JPH062732Y2 - 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 - Google Patents
排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置Info
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- JPH062732Y2 JPH062732Y2 JP1986097963U JP9796386U JPH062732Y2 JP H062732 Y2 JPH062732 Y2 JP H062732Y2 JP 1986097963 U JP1986097963 U JP 1986097963U JP 9796386 U JP9796386 U JP 9796386U JP H062732 Y2 JPH062732 Y2 JP H062732Y2
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Classifications
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
-
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Description
【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この考案は排ガス中の塩化水素等の有害ガスを除去する
薬剤、例えば消石灰等のスラリー又は水溶液を排ガスの
中に噴霧する装置に関するものである。
薬剤、例えば消石灰等のスラリー又は水溶液を排ガスの
中に噴霧する装置に関するものである。
（従来の技術） ごみ焼却炉等から発生する排ガス中の有害ガス（主とし
て塩化水素，ＳＯｘ）の除去方法として、排ガス中にス
ラリー又は水溶液の有害ガス除去用薬剤を噴霧する半乾
式法によるものが知られている。この半乾式法は除去用
薬剤をスラリー又は水溶液として、反応塔内で排ガス中
に噴霧する方法であり、噴霧薬剤は排ガス中の有害ガス
と反応し、排ガスの保有熱で乾燥された反応生成物とし
て排ガス中から除去される。
て塩化水素，ＳＯｘ）の除去方法として、排ガス中にス
ラリー又は水溶液の有害ガス除去用薬剤を噴霧する半乾
式法によるものが知られている。この半乾式法は除去用
薬剤をスラリー又は水溶液として、反応塔内で排ガス中
に噴霧する方法であり、噴霧薬剤は排ガス中の有害ガス
と反応し、排ガスの保有熱で乾燥された反応生成物とし
て排ガス中から除去される。
第３図は前述した反応塔内に装備される従来の薬剤噴霧
装置を示すものであって、これは反応塔（図示せず）内
の排ガス中への薬剤噴霧位置、例えば反応塔の上部内側
に固定される装置本体１と、この装置本体１の下側に例
えば10mm程度の隙間Ｇをあけて配置され前記本体１を貫
通する中心回転軸２によって高速回転される回転円盤３
とを備え、前記装置本体１には有害ガス除去用薬剤例え
ば消石灰スラリーが導入パイプ４を介して少流量で供給
される薬剤供給部５（上部が蓋体６によって閉塞され下
部が流出孔７によって開口した室として形成されてい
る）が設けられており、また前記回転円盤３には薬剤供
給部５から流下する除去用薬剤の流入開口部８と、流入
薬剤の受入室９が設けられていると共に、この受入室９
に入った薬剤を回転遠心力によって円盤外周部から排ガ
ス中に噴霧させる複数個の噴霧ノズル10が設けられてい
る。
装置を示すものであって、これは反応塔（図示せず）内
の排ガス中への薬剤噴霧位置、例えば反応塔の上部内側
に固定される装置本体１と、この装置本体１の下側に例
えば10mm程度の隙間Ｇをあけて配置され前記本体１を貫
通する中心回転軸２によって高速回転される回転円盤３
とを備え、前記装置本体１には有害ガス除去用薬剤例え
ば消石灰スラリーが導入パイプ４を介して少流量で供給
される薬剤供給部５（上部が蓋体６によって閉塞され下
部が流出孔７によって開口した室として形成されてい
る）が設けられており、また前記回転円盤３には薬剤供
給部５から流下する除去用薬剤の流入開口部８と、流入
薬剤の受入室９が設けられていると共に、この受入室９
に入った薬剤を回転遠心力によって円盤外周部から排ガ
ス中に噴霧させる複数個の噴霧ノズル10が設けられてい
る。
而して、この薬剤噴霧装置は消石灰スラリー等の除去用
薬剤が本体供給部５から回転円盤３内に少量ずつ連続的
に供給され、該円盤３の高速回転による遠心力を原動力
として噴霧ノズル10から噴霧されるものであるから、前
記円盤３の高速回転時に該円盤内が負圧となり、このた
め周囲の排ガスが装置本体１と回転円盤３との隙間Ｇか
ら回転円盤３内にまき込まれ、除去用薬剤と一緒になっ
て前記ノズル10から噴出されるようになる。然るに、前
記排ガスには炭酸ガスが含有されているため、前記薬剤
が消石灰スラリーの場合には、この消石灰と排ガス中の
炭酸ガスが化学反応して炭酸カルシウムとなり、その生
成直後の炭酸カルシウムが前記ノズル10の内面に付着し
て、このノズルを閉塞するという問題が発生していた。
薬剤が本体供給部５から回転円盤３内に少量ずつ連続的
に供給され、該円盤３の高速回転による遠心力を原動力
として噴霧ノズル10から噴霧されるものであるから、前
記円盤３の高速回転時に該円盤内が負圧となり、このた
め周囲の排ガスが装置本体１と回転円盤３との隙間Ｇか
ら回転円盤３内にまき込まれ、除去用薬剤と一緒になっ
て前記ノズル10から噴出されるようになる。然るに、前
記排ガスには炭酸ガスが含有されているため、前記薬剤
が消石灰スラリーの場合には、この消石灰と排ガス中の
炭酸ガスが化学反応して炭酸カルシウムとなり、その生
成直後の炭酸カルシウムが前記ノズル10の内面に付着し
て、このノズルを閉塞するという問題が発生していた。
このような問題を解消するために、本出願人は装置本体
の薬剤供給部または装置本体と回転円盤との隙間部に外
気が導入される空気吹込管を接続し、ここから吹込まれ
る空気圧によって回転円盤内の高速回転時における内圧
を、装置本体が設置されている反応塔の内圧より高い圧
力に維持するようにした排ガス中の有害ガス除去用薬剤
噴霧装置を特願昭57-194328号に係わる先願発明として
出願している。
の薬剤供給部または装置本体と回転円盤との隙間部に外
気が導入される空気吹込管を接続し、ここから吹込まれ
る空気圧によって回転円盤内の高速回転時における内圧
を、装置本体が設置されている反応塔の内圧より高い圧
力に維持するようにした排ガス中の有害ガス除去用薬剤
噴霧装置を特願昭57-194328号に係わる先願発明として
出願している。
（考案が解決しようとする問題点） 前記先願発明の噴霧装置は、同明細書に記載の如き効果
を奏するが、回転円盤の内圧を上げるために吹込まれる
空気が炭酸ガスを含む外気導入空気であるので、この空
気中の炭酸ガスは排ガス中の炭酸ガスに比べて僅かでは
あるが、排ガスが回転円盤内に巻き込まれた場合と同様
な問題が発生する。すなわち、炭酸ガスを含む空気が回
転円盤内に吹き込まれると、この空気中の炭酸ガスと噴
霧薬剤が回転円盤内で化学反応して炭酸カルシウムとな
り、その生成直後の炭酸カルシウムがノズル内面に付着
して、このノズルを閉塞するという問題が発生する（た
だし、空気の中に含まれる炭酸ガスは排ガスの中に含ま
れる炭酸ガスに比べて僅かであるので、３ケ月位はノズ
ルの閉塞は発生せず、その発生時期を排ガスが巻き込ま
れる従来装置より大幅に遅らすことができる）。
を奏するが、回転円盤の内圧を上げるために吹込まれる
空気が炭酸ガスを含む外気導入空気であるので、この空
気中の炭酸ガスは排ガス中の炭酸ガスに比べて僅かでは
あるが、排ガスが回転円盤内に巻き込まれた場合と同様
な問題が発生する。すなわち、炭酸ガスを含む空気が回
転円盤内に吹き込まれると、この空気中の炭酸ガスと噴
霧薬剤が回転円盤内で化学反応して炭酸カルシウムとな
り、その生成直後の炭酸カルシウムがノズル内面に付着
して、このノズルを閉塞するという問題が発生する（た
だし、空気の中に含まれる炭酸ガスは排ガスの中に含ま
れる炭酸ガスに比べて僅かであるので、３ケ月位はノズ
ルの閉塞は発生せず、その発生時期を排ガスが巻き込ま
れる従来装置より大幅に遅らすことができる）。
この考案はノズルの閉塞時期を大幅に延長すること、例
えば６ケ月位経過した後においてもノズルの閉塞が発生
しないようにした排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装
置を提供することを目的とする。
えば６ケ月位経過した後においてもノズルの閉塞が発生
しないようにした排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装
置を提供することを目的とする。
（問題点を解決するための手段） この考案の排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置は、
排ガス中の有害ガスを除去する反応塔内に設置され、有
害ガス除去用薬剤を収容する薬剤供給部を内包した装置
本体と、この装置本体を貫通する回転軸と、装置本体の
下側に間隙を介してこの回転軸に装着され、薬剤供給部
からの流下薬剤を流入させる流入開口部と流入薬剤の受
入室とこの受入室から反応塔内に薬剤を遠心力で噴出す
る複数個の噴霧ノズルとを有する高速回転円盤と、前記
薬剤供給部に有害ガス除去用薬剤を供給する薬剤タンク
と、この薬剤タンクから供給される所定量の有害ガス除
去用薬剤を収容してこの有害ガス除去用薬剤と反応する
空気中の成分を脱処理する空気洗浄槽と、この脱処理さ
れた空気を前記回転円盤と装置本体との間隙に供給する
吹込管と、前記空気洗浄槽と吹込管との間に配置されて
前記受入室内の圧力を少なくとも反応塔内の圧力と等し
い圧力に維持する圧力制御装置とを備えることを特徴と
する。
排ガス中の有害ガスを除去する反応塔内に設置され、有
害ガス除去用薬剤を収容する薬剤供給部を内包した装置
本体と、この装置本体を貫通する回転軸と、装置本体の
下側に間隙を介してこの回転軸に装着され、薬剤供給部
からの流下薬剤を流入させる流入開口部と流入薬剤の受
入室とこの受入室から反応塔内に薬剤を遠心力で噴出す
る複数個の噴霧ノズルとを有する高速回転円盤と、前記
薬剤供給部に有害ガス除去用薬剤を供給する薬剤タンク
と、この薬剤タンクから供給される所定量の有害ガス除
去用薬剤を収容してこの有害ガス除去用薬剤と反応する
空気中の成分を脱処理する空気洗浄槽と、この脱処理さ
れた空気を前記回転円盤と装置本体との間隙に供給する
吹込管と、前記空気洗浄槽と吹込管との間に配置されて
前記受入室内の圧力を少なくとも反応塔内の圧力と等し
い圧力に維持する圧力制御装置とを備えることを特徴と
する。
（作用） 有害ガス除去用薬剤は、薬剤タンクから装置本体の薬剤
供給部に供給され、この薬剤供給部から流入開口部を介
して回転円盤の受入室に流入し、この後、噴霧ノズルか
ら反応塔内に噴霧される。排ガス中の有害ガスはこの有
害ガス除去用薬剤と反応して排ガス中から除去される。
更に、有害ガス除去用薬剤は空気洗浄槽にも供給され、
この空気洗浄槽内で有害ガス除去用薬剤と反応する例え
ば炭酸ガスである空気中の成分が除去される。この空気
洗浄槽内で脱処理された空気は、吹込管を介して回転円
盤と装置本体との間隙に供給され、圧力制御装置により
受入室内の圧力を少なくとも反応塔内の圧力と等しい圧
力に維持し、反応塔内からの排ガスの逆流を防止する。
供給部に供給され、この薬剤供給部から流入開口部を介
して回転円盤の受入室に流入し、この後、噴霧ノズルか
ら反応塔内に噴霧される。排ガス中の有害ガスはこの有
害ガス除去用薬剤と反応して排ガス中から除去される。
更に、有害ガス除去用薬剤は空気洗浄槽にも供給され、
この空気洗浄槽内で有害ガス除去用薬剤と反応する例え
ば炭酸ガスである空気中の成分が除去される。この空気
洗浄槽内で脱処理された空気は、吹込管を介して回転円
盤と装置本体との間隙に供給され、圧力制御装置により
受入室内の圧力を少なくとも反応塔内の圧力と等しい圧
力に維持し、反応塔内からの排ガスの逆流を防止する。
（実施例） 以下、この考案装置の実施列を第１図の図面に従い説明
すると、この実施例は第３図に示すものと同様な薬剤噴
霧装置（同一部分に同符号を付して具体的説明は省略す
る）において、装置本体１の薬剤供給部５または装置本
体１と回転円盤３との隙間部Ｇ（図示例は前者の場合を
示している）に反応塔の外部から有害ガス除去用薬剤と
反応する成分の脱処理を施した空気を導入する吹込管11
を接続して、ここから吹込まれる脱処理空気の圧力によ
って回転円盤３内の高速回転時における内圧を、装置本
体１が設置される反応塔（図示せず）の内圧と同じか、
又は高い圧力に維持させるようにしたもので、前記円盤
内圧のコントロールは回転円盤３の薬剤流入開口部８の
上方位置に配置した圧力検出器12によって、回転円盤３
内に供給される圧力を検出し、この検出信号で吹込管路
13の調整バルブ14を制御することで行なうようにしてい
る。したがって、これらの圧力検出器１２及び調整バル
ブ１４は圧力制御装置を形成する。
すると、この実施例は第３図に示すものと同様な薬剤噴
霧装置（同一部分に同符号を付して具体的説明は省略す
る）において、装置本体１の薬剤供給部５または装置本
体１と回転円盤３との隙間部Ｇ（図示例は前者の場合を
示している）に反応塔の外部から有害ガス除去用薬剤と
反応する成分の脱処理を施した空気を導入する吹込管11
を接続して、ここから吹込まれる脱処理空気の圧力によ
って回転円盤３内の高速回転時における内圧を、装置本
体１が設置される反応塔（図示せず）の内圧と同じか、
又は高い圧力に維持させるようにしたもので、前記円盤
内圧のコントロールは回転円盤３の薬剤流入開口部８の
上方位置に配置した圧力検出器12によって、回転円盤３
内に供給される圧力を検出し、この検出信号で吹込管路
13の調整バルブ14を制御することで行なうようにしてい
る。したがって、これらの圧力検出器１２及び調整バル
ブ１４は圧力制御装置を形成する。
第２図は前記吹込管11に脱炭酸ガス空気を供給する場合
の脱炭酸ガス処理装置を示すもので、第２図の脱炭酸ガ
ス処理装置は消石灰と水を供給し撹拌羽根15で撹拌させ
て消石灰スラリーを作る消石灰スラリータンク16（この
タンク内の消石灰スラリーがポンプ17および配管18を介
して第１図に示すスラリー導入パイプ４に送られるよう
になっている）と、消石灰スラリータンク１６から供給
装置である供給ポンプ１９および定量ポンプ２０により
消石灰スラリーを送込まれかつ所定量に維持される密閉
型の空気洗浄槽たる空気洗浄タンク２１と、この空気洗
浄タンク21内の消石灰スラリーの中に減圧弁22の付いた
配管23を介して空気を送込むエヤコンプレッサー24とを
具備し、空気洗浄タンク21内に送った空気を消石灰スラ
リーによって脱炭酸ガス処理し、この処理済みの脱炭酸
ガス空気をエヤポンプ25の作動によって第１図に示す吹
込管路13から脱炭酸ガス空気の吹込管11へ供給するよう
に構成されている。
の脱炭酸ガス処理装置を示すもので、第２図の脱炭酸ガ
ス処理装置は消石灰と水を供給し撹拌羽根15で撹拌させ
て消石灰スラリーを作る消石灰スラリータンク16（この
タンク内の消石灰スラリーがポンプ17および配管18を介
して第１図に示すスラリー導入パイプ４に送られるよう
になっている）と、消石灰スラリータンク１６から供給
装置である供給ポンプ１９および定量ポンプ２０により
消石灰スラリーを送込まれかつ所定量に維持される密閉
型の空気洗浄槽たる空気洗浄タンク２１と、この空気洗
浄タンク21内の消石灰スラリーの中に減圧弁22の付いた
配管23を介して空気を送込むエヤコンプレッサー24とを
具備し、空気洗浄タンク21内に送った空気を消石灰スラ
リーによって脱炭酸ガス処理し、この処理済みの脱炭酸
ガス空気をエヤポンプ25の作動によって第１図に示す吹
込管路13から脱炭酸ガス空気の吹込管11へ供給するよう
に構成されている。
前記のような脱炭酸ガス処理装置を用いて、脱炭酸ガス
空気を装置本体１の吹込管11から隙間部Ｇに吹込むよう
にすると、噴霧薬剤との化学反応による炭酸カルシウム
の生成は殆んどなくなり、閉塞防止用ガス吹込管がない
従来装置（第３図に示す従来装置）あるいは外気導入空
気吹込型の先願発明装置に比べて、ノズルの閉塞時期を
大幅に延長すること、例えば６カ月位経過した後におい
てもノズルの閉塞が発生しないようにすることが可能と
なり、本考案装置をごみ焼却炉排ガスに適用した場合
は、通常運転に際し十分な稼働時間を与えることができ
る。
空気を装置本体１の吹込管11から隙間部Ｇに吹込むよう
にすると、噴霧薬剤との化学反応による炭酸カルシウム
の生成は殆んどなくなり、閉塞防止用ガス吹込管がない
従来装置（第３図に示す従来装置）あるいは外気導入空
気吹込型の先願発明装置に比べて、ノズルの閉塞時期を
大幅に延長すること、例えば６カ月位経過した後におい
てもノズルの閉塞が発生しないようにすることが可能と
なり、本考案装置をごみ焼却炉排ガスに適用した場合
は、通常運転に際し十分な稼働時間を与えることができ
る。
なお、空気の脱炭酸を消石灰スラリーで行なう場合の反
応式は ＣＯ２＋Ｃａ（ＯＨ）２→ＣａＣＯ３＋Ｈ２Ｏ となる。
応式は ＣＯ２＋Ｃａ（ＯＨ）２→ＣａＣＯ３＋Ｈ２Ｏ となる。
（考案の効果） この考案の排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置によ
ると、回転円盤の受入室内に、有害ガス除去用薬剤と反
応する成分を含む排ガスの混入の虞がなく、噴霧ノズル
からは有害ガス除去用薬剤が安定した状態で噴出され、
極めて長期間にわたる連続運転が可能となると共に、装
置本体の薬剤供給部に有害ガス除去用薬剤を供給する薬
剤タンクから、空気洗浄槽内にも有害ガス除去用薬剤を
供給して空気を脱処理する極めて簡単な装置とすること
ができる。
ると、回転円盤の受入室内に、有害ガス除去用薬剤と反
応する成分を含む排ガスの混入の虞がなく、噴霧ノズル
からは有害ガス除去用薬剤が安定した状態で噴出され、
極めて長期間にわたる連続運転が可能となると共に、装
置本体の薬剤供給部に有害ガス除去用薬剤を供給する薬
剤タンクから、空気洗浄槽内にも有害ガス除去用薬剤を
供給して空気を脱処理する極めて簡単な装置とすること
ができる。
第１図は本考案の実施例による排ガス中の有害ガス除去
用薬剤噴霧装置を示す主要部の断面図、第２図は本考案
装置に付設される消石灰スラリーおよび生石灰による脱
炭酸ガス処理装置を示す説明図、第３図は従来装置を示
す要部断面図である。 １…装置本体、２…中心回転軸、３…回転円盤、４…薬
剤導入パイプ、５…薬剤供給部、８…薬剤流入開口部、
９…流入薬剤の受入室、10…噴霧ノズル、11…不活性ガ
スまたは脱炭酸ガス空気の吹込管、12…圧力検出器。
用薬剤噴霧装置を示す主要部の断面図、第２図は本考案
装置に付設される消石灰スラリーおよび生石灰による脱
炭酸ガス処理装置を示す説明図、第３図は従来装置を示
す要部断面図である。 １…装置本体、２…中心回転軸、３…回転円盤、４…薬
剤導入パイプ、５…薬剤供給部、８…薬剤流入開口部、
９…流入薬剤の受入室、10…噴霧ノズル、11…不活性ガ
スまたは脱炭酸ガス空気の吹込管、12…圧力検出器。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)考案者 山岸 三樹 東京都千代田区丸の内１丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (72)考案者 宮地 常晴 東京都千代田区丸の内１丁目１番２号 日 本鋼管株式会社内 (56)参考文献 特開 昭59−82926（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】排ガス中の有害ガスを除去する反応塔内に
設置され、有害ガス除去用薬剤を収容する薬剤供給部を
内包した装置本体と、この装置本体を貫通する回転軸
と、装置本体の下側に間隙を介してこの回転軸に装着さ
れ、薬剤供給部からの流下薬剤を流入させる流入開口部
と流入薬剤の受入室とこの受入室から反応塔内に薬剤を
遠心力で噴出する複数個の噴霧ノズルとを有する高速回
転円盤と、前記薬剤供給部に有害ガス除去用薬剤を供給
する薬剤タンクと、この薬剤タンクから供給される所定
量の有害ガス除去用薬剤を収容してこの有害ガス除去用
薬剤と反応する空気中の成分を脱処理する空気洗浄槽
と、この脱処理された空気を前記回転円盤と装置本体と
の間隙に供給する吹込管と、前記空気洗浄槽と吹込管と
の間に配置されて前記受入室内の圧力を少なくとも反応
塔内の圧力と等しい圧力に維持する圧力制御装置とを備
えることを特徴とする排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴
霧装置。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986097963U JPH062732Y2 (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 | 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 |
| EP19870904123 EP0271589A4 (en) | 1986-06-26 | 1987-06-26 | DEVICE FOR SPRAYING CHEMICALS ELIMINATING TOXIC GASES CONTAINED IN AN EXHAUST GAS. |
| PCT/JP1987/000429 WO1988000086A1 (en) | 1986-06-26 | 1987-06-26 | Chemical spray apparatus for removing noxious gas in exhaust gas |
| CA000544114A CA1310260C (en) | 1986-06-26 | 1987-08-10 | Apparatus for spraying chemical for removing toxic gas from exhaust gas |
| KR1019880700016A KR900006084B1 (ko) | 1986-06-26 | 1988-01-09 | 배기가스중의 유해가스 제거용 약제 분무장치 |
| DK098488A DK98488D0 (da) | 1986-06-26 | 1988-02-25 | Apparat til udsproejtning af et kemikalie til fjernelse af giftige bestanddele fra spildgas |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1986097963U JPH062732Y2 (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 | 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS636030U JPS636030U (ja) | 1988-01-16 |
| JPH062732Y2 true JPH062732Y2 (ja) | 1994-01-26 |
Family
ID=14206328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1986097963U Expired - Lifetime JPH062732Y2 (ja) | 1986-06-26 | 1986-06-26 | 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (1) | EP0271589A4 (ja) |
| JP (1) | JPH062732Y2 (ja) |
| KR (1) | KR900006084B1 (ja) |
| DK (1) | DK98488D0 (ja) |
| WO (1) | WO1988000086A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100445638C (zh) * | 2004-06-14 | 2008-12-24 | 张维田 | 一种垃圾焚烧方法及连续式垃圾焚烧系统 |
| AT506722B1 (de) | 2008-04-21 | 2011-01-15 | Kronsteiner Martin Ing | Ausbringgerät |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5117145B2 (ja) * | 1971-09-10 | 1976-05-31 | ||
| JPS5982926A (ja) * | 1982-11-05 | 1984-05-14 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 |
| JPS59179134A (ja) * | 1983-03-30 | 1984-10-11 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 排ガス中の有害ガス除去用薬剤噴霧装置 |
-
1986
- 1986-06-26 JP JP1986097963U patent/JPH062732Y2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1987
- 1987-06-26 WO PCT/JP1987/000429 patent/WO1988000086A1/ja not_active Application Discontinuation
- 1987-06-26 EP EP19870904123 patent/EP0271589A4/en not_active Withdrawn
-
1988
- 1988-01-09 KR KR1019880700016A patent/KR900006084B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1988-02-25 DK DK098488A patent/DK98488D0/da not_active Application Discontinuation
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR880701129A (ko) | 1988-07-25 |
| KR900006084B1 (ko) | 1990-08-22 |
| DK98488A (da) | 1988-02-25 |
| DK98488D0 (da) | 1988-02-25 |
| EP0271589A1 (en) | 1988-06-22 |
| WO1988000086A1 (en) | 1988-01-14 |
| JPS636030U (ja) | 1988-01-16 |
| EP0271589A4 (en) | 1989-09-19 |
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