JPH06132442A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
半導体装置およびその製造方法Info
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- JPH06132442A JPH06132442A JP4279847A JP27984792A JPH06132442A JP H06132442 A JPH06132442 A JP H06132442A JP 4279847 A JP4279847 A JP 4279847A JP 27984792 A JP27984792 A JP 27984792A JP H06132442 A JPH06132442 A JP H06132442A
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- Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 実装時水蒸気爆発の起き難い表面実装型樹脂
封止型半導体装置の提供 【構成】 タブ4に複合型十字状スリット配列のスリッ
ト10を設け、かつチップボンディングにおいては、前
記スリットやタブの縁によって区画化された9箇所の分
割状タブ領域11のうちの四隅4箇所の分割状タブ領域
にのみAgペーストからなる塗布ペースト12を塗布し
て半導体素子5を固定する。前記Agペースト8は15
〜25μm程度と薄くなっている。薄く部分的であるこ
とから、Agペースト8での水分吸湿量が少なくなり、
半導体装置20のリフロー実装時、Agペーストに吸湿
された水分による水蒸気爆発が起きなくなる。この結
果、モールド樹脂1におけるクラック,タブ4と半導体
素子5の剥離,これらに伴うワイヤの破断等は発生しな
くなる。
封止型半導体装置の提供 【構成】 タブ4に複合型十字状スリット配列のスリッ
ト10を設け、かつチップボンディングにおいては、前
記スリットやタブの縁によって区画化された9箇所の分
割状タブ領域11のうちの四隅4箇所の分割状タブ領域
にのみAgペーストからなる塗布ペースト12を塗布し
て半導体素子5を固定する。前記Agペースト8は15
〜25μm程度と薄くなっている。薄く部分的であるこ
とから、Agペースト8での水分吸湿量が少なくなり、
半導体装置20のリフロー実装時、Agペーストに吸湿
された水分による水蒸気爆発が起きなくなる。この結
果、モールド樹脂1におけるクラック,タブ4と半導体
素子5の剥離,これらに伴うワイヤの破断等は発生しな
くなる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は樹脂封止型半導体装置、
特に表面実装型樹脂封止型半導体装置に関する。
特に表面実装型樹脂封止型半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】電子機器は、機能面から高密度実装化
が、実装面から軽量化,小型化,薄型化が要請されてい
る。このため、電子機器に組み込まれる電子部品の多く
は、表面実装が可能な構造に移行してきている。表面実
装型樹脂封止型半導体装置については、たとえば、工業
調査会発行「電子材料」1988年4月号、昭和63年
4月1日発行、P74〜P79に記載されている。この
文献には、高密度表面実装型半導体デバイスにおいて、
パッケージを形成する樹脂の吸湿とリフロー実装に起因
する樹脂剥離,樹脂クラックについて記載されている。
また、この文献には、「高密度表面実装化にともなっ
て,パッケージはSOP(Small Outline
Package),SOJ(Small Outli
ne J−lead),QFP(Quad Flat
Package),PLCC(Plastic Lea
ded Chip Carrier)など多種多様化
し,ハンダディップ方式を始め,赤外線,ベーパフェー
ズなどのリフロー方式が採用されるようになった。20
0℃以上のディップやリフロー条件下にさらすと,封止
樹脂は熱変形を起こし,リードフレームやチップとの剥
離や内部樹脂クラックが発生し,耐湿性の著しい劣化を
招く」と記載され、かつ剥離,樹脂クラックの発生機構
が図解されている。この図において、剥離は、半導体素
子と樹脂との界面および半導体素子を固定したタブ裏面
と樹脂との界面で発生している。
が、実装面から軽量化,小型化,薄型化が要請されてい
る。このため、電子機器に組み込まれる電子部品の多く
は、表面実装が可能な構造に移行してきている。表面実
装型樹脂封止型半導体装置については、たとえば、工業
調査会発行「電子材料」1988年4月号、昭和63年
4月1日発行、P74〜P79に記載されている。この
文献には、高密度表面実装型半導体デバイスにおいて、
パッケージを形成する樹脂の吸湿とリフロー実装に起因
する樹脂剥離,樹脂クラックについて記載されている。
また、この文献には、「高密度表面実装化にともなっ
て,パッケージはSOP(Small Outline
Package),SOJ(Small Outli
ne J−lead),QFP(Quad Flat
Package),PLCC(Plastic Lea
ded Chip Carrier)など多種多様化
し,ハンダディップ方式を始め,赤外線,ベーパフェー
ズなどのリフロー方式が採用されるようになった。20
0℃以上のディップやリフロー条件下にさらすと,封止
樹脂は熱変形を起こし,リードフレームやチップとの剥
離や内部樹脂クラックが発生し,耐湿性の著しい劣化を
招く」と記載され、かつ剥離,樹脂クラックの発生機構
が図解されている。この図において、剥離は、半導体素
子と樹脂との界面および半導体素子を固定したタブ裏面
と樹脂との界面で発生している。
【0003】一方、特開昭59−16357号公報に
は、半導体ペレット(半導体素子)が搭載される部分の
一部あるいは数箇所を抜いた構造のアイランドを有する
リードフレームを用いて半導体装置を製造した例が記載
されている。この公報には、「アイランド内で抜き去っ
た部分に樹脂が充填されるので、アイランド面の樹脂の
体積が増える。従って、等価的にこの部分の樹脂が厚く
なり熱ストレスや水分等に強くなるので、高信頼度のモ
ールド品が得られる」旨記載されている。
は、半導体ペレット(半導体素子)が搭載される部分の
一部あるいは数箇所を抜いた構造のアイランドを有する
リードフレームを用いて半導体装置を製造した例が記載
されている。この公報には、「アイランド内で抜き去っ
た部分に樹脂が充填されるので、アイランド面の樹脂の
体積が増える。従って、等価的にこの部分の樹脂が厚く
なり熱ストレスや水分等に強くなるので、高信頼度のモ
ールド品が得られる」旨記載されている。
【0004】また、ダイパッドに穴を設けた例として、
日立評論社発行「日立評論」1992年第3号、平成4
年3月25日発行、P75〜P80に開示された技術が
ある。この文献では、封止樹脂とダイパッドの界面の密
着性を向上するために、ダイパッドに貫通穴を設け、ダ
イパッドの分割によってリフロー時の水蒸気圧による剥
離発生を低減している。前記貫通穴は十文字状または十
文字状の繰り返し配列になっている。
日立評論社発行「日立評論」1992年第3号、平成4
年3月25日発行、P75〜P80に開示された技術が
ある。この文献では、封止樹脂とダイパッドの界面の密
着性を向上するために、ダイパッドに貫通穴を設け、ダ
イパッドの分割によってリフロー時の水蒸気圧による剥
離発生を低減している。前記貫通穴は十文字状または十
文字状の繰り返し配列になっている。
【0005】また、ダイ・パッド部に貫通した穴を開け
て樹脂との密着性を向上させた例としては、日経BP社
発行「日経マイクロデバイス」1988年5月号、昭和
63年5月1日発行、P41〜P47に開示された技術
がある。このダイ・パッド部に貫通した穴を開けて樹脂
との密着性を上げた半導体装置の場合は、半田でチップ
を固定した構造となっている。そして、この文献には
「チップが半田付けだからできる。Agペーストなどで
は貫通穴をふさいでしまう」という競合メーカーの意見
もあることが紹介されている。また、この文献によれ
ば、ダイ・パッドとチップとの接合は、半田,絶縁性の
接着剤,銀ペーストで行っていること、多くのメーカー
は銀ペーストを接着済として使用していることが記載さ
れている。さらに、この文献には、リフロークラックを
解決する対策の一つとして、「水分の浸入を少なくす
る。浸入しても早めに水分を出す」なる対策方法がある
旨記載され、かつ「タイ・バーから水分を逃がす」こと
が記載されている。そして、要約すると、「リードフレ
ームと樹脂との密着性を上げるばかりが良い方向とは限
らない」とし、「むしろすき間があった方が、水分はパ
ッケージの外部に出ていきやすいのではないかと見る」
という考えがあり、「4MDRAMになるとつりピン
(タイ・バー)が短かくなるので、リードフレームと樹
脂の界面にたまった水分が外部に出やすくなる」という
意見もある旨記載されている。
て樹脂との密着性を向上させた例としては、日経BP社
発行「日経マイクロデバイス」1988年5月号、昭和
63年5月1日発行、P41〜P47に開示された技術
がある。このダイ・パッド部に貫通した穴を開けて樹脂
との密着性を上げた半導体装置の場合は、半田でチップ
を固定した構造となっている。そして、この文献には
「チップが半田付けだからできる。Agペーストなどで
は貫通穴をふさいでしまう」という競合メーカーの意見
もあることが紹介されている。また、この文献によれ
ば、ダイ・パッドとチップとの接合は、半田,絶縁性の
接着剤,銀ペーストで行っていること、多くのメーカー
は銀ペーストを接着済として使用していることが記載さ
れている。さらに、この文献には、リフロークラックを
解決する対策の一つとして、「水分の浸入を少なくす
る。浸入しても早めに水分を出す」なる対策方法がある
旨記載され、かつ「タイ・バーから水分を逃がす」こと
が記載されている。そして、要約すると、「リードフレ
ームと樹脂との密着性を上げるばかりが良い方向とは限
らない」とし、「むしろすき間があった方が、水分はパ
ッケージの外部に出ていきやすいのではないかと見る」
という考えがあり、「4MDRAMになるとつりピン
(タイ・バー)が短かくなるので、リードフレームと樹
脂の界面にたまった水分が外部に出やすくなる」という
意見もある旨記載されている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】表面実装型樹脂封止型
半導体装置は、前記文献にも記載されているように、図
8に示すように、モールド樹脂1からなるパッケージ2
の周囲からリード3を突出させる外観形状となってい
る。また、パッケージ2内においては、タブ4の上面に
半導体素子(半導体チップ)5が固定されている。そし
て、前記半導体チップ5の図示しない電極と前記リード
3の内端が導電性のワイヤ6で電気的に接続されてい
る。このような半導体装置において、前記モールド樹脂
1内に吸湿されかつタブ4とモールド樹脂1の間に溜ま
った水分は、半導体装置の実装時の熱によって気化しか
つ急激に膨張する(水蒸気爆発)。この結果、同図のよ
うにモールド樹脂1がタブ4や半導体素子5から剥離
(剥離による空隙7)したり、タブ4の端や半導体チッ
プ5の端からクラック9が延びてしまう。また、極端な
場合には、パッケージ2(モールド樹脂1)が割れてし
まう。
半導体装置は、前記文献にも記載されているように、図
8に示すように、モールド樹脂1からなるパッケージ2
の周囲からリード3を突出させる外観形状となってい
る。また、パッケージ2内においては、タブ4の上面に
半導体素子(半導体チップ)5が固定されている。そし
て、前記半導体チップ5の図示しない電極と前記リード
3の内端が導電性のワイヤ6で電気的に接続されてい
る。このような半導体装置において、前記モールド樹脂
1内に吸湿されかつタブ4とモールド樹脂1の間に溜ま
った水分は、半導体装置の実装時の熱によって気化しか
つ急激に膨張する(水蒸気爆発)。この結果、同図のよ
うにモールド樹脂1がタブ4や半導体素子5から剥離
(剥離による空隙7)したり、タブ4の端や半導体チッ
プ5の端からクラック9が延びてしまう。また、極端な
場合には、パッケージ2(モールド樹脂1)が割れてし
まう。
【0007】表面実装型樹脂封止型半導体装置における
実装時の水蒸気爆発によるタブと樹脂との剥離やクラッ
ク発生抑止は、タブとパッケージを構成する樹脂との接
着強度を強くするだけでは充分ではないことが、前記文
献にも記載されている。すなわち、水分をパッケージ外
に速やかに放出させることも大事である。また、本発明
による水蒸気爆発によって破損した半導体装置の分析検
討によって、図9に示すように、クラック9の中には、
半導体素子5とタブ4を接合する接着済である銀ペース
ト(Agペースト)8の端から発生しているものがある
ことが判明した。このことは、Agペースト8が水分を
含み、これによって水蒸気爆発が発生し、半導体素子5
とタブ4との間での剥離(図示せず)やモールド樹脂1
でのクラック発生につながることを示すものである。
実装時の水蒸気爆発によるタブと樹脂との剥離やクラッ
ク発生抑止は、タブとパッケージを構成する樹脂との接
着強度を強くするだけでは充分ではないことが、前記文
献にも記載されている。すなわち、水分をパッケージ外
に速やかに放出させることも大事である。また、本発明
による水蒸気爆発によって破損した半導体装置の分析検
討によって、図9に示すように、クラック9の中には、
半導体素子5とタブ4を接合する接着済である銀ペース
ト(Agペースト)8の端から発生しているものがある
ことが判明した。このことは、Agペースト8が水分を
含み、これによって水蒸気爆発が発生し、半導体素子5
とタブ4との間での剥離(図示せず)やモールド樹脂1
でのクラック発生につながることを示すものである。
【0008】一方、本出願人においては、図10に示す
ように、タブ(ダイパッド)4に孔(スリット)10を
設けている。また、この孔10は、ダイパッドの分割を
図るように十文字状繰り返し孔配列(複合型十字状スリ
ット配列または単一の十文字状スリット配列)となって
いる。一般にタブにAgペーストを用いて半導体素子を
固定する場合、タブの半導体素子取付領域に1箇所また
は数箇所Agペーストを塗布した後、前記半導体素子取
付領域に半導体素子を重ねて取り付け、その後前記Ag
ペーストを硬化させてタブに半導体素子を固定してい
る。また、前記タブの半導体素子取付領域に半導体素子
を重ねて取り付ける際、半導体素子に一定の外力(加圧
力)を働かせて、半導体素子とタブとの間のAgペース
トを押し潰して広げ、タブの平坦面と半導体素子とが全
域で密着するようにしている。したがって、本出願人に
おいても、前記十文字状スリットまたは複合型十字スリ
ットを有するタブ4においては、スリット10で分割化
された分割状タブ領域11、すなわち、スリット10と
タブ4の周縁で囲まれた各分割状タブ領域11の略中心
部分に、ディスペンサーを用いてAgペーストを滴下し
てスポット的に塗布(塗布ペースト12)し、その後半
導体素子5を取り付け、かつAgペーストを硬化させて
半導体素子5をタブ4に固定している。二点鎖線で示す
前記塗布ペースト12は、半導体素子5の取り付け時に
加圧されて押し潰されることから、図10においてハッ
チングで示されるように分割状タブ領域11は勿論のこ
ととして、各分割状タブ領域11を連結する連結部分1
3にまで広がる。この図1で示すハッチング部分がAg
ペースト8である。また、前記文献に示されているよう
に、Agペースト8は、その量によってはスリット10
部分にまで流れ込むこともある。
ように、タブ(ダイパッド)4に孔(スリット)10を
設けている。また、この孔10は、ダイパッドの分割を
図るように十文字状繰り返し孔配列(複合型十字状スリ
ット配列または単一の十文字状スリット配列)となって
いる。一般にタブにAgペーストを用いて半導体素子を
固定する場合、タブの半導体素子取付領域に1箇所また
は数箇所Agペーストを塗布した後、前記半導体素子取
付領域に半導体素子を重ねて取り付け、その後前記Ag
ペーストを硬化させてタブに半導体素子を固定してい
る。また、前記タブの半導体素子取付領域に半導体素子
を重ねて取り付ける際、半導体素子に一定の外力(加圧
力)を働かせて、半導体素子とタブとの間のAgペース
トを押し潰して広げ、タブの平坦面と半導体素子とが全
域で密着するようにしている。したがって、本出願人に
おいても、前記十文字状スリットまたは複合型十字スリ
ットを有するタブ4においては、スリット10で分割化
された分割状タブ領域11、すなわち、スリット10と
タブ4の周縁で囲まれた各分割状タブ領域11の略中心
部分に、ディスペンサーを用いてAgペーストを滴下し
てスポット的に塗布(塗布ペースト12)し、その後半
導体素子5を取り付け、かつAgペーストを硬化させて
半導体素子5をタブ4に固定している。二点鎖線で示す
前記塗布ペースト12は、半導体素子5の取り付け時に
加圧されて押し潰されることから、図10においてハッ
チングで示されるように分割状タブ領域11は勿論のこ
ととして、各分割状タブ領域11を連結する連結部分1
3にまで広がる。この図1で示すハッチング部分がAg
ペースト8である。また、前記文献に示されているよう
に、Agペースト8は、その量によってはスリット10
部分にまで流れ込むこともある。
【0009】本発明の目的は、実装時水蒸気爆発の起き
難い表面実装型樹脂封止型半導体装置を提供することに
ある。特にタブに半導体素子を接着する接着済部分の水
分に起因する水蒸気爆発の発生を抑える技術を提供する
ことにある。本発明の前記ならびにそのほかの目的と新
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきら
かになるであろう。
難い表面実装型樹脂封止型半導体装置を提供することに
ある。特にタブに半導体素子を接着する接着済部分の水
分に起因する水蒸気爆発の発生を抑える技術を提供する
ことにある。本発明の前記ならびにそのほかの目的と新
規な特徴は、本明細書の記述および添付図面からあきら
かになるであろう。
【0010】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。すなわち、本発明の表面実装型樹脂
封止型半導体装置は、パッケージ内に設けられたタブに
Agペーストを介して半導体素子を固定する構造となっ
ているとともに、前記タブには複数の孔(スリット)が
設けられている。前記複数のスリットは十文字状繰り返
し孔配列となり、複数のスリットによって囲まれる分割
状タブ領域および複数のスリットとタブ縁に囲まれる分
割状タブ領域を形成している。そして、前記タブの半導
体素子取付領域に半導体素子を固定する際は、前記タブ
の半導体素子取付領域において所望領域である分割状タ
ブ領域の周辺部分および分割状タブ領域を連結する連結
部分にAgペーストが存在しない状態を作り出すよう
に、前記Agペーストの塗布位置および塗布量ならびに
Agペーストに加える加圧力を選択し、その後半導体素
子をタブの半導体素子取付領域に固定する。これによっ
て、半導体素子はタブの平坦面の一部がAgペーストで
固定され、少なくともスリット,連結部分にはAgペー
ストが存在しない領域となる。また、半導体素子をタブ
に固定したAgペーストの厚さは接着に必要最小限の厚
さ、たとえば15〜25μm程度と薄くされている。
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。すなわち、本発明の表面実装型樹脂
封止型半導体装置は、パッケージ内に設けられたタブに
Agペーストを介して半導体素子を固定する構造となっ
ているとともに、前記タブには複数の孔(スリット)が
設けられている。前記複数のスリットは十文字状繰り返
し孔配列となり、複数のスリットによって囲まれる分割
状タブ領域および複数のスリットとタブ縁に囲まれる分
割状タブ領域を形成している。そして、前記タブの半導
体素子取付領域に半導体素子を固定する際は、前記タブ
の半導体素子取付領域において所望領域である分割状タ
ブ領域の周辺部分および分割状タブ領域を連結する連結
部分にAgペーストが存在しない状態を作り出すよう
に、前記Agペーストの塗布位置および塗布量ならびに
Agペーストに加える加圧力を選択し、その後半導体素
子をタブの半導体素子取付領域に固定する。これによっ
て、半導体素子はタブの平坦面の一部がAgペーストで
固定され、少なくともスリット,連結部分にはAgペー
ストが存在しない領域となる。また、半導体素子をタブ
に固定したAgペーストの厚さは接着に必要最小限の厚
さ、たとえば15〜25μm程度と薄くされている。
【0011】
【作用】上記した手段によれば、本発明の表面実装型樹
脂封止型半導体装置は、タブと半導体素子を接着するA
gペーストは部分的であることと、薄いことから、Ag
ペースト部分が吸収する水分の量(水分吸湿量)が減
る。したがって、この半導体装置のリフロー実装時、A
gペースト部分での水分の絶対量が少ないことによって
水蒸気爆発の発生が抑止できる。
脂封止型半導体装置は、タブと半導体素子を接着するA
gペーストは部分的であることと、薄いことから、Ag
ペースト部分が吸収する水分の量(水分吸湿量)が減
る。したがって、この半導体装置のリフロー実装時、A
gペースト部分での水分の絶対量が少ないことによって
水蒸気爆発の発生が抑止できる。
【0012】
【実施例】以下図面を参照して本発明の一実施例につい
て説明する。図1は本発明の一実施例による半導体装置
におけるタブと半導体素子の相関を示す模式的平面図、
図2は本発明の半導体装置の断面図、図3は同じく半導
体装置の平面図、図4は本発明の半導体装置の製造に用
いられるリードフレームの平面図、図5は本発明の半導
体装置の製造においてチップボンディング,ワイヤボン
ディング等が行われたリードフレームの平面図である。
て説明する。図1は本発明の一実施例による半導体装置
におけるタブと半導体素子の相関を示す模式的平面図、
図2は本発明の半導体装置の断面図、図3は同じく半導
体装置の平面図、図4は本発明の半導体装置の製造に用
いられるリードフレームの平面図、図5は本発明の半導
体装置の製造においてチップボンディング,ワイヤボン
ディング等が行われたリードフレームの平面図である。
【0013】本発明による表面実装型樹脂封止型半導体
装置は、図2および図3に示すように、外観的にはモー
ルド樹脂1によって形成されたパッケージ2と、このパ
ッケージ2の周囲から突出する複数のリード3とからな
っている。前記リード3は、パッケージ2の内外に亘っ
て延在する。パッケージ2から突出するアウターリード
10の端子形状は特に限定はされないが、ガルウイング
型表面実装形状となっている。また、前記モールド樹脂
1の中心部分には、タブ4が配置されるとともに、この
タブ4上には半導体チップ5が接着済11を介して固定
されている。図1では接着済11が部分的に使用されて
いる状態を示してあるが、半導体素子5の全面で接着さ
せてもよい。また、前記半導体素子5の電極と、パッケ
ージ2内に位置するリード3部分、すなわちインナーリ
ード12の内端は、導電性のワイヤ6で接続されてい
る。
装置は、図2および図3に示すように、外観的にはモー
ルド樹脂1によって形成されたパッケージ2と、このパ
ッケージ2の周囲から突出する複数のリード3とからな
っている。前記リード3は、パッケージ2の内外に亘っ
て延在する。パッケージ2から突出するアウターリード
10の端子形状は特に限定はされないが、ガルウイング
型表面実装形状となっている。また、前記モールド樹脂
1の中心部分には、タブ4が配置されるとともに、この
タブ4上には半導体チップ5が接着済11を介して固定
されている。図1では接着済11が部分的に使用されて
いる状態を示してあるが、半導体素子5の全面で接着さ
せてもよい。また、前記半導体素子5の電極と、パッケ
ージ2内に位置するリード3部分、すなわちインナーリ
ード12の内端は、導電性のワイヤ6で接続されてい
る。
【0014】一方、前記半導体素子5が固定されるタブ
4には、図1に示すように孔10が複数設けられてい
る。この孔10は細長のスリット10となるとともに、
4個のスリット10によって十文字状を形成している。
また、タブ4のスリットパターンは、前記単一の十文字
状配列が二次元方向に繰り返し配列されたパターンとな
っている。そして、これらのスリット10によって、タ
ブ4は9個の平坦領域に分割(区画)化される。すなわ
ち、この分割化された領域(分割状タブ領域11)は、
周囲が4個のスリット10で囲まれた中央箇所と、二辺
または三辺がスリット10の縁で形成されかつ残りの二
辺または一辺がタブ4の縁で形成される周辺の8箇所と
なる。そして、このようなタブ4に固定された半導体素
子5は、タブ4の四隅の分割状タブ領域11部分のみが
Agペースト8によって固定された構造となっている。
4には、図1に示すように孔10が複数設けられてい
る。この孔10は細長のスリット10となるとともに、
4個のスリット10によって十文字状を形成している。
また、タブ4のスリットパターンは、前記単一の十文字
状配列が二次元方向に繰り返し配列されたパターンとな
っている。そして、これらのスリット10によって、タ
ブ4は9個の平坦領域に分割(区画)化される。すなわ
ち、この分割化された領域(分割状タブ領域11)は、
周囲が4個のスリット10で囲まれた中央箇所と、二辺
または三辺がスリット10の縁で形成されかつ残りの二
辺または一辺がタブ4の縁で形成される周辺の8箇所と
なる。そして、このようなタブ4に固定された半導体素
子5は、タブ4の四隅の分割状タブ領域11部分のみが
Agペースト8によって固定された構造となっている。
【0015】このように、四隅の分割状タブ領域11の
みがチップボンディングに供されるように、半導体装置
製造におけるチップボンディング時のディスペンサによ
るAgペーストの塗布は、タブ4の四隅の分割状タブ領
域11に行われる。また、Agペーストがチップボンデ
ィングに供したくない領域に連結部分13を越えて浸入
しないように、ディスペンサによるAgペーストの塗布
は、図1に示すように、タブ4の四隅の分割状タブ領域
11の中央にスポット的に塗布される。図1の二点鎖線
で示す箇所がAgペースト8による塗布ペースト12で
ある。
みがチップボンディングに供されるように、半導体装置
製造におけるチップボンディング時のディスペンサによ
るAgペーストの塗布は、タブ4の四隅の分割状タブ領
域11に行われる。また、Agペーストがチップボンデ
ィングに供したくない領域に連結部分13を越えて浸入
しないように、ディスペンサによるAgペーストの塗布
は、図1に示すように、タブ4の四隅の分割状タブ領域
11の中央にスポット的に塗布される。図1の二点鎖線
で示す箇所がAgペースト8による塗布ペースト12で
ある。
【0016】Agペースト8の塗布がスポット的で少な
いことから、半導体素子5に一定の加圧力を加えて塗布
ペースト12を押し潰して半導体素子5を固定した場
合、タブ4に半導体素子5を固定するAgペースト8
(図1では一部にハッチングを施して示してある)の厚
さは、特に限定はされないが、15〜25μm程度と薄
くなる。また、局所的固定となることから、図2におけ
るタブ4の中央領域および図1の四隅の分割状タブ領域
11を除く領域は、接着済がない領域、すなわち無接着
領域14となっている。この無接着領域14は吸湿性の
Agペーストが存在しないことから、水分の溜まる率
(水分吸湿率)が低い。
いことから、半導体素子5に一定の加圧力を加えて塗布
ペースト12を押し潰して半導体素子5を固定した場
合、タブ4に半導体素子5を固定するAgペースト8
(図1では一部にハッチングを施して示してある)の厚
さは、特に限定はされないが、15〜25μm程度と薄
くなる。また、局所的固定となることから、図2におけ
るタブ4の中央領域および図1の四隅の分割状タブ領域
11を除く領域は、接着済がない領域、すなわち無接着
領域14となっている。この無接着領域14は吸湿性の
Agペーストが存在しないことから、水分の溜まる率
(水分吸湿率)が低い。
【0017】このような表面実装型樹脂封止型半導体装
置20は、タブ4と半導体素子5との間のAgペースト
8は部分的であり、かつ面積的にもタブ4の半導体素子
取付領域の半分以下となる。また、Agペースト8の厚
さも15〜25μmと薄いため、タブ4と半導体素子5
間のAgペースト8の絶対量は、半導体素子取付領域全
体にAgペースト8を設ける従来に比較して大幅に少な
くなり、Agペースト8における水分吸湿量も少なくな
る。この結果、この半導体装置20のリフロー実装時、
Agペースト8に吸湿された水分がリフロー実装による
熱によって気化する際、気化する量も少ないことから水
蒸気爆発を起こすようなことはなく、モールド樹脂1に
おけるクラック発生,タブ4と半導体素子5との剥離発
生,これらに伴うワイヤの破断発生は防止できることに
なる。
置20は、タブ4と半導体素子5との間のAgペースト
8は部分的であり、かつ面積的にもタブ4の半導体素子
取付領域の半分以下となる。また、Agペースト8の厚
さも15〜25μmと薄いため、タブ4と半導体素子5
間のAgペースト8の絶対量は、半導体素子取付領域全
体にAgペースト8を設ける従来に比較して大幅に少な
くなり、Agペースト8における水分吸湿量も少なくな
る。この結果、この半導体装置20のリフロー実装時、
Agペースト8に吸湿された水分がリフロー実装による
熱によって気化する際、気化する量も少ないことから水
蒸気爆発を起こすようなことはなく、モールド樹脂1に
おけるクラック発生,タブ4と半導体素子5との剥離発
生,これらに伴うワイヤの破断発生は防止できることに
なる。
【0018】つぎに、このような半導体装置20の製造
方法について図4および図5を用いて説明する。最初に
図4に示されるようなリードフレーム25が用意され
る。このリードフレーム25は、0.1mm〜0.15
mmの厚さのFe−Ni系合金あるいはCu合金等から
なる金属板をエッチングまたは精密プレスによってパタ
ーニングすることによって形成される。リードフレーム
25は複数の単位リードパターンを一方向に直列に並べ
た形状となっている。単位リードパターンは、一対の平
行に延在する外枠26と、この一対の外枠26を連結し
かつ外枠26に直交する方向に延在する一対の内枠27
とによって形成される枠28内に形成されている。この
枠28の中央には、矩形状のタブ(支持体)4が配設さ
れている。また、前記枠28の四隅の支持片部30から
は細いタブ吊りリード29が延在し、その先端で前記タ
ブ4の四隅をそれぞれ支持している。
方法について図4および図5を用いて説明する。最初に
図4に示されるようなリードフレーム25が用意され
る。このリードフレーム25は、0.1mm〜0.15
mmの厚さのFe−Ni系合金あるいはCu合金等から
なる金属板をエッチングまたは精密プレスによってパタ
ーニングすることによって形成される。リードフレーム
25は複数の単位リードパターンを一方向に直列に並べ
た形状となっている。単位リードパターンは、一対の平
行に延在する外枠26と、この一対の外枠26を連結し
かつ外枠26に直交する方向に延在する一対の内枠27
とによって形成される枠28内に形成されている。この
枠28の中央には、矩形状のタブ(支持体)4が配設さ
れている。また、前記枠28の四隅の支持片部30から
は細いタブ吊りリード29が延在し、その先端で前記タ
ブ4の四隅をそれぞれ支持している。
【0019】一方、前述のように前記タブ4には複合型
十字状スリット配列に孔(スリット)10が設けられて
いる。このスリット10は、レジンモールドの際、この
スリット10にモールド樹脂を流れ込ませ、モールド樹
脂とタブ4との接着強度向上を図るようになっている。
また、12本の前記スリット10とタブ4の縁によっ
て、中央および八方位にそれぞれ分割状タブ領域11が
形成されることになる。このようなリードフレーム25
において、本発明では、数ある分割状タブ領域11のう
ちの一部の分割状タブ領域11のみを半導体素子5を接
着するための領域として使用する。
十字状スリット配列に孔(スリット)10が設けられて
いる。このスリット10は、レジンモールドの際、この
スリット10にモールド樹脂を流れ込ませ、モールド樹
脂とタブ4との接着強度向上を図るようになっている。
また、12本の前記スリット10とタブ4の縁によっ
て、中央および八方位にそれぞれ分割状タブ領域11が
形成されることになる。このようなリードフレーム25
において、本発明では、数ある分割状タブ領域11のう
ちの一部の分割状タブ領域11のみを半導体素子5を接
着するための領域として使用する。
【0020】他方、前記枠28の各外枠26および内枠
27の内側からは、相互に平行となって枠28の中央の
タブ4に向かって複数のリード3が延在している。これ
らリード3はその先端をタブ4の近傍に臨ませている。
また、前記リード3は、前記隣合う支持片部30間に亘
って設けられた細いダム33と交差するパターンとなっ
ている。そして、このダム33によって各リード3はそ
の途中を支持されている。前記ダム33は後述するレジ
ンモールド時、溶けたレジンの流出を阻止するダムとし
て、また強度部材として作用する。なお、前記外枠26
には、図示しないガイド孔が設けられている。このガイ
ド孔は、リードフレーム25の移送や位置決め等のガイ
ドとして利用される。
27の内側からは、相互に平行となって枠28の中央の
タブ4に向かって複数のリード3が延在している。これ
らリード3はその先端をタブ4の近傍に臨ませている。
また、前記リード3は、前記隣合う支持片部30間に亘
って設けられた細いダム33と交差するパターンとなっ
ている。そして、このダム33によって各リード3はそ
の途中を支持されている。前記ダム33は後述するレジ
ンモールド時、溶けたレジンの流出を阻止するダムとし
て、また強度部材として作用する。なお、前記外枠26
には、図示しないガイド孔が設けられている。このガイ
ド孔は、リードフレーム25の移送や位置決め等のガイ
ドとして利用される。
【0021】つぎに、このようなリードフレーム25に
対して、図4に示すように、チップボンディングおよび
ワイヤボンディングが行われる。この実施例では、タブ
4の四隅の分割状タブ領域11のみを半導体素子5の接
着領域として使用する。そこで、ディスペンサによって
前記四隅の分割状タブ領域11にペースト状接着材、た
とえば、Agペースト8を数箇所に塗布する。Agペー
スト8の塗布は、図4に示すようにスポット的に行われ
る。塗布された二点鎖線で示される塗布ペースト12
は、塗布ペースト12が塗布された分割状タブ領域11
の表面に広がるが、分割状タブ領域11と分割状タブ領
域11を連結する連結部分13を越えて塗布ペースト1
2が塗布されない分割状タブ領域11に流れ込まないよ
うに、塗布ペースト12の塗布量が調整される。
対して、図4に示すように、チップボンディングおよび
ワイヤボンディングが行われる。この実施例では、タブ
4の四隅の分割状タブ領域11のみを半導体素子5の接
着領域として使用する。そこで、ディスペンサによって
前記四隅の分割状タブ領域11にペースト状接着材、た
とえば、Agペースト8を数箇所に塗布する。Agペー
スト8の塗布は、図4に示すようにスポット的に行われ
る。塗布された二点鎖線で示される塗布ペースト12
は、塗布ペースト12が塗布された分割状タブ領域11
の表面に広がるが、分割状タブ領域11と分割状タブ領
域11を連結する連結部分13を越えて塗布ペースト1
2が塗布されない分割状タブ領域11に流れ込まないよ
うに、塗布ペースト12の塗布量が調整される。
【0022】つぎに、図4に示すように、タブ4上に半
導体素子5が重ねられ、かつ一定の加圧力が加えられ
る。この加圧によって、前記塗布ペースト12は押し潰
されて塗布ペースト12が設けられた分割状タブ領域1
1と半導体素子5とを接着するようになる。この接着さ
れたAgペースト8の厚さは、できるだけ薄いことが水
分の吸湿を少なくすることで望ましい。前記タブ4と半
導体素子5との間に延在するAgペースト8の厚さは、
たとえば15〜25μm程度となっている。
導体素子5が重ねられ、かつ一定の加圧力が加えられ
る。この加圧によって、前記塗布ペースト12は押し潰
されて塗布ペースト12が設けられた分割状タブ領域1
1と半導体素子5とを接着するようになる。この接着さ
れたAgペースト8の厚さは、できるだけ薄いことが水
分の吸湿を少なくすることで望ましい。前記タブ4と半
導体素子5との間に延在するAgペースト8の厚さは、
たとえば15〜25μm程度となっている。
【0023】つぎに、図5に示すように、半導体素子5
の図示しない電極とリード3の内端は、導電性のワイヤ
6で接続(ワイヤボンディング)される。
の図示しない電極とリード3の内端は、導電性のワイヤ
6で接続(ワイヤボンディング)される。
【0024】つぎに、このリードフレーム25は、常用
のモールド(トランスファモールド)技術によって、所
定部分にパッケージ2が形成される。パッケージ2は、
図5の二点鎖線で示すように、タブ4,半導体素子5,
リード3の内端部分,ワイヤ6等を被う。つぎに、不要
となるリードフレーム部分は切断除去される。さらに、
パッケージ2から突出するリード3は成形されて、図2
に示されるようなガルウイング型の半導体装置20が製
造される。
のモールド(トランスファモールド)技術によって、所
定部分にパッケージ2が形成される。パッケージ2は、
図5の二点鎖線で示すように、タブ4,半導体素子5,
リード3の内端部分,ワイヤ6等を被う。つぎに、不要
となるリードフレーム部分は切断除去される。さらに、
パッケージ2から突出するリード3は成形されて、図2
に示されるようなガルウイング型の半導体装置20が製
造される。
【0025】このような半導体装置20においては、半
導体装置20を配線基板に実装した場合、すなわち、図
示しない配線基板上のフットプリントにパッケージ2か
ら突出するリード3の先端部分を重ね、半田リフローに
よってフットプリントとリード3の先端との接合を図っ
た場合、半田リフロー時の熱によってパッケージ内部の
水分は急激にガス化(水蒸気)するが、タブ4と半導体
素子5を接合するAgペースト8は局所的にしか設けら
れていないことと、Agペースト8の厚さは薄いことか
ら、水蒸気は極めて少なく、タブ4と半導体素子5との
界面での水蒸気爆発は発生しなくなる。
導体装置20を配線基板に実装した場合、すなわち、図
示しない配線基板上のフットプリントにパッケージ2か
ら突出するリード3の先端部分を重ね、半田リフローに
よってフットプリントとリード3の先端との接合を図っ
た場合、半田リフロー時の熱によってパッケージ内部の
水分は急激にガス化(水蒸気)するが、タブ4と半導体
素子5を接合するAgペースト8は局所的にしか設けら
れていないことと、Agペースト8の厚さは薄いことか
ら、水蒸気は極めて少なく、タブ4と半導体素子5との
界面での水蒸気爆発は発生しなくなる。
【0026】
【発明の効果】(1)本発明の表面実装型樹脂封止型半
導体装置にあっては、タブの一部にAgペーストを設
け、このAgペーストだ半導体素子を固定する構造とな
っている。したがって、このAgペーストでの水分の吸
湿量はすくなくなるため、半導体装置のリフロー実装時
の熱によるタブと半導体素子との間での水蒸気爆発は発
生しなくなるという効果が得られる。
導体装置にあっては、タブの一部にAgペーストを設
け、このAgペーストだ半導体素子を固定する構造とな
っている。したがって、このAgペーストでの水分の吸
湿量はすくなくなるため、半導体装置のリフロー実装時
の熱によるタブと半導体素子との間での水蒸気爆発は発
生しなくなるという効果が得られる。
【0027】(2)上記(1)により、本発明の表面実
装型樹脂封止型半導体装置にあっては、その製造時、タ
ブに複合型十字状スリット配列にスリットを設け、この
スリットを利用してAgペーストの部分接着を行わうこ
とから、半導体素子の部分接着が再現性良く行えるとい
う効果が得られる。
装型樹脂封止型半導体装置にあっては、その製造時、タ
ブに複合型十字状スリット配列にスリットを設け、この
スリットを利用してAgペーストの部分接着を行わうこ
とから、半導体素子の部分接着が再現性良く行えるとい
う効果が得られる。
【0028】(3)本発明の表面実装型樹脂封止型半導
体装置にあっては、タブと半導体素子を接着するAgペ
ーストは薄く形成されている。したがって、このAgペ
ーストにおける水分吸湿量は少なくなり、半導体装置の
リフロー実装時の熱によるタブと半導体素子との間での
水蒸気爆発は発生しなくなるという効果が得られる。
体装置にあっては、タブと半導体素子を接着するAgペ
ーストは薄く形成されている。したがって、このAgペ
ーストにおける水分吸湿量は少なくなり、半導体装置の
リフロー実装時の熱によるタブと半導体素子との間での
水蒸気爆発は発生しなくなるという効果が得られる。
【0029】(4)上記(1)〜(3)により、本発明
によれば、リフロー実装時水蒸気爆発が起き難い表面実
装型樹脂封止型半導体装置を提供することができるとい
う相乗効果が得られる。
によれば、リフロー実装時水蒸気爆発が起き難い表面実
装型樹脂封止型半導体装置を提供することができるとい
う相乗効果が得られる。
【0030】以上本発明者によってなされた発明を実施
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない、たとえば、
図6および図7に示すように、単一の十字状スリット配
列のスリット10を有するタブ4の場合は、図6に示す
ように、分割状タブ領域11の中央に少量のAgペース
ト8を滴下して小径の塗布ペースト12を形成する。そ
して、半導体素子5をタブ4に固定した場合には、図7
に示すように、押し潰されて広がったAgペースト8
が、分割状タブ領域11の中央部分にのみ存在し、周囲
は勿論のこととして連結部分13にも広がらないように
する。これによって、タブ4の主面において、Agペー
スト8が存在する領域と、Agペースト8が存在しない
無接着領域14を形成することができる。前記無接着領
域14は、タブ4における半導体素子取付領域の半分以
上となっている。また、この実施例の場合も、Agペー
スト8の厚さは15〜25μm程度となっている。した
がって、この半導体装置20もリフロー実装時に、タブ
4と半導体素子5における水蒸気爆発が起きなくなる。
例に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施例に
限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で
種々変更可能であることはいうまでもない、たとえば、
図6および図7に示すように、単一の十字状スリット配
列のスリット10を有するタブ4の場合は、図6に示す
ように、分割状タブ領域11の中央に少量のAgペース
ト8を滴下して小径の塗布ペースト12を形成する。そ
して、半導体素子5をタブ4に固定した場合には、図7
に示すように、押し潰されて広がったAgペースト8
が、分割状タブ領域11の中央部分にのみ存在し、周囲
は勿論のこととして連結部分13にも広がらないように
する。これによって、タブ4の主面において、Agペー
スト8が存在する領域と、Agペースト8が存在しない
無接着領域14を形成することができる。前記無接着領
域14は、タブ4における半導体素子取付領域の半分以
上となっている。また、この実施例の場合も、Agペー
スト8の厚さは15〜25μm程度となっている。した
がって、この半導体装置20もリフロー実装時に、タブ
4と半導体素子5における水蒸気爆発が起きなくなる。
【0031】以上の説明では主として本発明者によって
なされた発明をその背景となった利用分野である表面実
装型樹脂封止型半導体装置の製造技術に適用した場合に
ついて説明したが、それに限定されるものではない。本
発明は少なくとも樹脂封止型半導体装置の製造技術には
適用できる。
なされた発明をその背景となった利用分野である表面実
装型樹脂封止型半導体装置の製造技術に適用した場合に
ついて説明したが、それに限定されるものではない。本
発明は少なくとも樹脂封止型半導体装置の製造技術には
適用できる。
【図1】本発明の一実施例による半導体装置におけるタ
ブと半導体素子の相関を示す模式的平面図である。
ブと半導体素子の相関を示す模式的平面図である。
【図2】本発明の半導体装置の断面図である。
【図3】本発明の半導体装置の平面図である。
【図4】本発明の半導体装置の製造に用いられるリード
フレームの平面図である。
フレームの平面図である。
【図5】本発明の半導体装置の製造においてチップボン
ディング,ワイヤボンディング等が行われたリードフレ
ームの平面図である。
ディング,ワイヤボンディング等が行われたリードフレ
ームの平面図である。
【図6】本発明の他の実施例によるリードフレームにお
けるタブの平面図である。
けるタブの平面図である。
【図7】本発明の他の実施例によるリードフレームにお
けるタブに半導体素子が固定された状態を示す模式的平
面図である。
けるタブに半導体素子が固定された状態を示す模式的平
面図である。
【図8】従来の半導体装置における水蒸気爆発による破
損状態を示す模式的断面図である。
損状態を示す模式的断面図である。
【図9】本発明者観察による半導体装置の水蒸気爆発に
よるクラック例を示す模式的断面図である。
よるクラック例を示す模式的断面図である。
【図10】本出願人による半導体装置の製造におけるチ
ップボンディング状態を示す模式的平面図である。
ップボンディング状態を示す模式的平面図である。
1…モールド樹脂、2…パッケージ、3…リード、4…
タブ、5…半導体素子(半導体チップ)、6…ワイヤ、
7…空隙、8…銀ペースト(Agペースト)、9…クラ
ック、10…孔(スリット)、11…分割状タブ領域、
12…塗布ペースト、13…連結部分、14…無接着領
域、20…半導体装置、25…リードフレーム、26…
外枠、27…内枠、28…枠、29…タブ吊りリード、
30…支持片部、33…ダム。
タブ、5…半導体素子(半導体チップ)、6…ワイヤ、
7…空隙、8…銀ペースト(Agペースト)、9…クラ
ック、10…孔(スリット)、11…分割状タブ領域、
12…塗布ペースト、13…連結部分、14…無接着領
域、20…半導体装置、25…リードフレーム、26…
外枠、27…内枠、28…枠、29…タブ吊りリード、
30…支持片部、33…ダム。
Claims (4)
- 【請求項1】 モールド樹脂からなるパッケージと、こ
のパッケージ内に設けられたタブと、このタブに接着済
を介して固定された半導体素子と、前記パッケージの内
外に亘って延在する複数のリードとを有する半導体装置
であって、前記タブと半導体素子との接着に供されるタ
ブ平坦面の一部を接着済で固定してなることを特徴とす
る半導体装置。 - 【請求項2】 モールド樹脂からなるパッケージと、こ
のパッケージ内に設けられたタブと、このタブに接着済
を介して固定された半導体素子と、前記パッケージの内
外に亘って延在する複数のリードとを有する半導体装置
であって、前記タブには複数の孔が設けられ、かつこれ
ら孔に取り囲まれる領域および/または前記孔とタブの
周縁で囲まれる領域の一部は接着済が存在しない領域と
なっていることを特徴とする半導体装置。 - 【請求項3】 前記タブと前記半導体素子は銀ペースト
によって接着されていることを特徴とする請求項1また
は請求項2記載の半導体装置。 - 【請求項4】 タブの半導体素子取付領域に数箇所に亘
ってペースト状接着済を塗布する工程と、前記半導体素
子取付領域に半導体素子を重ねて取り付ける工程と、前
記ペースト状接着済を硬化させてタブに半導体素子を固
定する工程とを有する樹脂封止型半導体装置の製造方法
であって、前記タブの半導体素子取付領域において所望
領域にペースト状接着済が存在しない状態を作り出すよ
うに、前記ペースト状接着済の塗布位置および塗布量な
らびにペースト状接着済に加える加圧力を選択し、その
後半導体素子をタブの半導体素子取付領域に固定するこ
とを特徴とする半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4279847A JPH06132442A (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 半導体装置およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4279847A JPH06132442A (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 半導体装置およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06132442A true JPH06132442A (ja) | 1994-05-13 |
Family
ID=17616769
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4279847A Pending JPH06132442A (ja) | 1992-10-19 | 1992-10-19 | 半導体装置およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH06132442A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08213538A (ja) * | 1995-02-07 | 1996-08-20 | Nec Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
EP0724294A3 (en) * | 1995-01-25 | 1998-09-02 | Nec Corporation | Semiconductor device mounted on tub having central slit pattern and peripheral slit pattern for absorbing thermal stress |
EP0880179A2 (en) * | 1997-05-20 | 1998-11-25 | Fujitsu Limited | Venting hole designs for multilayer conductor-dielectric structures |
US8674520B2 (en) | 2011-02-22 | 2014-03-18 | Fujitsu Limited | Semiconductor device, method for manufacturing the same, and power supply unit |
US8728867B2 (en) | 2011-02-22 | 2014-05-20 | Fujitsu Limited | Semiconductor device, manufacturing method of semiconductor device, and power source device |
CN107994005A (zh) * | 2017-12-27 | 2018-05-04 | 天水华天科技股份有限公司 | 一种高可靠性阵列锁定式引线框架及其在封装件中的应用 |
-
1992
- 1992-10-19 JP JP4279847A patent/JPH06132442A/ja active Pending
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0724294A3 (en) * | 1995-01-25 | 1998-09-02 | Nec Corporation | Semiconductor device mounted on tub having central slit pattern and peripheral slit pattern for absorbing thermal stress |
JPH08213538A (ja) * | 1995-02-07 | 1996-08-20 | Nec Corp | 樹脂封止型半導体装置 |
EP0880179A2 (en) * | 1997-05-20 | 1998-11-25 | Fujitsu Limited | Venting hole designs for multilayer conductor-dielectric structures |
EP0880179A3 (en) * | 1997-05-20 | 1999-06-02 | Fujitsu Limited | Venting hole designs for multilayer conductor-dielectric structures |
US6106923A (en) * | 1997-05-20 | 2000-08-22 | Fujitsu Limited | Venting hole designs for multilayer conductor-dielectric structures |
US8674520B2 (en) | 2011-02-22 | 2014-03-18 | Fujitsu Limited | Semiconductor device, method for manufacturing the same, and power supply unit |
US8728867B2 (en) | 2011-02-22 | 2014-05-20 | Fujitsu Limited | Semiconductor device, manufacturing method of semiconductor device, and power source device |
US9082756B2 (en) | 2011-02-22 | 2015-07-14 | Fujitsu Limited | Semiconductor device and power source device |
CN107994005A (zh) * | 2017-12-27 | 2018-05-04 | 天水华天科技股份有限公司 | 一种高可靠性阵列锁定式引线框架及其在封装件中的应用 |
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