JPH06216102A - 被処理体支持装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 被処理体を受け部で受ける時に、これに被処
理体の表面を接触させることなく収容することができる
被処理体支持装置を提供する。 【構成】 半導体ウエハのような被処理体Ｗの下側周縁
部を複数の受け部５２で支持する被処理体支持装置にお
いて、受け部に挿入溝５４を形成すると共に受け部の外
側端部６２、７８を、被処理体の支持時における被処理
体の周縁部よりも外方に位置させる。これにより、被処
理体の挿入時にこの周縁部の端部のみを受け部と接触さ
せ、被処理体の表面に不純物が付着することを阻止す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ウエハ等の被処理体を
支持する被処理体支持装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体ウエハの処理工程におい
ては、ウエハに対してある処理、例えば膜付け処理を施
した後には次の工程に移行する前に前工程での処理時に
付着したパーティクル等を除去するためにウエハを洗浄
することが行われている。このような洗浄を行うにあた
っては、ウエハを保持するために耐薬品性の材質、例え
ば石英からなる容器（キャリア）を用いる必要がある
が、これを搬送用のキャリアとして用いるとコスト高に
なるため、通常上記した洗浄専用のキャリアが用いられ
る。このため搬送用キャリア内のウエハを洗浄用キャリ
アに移し替えて洗浄すると共に搬送用キャリアについて
も洗浄し、その後ウエハを洗浄用キャリアから洗浄後の
搬送用キャリアに移し替えている。

【０００３】このようなウエハの移し替えを行う場合に
は、一般に移し替え領域の下方に被処理体支持装置を設
置し、その頂部のウエハホルダを例えばエアシリンダに
より上昇させてキャリア内に進入させ、キャリア内ウエ
ハを突き上げ（押し上げ）てこれを上方の把持装置に受
け渡し、キャリアを入れ替えた後、逆の操作を行って、
新たなキャリア内にウエハを収納している。このよう
に、洗浄後のウエハをストックしておくことにより各工
程間における時間合わせを行っている。

【０００４】そして、ウエハを上方へ突き上げる被処理
体支持装置は、例えば図１４乃至図１６に示すようにウ
エハホルダ２を有し、この上部の両側にはサイド受け部
４Ａ、４Ｂが設けられ、これらの間には中央受け部４Ｃ
が設けられている。そして、各受け部には、ウエハＷの
幅（厚さ）よりも僅かに大きくなされた挿入溝６が多数
例えば１キャリアの最大収容枚数である２５個並設され
ており、各挿入溝６にウエハＷを収容して支持するよう
になっている。この場合、サイド受け部４Ａ、４Ｂの上
端は、ウエハの周縁部の円弧形状に対応させて傾斜させ
て成形されており、しかも装置全体の小型化を図るため
にサイド受け部４Ａ、４Ｂの外側端部間は比較的小さく
設定されてウエハ完全支持時に外側端部はウエハ面内側
に位置するようになっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、ウエハが例
えば２５枚収容するキャリア内に完全に垂直方向に沿っ
て支持されている場合には、被処理体支持装置のホルダ
２が上昇していったときにこの受け部の挿入溝６内にウ
エハの下側周縁部が円滑に入ることから問題は生じない
が、一般的には、ウエハはキャリア内においてキャリア
内の収容溝における遊び分だけ垂直方向に対して僅かに
傾斜して収容される傾向にある。従って、図１５及び図
１６に示すようにウエハＷの下側周縁部と受け部４が相
対的に接近してウエハＷが挿入溝６内に徐々に収容され
る時、サイド受け部４Ａ、４Ｂの外部端部とウエハ下側
周縁部とが接触してウエハＷの姿勢が矯正されつつ挿入
支持されることになる。このために、ウエハ下部表面に
おいて例えば長さ５ｍｍ程度の目に見えない傷や線状の
付着物８が形成される。この付着物８は、例えば受け部
４がテフロン等の積層構造の樹脂の場合には、剥離した
テフロン樹脂よりなり、この後工程でフッ酸処理や熱拡
散工程を行うと付着物がウエハ面内に拡散して汚物源に
なってしまうという改善点を有していた。本発明は、以
上のような問題点に着目し、これを有効に解決すべく創
案されたものである。本発明の目的は、被処理体を受け
部で支持する時に、これに被処理体の表面を接触させる
ことなく収容することができる被処理体支持装置を提供
することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記問題点を
解決するために、被処理体に対してその下方より相対的
に接近離間して前記被処理体の円弧状の下側周縁部を複
数の受け部で支持する被処理体支持装置において、前記
受け部は前記被処理体の下側周縁部を収容する挿入溝を
有すると共に前記受け部の外側端部は前記被処理体の支
持時における前記被処理体の周縁部よりも外方に位置さ
せるようにしたものである。

【０００７】

【作用】本発明者は、以上のように構成したので、円板
状の被処理体と受け部の先端とを相対的に接近させると
被処理体の下側端部と受け部の挿入溝を区画する区画壁
の上部端辺が接触して被処理体の姿勢を矯正しつつ挿入
溝内へ収容される。この挿入途中においては挿入に従っ
て被処理体と区画壁の上端との接触部が被処理体の下端
円縁部の円弧に沿って次第に外側へ移動し、結果的に被
処理体の表面には付着物等が付着することを阻止するこ
とができる。

【０００８】

【実施例】以下に、本発明に係る被処理体支持装置の一
実施例を添付図面に基づいて詳述する。図１は本発明の
被処理体支持装置を設けたストッカシステムを示す斜視
図、図２は図１に示すストッカシステムを示す正面図、
図３は図２に示すストッカシステムの側面図、図４は図
２に示すストッカシステムへの本発明の支持装置の取付
け状態を示す図である。

【０００９】本実施例においては被処理体としてオリフ
ラ（オリエンテーションフラット部）を有する円板状の
半導体ウエハを用いた場合について説明する。まず、ウ
エハを例えば洗浄する前段においてこれをストックする
ストッカシステムの構成について説明する。各部を詳述
する前に、図１を参照しながらこのストッカシステムの
全体の流れについて簡単に説明する。ウエハＷを収納し
た搬送用キャリアＣは、２個を１組として先ず搬入ステ
ージ１００に運ばれ、その後入出力部１０１を介して搬
送用キャリアエレベータ１０３に受け渡され、図示しな
いストッカに一旦保管されるかまたは主搬送路１０９の
下流側に搬送される。尚、主搬送路とは、受け渡し部で
ある入出力部１０１から後述のウエハ洗浄部への受け渡
し部１０８に至までの搬送路をいうものとする。次いで
移載ロボット１０４により移し替えステーション１０５
に移載され、ここで搬送用キャリアＣ内のウエハは、ウ
エハ把持部１０６及び下方の本発明の特長とする、ウエ
ハを突き上げる被処理体支持装置１１０の協働作用によ
り、洗浄用キャリアＤに移し替えられる。しかる後この
洗浄用キャリアＤは、洗浄用キャリアエレベータ１０７
により図示しないストッカに一旦保管されるか或いはウ
エハ洗浄部への受け渡し部に搬送され、洗浄後は逆の流
れで移し替えステーション１０５に戻される。

【００１０】一方搬送用キャリアＣは、２つの空キャリ
ア搬送路Ｌ１、Ｌ２の一方の搬送路Ｌ１を通ってキャリ
ア洗浄部へ送られ、洗浄後は他方の搬送路Ｌ２を通って
戻され、移し替えステーション１０５に移載される。移
し替えステーション１０５と空キャリア搬送路Ｌ１、Ｌ
２との間の空キャリアＣの移載は、移載ロボット１０４
によって行われる。そして移し替えステーション１０５
にて洗浄用キャリアＤ内のウエハは搬送用キャリアＣに
移し替えられ、上述とは逆の流れで入出力部１０１に戻
された後、搬出ステージ１０２に運ばれ、次の工程に送
られることになる。尚、搬入ステージ１００、入出力部
１０１及び搬出ステージ１０２は、搬出入ステーション
ＩＯＳを構成している。

【００１１】このストッカシステム１０を図２及び図３
も参照しつつ具体的に説明すると、このシステムは、搬
送用キャリアＣを保管するための第１のキャリアストッ
カＳ１と洗浄用のキャリアＤを保管するための第２のキ
ャリアストッカＳ２とを有している。各ストッカＳ１、
Ｓ２は横方向に延びる主搬送路１０９の上方に設置され
ており、図示例にあってはキャリア収納ユニット１２が
それぞれ３段及び２段積み重ねられた構造となってい
る。

【００１２】上記収納ユニット１２は、２個を１組とし
たキャリアの組を３組或いは４組収納できる保管室１４
と、この保管室１４の床部及び天井部にそれぞれ配置さ
れた通気室１６、１８と、これら通気室１６、１８に連
通して保管室１４の側部に沿って配置されたリターンダ
クト２０とから構成されており、保管室１４と通気室１
６、１８との間には多数の通気孔が形成される。天井部
の通気室１８には送風ファン２２の配置されたＵＬＰＡ
フィルタ２４（商品名）が設けられており、清浄空気が
内部を循環するようになっている。また、各ストッカＳ
１、Ｓ２の下部には送風手段２６Ａ、２６Ｂ、２６Ｃ、
２６Ｄが主搬送路１０９に沿って配置されている。

【００１３】搬入ステージ１００及び搬出ステージ１０
２は、各々２個の載置台よりなり、入力出部１０１は、
インターフェイスロボットＩＦの受け渡し位置と前記エ
レベータ１０３の作業領域との間で例えば図２に示すよ
うにエアシリンダＡＲの動作で移動する移動ステージＭ
Ｓにより構成される。搬入ステージ１００と搬出ステー
ジ１０２を結ぶラインの下方側には、このラインに沿っ
て移動するインターフェイスロボットＩＦが設置されて
おり、このロボットＩＦは、更に上下動、鉛直軸まわり
の回転機能を備えていて、各ステージ１００、１０２、
ＭＳ間のウエハの受け渡しを行う。この受け渡しについ
ては、各ステージ１００、１０２、ＭＳにロボットＩＦ
のウエハ支持部が上下に抜けるように切り欠きを形成し
ておくと共にロボットＩＦ側においてはキャリアを片持
ち支持の構造としておくことによって、ウエハ支持部が
各ステージ１００、１０２、ＭＳ間を自在に通り抜けで
き、これによりキャリアの受け渡しが行われる。一方、
移し替えステーション１０５は、図２に示すように主搬
送路の下流側に位置し、図４に示すように例えばボール
ネジ等の駆動機構により主搬送路に沿って各々互いに独
立して水平方向に移動可能な第１及び第２の移動ステー
ジ３２Ａ、３２Ｂと主搬送路１０９の上方側にて左右に
（主搬送路の伸びる方向に沿って）並んで配置された一
対のアームよりなる第１及び第２の把持部３４Ａ、３４
Ｂを有しており、この下方にはそれぞれ本発明に係る被
処理体支持装置１１０が設けられる。また、各移動ステ
ージ３２Ａ、３２Ｂには支持装置１１０の先端部の侵入
を許容する切欠部３３Ａ、３３Ｂが形成されている。

【００１４】以下に、上記被処理体支持装置１１０を具
体的に説明する。図５は本発明の被処理体支持装置を示
す平面図、図６は図５に示す装置の上部を示す概略斜視
図、図７は支持装置の受け部を示す斜視図、図８は図７
に示す受け部の側面図である。この支持装置１１０は移
し替えステーション１０５の床面に固定された例えば逆
Ｌ字状の固定枠３６を有しており、この水平部に鉛直方
向に伸びる例えばボールネジ３８が螺合され、このボー
ルネジ３８の上端に軸受け部４０を介してウエハホルダ
４２が取り付けられている。このウエハホルダ４２の左
右両側には、下方に伸びるガイド板４４、４６が設けら
れており、それぞれ上記固定枠３６に嵌入されて、ホル
ダ４２の昇降動作を安定にしている。更に、このガイド
板４４、４６の下端間には端板４８が横架されており、
この端板４８上にはボールネジ３８を駆動する例えばス
テップモータのような駆動部５０が設置されている。従
って、この駆動部５０を駆動することによりボールネジ
３８が回転し、ウエハホルダ４２が昇降するようになっ
ている。

【００１５】そして、このウエハホルダ４２の上端に
は、本発明の特長とする受け部５２が形成されており、
この受け部は、被処理体、例えばウエハＷの下端両サイ
ドをそれぞれ案内して支持するためのサイド受け部５２
Ａ、５２Ｂと、下端中央部を案内して支持するための中
央受け部５２Ｃとにより構成されており、各受け部５２
Ａ、５２Ｂ、５２Ｃは、例えば１キャリアの最大ウエハ
収容枚数である２５枚のウエハを挿入し得るように例え
ば２５本の挿入溝５４が並行に形成され、全体として櫛
歯状に作られると共に各受け部は間隙Ｓを介して互いに
分割された構造となっている。また、各受け部５２の挿
入溝５４の底部は、ウエハの周縁部の形状に対応させて
円弧状に形成されている。サイド受け部５２Ａ、５２Ｂ
の外側すなわち中央受け部５２Ｃに対して反対側には、
外方向へ延在させた補助受け部５６Ａ、５６Ｂが各サイ
ド受け部５２Ａ、５２Ｂに対して一体的に設けられてい
る。図７に示すサイド受け部５２Ｂは図５中において右
側のサイド受け部を示すが、左側のサイド受け部及び補
助受け部は、中央受け部５２Ｃに対して対称的に設けら
れるので、その拡大図は省略する。

【００１６】サイド受け部５２Ｂの上端は、ウエハＷの
下端部の形状に対応して円弧状に成形されると共に断面
三角形状に形成されてガイド部５８として機能し、この
下方に連続する部分は位置決め部６０として機能する。
また、補助受け部５６Ｂの上端は平坦に形成されて、ガ
イド部５８の端部５８Ａから水平方向へ延びており、こ
の補助受け部５６Ｂの外側端部６２は、図９に示すよう
にウエハＷが挿入溝５４内に完全に挿入されて支持され
た時におけるウエハ周縁部の点Ｐよりも外側に位置され
ており、ウエハの挿入に従ってウエハ周縁部と補助受け
部５６Ｂの上端部との接点が次第に外側端部６２に向か
って移動するように設定されている。

【００１７】そして、サイド受け部５２Ａ、５２Ｂと中
央受け部５２Ｃとの位置関係については、ウエハＷに対
してその下方よりホルダ４２が接近した時に、先ずウエ
ハＷの下部両側がサイド受け部５２Ａ、５２Ｂのガイド
部５８、５８に接触してその傾きが矯正されつつその挿
入溝５４内に入り、その後、ウエハ下端中央が中央受け
部５２Ｃのガイド部５８に接触してその挿入溝５４内に
挿入されると全体として支持されることになる。挿入時
に際しては上述のように、ウエハ周縁部が常にサイド受
け部５２Ａ、５２Ｂ及び補助受け部５６Ａ、５６Ｂの上
端部と接触する。

【００１８】また、図１０に示すように、各補助受け部
５６Ｂ（図１０においては代表として補助受け部５６Ｂ
のみ記す）の挿入溝５４は、その外方向へ向かうに従っ
て順次狭くなされており、ウエハＷが傾斜していても常
にその周縁部の端部と挿入溝５４の壁面とが接触するよ
うになっている。一方、２つの受け部５２Ａ、５２Ｃ間
の間隙Ｓ内、すなわちこの間に形成された凹部内の光の
反射を検出するように、図５に示すようにホルダ４２か
ら離間させて例えば光学式のウエハ検出センサ６４が配
置されており、このセンサ６４は保持部材６６を介して
端板４８へ取り付けられている。従って、このセンサ６
４は、ウエハホルダ４２と共に昇降し、凹部内にウエハ
が存在する時には反射光を検出するのでホルダ内のウエ
ハの有無を検出することができる。尚、図中６８はウエ
ハホルダの高さを検知するためのセンサである。

【００１９】次に、以上のように構成された被処理体支
持装置の動作について説明する。前述のようにこの被処
理体支持装置１１０が設置される移し替えステーション
１０５において、搬送用キャリアＣ或いは洗浄用キャリ
アＤ内に収容されている例えば２５枚のウエハＷが洗浄
用キャリアＤ或いは搬送用キャリアＣへ移し替えられ
る。この移し替えに際しては、図４及び図５に示すよう
に例えばウエハホルダ４２の上方に、例えば２５枚のウ
エハＷを収納した搬送用或いは洗浄用キャリアが設置さ
れているとし、この状態で駆動部５０を駆動することに
よりボールネジ３８が回転し、ホルダ４２は上昇してキ
ャリアに近づく。この時、ボールネジ３８の側方に設け
たセンサ６８によりホルダ４２の上昇移動は検知され、
上昇速度が制御されつつ低速状態となってキャリア内に
その下方から進入する。そして、ウエハＷの下側周縁部
は、ホルダ４２の上部に設けた両側のサイド受け部５２
Ａ、５２Ｂと接触して垂直方向に対するその傾斜が矯正
されつつこれらの挿入溝５４、５４内に入り、更にホル
ダ４２の上昇につれてウエハ周縁部の最下端部も中央受
け部５２Ｃと接触してその挿入溝内に挿入されて、ウエ
ハ周辺部が収容され支持される。図９はホルダ４２の上
昇に伴ってウエハが受け部に挿入されて行く状態を示す
部分側面図、図１０はウエハが受け部に挿入されて行く
状態を示す部分平面図、図１１はウエハＷが受け部に完
全に収容されて支持された状態を示す全体側面図であ
る。図９及び図１０においてホルダ４２が上昇するに従
ってウエハＷはＷ１からＷ２、Ｗ３の順に相対的に変化
する。

【００２０】このウエハ挿入時の状態を具体的に述べる
と、ホルダ４２が上昇するに従ってウエハＷの下側周縁
部の両サイドがサイド受け部５２Ａ、５２Ｂの断面三角
形のガイド部５８の斜面と接触してその傾斜姿勢が垂直
方向へ矯正されつつ挿入溝５４内へ挿入されて行く。更
に挿入が進むとウエハＷ１に示すようにウエハＷ１の周
縁部の端部が補助受け部５６Ｂの上部の端辺７０と接触
し、そのままウエハの挿入に従ってウエハＷ１の端部の
接触点Ｐ２が次第に円弧に沿って上方に移動しつつ補助
受け部５６Ｂの上部の端辺７０に沿って外側に移動し、
ウエハＷ２、ウエハＷ３に示すように順次表される。ま
た、サイド受け部５２Ｂの挿入溝５４はその外側方向に
向かうに従って狭くなされているので、図１０（Ａ）〜
図１０（Ｃ）に示すようにウエハＷ１〜Ｗ３の挿入に従
って、この周縁部の端部が補助受け部５６Ｂの上部の端
辺７０と確実に接触してその傾斜姿勢が矯正されつつウ
エハ自体が挿入されることになる。この時のウエハにお
ける接触点Ｐ２の軌跡は符号７４として表される。

【００２１】従って、ウエハ面（半導体素子が形成され
る面及びその反対側の面）内がホルダ１２の受け部５２
と接触することはないのでウエハ面に例えばテフロン樹
脂よりなる受け部５２のテフロン等が付着したり或いは
ウエハ面に傷が付いたりすることを防止することができ
る。そして、最終的にウエハの下側周縁部がウエハＷ３
によって示されるように挿入溝６の底部７２に接すると
ウエハの挿入は完了し、更にホルダ４２を上昇させると
ことによりウエハＷは受け部５２により支持された状態
でキャリアの上方へ突き上げられる。上方へ突き上げら
れた各ウエハＷは、図４に示すように上方に配置された
第１及び第２の把持部３４Ａ、３４Ｂによって保持され
る。そして、ホルダ４２が下降した後に他のキャリアが
ウエハＷ下方に移動し、ホルダ４２が再び上昇してウエ
ハＷを受け取り、その状態で下降してウエハＷが所定の
キャリアへ収容されることになり移し替え操作が完了す
る。

【００２２】このように、本実施例においては受け部５
２、５６の外側端部６２をウエハ支持時におけるウエハ
周縁部よりも外方に位置されているので、ウエハ挿入時
にはこの周縁部のみが受け部の上部の端辺と接触するこ
とになり、ウエハ表面に不純物等が付着することがな
い。また、上記実施例にあっては補助受け部５６Ａ、５
６Ｂの挿入溝５４は、その外側方向に向かうに従って狭
くなされるように形成されたが、これに限定されず、こ
の挿入溝５４の幅を全体に渡って同一とするように構成
してもよい。

【００２３】更には、上記実施例にあっては、補助受け
部５６の上端を水平方向へ延在させるようにしたが、こ
れに限定されず、例えば図１２及び図１３に示すように
水平方向に対して所定の下向き傾斜角度θをつけて補助
受け部７６の上端を形成するようにしてもよい。この場
合にも、補助受け部７６の外側端部７８をウエハ支持時
におけるウエハ周縁部よりも外方に位置させるのは勿論
である。この場合にも、前記実施例と同様にウエハ挿入
時にはこの周縁部のみが受け部の上部の傾斜端辺と接触
することになり、接触軌跡７４はウエハ周縁部に沿って
円弧状に形成されることになる。この下向き傾斜角度θ
は、ウエハの周縁端部が受け部の上部端辺と接触するよ
うな角度ならばどのような範囲でもよい。

【００２４】また、補助受け部７６の上部を下向き傾斜
させて形成することによりホルダ自体の幅を小さくする
ことができる。尚、上記実施例においては中央受け部５
２Ｃを設けたがこれを設けなくてもよいのは勿論であ
る。更には上記実施例にあっては本発明をウエハストッ
カに適用した場合について説明したが、これに限定され
ず、ウエット洗浄装置等、他のウエハ移載を行う装置に
も全て適用し得る。

【００２５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の被処理体
支持装置によれば次のように優れた作用効果を発揮する
ことができる。受け部の外側端部を被処理体の支持時に
おける被処理体の周縁部よりも外側に位置させるように
したので、被処理体の挿入時にこの周縁部の端部のみが
接触することになり、被処理体の表面に不純物が付着す
ることを防止することができ、歩止まりを向上させるこ
とができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の被処理体支持装置を設けたストッカシ
ステムを示す斜視図である。

【図２】図１に示すストッカシステムを示す正面図であ
る。

【図３】図２に示すストッカシステムの側面図である。

【図４】図２に示すストッカシステムへの本発明の支持
装置の取付け状態を示す図である。

【図５】本発明の被処理体支持装置を示す平面図であ
る。

【図６】図５に示す装置の上部を示す概略斜視図であ
る。

【図７】支持装置の受け部を示す斜視図である。

【図８】図７に示す受け部の側面図である。

【図９】被処理体が受け部の挿入溝に挿入される状態を
説明するための部分側面図である。

【図１０】被処理体が受け部の挿入溝に挿入される状態
を説明するための部分平面図である。

【図１１】被処理体が受け部に完全に収容されて支持さ
れた状態を示す全体側面図である。

【図１２】本発明の他の実施例を示す概略側面図であ
る。

【図１３】図１２に示す実施例の要部拡大斜視図であ
る。

【図１４】従来の被処理体支持装置を示す概略斜視図で
ある。

【図１５】図１４に示す装置の要部拡大側面図である。

【図１６】従来の支持装置により付着物が被処理体に付
着する状況を説明するための説明図である。

【符号の説明】

４２ ウエハホルダ ５２ 受け部 ５２Ａ、５２Ｂ サイド受け部 ５２Ｃ 中央受け部 ５４ 挿入溝 ５６Ａ、５６Ｂ 補助受け部 ５８ ガイド部 ６２ 外側端部 ７６ 補助受け部 ７８ 外側端部 １１０ 被処理体支持装置 Ｗ 半導体ウエハ（被処理体）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 友枝 隆之 熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地 東京 エレクトロン九州株式会社内 (72)発明者 佐藤 尊三 熊本県菊池郡菊陽町津久礼2655番地 東京 エレクトロン九州株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被処理体に対してその下方より相対的に
   接近離間して前記被処理体の円弧状の下側周縁部を複数
   の受け部で支持する被処理体支持装置において、前記受
   け部は前記被処理体の下側周縁部を収容する挿入溝を有
   すると共に前記受け部の外側端部は前記被処理体の支持
   時における前記被処理体の周縁部よりも外方に位置され
   ていることを特徴とする被処理体支持装置。
2. 【請求項２】 前記受け部の挿入溝は前記受け部の外側
   端部に向けて順次狭くなされていることを特徴とする請
   求項１記載の被処理体支持装置。