JPH06205907A - 洗浄方法及びその装置 - Google Patents
洗浄方法及びその装置Info
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- JPH06205907A JPH06205907A JP5184807A JP18480793A JPH06205907A JP H06205907 A JPH06205907 A JP H06205907A JP 5184807 A JP5184807 A JP 5184807A JP 18480793 A JP18480793 A JP 18480793A JP H06205907 A JPH06205907 A JP H06205907A
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Links
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Classifications
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D29/00—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor
- B01D29/11—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with bag, cage, hose, tube, sleeve or like filtering elements
- B01D29/114—Filters with filtering elements stationary during filtration, e.g. pressure or suction filters, not covered by groups B01D24/00 - B01D27/00; Filtering elements therefor with bag, cage, hose, tube, sleeve or like filtering elements arranged for inward flow filtration
-
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-
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-
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- B01D2201/0446—Filter tubes connected to plates suspended from plates at the upper side of the filter elements
-
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D37/00—Processes of filtration
- B01D37/02—Precoating the filter medium; Addition of filter aids to the liquid being filtered
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Filtering Of Dispersed Particles In Gases (AREA)
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Filtration Of Liquid (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 懸垂状態に取り付けられたフィルタ要素を有
する沈殿フィルタの新規な洗浄方法、およびその洗浄に
適した沈澱フィルタを提供。 【構成】 フィルタを洗浄するために、第1に、フラッ
シング媒体で充満されたプレナム3では、フィルタ室2
の上端領域に設けた通気配管6を開放し、エンプティ配
管7を通じてフィルタ室から完全又は一部液体を排出
し、次に、プレナムに設けた圧力発生配管8を通じて推
進ガス又はフラッシング媒体を加圧下でプレナムに送
り、プレナムに圧力変化を発生させ、それによりフィル
タ要素を通じてフラッシング媒体を移送し、最後に不純
物を液体と共に排出する。圧力変化が生じる前に、効果
を増すためにフィルタ室に低圧を発生させてもよい。所
望により、フィルタ要素4には上部ガス不浸透領域5を
設けてもよい。
する沈殿フィルタの新規な洗浄方法、およびその洗浄に
適した沈澱フィルタを提供。 【構成】 フィルタを洗浄するために、第1に、フラッ
シング媒体で充満されたプレナム3では、フィルタ室2
の上端領域に設けた通気配管6を開放し、エンプティ配
管7を通じてフィルタ室から完全又は一部液体を排出
し、次に、プレナムに設けた圧力発生配管8を通じて推
進ガス又はフラッシング媒体を加圧下でプレナムに送
り、プレナムに圧力変化を発生させ、それによりフィル
タ要素を通じてフラッシング媒体を移送し、最後に不純
物を液体と共に排出する。圧力変化が生じる前に、効果
を増すためにフィルタ室に低圧を発生させてもよい。所
望により、フィルタ要素4には上部ガス不浸透領域5を
設けてもよい。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、懸垂状態に取り付けら
れたフィルタ要素を有する沈殿フィルタの新規な洗浄方
法、およびその洗浄に適した沈殿フィルタに関する。
れたフィルタ要素を有する沈殿フィルタの新規な洗浄方
法、およびその洗浄に適した沈殿フィルタに関する。
【0002】
【従来の技術】沈殿フィルタは、例えば、蒸気発生プラ
ントの復水をきれいにするために、主として比較的大き
な流体流の処理に利用されている。
ントの復水をきれいにするために、主として比較的大き
な流体流の処理に利用されている。
【0003】沈殿フィルタの処理サイクルが終了する
と、その都度、沈殿捕集物と、その処理サイクル中に生
じたフィルタの濾塊を、できるだけ完全にかつ均一に除
去することが大切である。これにより、一回の処理サイ
クルに対するフィルタ能力が高く維持できるとともに、
その後の沈殿中に、洗浄されたフィルタ基質に新たな沈
殿捕集物が付着し得る。
と、その都度、沈殿捕集物と、その処理サイクル中に生
じたフィルタの濾塊を、できるだけ完全にかつ均一に除
去することが大切である。これにより、一回の処理サイ
クルに対するフィルタ能力が高く維持できるとともに、
その後の沈殿中に、洗浄されたフィルタ基質に新たな沈
殿捕集物が付着し得る。
【0004】ほとんどの沈殿フィルタは、一般に約0.
5〜3mの直径および高さを有する縦型円筒状の圧力容
器と、その中に垂直方向に設けたフィルタ要素で構成さ
れている。後者は沈殿のための基質を形成する。すなわ
ち、それらはフィルタ手段を形成し、その上に濾塊や捕
集物が堆積する。多くの場合、約20〜60cmの直
径、約0.5〜2mの長さを有する円筒状のフィルタ要
素が使用される。それらは、十分な引張強度と圧縮強度
を有するとともに、液体に対して十分な浸透性を有す
る。また、例えば、それらは、多孔性金属、多孔性セラ
ミック材料、繊維材料で形成されることもあるし、プラ
スチック繊維またはテキスタイル繊維からなる巻回要素
として設計されることもある。
5〜3mの直径および高さを有する縦型円筒状の圧力容
器と、その中に垂直方向に設けたフィルタ要素で構成さ
れている。後者は沈殿のための基質を形成する。すなわ
ち、それらはフィルタ手段を形成し、その上に濾塊や捕
集物が堆積する。多くの場合、約20〜60cmの直
径、約0.5〜2mの長さを有する円筒状のフィルタ要
素が使用される。それらは、十分な引張強度と圧縮強度
を有するとともに、液体に対して十分な浸透性を有す
る。また、例えば、それらは、多孔性金属、多孔性セラ
ミック材料、繊維材料で形成されることもあるし、プラ
スチック繊維またはテキスタイル繊維からなる巻回要素
として設計されることもある。
【0005】上記フィルタ容器は、フィルタ要素が取り
付けられる水平フィルタ板により、汚染室(フィルタ
室)とクリーン室(プレナム)にそれぞれ分割されてい
る。本発明の範囲では、上記“フィルタ板”という表現
は、フィルタ要素を固定するためのオリフィスを有する
板を意味し、それは、上記オリフィスを除いて、プレナ
ムに対してフィルタ室を密封状態で閉鎖している。ここ
で、採用し得る2つの基本的配置、すなわち懸垂状態で
取り付けられたフィルタ要素を有する沈殿フィルタと、
上向き状態で取り付けられたフィルタ要素を有する沈殿
フィルタは、明確に区別されなければならない。
付けられる水平フィルタ板により、汚染室(フィルタ
室)とクリーン室(プレナム)にそれぞれ分割されてい
る。本発明の範囲では、上記“フィルタ板”という表現
は、フィルタ要素を固定するためのオリフィスを有する
板を意味し、それは、上記オリフィスを除いて、プレナ
ムに対してフィルタ室を密封状態で閉鎖している。ここ
で、採用し得る2つの基本的配置、すなわち懸垂状態で
取り付けられたフィルタ要素を有する沈殿フィルタと、
上向き状態で取り付けられたフィルタ要素を有する沈殿
フィルタは、明確に区別されなければならない。
【0006】懸垂状態で取り付けられたフィルタ要素の
場合、上記フィルタ板はフィルタ容器の上部に取り付け
られ、汚染室が底部、クリーン室が上部にある。濾過す
るために、濾過される流体は底部の汚い空間に流入し、
濾過された液はクリーン室に設けた流出管を介してフィ
ルタ容器の上部から出て行く。
場合、上記フィルタ板はフィルタ容器の上部に取り付け
られ、汚染室が底部、クリーン室が上部にある。濾過す
るために、濾過される流体は底部の汚い空間に流入し、
濾過された液はクリーン室に設けた流出管を介してフィ
ルタ容器の上部から出て行く。
【0007】これに対して、上向きに設けた沈殿フィル
タやフィルタ要素では、フィルタ板がフィルタ容器の底
部に取り付けられ、汚染室が上部、クリーン室が底部に
ある。濾過するために、濾過される流体は上部の汚染室
に運ばれ、濾過された液はクリーン室に設けた配管を介
して底部から抽出される。
タやフィルタ要素では、フィルタ板がフィルタ容器の底
部に取り付けられ、汚染室が上部、クリーン室が底部に
ある。濾過するために、濾過される流体は上部の汚染室
に運ばれ、濾過された液はクリーン室に設けた配管を介
して底部から抽出される。
【0008】フィルタ要素への接近方法、およびそれら
の据え付けや取り外しの違いは別として、上記2つの配
置は、それらの沈殿容量や逆流能力の点で実質的に違っ
ている。懸垂状態に取り付けられたフィルタ要素を有す
る沈殿フィルタは、均一な沈殿が可能で、上向き状態に
取り付けられたフィルタ要素を有するものでは逆流によ
って効果的に洗浄できる。
の据え付けや取り外しの違いは別として、上記2つの配
置は、それらの沈殿容量や逆流能力の点で実質的に違っ
ている。懸垂状態に取り付けられたフィルタ要素を有す
る沈殿フィルタは、均一な沈殿が可能で、上向き状態に
取り付けられたフィルタ要素を有するものでは逆流によ
って効果的に洗浄できる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】懸垂状態のフィルタ要
素を有する沈殿フィルタを洗浄する従来の方法では、ク
リーン室にあるフラッシング媒体、または供給管を介し
てクリーン室へ導入されたフラッシング媒体は、フィル
タ要素の背後を通り、濾過方向と逆方向に送られ、不純
物および汚染室にある液体とともに、フィルタ容器の下
端に設けたエンプティ配管によって排出される。上記フ
ラッシング媒体は一般に濾過液自身、または濾過状混合
物を有する液体である。洗浄効率を上げるために、フラ
ッシング媒体の流れを圧縮空気によって加速したり、エ
ンプティ配管の弁装置を急激に開いたりする。しかしな
がら、この洗浄方法による結果は、依然上向きフィルタ
要素の洗浄効果に劣るものであった。
素を有する沈殿フィルタを洗浄する従来の方法では、ク
リーン室にあるフラッシング媒体、または供給管を介し
てクリーン室へ導入されたフラッシング媒体は、フィル
タ要素の背後を通り、濾過方向と逆方向に送られ、不純
物および汚染室にある液体とともに、フィルタ容器の下
端に設けたエンプティ配管によって排出される。上記フ
ラッシング媒体は一般に濾過液自身、または濾過状混合
物を有する液体である。洗浄効率を上げるために、フラ
ッシング媒体の流れを圧縮空気によって加速したり、エ
ンプティ配管の弁装置を急激に開いたりする。しかしな
がら、この洗浄方法による結果は、依然上向きフィルタ
要素の洗浄効果に劣るものであった。
【0010】上向き状態に取り付けられたフィルタ要素
はさらにきれいに洗浄可能である。なぜならば、この配
置の場合、洗浄のための流体力学的必須条件が基本的に
より都合のよいものだからである。特に、フィルタ要素
を介してフラッシング媒体を送るために、殆どすべての
利用可能なエネルギを利用可能である。
はさらにきれいに洗浄可能である。なぜならば、この配
置の場合、洗浄のための流体力学的必須条件が基本的に
より都合のよいものだからである。特に、フィルタ要素
を介してフラッシング媒体を送るために、殆どすべての
利用可能なエネルギを利用可能である。
【0011】これに対して、懸垂状態に取り付けられた
フィルタ要素を有する沈殿フィルタに対する従来の洗浄
方法では、汚染室にある大量の流体を加速するためには
多くのエネルギが必要なうえ、エンプティ弁装置におけ
る流水抵抗によりエネルギ損失が生じる。その結果、フ
ラッシング媒体を加速するためにエネルギのごく一部し
か利用できず、とりわけフラッシング媒体の速度や量に
依存する洗浄効果は結果的に極めて低いものである。
フィルタ要素を有する沈殿フィルタに対する従来の洗浄
方法では、汚染室にある大量の流体を加速するためには
多くのエネルギが必要なうえ、エンプティ弁装置におけ
る流水抵抗によりエネルギ損失が生じる。その結果、フ
ラッシング媒体を加速するためにエネルギのごく一部し
か利用できず、とりわけフラッシング媒体の速度や量に
依存する洗浄効果は結果的に極めて低いものである。
【0012】US−A−5,017,241では、懸垂
状態に取り付けられたフィルタ要素を有する沈殿フィル
タを洗浄する方法が提案されており、それによれば上記
損失は一部回避可能である。この提案によれば、上記フ
ィルタ要素は、プレナム(クリーン室)に位置する上端
部で、クリーン室に存在する流体を同時にそこから全く
流すことなく、下部のフィルタ室(汚染室)より流体を
排出できるようにしてある。
状態に取り付けられたフィルタ要素を有する沈殿フィル
タを洗浄する方法が提案されており、それによれば上記
損失は一部回避可能である。この提案によれば、上記フ
ィルタ要素は、プレナム(クリーン室)に位置する上端
部で、クリーン室に存在する流体を同時にそこから全く
流すことなく、下部のフィルタ室(汚染室)より流体を
排出できるようにしてある。
【0013】この方法によれば、洗浄は次のようにして
行われる。すなわち、第1に、プレナムの上部に向けた
通気管とフィルタ容器の底部に設けたエンプティ配管を
開放することによりフィルタ室から液体が排出され、
“ウォーターロック”の設計により定義される特定量の
フラッシング媒体がプレナムに導入される。次に、フィ
ルタ室に導入され、フィルタ要素を通りプレナムに流入
する圧縮空気により、フィルタ室およびプレナムに過圧
力が発生する。上記圧縮空気の供給管を閉鎖し、エンプ
ティ配管とフィルタ室の上部に設けた空気排出管を素早
く開放することにより、プレナムとフィルタ室との間に
同一圧力差が発生し、その圧力によってフィルタ要素を
介してプレナムに導入されるフラッシング媒体が送られ
る。この効果は、プレナムに設けた圧縮空気供給管を開
放することによっても得られる。
行われる。すなわち、第1に、プレナムの上部に向けた
通気管とフィルタ容器の底部に設けたエンプティ配管を
開放することによりフィルタ室から液体が排出され、
“ウォーターロック”の設計により定義される特定量の
フラッシング媒体がプレナムに導入される。次に、フィ
ルタ室に導入され、フィルタ要素を通りプレナムに流入
する圧縮空気により、フィルタ室およびプレナムに過圧
力が発生する。上記圧縮空気の供給管を閉鎖し、エンプ
ティ配管とフィルタ室の上部に設けた空気排出管を素早
く開放することにより、プレナムとフィルタ室との間に
同一圧力差が発生し、その圧力によってフィルタ要素を
介してプレナムに導入されるフラッシング媒体が送られ
る。この効果は、プレナムに設けた圧縮空気供給管を開
放することによっても得られる。
【0014】この方法は懸垂状態に取り付けられたフィ
ルタ要素の洗浄にいくつかの改良をもたらす。何故なら
ば、プレナムに導入される流体量だけを加速すればよ
く、また高速で結果的に優れた洗浄効果が達成できるか
らである。それでもやはり、その装置、特に、フィルタ
室に送出管や空気流出管の他に“ウォーターロック”を
有する特殊なフィルタ要素の使用に変更を加える必要が
あり、フィルタ容器全体は加圧力に耐え得るように設計
しなければならない。このようにしても、その方法で
は、エネルギのほんの一部しかフラッシング媒体を加速
するのに利用できない。何故なら、過圧力はまず容器全
体で発生しなければならないが、プレナムで生じる加圧
力だけしかフラッシング媒体の加速に役立たない。最後
に、ここでまた、フィルタ要素中の流水抵抗により発生
する、プレナムとフィルタ室との間の圧力差だけしか、
フラッシング媒体を加速するのに利用できない。しかし
ながら、圧縮空気がフィルタ室およびフィルタ要素から
抜けるために必要な時間を考慮すると、フィルタ室にお
ける圧力はゆっくりとしか低下できず、導入されたフラ
ッシング媒体が同時に流出し始める。他方、フィルタ要
素における流水抵抗は、濾過のためには、比較的低いも
のでなければならないので、一般には、比較的極めて小
さな圧力差(例えば最大0.1バール)を、僅か数秒間
だけしか発生させることができない。また、フラッシン
グ媒体を加速する所望の移送力を得る前に、導入された
フラッシング媒体は完全に又はほとんど排出される。
ルタ要素の洗浄にいくつかの改良をもたらす。何故なら
ば、プレナムに導入される流体量だけを加速すればよ
く、また高速で結果的に優れた洗浄効果が達成できるか
らである。それでもやはり、その装置、特に、フィルタ
室に送出管や空気流出管の他に“ウォーターロック”を
有する特殊なフィルタ要素の使用に変更を加える必要が
あり、フィルタ容器全体は加圧力に耐え得るように設計
しなければならない。このようにしても、その方法で
は、エネルギのほんの一部しかフラッシング媒体を加速
するのに利用できない。何故なら、過圧力はまず容器全
体で発生しなければならないが、プレナムで生じる加圧
力だけしかフラッシング媒体の加速に役立たない。最後
に、ここでまた、フィルタ要素中の流水抵抗により発生
する、プレナムとフィルタ室との間の圧力差だけしか、
フラッシング媒体を加速するのに利用できない。しかし
ながら、圧縮空気がフィルタ室およびフィルタ要素から
抜けるために必要な時間を考慮すると、フィルタ室にお
ける圧力はゆっくりとしか低下できず、導入されたフラ
ッシング媒体が同時に流出し始める。他方、フィルタ要
素における流水抵抗は、濾過のためには、比較的低いも
のでなければならないので、一般には、比較的極めて小
さな圧力差(例えば最大0.1バール)を、僅か数秒間
だけしか発生させることができない。また、フラッシン
グ媒体を加速する所望の移送力を得る前に、導入された
フラッシング媒体は完全に又はほとんど排出される。
【0015】本発明の基本的目的は、出来るだけ既存の
装置を変更することなく実施でき、しかも上述の方法よ
りも一層効果的に洗浄し得る簡単な洗浄方法を提供する
ことである。
装置を変更することなく実施でき、しかも上述の方法よ
りも一層効果的に洗浄し得る簡単な洗浄方法を提供する
ことである。
【0016】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に、請求項1から12に係る洗浄方法を提案するもの
で、それにより懸垂状態に取り付けられたフィルタ要素
を有する沈殿フィルタを簡易かつ効率的に洗浄し得るも
のである。
に、請求項1から12に係る洗浄方法を提案するもの
で、それにより懸垂状態に取り付けられたフィルタ要素
を有する沈殿フィルタを簡易かつ効率的に洗浄し得るも
のである。
【0017】フラッシング媒体の最大速度をほんの短時
間だけ維持する必要があることは、本発明にかかる方法
では重要なことではない。特定の値を越えてフラッシン
グ時間を延長しても僅かしか洗浄効果は増大せず、不必
要にフラッシング媒体の消費が多くなるだけである。ま
た、本発明に係る方法は、洗浄方法を簡略化するため
に、処理サイクルの終わりに、フィルタ要素の低浸透性
を利用することに基本としている。
間だけ維持する必要があることは、本発明にかかる方法
では重要なことではない。特定の値を越えてフラッシン
グ時間を延長しても僅かしか洗浄効果は増大せず、不必
要にフラッシング媒体の消費が多くなるだけである。ま
た、本発明に係る方法は、洗浄方法を簡略化するため
に、処理サイクルの終わりに、フィルタ要素の低浸透性
を利用することに基本としている。
【0018】本発明に係る洗浄方法の開始時、プレナム
内で利用可能な空間は完全に又はほぼ完全に(例えば、
少なくとも90%)フラッシング媒体で充満している。
これは、例えば、濾過液流出管、濾過される液体の供給
管、または別の管を通じて供給される。プレナムに空気
排出用の接続部を設けてもよく、これを通じてプレナム
に存在する空気を排出することができる。洗浄のために
濾過液を使用する場合、処理サイクルの最後にプレナム
に存在する濾過液は、フラッシング媒体として直接役立
てることができる。
内で利用可能な空間は完全に又はほぼ完全に(例えば、
少なくとも90%)フラッシング媒体で充満している。
これは、例えば、濾過液流出管、濾過される液体の供給
管、または別の管を通じて供給される。プレナムに空気
排出用の接続部を設けてもよく、これを通じてプレナム
に存在する空気を排出することができる。洗浄のために
濾過液を使用する場合、処理サイクルの最後にプレナム
に存在する濾過液は、フラッシング媒体として直接役立
てることができる。
【0019】洗浄に必要なフラッシング媒体の量は沈殿
フィルタと汚れにより変化し、例えば、フィルタ表面の
平方メートル(m2)あたり、約5〜20リットルとす
ることができる。所望により、プレナムの容積よりも少
ない特定容積のフラッシング媒体を導入する場合、プレ
ナムに移動体を収容してもよい。
フィルタと汚れにより変化し、例えば、フィルタ表面の
平方メートル(m2)あたり、約5〜20リットルとす
ることができる。所望により、プレナムの容積よりも少
ない特定容積のフラッシング媒体を導入する場合、プレ
ナムに移動体を収容してもよい。
【0020】本発明に係る方法の第1工程では、US−
A−5,017,241で記載されている方法のよう
に、フィルタ室に存在する液体が、エンプティ配管と通
気管を開放して、完全にまたは一部が排出される。しか
しながら、上述した公知の方法では、プレナムに空気を
通し、プレナムに導入された液体が、フィルタ要素のウ
ォーターロックにより生じる残留量を除いて、フィルタ
要素を通じて流出する。これに対して、本発明に係る方
法では、プレナムの通気とフラッシング媒体の流出は回
避されるか、出来るだけ低く保たれる。
A−5,017,241で記載されている方法のよう
に、フィルタ室に存在する液体が、エンプティ配管と通
気管を開放して、完全にまたは一部が排出される。しか
しながら、上述した公知の方法では、プレナムに空気を
通し、プレナムに導入された液体が、フィルタ要素のウ
ォーターロックにより生じる残留量を除いて、フィルタ
要素を通じて流出する。これに対して、本発明に係る方
法では、プレナムの通気とフラッシング媒体の流出は回
避されるか、出来るだけ低く保たれる。
【0021】これは、本発明では、通気がフィルタ室の
上端領域に開放した通気管によって行われることで達成
される。そして、その空気はフィルタ室に直接流れ込
み、それによりフィルタ室から素早く液体を排出するこ
とができる。これに対して、空気はフィルタ要素を通じ
て比較的ゆっくりとプレナムに入り込む。濾塊が詰まっ
てフィルタ要素の浸透性が低下する結果、空気の通過が
さらに遅くなる。なお、上記濾塊は処理サイクル後に存
在する。フィルタ室からの液体の排出は比較的素早く起
こるので、従来のフィルタ要素を使用する場合でも、ご
く少量の空気しかプレナムに入らず、上記方法の効果を
損なうことはない。
上端領域に開放した通気管によって行われることで達成
される。そして、その空気はフィルタ室に直接流れ込
み、それによりフィルタ室から素早く液体を排出するこ
とができる。これに対して、空気はフィルタ要素を通じ
て比較的ゆっくりとプレナムに入り込む。濾塊が詰まっ
てフィルタ要素の浸透性が低下する結果、空気の通過が
さらに遅くなる。なお、上記濾塊は処理サイクル後に存
在する。フィルタ室からの液体の排出は比較的素早く起
こるので、従来のフィルタ要素を使用する場合でも、ご
く少量の空気しかプレナムに入らず、上記方法の効果を
損なうことはない。
【0022】本発明に係る洗浄方法は、結果的に、従来
のフィルタ要素を有する沈殿フィルタにも好適なもので
ある。しかしながら、US−A−5,017,241で
記載されているように、“ウォーターロック”を有する
フィルタ要素を備えた沈殿フィルタに特に適している。
ところが、本方法では、“ウォーターロック”は特定量
の液体をプレナムに導入するためには利用されず、それ
はフィルタ要素に入る少量の空気を保持し、それがプレ
ナムに入るのを防止する。
のフィルタ要素を有する沈殿フィルタにも好適なもので
ある。しかしながら、US−A−5,017,241で
記載されているように、“ウォーターロック”を有する
フィルタ要素を備えた沈殿フィルタに特に適している。
ところが、本方法では、“ウォーターロック”は特定量
の液体をプレナムに導入するためには利用されず、それ
はフィルタ要素に入る少量の空気を保持し、それがプレ
ナムに入るのを防止する。
【0023】しかしながら、プレナムに偶然に空気が入
るのを防止するために、フィルタ室内の上部領域にガス
不浸透性のフィルタ要素を使用するのが好ましい。例え
ば、フィルタ板の対応するオリフィスに固定されたガス
不浸透性のフィルタ要素接続部を上記フィルタ要素に設
けてもよい。上記フィルタ要素を使用する場合、フィル
タ室に形成される空気層の高さが、フィルタ要素におけ
るガス不浸透領域の長さに一致するように、フィルタ室
から液体を排出するのが最も都合がよい。
るのを防止するために、フィルタ室内の上部領域にガス
不浸透性のフィルタ要素を使用するのが好ましい。例え
ば、フィルタ板の対応するオリフィスに固定されたガス
不浸透性のフィルタ要素接続部を上記フィルタ要素に設
けてもよい。上記フィルタ要素を使用する場合、フィル
タ室に形成される空気層の高さが、フィルタ要素におけ
るガス不浸透領域の長さに一致するように、フィルタ室
から液体を排出するのが最も都合がよい。
【0024】しかしながら、本発明に係る方法の第1段
階では、少なくともフィルタ室に空気層が形成されるよ
うに液体をフィルタ室から排出するのが好ましく、その
量はプレナムに導入されるフラッシング媒体の量の約半
分とする。空気量がフラッシング媒体の量の少なくとも
約半分の場合、圧力変化の減衰が完全にまたはほぼ完全
になくなる。上記空気量がフラッシング媒体の量よりも
少ない場合、圧力変化の減衰が生じるけれども、フィル
タ要素の上部領域の洗浄も同時に改善することができ
る。
階では、少なくともフィルタ室に空気層が形成されるよ
うに液体をフィルタ室から排出するのが好ましく、その
量はプレナムに導入されるフラッシング媒体の量の約半
分とする。空気量がフラッシング媒体の量の少なくとも
約半分の場合、圧力変化の減衰が完全にまたはほぼ完全
になくなる。上記空気量がフラッシング媒体の量よりも
少ない場合、圧力変化の減衰が生じるけれども、フィル
タ要素の上部領域の洗浄も同時に改善することができ
る。
【0025】引き続いて起こる圧力変化の影響を改善す
るために、フィルタ室から液体を完全にまたは一部を排
出した後、通気弁装置を閉鎖してフィルタ室に低圧を発
生させてもよい。これは、例えば、フィルタ室、好まし
くはエンプティ配管を外部真空装置(例えば真空装置ま
たは既存の真空回路)に接続することで達成できる。ま
た、フィルタ室に存在する液体が一部排出されると、フ
ィルタ室とエンプティ配管に残っている液体が、例えば
エンプティ配管を大気圧配置することによって、部分的
な真空を形成するのに利用される。
るために、フィルタ室から液体を完全にまたは一部を排
出した後、通気弁装置を閉鎖してフィルタ室に低圧を発
生させてもよい。これは、例えば、フィルタ室、好まし
くはエンプティ配管を外部真空装置(例えば真空装置ま
たは既存の真空回路)に接続することで達成できる。ま
た、フィルタ室に存在する液体が一部排出されると、フ
ィルタ室とエンプティ配管に残っている液体が、例えば
エンプティ配管を大気圧配置することによって、部分的
な真空を形成するのに利用される。
【0026】フィルタ室から液体を排出した後、エンプ
ティ弁装置と通気弁装置が閉鎖されるか、または開放状
態に保持される。しかしながら、液体が一部でも排出さ
れると、上記エンプティ弁装置、通気弁装置の少なくと
もいずれかを閉鎖することにより(好ましくは通気配管
を閉鎖することにより)流出を停止するのが都合がよ
い。フィルタ室に部分的真空が発生する場合、通気弁装
置が前以て閉鎖される。すなわち、別の配管を通じて低
圧が生じると、上記エンプティ弁装置が閉鎖されなけれ
ならない。しかしながら、エンプティ配管が真空装置に
接続されるか、フィルタ室とエンプティ配管に残留する
液体が低圧を発生するのに利用されると、特にそれは開
放状態に維持される。
ティ弁装置と通気弁装置が閉鎖されるか、または開放状
態に保持される。しかしながら、液体が一部でも排出さ
れると、上記エンプティ弁装置、通気弁装置の少なくと
もいずれかを閉鎖することにより(好ましくは通気配管
を閉鎖することにより)流出を停止するのが都合がよ
い。フィルタ室に部分的真空が発生する場合、通気弁装
置が前以て閉鎖される。すなわち、別の配管を通じて低
圧が生じると、上記エンプティ弁装置が閉鎖されなけれ
ならない。しかしながら、エンプティ配管が真空装置に
接続されるか、フィルタ室とエンプティ配管に残留する
液体が低圧を発生するのに利用されると、特にそれは開
放状態に維持される。
【0027】フィルタ室から流体を排出した後、フィル
タ室に低圧が生じると、プレナムに圧力変化が発生し、
それが高速(フラッシングの圧力変化)でフィルタ要素
を通過するフラッシング媒体を移送する。本発明では、
これは、プレナムに配置された圧力発生配管の弁装置を
一時的に開放することにより達成され、それによって加
圧下で推進ガスまたはフラッシング媒体がプレナムに送
られる。圧力発生は、外部容器からの加圧されたガス、
特に圧縮空気で好適に行われる。一般に、約2〜6バー
ルの圧力で十分である。推進ガスを使用する場合、圧力
値と圧力を作用する時間が、フィルタ要素を介してプレ
ナムに導入される量のフラッシング媒体を送るのに十分
なように、適正に計算される。圧力変化を短時間で制御
できるようにするために、高速切換弁装置、例えば連続
的に180゜移動する回転ボールで開放でき、しかも同
様にして再び閉鎖できる駆動源を備えたボールコックに
よって調整するのがよい。
タ室に低圧が生じると、プレナムに圧力変化が発生し、
それが高速(フラッシングの圧力変化)でフィルタ要素
を通過するフラッシング媒体を移送する。本発明では、
これは、プレナムに配置された圧力発生配管の弁装置を
一時的に開放することにより達成され、それによって加
圧下で推進ガスまたはフラッシング媒体がプレナムに送
られる。圧力発生は、外部容器からの加圧されたガス、
特に圧縮空気で好適に行われる。一般に、約2〜6バー
ルの圧力で十分である。推進ガスを使用する場合、圧力
値と圧力を作用する時間が、フィルタ要素を介してプレ
ナムに導入される量のフラッシング媒体を送るのに十分
なように、適正に計算される。圧力変化を短時間で制御
できるようにするために、高速切換弁装置、例えば連続
的に180゜移動する回転ボールで開放でき、しかも同
様にして再び閉鎖できる駆動源を備えたボールコックに
よって調整するのがよい。
【0028】洗浄効果は、フラッシング媒体の流速にほ
ぼ比例する。したがって、フィルタ要素を最高速度で押
し出されることのないフラッシング媒体は、多かれ少な
かれ無駄に消失される。本発明の方法では、急速かつ瞬
間的に圧力を上昇することができ、その圧力はごく短時
間だけ維持され、その結果、最適の洗浄効果が得られ
る。プレナムに空気が多く存在すればするほど、フラッ
シング圧が急激に減衰する。したがって、フラッシング
による圧力変化の前に、プレナムに大量の空気がないよ
うにする必要がある。これに対して、空気量が少ない場
合(例えばプレナムの容積の最大約10%)、フラッシ
ング圧の減衰はごく僅かで、洗浄効果を減じることはほ
とんどない。最初の段階では、プレナムはフラッシング
媒体が完全にまたはほぼ完全に充満されており、第1工
程の間、空気はプレナムに入ることができないか、入っ
たとしてもごく僅かがゆっくりと入ることができるだけ
であるから、本発明に係る方法では、ほぼ最適な洗浄効
果が達成される。
ぼ比例する。したがって、フィルタ要素を最高速度で押
し出されることのないフラッシング媒体は、多かれ少な
かれ無駄に消失される。本発明の方法では、急速かつ瞬
間的に圧力を上昇することができ、その圧力はごく短時
間だけ維持され、その結果、最適の洗浄効果が得られ
る。プレナムに空気が多く存在すればするほど、フラッ
シング圧が急激に減衰する。したがって、フラッシング
による圧力変化の前に、プレナムに大量の空気がないよ
うにする必要がある。これに対して、空気量が少ない場
合(例えばプレナムの容積の最大約10%)、フラッシ
ング圧の減衰はごく僅かで、洗浄効果を減じることはほ
とんどない。最初の段階では、プレナムはフラッシング
媒体が完全にまたはほぼ完全に充満されており、第1工
程の間、空気はプレナムに入ることができないか、入っ
たとしてもごく僅かがゆっくりと入ることができるだけ
であるから、本発明に係る方法では、ほぼ最適な洗浄効
果が達成される。
【0029】しかしながら、US−A−5,017,2
41の方法では、フィルタ室から圧縮空気が流出するの
で、移送力は比較的緩慢にしか増加せず、圧力差の減少
によって連続的に減少する。その方法の欠点は、第1
に、フィルタ室に過度の圧力が発生しなければならず、
フィルタ容器はその推進ガスの圧力に耐えなければなら
ないことである。これに対して、本発明の方法では、圧
力変化はプレナムにおいてのみ発生し、圧力発生弁装置
によって、その圧力はフィルタ要素を通過する際の流水
抵抗まで低下する。フィルタ表面が大きいので、この抵
抗は1バール以下で、そのために常にフィルタ容器の設
計圧以下となる。
41の方法では、フィルタ室から圧縮空気が流出するの
で、移送力は比較的緩慢にしか増加せず、圧力差の減少
によって連続的に減少する。その方法の欠点は、第1
に、フィルタ室に過度の圧力が発生しなければならず、
フィルタ容器はその推進ガスの圧力に耐えなければなら
ないことである。これに対して、本発明の方法では、圧
力変化はプレナムにおいてのみ発生し、圧力発生弁装置
によって、その圧力はフィルタ要素を通過する際の流水
抵抗まで低下する。フィルタ表面が大きいので、この抵
抗は1バール以下で、そのために常にフィルタ容器の設
計圧以下となる。
【0030】最後に、本発明に係る方法の最終工程で
は、不純物と液体は、エンプティ弁装置を開放する共に
通気弁装置を開放して、エンプティ配管より排出され
る。
は、不純物と液体は、エンプティ弁装置を開放する共に
通気弁装置を開放して、エンプティ配管より排出され
る。
【0031】所望により、上記洗浄は、フラッシングの
圧力変化によって1回または複数回繰り返してもよい。
加圧下でフラッシング媒体を導入する結果として圧力変
化が発生すると、プレナムはフラッシング媒体が完全に
またはほぼ完全に充満されているので、その圧力変化の
発生後に、圧力発生弁装置が今一度一時的に開放され
て、上記洗浄が容易に実行される。推進ガスを使用する
場合、フィルタ容器が排出の前後に今一度フラッシング
媒体で充満されて洗浄が好適に行われ、洗浄方法が繰り
返される。
圧力変化によって1回または複数回繰り返してもよい。
加圧下でフラッシング媒体を導入する結果として圧力変
化が発生すると、プレナムはフラッシング媒体が完全に
またはほぼ完全に充満されているので、その圧力変化の
発生後に、圧力発生弁装置が今一度一時的に開放され
て、上記洗浄が容易に実行される。推進ガスを使用する
場合、フィルタ容器が排出の前後に今一度フラッシング
媒体で充満されて洗浄が好適に行われ、洗浄方法が繰り
返される。
【0032】さらに、本発明は、上記発明に係る洗浄方
法を実施するための請求項13から17による沈殿フィ
ルタに関する。その操作方法と好適な実施例は上述の説
明から明らかである。それは、主にフィルタ室の上部領
域に対して開口した通気配管の点と、エンプティ弁装
置、通気弁装置、および圧力発生弁装置が洗浄操作中に
順次切り替えられるようになっている点で、従来の沈殿
フィルタと違っている。
法を実施するための請求項13から17による沈殿フィ
ルタに関する。その操作方法と好適な実施例は上述の説
明から明らかである。それは、主にフィルタ室の上部領
域に対して開口した通気配管の点と、エンプティ弁装
置、通気弁装置、および圧力発生弁装置が洗浄操作中に
順次切り替えられるようになっている点で、従来の沈殿
フィルタと違っている。
【0033】
【実施例】図1は好適な沈殿フィルタを図的に示す。フ
ィルタ容器1は、フィルタ板10によって、下部フィル
タ室(汚染室)2と上部プレナム(クリーン室)3に小
分割されている。フィルタ室2には複数のフィルタ要素
4が垂直に配置されており、このフィルタ要素4はガス
不浸透性のフィルタ要素接続部5によってフィルタ板1
0の対応するオリフィスに固定されている。なお、図面
を簡略化するために、図1にはフィルタ要素を一つだけ
表す。濾過するために、濾過される液は供給管14を通
じてフィルタ室2に移送され、濾過された液は濾過液排
出管16を通じてプレナム3から排出される。供給管1
4と排出管16はそれぞれ弁装置15と17を備えてお
り、これらは濾過中開放され、洗浄中は閉鎖される。濾
過の間、またはフラッシング媒体を満たす間、必要なら
ば、開閉用の弁装置19を有する空気抜き接続部18を
通じてプレナム3から空気を抜いてもよい。洗浄を実施
するために、開閉用の弁装置をそれぞれ備えた3つの配
管が設けられている。すなわち、これらの配管は、フィ
ルタ室2の上部領域に配置され、通気弁装置11を有す
る通気接続部6、フィルタ容器1の底部に配置され、エ
ンプティ弁装置12を有するエンプティ配管7、プレナ
ム3に配置され、ここではボールコックとして描かれて
いる圧力発生弁装置13を有する推進ガス供給配管8で
ある。上記推進ガス配管8は推進ガス圧力容器9に接続
されている。例えば、フラッシング媒体は、濾過液排出
弁装置17を開放し、供給配管14を通じて供給しても
よいし、処理サイクルの終わりにプレナム3に存在する
濾過液をフラッシング媒体として利用してもよい。洗浄
の際には、フィルタ室2から液体を排出するために、ま
ずエンプティ弁装置12と通気弁装置11が開放され
る。プレナム3への空気路を出来るだけ完全に遮断する
ために、フィルタ室2に形成された空気層の高さがフィ
ルタ要素接続部5の高さに達する前に、通気弁装置11
を再び閉鎖するのが好ましい。エンプティ弁装置12を
開放したままで通気弁装置11を閉鎖すると、フィルタ
室2に部分的な真空が発生する。続いて、一時的に圧力
発生弁装置13を開放すると、フラッシング媒体がフィ
ルタ要素4を介してフィルタ室に押し込まれ、その後、
通気弁11を開放することにより、フィルタ濾塊および
沈殿捕集物が液体と共にエンプティ配管を通じて排出さ
れる。
ィルタ容器1は、フィルタ板10によって、下部フィル
タ室(汚染室)2と上部プレナム(クリーン室)3に小
分割されている。フィルタ室2には複数のフィルタ要素
4が垂直に配置されており、このフィルタ要素4はガス
不浸透性のフィルタ要素接続部5によってフィルタ板1
0の対応するオリフィスに固定されている。なお、図面
を簡略化するために、図1にはフィルタ要素を一つだけ
表す。濾過するために、濾過される液は供給管14を通
じてフィルタ室2に移送され、濾過された液は濾過液排
出管16を通じてプレナム3から排出される。供給管1
4と排出管16はそれぞれ弁装置15と17を備えてお
り、これらは濾過中開放され、洗浄中は閉鎖される。濾
過の間、またはフラッシング媒体を満たす間、必要なら
ば、開閉用の弁装置19を有する空気抜き接続部18を
通じてプレナム3から空気を抜いてもよい。洗浄を実施
するために、開閉用の弁装置をそれぞれ備えた3つの配
管が設けられている。すなわち、これらの配管は、フィ
ルタ室2の上部領域に配置され、通気弁装置11を有す
る通気接続部6、フィルタ容器1の底部に配置され、エ
ンプティ弁装置12を有するエンプティ配管7、プレナ
ム3に配置され、ここではボールコックとして描かれて
いる圧力発生弁装置13を有する推進ガス供給配管8で
ある。上記推進ガス配管8は推進ガス圧力容器9に接続
されている。例えば、フラッシング媒体は、濾過液排出
弁装置17を開放し、供給配管14を通じて供給しても
よいし、処理サイクルの終わりにプレナム3に存在する
濾過液をフラッシング媒体として利用してもよい。洗浄
の際には、フィルタ室2から液体を排出するために、ま
ずエンプティ弁装置12と通気弁装置11が開放され
る。プレナム3への空気路を出来るだけ完全に遮断する
ために、フィルタ室2に形成された空気層の高さがフィ
ルタ要素接続部5の高さに達する前に、通気弁装置11
を再び閉鎖するのが好ましい。エンプティ弁装置12を
開放したままで通気弁装置11を閉鎖すると、フィルタ
室2に部分的な真空が発生する。続いて、一時的に圧力
発生弁装置13を開放すると、フラッシング媒体がフィ
ルタ要素4を介してフィルタ室に押し込まれ、その後、
通気弁11を開放することにより、フィルタ濾塊および
沈殿捕集物が液体と共にエンプティ配管を通じて排出さ
れる。
【0034】理解を深めるために、本発明に係る洗浄方
法が、平均時間間隔、および通気弁装置11、エンプテ
ィ弁装置12、圧力発生弁装置13のそれぞれの設定と
共に、2つの典型的な実施例をもって以下に示されてい
る。しかしながら、いずれにしても個々の工程の継続時
間はそれぞれの沈殿フィルタの幾何学形状に調和し、最
も効果的に互いが調和するようにすべきである。示され
ている時間間隔は大まかな指針を示すものに過ぎず、限
定的な意味に理解されるものではない。
法が、平均時間間隔、および通気弁装置11、エンプテ
ィ弁装置12、圧力発生弁装置13のそれぞれの設定と
共に、2つの典型的な実施例をもって以下に示されてい
る。しかしながら、いずれにしても個々の工程の継続時
間はそれぞれの沈殿フィルタの幾何学形状に調和し、最
も効果的に互いが調和するようにすべきである。示され
ている時間間隔は大まかな指針を示すものに過ぎず、限
定的な意味に理解されるものではない。
【0035】
【表1】実施例1 洗浄室に低圧を発生して洗浄する方法: 継続時間 弁装置 (秒) 11 12 13 A)処理サイクルの終了後、 空気が抜かれて液体で満 たされた容器の初期状態 閉鎖 閉鎖 閉鎖 B)フィルタ室が部分的に空 の状態 10 開放 開放 閉鎖 C)フィルタ室における低圧 の発生状態 2 閉鎖 開放 閉鎖 D)フラッシングの圧力変化 1 閉鎖 開放 開放 E)排出 30 開放 開放 閉鎖
【0036】
【表2】実施例1 洗浄室に低圧を発生することなく洗浄する方法: 継続時間 弁装置 (秒) 11 12 13 A)処理サイクルの終了後、 空気が抜かれて液体で満 たされた容器の初期状態 閉鎖 閉鎖 閉鎖 B)フィルタ室が部分的に空 の状態 12 開放 開放 閉鎖 C)フラッシングの圧力変化 1 開放 開放 開放 D)排出 30 開放 開放 閉鎖
【図1】 沈殿フィルタの一部切欠正面図である。
1…フィルタ容器、2…フィルタ室(汚染室)、3…プ
レナム(クリーン室)、4…フィルタ要素、6…通気配
管、7…エンプティ配管、9…圧力容器、10…フィル
タ板、11…通気弁装置、12…エンプティ弁装置、1
3…切換弁装置、14…供給配管、16…排出配管。
レナム(クリーン室)、4…フィルタ要素、6…通気配
管、7…エンプティ配管、9…圧力容器、10…フィル
タ板、11…通気弁装置、12…エンプティ弁装置、1
3…切換弁装置、14…供給配管、16…排出配管。
Claims (17)
- 【請求項1】 フィルタ容器(1)の中に水平に配置さ
れたフィルタ板(10)により上部プレナム(3)と下
部フィルタ室(2)に小分割され、上記フィルタ室
(2)の中でフィルタ板(10)に設けた対応するオリ
フィスに固定された垂直なフィルタ要素(4)を有する
沈殿フィルタの洗浄方法において、洗浄開始時、上記プ
レナム(3)における有効空間が完全に又はほぼ完全
に、フラッシング媒体として利用される液体により充満
され、上記洗浄方法が、 a) 第1に、上記フィルタ室(2)の上部領域に開口
した通気配管(6)の通気弁装置(11)を開放すると
ともに、上記フィルタ容器(1)の底部に配置されたエ
ンプティ配管(7)のエンプティ弁装置(12)を開放
することにより、上記フィルタ室(2)に存在する液体
を完全に又は一部排出し、 b) 次に、上記プレナム(3)に配置された圧力発生
配管(8)の弁装置(13)を一時的に開放し、上記配
管(8)を通じて加圧下で推進ガス又はフラッシング媒
体をプレナム(3)に送ることにより、プレナム(3)
に圧力変化を生ぜしめ、上記フラッシング媒体をフィル
タ要素(4)を通じて送り出し、 c) 上記通気弁装置(11)を開放すると共に上記エ
ンプティ弁装置(12)を開放し、不純物と液体を上記
フィルタ室(2)から排出する、ことにより行われるこ
とを特徴とする沈殿フィルタの洗浄方法。 - 【請求項2】 上記圧力変化の継続時間が、高速切換弁
装置(13)、好ましくはボールを連続移動して180
°回転させてボールコックを開放すると共に、同様にし
て再びボールコックを閉鎖する駆動付き高速切換弁装置
(13)によって調整されることを特徴とする請求項1
の洗浄方法。 - 【請求項3】 推進ガスによって圧力が発生され、フィ
ルタ要素を介してプレナム(3)に導入されるフラッシ
ング媒体を移送するのに十分であるように継続時間と圧
力が計算される請求項1又は2の洗浄方法。 - 【請求項4】 上記外部容器(9)からの圧縮ガスによ
り圧力が発生されることを特徴とする請求項1から3の
いずれかの洗浄方法。 - 【請求項5】 上記フィルタ室(2)から液体が完全に
又は一部排出された後、第1工程では通気弁装置(1
1)が閉鎖されて、フィルタ室(2)に低圧が発生する
ことを特徴とする請求項1から4のいずれかの洗浄方
法。 - 【請求項6】 上記低圧が、フィルタ室(2)又はエン
プティ配管(7)に接続された外部真空装置によって発
生されることを特徴とする請求項5の洗浄方法。 - 【請求項7】 上記フィルタ室(2)に存在する液体が
一部排出され、フィルタ室(2)とエンプティ配管
(7)に残っている液体が、エンプティ配管を大気圧配
置した結果として、低圧を発生するのに利用されること
を特徴とする請求項5の洗浄方法。 - 【請求項8】 上記フィルタ室(2)内の上部領域
(5)にガス不浸透性フィルタ要素(4)が使用され、
形成された空気層の高さがフィルタ要素(4)のガス不
浸透性領域(5)の長さに一致するようにフィルタ室
(2)から液体が排出されることを特徴とする請求項7
の洗浄方法。 - 【請求項9】 上記第1工程において、フィルタ室
(2)に形成された空気層の容積がプレナム(3)に導
入されたフラッシング媒体の体積の少なくとも半分であ
るように、フィルタ室(2)より液体は排出されること
を特徴とする請求項1から8のいずれかの洗浄方法。 - 【請求項10】 濾過液がフラッシング媒体として利用
されることを特徴とする請求項1から9のいずれかの洗
浄方法。 - 【請求項11】 フィルタ表面の1平方メートルあたり
5〜20リットルのフラッシング媒体を用いることを特
徴とする請求項1から10のいずれかの洗浄方法。 - 【請求項12】 上記フィルタ室(2)を空にするのを
加速するために、通気配管(6)と通気弁装置(11)
を介して高圧下で推進ガスが導入されることを特徴とす
る請求項1から11のいずれかの洗浄方法。 - 【請求項13】 水平に配置されたフィルタ板(10)
で上部プレナム(3)と下部フィルタ室(2)に小分割
され、フィルタ要素(4)がフィルタ室(2)に垂直に
配置され、かつフィルタ板(10)の対応するオリフィ
スに固定されたフィルタ容器(1)と、 弁装置(15,17)によって濾過中は開放されると共
に洗浄中は開放される、フィルタ室(2)へ濾過される
液を供給する供給配管(14)およびプレナム(3)か
ら濾過液を排出する排出配管(16)と、 フィルタ容器(1)の底部に配置され、開閉用の弁装置
(12)を備えたエンプティ配管(7)と、 加圧下で推進ガス又はフラッシング媒体を供給するため
に、プレナム(3)に配置され、開閉用の弁装置(1
3)を備えた圧力発生配管(8)と、 フィルタ室(2)の上端領域に開口し、開閉用の弁装置
(11)を備えた通気配管(6)とを有し、 上記エンプティ弁配管(12)、圧力発生弁装置(1
3)、および通気弁装置(11)が濾過中は閉鎖され、
洗浄のために、 a) 第1に、フィルタ室(2)に存在する液を完全に
又は一部排出するために、通気弁装置(11)とエンプ
ティ弁装置(12)が開放され、 b) 次に、通気弁装置(11)を開放した状態で、又
は通気弁装置(11)を閉鎖した後、フィルタ要素
(4)を介してプレナム(3)からフラッシング媒体を
移送するために、圧力発生弁装置(13)が一時的に開
放され、 c) 最後に、通気弁装置(11)を開放し、エンプテ
ィ弁装置(12)を開放した状態で、不純物と液がフィ
ルタ室(2)から排出される、ように連続的に切り替え
られるようにしたことを特徴とする請求項1から12の
方法を実施する沈殿フィルタ。 - 【請求項14】 上記圧力発生弁装置(13)が高速切
換装置、好ましくはボールを連続移動して180°回転
させて開放され、同様にして再び閉鎖される駆動付きボ
ールコックであることを特徴とする請求項13の沈殿フ
ィルタ。 - 【請求項15】 上記圧力発生配管(8)が圧力ガスを
有する外部容器(9)に接続されていることを特徴とす
る請求項13または14の沈殿フィルタ。 - 【請求項16】 上記通気配管(6)が圧力ガスを有す
る外部容器に接続され、この外部容器が容器(9)また
は別の容器、若しくは圧縮空気回路または圧縮空気装置
である請求項13から15の沈殿フィルタ。 - 【請求項17】 上記フィルタ要素(4)が、フィルタ
室(2)内の上部領域(5)でガス不浸透性であること
を特徴とする請求項13から16の沈殿フィルタ。
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