JPH06247084A - 光回折パターン記録媒体およびその認証方法 - Google Patents
光回折パターン記録媒体およびその認証方法Info
- Publication number
- JPH06247084A JPH06247084A JP5058019A JP5801993A JPH06247084A JP H06247084 A JPH06247084 A JP H06247084A JP 5058019 A JP5058019 A JP 5058019A JP 5801993 A JP5801993 A JP 5801993A JP H06247084 A JPH06247084 A JP H06247084A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- diffraction pattern
- recording medium
- light
- infrared light
- Prior art date
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- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Holo Graphy (AREA)
- Credit Cards Or The Like (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光学的読取手段を有するカード等の処理装置
により認証が可能で偽造、変造が困難な光回折パターン
記録媒体とその認証方法。 【構成】光回折パターン記録媒体は、光回折パターンが
凹凸模様として記録されている樹脂層1、凹凸模様が記
録されている樹脂層1の表面に形成され、樹脂層1の屈
折率とは異なる屈折率を有し、可視光および赤外光が透
過できる薄膜層2からなるレリーフ層3、実質的に赤外
光を透過し可視光を透過しない隠蔽層4、赤外光吸収部
6または反射部からなる印刷部8が順次積層されてな
り、その認証は、レリーフ層3及び隠蔽層4を介して赤
外光を証明し、赤外光を印刷部8により反射し、再度前
記隠蔽層4及びレリーフ層3を透過して出てくる光を赤
外光検出装置10により検出して、前記印刷部8に記録
された記号、文字、コード等のパターンを読み取ること
により光回折パターン記録媒体を識別して行う。
により認証が可能で偽造、変造が困難な光回折パターン
記録媒体とその認証方法。 【構成】光回折パターン記録媒体は、光回折パターンが
凹凸模様として記録されている樹脂層1、凹凸模様が記
録されている樹脂層1の表面に形成され、樹脂層1の屈
折率とは異なる屈折率を有し、可視光および赤外光が透
過できる薄膜層2からなるレリーフ層3、実質的に赤外
光を透過し可視光を透過しない隠蔽層4、赤外光吸収部
6または反射部からなる印刷部8が順次積層されてな
り、その認証は、レリーフ層3及び隠蔽層4を介して赤
外光を証明し、赤外光を印刷部8により反射し、再度前
記隠蔽層4及びレリーフ層3を透過して出てくる光を赤
外光検出装置10により検出して、前記印刷部8に記録
された記号、文字、コード等のパターンを読み取ること
により光回折パターン記録媒体を識別して行う。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、レリーフホログラム、
回折格子等の光回折パターンが記録されて、それらの真
正さを保証されたカード、証券、通帳、パスポート等の
記録媒体、転写シート及びシール状の記録媒体及びその
認証方法に関する。
回折格子等の光回折パターンが記録されて、それらの真
正さを保証されたカード、証券、通帳、パスポート等の
記録媒体、転写シート及びシール状の記録媒体及びその
認証方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、キャッシュカード、クレジットカ
ード、プリペイドカード、証券、通帳、パスポート等に
おいて、ホログラム等を貼り付けてその真正さの保証や
カード等の意匠性付与が行われている。真正さの保証は
ホログラムの偽造困難性を利用したものであり、ホログ
ラムが貼り付けられたカード等の真正さの確認は、目視
による認証によって行っていた。
ード、プリペイドカード、証券、通帳、パスポート等に
おいて、ホログラム等を貼り付けてその真正さの保証や
カード等の意匠性付与が行われている。真正さの保証は
ホログラムの偽造困難性を利用したものであり、ホログ
ラムが貼り付けられたカード等の真正さの確認は、目視
による認証によって行っていた。
【0003】上記のように、従来のキャッシュカード等
に用いられているホログラムの機能は、目視による認証
性を持たせたり、意匠性の付与が主体であり、熟練した
人でなければ厳密な鑑定は困難であり、無人のカード等
処理装置での不正防止や認証に関しては、まったく機能
を有していなかった。そこで、本出願人は、特開昭62
−283383〜5号公報、特開昭63−61386号
公報、特開昭63−168397号公報、特開昭63−
206791号公報、特開昭63−207696号公
報、特開平1−142784号公報などに記載されてい
るように、ホログラム再生像そのものを光学センサーに
より認識して、カード等の真正さの確認を行う提案をし
た。
に用いられているホログラムの機能は、目視による認証
性を持たせたり、意匠性の付与が主体であり、熟練した
人でなければ厳密な鑑定は困難であり、無人のカード等
処理装置での不正防止や認証に関しては、まったく機能
を有していなかった。そこで、本出願人は、特開昭62
−283383〜5号公報、特開昭63−61386号
公報、特開昭63−168397号公報、特開昭63−
206791号公報、特開昭63−207696号公
報、特開平1−142784号公報などに記載されてい
るように、ホログラム再生像そのものを光学センサーに
より認識して、カード等の真正さの確認を行う提案をし
た。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来、用いら
れていたレリーフホログラム等は偽造し難い特徴はある
が、エンボスにより複製するため、個体識別のための可
変情報(例えば、通し番号)を付与しようとすると、そ
の都度、版をかえてエンボスしなければならず、基本的
に、同じ絵柄、情報しか付与することができないもので
あり、可変情報は、ホログラムとは別の領域の磁気記録
部や印刷記録部に記録する必要があり、カード等の上の
スペースや意匠性に大きな制約があった。また、可変情
報がホログラムと別の領域に記録されているため、可変
情報を書き換えられる場合があり、ホログラムの偽造し
難い特徴が、可変情報自体の真正さの保証とはならなか
った。
れていたレリーフホログラム等は偽造し難い特徴はある
が、エンボスにより複製するため、個体識別のための可
変情報(例えば、通し番号)を付与しようとすると、そ
の都度、版をかえてエンボスしなければならず、基本的
に、同じ絵柄、情報しか付与することができないもので
あり、可変情報は、ホログラムとは別の領域の磁気記録
部や印刷記録部に記録する必要があり、カード等の上の
スペースや意匠性に大きな制約があった。また、可変情
報がホログラムと別の領域に記録されているため、可変
情報を書き換えられる場合があり、ホログラムの偽造し
難い特徴が、可変情報自体の真正さの保証とはならなか
った。
【0005】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、光学的な読取手段を有するカ
ード等の処理装置により認証が可能で、偽造、変造が困
難な光回折パターン記録媒体およびその認証方法を提供
することである。
ものであり、その目的は、光学的な読取手段を有するカ
ード等の処理装置により認証が可能で、偽造、変造が困
難な光回折パターン記録媒体およびその認証方法を提供
することである。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成する本発
明の光回折パターン記録媒体は、少なくとも、光回折パ
ターンが凹凸模様として記録されているレリーフ層、実
質的に赤外光を透過し可視光を透過しない隠蔽層、赤外
光吸収部または反射部からなる印刷部が順次積層されて
なるものである。
明の光回折パターン記録媒体は、少なくとも、光回折パ
ターンが凹凸模様として記録されているレリーフ層、実
質的に赤外光を透過し可視光を透過しない隠蔽層、赤外
光吸収部または反射部からなる印刷部が順次積層されて
なるものである。
【0007】レリーフ層は、表面に光回折パターンが凹
凸模様として記録されている樹脂層、凹凸模様が記録さ
れている樹脂層の表面に形成され、樹脂層の屈折率とは
異なる屈折率を有し、可視光および赤外光が透過できる
薄膜層から構成されていてもよい。
凸模様として記録されている樹脂層、凹凸模様が記録さ
れている樹脂層の表面に形成され、樹脂層の屈折率とは
異なる屈折率を有し、可視光および赤外光が透過できる
薄膜層から構成されていてもよい。
【0008】この場合、赤外光吸収部または反射部から
なる印刷部は、赤外光反射層とその隠蔽層側に位置する
赤外光吸収印刷から構成することもできるし、赤外光吸
収層とその隠蔽層側に位置する赤外光反射印刷から構成
することもできる。
なる印刷部は、赤外光反射層とその隠蔽層側に位置する
赤外光吸収印刷から構成することもできるし、赤外光吸
収層とその隠蔽層側に位置する赤外光反射印刷から構成
することもできる。
【0009】また、この光回折パターン記録媒体は、剥
離性支持体をレリーフ層側に設けて転写シート状に構成
することもできるし、剥離性支持体を接着剤層を介して
印刷部側に設けてシール状に構成することもできる。
離性支持体をレリーフ層側に設けて転写シート状に構成
することもできるし、剥離性支持体を接着剤層を介して
印刷部側に設けてシール状に構成することもできる。
【0010】また、本発明の光回折パターンの認証方法
は、少なくとも、光回折パターンが凹凸模様として記録
されているレリーフ層、赤外光吸収部または反射部から
なる印刷部が順次積層されてなる光回折パターン記録媒
体の認証方法であって、前記レリーフ層及び隠蔽層を介
して赤外光を照明し、前記印刷部によりパターン化され
て反射し、再度前記隠蔽層及びレリーフ層を透過して出
てくる光を赤外光検出装置により検出して、前記印刷部
に記録された記号、文字、コード等のパターンを読み取
ることにより光回折パターン記録媒体を識別することを
特徴とする方法である。
は、少なくとも、光回折パターンが凹凸模様として記録
されているレリーフ層、赤外光吸収部または反射部から
なる印刷部が順次積層されてなる光回折パターン記録媒
体の認証方法であって、前記レリーフ層及び隠蔽層を介
して赤外光を照明し、前記印刷部によりパターン化され
て反射し、再度前記隠蔽層及びレリーフ層を透過して出
てくる光を赤外光検出装置により検出して、前記印刷部
に記録された記号、文字、コード等のパターンを読み取
ることにより光回折パターン記録媒体を識別することを
特徴とする方法である。
【0011】この場合、前記レリーフ層に所定波長の可
視光を照明し、前記レリーフ層から回折されたパターン
を可視光検出装置により検出し、前記赤外光検出装置に
より検出された検出信号と前記可視光検出装置により検
出された検出信号とに基づいて光回折パターン記録媒体
を識別するようにすることもできる。
視光を照明し、前記レリーフ層から回折されたパターン
を可視光検出装置により検出し、前記赤外光検出装置に
より検出された検出信号と前記可視光検出装置により検
出された検出信号とに基づいて光回折パターン記録媒体
を識別するようにすることもできる。
【0012】
【作用】本発明においては、少なくとも、光回折パター
ンが凹凸模様として記録されているレリーフ層、実質的
に赤外光を透過し可視光を透過しない隠蔽層、赤外光吸
収部または反射部からなる印刷部が順次積層されてなる
ので、外見上は樹脂層と薄膜層に記録されている光回折
パターンのみが見え、その下にある印刷情報は見ること
ができない。赤外光を照明して赤外光検出装置により隠
蔽層の下にある印刷情報を検出識別することにより、光
学的な読取手段を有するカード等の処理装置でホログラ
ムシートの個体識別が可能となる。また、レリーフ層と
印刷部が積層されているため、デザインスペースの制約
が大幅に減少し、意匠性の高いものがえられる。また、
積層されたレリーフ層と印刷部の何れかの情報を変造、
改ざんしようとすると、もう一方の情報がダメージを受
けその経歴が明らかになる。
ンが凹凸模様として記録されているレリーフ層、実質的
に赤外光を透過し可視光を透過しない隠蔽層、赤外光吸
収部または反射部からなる印刷部が順次積層されてなる
ので、外見上は樹脂層と薄膜層に記録されている光回折
パターンのみが見え、その下にある印刷情報は見ること
ができない。赤外光を照明して赤外光検出装置により隠
蔽層の下にある印刷情報を検出識別することにより、光
学的な読取手段を有するカード等の処理装置でホログラ
ムシートの個体識別が可能となる。また、レリーフ層と
印刷部が積層されているため、デザインスペースの制約
が大幅に減少し、意匠性の高いものがえられる。また、
積層されたレリーフ層と印刷部の何れかの情報を変造、
改ざんしようとすると、もう一方の情報がダメージを受
けその経歴が明らかになる。
【0013】
【実施例】以下、本発明の光回折パターン記録媒体及び
その認証方法の実施例について、図面を参照して説明す
る。凹凸模様として記録される光回折パターンとして
は、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞の光の強
度分布が凹凸模様で記録されたレリーフホログラムやレ
リーフ回折格子が記録可能であり、フレネルホログラ
ム、フラウンホーファホログラム、レンズレスフーリエ
変換ホログラム、イメージホログラム等のレーザー再生
ホログラム、およびレインボーホログラム等の白色光再
生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラー
ホログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディ
スプレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィ
ックステレオグラムや、ホログラム記録手段を利用した
ホログラフィック回折格子があげられ、その他、電子線
描画装置などを用いて機械的に回折格子を作成すること
により、計算に基づいて任意の回折光が得られるホログ
ラムや回折格子等をあげることもでき、これらが単一若
しくは多重に記録されていてもよい。これらのホログラ
ムまたは回折格子は、一般的に透過型(照明光の入射側
と観察者の観察側がホログラムまたは回折格子を挟んで
反対側)であり、凹凸模様の形成されている表面に薄膜
層を設けることにより反射型(照明光の入射側と観察者
の観察側がホログラムまたは回折格子に対して同じ側)
となる。
その認証方法の実施例について、図面を参照して説明す
る。凹凸模様として記録される光回折パターンとして
は、物体光と参照光との光の干渉による干渉縞の光の強
度分布が凹凸模様で記録されたレリーフホログラムやレ
リーフ回折格子が記録可能であり、フレネルホログラ
ム、フラウンホーファホログラム、レンズレスフーリエ
変換ホログラム、イメージホログラム等のレーザー再生
ホログラム、およびレインボーホログラム等の白色光再
生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラー
ホログラム、コンピュータホログラム、ホログラムディ
スプレイ、マルチプレックスホログラム、ホログラフィ
ックステレオグラムや、ホログラム記録手段を利用した
ホログラフィック回折格子があげられ、その他、電子線
描画装置などを用いて機械的に回折格子を作成すること
により、計算に基づいて任意の回折光が得られるホログ
ラムや回折格子等をあげることもでき、これらが単一若
しくは多重に記録されていてもよい。これらのホログラ
ムまたは回折格子は、一般的に透過型(照明光の入射側
と観察者の観察側がホログラムまたは回折格子を挟んで
反対側)であり、凹凸模様の形成されている表面に薄膜
層を設けることにより反射型(照明光の入射側と観察者
の観察側がホログラムまたは回折格子に対して同じ側)
となる。
【0014】本発明においては、上記のような凹凸模様
として記録される光回折パターンを用い、その下に赤外
光透過性の隠蔽層を介して赤外光により読み取り可能な
印刷情報を配置して、外観上は意匠性の高い光回折パタ
ーンとして記録された情報のみが見え、光回折パターン
記録媒体の認証は隠蔽層の下の印刷情報を赤外光によっ
て読み取って行うようにすることである。以下、実施例
に基づいて本発明を説明する。
として記録される光回折パターンを用い、その下に赤外
光透過性の隠蔽層を介して赤外光により読み取り可能な
印刷情報を配置して、外観上は意匠性の高い光回折パタ
ーンとして記録された情報のみが見え、光回折パターン
記録媒体の認証は隠蔽層の下の印刷情報を赤外光によっ
て読み取って行うようにすることである。以下、実施例
に基づいて本発明を説明する。
【0015】図1は、本発明に基づくカード状の光回折
パターン記録媒体の実施例の断面図であり、光回折パタ
ーンが凹凸模様として記録された透明な樹脂層1の凹凸
模様形成面に薄膜層2が形成されたレリーフ層3、実質
的に赤外光を透過し可視光を透過しない隠蔽層4、接着
剤層5、赤外光を反射する基材7上に赤外光吸収印刷6
で可変情報が形成された印刷部8が順次積層されたもの
である。
パターン記録媒体の実施例の断面図であり、光回折パタ
ーンが凹凸模様として記録された透明な樹脂層1の凹凸
模様形成面に薄膜層2が形成されたレリーフ層3、実質
的に赤外光を透過し可視光を透過しない隠蔽層4、接着
剤層5、赤外光を反射する基材7上に赤外光吸収印刷6
で可変情報が形成された印刷部8が順次積層されたもの
である。
【0016】光回折パターンは、ホログラムまたは回折
格子を感光性樹脂、サーモプラスチック等を利用して、
一旦、凹凸の形で表現して、レリーフホログラムまたは
レリーフ回折格子とし、得られたレリーフホログラムま
たはレリーフ回折格子を、めっき等により型取りして金
型もしくは樹脂型を作成し使用することにより、合成樹
脂に対する賦型法でレリーフホログラムまたはレリーフ
回折格子の大量複製が可能となる。この樹脂層1は賦型
可能な合成樹脂により、厚みは0.4〜4μm程度、好
ましくは、1〜2μmの範囲に構成されていることがよ
り好ましい。
格子を感光性樹脂、サーモプラスチック等を利用して、
一旦、凹凸の形で表現して、レリーフホログラムまたは
レリーフ回折格子とし、得られたレリーフホログラムま
たはレリーフ回折格子を、めっき等により型取りして金
型もしくは樹脂型を作成し使用することにより、合成樹
脂に対する賦型法でレリーフホログラムまたはレリーフ
回折格子の大量複製が可能となる。この樹脂層1は賦型
可能な合成樹脂により、厚みは0.4〜4μm程度、好
ましくは、1〜2μmの範囲に構成されていることがよ
り好ましい。
【0017】賦型可能な合成樹脂としては次のようなも
のを挙げることができる。ポリ塩化ビニル、アクリル
(例、MMA)、ポリスチレン、ポリカーボネート等の
熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキ
シ、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メ
タ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポ
リエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)
アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、トリア
ジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂を硬化させたも
の、或いは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂との混合
物が使用可能である。
のを挙げることができる。ポリ塩化ビニル、アクリル
(例、MMA)、ポリスチレン、ポリカーボネート等の
熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、メラミン、エポキ
シ、ポリエステル(メタ)アクリレート、ウレタン(メ
タ)アクリレート、エポキシ(メタ)アクリレート、ポ
リエーテル(メタ)アクリレート、ポリオール(メタ)
アクリレート、メラミン(メタ)アクリレート、トリア
ジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂を硬化させたも
の、或いは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化性樹脂との混合
物が使用可能である。
【0018】さらに賦型可能な合成樹脂として、ラジカ
ル重合性不飽和基を有する熱成形性物質が使用可能であ
り、これには次の2種類のものがある。 (1) ガラス転移点が0°Cから250°Cのポリマ
ー中にラジカル重合性不和基を有するもの。さらに具体
的には、ポリマーとしては以下の化合物〜を重合も
しくは共重合させたものに対し後述する方法(イ)から
(ニ)によりラジカル重合性不飽和基を導入したものを
用いることができる。 水酸基を有する単量体:N−メチロールアクリルア
ミド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブ
チルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシ
プロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキ
シプロピルメタクリレートなど。 カルボキシル基を有する単量体:アクリル酸、メタ
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
など。 エポキシ基を有する単量体:グリシジルメタクリレ
ートなど。 アジリジニル基を有する単量体:2−アジリジニル
エニルメタクリレート、2−アジリジニルプロピオン酸
アリルなど。 アミノ基を有する単量体:アクリルアミド、メタク
リルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタ
クリレートなど。 スルフォン基を有する単量体:2−アクリルアミド
−2−メチルプロパンスルフォン酸など。 イソシアネート基を有する単量体:2,4−トルエ
ンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレー
トの1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと活
性水素を有するラジカル重合性の付加物など。 さらに、上記の共重合体のガラス転移点を調節した
り、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合
物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体と
共重合させることもできる。このような共重合可能な単
量体としては、例えばメチルアクリレート、メチルメタ
クリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、
ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチ
ルアクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチ
ルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、イソアミ
ルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシル
メタクリレートなどが挙げられる。
ル重合性不飽和基を有する熱成形性物質が使用可能であ
り、これには次の2種類のものがある。 (1) ガラス転移点が0°Cから250°Cのポリマ
ー中にラジカル重合性不和基を有するもの。さらに具体
的には、ポリマーとしては以下の化合物〜を重合も
しくは共重合させたものに対し後述する方法(イ)から
(ニ)によりラジカル重合性不飽和基を導入したものを
用いることができる。 水酸基を有する単量体:N−メチロールアクリルア
ミド、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルア
クリレート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート、
2−ヒドロキシブチルアクリレート、2−ヒドロキシブ
チルメタクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシ
プロピルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキ
シプロピルメタクリレートなど。 カルボキシル基を有する単量体:アクリル酸、メタ
クリル酸、アクリロイルオキシエチルモノサクシネート
など。 エポキシ基を有する単量体:グリシジルメタクリレ
ートなど。 アジリジニル基を有する単量体:2−アジリジニル
エニルメタクリレート、2−アジリジニルプロピオン酸
アリルなど。 アミノ基を有する単量体:アクリルアミド、メタク
リルアミド、ダイアセトンアクリルアミド、ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタ
クリレートなど。 スルフォン基を有する単量体:2−アクリルアミド
−2−メチルプロパンスルフォン酸など。 イソシアネート基を有する単量体:2,4−トルエ
ンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチルアクリレー
トの1モル対1モル付加物などのジイソシアネートと活
性水素を有するラジカル重合性の付加物など。 さらに、上記の共重合体のガラス転移点を調節した
り、硬化膜の物性を調節したりするために、上記の化合
物と、この化合物と共重合可能な以下のような単量体と
共重合させることもできる。このような共重合可能な単
量体としては、例えばメチルアクリレート、メチルメタ
クリレート、エチルアクリレート、エチルメタクリレー
ト、プロピルアクリレート、プロピルメタクリレート、
ブチルアクリレート、ブチルメタクリレート、イソブチ
ルアクリレート、イソブチルメタクリレート、t−ブチ
ルアクリレート、t−ブチルメタクリレート、イソアミ
ルアクリレート、イソアミルメタクリレート、シクロヘ
キシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、
2−エチルヘキシルアクリレート、2−エチルヘキシル
メタクリレートなどが挙げられる。
【0019】次に上述のようにして得られた重合体を以
下に述べる方法(イ)から(ニ)により反応させ、ラジ
カル重合性不飽和基を導入することによって、本発明に
係る材料を得ることができる。 (イ) 水酸基を有する単量体の重合体または共重合体
の場合にはアクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシ
ル基を有する単量体などを縮合反応させる。 (ロ) カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には前述の水酸基を有す
る単量体を縮合反応させる。 (ハ) エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合
には前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル
基を有する単量体を付加反応させる。 (ニ) 水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合にはエポキシ基を有する
単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいは
ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステ
ル単量体の1体1モルの付加物を付加反応させる。上記
反応を行うには、微量のハイドロキノンなどの重合禁止
剤を加え乾燥空気を送りながら行うことが好ましい。
下に述べる方法(イ)から(ニ)により反応させ、ラジ
カル重合性不飽和基を導入することによって、本発明に
係る材料を得ることができる。 (イ) 水酸基を有する単量体の重合体または共重合体
の場合にはアクリル酸、メタクリル酸などのカルボキシ
ル基を有する単量体などを縮合反応させる。 (ロ) カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合には前述の水酸基を有す
る単量体を縮合反応させる。 (ハ) エポキシ基、イソシアネート基あるいはアジリ
ジニル基を有する単量体の重合体または共重合体の場合
には前述の水酸基を有する単量体もしくはカルボキシル
基を有する単量体を付加反応させる。 (ニ) 水酸基あるいはカルボキシル基を有する単量体
の重合体または共重合体の場合にはエポキシ基を有する
単量体あるいはアジリジニル基を有する単量体あるいは
ジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステ
ル単量体の1体1モルの付加物を付加反応させる。上記
反応を行うには、微量のハイドロキノンなどの重合禁止
剤を加え乾燥空気を送りながら行うことが好ましい。
【0020】(2) 融点が0°Cから250°Cであ
りラジカル重合性不飽和基を有する化合物。具体的には
ステアリルアクリレート、ステアリルメタクリレート、
トリアクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジオー
ルジアクリレート、シクロヘキサンジオールジメタクリ
レート、スピログリコールジアクリレート、スピログリ
コールジメタクリレートなどが挙げられる。また、賦型
可能な合成樹脂として前記(1)、(2)を混合して用
いることもでき、さらに、それらに対してラジカル重合
性不飽和単量体を加えることもできる。このラジカル重
合性不飽和単量体は、電離放射線照射の際、架橋密度を
向上させるものであって、前述の単量体の他にエチレン
グリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタ
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサンジ
オールジアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
メチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプ
ロパンジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサメタクリレート、エチレングリコールジグリシジル
エーテルジアクリレート、エチレングリコールジグリシ
ジルエーテルジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、プ
ロピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジメタ
クリレート、ポリプロピレングリコールジグリシジルエ
ーテルジアクリレート、ポリプロピレングリコールジグ
リシジルエーテルジメタクリレート、ソルビトールテト
ラグリシジルエーテルテトラアクリレート、ソルビトー
ルテトラグリシジルエーテルテトラメタクリレートなど
を用いることができ、前述した共重合体混合物の固形分
100重量部に対して、0.1から100重量部で用い
ることが好ましい。また、上記のものは電子線により充
分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化させる場合に
は、増感剤としてベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテルなどのブンゾインエーテル類、ハロゲ
ン化アセトフェノン類、ビアセチル類などの紫外線照射
によりラジカルを発生するものも用いることができる。
りラジカル重合性不飽和基を有する化合物。具体的には
ステアリルアクリレート、ステアリルメタクリレート、
トリアクリルイソシアヌレート、シクロヘキサンジオー
ルジアクリレート、シクロヘキサンジオールジメタクリ
レート、スピログリコールジアクリレート、スピログリ
コールジメタクリレートなどが挙げられる。また、賦型
可能な合成樹脂として前記(1)、(2)を混合して用
いることもでき、さらに、それらに対してラジカル重合
性不飽和単量体を加えることもできる。このラジカル重
合性不飽和単量体は、電離放射線照射の際、架橋密度を
向上させるものであって、前述の単量体の他にエチレン
グリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタ
クリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、
ポリエチレングリコールジメタクリレート、ヘキサンジ
オールジアクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリ
メチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプ
ロパンジメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリ
トールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘ
キサメタクリレート、エチレングリコールジグリシジル
エーテルジアクリレート、エチレングリコールジグリシ
ジルエーテルジメタクリレート、ポリエチレングリコー
ルジグリシジルエーテルジアクリレート、ポリエチレン
グリコールジグリシジルエーテルジメタクリレート、プ
ロピレングリコールジグリシジルエーテルジアクリレー
ト、プロピレングリコールジグリシジルエーテルジメタ
クリレート、ポリプロピレングリコールジグリシジルエ
ーテルジアクリレート、ポリプロピレングリコールジグ
リシジルエーテルジメタクリレート、ソルビトールテト
ラグリシジルエーテルテトラアクリレート、ソルビトー
ルテトラグリシジルエーテルテトラメタクリレートなど
を用いることができ、前述した共重合体混合物の固形分
100重量部に対して、0.1から100重量部で用い
ることが好ましい。また、上記のものは電子線により充
分に硬化可能であるが、紫外線照射で硬化させる場合に
は、増感剤としてベンゾキノン、ベンゾイン、ベンゾイ
ンメチルエーテルなどのブンゾインエーテル類、ハロゲ
ン化アセトフェノン類、ビアセチル類などの紫外線照射
によりラジカルを発生するものも用いることができる。
【0021】樹脂層1にレリーフホログラムまたはレリ
ーフ回折格子を上記のような賦型可能な合成樹脂を使用
して設けるには、従来既知の方法が利用できる。レリー
フホログラムまたはレリーフ回折格子を形成するための
型としては、(1) 物体光と参照光との干渉縞が凹凸
の形でフォトレジスト上に、露光及び現像により形成さ
れているもの、(2) 上記(1)の凹凸のある側(型
面)に、銀めっき又はニッケルめっきを行う等により、
上記(1)の凹凸が複製された金型、および、(3)
上記(1)もしくは(2)の型の型面の凹凸を合成樹脂
で複製した樹脂型等のいずれでも使用でき、これらの型
は適宜な手段で多数複製して適当な配列を行って複合型
とし、一回の賦型工程で多くのレリーフホログラムまた
はレリーフ回折格子が複製できるようにするとよい。な
お、合成樹脂で型を作る際には、型の耐磨耗性、熱プレ
スするときは型の耐熱性を向上させる意味で、熱硬化性
もしくは電離放射線硬化性の合成樹脂を型の材料として
使用するのがよい。
ーフ回折格子を上記のような賦型可能な合成樹脂を使用
して設けるには、従来既知の方法が利用できる。レリー
フホログラムまたはレリーフ回折格子を形成するための
型としては、(1) 物体光と参照光との干渉縞が凹凸
の形でフォトレジスト上に、露光及び現像により形成さ
れているもの、(2) 上記(1)の凹凸のある側(型
面)に、銀めっき又はニッケルめっきを行う等により、
上記(1)の凹凸が複製された金型、および、(3)
上記(1)もしくは(2)の型の型面の凹凸を合成樹脂
で複製した樹脂型等のいずれでも使用でき、これらの型
は適宜な手段で多数複製して適当な配列を行って複合型
とし、一回の賦型工程で多くのレリーフホログラムまた
はレリーフ回折格子が複製できるようにするとよい。な
お、合成樹脂で型を作る際には、型の耐磨耗性、熱プレ
スするときは型の耐熱性を向上させる意味で、熱硬化性
もしくは電離放射線硬化性の合成樹脂を型の材料として
使用するのがよい。
【0022】薄膜層2は、樹脂層1の光回折パターンに
反射性を与えるものであって、Cr、Ti、Fe、C
o、Ni、Cu、Ag、Au、Ge、Al、Mg、S
b、Pb、Pd、Cd、Bi、Se、Sn、In、G
a、Rbなどの金属およびその酸化物、窒化物などを単
独もしくは2種以上組み合わせて用いて形成される。こ
れらの金属のうちAl,Cr,Ni,Ag,Auなどが
特に好ましい。薄膜層2は蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング、CVDなどの方法や、めっきによっ
て形成でき、その厚みは200〜1000Åであること
が好ましい。
反射性を与えるものであって、Cr、Ti、Fe、C
o、Ni、Cu、Ag、Au、Ge、Al、Mg、S
b、Pb、Pd、Cd、Bi、Se、Sn、In、G
a、Rbなどの金属およびその酸化物、窒化物などを単
独もしくは2種以上組み合わせて用いて形成される。こ
れらの金属のうちAl,Cr,Ni,Ag,Auなどが
特に好ましい。薄膜層2は蒸着、スパッタリング、イオ
ンプレーティング、CVDなどの方法や、めっきによっ
て形成でき、その厚みは200〜1000Åであること
が好ましい。
【0023】あるいは上記のような金属、金属酸化物、
もしくは金属窒化物の単独もしくは組合せの薄膜以外
に、樹脂層1とは異なる屈折率を持つ物質の連続薄膜を
設けても、このような膜自体は透明であるにもかかわら
ず使用できる。このうち屈折率が透明層より大きいもの
としては(以下、材質名の右に括弧書きで屈折率:nを
付記する)、Sb2 S3 (n=3.0)、Fe2 O
3 (n=2.7)、TiO2 (n=2.6)、CdS
(n=2.6)、CeO2 (n=2.3)、ZnS(n
=2.3)、PbCl2 (N=2.3)、Sb2 O
3 (n=2.0)、WO3 (n=2.0)、SiO(n
=2.0)、In2 O3 (n=2.0)、PbO(n=
2.6)、Ta2 O5 (n=2.4)、ZnO(n=
2.1)、ZrO2 (n=2.0)、Cd2 O3 (n=
1.8)、Al2 O3 (n=1.6)、CaO・SiO
2 (n=1.8)などが挙げられる。連続薄膜はその屈
折率が樹脂層1の屈折率よりも0.3以上大きいことが
好ましく、より好ましくは0.5以上大きいことであ
る。本発明者等の実験によれば1.0以上大きいことが
最適であるという結果がもたらされている。
もしくは金属窒化物の単独もしくは組合せの薄膜以外
に、樹脂層1とは異なる屈折率を持つ物質の連続薄膜を
設けても、このような膜自体は透明であるにもかかわら
ず使用できる。このうち屈折率が透明層より大きいもの
としては(以下、材質名の右に括弧書きで屈折率:nを
付記する)、Sb2 S3 (n=3.0)、Fe2 O
3 (n=2.7)、TiO2 (n=2.6)、CdS
(n=2.6)、CeO2 (n=2.3)、ZnS(n
=2.3)、PbCl2 (N=2.3)、Sb2 O
3 (n=2.0)、WO3 (n=2.0)、SiO(n
=2.0)、In2 O3 (n=2.0)、PbO(n=
2.6)、Ta2 O5 (n=2.4)、ZnO(n=
2.1)、ZrO2 (n=2.0)、Cd2 O3 (n=
1.8)、Al2 O3 (n=1.6)、CaO・SiO
2 (n=1.8)などが挙げられる。連続薄膜はその屈
折率が樹脂層1の屈折率よりも0.3以上大きいことが
好ましく、より好ましくは0.5以上大きいことであ
る。本発明者等の実験によれば1.0以上大きいことが
最適であるという結果がもたらされている。
【0024】膜厚は薄膜層2を形成する材料の透明領域
であればよいが通常は10から1000Åが好ましい。
薄膜層2を樹脂層1のレリーフ形成面に形成する方法と
して、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタ
リング法、イオンプレーティング法などの一般的薄膜形
成手段が採用できる。このように屈折率の大きい連続薄
膜を設けると、ホログラムや回折格子の特徴である再生
の角度依存性により、ホログラムや回折格子の再生可能
な角度範囲外では単なる透明体としてした見えず、ホロ
グラムや回折格子の再生可能な角度範囲内では光の反射
率が最大になり、反射性ホログラムまたは回折格子とし
ての効果がでてくる。
であればよいが通常は10から1000Åが好ましい。
薄膜層2を樹脂層1のレリーフ形成面に形成する方法と
して、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタ
リング法、イオンプレーティング法などの一般的薄膜形
成手段が採用できる。このように屈折率の大きい連続薄
膜を設けると、ホログラムや回折格子の特徴である再生
の角度依存性により、ホログラムや回折格子の再生可能
な角度範囲外では単なる透明体としてした見えず、ホロ
グラムや回折格子の再生可能な角度範囲内では光の反射
率が最大になり、反射性ホログラムまたは回折格子とし
ての効果がでてくる。
【0025】上記した連続薄膜は透明層の屈折率よりも
小さいものであってもよく、LiF(n=1.4)、M
gF2 (n=1.4)、3NaF・AlF3 (n=1.
4もしくは1.2)、AlF3 (n=1.4)、CaF
2 (n=1.3もしくは1.4)、NaF(n=1.
3)などが例示される。あるいは、透明層より屈折率が
大きい透明な強誘導体も同様に使用でき、CuCl(n
=2.0)、CuBr(n=2.2)、GaAs(n=
3.3〜3.6)、GaP(n=3.3〜3.5)、N
4 (CH2 )6 (n=1.6)、Bi4(GeO4 )
(n=2.1)、KH2 PO4 (KDP)(n=1.
5)、KD2PO4 (n=1.5)、NH4 H2 PO4
(n=1.5)、KH2 AsO4 (n=1.6)、Rb
H2 AsO4 (n=1.6)、BaTiO3 (n=2.
4)、KTa0.65Nb0.35O3 (n=2.3)、K0.6
Li0.4 NbO3 (n=2.3)、KSr2 Nb5 O15
(n=2.3)、SrX Ba1-X Nb2 O6 (n=2.
3)、Ba2 NaNbO15(n=2.3)、LiNbO
3 (n=2.3)、LiTaO3 (n=2.4)、Sr
TiO3 (n=2.4)、KTaO3 (n=2.2)な
どが例示される。
小さいものであってもよく、LiF(n=1.4)、M
gF2 (n=1.4)、3NaF・AlF3 (n=1.
4もしくは1.2)、AlF3 (n=1.4)、CaF
2 (n=1.3もしくは1.4)、NaF(n=1.
3)などが例示される。あるいは、透明層より屈折率が
大きい透明な強誘導体も同様に使用でき、CuCl(n
=2.0)、CuBr(n=2.2)、GaAs(n=
3.3〜3.6)、GaP(n=3.3〜3.5)、N
4 (CH2 )6 (n=1.6)、Bi4(GeO4 )
(n=2.1)、KH2 PO4 (KDP)(n=1.
5)、KD2PO4 (n=1.5)、NH4 H2 PO4
(n=1.5)、KH2 AsO4 (n=1.6)、Rb
H2 AsO4 (n=1.6)、BaTiO3 (n=2.
4)、KTa0.65Nb0.35O3 (n=2.3)、K0.6
Li0.4 NbO3 (n=2.3)、KSr2 Nb5 O15
(n=2.3)、SrX Ba1-X Nb2 O6 (n=2.
3)、Ba2 NaNbO15(n=2.3)、LiNbO
3 (n=2.3)、LiTaO3 (n=2.4)、Sr
TiO3 (n=2.4)、KTaO3 (n=2.2)な
どが例示される。
【0026】また、樹脂層1とは屈折率の異なる透明な
合成樹脂の層を薄膜層2とすることもでき、具体的な合
成樹脂として使用できるものは次のようなものである。
ポリテトラフロロエチレン(屈折率;n=1.35)、
ポリクロロトリフロロ(n=1.43)、ポリ酢酸ビニ
ル(n=1.45〜1.47)、ポリエチレン(n=
1.50〜1.54)、ポリプロピレン(n=1.4
9)、ポリメチルメタクリレート(n=1.45)、ポ
リスチレン(n=1.60)、ポリ塩化ビニリデン(n
=1.60〜1.63)、ポリビニルブチラール(n=
1.48)、ポリビニルホルマール(n=1.50)、
ポリ塩化ビニル(n=1.52〜1.55)、ポリエス
テル(n=1.52〜1.57)。
合成樹脂の層を薄膜層2とすることもでき、具体的な合
成樹脂として使用できるものは次のようなものである。
ポリテトラフロロエチレン(屈折率;n=1.35)、
ポリクロロトリフロロ(n=1.43)、ポリ酢酸ビニ
ル(n=1.45〜1.47)、ポリエチレン(n=
1.50〜1.54)、ポリプロピレン(n=1.4
9)、ポリメチルメタクリレート(n=1.45)、ポ
リスチレン(n=1.60)、ポリ塩化ビニリデン(n
=1.60〜1.63)、ポリビニルブチラール(n=
1.48)、ポリビニルホルマール(n=1.50)、
ポリ塩化ビニル(n=1.52〜1.55)、ポリエス
テル(n=1.52〜1.57)。
【0027】本発明におけるホログラムまたは回折格子
は上記のようにホログラムまたは回折格子の凹凸を下面
に有する樹脂層1および、樹脂層1の下面の薄膜層2と
を原則的に有しているが、ホログラムまたは回折格子の
凹凸を上面に有する樹脂層と、ホログラムの凹凸または
回折格子の上に接して設けられた薄膜層とから成っても
よい。
は上記のようにホログラムまたは回折格子の凹凸を下面
に有する樹脂層1および、樹脂層1の下面の薄膜層2と
を原則的に有しているが、ホログラムまたは回折格子の
凹凸を上面に有する樹脂層と、ホログラムの凹凸または
回折格子の上に接して設けられた薄膜層とから成っても
よい。
【0028】隠蔽層4は、エチルセルロース、エチルヒ
ドロキシエチルセルロース、セルロースアセテートプロ
ピオネート、酢酸セルロースなどのセルロース誘導体、
ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレンなどのスチレ
ン樹脂あるいはスチレン共重合体樹脂、ポリメタクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エ
チル、ポリアクリル酸ブチルなどのアクリル樹脂または
メタクリル樹脂の単独あるいは共重合体、ロジン、ロジ
ン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重
合ロジンなどのロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹
脂、クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール
樹脂などのバインダーに、例えば、MS Red G
P、Macrolex Red Violet R、C
eres Red 7B、Samaron Red H
BSL、Resolin Red F3BS(以上、赤
色染料)、ホロンブリリアントイエロー6GL、PTY
−52、マクロレックスイエロー6G(以上、黄色染
料)、カセットブルー714、ワクソリンブルーAP−
FW、ホロンブリリアントブルーS−R、MSブルー1
00(以上、青色染料)など赤外光を透過し可視光を透
過しない各種の顔料、染料を添加し、さらに必要に応じ
て、可塑剤、安定剤、ワックス、グリース、乾燥剤、乾
燥補助剤、硬化剤、増粘剤、分散剤を添加した後、溶剤
あるいは希釈剤で充分に混練してなる塗料あるいはイン
キを用いて、通常のグラビア法、ロール法、ナイフエッ
ジ法、オフセット法などの塗布方法あるいは印刷方法に
より、所望部分に形成できる。なお、隠蔽層4は単色で
形成されているほか、複数色の染料あるいは顔料を用い
て、所望の絵柄、文字、地紋、模様等で形成してもよ
い。
ドロキシエチルセルロース、セルロースアセテートプロ
ピオネート、酢酸セルロースなどのセルロース誘導体、
ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレンなどのスチレ
ン樹脂あるいはスチレン共重合体樹脂、ポリメタクリル
酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エ
チル、ポリアクリル酸ブチルなどのアクリル樹脂または
メタクリル樹脂の単独あるいは共重合体、ロジン、ロジ
ン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重
合ロジンなどのロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹
脂、クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール
樹脂などのバインダーに、例えば、MS Red G
P、Macrolex Red Violet R、C
eres Red 7B、Samaron Red H
BSL、Resolin Red F3BS(以上、赤
色染料)、ホロンブリリアントイエロー6GL、PTY
−52、マクロレックスイエロー6G(以上、黄色染
料)、カセットブルー714、ワクソリンブルーAP−
FW、ホロンブリリアントブルーS−R、MSブルー1
00(以上、青色染料)など赤外光を透過し可視光を透
過しない各種の顔料、染料を添加し、さらに必要に応じ
て、可塑剤、安定剤、ワックス、グリース、乾燥剤、乾
燥補助剤、硬化剤、増粘剤、分散剤を添加した後、溶剤
あるいは希釈剤で充分に混練してなる塗料あるいはイン
キを用いて、通常のグラビア法、ロール法、ナイフエッ
ジ法、オフセット法などの塗布方法あるいは印刷方法に
より、所望部分に形成できる。なお、隠蔽層4は単色で
形成されているほか、複数色の染料あるいは顔料を用い
て、所望の絵柄、文字、地紋、模様等で形成してもよ
い。
【0029】接着剤層5は、種々のタイプの接着剤がこ
の目的のために使用でき、次のような接着剤が例示され
る。フェノール系樹脂、フラン系樹脂、尿素系樹脂、メ
ラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、エポキシ系樹脂若しくはその他の熱硬化性樹脂、ポ
リ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩
化ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ(メ
タ)アクリル系樹脂、ニトロセルロース、ポリアミド若
しくはその他の熱可塑性樹脂、ブタジエン−アクリロニ
トリルゴム、ネオプレンゴム若しくはその他のゴム、又
は、ニカワ、天然樹脂、カゼイン、ケイ酸ナトリウム、
デキストリン、澱粉、アラビアゴム等のうち1種又は2
種以上を主成分とする接着剤を使用することがてきる。
また、これらの接着剤は溶液型、エマルジョン型、粉末
型またはフィルム型等のいずれのものでもよく、さら
に、常温固化型、溶剤揮発固化型、融解固化型等のいず
れのものでもよい。
の目的のために使用でき、次のような接着剤が例示され
る。フェノール系樹脂、フラン系樹脂、尿素系樹脂、メ
ラミン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹
脂、エポキシ系樹脂若しくはその他の熱硬化性樹脂、ポ
リ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリ塩
化ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリ(メ
タ)アクリル系樹脂、ニトロセルロース、ポリアミド若
しくはその他の熱可塑性樹脂、ブタジエン−アクリロニ
トリルゴム、ネオプレンゴム若しくはその他のゴム、又
は、ニカワ、天然樹脂、カゼイン、ケイ酸ナトリウム、
デキストリン、澱粉、アラビアゴム等のうち1種又は2
種以上を主成分とする接着剤を使用することがてきる。
また、これらの接着剤は溶液型、エマルジョン型、粉末
型またはフィルム型等のいずれのものでもよく、さら
に、常温固化型、溶剤揮発固化型、融解固化型等のいず
れのものでもよい。
【0030】さらに、本発明においては、接着剤として
粘着剤といわれるもの、例えば、アクリル樹脂、アクリ
ル酸エステル樹脂、または、これらの共重合体、スチレ
ンブタジエン共重合体、天然ゴム、カゼイン、ゼラチ
ン、ロジンエステル、テルペン樹脂、フェノール系樹
脂、スチレン系樹脂、クロマンインデン樹脂、キシレ
ン、脂肪族系炭化水素、ポリビニールアルコール、ポリ
エチレンオキシド、ポリメチレンオキシド、ポリエチレ
ンスルホン酸等が用いうるし、加熱により接着性が付与
される感熱接着剤(言い換えればヒートシール剤)を用
いることもできる。感熱接着剤を構成する材料として
は、ポリエチレン、ポリ酢酸ビニル、又はこれらの共重
合体、アクリル樹脂又はエチレン−アクリル酸共重合
体、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポリエステ
ル、可塑化クロロプレン、ポリプロピレン、ポリビニル
エーテル、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ワックス
類、パラフィン類、ロジン類、アスファルト類等の熱可
塑性樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等の未硬化の
熱硬化樹脂が挙げられる。接着剤層5の厚みとしては4
μmから20μm程度が好ましい。
粘着剤といわれるもの、例えば、アクリル樹脂、アクリ
ル酸エステル樹脂、または、これらの共重合体、スチレ
ンブタジエン共重合体、天然ゴム、カゼイン、ゼラチ
ン、ロジンエステル、テルペン樹脂、フェノール系樹
脂、スチレン系樹脂、クロマンインデン樹脂、キシレ
ン、脂肪族系炭化水素、ポリビニールアルコール、ポリ
エチレンオキシド、ポリメチレンオキシド、ポリエチレ
ンスルホン酸等が用いうるし、加熱により接着性が付与
される感熱接着剤(言い換えればヒートシール剤)を用
いることもできる。感熱接着剤を構成する材料として
は、ポリエチレン、ポリ酢酸ビニル、又はこれらの共重
合体、アクリル樹脂又はエチレン−アクリル酸共重合
体、ポリビニルブチラール、ポリアミド、ポリエステ
ル、可塑化クロロプレン、ポリプロピレン、ポリビニル
エーテル、ポリウレタン、セルロース系樹脂、ワックス
類、パラフィン類、ロジン類、アスファルト類等の熱可
塑性樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂等の未硬化の
熱硬化樹脂が挙げられる。接着剤層5の厚みとしては4
μmから20μm程度が好ましい。
【0031】赤外光吸収印刷6は、隠蔽層4に使用可能
なバインダーに、例えば、カーボンブラック、黒化銀、
シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ナトキノン系
色素、アントラキノン系色素、ジルオール系色素、トリ
フェニルメタン系色素などからなる赤外光を吸収する各
種の顔料、染料を添加し、さらに必要に応じて、可塑
剤、安定剤、ワックス、グリース、乾燥剤、乾燥補助
剤、硬化剤、増粘剤、分散剤を添加した後、溶剤あるい
は希釈剤で充分に混練してなる塗料あるいはインキを用
いて、通常のグラビア法、オフセット法、シルク法、サ
ーマルヘッド等による感熱転写法、昇華転写法、インク
ジェット法、静電吸着法などの印刷方法により、所望部
分に形成できる。
なバインダーに、例えば、カーボンブラック、黒化銀、
シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ナトキノン系
色素、アントラキノン系色素、ジルオール系色素、トリ
フェニルメタン系色素などからなる赤外光を吸収する各
種の顔料、染料を添加し、さらに必要に応じて、可塑
剤、安定剤、ワックス、グリース、乾燥剤、乾燥補助
剤、硬化剤、増粘剤、分散剤を添加した後、溶剤あるい
は希釈剤で充分に混練してなる塗料あるいはインキを用
いて、通常のグラビア法、オフセット法、シルク法、サ
ーマルヘッド等による感熱転写法、昇華転写法、インク
ジェット法、静電吸着法などの印刷方法により、所望部
分に形成できる。
【0032】基材7は、基材として要求される耐熱性、
強度、剛性、隠蔽性、光不透過性等を考慮して、ナイロ
ン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリエステル、ポリイミド、ポリカーボ
ネート等の樹脂、銅、アルミニウム等の金属、紙、含浸
紙等の材料の中から適宜選択した材料の単独あるいは組
み合わせた複合体により構成することができる。このよ
うな基材の厚さは、0.005mm〜5mm程度とすること
ができる。赤外光を反射する基材7としては、上質紙な
どの白色もしくは淡色の紙、ポリプロピレン、ポリスチ
レン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレートな
どの白色もしくは淡色の合成樹脂、前記合成樹脂を紙に
貼りあわせたり、コーティングした複合材料である、カ
ートン紙、コート紙などの合成紙があげられる。その
他、一般的な基材の表面にファストエローG、ファスト
エロー10G、ジスアゾエローAAA、ジスアゾエロー
AAMX、ジスアゾエローAAOT(以上、黄色顔
料)、トルイジンレッド、ナフトールカーミンFB、ナ
フトールレッドM、ビラロゾンレッド(以上、赤色顔
料)、ビクトリアピュアブルーBOレーキ、ブーシック
ブルー5Bレーキ、ファストスカイブルー、アルカリブ
ルーGトーナー、レフレックスブルー(以上、青色顔
料)、アニリンブラック、鉄黒、フォーマット墨(マゼ
ンタ+シアン)(以上、黒色顔料)、亜鉛華、チタン
白、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナホワイト
(以上、白色顔料)などの赤外光を反射する材料を含む
塗料またはインキを塗布または印刷することにより赤外
光を反射する基材7を構成することもでき、また、合成
樹脂に混練して赤外光を反射する基材7を構成すること
もできる。
強度、剛性、隠蔽性、光不透過性等を考慮して、ナイロ
ン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポ
リプロピレン、ポリエステル、ポリイミド、ポリカーボ
ネート等の樹脂、銅、アルミニウム等の金属、紙、含浸
紙等の材料の中から適宜選択した材料の単独あるいは組
み合わせた複合体により構成することができる。このよ
うな基材の厚さは、0.005mm〜5mm程度とすること
ができる。赤外光を反射する基材7としては、上質紙な
どの白色もしくは淡色の紙、ポリプロピレン、ポリスチ
レン、ポリ塩化ビニル、ポリエチレンテレフタレートな
どの白色もしくは淡色の合成樹脂、前記合成樹脂を紙に
貼りあわせたり、コーティングした複合材料である、カ
ートン紙、コート紙などの合成紙があげられる。その
他、一般的な基材の表面にファストエローG、ファスト
エロー10G、ジスアゾエローAAA、ジスアゾエロー
AAMX、ジスアゾエローAAOT(以上、黄色顔
料)、トルイジンレッド、ナフトールカーミンFB、ナ
フトールレッドM、ビラロゾンレッド(以上、赤色顔
料)、ビクトリアピュアブルーBOレーキ、ブーシック
ブルー5Bレーキ、ファストスカイブルー、アルカリブ
ルーGトーナー、レフレックスブルー(以上、青色顔
料)、アニリンブラック、鉄黒、フォーマット墨(マゼ
ンタ+シアン)(以上、黒色顔料)、亜鉛華、チタン
白、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、アルミナホワイト
(以上、白色顔料)などの赤外光を反射する材料を含む
塗料またはインキを塗布または印刷することにより赤外
光を反射する基材7を構成することもでき、また、合成
樹脂に混練して赤外光を反射する基材7を構成すること
もできる。
【0033】このような構成の光回折パターン記録媒体
は、外見上、レリーフ層に記録された光回折パターンの
情報だけが所定の観察角度で目視でき、隠蔽層4の下の
情報は見えない。したがって、赤外光をレリーフ層1側
から照射すると、レリーフ層3、隠蔽層4を透過して印
刷部8に達する。赤外光吸収印刷6の情報に従って吸収
され、赤外光を反射する基材7で反射された赤外光は、
隠蔽層4、レリーフ層3を透過して出てくる。赤外光の
みを検知する光センサー10を配置し、赤外光吸収印刷
6の情報として機械読み取り可能なバーコード、記号、
文字等の可変情報を利用することにより、無人のカード
等の処理装置で赤外光吸収印刷6の情報を読み取ってカ
ード等の光回折パターン記録媒体9の個体識別が可能と
なる。
は、外見上、レリーフ層に記録された光回折パターンの
情報だけが所定の観察角度で目視でき、隠蔽層4の下の
情報は見えない。したがって、赤外光をレリーフ層1側
から照射すると、レリーフ層3、隠蔽層4を透過して印
刷部8に達する。赤外光吸収印刷6の情報に従って吸収
され、赤外光を反射する基材7で反射された赤外光は、
隠蔽層4、レリーフ層3を透過して出てくる。赤外光の
みを検知する光センサー10を配置し、赤外光吸収印刷
6の情報として機械読み取り可能なバーコード、記号、
文字等の可変情報を利用することにより、無人のカード
等の処理装置で赤外光吸収印刷6の情報を読み取ってカ
ード等の光回折パターン記録媒体9の個体識別が可能と
なる。
【0034】図1の場合は、印刷部8は、赤外光吸収印
刷6により行っているが、赤外光反射印刷によって行っ
てもよい。その場合には、赤外光を反射する基材7のか
わりにナイロン、セルロースジアセテート、ポリ塩化ビ
ニル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリエステル、ポリイミド、ポリカーボネート等の樹
脂、あるいはこれらの樹脂にカーボンブラック、黒化
銀、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ナトキノ
ン系色素、アントラキノン系色素、ジルオール系色素、
トリフェニルメタン系色素等の色素が混合された赤外光
を吸収もしくは透過する基材を用いる。また、隠蔽層4
は必ずしも黒色である必要はなく、白色を含む他の色で
あってもよい。ただし、隠蔽層4が明色であると光回折
パターンからの回折光が見えがたくなり、また、その情
報を後記のように認証情報として用いる場合は、読み取
り難くなり、望ましくない。さらに、樹脂層1には、1
個の情報のみでなく、撮影時の参照光の入射角度をかえ
る等、多重で複数の情報を記録しておいてもよい。
刷6により行っているが、赤外光反射印刷によって行っ
てもよい。その場合には、赤外光を反射する基材7のか
わりにナイロン、セルロースジアセテート、ポリ塩化ビ
ニル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、
ポリエステル、ポリイミド、ポリカーボネート等の樹
脂、あるいはこれらの樹脂にカーボンブラック、黒化
銀、シアニン系色素、フタロシアニン系色素、ナトキノ
ン系色素、アントラキノン系色素、ジルオール系色素、
トリフェニルメタン系色素等の色素が混合された赤外光
を吸収もしくは透過する基材を用いる。また、隠蔽層4
は必ずしも黒色である必要はなく、白色を含む他の色で
あってもよい。ただし、隠蔽層4が明色であると光回折
パターンからの回折光が見えがたくなり、また、その情
報を後記のように認証情報として用いる場合は、読み取
り難くなり、望ましくない。さらに、樹脂層1には、1
個の情報のみでなく、撮影時の参照光の入射角度をかえ
る等、多重で複数の情報を記録しておいてもよい。
【0034】以上は、光回折パターン記録媒体の機械読
み取りによる認証に隠蔽層4の下の赤外光吸収印刷6の
情報のみを利用し、レリーフ層3の情報は目視上の認証
情報、他の意匠上、その他の情報として用いることを前
提としていたが、レリーフ層3の中にも機械読み取り用
認証情報を記録し、この情報を検知する別の光センサー
11で読み取り、光センサー10で読み取った赤外光吸
収印刷6の情報と同期、照合等をとることにより、より
高度な認証を行うことが可能になる。その信号処理の一
例を図3に示す。この場合は、赤外光吸収印刷6の印刷
パターン6’及び、レリーフ層3の情報パターン3’と
して同じバーコードパターンを用いた例であり、この場
合は、両光センサー10、11から得られる読み取り信
号をアンド回路12に入れ、両者が一致したときのみ、
認証信号が出力されるようにしている。したがって、レ
リーフ層3、赤外光吸収印刷6の何れかを変造、改ざん
すると、最早認証情報を読み取ることができず、高度な
認証が可能となる。もちろん、上記において、レリーフ
層3、赤外光吸収印刷6に記録する情報は同じである必
要はなく、また、両者の信号の処理も上記のようにアン
ド回路による照合に限定されるものではなく、種々の公
知の手法が採用できる。
み取りによる認証に隠蔽層4の下の赤外光吸収印刷6の
情報のみを利用し、レリーフ層3の情報は目視上の認証
情報、他の意匠上、その他の情報として用いることを前
提としていたが、レリーフ層3の中にも機械読み取り用
認証情報を記録し、この情報を検知する別の光センサー
11で読み取り、光センサー10で読み取った赤外光吸
収印刷6の情報と同期、照合等をとることにより、より
高度な認証を行うことが可能になる。その信号処理の一
例を図3に示す。この場合は、赤外光吸収印刷6の印刷
パターン6’及び、レリーフ層3の情報パターン3’と
して同じバーコードパターンを用いた例であり、この場
合は、両光センサー10、11から得られる読み取り信
号をアンド回路12に入れ、両者が一致したときのみ、
認証信号が出力されるようにしている。したがって、レ
リーフ層3、赤外光吸収印刷6の何れかを変造、改ざん
すると、最早認証情報を読み取ることができず、高度な
認証が可能となる。もちろん、上記において、レリーフ
層3、赤外光吸収印刷6に記録する情報は同じである必
要はなく、また、両者の信号の処理も上記のようにアン
ド回路による照合に限定されるものではなく、種々の公
知の手法が採用できる。
【0035】以上は、本発明の光回折パターン記録媒体
をカード状に構成する場合であったが、図4に示すよう
に、片面に剥離層14が形成された転写支持体13から
なる剥離性支持体15に、保護層15を介して、レリー
フ層3、隠蔽層4、接着剤層5、赤外光吸収印刷6を順
次積層して、転写シート状の光回折パターン記録媒体を
構成することもできる。転写支持体13が剥離性を有す
る場合、剥離層14を省略することができ、また、レリ
ーフ層3自体が強靱であれば、保護層16を省くことも
できる。転写支持体13は、前述の基材と同様な材料が
用いられる。剥離層14は、樹脂層または保護層との接
着性が弱い材質の樹脂が用いられ、具体的には、ポリメ
チルメタクリレート樹脂と他の熱可塑性樹脂、例えば塩
化ビニル酢酸ビニル共重合体、ニトロセルロース樹脂、
及びポリエチレンワックスとの混合物、または、酢酸セ
ルロース樹脂と熱硬化型アクリル樹脂、メラミン樹脂と
の混合物等があげられる。保護層16は、合成樹脂フィ
ルムをラミネートするか、エクストルージョンコート法
によるか、あるいは合成樹脂塗料を塗布することなどに
よって形成することができる。また保護層16中にシリ
コーン等を添加して表面を剥離性とすることもできる。
なお、赤外光吸収印刷6からなる印刷部を最下層に形成
するようにすれば、転写直前に印刷部を形成することが
可能となり、個体識別情報の形成場所としては最適であ
る。
をカード状に構成する場合であったが、図4に示すよう
に、片面に剥離層14が形成された転写支持体13から
なる剥離性支持体15に、保護層15を介して、レリー
フ層3、隠蔽層4、接着剤層5、赤外光吸収印刷6を順
次積層して、転写シート状の光回折パターン記録媒体を
構成することもできる。転写支持体13が剥離性を有す
る場合、剥離層14を省略することができ、また、レリ
ーフ層3自体が強靱であれば、保護層16を省くことも
できる。転写支持体13は、前述の基材と同様な材料が
用いられる。剥離層14は、樹脂層または保護層との接
着性が弱い材質の樹脂が用いられ、具体的には、ポリメ
チルメタクリレート樹脂と他の熱可塑性樹脂、例えば塩
化ビニル酢酸ビニル共重合体、ニトロセルロース樹脂、
及びポリエチレンワックスとの混合物、または、酢酸セ
ルロース樹脂と熱硬化型アクリル樹脂、メラミン樹脂と
の混合物等があげられる。保護層16は、合成樹脂フィ
ルムをラミネートするか、エクストルージョンコート法
によるか、あるいは合成樹脂塗料を塗布することなどに
よって形成することができる。また保護層16中にシリ
コーン等を添加して表面を剥離性とすることもできる。
なお、赤外光吸収印刷6からなる印刷部を最下層に形成
するようにすれば、転写直前に印刷部を形成することが
可能となり、個体識別情報の形成場所としては最適であ
る。
【0036】また、図5に示すように、剥離性支持体1
7を接着剤層5のレリーフ層3と反対側に設けてシール
状に構成することもできる。この場合は、剥離性支持体
17を剥離してその剥離側の接着剤層5により被着体上
に貼り付ける。
7を接着剤層5のレリーフ層3と反対側に設けてシール
状に構成することもできる。この場合は、剥離性支持体
17を剥離してその剥離側の接着剤層5により被着体上
に貼り付ける。
【0037】以上、本発明の光回折パターン記録媒体お
よびその認証方法を実施例に基づいて説明したが、本発
明はこれら実施例に限定されず種々の変形が可能であ
る。
よびその認証方法を実施例に基づいて説明したが、本発
明はこれら実施例に限定されず種々の変形が可能であ
る。
【0038】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の光回折パターン記録媒体及びその認証方法によると、
少なくとも光回折パターンが凹凸模様として記録されて
いるレリーフ層、実質的に赤外光を透過し可視光を透過
しない隠蔽層、赤外光吸収部または反射部からなる印刷
部が順次積層されてなるので、レリーフ層の記録情報の
みが見え、その下にある印刷情報は見ることができな
い。赤外光を照射して赤外光検出装置によりレリーフ層
の下になる印刷部の情報を検出することにより、無人の
カード等の処理装置で光回折パターン記録媒体の個体識
別が可能となる。また、レリーフ層と印刷部が積層され
ているため、デザインスペースの制約が大幅に減少し、
意匠性の高い被着体が得られる。また、積層されたレリ
ーフ層と印刷部の何れかの情報を変造、改ざんしようと
すると、もう一方の情報がダメージを受け、その履歴が
明らかになる。
の光回折パターン記録媒体及びその認証方法によると、
少なくとも光回折パターンが凹凸模様として記録されて
いるレリーフ層、実質的に赤外光を透過し可視光を透過
しない隠蔽層、赤外光吸収部または反射部からなる印刷
部が順次積層されてなるので、レリーフ層の記録情報の
みが見え、その下にある印刷情報は見ることができな
い。赤外光を照射して赤外光検出装置によりレリーフ層
の下になる印刷部の情報を検出することにより、無人の
カード等の処理装置で光回折パターン記録媒体の個体識
別が可能となる。また、レリーフ層と印刷部が積層され
ているため、デザインスペースの制約が大幅に減少し、
意匠性の高い被着体が得られる。また、積層されたレリ
ーフ層と印刷部の何れかの情報を変造、改ざんしようと
すると、もう一方の情報がダメージを受け、その履歴が
明らかになる。
【0039】なお、レリーフ層に記録された情報と印刷
部に記録された情報を同時に検出し、両検出信号の同
期、照合等の信号処理により、より高度な認証を行うこ
ともできる。
部に記録された情報を同時に検出し、両検出信号の同
期、照合等の信号処理により、より高度な認証を行うこ
ともできる。
【図1】本発明に基づくカード上の光回折パターン記録
媒体の実施例の断面図である。
媒体の実施例の断面図である。
【図2】図1の光回折パターン記録媒体の読み出しを説
明するための図である。
明するための図である。
【図3】本発明による光回折パターン記録媒体の認証の
信号処理の一例を説明するための図である。
信号処理の一例を説明するための図である。
【図4】本発明の光回折パターン記録媒体を転写シート
状に構成した場合の断面図である。
状に構成した場合の断面図である。
【図5】本発明の光回折パターン記録媒体をシール状に
構成した場合の断面図である。
構成した場合の断面図である。
1 樹脂層 2 薄膜層 3 レリーフ層 4 隠蔽層 5 接着剤層 6 赤外光吸収印刷 7 基材 8 印刷部 9 光回折パターン記録媒体 10,11 光センサー 3’ 情報パターン 6’ 印刷パターン 12 アンド回路 15 剥離性支持体
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年3月3日
【手続補正1】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図3
【補正方法】変更
【補正内容】
【図3】
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G03H 1/18 8106−2K G06K 19/06 19/10 G09F 3/02 W 7028−5G
Claims (8)
- 【請求項1】 少なくとも、光回折パターンが凹凸模様
として記録されているレリーフ層、実質的に赤外光を透
過し可視光を透過しない隠蔽層、赤外光吸収部または反
射部からなる印刷部が順次積層されてなることを特徴と
する光回折パターン記録媒体。 - 【請求項2】 レリーフ層が、表面に光回折パターンが
凹凸模様として記録されている樹脂層、凹凸模様が記録
されている樹脂層の表面に形成され、樹脂層の屈折率と
は異なる屈折率を有し、可視光および赤外光が透過でき
る薄膜層からなることを特徴とする請求項1に記載の光
回折パターン記録媒体。 - 【請求項3】 赤外光吸収部または反射部からなる印刷
部が、赤外光反射層とその隠蔽層側に位置する赤外光吸
収印刷からなることを特徴とする請求項1または2に記
載の光回折パターン記録媒体。 - 【請求項4】 赤外光吸収部または反射部からなる印刷
部が、赤外光吸収層とその隠蔽層側に位置する赤外光反
射印刷からなることを特徴とする請求項1または2に記
載の光回折パターン記録媒体。 - 【請求項5】 剥離性支持体をレリーフ層側に設けて転
写シート状に構成されたことを特徴とする請求項1から
4の何れか1項記載の光回折パターン記録媒体。 - 【請求項6】 剥離性支持体を接着剤層を介して印刷部
側に設けてシール状に構成されたことを特徴とする請求
項1から4の何れか1項記載の光回折パターン記録媒
体。 - 【請求項7】 少なくとも、光回折パターンが凹凸模様
として記録されているレリーフ層、実質的に赤外光を透
過し可視光を透過しない隠蔽層、赤外光吸収部または反
射部からなる印刷部が順次積層されてなる光回折パター
ン記録媒体の認証方法において、前記レリーフ層及び隠
蔽層を介して赤外光を照明し、前記印刷部によりパター
ン化されて反射し、再度前記隠蔽層及びレリーフ層を透
過して出てくる光を赤外光検出装置により検出して、前
記印刷部に記録された記号、文字、コード等のパターン
を読み取ることにより光回折パターン記録媒体を識別す
ることを特徴とする光回折パターンの認証方法。 - 【請求項8】 前記レリーフ層に所定波長の可視光を照
明し、前記レリーフ層から回折されたパターンを可視光
検出装置により検出し、前記赤外光検出装置により検出
された検出信号と前記可視光検出装置により検出された
検出信号とに基づいて光回折パターン記録媒体を識別す
ることを特徴とする請求項6記載の光回折パターンの認
証方法。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5058019A JPH06247084A (ja) | 1993-02-24 | 1993-02-24 | 光回折パターン記録媒体およびその認証方法 |
US08/097,765 US5856048A (en) | 1992-07-27 | 1993-07-26 | Information-recorded media and methods for reading the information |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5058019A JPH06247084A (ja) | 1993-02-24 | 1993-02-24 | 光回折パターン記録媒体およびその認証方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06247084A true JPH06247084A (ja) | 1994-09-06 |
Family
ID=13072258
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5058019A Withdrawn JPH06247084A (ja) | 1992-07-27 | 1993-02-24 | 光回折パターン記録媒体およびその認証方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06247084A (ja) |
Cited By (18)
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---|---|---|---|---|
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JP2004090582A (ja) * | 2002-09-04 | 2004-03-25 | Toppan Printing Co Ltd | 抽選券およびその製造方法 |
WO2005084960A1 (ja) * | 2004-03-08 | 2005-09-15 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | 画像形成方法及び記録物 |
WO2006114835A1 (ja) * | 2005-04-07 | 2006-11-02 | Optware Corporation | ホログラム記録媒体及びその製造方法 |
WO2006137442A1 (ja) * | 2005-06-23 | 2006-12-28 | Nitto Denko Corporation | 積層反射体、認証カード、バーコードラベル、認証システム、及び、認証領域形成システム |
JP2007136907A (ja) * | 2005-11-21 | 2007-06-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 印刷物および真偽判定用媒体 |
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WO2010098144A1 (ja) | 2009-02-27 | 2010-09-02 | パナソニック株式会社 | 読取装置 |
JP2010287715A (ja) * | 2009-06-11 | 2010-12-24 | Mitsubishi Electric Corp | 薄膜太陽電池およびその製造方法 |
CN102077568A (zh) * | 2009-02-27 | 2011-05-25 | 松下电器产业株式会社 | 表单读取装置 |
JP2013190729A (ja) * | 2012-03-15 | 2013-09-26 | Dainippon Printing Co Ltd | ホログラム積層体、情報記録媒体 |
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-
1993
- 1993-02-24 JP JP5058019A patent/JPH06247084A/ja not_active Withdrawn
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EP1731329A1 (en) * | 2004-03-08 | 2006-12-13 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Image forming method and recording material |
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