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JPH06132629A - Manufacture of printed circuit board - Google Patents

Manufacture of printed circuit board

Info

Publication number
JPH06132629A
JPH06132629A JP28134192A JP28134192A JPH06132629A JP H06132629 A JPH06132629 A JP H06132629A JP 28134192 A JP28134192 A JP 28134192A JP 28134192 A JP28134192 A JP 28134192A JP H06132629 A JPH06132629 A JP H06132629A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
copper foil
etching
pattern
plating
copper
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP28134192A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hitoshi Arai
等 新井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP28134192A priority Critical patent/JPH06132629A/en
Publication of JPH06132629A publication Critical patent/JPH06132629A/en
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Abstract

PURPOSE:To accurately miniaturize a circuit pattern by removing a copper foil layer of a laminated board substantially in a uniform thickness. CONSTITUTION:A laminated board is dipped in an etchant tank to form an outer layer copper foil 10 having a predetermined thickness on a surface. Then, through holes 5 are formed to connect to an inner layer, and then a panel copper plating 4 is conducted on the entire board. Thereafter, a predetermined plating resist pattern 6 is formed on the surface of the board with the plating 4. Further, a pattern copper plating 7 is provided on a part in which the pattern 6 is removed, and a solder plating 8 to become an etching resist is formed on the surface. The pattern 6 is peeled from this state to be removed. Then, with the resist as an etching resist it is etched to form a predetermined circuit pattern. Thus, a thickness of the pattern etched layer can be reduced, and a required time for the etching can be shortened.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明はプリント配線板の製造方
法に係り、特にプリント配線板上に形成されるパターン
の精度を高め、高密度のパターン形成を実現するように
したプリント配線板の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board, and more particularly, to manufacturing a printed wiring board which can improve the accuracy of a pattern formed on the printed wiring board and realize high density pattern formation. Regarding the method.

【0002】[0002]

【従来の技術】図8は従来のスルーホールにより内外層
の回路を接続した多層銅箔積層板の断面の一例を示した
ものである。この多層銅箔積層板50は絶縁層に相当す
る樹脂含浸プリプレグ51と、樹脂含浸プリプレグ51
内に形成された内層パターン52と、樹脂含浸プリプレ
グ51の外表面に接着された外層銅箔53とから構成さ
れている。
2. Description of the Related Art FIG. 8 shows an example of a cross section of a conventional multilayer copper foil laminated plate in which circuits of inner and outer layers are connected by through holes. This multilayer copper foil laminated plate 50 includes a resin-impregnated prepreg 51 corresponding to an insulating layer and a resin-impregnated prepreg 51.
It is composed of an inner layer pattern 52 formed inside and an outer layer copper foil 53 adhered to the outer surface of the resin-impregnated prepreg 51.

【0003】この外層銅箔53はその樹脂含浸プリプレ
グ51との接着性を高めるために接着面に微細な凹凸を
有するマット(粗化)面54の形成された厚さ18μm
の導体で、さらにその外層銅箔53の外側表面には孔壁
の保護をするパネル銅メッキ55と、所定の回路パター
ンを構成するパターン銅メッキ56が形成されている。
このパターン銅メッキの形成と同時に形成されたメッキ
レジスト用パターン(図示せず)を除いた部分に被着さ
れたはんだメッキによるエッチングレジスト部分(図示
せず)を除いた部分を絶縁部の表面までエッチングする
ことにより最終的な回路パターンが形成される。
The outer layer copper foil 53 has a matte (roughened) surface 54 having fine irregularities on the adhesive surface in order to enhance the adhesiveness with the resin-impregnated prepreg 51.
On the outer surface of the outer layer copper foil 53, a panel copper plating 55 for protecting the hole wall and a pattern copper plating 56 forming a predetermined circuit pattern are formed.
The portion except the etching resist portion (not shown) by the solder plating applied to the portion except the plating resist pattern (not shown) formed at the same time as the formation of this pattern copper plating reaches the surface of the insulating portion. A final circuit pattern is formed by etching.

【0004】ところで、上述のようににスルーホール5
7を介して内外層の回路の相互接続を可能にしている銅
張り多層積層板では、孔壁と外層銅箔53面の表面全体
にわたりパネル銅メッキ55が施こされている。これに
よりパネル銅メッキでは表層部のパターンエッチングに
際して孔壁部をエッチング液に侵食されない。通常はさ
らにこのパネル銅メッキ55の表面にドライレジストフ
ィルムをラミネートし、所定の紫外線露光装置等により
その画像を焼き付けして材パターン銅メッキ等を行うと
ともに、このパターン銅メッキを所定のパターンにパタ
ーンエッチングを行い、所定の回路を形成している。
By the way, as described above, the through hole 5
In the copper-clad multi-layer laminate that enables interconnection of circuits in the inner and outer layers through 7, the panel copper plating 55 is applied to the entire surface of the hole wall and the outer layer copper foil 53 surface. As a result, in the copper plating of the panel, the hole wall is not eroded by the etching solution when the pattern of the surface layer is etched. Usually, a dry resist film is further laminated on the surface of the panel copper plating 55, and the image is printed by a predetermined ultraviolet exposure device or the like to perform material pattern copper plating, etc., and this pattern copper plating is patterned into a predetermined pattern. Etching is performed to form a predetermined circuit.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところで、積層板の回
路パターンは上述のようにパネル銅メッキ55とパター
ン銅メッキ56を重ねて形成されている。このように多
層に形成された銅箔部分のエッチングは表面層側からの
み進行し、形成された回路パターン60の断面形状は積
層板側の基部に向けて裾を広げた略台形形状になる。こ
のようなエッチング状態をサイドエッチングという。こ
のサイドエッチングはその形状から明らかなように銅箔
の層厚が大きく、エッチングの所要時間が多いほど進行
する。
By the way, the circuit pattern of the laminated plate is formed by stacking the panel copper plating 55 and the pattern copper plating 56 as described above. The etching of the copper foil portion thus formed in multiple layers proceeds only from the surface layer side, and the cross-sectional shape of the formed circuit pattern 60 becomes a substantially trapezoidal shape with the hem widened toward the base portion on the laminated plate side. Such an etching state is called side etching. As is clear from the shape, the side etching proceeds as the copper foil has a larger layer thickness and requires a longer etching time.

【0006】たとえば、上述の回路パターンを有する銅
張り多層積層板では、銅箔の層厚が35μm程度になる
ことより、この場合の基部での広がりはサイドエッチン
グにより片側部分で銅箔の1/3程度にまで達してしま
う。このため図8に示したような銅張り多層積層板にお
いては、高密度を目指すためのパターン間隔、パターン
幅の細密化が著しく困難となる。
For example, in the copper-clad multilayer laminate having the above-mentioned circuit pattern, since the layer thickness of the copper foil is about 35 μm, the spread at the base in this case is 1 / one of the copper foil at one side due to side etching. It reaches about 3. Therefore, in the copper-clad multi-layer laminate as shown in FIG. 8, it is extremely difficult to reduce the pattern spacing and pattern width in order to achieve high density.

【0007】また、銅張り多層積層板の外層銅箔53に
最初から薄いタイプの銅箔(厚さ9μm)を使用するこ
とも可能であるが、この場合にはマット(粗化)面53
aに形成された凹凸部の高さが小さいので、補強基材樹
脂と銅箔との十分な密着性が得られないという問題があ
る。またこのとき薄いタイプの銅箔ではアルミニウムを
キャリアとして積層板化するため製造工程中にアルミニ
ウムを除去しなければならず、工程が煩雑になる。
It is also possible to use a thin type copper foil (thickness: 9 μm) from the beginning as the outer layer copper foil 53 of the copper-clad multilayer laminate. In this case, the matte (roughened) surface 53 is used.
Since the height of the uneven portion formed in a is small, there is a problem that sufficient adhesion between the reinforcing base resin and the copper foil cannot be obtained. Further, at this time, in the case of a thin type copper foil, aluminum is used as a carrier to form a laminated plate, so aluminum must be removed during the manufacturing process, which complicates the process.

【0008】そこで、本発明の目的は上述した従来の技
術が有する問題点を解消し、簡易な方法で配線板上に高
精度で高密度の回路パターン60を形成することができ
るとともに、積層板に接着される銅箔パターンの高い密
着性を保持できるようにしたプリント配線板の製造方法
を提供することにある。
Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the conventional technique, to form a circuit pattern 60 with high precision and high density on a wiring board by a simple method, and to laminate a laminated board. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a printed wiring board capable of maintaining high adhesion of a copper foil pattern adhered to the.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、少なくとも外面の表裏に銅箔層が形成さ
れた積層板の該銅箔層をほぼ均一な層厚で除去する工程
と、前記積層板にスルーホールを穿設するとともに、該
スルーホールの孔壁と前記外面の一部が除去された前記
銅箔層の表面にパネル銅メッキを行う工程と、該パネル
銅メッキ表面にメッキレジスト及びパターン銅メッキを
施した上にエッチングレジストを形成する工程と、前記
メッキレジストを除去して前記銅メッキ及び銅箔層をエ
ッチングして回路を形成する工程とを含むことを特徴と
するものである。
In order to achieve the above object, the present invention is a step of removing a copper foil layer of a laminate having a copper foil layer formed on at least the front and back of the outer surface thereof with a substantially uniform layer thickness. And a step of forming a through hole in the laminated plate and performing panel copper plating on the surface of the copper foil layer from which the hole wall of the through hole and a part of the outer surface are removed, and the panel copper plating surface A step of forming an etching resist on the plating resist and the pattern copper plating, and a step of removing the plating resist and etching the copper plating and the copper foil layer to form a circuit. To do.

【0010】このとき前記積層板は、硫酸/過酸化水素
系、塩化第二鉄系、塩化第二銅系、アルカリエッチャン
トのいずれかからなるハードエッチング液あるいは過硫
酸アンモニウム、硫酸/過酸化水素系のいずれかからな
るソフトエッチング液を充填した槽内に所定時間浸漬さ
れ、前記銅箔層がエッチングにより所定層厚だけ除去さ
れるようにすることが好ましい。
At this time, the laminated plate is made of a sulfuric acid / hydrogen peroxide system, a ferric chloride system, a cupric chloride system, an alkali etchant, or a hard etching solution or ammonium persulfate or a sulfuric acid / hydrogen peroxide system. It is preferable to immerse the copper foil layer in a bath filled with any one of the soft etching solutions for a predetermined time so that the copper foil layer is removed by a predetermined thickness by etching.

【0011】また、前記積層板は、硫酸/過酸化水素
系、塩化第二鉄系、塩化第二銅系、アルカリエッチャン
トのいずれかからなるハードエッチング液あるいは過硫
酸アンモニウム、硫酸/過酸化水素系のいずれかからな
るソフトエッチング液をスプレーノズルにより前記銅箔
層の表面に噴霧させて、前記銅箔層がエッチングにより
所定層厚だけ除去されるようにすることが好ましい。
Further, the laminated plate is made of a sulfuric acid / hydrogen peroxide system, a ferric chloride system, a cupric chloride system, an alkaline etchant, or a hard etching solution or ammonium persulfate or a sulfuric acid / hydrogen peroxide system. It is preferable that a soft etching liquid containing any one of them is sprayed onto the surface of the copper foil layer by a spray nozzle so that the copper foil layer is removed by a predetermined layer thickness by etching.

【0012】[0012]

【作用】本発明によれば、少なくとも外面の表裏に銅箔
層が形成された積層板の該銅箔層をほぼ均一な層厚で除
去し、前記積層板にスルーホールを穿設するとともに、
該スルーホールの孔壁と前記外面の一部が除去された前
記銅箔層の表面にパネル銅メッキを行い、該パネル銅メ
ッキ表面にメッキレジスト及びパターン銅メッキを施し
た上にエッチングレジストを形成し、前記メッキレジス
トを除去して前記銅メッキ及び銅箔層をエッチングして
回路を形成するようにしたので、パターンエッチングす
る層の厚さを薄くすることができ、エッチングの所要時
間を減少させ、サイドエッチングを小さくすることがで
きる。これにより隣接する回路パターンを高い精度で形
成することができる。
According to the present invention, at least the copper foil layer of a laminate having a copper foil layer formed on the front and back of the outer surface is removed with a substantially uniform layer thickness, and a through hole is formed in the laminate,
Panel copper plating is performed on the surface of the copper foil layer from which the hole wall of the through hole and a part of the outer surface are removed, and a plating resist and a pattern copper plating are applied to the panel copper plating surface, and then an etching resist is formed. However, since the plating resist is removed and the copper plating and copper foil layers are etched to form a circuit, it is possible to reduce the thickness of the pattern-etched layer and reduce the time required for etching. The side etching can be reduced. This allows adjacent circuit patterns to be formed with high accuracy.

【0013】このとき前記積層板を硫酸/過酸化水素
系、塩化第二鉄系、塩化第二銅系、アルカリエッチャン
トのいずれかからなるハードエッチング液あるいは過硫
酸アンモニウム、硫酸/過酸化水素系のいずれかからな
るソフトエッチング液を充填した槽内に所定時間浸漬
し、前記銅箔層をエッチングにより所定層厚だけ除去す
るようにしたので、適正なエッチング液を効率よく使用
し、製造工程の簡素化を図ることができる。
At this time, the laminated plate is made of either a sulfuric acid / hydrogen peroxide system, a ferric chloride system, a cupric chloride system, an alkali etchant, a hard etching solution, or ammonium persulfate or a sulfuric acid / hydrogen peroxide system. It was soaked in a bath filled with a soft etching solution consisting of the above for a predetermined time, and the copper foil layer was removed by a predetermined layer thickness by etching, so an appropriate etching solution was used efficiently and the manufacturing process was simplified. Can be achieved.

【0014】また、硫酸/過酸化水素系、塩化第二鉄
系、塩化第二銅系、アルカリエッチャントのいずれかか
らなるハードエッチング液あるいは過硫酸アンモニウ
ム、硫酸/過酸化水素系のいずれかからなるソフトエッ
チング液をスプレーノズルにより前記銅箔層の表面に噴
霧させて、前記銅箔層をエッチングにより所定層厚だけ
除去するようにしたので、外層銅箔を精度良く所定厚さ
にエッチングすることができる。
Further, a hard etching solution containing any one of sulfuric acid / hydrogen peroxide system, ferric chloride system, cupric chloride system and alkali etchant, or a soft etching solution containing ammonium persulfate or sulfuric acid / hydrogen peroxide system. Since the etching liquid is sprayed onto the surface of the copper foil layer by a spray nozzle to remove the copper foil layer by a predetermined thickness by etching, the outer copper foil can be accurately etched to a predetermined thickness. .

【0015】[0015]

【実施例】以下本発明によるプリント配線板の製造方法
の一実施例を図1乃至図6を参照して説明する。図1に
おいて、符号1は回路を形成する前のプリント配線板の
外層銅箔1を示している。この外層銅箔1は積層板を構
成する樹脂含浸プリプレグ2との接着性を高めるために
接着面に微細な凹凸を有するマット(粗化)面1aの形
成された厚さ18μmの導体である。また、この積層板
の内部には内層パターン3、3が形成されている。この
内層パターン3は外層銅箔1と同様に銅箔を所定のパタ
ーンをエッチングして形成し、プリプレグ2と複数層の
パターンを接着するとともに加圧加工して成形したもの
である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of a method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention will be described below with reference to FIGS. In FIG. 1, reference numeral 1 indicates an outer layer copper foil 1 of a printed wiring board before forming a circuit. This outer layer copper foil 1 is a conductor having a thickness of 18 μm, in which a mat (roughened) surface 1a having fine irregularities on the adhesive surface is formed in order to enhance the adhesiveness with the resin-impregnated prepreg 2 that constitutes the laminated plate. Further, inner layer patterns 3 and 3 are formed inside the laminated plate. Like the outer layer copper foil 1, the inner layer pattern 3 is formed by etching a predetermined pattern of copper foil, adhering the prepreg 2 and the patterns of a plurality of layers, and pressurizing and molding.

【0016】図2は図1の積層板をエッチング液槽内に
浸漬し、外層銅箔1の層厚がほぼ4〜12μmの所定厚
さになるようにエッチングした状態を示したものであ
る。このときエッチング液としては硫酸/過酸化水素
系、塩化第二鉄系、塩化第二銅系、アルカリエッチャン
トのいずれかからなるハードエッチング液あるいは過硫
酸アンモニウム、硫酸/過酸化水素系のいずれかからな
るソフトエッチング液を使用することができる。
FIG. 2 shows a state in which the laminated plate of FIG. 1 is immersed in an etching solution tank and etched so that the outer copper foil 1 has a predetermined thickness of approximately 4 to 12 μm. At this time, the etching liquid is a hard etching liquid containing sulfuric acid / hydrogen peroxide, ferric chloride, cupric chloride, or an alkali etchant, or ammonium persulfate or sulfuric acid / hydrogen peroxide. A soft etchant can be used.

【0017】硫酸/過酸化水素系のエッチング液はハー
ドエッチング、ソフトエッチングのいずれの場合にも使
用することができるという利点を有している。塩化第二
鉄系エッチング液は液の再生が難しいが、塩化第二銅系
エッチング液は液内の塩化第一銅の濃度を押さえてエッ
チング速度を低下させないように種々の再生方法を適用
することができる。アルカリエッチャントは銅アンモニ
ウム錯イオンを主成分とするアルカリ性水溶液である。
これにより積層板の表面にはエッチングされた外層銅箔
10が形成される。
The sulfuric acid / hydrogen peroxide type etching solution has an advantage that it can be used in both hard etching and soft etching. Ferric chloride-based etching solutions are difficult to regenerate, but cupric chloride-based etching solutions should be applied with various regeneration methods so that the concentration of cuprous chloride in the solution is suppressed and the etching rate is not reduced. You can The alkaline etchant is an alkaline aqueous solution containing copper ammonium complex ions as a main component.
As a result, the etched outer layer copper foil 10 is formed on the surface of the laminate.

【0018】次に図3に示したようにドリルにより内層
との接続のためにスルーホール5の孔加工を行い、その
後積層板全体にパネル銅メッキ4を施す。このドリル孔
加工時には位置精度を正確に確保するとともに、孔壁面
にスミア、ネイルヘッドが生じないようにドリル回転速
度等にも十分注意することが必要である。パネル銅メッ
キ4は従来と同様にスルーホール5の孔壁とエッチング
された外層銅箔1とを一体的に被覆するようにして形成
される。
Next, as shown in FIG. 3, a through hole 5 is drilled for connection with an inner layer by a drill, and then a copper plate 4 is plated on the entire laminated plate. It is necessary to ensure accurate positional accuracy during drilling, and to pay close attention to the rotational speed of the drill to prevent smearing and nail heads on the hole wall surface. The panel copper plating 4 is formed so as to integrally cover the hole wall of the through hole 5 and the etched outer layer copper foil 1 as in the conventional case.

【0019】さらに、図示しないドライフィルムレジス
トをパネル銅メッキ4された積層板の表面にラミネータ
の加熱圧着ローラで熱圧着させる。そして所定のパター
ンの印刷されたポジまたはネガフィルムを通して紫外線
露光させ、パターン画像を焼き付け、さらに現像により
所定のメッキレジスト用パターン6を形成する。さらに
メッキレジスト用パターン6を除いた部分にパターン銅
メッキ7を施すとともにその表面にエッチングレジスト
となるはんだメッキ8を形成する(図4参照)。この状
態から図5に示したようにメッキレジスト用パターン6
を剥離して除去する。
Further, a dry film resist (not shown) is thermocompression-bonded to the surface of the panel copper-plated laminate 4 by a thermocompression-bonding roller of a laminator. Then, the film is exposed to ultraviolet light through a positive or negative film on which a predetermined pattern is printed, a pattern image is printed, and then developed to form a predetermined plating resist pattern 6. Further, a pattern copper plating 7 is applied to a portion excluding the plating resist pattern 6 and a solder plating 8 serving as an etching resist is formed on the surface thereof (see FIG. 4). From this state, as shown in FIG. 5, the plating resist pattern 6 is formed.
Peel off and remove.

【0020】次いで、図6に示したように上述のはんだ
レジストをエッチングレジストとしてエッチングして所
定の回路パターンを形成する。このときエッチングによ
り除去される部分は積層板の絶縁部にまで達し、またパ
ターン銅メッキ7の壁側面もサイドエッチングされる。
このときパターンエッチングされる銅箔の層厚は20μ
mであり、エッチングの所要時間を従来に比べ減少でき
る。このためサイドエッチング量L1 は図8に示した従
来のパターンエッチング後のサイドエッチング量L0 に
比べ、大きく減少する。この結果、隣接した回路パター
ンをさらに接近して配置させることもでき、より細密な
パターンを形成させることも可能である。
Then, as shown in FIG. 6, the above-mentioned solder resist is etched as an etching resist to form a predetermined circuit pattern. At this time, the portion removed by etching reaches the insulating portion of the laminated plate, and the side wall surface of the patterned copper plating 7 is also side-etched.
At this time, the layer thickness of the copper foil pattern-etched is 20μ.
m, the time required for etching can be reduced as compared with the conventional case. Therefore, the side etching amount L1 is greatly reduced compared to the side etching amount L0 after the conventional pattern etching shown in FIG. As a result, adjacent circuit patterns can be arranged closer to each other, and a finer pattern can be formed.

【0021】また、必要に応じてソルダレジスト、外形
加工を施して所望のプリント配線板を完成させる。
If desired, a solder resist and an outer shape process are applied to complete a desired printed wiring board.

【0022】なお、本実施例では外層銅箔1をエッチン
グするのに積層板をエッチング液槽に浸漬したが、図7
に示したようにインラインエッチング装置に備えられた
スプレー装置20によりエッチング液Eを積層板面に噴
霧して積層板の表面銅箔を溶解除去することもできる。
このエッチング装置のスプレー装置20によれば、積層
板の基材や樹脂を劣化させず、かつ表面のエッチングレ
ジストを破壊することなく均一なエッチング速度を保持
して表面の銅箔を溶解除去することができる。このとき
スプレー装置としてはノズル21に首振り機構を備え、
スプレー圧力、スプレー量等を管理調整できるようにな
っている。
In this embodiment, the laminated plate was immersed in the etching solution bath to etch the outer layer copper foil 1.
It is also possible to spray and remove the etching liquid E on the surface of the laminated plate by the spray device 20 provided in the in-line etching apparatus as shown in FIG.
According to the spray device 20 of this etching device, it is possible to dissolve and remove the copper foil on the surface without deteriorating the base material and resin of the laminated plate and maintaining a uniform etching rate without destroying the etching resist on the surface. You can At this time, as a spray device, the nozzle 21 is provided with a swinging mechanism,
The spray pressure and spray amount can be controlled and adjusted.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によりパターン銅メッキ7層厚を薄くし、パターンエッ
チング時のサイドエッチングを減少させたので、配線板
上の回路パターンの高精度の細密化を果たせるととも
に、積層板とパターン銅メッキ7層との密着性を保持
し、高品質なプリント配線板を簡易な方法で製造するこ
とができるという効果を奏する。
As is clear from the above description, according to the present invention, the pattern copper plating 7 layer is thinned to reduce the side etching at the time of pattern etching. And the adhesion between the laminated board and the pattern copper plating 7 layer is maintained, and a high quality printed wiring board can be manufactured by a simple method.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明によるプリント配線板の製造方法の一実
施例の工程を示した配線板部分断面図。
FIG. 1 is a partial cross-sectional view of a wiring board showing steps of an embodiment of a method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention.

【図2】図1に示した工程の次工程を示した配線板部分
断面図。
FIG. 2 is a partial cross-sectional view of a wiring board showing a step subsequent to the step shown in FIG.

【図3】図2に示した工程の次工程を示した配線板部分
断面図。
FIG. 3 is a partial cross-sectional view of a wiring board showing a step subsequent to the step shown in FIG.

【図4】図3に示した工程の次工程を示した配線板部分
断面図。
FIG. 4 is a partial cross-sectional view of a wiring board showing a step subsequent to the step shown in FIG.

【図5】図4に示した工程の次工程を示した配線板部分
断面図。
5 is a partial cross-sectional view of a wiring board showing a step subsequent to the step shown in FIG.

【図6】図5に示した工程の次工程を示した配線板部分
断面図。
FIG. 6 is a partial cross-sectional view of a wiring board showing a step subsequent to the step shown in FIG.

【図7】スプレー装置によるエッチング工程を示した斜
視図。
FIG. 7 is a perspective view showing an etching process using a spray device.

【図8】従来のプリント配線板の一例のスルーホール5
部分の断面構造を示した配線板部分断面図。
FIG. 8 is a through hole 5 as an example of a conventional printed wiring board.
FIG. 3 is a partial cross-sectional view of a wiring board showing a partial cross-sectional structure.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 外層銅箔 1a マット面 2 樹脂含浸プリプレグ 3 内層パターン 4 パネル銅メッキ 5 スルーホール 6 メッキレジスト用パターン 7 パターン銅メッキ 8 はんだメッキ 10 エッチングされた外層銅箔 20 スプレー装置 1 outer layer copper foil 1a matte surface 2 resin impregnated prepreg 3 inner layer pattern 4 panel copper plating 5 through holes 6 plating resist pattern 7 pattern copper plating 8 solder plating 10 etched outer layer copper foil 20 sprayer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H05K 3/46 B 6921−4E ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Internal reference number FI technical display location H05K 3/46 B 6921-4E

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】少なくとも外面の表裏に銅箔層が形成され
た積層板の該銅箔層をほぼ均一な層厚で除去する工程
と、前記積層板にスルーホールを穿設するとともに、該
スルーホールの孔壁と前記外面の一部が除去された前記
銅箔層の表面にパネル銅メッキを行う工程と、該パネル
銅メッキ表面にメッキレジスト及びパターン銅メッキを
施した上にエッチングレジストを形成する工程と、前記
メッキレジストを除去して前記銅メッキ及び銅箔層をエ
ッチングして回路を形成する工程とを含むことを特徴と
するプリント配線板の製造方法。
1. A step of removing a copper foil layer of a laminate having a copper foil layer formed on at least the front and back surfaces of the outer surface thereof with a substantially uniform layer thickness, and forming a through hole in the laminate and forming the through hole. A step of performing panel copper plating on the surface of the copper foil layer from which a part of the hole wall and the outer surface of the hole is removed, and a plating resist and a pattern copper plating are applied to the panel copper plating surface to form an etching resist And a step of removing the plating resist and etching the copper plating and copper foil layers to form a circuit.
【請求項2】前記積層板は、硫酸/過酸化水素系、塩化
第二鉄系、塩化第二銅系、アルカリエッチャントのいず
れかからなるハードエッチング液あるいは過硫酸アンモ
ニウム、硫酸/過酸化水素系のいずれかからなるソフト
エッチング液を充填した槽内に所定時間浸漬され、前記
銅箔層がエッチングにより所定層厚だけ除去されるよう
にしたことを特徴とする請求項1記載のプリント配線板
の製造方法。
2. The laminated plate is made of a hard etching solution containing any one of sulfuric acid / hydrogen peroxide, ferric chloride, cupric chloride, and alkali etchant, or ammonium persulfate, sulfuric acid / hydrogen peroxide. 2. A printed wiring board according to claim 1, wherein the copper foil layer is removed by etching to a predetermined layer thickness by immersing the copper foil layer in a bath filled with any one of the soft etching solutions for a predetermined time. Method.
【請求項3】前記積層板は、硫酸/過酸化水素系、塩化
第二鉄系、塩化第二銅系、アルカリエッチャントのいず
れかからなるハードエッチング液あるいは過硫酸アンモ
ニウム、硫酸/過酸化水素系のいずれかからなるソフト
エッチング液をスプレーノズルにより前記銅箔層の表面
に噴霧させて、前記銅箔層がエッチングにより所定層厚
だけ除去されるようにしたことを特徴とする請求項1記
載のプリント配線板の製造方法。
3. The hard disk of any one of sulfuric acid / hydrogen peroxide type, ferric chloride type, cupric chloride type and alkali etchant, or ammonium persulfate, sulfuric acid / hydrogen peroxide type. 2. The print according to claim 1, wherein a soft etching liquid containing any one of them is sprayed onto the surface of the copper foil layer by a spray nozzle so that the copper foil layer is removed by a predetermined thickness by etching. Wiring board manufacturing method.
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