JPH06211937A - 少なくとも1種のシクロオレフィン共重合体からなる記録媒体用基材、およびその製造法 - Google Patents
少なくとも1種のシクロオレフィン共重合体からなる記録媒体用基材、およびその製造法Info
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- JPH06211937A JPH06211937A JP5251494A JP25149493A JPH06211937A JP H06211937 A JPH06211937 A JP H06211937A JP 5251494 A JP5251494 A JP 5251494A JP 25149493 A JP25149493 A JP 25149493A JP H06211937 A JPH06211937 A JP H06211937A
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- G11—INFORMATION STORAGE
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 少なくとも1種のシクロオレフィン共重合体
からなる記録媒体用基材、およびその製造法の提供。 【構成】 光学記憶ディスクの基材用原料として、シク
ロオレフィン共重合体(COC)を、分子量分布Mw /
Mn が<2.0である時点で重合を停止する特殊な重合
方法により製造するか、あるいはMw <30,000 g
/molおよびMw /Mn ≦2.0、好ましくは<2.0で
ある第一成分、およびMw >15,000g/molおよび
Mw /Mn が4以下で、2以上である第二成分からなる
COC混合物を製造する。基材は、分子量分布Mw /M
n が<2.0である単一のCOCの、またはその様なC
OC、および分子量分布が2.0≦Mw /Mn <4で、
Mwが15,000〜250,000 g/molである1種
以上のCOCからなる混合物の熱変形により製造され
る。
からなる記録媒体用基材、およびその製造法の提供。 【構成】 光学記憶ディスクの基材用原料として、シク
ロオレフィン共重合体(COC)を、分子量分布Mw /
Mn が<2.0である時点で重合を停止する特殊な重合
方法により製造するか、あるいはMw <30,000 g
/molおよびMw /Mn ≦2.0、好ましくは<2.0で
ある第一成分、およびMw >15,000g/molおよび
Mw /Mn が4以下で、2以上である第二成分からなる
COC混合物を製造する。基材は、分子量分布Mw /M
n が<2.0である単一のCOCの、またはその様なC
OC、および分子量分布が2.0≦Mw /Mn <4で、
Mwが15,000〜250,000 g/molである1種
以上のCOCからなる混合物の熱変形により製造され
る。
Description
【0001】本発明は、記録媒体用の、少なくとも1種
のシクロオレフィン共重合体からなる基材、およびその
製造法に関する。
のシクロオレフィン共重合体からなる基材、およびその
製造法に関する。
【0002】光学的情報キャリヤー、記録媒体、例えば
光ディスクまたはコンパクトディスク、の製造では、窒
化物、酸化物、希土類/遷移金属合金からなる様々な層
が、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリル酸メチル、
エポキシ樹脂、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンま
たはポリエーテルイミドからなる予め打刻された基材上
にスパッタリングされる。そのため、記録した情報の再
生精度および情報キャリヤーの長期間安定性は材料によ
って大きく左右され、例えば、基材材料の熱的寸法安定
性および複屈折は再生精度に決定的な影響を与え、プラ
スチックの吸湿性は記録層の物理特性の長期間安定性に
極めて重大な影響を及ぼす。基材は射出成形技術により
製造され、溝またはピットマトリックスがオリジナル
(スタンパー)によりプラスチック基材に転写される。
この複写のマスターに対する忠実度は射出成形材料の加
工性に大きく左右される。加工条件下で良好な流動性を
有する重合体材料は、良好な解像品質も確保できること
が知られている。
光ディスクまたはコンパクトディスク、の製造では、窒
化物、酸化物、希土類/遷移金属合金からなる様々な層
が、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリル酸メチル、
エポキシ樹脂、ポリスルホン、ポリエーテルスルホンま
たはポリエーテルイミドからなる予め打刻された基材上
にスパッタリングされる。そのため、記録した情報の再
生精度および情報キャリヤーの長期間安定性は材料によ
って大きく左右され、例えば、基材材料の熱的寸法安定
性および複屈折は再生精度に決定的な影響を与え、プラ
スチックの吸湿性は記録層の物理特性の長期間安定性に
極めて重大な影響を及ぼす。基材は射出成形技術により
製造され、溝またはピットマトリックスがオリジナル
(スタンパー)によりプラスチック基材に転写される。
この複写のマスターに対する忠実度は射出成形材料の加
工性に大きく左右される。加工条件下で良好な流動性を
有する重合体材料は、良好な解像品質も確保できること
が知られている。
【0003】EP−A−0310680号明細書は、無
定形のエチレンテトラシクロドデセン共重合体からなる
基材が、Tb、Fe、Coからなり、さらに他の合金成
分としてPtまたはPdを含む第四級非晶質希土類/遷
移金属合金からなる磁気光学記録層を支持する、磁気光
学記憶ディスクの形の記録媒体(MOD)を記載してい
る。
定形のエチレンテトラシクロドデセン共重合体からなる
基材が、Tb、Fe、Coからなり、さらに他の合金成
分としてPtまたはPdを含む第四級非晶質希土類/遷
移金属合金からなる磁気光学記録層を支持する、磁気光
学記憶ディスクの形の記録媒体(MOD)を記載してい
る。
【0004】EP−A 0387016号明細書は例4
で、エチレンと1,4,5,8−ジメタノ−1,2,
3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレ
ン、略してDMONの非晶質共重合体からなる基材上に
スパッタリングされた、Te、GeおよびCrからなる
磁気光学記録層を開示している。
で、エチレンと1,4,5,8−ジメタノ−1,2,
3,4,4a,5,8,8a−オクタヒドロナフタレ
ン、略してDMONの非晶質共重合体からなる基材上に
スパッタリングされた、Te、GeおよびCrからなる
磁気光学記録層を開示している。
【0005】他の公知の基材材料は、US−PS 4,
614,778号およびEP−A0387018号明細
書、5欄、5〜24行に記載されている様な、ポリカー
ボネートおよびポリスチレンおよびシクロオレフィン共
重合体の重合体混合物である。
614,778号およびEP−A0387018号明細
書、5欄、5〜24行に記載されている様な、ポリカー
ボネートおよびポリスチレンおよびシクロオレフィン共
重合体の重合体混合物である。
【0006】本発明の基材が好適である記憶ディスク
(OD)の構造は、独国特許出願第P4137427.
4号明細書に記載されている。
(OD)の構造は、独国特許出願第P4137427.
4号明細書に記載されている。
【0007】記録された情報の再現精度および長期安定
性は、使用するプラスチック基材により、すなわち原料
の加工性および基材の熱安定性により決定的な影響を受
ける。射出成形作業の際の、スタンパーの溝マトリック
スの基材への転写は、PC、PMMAおよびこれまで公
知のCOC(シクロオレフィン(共)重合体)からなる
プラスチック基材を使用する場合には、改良の余地があ
る。とりわけ、ディスク製造における不良率を低下さ
せ、同時にスタンパーマトリックスにより転写される構
造の品質を向上させることができよう。
性は、使用するプラスチック基材により、すなわち原料
の加工性および基材の熱安定性により決定的な影響を受
ける。射出成形作業の際の、スタンパーの溝マトリック
スの基材への転写は、PC、PMMAおよびこれまで公
知のCOC(シクロオレフィン(共)重合体)からなる
プラスチック基材を使用する場合には、改良の余地があ
る。とりわけ、ディスク製造における不良率を低下さ
せ、同時にスタンパーマトリックスにより転写される構
造の品質を向上させることができよう。
【0008】本発明の目的は、基材の熱的寸法安定性を
維持しながら、すなわち機械的および熱的特性を失うこ
となく、光学記録媒体の記録および再現品質を改良する
ことである。
維持しながら、すなわち機械的および熱的特性を失うこ
となく、光学記録媒体の記録および再現品質を改良する
ことである。
【0009】この目的は、本発明により、少なくとも1
種のシクロオレフィン共重合体からなる基材であって、
シクロオレフィン共重合体の分子量分布Mw /Mn が2
未満で、分子量Mw が30,000 g/mol以下であり、
ガラス転位温度が120〜200℃である基材、により
達成される。
種のシクロオレフィン共重合体からなる基材であって、
シクロオレフィン共重合体の分子量分布Mw /Mn が2
未満で、分子量Mw が30,000 g/mol以下であり、
ガラス転位温度が120〜200℃である基材、により
達成される。
【0010】同時に、このシクロオレフィン共重合体は
密度が1.01〜1.08g/cm3 であり、屈折率が1.
52〜1.54であることが好ましい。
密度が1.01〜1.08g/cm3 であり、屈折率が1.
52〜1.54であることが好ましい。
【0011】本発明の一実施態様では、シクロオレフィ
ン共重合体の弾性率は3.0〜4.0 GPaであり、降伏
応力は30〜75 MPaである。好ましい実施態様は、ノ
ルボルネン/エチレン共重合体またはテトラシクロドデ
セン/エチレン共重合体からなる。
ン共重合体の弾性率は3.0〜4.0 GPaであり、降伏
応力は30〜75 MPaである。好ましい実施態様は、ノ
ルボルネン/エチレン共重合体またはテトラシクロドデ
セン/エチレン共重合体からなる。
【0012】本発明の別の実施態様では、異なった分子
量を有し、ガラス転移温度が等しいか、あるいは相互の
差が20℃以下である2種以上のシクロオレフィン共重
合体を混合する。好ましくは、分子量が30,000 g
/mol以下である低分子量シクロオレフィン共重合体を第
一混合成分とし、分子量が15,000 g/mol以上であ
る、より高分子量のシクロオレフィン共重合体を第二ま
たはそれ以上の混合成分として組み合わせる。
量を有し、ガラス転移温度が等しいか、あるいは相互の
差が20℃以下である2種以上のシクロオレフィン共重
合体を混合する。好ましくは、分子量が30,000 g
/mol以下である低分子量シクロオレフィン共重合体を第
一混合成分とし、分子量が15,000 g/mol以上であ
る、より高分子量のシクロオレフィン共重合体を第二ま
たはそれ以上の混合成分として組み合わせる。
【0013】基材のその他の実施態様は請求項8〜10
に記載する。
に記載する。
【0014】請求項11の前文に記載する、開環せずに
重合により製造された少なくとも1種のシクロオレフィ
ン共重合体からなる記録媒体用基材の製造法は、式VII
のシクロオレフィンまたは式VIIIの非環式1−オレフィ
ンを、ノルボルネン溶液中で、触媒溶液、触媒懸濁液ま
たは担持触媒の形のメタロセンを加えて重合させるこ
と、重合反応を重合開始から10〜60分後に停止させ
ること、停止した重合媒体をケトン、アルコール、エス
テル、アミドまたは水からなる液体中に沈殿または分散
させ、次いで濾別すること、濾別したCOC重合体を乾
燥させること、および乾燥したCOC重合体を210℃
を超える温度で熱可塑的に加工してディスクを形成する
こと、を特徴とする方法である。
重合により製造された少なくとも1種のシクロオレフィ
ン共重合体からなる記録媒体用基材の製造法は、式VII
のシクロオレフィンまたは式VIIIの非環式1−オレフィ
ンを、ノルボルネン溶液中で、触媒溶液、触媒懸濁液ま
たは担持触媒の形のメタロセンを加えて重合させるこ
と、重合反応を重合開始から10〜60分後に停止させ
ること、停止した重合媒体をケトン、アルコール、エス
テル、アミドまたは水からなる液体中に沈殿または分散
させ、次いで濾別すること、濾別したCOC重合体を乾
燥させること、および乾燥したCOC重合体を210℃
を超える温度で熱可塑的に加工してディスクを形成する
こと、を特徴とする方法である。
【0015】本方法では、分子量分布がMw /Mn <
2.0、特にMw /Mn ≦1.7またはMw /Mn ≦
1.4、およびMw が30,000未満である時点、で
重合を停止させる。本方法の変形では、分子量分布Mw
/Mn が≧2.00で4.00以下である時点、で重合
を停止させる。
2.0、特にMw /Mn ≦1.7またはMw /Mn ≦
1.4、およびMw が30,000未満である時点、で
重合を停止させる。本方法の変形では、分子量分布Mw
/Mn が≧2.00で4.00以下である時点、で重合
を停止させる。
【0016】COC重合体の分子量は、水素を計量供給
し、その間重合を制限しないことにより、30,000
g/mol未満に設定することができる。
し、その間重合を制限しないことにより、30,000
g/mol未満に設定することができる。
【0017】本方法の別の実施態様では、分子量分布M
w /Mn が<2.0であるCOC重合体、および分子量
分布Mw /Mn が≧2.00で、4.00以下である少
なくとも1種のCOC重合体、を溶液または溶融物中で
処理して重合体混合物を形成する。この場合、例えば、
COC重合体の分子量が700〜30,000 g/molで
あり、少なくとも1種の別のシクロオレフィンの分子量
が15,000〜250,000 g/molである。
w /Mn が<2.0であるCOC重合体、および分子量
分布Mw /Mn が≧2.00で、4.00以下である少
なくとも1種のCOC重合体、を溶液または溶融物中で
処理して重合体混合物を形成する。この場合、例えば、
COC重合体の分子量が700〜30,000 g/molで
あり、少なくとも1種の別のシクロオレフィンの分子量
が15,000〜250,000 g/molである。
【0018】この様にして製造したCOC重合体または
重合体混合物をプレス、射出成形または押出しすること
によりディスクを形成する。
重合体混合物をプレス、射出成形または押出しすること
によりディスクを形成する。
【0019】本発明の方法に関する他の実施態様は、請
求項16〜18に記載されている。
求項16〜18に記載されている。
【0020】この新規な基材は、単一のシクロオレフィ
ン共重合体、またはガラス転移温度が非常に近いまたは
同等であるが、分子量が異なった2種類のシクロオレフ
ィン共重合体の混合物から製造される。混合成分は、順
に、開環せずに、メタロセンすなわち触媒を使用して、
モノマーの総量に対して0.1〜100重量%の、式
I、II、III 、IV、VまたはVI
ン共重合体、またはガラス転移温度が非常に近いまたは
同等であるが、分子量が異なった2種類のシクロオレフ
ィン共重合体の混合物から製造される。混合成分は、順
に、開環せずに、メタロセンすなわち触媒を使用して、
モノマーの総量に対して0.1〜100重量%の、式
I、II、III 、IV、VまたはVI
【化2】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 お
よびR8 は同一であるか、または異なるものであって、
水素原子またはC1 〜C8 アルキル基であり、異なった
式中の同一の基が異なった意味を有することができ
る。)の少なくとも1種のモノマー、モノマーの総量に
対して0〜99.9重量%の、式VII (式中、nは2〜10の整数である。)のシクロオレフ
ィン、および、モノマーの総量に対して0〜99.9重
量%の、式VIII (式中、R9 、R10、R11およびR12は同一であるか、
または異なるものであって、水素原子またはC1 〜C8
アルキル基である。)の少なくとも1種の非環式1−オ
レフィンを、−78℃〜150℃の温度および0.01
〜64バールの圧力で重合させることにより、製造され
る。
よびR8 は同一であるか、または異なるものであって、
水素原子またはC1 〜C8 アルキル基であり、異なった
式中の同一の基が異なった意味を有することができ
る。)の少なくとも1種のモノマー、モノマーの総量に
対して0〜99.9重量%の、式VII (式中、nは2〜10の整数である。)のシクロオレフ
ィン、および、モノマーの総量に対して0〜99.9重
量%の、式VIII (式中、R9 、R10、R11およびR12は同一であるか、
または異なるものであって、水素原子またはC1 〜C8
アルキル基である。)の少なくとも1種の非環式1−オ
レフィンを、−78℃〜150℃の温度および0.01
〜64バールの圧力で重合させることにより、製造され
る。
【0021】COC基材材料は加工条件下における流動
性が改良されているので、精密射出成形の際に高い解像
品質が確保される。
性が改良されているので、精密射出成形の際に高い解像
品質が確保される。
【0022】驚くべきことに、本発明による重合法によ
り製造された低分子量で分布の狭いCOCは、熱的寸法
安定性がないために価値の低い公知のCOCと比較し
て、溶融状態における流動性が改良されている。上記の
COCにより、光ディスクまたはコンパクトディスクを
形成するための加工において解像品質が向上する。その
上、驚くべきことに、混合実験により、その目的のため
に少量だけ製造されたCOC成分を含むある種のCOC
混合物でも、流動性が著しく改良されていることが分か
る。このCOC混合物は同様に熱的寸法安定性を維持し
ながらODおよびCDの解像品質を改良する。
り製造された低分子量で分布の狭いCOCは、熱的寸法
安定性がないために価値の低い公知のCOCと比較し
て、溶融状態における流動性が改良されている。上記の
COCにより、光ディスクまたはコンパクトディスクを
形成するための加工において解像品質が向上する。その
上、驚くべきことに、混合実験により、その目的のため
に少量だけ製造されたCOC成分を含むある種のCOC
混合物でも、流動性が著しく改良されていることが分か
る。このCOC混合物は同様に熱的寸法安定性を維持し
ながらODおよびCDの解像品質を改良する。
【0023】これらの混合物は、複数の極大を有するゲ
ル・パーミエーション・クロマトグラム、すなわち少な
くとも2個の極大を有する曲線、を与える。重合体の分
子量分布は今日では一般的にGPCにより測定される。
この方法では、溶解した重合体試料を、GPCカラム
(エリアス「マクロモレキューレ(巨大分子)」第1
巻、第5版、バーゼル、1990)を使用して流体力学
的体積により、すなわち分子量によってではなく、分子
の大きさによって分離する。
ル・パーミエーション・クロマトグラム、すなわち少な
くとも2個の極大を有する曲線、を与える。重合体の分
子量分布は今日では一般的にGPCにより測定される。
この方法では、溶解した重合体試料を、GPCカラム
(エリアス「マクロモレキューレ(巨大分子)」第1
巻、第5版、バーゼル、1990)を使用して流体力学
的体積により、すなわち分子量によってではなく、分子
の大きさによって分離する。
【0024】GPCカラム中の支持体はゲルである。有
機溶剤の場合に使用されるゲルは通常架橋したポリ(ス
チレン)である。測定したクロマトグラムから、既知の
物質で校正することにより、分子量Mw の平均Mn に加
えて、分子量分布Mw /Mnが決定される。GPC研究
の前提条件はとりわけ、凝集物、すなわち溶剤中の試料
の分子分散溶液がないこと、およびカラム材料との相互
作用を含む吸着現象が無い分離、である。上記のGPC
分析は、ウォータースGPC150−C装置で、RIお
よびUV検出および装置のカラムに対する校正標準とし
てポリエチレンを使用して行った。
機溶剤の場合に使用されるゲルは通常架橋したポリ(ス
チレン)である。測定したクロマトグラムから、既知の
物質で校正することにより、分子量Mw の平均Mn に加
えて、分子量分布Mw /Mnが決定される。GPC研究
の前提条件はとりわけ、凝集物、すなわち溶剤中の試料
の分子分散溶液がないこと、およびカラム材料との相互
作用を含む吸着現象が無い分離、である。上記のGPC
分析は、ウォータースGPC150−C装置で、RIお
よびUV検出および装置のカラムに対する校正標準とし
てポリエチレンを使用して行った。
【0025】本発明は、一方で、分子量分布が狭いCO
Cに関し、他方、やはり狭い分子量分布を有することが
できる(ただしその必要はない)2種類以上の成分のC
OC混合物に関する。好ましくは、COCはノルボルネ
ン/エチレンまたはテトラシクロドデセン/エチレン共
重合体からなり、100℃〜220℃の範囲のガラス転
移温度に対して熱的寸法安定性を有する。
Cに関し、他方、やはり狭い分子量分布を有することが
できる(ただしその必要はない)2種類以上の成分のC
OC混合物に関する。好ましくは、COCはノルボルネ
ン/エチレンまたはテトラシクロドデセン/エチレン共
重合体からなり、100℃〜220℃の範囲のガラス転
移温度に対して熱的寸法安定性を有する。
【0026】COCは、ヨーロッパ特許出願第0485
893号および第0501370号各明細書に記載の方
法により製造される。重合体の必須特性は、次のように
まとめることができる。この材料は、(イ) 無定形
で、ガラス転移温度が100℃〜220℃であり、
(ロ) 無色で透明であり、(ハ) 密度が1.01〜
1.08g/cm3 であり、(ニ) 屈折率が1.52〜
1.54であり、(ホ) 23℃、および相対湿度85
%で吸湿性が0.04%未満であり、(ヘ) 弾性率が
3.0〜4.0 GPaであり、(ト) 降伏応力が30〜
75 MPaであり、(チ) トルエン、キシレン、シクロ
ヘキサン、エクソール(exxol)、クロロホルムおよびジ
エチルエーテルに可溶であり、(リ) 水、アルコー
ル、ケトン(アセトン)、エステル、アミド(DMF、
DMAC、NMP)に不溶であり、(ヌ) 酸、例えば
HCl、H2 SO4 および塩基、例えばNaOHまたは
KOH、の水溶液および濃縮液に対して耐薬品性があ
る。
893号および第0501370号各明細書に記載の方
法により製造される。重合体の必須特性は、次のように
まとめることができる。この材料は、(イ) 無定形
で、ガラス転移温度が100℃〜220℃であり、
(ロ) 無色で透明であり、(ハ) 密度が1.01〜
1.08g/cm3 であり、(ニ) 屈折率が1.52〜
1.54であり、(ホ) 23℃、および相対湿度85
%で吸湿性が0.04%未満であり、(ヘ) 弾性率が
3.0〜4.0 GPaであり、(ト) 降伏応力が30〜
75 MPaであり、(チ) トルエン、キシレン、シクロ
ヘキサン、エクソール(exxol)、クロロホルムおよびジ
エチルエーテルに可溶であり、(リ) 水、アルコー
ル、ケトン(アセトン)、エステル、アミド(DMF、
DMAC、NMP)に不溶であり、(ヌ) 酸、例えば
HCl、H2 SO4 および塩基、例えばNaOHまたは
KOH、の水溶液および濃縮液に対して耐薬品性があ
る。
【0027】COCの基本的種類の代表的な、本質的な
特性は、それらの固有の複屈折性が低い、すなわち分子
分極率の異方性が低い、こと、および耐加水分解性であ
る。
特性は、それらの固有の複屈折性が低い、すなわち分子
分極率の異方性が低い、こと、および耐加水分解性であ
る。
【0028】混合物は、溶融物においても溶液において
も製造できる。これらの混合物はそれぞれ特定の基材用
途に対して成分の好ましい特性の組合わせを有する。
も製造できる。これらの混合物はそれぞれ特定の基材用
途に対して成分の好ましい特性の組合わせを有する。
【0029】それぞれの用途に好ましい溶融物特性を達
成するために、本発明の複数の重合体を相互に混合する
ことができる。これらの混合物は、同じガラス転移温度
を有する、あるいは20℃以上異ならないガラス転移温
度を有する異なったCOCの混合物からなる。Mw が7
00〜30,000 g/molである少なくとも1種の低分
子量成分を、Mw ≧15,000 g/molである1種類以
上の高分子量成分と組み合わせる。分子量がより高い混
合成分の平均分子量Mw に関して、上限は無いが、実際
的な限度は約250,000 g/molである。分子量は、
すでに説明したように、ゲル・パーミェーション・クロ
マトグラフィーおよびポリエチレン標準により決定され
る。同時に、DIN 51562により測定される粘度
数も分子量の尺度である。GPC分析により、2通りの
分子量分布を有するグラフが得られる。加工条件下にお
ける低粘度ηは良好な流動性を意味し、その結果、プレ
ス作業におけるスタンパーの構造あるいは射出成形の場
合の金型中の構造の再現精度が高くなる。粘度ηは温
度、および測定の際の、測定すべき試料を挿入する前後
の回転ディスクの周波数により左右される。本発明の純
粋なシクロオレフィン共重合体に対する粘度ηは、本発
明のCOC混合物の場合と同様に、270℃、1rad/s
の周波数でη<4・103 Pa・sまたは270℃、10
rad/s の周波数でη<2・103 Pa・sの領域にある。
成するために、本発明の複数の重合体を相互に混合する
ことができる。これらの混合物は、同じガラス転移温度
を有する、あるいは20℃以上異ならないガラス転移温
度を有する異なったCOCの混合物からなる。Mw が7
00〜30,000 g/molである少なくとも1種の低分
子量成分を、Mw ≧15,000 g/molである1種類以
上の高分子量成分と組み合わせる。分子量がより高い混
合成分の平均分子量Mw に関して、上限は無いが、実際
的な限度は約250,000 g/molである。分子量は、
すでに説明したように、ゲル・パーミェーション・クロ
マトグラフィーおよびポリエチレン標準により決定され
る。同時に、DIN 51562により測定される粘度
数も分子量の尺度である。GPC分析により、2通りの
分子量分布を有するグラフが得られる。加工条件下にお
ける低粘度ηは良好な流動性を意味し、その結果、プレ
ス作業におけるスタンパーの構造あるいは射出成形の場
合の金型中の構造の再現精度が高くなる。粘度ηは温
度、および測定の際の、測定すべき試料を挿入する前後
の回転ディスクの周波数により左右される。本発明の純
粋なシクロオレフィン共重合体に対する粘度ηは、本発
明のCOC混合物の場合と同様に、270℃、1rad/s
の周波数でη<4・103 Pa・sまたは270℃、10
rad/s の周波数でη<2・103 Pa・sの領域にある。
【0030】混合成分の分子量分布Mw /Mn は、第一
の成分に関しては1.00以上で2.10未満、好まし
くは2.0未満、であるべきであり、第二の成分に関し
ては2.00以上で4.00未満、あるべきである。基
材が単一のシクロオレフィン共重合体からなる場合、分
子量分布Mw /Mn は1.10≦Mw /Mn <2.0の
範囲内である。
の成分に関しては1.00以上で2.10未満、好まし
くは2.0未満、であるべきであり、第二の成分に関し
ては2.00以上で4.00未満、あるべきである。基
材が単一のシクロオレフィン共重合体からなる場合、分
子量分布Mw /Mn は1.10≦Mw /Mn <2.0の
範囲内である。
【0031】これによって、光ディスク、コンパクトデ
ィスク、オーディオおよびビデオディスク、等の光学記
録記録材料用の基材を精密射出成形により製造するのに
特に好適な、流動性が非常に良いCOC混合物が得られ
る。
ィスク、オーディオおよびビデオディスク、等の光学記
録記録材料用の基材を精密射出成形により製造するのに
特に好適な、流動性が非常に良いCOC混合物が得られ
る。
【0032】
【実施例】下記の実施例に示すガラス転移温度(Tg)
は、DSC(微分走査熱量測定法)により加熱速度20
℃/分で測定した。このために、熱分析をパーキンエル
マーDSC7装置で行ない、第二加熱曲線を使用した。
反応生成物の分子量分布(Mw /Mn )および分子量
(Mw )は、上記の情報に基づきゲル・パーミェーショ
ン・クロマトグラフィーにより測定した。
は、DSC(微分走査熱量測定法)により加熱速度20
℃/分で測定した。このために、熱分析をパーキンエル
マーDSC7装置で行ない、第二加熱曲線を使用した。
反応生成物の分子量分布(Mw /Mn )および分子量
(Mw )は、上記の情報に基づきゲル・パーミェーショ
ン・クロマトグラフィーにより測定した。
【0033】例1 攪拌機を備えた清浄で乾燥した1.5dm3 重合反応器を
窒素、次いでエチレンで掃気し、85%濃度のノルボル
ネンのトルエン溶液575mlを入れた。
窒素、次いでエチレンで掃気し、85%濃度のノルボル
ネンのトルエン溶液575mlを入れた。
【0034】次いで反応器を温度70℃に維持し、攪拌
しながらノルボルネン溶液に3バールのエチレン過剰圧
を加えた。
しながらノルボルネン溶液に3バールのエチレン過剰圧
を加えた。
【0035】次いでトルエン性メチルアルミノキサン溶
液(MAO溶液)(凝固点降下法により測定して1,3
00 g/molの分子量を有するメチルアルミノキサン1
0.1重量%)20cm3 を計量して反応器に入れ、補充
によりエチレン圧を3バールに維持しながら、この混合
物を70℃で15分間攪拌した。これと平行して、フル
オレニルシクロペンタジエニルジフェニルカルビルジル
コニウムジクロライド10mgをトルエン性メチルアルミ
ノキサン溶液(濃度および品質は上記参照)20cm3 に
溶解させ、15分間放置して予備活性化した。次いで、
この錯体の溶液を計量して反応器に入れた。次いで、補
充によりエチレン圧を6バールに維持し、攪拌しながら
重合を70℃で行った。
液(MAO溶液)(凝固点降下法により測定して1,3
00 g/molの分子量を有するメチルアルミノキサン1
0.1重量%)20cm3 を計量して反応器に入れ、補充
によりエチレン圧を3バールに維持しながら、この混合
物を70℃で15分間攪拌した。これと平行して、フル
オレニルシクロペンタジエニルジフェニルカルビルジル
コニウムジクロライド10mgをトルエン性メチルアルミ
ノキサン溶液(濃度および品質は上記参照)20cm3 に
溶解させ、15分間放置して予備活性化した。次いで、
この錯体の溶液を計量して反応器に入れた。次いで、補
充によりエチレン圧を6バールに維持し、攪拌しながら
重合を70℃で行った。
【0036】触媒を加えた後15分間隔で、栓を経由し
て反応媒体から50mlの試料を4回採取し、これらの試
料を下記の表1でA〜Dと称した。これらの試料の
Mw 、Mw /Mn およびガラス転移温度を測定した。
て反応媒体から50mlの試料を4回採取し、これらの試
料を下記の表1でA〜Dと称した。これらの試料の
Mw 、Mw /Mn およびガラス転移温度を測定した。
【0037】これらの試料を迅速に攪拌容器中に入れ、
停止剤としてイソプロパノール100cm3 を加えて重合
反応を停止させた。この混合物をアセトン2dm3 に滴下
して加え、10分間攪拌し、次いで分散した重合体の固
体物質を濾別した。
停止剤としてイソプロパノール100cm3 を加えて重合
反応を停止させた。この混合物をアセトン2dm3 に滴下
して加え、10分間攪拌し、次いで分散した重合体の固
体物質を濾別した。
【0038】濾別した重合体を、3N塩酸2部およびエ
タノール1部の混合物2dm3 に加え、この懸濁液を2時
間攪拌した。次いで重合体を再度濾別し、中性になるま
で水洗し、80℃、0.2バールで15時間乾燥させ
た。
タノール1部の混合物2dm3 に加え、この懸濁液を2時
間攪拌した。次いで重合体を再度濾別し、中性になるま
で水洗し、80℃、0.2バールで15時間乾燥させ
た。
【0039】試料の特性は表1に示す通りである。この
表から、試料A〜試料Dは、反応時間の進行と共に分子
量Mw の発達(増加)および分子量分布の発達(広が
り)を明らかに示している。これらの値を反応時間に対
してプロットすると、それぞれの場合にその様にして得
られた曲線から、好ましい第一混合成分に対する、Mw
/Mn ≦2.0およびMw ≦30,000 g/molに対す
る規定条件を維持するために重合を停止しなければなら
ない時点を決定することができる。
表から、試料A〜試料Dは、反応時間の進行と共に分子
量Mw の発達(増加)および分子量分布の発達(広が
り)を明らかに示している。これらの値を反応時間に対
してプロットすると、それぞれの場合にその様にして得
られた曲線から、好ましい第一混合成分に対する、Mw
/Mn ≦2.0およびMw ≦30,000 g/molに対す
る規定条件を維持するために重合を停止しなければなら
ない時点を決定することができる。
【0040】2.0≦Mw /Mn ≦4.0およびMw ≧
15,000 g/molを有する第二成分は、第一成分と同
様に所望の分子量になった時点で重合を停止するか、あ
るいは制御された水素調整により、つまり触媒を加えた
直後に、栓を通して一定量の水素を反応に加えることに
より製造することができる。水素 対 エテンの比は、
2に近いMw /Mn を達成するために反応の間一定に維
持しなければならない。水素 対 エテンの比が高い
程、COCの分子量は低くなる。この場合も、所望の分
子量はキャリブレーションにより選択することができ
る。
15,000 g/molを有する第二成分は、第一成分と同
様に所望の分子量になった時点で重合を停止するか、あ
るいは制御された水素調整により、つまり触媒を加えた
直後に、栓を通して一定量の水素を反応に加えることに
より製造することができる。水素 対 エテンの比は、
2に近いMw /Mn を達成するために反応の間一定に維
持しなければならない。水素 対 エテンの比が高い
程、COCの分子量は低くなる。この場合も、所望の分
子量はキャリブレーションにより選択することができ
る。
【0041】表1 試料 触媒添加後の ガラス転移 Mw (g/mol) Mw /Mn 時間(分) 温度Tg(℃) A 15 162 2.06x104 1.7 B 30 161 3.25x104 2.2 C 45 159 3.95x104 2.2 D 60 158 4.57x104 2.5
【0042】試料A〜Dは、反応時間、すなわち触媒を
加えてから反応停止までの時間の関数として曲線Mw /
Mn およびMw を決定するため役立つだけである。試料
A〜Dは決して、個別に使用できる、あるいは混合物中
の第一混合成分として使用できる、選定されたシクロオ
レフィン共重合体ではない。表1からは、この例で選択
した重合条件で、個別に使用できる、あるいは混合物中
の第一混合成分として使用できる、好適なCOCを得る
ためには、約15分までの反応時間を固守する必要があ
ることを推定できる。試料B〜Dにより規定される範囲
内で製造されるCOCは、それぞれの場合に混合物中の
第二混合成分として好適である。
加えてから反応停止までの時間の関数として曲線Mw /
Mn およびMw を決定するため役立つだけである。試料
A〜Dは決して、個別に使用できる、あるいは混合物中
の第一混合成分として使用できる、選定されたシクロオ
レフィン共重合体ではない。表1からは、この例で選択
した重合条件で、個別に使用できる、あるいは混合物中
の第一混合成分として使用できる、好適なCOCを得る
ためには、約15分までの反応時間を固守する必要があ
ることを推定できる。試料B〜Dにより規定される範囲
内で製造されるCOCは、それぞれの場合に混合物中の
第二混合成分として好適である。
【0043】例2 使用した手順は例1と同様であるが、下記の工程パラメ
ータを変えた。 反応温度: 20℃ 触媒の量: 240mg 試料採取: 10分間隔
ータを変えた。 反応温度: 20℃ 触媒の量: 240mg 試料採取: 10分間隔
【0044】試料の特性は表2に示す通りである。Mw
/Mn およびMw 曲線に関しては、例1の試料A〜Dと
同様のことが言える。好適なCOCを得るためには、反
応を14分以内に停止すべきである。試料F〜Hの範囲
内で製造されるCOCは、それぞれの場合に混合物中の
第二混合成分として好適である。
/Mn およびMw 曲線に関しては、例1の試料A〜Dと
同様のことが言える。好適なCOCを得るためには、反
応を14分以内に停止すべきである。試料F〜Hの範囲
内で製造されるCOCは、それぞれの場合に混合物中の
第二混合成分として好適である。
【0045】 表2 試料 触媒添加後の ガラス転移 Mw (g/mol) Mw /Mn 時間(分) 温度Tg(℃) F 10 140 1.67x104 1.1 F 20 143 2.83x104 1.1 G 30 143 3.99x104 1.1 H 40 144 4.88x104 1.1
【0046】例3 例1と同様にして重合体54gを製造したが、例1と異
なり、下記の重合条件を選択した。
なり、下記の重合条件を選択した。
【0047】− 使用したノルボルネン溶液の濃度:2
7% − エチレン圧:3バール − 触媒:フルオレニルシクロペンタジエニルジフェニ
ルカルビルジルコニウムジクロライド − 触媒の量:10mg − メチルアルミノキサン溶液の量:20ml − 反応時間:30分間
7% − エチレン圧:3バール − 触媒:フルオレニルシクロペンタジエニルジフェニ
ルカルビルジルコニウムジクロライド − 触媒の量:10mg − メチルアルミノキサン溶液の量:20ml − 反応時間:30分間
【0048】得られた重合体はガラス転移温度141
℃、Mw =1.63×105 、および分子量分布Mw /
Mn =2.0、であった。
℃、Mw =1.63×105 、および分子量分布Mw /
Mn =2.0、であった。
【0049】例4 重合は例1と同様に行った。使用した触媒溶液は、rac-
ジメチルシリルビス(1−インデニル)ジルコニウムジ
クロライド500mgを含むMAO溶液40cm3であっ
た。重合は、6℃、4バールエチレン過剰圧で30分間
行った。生成物3.8gが得られた。ガラス転移温度は
122℃であった。GPC(例1および2と同様)によ
り、分子量Mw が2.540 g/molで、分子量分布Mw
/Mn が1.15であることが分かった。
ジメチルシリルビス(1−インデニル)ジルコニウムジ
クロライド500mgを含むMAO溶液40cm3であっ
た。重合は、6℃、4バールエチレン過剰圧で30分間
行った。生成物3.8gが得られた。ガラス転移温度は
122℃であった。GPC(例1および2と同様)によ
り、分子量Mw が2.540 g/molで、分子量分布Mw
/Mn が1.15であることが分かった。
【0050】例5 重合を例4と同様に、20℃、6バールエチレン過剰圧
で10分間行った。生成物10.4gが分離された。ガ
ラス転移温度は142℃であった。分子量Mwは7.2
40 g/molで、分子量分布Mw /Mn は1.10であっ
た。
で10分間行った。生成物10.4gが分離された。ガ
ラス転移温度は142℃であった。分子量Mwは7.2
40 g/molで、分子量分布Mw /Mn は1.10であっ
た。
【0051】例6 例3の重合体2.4g(混合物の第二混合成分)および
例4の重合体0.6g(混合物の第一混合成分)をトル
エン147gに溶解させ、徐々にアセトン中に滴下して
加えることにより沈殿させた。次いで、沈殿した材料を
乾燥炉中、80℃で1日乾燥させた。この様にして得ら
れた重合体混合物は、DSC測定で、加熱速度20℃/
分で、ガラス転移温度が138℃であった。
例4の重合体0.6g(混合物の第一混合成分)をトル
エン147gに溶解させ、徐々にアセトン中に滴下して
加えることにより沈殿させた。次いで、沈殿した材料を
乾燥炉中、80℃で1日乾燥させた。この様にして得ら
れた重合体混合物は、DSC測定で、加熱速度20℃/
分で、ガラス転移温度が138℃であった。
【0052】例7 例3の重合体48g(混合物の第二混合成分)および例
5の重合体12g(混合物の第一混合成分)を混合し、
ハーケ社製“レオミックス600 測定ニーダー”中、22
5℃手60回転/分の回転速度で15分間混練した。こ
の方法で得られた混合物は、透明であり、DSC測定
で、加熱速度20℃/分で、ガラス転移温度が141℃
であった。
5の重合体12g(混合物の第一混合成分)を混合し、
ハーケ社製“レオミックス600 測定ニーダー”中、22
5℃手60回転/分の回転速度で15分間混練した。こ
の方法で得られた混合物は、透明であり、DSC測定
で、加熱速度20℃/分で、ガラス転移温度が141℃
であった。
【0053】例8 例3、6および7の材料から、225℃で15分間プレ
スすることにより、直径25mmの円形にプレスしたディ
スクを製造した。プレスした板はすべて無色で透明であ
った。これらの材料の加工性を評価および比較するため
に、この様にして得た、プレスしたディスクを使用して
粘度ηを測定した。この目的に使用した装置は“レオメ
トリックス・ダイナミック・スペクトロメーターRDS 2"
であった。測定は「ディスク−ディスク」配置で、27
0℃で2つの周波数で行った。測定結果は表3に示す通
りである。
スすることにより、直径25mmの円形にプレスしたディ
スクを製造した。プレスした板はすべて無色で透明であ
った。これらの材料の加工性を評価および比較するため
に、この様にして得た、プレスしたディスクを使用して
粘度ηを測定した。この目的に使用した装置は“レオメ
トリックス・ダイナミック・スペクトロメーターRDS 2"
であった。測定は「ディスク−ディスク」配置で、27
0℃で2つの周波数で行った。測定結果は表3に示す通
りである。
【0054】表3 試料の実施例 周波数1(1 rad/s) 周波数2(10 rad/s) 番号 (Pa ・s) (Pa ・s) 3 6.41x103 2.63x103 6 2.47x103 1.09x103 7 2.67x103 1.15x103
Claims (18)
- 【請求項1】少なくとも1種のシクロオレフィン共重合
体からなる記録媒体用基材であって、シクロオレフィン
共重合体の分子量分布Mw /Mn が<2.0で、分子量
が30,000 g/mol以下であり、ガラス転移温度が1
00〜220℃であることを特徴とする基材。 - 【請求項2】シクロオレフィン共重合体の密度が、1.
01〜1.08g/cm3 であり、屈折率が1.52〜1.
54である、請求項1に記載の基材。 - 【請求項3】シクロオレフィン共重合体の弾性率が、
3.0〜4.0 GPaであり、降伏応力が30〜75 MPa
である、請求項2に記載の基材。 - 【請求項4】シクロオレフィン共重合体が、ノルボルネ
ン/エチレン共重合体からなる、請求項1に記載の基
材。 - 【請求項5】シクロオレフィン共重合体が、テトラシク
ロドデセン/エチレン共重合体からなる、請求項1に記
載の基材。 - 【請求項6】異なった分子量を有し、ガラス転移温度が
等しいか、あるいは相互の差が20℃以下である、2種
以上のシクロオレフィン共重合体の混合物である、請求
項1に記載の基材。 - 【請求項7】第一混合成分として、分子量が30,00
0 g/mol未満である低分子量シクロオレフィン共重合体
を、第二またはそれ以上の混合成分として、分子量が1
5,000 g/mol以上である、より高分子量のシクロオ
レフィン共重合体に組み合わせてある、請求項6に記載
の基材。 - 【請求項8】第一混合成分の分子量分布Mw /Mn が、
1.00〜2.00未満の範囲内にあり、第二またはそ
れ以上の混合成分の分子量分布Mw /Mn が2.00以
上〜4.00以下の範囲内にある、請求項7に記載の基
材。 - 【請求項9】基材材料の粘度ηが、温度270℃で、周
波数1 rad/sに対して4x103 Pa・s未満である、請
求項6に記載の基材。 - 【請求項10】基材材料の粘度ηが、温度270℃で、
周波数10 rad/sに対して2x103Pa・s未満であ
る、請求項6に記載の基材。 - 【請求項11】モノマーの総量に対して0.1〜100
重量%の、式I、II、III 、IV、VまたはVIの少なくと
も1種のモノマー、 【化1】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 お
よびR8 は同一であるか、または異なるものであって、
水素原子またはC1 〜C8 アルキル基であり、異なった
式中の同一の基が異なった意味を有することができ
る。)モノマーの総量に対して0〜99.9重量%の、
式VII (式中、nは2〜10の整数である。)のシクロオレフ
ィン、および、モノマーの総量に対して0〜99.9重
量%の、式VIII (式中、R9 、R10、R11およびR12は同一であるか、
または異なるものであって、水素原子またはC1 〜C8
アルキル基である。)の少なくとも1種の非環式1−オ
レフィンを、−78℃〜150℃の温度および0.01
〜64バールの圧力で、触媒およびメタロセンの存在下
で、開環せずに重合させることにより製造された少なく
とも1種のシクロオレフィン共重合体からなる、記録媒
体用基材の製造法であって、式VII のシクロオレフィン
または式VIIIの非環式1−オレフィンを、ノルボルネン
溶液中で、触媒溶液、触媒懸濁液または担持触媒の形の
メタロセンを加えて重合させること、重合反応を重合開
始から10〜60分後に停止させること、停止した重合
媒体をケトン、アルコール、エステル、アミドまたは水
からなる液体中に沈殿または分散させ、次いで濾別する
こと、濾別したCOC重合体を乾燥させること、および
乾燥したCOC重合体を210℃を超える温度で熱可塑
的に加工してディスクを形成すること、を特徴とする方
法。 - 【請求項12】分子量分布Mw /Mn が、<2.0、特
にMw /Mn ≦1.7またはMw /Mn ≦1.4、およ
びMw が30,000未満である時点で重合を停止させ
る、請求項11に記載の方法。 - 【請求項13】COC重合体の分子量が、水素の添加に
より<30,000 g/molに設定され、その間重合を制
限しない、請求項11に記載の方法。 - 【請求項14】分子量分布Mw /Mn が、<2.0であ
るCOC重合体および分子量分布Mw/Mn が≧2.0
0で、4.00以下である少なくとも1種のCOC重合
体を溶液または溶融物中で処理して重合体混合物を形成
する、請求項11または12に記載の方法。 - 【請求項15】COC重合体またはCOC混合物をプレ
ス、射出成形または押出ししてディスクを形成する、請
求項11、13または14に記載の方法。 - 【請求項16】2種以上のCOC重合体をトルエン中に
室温で溶解させ、ケトン中に沈殿させ、次いで乾燥させ
ること、およびこの様にして得られた透明な重合体混合
物を熱可塑的に加工してディスクを形成する、請求項1
4に記載の方法。 - 【請求項17】2種以上のCOC重合体をデカヒドロナ
フタレン中に130〜140℃の温度で溶解させる、請
求項14に記載の方法。 - 【請求項18】2種以上のCOC重合体を混合し、22
0〜230℃の温度で混練して透明な重合体混合物を形
成する、請求項14に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4233851.4 | 1992-10-08 | ||
DE4233851A DE4233851A1 (de) | 1992-10-08 | 1992-10-08 | Substrat aus zumindest einem Cycloolefin-Copolymer für Aufzeichnungsmedien und Verfahren zu seiner Herstellung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06211937A true JPH06211937A (ja) | 1994-08-02 |
Family
ID=6469933
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5251494A Pending JPH06211937A (ja) | 1992-10-08 | 1993-10-07 | 少なくとも1種のシクロオレフィン共重合体からなる記録媒体用基材、およびその製造法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5439722A (ja) |
EP (1) | EP0591892A1 (ja) |
JP (1) | JPH06211937A (ja) |
CA (1) | CA2107724C (ja) |
DE (1) | DE4233851A1 (ja) |
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---|---|---|---|---|
WO1998014499A1 (fr) * | 1996-09-30 | 1998-04-09 | Nippon Zeon Co., Ltd. | Polymere de norbornene et son procede de preparation |
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FI105196B (fi) * | 1995-05-08 | 2000-06-30 | Optatech Oy | Amorfiset olefiini-ko/terpolymeerit |
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JP2001031744A (ja) * | 1999-07-21 | 2001-02-06 | Jsr Corp | 光学用成形材料および光ディスク |
JP2002037866A (ja) * | 2000-07-25 | 2002-02-06 | Fuji Electric Co Ltd | 熱可塑性ノルボルネン系樹脂の乾燥方法、この樹脂を使用した磁気記録媒体用基板およびこの基板を用いた磁気記録媒体、並びにこの磁気記録媒体の製造方法 |
US6951898B2 (en) * | 2001-12-10 | 2005-10-04 | Ticona Llc | Cycloolefin copolymer resins having improved optical properties |
AU2003292761A1 (en) * | 2003-04-04 | 2004-11-01 | Soken Chemical And Engineering Co., Ltd. | Modified cycloolefin copolymer, process for producing the same, and use of the polymer |
JP2004355733A (ja) * | 2003-05-29 | 2004-12-16 | Tdk Corp | 光記録媒体 |
US20100019410A1 (en) * | 2005-12-09 | 2010-01-28 | Scivax Corporation | Resin for Thermal Imprinting |
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US5003019A (en) * | 1987-03-02 | 1991-03-26 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Cyclo-olefinic random copolymer, olefinic random copolymer, and process for producing cyclo-olefinic random copolymers |
WO1988008192A1 (en) * | 1987-04-17 | 1988-10-20 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Photomagnetic recording membrane |
DE68923842T2 (de) * | 1988-10-06 | 1996-04-25 | Showa Denko Kk | Copolymer von Ethylen und ein polycyclisches Monomer, Verfahren zu deren Herstellung und optischer Artikel. |
US5059462A (en) * | 1988-11-24 | 1991-10-22 | Mitsui Petrochemical Industries, Ltd. | Information recording medium |
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CA2011384C (en) * | 1989-03-09 | 1994-05-03 | Shigenori Yanagi | Track access control apparatus for optical disk apparatus |
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ATE173746T1 (de) * | 1991-02-27 | 1998-12-15 | Ticona Gmbh | Verfahren zur herstellung von cycloolefin(co)polymeren mit enger molekulargewichtsverteilung |
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1992
- 1992-10-08 DE DE4233851A patent/DE4233851A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-10-04 EP EP93115992A patent/EP0591892A1/de not_active Withdrawn
- 1993-10-05 CA CA002107724A patent/CA2107724C/en not_active Expired - Fee Related
- 1993-10-07 JP JP5251494A patent/JPH06211937A/ja active Pending
- 1993-10-08 US US08/131,945 patent/US5439722A/en not_active Expired - Fee Related
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CA2107724C (en) | 2004-12-07 |
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