行されており、これは２ピースのス
プライステープを教示している。２ピーススプライステ
ープでも頻度は少ないが乱れはまだ生じ、かつスプライ
スの作業は付加的ステップで複雑でもある。Ｔａｋａｇ
ｉ ｅｔ．ａｌ．に発行された米国特許第４，０２４，
３０２号は第２の基体上に不連続領域を突出させること
を教示しているが、これは基体表面の準備のために付加
的ステップを必要とし、さらに製造作業を複雑にする。
【０００９】連続する基体を塗布する際のさらに他の問
題は、基体の表面に異物ないしは異常（ａｂｅｒｒａｔ
ｉｏｎ）が存在することである。このような異常が塗布
ギャップを通過するとき、スプライスにおけると同様に
乱れが生ずる。これらの乱れは典型的に特発性で予期さ
れず、それらの発生を防止する努力は極めて複雑であ
る。本発明は塗布開始、基体のスプライスおよび基体表
面の異常による材料損失を減少する単一の方法を提供す
る。
題は、基体の表面に異物ないしは異常（ａｂｅｒｒａｔ
ｉｏｎ）が存在することである。このような異常が塗布
ギャップを通過するとき、スプライスにおけると同様に
乱れが生ずる。これらの乱れは典型的に特発性で予期さ
れず、それらの発生を防止する努力は極めて複雑であ
る。本発明は塗布開始、基体のスプライスおよび基体表
面の異常による材料損失を減少する単一の方法を提供す
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明はコーティングリ
ップで終わる傾斜スライド面を利用するスライドビード
塗布技術を備える。連続する液体層が供給源からスライ
ド面に供給され、コーティングリップとこのリップに隣
接して配置される基体との間に液体ブリッジを形成す
る。基体はリップを通って搬送され、連続的に液体ブリ
ッジから基体上に液体が放出される。本発明は空気流を
供給することを含み、空気流は液体供給源とコーティン
グリップとの間のスライド面に対向する液体層の上面に
衝突する。
ップで終わる傾斜スライド面を利用するスライドビード
塗布技術を備える。連続する液体層が供給源からスライ
ド面に供給され、コーティングリップとこのリップに隣
接して配置される基体との間に液体ブリッジを形成す
る。基体はリップを通って搬送され、連続的に液体ブリ
ッジから基体上に液体が放出される。本発明は空気流を
供給することを含み、空気流は液体供給源とコーティン
グリップとの間のスライド面に対向する液体層の上面に
衝突する。
【００１１】本発明によるスライドビード塗布装置は、
コーティングリップで終了する傾斜スライド面と、該ス
ライド面に連続する液体層を供給し前記コーティングリ
ップと前記コーティングリップに隣接して配置された基
体との間に液体ブリッジを形成する手段とを備え、前記
基体は前記コーティングリップを通過して搬送されるよ
う適合され、これにより前記基体が前記液体ブリッジか
ら連続的に基体上に液体を消耗させるようにしたスライ
ドビード塗布装置において、前記液体層供給手段と前記
コーティングリップとの間の前記スライド面に対向する
前記液体層の上面に衝突する空気流を供給する手段を備
えていることを特徴とする。
コーティングリップで終了する傾斜スライド面と、該ス
ライド面に連続する液体層を供給し前記コーティングリ
ップと前記コーティングリップに隣接して配置された基
体との間に液体ブリッジを形成する手段とを備え、前記
基体は前記コーティングリップを通過して搬送されるよ
う適合され、これにより前記基体が前記液体ブリッジか
ら連続的に基体上に液体を消耗させるようにしたスライ
ドビード塗布装置において、前記液体層供給手段と前記
コーティングリップとの間の前記スライド面に対向する
前記液体層の上面に衝突する空気流を供給する手段を備
えていることを特徴とする。
【００１２】ここで、前記空気流供給手段は複数の空気
流を備えてもよい。
流を備えてもよい。
【００１３】また、前記複数の空気流は同時作動のため
に相互に接続されていてもよい。
に相互に接続されていてもよい。
【００１４】また、前記複数の空気流は独立して作動し
てもよい。
てもよい。
【００１５】さらに、前記空気流供給手段はさらにノズ
ルを備えてもよい。
ルを備えてもよい。
【００１６】本発明によるスライドビード塗布方法は、
液体層供給手段から液体の流れを開始しスライド面の下
端部にコーティングリップを有するスライドビード塗布
装置の前記傾斜スライド面に連続する液体層を形成し、
前記コーティングリップと基体との間に液体ブリッジを
形成すると共に前記液体ブリッジから前記基体上に液体
を連続的に消耗するよう前記基体を前記コーティングリ
ップを通過させて搬送し、前記ブリッジ内の液体が前記
液体層供給手段から連続的に補充されてなるステップを
含む基体の塗布方法において、前記方法は前記液体層供
給手段と前記コーティングリップとの間の前記スライド
面に対向する前記液体層の上面に衝突する空気流を供給
するステップを備えていることを特徴とする。
液体層供給手段から液体の流れを開始しスライド面の下
端部にコーティングリップを有するスライドビード塗布
装置の前記傾斜スライド面に連続する液体層を形成し、
前記コーティングリップと基体との間に液体ブリッジを
形成すると共に前記液体ブリッジから前記基体上に液体
を連続的に消耗するよう前記基体を前記コーティングリ
ップを通過させて搬送し、前記ブリッジ内の液体が前記
液体層供給手段から連続的に補充されてなるステップを
含む基体の塗布方法において、前記方法は前記液体層供
給手段と前記コーティングリップとの間の前記スライド
面に対向する前記液体層の上面に衝突する空気流を供給
するステップを備えていることを特徴とする。
【００１７】ここで、前記空気流は複数の空気流から供
給されてもよい。
給されてもよい。
【００１８】また、前記複数の空気流は同時作動のため
に作動的に結合されていてもよい。
に作動的に結合されていてもよい。
【００１９】また、前記複数の空気流は独立的に作動し
てもよい。
てもよい。
【００２０】さらに、前記空気流はさらにノズルを介し
て供給されてもよい。
て供給されてもよい。
【００２１】
【実施例】以下、図面を参照して本発明の実施例を詳細
に説明する。
に説明する。
【００２２】図１は塗布動作のスタートのために準備さ
れた従来のスライドビード塗布装置の側面を示してい
る。同じ装置の塗布動作中が図２に示されている。この
装置は図２を参照しつつ詳細に説明されよう。塗布され
るべき溶液１および２は、コーティングプレート３およ
び４を備えたスライド型ホッパーコーティングヘッドア
ッセンブリに供給される。さらなる層の塗布を行うには
不図示のさらなるプレートを必要とする。溶液１および
２は傾斜スライド面を流下し、コーティングプレート３
のリップと基体６との間のギャップ５を横切り、これに
より基体６の上に塗布層を形成する。塗布されるべき基
体６はローラ７により搬送される。塗布溶液１および２
は適当な数の供給ポンプ８および９によって供給され
る。供給ポンプ８および９は、キャビティ１０および１
１、スロット１２および１３に送給する。図示の実施例
に示されたのより多くの層を塗布するには、適当な数の
ポンプ、キャビティおよびスロットが必要とされる。チ
ャンバ１４および関連するポンプ１５が、（図２に示さ
れているように）ギャップ５における液体の下側面のガ
ス圧を低減するために適合されている。ドレインチュー
ブ１６およびたまり１７がチャンバ１４から材料を取除
くために典型的に設けられている。
れた従来のスライドビード塗布装置の側面を示してい
る。同じ装置の塗布動作中が図２に示されている。この
装置は図２を参照しつつ詳細に説明されよう。塗布され
るべき溶液１および２は、コーティングプレート３およ
び４を備えたスライド型ホッパーコーティングヘッドア
ッセンブリに供給される。さらなる層の塗布を行うには
不図示のさらなるプレートを必要とする。溶液１および
２は傾斜スライド面を流下し、コーティングプレート３
のリップと基体６との間のギャップ５を横切り、これに
より基体６の上に塗布層を形成する。塗布されるべき基
体６はローラ７により搬送される。塗布溶液１および２
は適当な数の供給ポンプ８および９によって供給され
る。供給ポンプ８および９は、キャビティ１０および１
１、スロット１２および１３に送給する。図示の実施例
に示されたのより多くの層を塗布するには、適当な数の
ポンプ、キャビティおよびスロットが必要とされる。チ
ャンバ１４および関連するポンプ１５が、（図２に示さ
れているように）ギャップ５における液体の下側面のガ
ス圧を低減するために適合されている。ドレインチュー
ブ１６およびたまり１７がチャンバ１４から材料を取除
くために典型的に設けられている。
【００２３】図４は本発明の実施例を示し、これは複数
の独立したエアジェット１８を有する空気補助装置１９
を備えている。独立したエアジェット１８は塗布溶液２
の上側面に衝突するエアカーテンを形成する。塗布の開
始のために、空気の衝突が基体６と流下溶液１との作動
的接触の直後に開始される。スプライステープに塗布す
るためには、前述のように、空気の衝突はスプライステ
ープの後縁（ｔｒａｉｌｉｎｇ ｅｄｇｅ）が塗布ギャ
ップ５に侵入した直後に開始する。空気の衝突に必要と
される時間の長さ、すなわちパルス時間は、塗布速度、
溶液の粘性、基体のぬれ性等の多くのファクタに関係す
る。１０秒より短い継続時間のパルスが好ましく、５秒
より短いのがさらに好ましく、２秒より短いのが最も好
ましい。空気補助装置１９はブラケット２０を介して適
当な表面に固く取付けられている。塗布装置上の代わり
の取付面ないしは他の構造物は教示の内に含まれるけれ
ども、好ましい取付面はコーティングプレート３であ
る。エアジェット１８は空気供給源２１にチューブ２２
によって接続されている。空気供給源２１は、この技術
分野でよく知られている、制御された空気流システムで
あってよい。空気のパルスは、この技術分野で知られて
いるように、手動を含み機械的に制御されてもよい。
の独立したエアジェット１８を有する空気補助装置１９
を備えている。独立したエアジェット１８は塗布溶液２
の上側面に衝突するエアカーテンを形成する。塗布の開
始のために、空気の衝突が基体６と流下溶液１との作動
的接触の直後に開始される。スプライステープに塗布す
るためには、前述のように、空気の衝突はスプライステ
ープの後縁（ｔｒａｉｌｉｎｇ ｅｄｇｅ）が塗布ギャ
ップ５に侵入した直後に開始する。空気の衝突に必要と
される時間の長さ、すなわちパルス時間は、塗布速度、
溶液の粘性、基体のぬれ性等の多くのファクタに関係す
る。１０秒より短い継続時間のパルスが好ましく、５秒
より短いのがさらに好ましく、２秒より短いのが最も好
ましい。空気補助装置１９はブラケット２０を介して適
当な表面に固く取付けられている。塗布装置上の代わり
の取付面ないしは他の構造物は教示の内に含まれるけれ
ども、好ましい取付面はコーティングプレート３であ
る。エアジェット１８は空気供給源２１にチューブ２２
によって接続されている。空気供給源２１は、この技術
分野でよく知られている、制御された空気流システムで
あってよい。空気のパルスは、この技術分野で知られて
いるように、手動を含み機械的に制御されてもよい。
【００２４】空気補助装置１９は好ましくは流下する溶
液２に向けて空気流を指向させるための多数の出口孔を
有するチューブを備えている。チューブおよび孔の寸法
は、空気流が塗布の幅にわたってほぼ均一であれば重大
ではない。１５ｃｍ幅の基体上の通常１４ｃｍ幅の塗布
のためには、約０．３ｃｍ径の丸孔を包含する外径約
０．９ｃｍのチューブが例として挙げられる。より広い
塗布幅のためには、孔の寸法は圧力損失を考慮してチュ
ーブの長さに沿って変えられてもよく、または各々が独
立の空気供給源を有する多数の空気補助装置が用いられ
てもよい。各出口孔の独立した作動はすじを排除するた
めに好ましく、および調和された作動は塗布の開始時ま
たはスプライステープの塗布のために好ましい。
液２に向けて空気流を指向させるための多数の出口孔を
有するチューブを備えている。チューブおよび孔の寸法
は、空気流が塗布の幅にわたってほぼ均一であれば重大
ではない。１５ｃｍ幅の基体上の通常１４ｃｍ幅の塗布
のためには、約０．３ｃｍ径の丸孔を包含する外径約
０．９ｃｍのチューブが例として挙げられる。より広い
塗布幅のためには、孔の寸法は圧力損失を考慮してチュ
ーブの長さに沿って変えられてもよく、または各々が独
立の空気供給源を有する多数の空気補助装置が用いられ
てもよい。各出口孔の独立した作動はすじを排除するた
めに好ましく、および調和された作動は塗布の開始時ま
たはスプライステープの塗布のために好ましい。
【００２５】図５は本発明の好ましい実施例を示し、こ
こにおいてエアジェット１８がギャップ５に向けて指向
されている。空気流をギャップ５に指向させることが流
下液と同じ方向に移動する塗布溶液の液波２３を生じさ
せる。いかなる理論にも制限されないが、塗布の開始に
伴う支配的問題は、動いている基体６の表面から、運ば
れている（ｅｎｔｒａｉｎｅｄ）空気層を除去すること
である。従来の塗布にあっては、基体をよぎる空気を幅
全体が平衡するまで移動させる初期ぬれ点が生成され
る。一旦平衡状態が確立されると、チャンバからの異な
る圧力が空気層を連続的に排除する。空気のパルスは、
ここで述べたように、塗布の方向に増大された運動量を
有する塗布溶液のより厚い領域をもたらす。増大された
運動量とより厚い塗布溶液との組合わせが、塗布溶液の
空気層を移動させる能力を増大させる。これが典型的に
は塗布が開始されたときに見られる材料損失の量を減少
させる。実際には、スライド面の下端部近傍の塗布溶液
に衝突している瞬間的なシート状の空気流が液波を生成
し、かつ液波を基体に対しスライド下方に駆動する。こ
れにより連続的な全幅塗布を速やかに開始するか、また
はスプライスで生ずる塗装ブロックを排除する。
こにおいてエアジェット１８がギャップ５に向けて指向
されている。空気流をギャップ５に指向させることが流
下液と同じ方向に移動する塗布溶液の液波２３を生じさ
せる。いかなる理論にも制限されないが、塗布の開始に
伴う支配的問題は、動いている基体６の表面から、運ば
れている（ｅｎｔｒａｉｎｅｄ）空気層を除去すること
である。従来の塗布にあっては、基体をよぎる空気を幅
全体が平衡するまで移動させる初期ぬれ点が生成され
る。一旦平衡状態が確立されると、チャンバからの異な
る圧力が空気層を連続的に排除する。空気のパルスは、
ここで述べたように、塗布の方向に増大された運動量を
有する塗布溶液のより厚い領域をもたらす。増大された
運動量とより厚い塗布溶液との組合わせが、塗布溶液の
空気層を移動させる能力を増大させる。これが典型的に
は塗布が開始されたときに見られる材料損失の量を減少
させる。実際には、スライド面の下端部近傍の塗布溶液
に衝突している瞬間的なシート状の空気流が液波を生成
し、かつ液波を基体に対しスライド下方に駆動する。こ
れにより連続的な全幅塗布を速やかに開始するか、また
はスプライスで生ずる塗装ブロックを排除する。
【００２６】図６は第２の実施例を示しここにおいてノ
ズル２４が空気補助装置１９に取付けられている。この
分野で知られているように、調整可能なノズルが好まし
いが必須とはされない。単一の供給源２１およびチュー
ブ２２が各ノズルに接続されてもよく、または同じ供給
源２１が多数のノズルに役立ち得る。
ズル２４が空気補助装置１９に取付けられている。この
分野で知られているように、調整可能なノズルが好まし
いが必須とはされない。単一の供給源２１およびチュー
ブ２２が各ノズルに接続されてもよく、または同じ供給
源２１が多数のノズルに役立ち得る。
【００２７】ここに記述された発明は、これらに限定さ
れないが、感光性および／または感放射線液を伴う層を
含む多数の流下液層のために有益である。このような感
光性および／または感放射線層は、グラフィックアー
ト、印刷、医療、および情報システムのような分野にお
ける画像形成および再生用に用いられる。銀ハロゲン化
物感光性層およびそれらの関連する層が好ましい。感光
ポリマー、ジアゾ、小胞（ｖｅｓｉｃｕｌａｒ）画像形
成組成物および他のシステムも銀ハロゲン化物に加えて
用いられ得る。新規なプロセスで用いられる基体は、全
ての適切な透明プラスチックまたはこの分野で知られて
いる紙であってもよい。塗布の後にはこの分野で知られ
ているように液媒体の蒸発によって基体を乾燥すること
が好ましい。
れないが、感光性および／または感放射線液を伴う層を
含む多数の流下液層のために有益である。このような感
光性および／または感放射線層は、グラフィックアー
ト、印刷、医療、および情報システムのような分野にお
ける画像形成および再生用に用いられる。銀ハロゲン化
物感光性層およびそれらの関連する層が好ましい。感光
ポリマー、ジアゾ、小胞（ｖｅｓｉｃｕｌａｒ）画像形
成組成物および他のシステムも銀ハロゲン化物に加えて
用いられ得る。新規なプロセスで用いられる基体は、全
ての適切な透明プラスチックまたはこの分野で知られて
いる紙であってもよい。塗布の後にはこの分野で知られ
ているように液媒体の蒸発によって基体を乾燥すること
が好ましい。
【００２８】これらの教示は、ここに記述された本発明
の範囲を限定する意図ではない以下の実験例によって表
示されている。８％の親水性コロイド溶液の単層の流れ
が図１に示されるような形態のスライドビード塗布装置
上に確立された。１４ｃｍ幅の流れが約５８０ｍｌ／ｍ
ｉｎ（ミリリットル／分）の流量に維持された。ローラ
の駆動系が起動され、１５ｃｍ幅の基体が約１１４ｍ／
ｍｉｎの速さで搬送された。該基体はそれから、図２に
示されているように、流動している液体に向けて並進さ
れ、０１８ｍｍ（０．００７ｉｎｃｈ）のギャップを形
成した。基体と溶液との間の接触が観察された後１秒内
に、継続時間約１／２秒の空気パルスが流動している液
体の表面に衝突し、これにより安定状態の塗布が確立さ
れた。安定状態の塗布が確立された後、大気圧よりも１
８ｍｍ（０．７ｉｎｃｈ）水柱低い圧力がビードの下側
のチャンバ内で測定された。接続しているチューブにお
いて、通常の手段によって計測されて２０５ｋＰａ（３
０ポンド／ｉｎｃｈ2 ）の圧力が空気補助装置に加えら
れた。空気補助装置は、５つの均等に約２．５ｃｍ離間
された０．３ｃｍの孔を包含する外径０．９ｃｍの単一
チューブからなっている。手動のバルブがこの実験例の
デモンストレーションのために使用された。流量および
塗布速度条件は、おそまつな塗布開始が観測され、空気
補助装置なしには安定状態の塗布が起らないように選定
された。空気補助装置を用いると、意図された使用に対
しては不適な約１ｍの生成された材料を伴って、安定状
態の塗布が観測された。
の範囲を限定する意図ではない以下の実験例によって表
示されている。８％の親水性コロイド溶液の単層の流れ
が図１に示されるような形態のスライドビード塗布装置
上に確立された。１４ｃｍ幅の流れが約５８０ｍｌ／ｍ
ｉｎ（ミリリットル／分）の流量に維持された。ローラ
の駆動系が起動され、１５ｃｍ幅の基体が約１１４ｍ／
ｍｉｎの速さで搬送された。該基体はそれから、図２に
示されているように、流動している液体に向けて並進さ
れ、０１８ｍｍ（０．００７ｉｎｃｈ）のギャップを形
成した。基体と溶液との間の接触が観察された後１秒内
に、継続時間約１／２秒の空気パルスが流動している液
体の表面に衝突し、これにより安定状態の塗布が確立さ
れた。安定状態の塗布が確立された後、大気圧よりも１
８ｍｍ（０．７ｉｎｃｈ）水柱低い圧力がビードの下側
のチャンバ内で測定された。接続しているチューブにお
いて、通常の手段によって計測されて２０５ｋＰａ（３
０ポンド／ｉｎｃｈ2 ）の圧力が空気補助装置に加えら
れた。空気補助装置は、５つの均等に約２．５ｃｍ離間
された０．３ｃｍの孔を包含する外径０．９ｃｍの単一
チューブからなっている。手動のバルブがこの実験例の
デモンストレーションのために使用された。流量および
塗布速度条件は、おそまつな塗布開始が観測され、空気
補助装置なしには安定状態の塗布が起らないように選定
された。空気補助装置を用いると、意図された使用に対
しては不適な約１ｍの生成された材料を伴って、安定状
態の塗布が観測された。
【図１】従来のスライドビード塗布の塗布スタート直前
を示す概略部分側面図であり、ここで基体およびローラ
はコーティングプレートから離れており、溶液流はチャ
ンバおよび関連するたまりによって取除かれている。
を示す概略部分側面図であり、ここで基体およびローラ
はコーティングプレートから離れており、溶液流はチャ
ンバおよび関連するたまりによって取除かれている。
【図２】図１に示された塗布装置の安定状態塗布中の概
略部分側面図であり、ここで流動液がコーティングプレ
ートおよび動いている基体間にブリッジを形成してい
る。
略部分側面図であり、ここで流動液がコーティングプレ
ートおよび動いている基体間にブリッジを形成してい
る。
【図３】塗布された基体の平面図であり、ここでＡは安
定状態塗布の確立前に生ずる材料損失であり、Ｂは所望
の安定状態塗布である。
定状態塗布の確立前に生ずる材料損失であり、Ｂは所望
の安定状態塗布である。
【図４】本発明の一実施例の空気パルス手動中の平面図
である。
である。
【図５】本発明の一実施例の空気パルス作動中の部分断
面側面図である。
面側面図である。
【図６】本発明の一実施例の平面図であり、ここでノズ
ルは空気流を制御するために用いられる。
ルは空気流を制御するために用いられる。
１，２ 溶液 ３，４ コーティングプレート ５ ギャップ ６ 基体 ７ コーティングローラ ８，９ 供給ポンプ １０，１１ キャビティ １２，１３ スロット １４ チャンバ １５ ポンプ １６ チューブ １７ たまり １８ エアジェット １９ 空気補助装置 ２０ ブラケット ２１ 空気供給源 ２２ チューブ ２４ ノズル
Claims (2)
- 【請求項１】 コーティングリップで終了する傾斜スラ
イド面と、該スライド面に連続する液体層を供給し前記
コーティングリップと前記コーティングリップに隣接し
て配置された基体との間に液体ブリッジを形成する手段
とを備え、前記基体は前記コーティングリップを通過し
て搬送されるよう適合され、これにより前記基体が前記
液体ブリッジから連続的に基体上に液体を消耗させるよ
うにしたスライドビード塗布装置において、前記液体層
供給手段と前記コーティングリップとの間の前記スライ
ド面に対向する前記液体層の上面に衝突する空気流を供
給する手段を備えていることを特徴とするスライドビー
ド塗布装置。 - 【請求項２】 液体層供給手段から液体の流れを開始し
スライド面の下端部にコーティングリップを有するスラ
イドビード塗布装置の前記傾斜スライド面に連続する液
体層を形成し、 前記コーティングリップと基体との間に液体ブリッジを
形成すると共に前記液体ブリッジから前記基体上に液体
を連続的に消耗するよう前記基体を前記コーティングリ
ップを通過させて搬送し、 前記ブリッジ内の液体が前記液体層供給手段から連続的
に補充されてなるステップを含む基体の塗布方法におい
て、前記方法は前記液体層供給手段と前記コーティング
リップとの間の前記スライド面に対向する前記液体層の
上面に衝突する空気流を供給するステップを備えている
ことを特徴とするスライドビード塗布方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/999,238 US5326402A (en) | 1992-12-31 | 1992-12-31 | Slide-bead coating technique |
| US999238 | 1992-12-31 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06277600A true JPH06277600A (ja) | 1994-10-04 |
Family
ID=25546066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5354491A Pending JPH06277600A (ja) | 1992-12-31 | 1993-12-30 | スライドビード塗布装置および方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5326402A (ja) |
| EP (1) | EP0604821B1 (ja) |
| JP (1) | JPH06277600A (ja) |
| DE (1) | DE69328287T2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006212592A (ja) * | 2005-02-07 | 2006-08-17 | Toppan Printing Co Ltd | スリットノズル及びスリットノズルの気泡排出方法並びに塗布装置 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5326402A (en) * | 1992-12-31 | 1994-07-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Slide-bead coating technique |
| US5688324A (en) * | 1994-07-15 | 1997-11-18 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Apparatus for coating substrate |
| DE19530516A1 (de) * | 1995-08-19 | 1997-02-20 | Hoechst Ag | Vorrichtung zum Auftragen einer Beschichtungslösung |
| US6395088B1 (en) | 1999-06-30 | 2002-05-28 | Gaston Systems, Inc. | Apparatus for applying foamed coating material to a traveling textile substrate |
| US6814806B2 (en) | 2002-07-25 | 2004-11-09 | Gaston Systems Inc. | Controlled flow applicator |
| US7431771B2 (en) * | 2004-11-12 | 2008-10-07 | Gaston Systems, Inc. | Apparatus and method for applying a foamed composition to a dimensionally unstable traveling substrate |
| US20100117254A1 (en) * | 2008-11-07 | 2010-05-13 | Palo Alto Research Center Incorporated | Micro-Extrusion System With Airjet Assisted Bead Deflection |
| US8704086B2 (en) | 2008-11-07 | 2014-04-22 | Solarworld Innovations Gmbh | Solar cell with structured gridline endpoints vertices |
| WO2020102460A1 (en) | 2018-11-13 | 2020-05-22 | Gaston Systems, Inc. | A segmented distribution assembly for distributing fluid to an applicator nozzle |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT557307A (ja) * | 1955-02-23 | 1900-01-01 | ||
| US3220877A (en) * | 1962-06-18 | 1965-11-30 | Eastman Kodak Co | Method of coating strip material |
| GB1206280A (en) * | 1966-11-11 | 1970-09-23 | Fuji Photo Film Co Ltd | Multi-layer process for coating photographic solutions or emulsions |
| US3676178A (en) * | 1969-04-25 | 1972-07-11 | Agfa Gevaert Ag | Process and apparatus for coating web supports |
| JPS5247771B2 (ja) * | 1973-08-22 | 1977-12-05 | ||
| US4172001A (en) * | 1978-07-07 | 1979-10-23 | Eastman Kodak Company | Spliced web adapted for coating with liquid coating compositions |
| JPS5575758A (en) * | 1978-12-06 | 1980-06-07 | Fuji Photo Film Co Ltd | Coating method and apparatus therefor |
| JPS58180262A (ja) * | 1982-04-16 | 1983-10-21 | Fuji Photo Film Co Ltd | 塗布方法 |
| JPS6028851A (ja) * | 1983-07-26 | 1985-02-14 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 塗布方法及びその装置 |
| JPH0661518B2 (ja) * | 1986-09-22 | 1994-08-17 | 富士写真フイルム株式会社 | 塗布方法及び装置 |
| EP0300098B1 (en) * | 1987-07-21 | 1991-11-21 | Agfa-Gevaert N.V. | Coating method |
| US5326402A (en) * | 1992-12-31 | 1994-07-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Slide-bead coating technique |
-
1992
- 1992-12-31 US US07/999,238 patent/US5326402A/en not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-12-14 DE DE69328287T patent/DE69328287T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1993-12-14 EP EP93120121A patent/EP0604821B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1993-12-30 JP JP5354491A patent/JPH06277600A/ja active Pending
-
1994
- 1994-10-18 US US08/323,673 patent/US5525373A/en not_active Expired - Lifetime
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006212592A (ja) * | 2005-02-07 | 2006-08-17 | Toppan Printing Co Ltd | スリットノズル及びスリットノズルの気泡排出方法並びに塗布装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69328287T2 (de) | 2000-11-23 |
| EP0604821B1 (en) | 2000-04-05 |
| US5525373A (en) | 1996-06-11 |
| US5326402A (en) | 1994-07-05 |
| EP0604821A1 (en) | 1994-07-06 |
| DE69328287D1 (de) | 2000-05-11 |
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