JPH0581860A - Semiconductor storage device - Google Patents
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- JPH0581860A JPH0581860A JP3270069A JP27006991A JPH0581860A JP H0581860 A JPH0581860 A JP H0581860A JP 3270069 A JP3270069 A JP 3270069A JP 27006991 A JP27006991 A JP 27006991A JP H0581860 A JPH0581860 A JP H0581860A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、半導体記憶装置に関
し、特に、読み出し速度の高速化と誤動作の防止が図ら
れた半導体記憶装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device in which read speed is increased and malfunction is prevented.
【0002】[0002]
【従来の技術】図5は、従来の読み出しデータ線と書き
込みデータ線の分離した構成をとる半導体記憶装置の主
要部の構成を概略的に示した図である。図において、ビ
ット線BL,/BLにはメモリセルMC,センスアンプ
S/A,データ書き込み回路からの信号のみを伝送する
1対の書き込みデータ線対WI,/WI及びビット線対
BL,/BLに生じた微小電位差をゲートで受け、それ
を増幅するカレントミラー差動増幅器の駆動部1のnチ
ャネルトランジスタQ7,Q8が接続されている。更
に、上記書き込みデータ線対WI,/WIとは別に、読
み出しデータのみを伝送する1対の読み出しデータ線対
RI,/RIが設けられ、該RI,/RIには図示しな
いイコライズ手段が設けられている。尚、上記カレント
ミラー差動増幅器は上記nチャネルトランジスタQ5〜
Q8からなる駆動部1とビット線対BL,/BL上の信
号電位を検知増幅するためのpチャネルトランジスタQ
1〜Q4からなる負荷部2とで構成され、nチャネルト
ランジスタQ5,Q6は図示しないコラムデコーダから
の信号をゲートで受け、この信号によりカレントミラー
差動増幅器が活性化されるようになっている。そして、
ビット線対BL,/BLの電位差は上記カレントミラー
差動増幅器により増幅され、出力ノードNO1,NO2
より出力した後、次段の図示しない増幅手段に入力され
る。2. Description of the Related Art FIG. 5 is a diagram schematically showing a structure of a main part of a conventional semiconductor memory device having a read data line and a write data line separated from each other. In the figure, a pair of write data line pair WI, / WI and a pair of bit line BL, / BL for transmitting only signals from the memory cell MC, the sense amplifier S / A, and the data write circuit are provided on the bit lines BL, / BL. The n-channel transistors Q7 and Q8 of the drive unit 1 of the current mirror differential amplifier which receives the minute potential difference generated at the gate and amplifies it are connected. Further, apart from the write data line pair WI, / WI, a pair of read data line pair RI, / RI for transmitting only read data is provided, and the RI, / RI is provided with an equalizing means (not shown). ing. The current mirror differential amplifier has the n-channel transistors Q5 to Q5.
A driving section 1 made up of Q8 and a p-channel transistor Q for detecting and amplifying a signal potential on the bit line pair BL, / BL.
1 to Q4, the n-channel transistors Q5 and Q6 receive a signal from a column decoder (not shown) at their gates, and the current mirror differential amplifier is activated by this signal. .. And
The potential difference between the bit line pair BL, / BL is amplified by the current mirror differential amplifier and output nodes NO1, NO2.
After further outputting, it is input to the amplifying means (not shown) in the next stage.
【0003】次に、上記図5に示す半導体記憶装置の読
み出し動作を図6の信号波形図を用いて説明する。時刻
t1 以前に読み出しデータ線対RI,/RI、即ち、出
力ノードNO1,NO2は所定のプリチャージ電位で安
定している。電源電圧VCC,pチャネルトランジスタの
しきい値電圧をVthp とすると、このプリチャージ電位
はVCCよりpチャネルトランジスタのしきい値電圧V
thp の絶対値だけ低い電位VCC−|Vthp |となる。そ
して、この状態で外部からのアドレス信号に応答して1
本のワード線WLが選択され、メモリセルMCの情報が
ビット線BLに読み出され、ビット線BL,/BL間に
微小電位差が生じる。Next, the read operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 5 will be described with reference to the signal waveform diagram of FIG. Before time t 1 , the read data line pair RI, / RI, that is, the output nodes NO1, NO2 are stable at a predetermined precharge potential. Assuming that the power supply voltage V CC and the threshold voltage of the p-channel transistor are V thp , the precharge potential is higher than V CC by the threshold voltage V of the p-channel transistor.
The potential becomes V CC − | V thp | which is lower by the absolute value of thp . Then, in this state, in response to an address signal from the outside, 1
The word line WL of the book is selected, the information of the memory cell MC is read to the bit line BL, and a minute potential difference is generated between the bit lines BL and / BL.
【0004】次に、時刻t1 において、外部アドレスに
応答してコラム選択信号Yiが“L”レベルから“H”
レベルに立ち上がると、nチャネルトランジスタQ5及
びQ6がオンしてトランジスタQ1〜Q8からなるカレ
ントミラー差動増幅器が活性化され、読み出しデータ線
/RIは接地電位に向かって放電し、読み出しデータ線
RIは電源電圧VCCに向かって引かれる。そして、この
読み出しデータ線対RI,/RIの電位はそれぞれの出
力ノードNO2,NO1を介して次段の増幅手段の入力
部へ伝達される。次いで、時刻t3 でコラム選択信号Y
iが“H”レベルから“L”レベルへ移行すると、上記
カレントミラー差動増幅器は不活性状態となり、読み出
しデータ線対RI,/RI、即ち、ノードNO1,NO
2はイコライズされながら所定のプリチャージ電位VCC
−|Vthp |に復帰する。Next, at time t 1 , the column selection signal Yi changes from "L" level to "H" in response to the external address.
When the voltage rises to the level, the n-channel transistors Q5 and Q6 are turned on to activate the current mirror differential amplifier including the transistors Q1 to Q8, the read data line / RI is discharged toward the ground potential, and the read data line RI is It is pulled toward the power supply voltage V CC . Then, the potentials of the read data line pair RI, / RI are transmitted to the input section of the amplifying means of the next stage via the respective output nodes NO2, NO1. Next, at time t 3 , the column selection signal Y
When i changes from the "H" level to the "L" level, the current mirror differential amplifier becomes inactive, and the read data line pair RI, / RI, that is, the nodes NO1, NO.
2 is equalized and has a predetermined precharge potential V CC
− | V thp | is restored.
【0005】次いで、上記の1つのサイクル(サイクル
1)が終了し、次のサイクル(サイクル2)に移った
時、即ち、時刻t4 で、電源電圧はVCCからVCC′に降
下し、プリチャージ電位は、読み出しデータ線対RI,
/RI、即ち、ノードNO1,NO2の電位は溜まって
いる電荷を引き抜く経路がないため、VCC−|Vthp |
からVCC′−|Vthp |には降下せず、VCC−|Vthp
|のままで変化しない。次いで、時刻t5 以前にワード
線が“L”レベルから“H”レベルに立ち上がり、ビッ
ト線BLにメモリセルMCの情報が読み出され、ビット
線対BL,/BL間に微小電位差が生ずる。そして、時
刻t5 でコラム選択信号Yiが“H”レベルに立ち上が
り、nチャネルトランジスタQ5,Q6がオン状態とな
り、カレントミラー差動増幅器が活性化すると、ビット
線BL,/BL間の微小電位差はノードNO2及びNO
1に増幅され、上記サイクル1と同様に次段の増幅手段
に伝達される。そして、時刻t7 において、コラム選択
信号Yiが“H”レベルから“L”レベルに立ち下がる
ことにより、トランジスタQ5,Q6はオフ状態とな
り、カレントミラー差動増幅器が不活性状態に移行し、
読み出しデータ線対RI,/RIはイコライズされなが
ら所定のプリチャージレベルに復帰する。[0005] Then, the above one cycle (cycle 1) is finished, when moved to the next cycle (cycle 2), i.e., at time t 4, the power supply voltage drops to V CC 'from V CC, The precharge potential is the read data line pair RI,
/ RI, that is, the potentials of the nodes NO1 and NO2 do not have a path for extracting the accumulated charge, so V CC − | V thp |
From V CC ′ − | V thp | to V CC − | V thp
| Remains unchanged Then, before time t 5 , the word line rises from the “L” level to the “H” level, the information of the memory cell MC is read to the bit line BL, and a minute potential difference occurs between the bit line pair BL, / BL. Then, at time t 5 , the column selection signal Yi rises to the “H” level, the n-channel transistors Q5 and Q6 are turned on, and the current mirror differential amplifier is activated, the minute potential difference between the bit lines BL and / BL becomes small. Nodes NO2 and NO
It is amplified to 1 and transmitted to the amplifying means of the next stage as in the case of cycle 1. Then, at time t 7 , the column selection signal Yi falls from the “H” level to the “L” level, the transistors Q5 and Q6 are turned off, and the current mirror differential amplifier shifts to the inactive state.
The read data line pair RI, / RI is restored to a predetermined precharge level while being equalized.
【0006】ここで、増幅手段の感度が十分に良好とな
るノードNO1の“L”レベルが、例えば、電源電圧の
1/2だとすると、電源電圧降下前の上記サイクル1で
は、カレントミラー差動増幅器が活性化(時刻t1 )し
てから、ノードNO1の電位が安定電位VCC−|Vthp
|から1/2VCCに到達(時刻t2 )するまでの時間は
ΔTかかり、電源電圧がVCCからVCC′に降下した後の
上記サイクル2では、同様にカレントミラー差動増幅器
が活性化(時刻t5 )してから、ノードNO1の電位が
安定電位VCC−|Vthp |から1/2VCC′に到達(時
刻t6 )するまでの時間はΔT′かかる。つまり、電源
電圧降下後のサイクル2ではサイクル1よりΔV−Δ
V′(=1/2(VCC−VCC′))だけ接地電位に引か
れないと、次段増幅手段が十分な感度を得ることができ
ず、更に、電源電圧の降下に伴い、カレントミラー差動
増幅器の駆動力は衰えるので、サイクル2での応答速度
ΔT′はサイクル1での応答速度ΔTより遅くなってし
まう。Here, assuming that the "L" level of the node NO1 at which the sensitivity of the amplifying means is sufficiently good is, for example, 1/2 of the power supply voltage, in the cycle 1 before the power supply voltage drop, in the current mirror differential amplifier. Is activated (time t 1 ), the potential of the node NO 1 is stable potential V CC − | V thp.
| From 1 / 2V reached the CC (time t 2) time to take [Delta] T, in the above cycle 2 after the power supply voltage drops to V CC 'from V CC, similarly activated by the current mirror differential amplifier It takes ΔT ′ from (time t 5 ) until the potential of the node NO1 reaches stable potential V CC − | V thp | to ½ V CC ′ (time t 6 ). That is, in cycle 2 after the power supply voltage has dropped, ΔV−Δ from cycle 1
If V '(= 1/2 (V CC -V CC')) but not pulled to the ground potential, can not be the next stage amplifying means to obtain a sufficient sensitivity, furthermore, with the drop in the power supply voltage, the current Since the driving force of the mirror differential amplifier declines, the response speed ΔT ′ in cycle 2 becomes slower than the response speed ΔT in cycle 1.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
読み出しデータ線と書き込みデータ線が分離して形成さ
れた半導体記憶装置では、電源電圧に負バンプが生じる
と、読み出しデータ線対RI,/RIのプリチャージレ
ベルはそれに追従して降下せず、電源電圧より高い電位
レベルが残ってしまう。このため、カレントミラー差動
増幅器が活性化し、読み出しデータ線の電位を接地電位
に向かって引く際、上記読み出しデータ線対RI,/R
Iの電位が、次段の増幅手段が十分な感度を示すための
所定の電位レベルに到達するまでに要する時間が長くな
ってしまうという問題点があった。As described above, in the conventional semiconductor memory device in which the read data line and the write data line are separately formed, when a negative bump occurs in the power supply voltage, the read data line pair RI, The precharge level of / RI does not drop following it, and a potential level higher than the power supply voltage remains. Therefore, when the current mirror differential amplifier is activated and the potential of the read data line is pulled toward the ground potential, the read data line pair RI, / R
There is a problem that the time required for the potential of I to reach a predetermined potential level for the amplification means in the next stage to exhibit sufficient sensitivity becomes long.
【0008】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、電源電圧が降下した時に、それ
に追従して読み出しデータ線対のプリチャージ電位も降
下し、読み出し速度が高速化し、誤動作の防止が図られ
た半導体記憶装置を得ることを目的とする。The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and when the power supply voltage drops, the precharge potential of the read data line pair also drops following the drop in the power supply voltage, and the read speed is increased. An object of the present invention is to obtain a semiconductor memory device in which malfunction is prevented.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】この発明にかかる半導体
記憶装置は、電源電圧の変化に連動して基準電位を発生
する基準電位発生回路を設け、該基準電位発生回路から
の出力を読み出しデータ線対上に設けた一対のトランジ
スタのゲートで受け、該読み出しデータ線対に電荷を引
き抜くパスを形成するようにしたものである。A semiconductor memory device according to the present invention is provided with a reference potential generating circuit for generating a reference potential in association with a change in a power supply voltage, and an output from the reference potential generating circuit is read out to a data line. The gates of a pair of transistors provided above the pair form a path for extracting charges to the read data line pair.
【0010】[0010]
【作用】この発明にかかる半導体記憶装置においては、
電源電圧VCCが降下したとき、これに連動して基準電位
発生回路から出力する出力信号を読み出しデータ線対の
それぞれデータ線に設けられたトランジスタのゲートが
受け、その結果、該トランジスタがオン状態になって導
通して、上記読み出しデータ線対上に電荷を引き抜くパ
スが形成され、これによって、読み出しデータ線の電位
が適切なプリチャージ電位まで下げられる。In the semiconductor memory device according to the present invention,
When the power supply voltage V CC drops, an output signal output from the reference potential generating circuit in conjunction with this is read by the gates of the transistors provided on the respective data lines of the data line pair, and as a result, the transistors are turned on. Then, a conduction path is formed on the read data line pair to draw out charges, and the potential of the read data line is lowered to an appropriate precharge potential.
【0011】[0011]
【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図1はこの発明の一実施例による半導体記憶装置
の主要部の構成を概略的に示す図であり、図5と同一符
号は同一または相当する部分を示している。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a main part of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention, and the same reference numerals as those in FIG. 5 denote the same or corresponding parts.
【0012】ここで、本実施例の半導体記憶装置は、図
5で示した従来の半導体記憶装置と同様に、BL,/B
Lはビット線対であり、該ビット線対BL,/BLには
メモリセルMC,センスアンプS/A,図示しないデー
タ書き込み回路からの信号のみを伝送する1対の書き込
みデータ線対WI,/WI及びビット線対BL,/BL
に生じた微小電位差をゲートで受け、それを増幅するカ
レントミラー差動増幅器の駆動部1のnチャネルトラン
ジスタQ7,Q8が接続されている。更に、上記書き込
みデータ線対WI,/WIとは別に、読み出しデータの
みを伝送する1対の読み出しデータ線対RI,/RIが
設けられ、該読み出しデータ線対RI,/RI上には図
示しないイコライズ手段が設けられている。尚、上記ビ
ット線対BL,/BL上の信号電位を検知増幅するため
の上記カレントミラー差動増幅器はpチャネルトランジ
スタQ1〜Q4からなる負荷部2とnチャネルトランジ
スタQ5〜Q8からなる駆動部1とで構成される。尚、
上記nチャネルトランジスタQ5,Q6は図示しないコ
ラムデコーダからの信号をゲートで受け、上記カレント
ミラー差動増幅器を活性化するスイッチングトランジス
タであり、また、上記カレントミラー差動増幅器におい
てビット線対BL,/BLの電位差は増幅された後、出
力ノードNO1,NO2より出力され、次段の図示しな
い増幅手段の入力に接続される。Here, the semiconductor memory device of this embodiment is similar to the conventional semiconductor memory device shown in FIG.
L is a bit line pair, and a pair of write data line pair WI, / for transmitting only signals from the memory cell MC, the sense amplifier S / A, and a data write circuit (not shown) to the bit line pair BL, / BL. WI and bit line pair BL, / BL
The n-channel transistors Q7 and Q8 of the drive unit 1 of the current mirror differential amplifier which receives the minute potential difference generated at the gate and amplifies it are connected. Further, in addition to the write data line pair WI, / WI, a pair of read data line pair RI, / RI for transmitting only read data is provided, and not shown on the read data line pair RI, / RI. Equalizing means is provided. The current mirror differential amplifier for detecting and amplifying the signal potential on the bit line pair BL, / BL is a load unit 2 including p-channel transistors Q1 to Q4 and a driving unit 1 including n-channel transistors Q5 to Q8. Composed of and. still,
The n-channel transistors Q5 and Q6 are switching transistors which receive a signal from a column decoder (not shown) at their gates and activate the current mirror differential amplifier. Further, in the current mirror differential amplifier, the bit line pair BL, / After the potential difference of BL is amplified, it is output from the output nodes NO1 and NO2 and is connected to the input of the amplifying means (not shown) in the next stage.
【0013】一方、pチャネルトランジスタQ9,Q1
0、抵抗値r1 を持つ抵抗要素R1から基準電位発生回
路3が構成されており、該pチャネルトランジスタQ9
のソース電極は電源電圧VCC端子に接続し、ドレイン電
極及びゲート電極はノードNO3に接続し、また、該p
チャネルトランジスタQ10のソース電極はノードNO
3に接続し、ゲート電極,ドレイン電極はノードNO4
に接続し、また、該抵抗要素R1の一端はノードNO4
に接続し、他端は接地している。そして、更に、上記ノ
ードNO4は電荷引き抜き用のpチャネルトランジスタ
Q11,Q12のそれぞれのゲート電極に接続し、該Q
pチャネルトランジスタQ11,Q12のソース電極は
それぞれ読み出しデータ線RI,/RIに、即ちノード
NO1及,NO2にそれぞれ接続し、また、ドレイン電
極はともに接地している。On the other hand, p-channel transistors Q9 and Q1
0, a resistive element R1 having a resistance value r 1 is configured the reference potential generating circuit 3, the p-channel transistor Q9
Has a source electrode connected to the power supply voltage V CC terminal, a drain electrode and a gate electrode connected to the node NO3, and the p
The source electrode of the channel transistor Q10 is the node NO
3, the gate electrode and drain electrode are node NO4
And one end of the resistance element R1 is connected to the node NO4.
, And the other end is grounded. Further, the node NO4 is connected to the respective gate electrodes of the p-channel transistors Q11 and Q12 for charge extraction, and the Q
The source electrodes of the p-channel transistors Q11 and Q12 are connected to the read data lines RI and / RI, that is, the nodes NO1 and NO2, respectively, and the drain electrodes are both grounded.
【0014】次に、上記装置の動作の概略を説明する。
基準電位発生回路3において抵抗要素R1の抵抗値r1
をトランジスタQ9,Q10のオン抵抗に比べ非常に大
きい値になるように設定すると、ノードNO3には電源
電圧VCCよりpチャネルトランジスタのしきい値電圧
(Vthp )の絶対値分だけ低いVCC−|Vthp |の電圧
が出力される。また、ノードNO4にはノードNO3に
出力される電圧よりpチャネルトランジスタのしきい値
電圧(Vth p )の絶対値分だけ低いVCC−2|Vthp |
の電圧が出力される。この時、抵抗値r1 の値を十分に
大きくしておけば、基準電圧発生回路3で流れる電流は
ほとんどゼロとなる。そして、ノードNO4の電位に対
しノードNO1,NO2の電位がpチャネルトランジス
タのしきい値電圧Vthp の絶対値分以上高いと、pチャ
ネルトランジスタQ11及びQ12がオン状態となり、
電流パスができる。即ち、何らかの理由により電源電圧
VCCが降下してVCC′になったとき、ノードNO1,N
O2の電位がVCC′−|Vthp |より高ければpチャネ
ルトランジスタQ11,Q12がオンし、ノードNO
1,NO2の電位はVCC′−|Vthp|まで引き下げら
れることになる。そして、ノードNO1,NO2の電位
がVCC′−|Vthp |の電位まで下がれば、ノードQ1
1,Q12はオフ状態になり、それ以上電流は流れなく
なる。Next, the outline of the operation of the above apparatus will be described.
In the reference potential generation circuit 3, the resistance value r 1 of the resistance element R1
The transistors Q9, when set to be very large value compared with the ON resistance of Q10, absolute value of only low V CC of the threshold voltage of the p-channel transistor than the power supply voltage V CC to the node NO3 (V thp) A voltage of − | V thp | is output. The node NO4 only the absolute value of the threshold voltage (V th p) of the p-channel transistor from voltage output to the node NO3 low V CC -2 | V thp |
Is output. At this time, if the resistance value r 1 is made sufficiently large, the current flowing through the reference voltage generating circuit 3 becomes almost zero. When the potentials of the nodes NO1 and NO2 are higher than the potential of the node NO4 by the absolute value of the threshold voltage V thp of the p-channel transistor, the p-channel transistors Q11 and Q12 are turned on,
There is a current path. That is, when the power supply voltage V CC drops to V CC ′ for some reason, the nodes NO1 and N
If the potential of O2 is higher than V CC ′ − | V thp |, the p-channel transistors Q11 and Q12 are turned on and the node NO
The potentials of 1 and NO2 are lowered to V CC ′ − | V thp |. Then, if the potentials of the nodes NO1 and NO2 drop to the potential of V CC ′ − | V thp |, the node Q1
1, 1 and Q12 are turned off, and no more current flows.
【0015】以下、上記半導体記憶装置の動作を図2の
信号波形図を用いてようり詳しく説明する。先ず、時刻
t1 以前では読み出しデータ線RI(ノードNO1),
/RI(ノードNO2)は、従来と同様に、電源電圧V
CCよりpチャネルトランジスタのしきい値電圧Vthp の
絶対値分だけ低い電位VCC−|Vthp |で安定してい
る。そして、この状態で外部からのアドレス信号に応答
して1本のワード線が選択され、メモリセルMCの情報
がビット線BLに読み出され、ビット線対BL,/BL
間に微小電位差が生じる。以後、サイクル1(時刻t3
からt4 まで)の読み出し動作は従来と同様となる。The operation of the semiconductor memory device will be described in detail below with reference to the signal waveform diagram of FIG. First, before the time t 1 , the read data line RI (node NO1),
/ RI (node NO2) is the power supply voltage V
It is stable at a potential V CC − | V thp | which is lower than CC by the absolute value of the threshold voltage V thp of the p-channel transistor. Then, in this state, one word line is selected in response to an address signal from the outside, the information of the memory cell MC is read to the bit line BL, and the bit line pair BL, / BL.
A minute potential difference occurs between them. After that, in cycle 1 (time t 3
From t to t 4 ) the read operation is the same as the conventional one.
【0016】次に、サイクル1からサイクル2に移り、
時刻t4 で電源電圧がVCCからVCC′に降下すると、そ
れに連動して基準電位発生回路3の出力であるノードN
O4の電位も降下し、該電位はVCC′−2|Vthp |と
なる。つまり、電源電圧がどのように変化しようともノ
ードNO4には電源電圧よりpチャネルトランジスタの
しきい値電圧Vthp の絶対値の2段落ちの電圧が出力さ
れる。この時、ノードNO1及びNO2の電位は電源電
圧降下前の電源電圧VCCより|Vthp |分だけ低いVCC
−|Vthp |であるので、pチャネルトランジスタQ1
1,Q12では、ゲート電位VCC′−2|Vthp |に対
しソース電位VCC−|Vthp |がVCC−VCC′+|V
thp |だけ高く、即ち、ゲート電位に対してソース電位
が|Vthp |以上高くなるので、pチャネルトランジス
タQ11,Q12は導通状態になり、ノードNO1,N
O2の電位レベルをVCC′−|Vthp |のレベルまで引
き下げることになる。Next, the process moves from cycle 1 to cycle 2,
When the power supply voltage drops from V CC to V CC ′ at time t 4 , the node N which is the output of the reference potential generating circuit 3 is interlocked with it.
The potential of O4 also drops, and the potential becomes V CC ′ −2 | V thp |. In other words, no matter how the power supply voltage changes, the node NO4 outputs a voltage that is two steps lower than the power supply voltage by the absolute value of the threshold voltage V thp of the p-channel transistor. At this time, the nodes NO1 and NO2 of the potential before the power supply voltage drops below the power supply voltage V CC | V thp | amount corresponding lower V CC
-| V thp |, the p-channel transistor Q1
1, the Q12, the gate potential V CC '-2 | V thp | respect to the source potential V CC - | V thp | is V CC -V CC' + | V
thp |, that is, the source potential is higher than the gate potential by | V thp | or more, so that the p-channel transistors Q11 and Q12 become conductive, and the nodes NO1 and N1.
The potential level of O2 is lowered to the level of V CC ′ − | V thp |.
【0017】次いで、時刻t5 で外部アドレスからのコ
ラム選択信号Yiに応答して“L”レベルから“H”レ
ベルに立ち上がると、nチャネルトランジスタQ5,Q
6がオンしてトランジスタQ1〜Q8よりなるカレント
ミラー差動増幅器が活性化し、読み出しデータ線/RI
(ノードNO2)は接地電位に向かって引かれ、一方、
読み出しデータ線RI(ノードNO1)は電源電圧
VCC′に向かって引かれる。ここで、電源電圧の降下に
ともない、出力ノードNO1,NO2の安定電位も連動
して降下しているので、出力ノードNO1が次段の増幅
手段の感度の十分に良好なレベル(例えば、従来と同様
に電源電圧の1/2の電位レベル)まで到達する時刻t
6 までの所要時間Δt′は電源電圧降下前のサイクル1
での応答時間Δtと同等になり、従来のような電源電圧
の降下による応答速度の遅延化が改善されて、安定した
読み出し動作が実現される。そして、時刻t7 でコラム
選択信号Yiが“H”レベルから“L”に立ち下がるこ
とにより、トランジスタQ5,Q6はオフ状態に移行
し、読み出しデータ線対RI,/RI(即ちノードNO
1,NO2)は所定の安定電位VCC′−|Vthp |に復
帰する。Next, at time t 5 , when the voltage rises from the "L" level to the "H" level in response to the column selection signal Yi from the external address, the n-channel transistors Q5 and Q5.
6 is turned on, the current mirror differential amplifier composed of the transistors Q1 to Q8 is activated, and the read data line / RI is activated.
(Node NO2) is pulled toward the ground potential, while
The read data line RI (node NO1) is pulled toward the power supply voltage V CC ′. Here, since the stable potentials of the output nodes NO1 and NO2 also drop in association with the drop of the power supply voltage, the output node NO1 has a sufficiently good level of sensitivity of the amplifying means at the next stage (for example, as compared with the conventional case). Similarly, time t at which the potential level reaches 1/2 of the power supply voltage)
The time required to reach 6 is Δt 'in cycle 1 before the power supply voltage drop.
In this case, the response time Δt becomes equal to the response time Δt, the delay of the response speed due to the drop of the power supply voltage as in the related art is improved, and a stable read operation is realized. Then, at time t 7 , the column selection signal Yi falls from the “H” level to the “L”, the transistors Q5 and Q6 are turned off, and the read data line pair RI, / RI (that is, the node NO).
1, NO2) returns to a predetermined stable potential V CC ′ − | V thp |.
【0018】このような本実施例にかかる半導体記憶装
置では、例えば、読み出し動作の1サイクルが終了し、
電源電圧がVccからVCC′に降下すると、これに連動し
て上記基準電位発生回路3の出力である上記ノードNO
4の電位が、pチャネルトランジスタのしきい値電圧V
thp の絶対値の2段分だけ降下してVCC′−2|Vth p
|になり、pチャネルトランジスタQ11,Q12のゲ
ート電位はVCC′−2|Vthp |に、ソース電位は電源
電圧降下前の電源電圧Vccより|Vthp |だけ低いVcc
−|Vthp |になり、その結果、ソース電位がゲート電
位よりVcc−VCC′+|Vthp |だけ高くなって、上記
pチャネルトランジスタQ11,Q12が導通し、ノー
ドNO1,NO2の電位レベルもVCC′−|Vthp |の
レベルまで引下げられることになり、これにより、次段
の増幅手段の感度に十分な電位レベルに達するまでの所
要時間が短くなり、電源電圧の降下による応答速度の遅
延化を抑制することができる。In the semiconductor memory device according to this embodiment, for example, one cycle of the read operation is completed,
When the power supply voltage drops V CC 'from V cc, the node NO in conjunction with this is the output of the reference voltage generating circuit 3
4 is the threshold voltage V of the p-channel transistor
V CC ′ −2 | V th p by descending by two steps of the absolute value of thp
|, The gate potentials of the p-channel transistors Q11 and Q12 are V CC ′ −2 | V thp |, and the source potentials thereof are V cc lower than the power source voltage V cc before the power source voltage drop by V cc |
− | V thp |, and as a result, the source potential becomes higher than the gate potential by V cc −V CC ′ + | V thp |, the p-channel transistors Q11 and Q12 become conductive, and the potentials of the nodes NO1 and NO2 are increased. The level is also lowered to the level of V CC ′ − | V thp |, whereby the time required to reach the potential level sufficient for the sensitivity of the amplifying means in the next stage is shortened, and the response due to the drop in the power supply voltage is reduced. It is possible to suppress the delay in speed.
【0019】図3は、この発明の第2の実施例による半
導体記憶装置の主要部の構成を概略的に示した図であ
り、図1と同一符号は同一または相当する部分を示し、
本実施例の半導体記憶装置では、図1に示した半導体記
憶装置に、読み出しデータ線対RI,/RI上の出力ノ
ードNO1,NO2の直下にある基準電位(定電圧)を
ゲートに受けるトランスファ用nチャンネルトランジス
タQ13,Q14を読み出しデータ線対RI,/RIに
設け、更に、読み出しデータ線対RI,/RIに対し
て、電源電圧の負バンプ発生時の電荷引き抜き用トラン
ジスタQ20,Q21と該トランジスタQ20,Q21
のそれぞれのゲートが接続した基準電圧発生回路3’を
設けたものである。FIG. 3 is a diagram schematically showing a structure of a main part of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention. The same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same or corresponding parts,
In the semiconductor memory device of this embodiment, the semiconductor memory device shown in FIG. 1 has a gate for receiving a reference potential (constant voltage) immediately below the output nodes NO1, NO2 on the read data line pair RI, / RI. The n-channel transistors Q13 and Q14 are provided in the read data line pair RI and / RI, and further, with respect to the read data line pair RI and / RI, charge extraction transistors Q20 and Q21 at the time of generation of a negative bump of the power supply voltage and the transistors. Q20, Q21
The reference voltage generating circuit 3'to which the respective gates are connected is provided.
【0020】このような本実施例による半導体集積回路
装置では、図1で示した半導体記憶装置の読み出しデー
タ線RI,/RI上に、トランスファ用nチャンネルト
ランジスタQ13,Q14を設けるとともに、上記読み
出しデータ線RI,/RIに電荷引き抜き用トランジス
タQ20,Q21を介して基準電圧発生回路3’を接続
しているため、トランスファ用nチャンネルトランジス
タQ13,Q14(図中Vrefはnチャンネルトラン
ジスタQ13,Q14のしきい値電圧)によりカレント
ミラー差動増幅器の負荷部2が軽くなり、出力ノードN
O1,NO2の応答をより高速化し、カレントミラー差
動増幅器の駆動部1側の大きな容量が付加されているノ
ードNOA,NOBの論理振幅が制限されて、低消費電
力化を実現することができる。In the semiconductor integrated circuit device according to the present embodiment as described above, the transfer n-channel transistors Q13 and Q14 are provided on the read data lines RI and / RI of the semiconductor memory device shown in FIG. Since the reference voltage generation circuit 3'is connected to the lines RI, / RI via the charge extraction transistors Q20, Q21, the transfer n-channel transistors Q13, Q14 (Vref in the figure is the n-channel transistors Q13, Q14). Threshold voltage) makes the load part 2 of the current mirror differential amplifier lighter, and the output node N
The response speeds of O1 and NO2 are further increased, and the logical amplitudes of the nodes NOA and NOB to which a large capacity is added on the side of the drive unit 1 of the current mirror differential amplifier are limited, so that low power consumption can be realized. ..
【0021】図4は、この発明の第3の実施例による半
導体記憶装置の基準電位発生回路の回路構成を示す図で
あり、図において、電源VCCと接地間にはpチャネルト
ランジスタQ15,nチャネルトランジスタQ16,p
チャネルトランジスタQ17と抵抗値r2 をもつ抵抗成
分R2 が並列接続して構成された基準電位発生手段と、
pチャネルトランジスタQ18,nチャネルトランジス
タQ19を並列接続して構成された出力段とがそれぞれ
形成されており、該基準電位発生手段のpチャネルトラ
ンジスタQ15のゲートとnチャネルトランジスタQ1
6のゲートを接続したノードが、pチャネルトランジス
タQ15のソースとnチャネルトランジスタQ16のド
レインとを接続したノードNO5を介してpチャネルト
ランジスタQ18のゲートに接続され、pチャネルトラ
ンジスタQ17のゲートがpチャネルトランジスタQ1
7のソースと抵抗成分R2 とを接続したノードN07を
介してnチャネルトランジスタQ19のゲートに接続さ
れており、pチャネルトランジスタQ18,nチャネル
トランジスタQ19のソースとドレインを接続するノー
ドNO8が図示しない電荷引き抜き用トランジスタQ1
2,Q13のゲートに接続されている。FIG. 4 is a diagram showing a circuit configuration of a reference potential generating circuit of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention. In FIG. 4, a p-channel transistor Q15, n is provided between a power supply V CC and ground. Channel transistor Q16, p
Reference potential generating means constituted by connecting in parallel a channel transistor Q17 and a resistance component R 2 having a resistance value r 2 ;
An output stage constituted by connecting a p-channel transistor Q18 and an n-channel transistor Q19 in parallel is formed, and the gate of the p-channel transistor Q15 of the reference potential generating means and the n-channel transistor Q1 are formed.
The node to which the gate of 6 is connected is connected to the gate of p-channel transistor Q18 via node NO5 which connects the source of p-channel transistor Q15 and the drain of n-channel transistor Q16, and the gate of p-channel transistor Q17 is p-channel. Transistor Q1
7 is connected to the gate of n-channel transistor Q19 via the node N07 connected to the source and the resistance component R 2 of the node NO8 connecting the source and drain of the p-channel transistor Q18, n-channel transistor Q19 is not shown Charge extraction transistor Q1
2, connected to the gate of Q13.
【0022】このような本実施例の基準電位発生回路で
は、pチャネルトランジスタQ15とnチャネルトラン
ジスタQ16とのノードNO5にはVCC−|Vthp |の
電位が、nチャネルトランジスタQ16とpチャネルト
ランジスタQ17とのノードNO6にはVCC−|Vthp
|−Vthn の電位が、pチャネルトランジスタQ17と
抵抗値r2 をもつ抵抗成分R2 とのノードNO7にはV
CC−|Vthp |−Vth n −|Vthp |=VCC−2|V
thp |−Vthn の電位が、pチャネルトランジスタQ1
8とnチャネルトランジスタQ19のノードNO8には
VCC−|Vthp |−Vthn の電位がそれぞれ出力される
ため、上記実施例と同様に、読み出し動作の1サイクル
が終了し、電源電圧がVCCからVCC' に降下した場合、
電荷引き抜き用トランジスタのゲート電位がソース電位
に比べてVCCーVCC' +|Vthp |だけ高くなって導通
状態になり、その結果、電源電圧の降下による応答速度
の遅延化を抑制することができる。また、出力段を構成
する上記nチャネルトランジスタQ16,pチャネルト
ランジスタQ17のサイズを大きくし、駆動能力を上げ
ると、低インピーダンスでの基準電位を出力することが
できる。In the reference potential generating circuit of the present embodiment, the node NO5 between the p-channel transistor Q15 and the n-channel transistor Q16 has a potential of V CC -│V thp │ and the n-channel transistor Q16 and the p-channel transistor Q16. The node NO6 with Q17 has V CC − | V thp
The potential of | -V thn is V in the node NO7 between the p-channel transistor Q17 and the resistance component R 2 having the resistance value r 2.
CC - | V thp | -V th n - | V thp | = V CC -2 | V
The potential of thp │−V thn is the p-channel transistor Q1.
8 and n-channel transistor node Q19 NO8 the V CC - | V thp | the potential of -V thn are output, as in the above embodiments, completed one cycle of the read operation, the power supply voltage V If it drops from CC to V CC ',
The gate potential of the charge extraction transistor is higher than the source potential by V CC -V CC '+ | V thp | to be in the conductive state, and as a result, the delay of the response speed due to the drop of the power supply voltage is suppressed. You can Further, by increasing the size of the n-channel transistor Q16 and the p-channel transistor Q17 forming the output stage and increasing the driving capability, the reference potential with low impedance can be output.
【0023】[0023]
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、電源
電圧の変化に連動して出力電圧が変化する基準電位発生
回路と、読み出しデータ線対に接続され該基準電位発生
回路からの出力電圧をゲートに受ける電荷引き抜き用ト
ランジスタとを設けたので、電源電圧に負バンプが生じ
た時、上記電荷引き抜き用トランジスタがオン状態にな
って電荷を引き抜くパスが形成されて、読み出しデータ
線対も電源電圧降下後の適切な安定電位まで降下し、そ
の結果、読み出し動作が高速化し、安定した読み出し動
作を行うことができる効果がある。As described above, according to the present invention, the reference potential generating circuit whose output voltage changes in accordance with the change of the power supply voltage and the output from the reference potential generating circuit connected to the read data line pair. Since the charge extraction transistor that receives the voltage at the gate is provided, when a negative bump occurs in the power supply voltage, the charge extraction transistor is turned on to form a path for extracting the charge, and the read data line pair is also formed. The power supply voltage drops to an appropriate stable potential, and as a result, there is an effect that the read operation is speeded up and a stable read operation can be performed.
【0024】更に、この発明によれば、上記の基準電位
発生回路と電荷引き抜き用トランジスタに加えて、上記
読み出しデータ線対上にカレントミラー差動増幅器の駆
動部と負荷部とを繋ぐトランスファ用トランジスタを設
けたので、上記と同様に読み出しデータ線対が電源電圧
降下後の適切な安定電位まで降下するとともに、カレン
トミラー差動増幅器の駆動部が繋がれた上記読み出しデ
ータ線のノードの論理振幅を制限することができるた
め、読み出し動作の高速化と低消費電力化を図ることが
でき、その結果、より安定した読み出し動作を行うこと
ができる効果がある。Further, according to the present invention, in addition to the reference potential generating circuit and the charge extracting transistor, the transfer transistor connecting the drive section and the load section of the current mirror differential amplifier on the read data line pair. As described above, the read data line pair drops to an appropriate stable potential after the power supply voltage drop in the same manner as above, and the logical amplitude of the node of the read data line connected to the drive unit of the current mirror differential amplifier is changed. Since the data can be limited, the read operation can be speeded up and the power consumption can be reduced, and as a result, there is an effect that a more stable read operation can be performed.
【図1】この発明の一実施例による半導体記憶装置の主
要部の回路構成を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a circuit configuration of a main part of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.
【図2】この発明の一実施例による半導体記憶装置の読
み出し動作を示す信号波形図である。FIG. 2 is a signal waveform diagram showing a read operation of the semiconductor memory device according to the embodiment of the present invention.
【図3】この発明の他の実施例による半導体記憶装置の
主要部の回路構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a circuit configuration of a main part of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention.
【図4】この発明の他の実施例による半導体記憶装置の
基準電位発生回路の回路構成を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing a circuit configuration of a reference potential generating circuit of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention.
【図5】従来の半導体記憶装置の主要部の回路構成を示
す図である。FIG. 5 is a diagram showing a circuit configuration of a main part of a conventional semiconductor memory device.
【図6】従来の半導体記憶装置の読み出し動作を示す信
号波形図である。FIG. 6 is a signal waveform diagram showing a read operation of a conventional semiconductor memory device.
1 カレントミラー差動増幅器の駆動部 2 カレントミラー差動増幅器の負荷部 3 基準電位発生回路 3’基準電位発生回路 4 電荷引き抜き用トランジスタ群 4’電荷引き抜き用トランジスタ群 5 トランスファ用トランジスタ群 Q1〜Q4,Q9〜Q12,Q15,Q17,Q18,
Q20,Q21 Pチャンネルトランジスタ Q5〜Q8 Q13,Q14,Q19 Nチャンネルト
ランジスタ NO1,NO2,NO3,NO4,NO5,NO6,N
O7,NO8 ノード BL,/BL ビット線 WI,/WI 書き込みデータ線 RI,/RI 読み出しデータ線 WL ワード線 NOA,NOB ノードDESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Current mirror differential amplifier drive unit 2 Current mirror differential amplifier load unit 3 Reference potential generation circuit 3'Reference potential generation circuit 4 Charge extraction transistor group 4'Charge extraction transistor group 5 Transfer transistor group Q1 to Q4 , Q9 to Q12, Q15, Q17, Q18,
Q20, Q21 P-channel transistor Q5-Q8 Q13, Q14, Q19 N-channel transistor NO1, NO2, NO3, NO4, NO5, NO6, N
O7, NO8 node BL, / BL bit line WI, / WI write data line RI, / RI read data line WL word line NOA, NOB node
【手続補正書】[Procedure amendment]
【提出日】平成4年1月28日[Submission date] January 28, 1992
【手続補正1】[Procedure Amendment 1]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0002[Name of item to be corrected] 0002
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0002】[0002]
【従来の技術】図5は、従来の読み出しデータ線と書き
込みデータ線の分離した構成をとる半導体記憶装置の主
要部の構成を概略的に示した図である。図において、ビ
ット線対BL,/BLにはメモリセルMC,センスアン
プS/A,データ書き込み回路からの信号のみを伝送す
る1対の書き込みデータ線対WI,/WI及びビット線
対BL,/BLに生じた微小電位差をゲートで受け、そ
れを増幅するカレントミラー差動増幅器の駆動部1のn
チャネルトランジスタQ7,Q8が接続されている。更
に、上記書き込みデータ線対WI,/WIとは別に、読
み出しデータのみを伝送する1対の読み出しデータ線対
RI,/RIが設けられ、該RI,/RIには図示しな
いイコライズ手段が設けられている。尚、上記カレント
ミラー差動増幅器は上記nチャネルトランジスタQ5〜
Q8からなる駆動部1とビット線対BL,/BL上の信
号電位を検知増幅するためのpチャネルトランジスタQ
1〜Q4からなる負荷部2とで構成され、nチャネルト
ランジスタQ5,Q6は図示しないコラムデコーダから
の信号をゲートで受け、この信号によりカレントミラー
差動増幅器が活性化されるようになっている。そして、
ビット線対BL,/BLの電位差は上記カレントミラー
差動増幅器により増幅され、出力ノードNO1,NO2
より出力した後、次段の図示しない増幅手段に入力され
る。2. Description of the Related Art FIG. 5 is a diagram schematically showing a structure of a main part of a conventional semiconductor memory device having a read data line and a write data line separated from each other. In Figure, the bit line pair BL, / memory cell MC in the BL, the sense amplifier S / A, and the write data line pair of a pair of transmitting only a signal from the data write circuit WI, / WI and the bit line pair BL, / N of the drive unit 1 of the current mirror differential amplifier which receives a minute potential difference generated in BL at its gate and amplifies it
Channel transistors Q7 and Q8 are connected. Further, apart from the write data line pair WI, / WI, a pair of read data line pair RI, / RI for transmitting only read data is provided, and the RI, / RI is provided with an equalizing means (not shown). ing. The current mirror differential amplifier has the n-channel transistors Q5 to Q5.
A driving section 1 made up of Q8 and a p-channel transistor Q for detecting and amplifying a signal potential on the bit line pair BL, / BL.
1 to Q4, the n-channel transistors Q5 and Q6 receive a signal from a column decoder (not shown) at their gates, and the current mirror differential amplifier is activated by this signal. .. And
The potential difference between the bit line pair BL, / BL is amplified by the current mirror differential amplifier and output nodes NO1, NO2.
After further outputting, it is input to the amplifying means (not shown) in the next stage.
【手続補正2】[Procedure Amendment 2]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0012[Correction target item name] 0012
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0012】ここで、本実施例の半導体記憶装置は、図
5で示した従来の半導体記憶装置と同様に、BL,/B
Lはビット線対であり、該ビット線対BL,/BLには
メモリセルMC,センスアンプS/A,図示しないデー
タ書き込み回路からの信号のみを伝送する1対の書き込
みデータ線対WI,/WI及びビット線対BL,/BL
に生じた微小電位差をゲートで受け、それを増幅するカ
レントミラー差動増幅器の駆動部1のnチャネルトラン
ジスタQ7,Q8が接続されている。更に、上記書き込
みデータ線対WI,/WIとは別に、読み出しデータの
みを伝送する1対の読み出しデータ線対RI,/RIが
設けられ、該読み出しデータ線対RI,/RI上には図
示しないイコライズ手段が設けられている。尚、上記ビ
ット線対BL,/BL上の信号電位を検知増幅するため
の上記カレントミラー差動増幅器はpチャネルトランジ
スタQ1〜Q4からなる負荷部2とnチャネルトランジ
スタQ5〜Q8からなる駆動部1とで構成される。尚、
上記nチャネルトランジスタQ5,Q6は図示しないコ
ラムデコーダからの信号をゲートで受け、上記カレント
ミラー差動増幅器を活性化するスイッチングトランジス
タであり、また、上記カレントミラー差動増幅器におい
てビット線対BL,/BLの電位差は増幅された後、出
力ノードNO2,NO1より出力され、次段の図示しな
い増幅手段の入力に接続される。Here, the semiconductor memory device of this embodiment is similar to the conventional semiconductor memory device shown in FIG.
L is a bit line pair, and a pair of write data line pair WI, / for transmitting only signals from the memory cell MC, the sense amplifier S / A, and a data write circuit (not shown) to the bit line pair BL, / BL. WI and bit line pair BL, / BL
The n-channel transistors Q7 and Q8 of the drive unit 1 of the current mirror differential amplifier which receives the minute potential difference generated at the gate and amplifies it are connected. Further, in addition to the write data line pair WI, / WI, a pair of read data line pair RI, / RI for transmitting only read data is provided, and not shown on the read data line pair RI, / RI. Equalizing means is provided. The current mirror differential amplifier for detecting and amplifying the signal potential on the bit line pair BL, / BL is a load unit 2 including p-channel transistors Q1 to Q4 and a driving unit 1 including n-channel transistors Q5 to Q8. Composed of and. still,
The n-channel transistors Q5 and Q6 are switching transistors which receive a signal from a column decoder (not shown) at their gates and activate the current mirror differential amplifier. Further, in the current mirror differential amplifier, the bit line pair BL, / After the potential difference of BL is amplified, it is output from the output nodes NO 2 and NO 1 and is connected to the input of the amplifying means (not shown) in the next stage.
【手続補正3】[Procedure 3]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0013[Correction target item name] 0013
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0013】一方、pチャネルトランジスタQ9,Q1
0、抵抗値r1 を持つ抵抗要素R1から基準電位発生回
路3が構成されており、該pチャネルトランジスタQ9
のソース電極は電源電圧VCC端子に接続し、ドレイン電
極及びゲート電極はノードNO3に接続し、また、該p
チャネルトランジスタQ10のソース電極はノードNO
3に接続し、ゲート電極,ドレイン電極はノードNO4
に接続し、また、該抵抗要素R1の一端はノードNO4
に接続し、他端は接地している。そして、更に、上記ノ
ードNO4は電荷引き抜き用のpチャネルトランジスタ
Q11,Q12のそれぞれのゲート電極に接続し、該p
チャネルトランジスタQ11,Q12のソース電極はそ
れぞれ読み出しデータ線RI,/RIに、即ちノードN
O1及,NO2にそれぞれ接続し、また、ドレイン電極
はともに接地している。On the other hand, p-channel transistors Q9 and Q1
0, a resistive element R1 having a resistance value r 1 is configured the reference potential generating circuit 3, the p-channel transistor Q9
Has a source electrode connected to the power supply voltage V CC terminal, a drain electrode and a gate electrode connected to the node NO3, and the p
The source electrode of the channel transistor Q10 is the node NO
3, the gate electrode and drain electrode are node NO4
And one end of the resistance element R1 is connected to the node NO4.
, And the other end is grounded. And further, the node NO4 is connected to the gate electrode of the p-channel transistors Q11, Q12 of the charge withdrawal, the p
The source electrodes of the channel transistors Q11 and Q12 are respectively connected to the read data lines RI and / RI, that is, the node N.
They are connected to O1 and NO2, respectively, and their drain electrodes are both grounded.
【手続補正4】[Procedure amendment 4]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0015[Correction target item name] 0015
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0015】以下、上記半導体記憶装置の動作を図2の
信号波形図を用いてより詳しく説明する。先ず、時刻t
1 以前では読み出しデータ線RI(ノードNO1),/
RI(ノードNO2)は、従来と同様に、電源電圧VCC
よりpチャネルトランジスタのしきい値電圧Vthp の絶
対値分だけ低い電位VCC−|Vthp |で安定している。
そして、この状態で外部からのアドレス信号に応答して
1本のワード線が選択され、メモリセルMCの情報がビ
ット線BLに読み出され、ビット線対BL,/BL間に
微小電位差が生じる。以後、サイクル1(時刻t3 から
t4まで)の読み出し動作は従来と同様となる。The operation of the semiconductor memory device will be described in more detail below with reference to the signal waveform diagram of FIG. First, time t
Before 1 , read data line RI (node NO1), /
RI (node NO2) is the same as the conventional power supply voltage V CC.
It is stable at the potential V CC − | V thp | which is lower by the absolute value of the threshold voltage V thp of the p-channel transistor.
Then, in this state, one word line is selected in response to an external address signal, the information of the memory cell MC is read to the bit line BL, and a minute potential difference is generated between the bit line pair BL, / BL. .. After that, the read operation in cycle 1 (from time t 3 to t 4 ) is the same as the conventional one.
【手続補正5】[Procedure Amendment 5]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0019[Name of item to be corrected] 0019
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0019】図3は、この発明の第2の実施例による半
導体記憶装置の主要部の構成を概略的に示した図であ
り、図1と同一符号は同一または相当する部分を示し、
本実施例の半導体記憶装置では、図1に示した半導体記
憶装置に、読み出しデータ線対RI,/RI上の出力ノ
ードNO1,NO2の直下にある基準電位(定電圧)を
ゲートに受けるトランスファ用nチャネルトランジスタ
Q13,Q14を読み出しデータ線対RI,/RIに設
け、更に、読み出しデータ線対RI,/RIに対して、
電源電圧の負バンプ発生時の電荷引き抜き用トランジス
タQ20,Q21と該トランジスタQ20,Q21のそ
れぞれのゲートが接続した基準電圧発生回路3’を設け
たものである。FIG. 3 is a diagram schematically showing a structure of a main part of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention. The same reference numerals as those in FIG. 1 denote the same or corresponding parts,
In the semiconductor memory device of this embodiment, the semiconductor memory device shown in FIG. 1 has a gate for receiving a reference potential (constant voltage) immediately below the output nodes NO1, NO2 on the read data line pair RI, / RI. n, channel transistors Q13, reads Q14 data line pairs RI, provided / RI, further, the read data line pair RI, relative / RI,
A transistor Q20, Q21 for extracting electric charge when a negative bump of the power supply voltage is generated and a reference voltage generating circuit 3'connected to the respective gates of the transistors Q20, Q21 are provided.
【手続補正6】[Procedure Amendment 6]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0020[Correction target item name] 0020
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0020】このような本実施例による半導体集積回路
装置では、図1で示した半導体記憶装置の読み出しデー
タ線RI,/RI上に、トランスファ用nチャネルトラ
ンジスタQ13,Q14を設けるとともに、上記読み出
しデータ線RI,/RIに電荷引き抜き用トランジスタ
Q20,Q21を介して基準電圧発生回路3’を接続し
ているため、トランスファ用nチャネルトランジスタQ
13,Q14(図中Vrefはある中間電位)によりカ
レントミラー差動増幅器の負荷部2が軽くなり、出力ノ
ードNO1,NO2の応答をより高速化し、カレントミ
ラー差動増幅器の駆動部1側の大きな容量が付加されて
いるノードNOA,NOBの論理振幅が制限されて、低
消費電力化を実現することができる。[0020] In the semiconductor integrated circuit device according to the present embodiment, the read data line RI of the semiconductor memory device shown in FIG. 1, / on the RI, along with providing the n for transfer, channel transistors Q13, Q14, said read data lines RI, / RI in through the charge pull transistors Q20, Q21 for connecting the reference voltage generating circuit 3 ', the transfer for n, channel transistor Q
13, Q14 (Vref is a certain intermediate potential ) makes the load section 2 of the current mirror differential amplifier lighter, the response of the output nodes NO1 and NO2 is made faster, and the current mirror differential amplifier has a large drive section 1 side. The logic amplitude of the nodes NOA and NOB to which the capacitance is added is limited, and low power consumption can be realized.
【手続補正7】[Procedure Amendment 7]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】0022[Name of item to be corrected] 0022
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【0022】このような本実施例の基準電位発生回路で
は、pチャネルトランジスタQ15とnチャネルトラン
ジスタQ16とのノードNO5にはVCC−|Vthp |の
電位が、nチャネルトランジスタQ16とpチャネルト
ランジスタQ17とのノードNO6にはVCC−|Vthp
|−Vthn の電位が、pチャネルトランジスタQ17と
抵抗値r2 をもつ抵抗成分R2 とのノードNO7にはV
CC−|Vthp |−Vth n −|Vthp |=VCC−2|V
thp |−Vthn の電位が、pチャネルトランジスタQ1
8とnチャネルトランジスタQ19のノードNO8には
VCC−2|Vthp |の電位がそれぞれ出力されるため、
上記実施例と同様に、読み出し動作の1サイクルが終了
し、電源電圧がVCCからVCC' に降下した場合、電荷引
き抜き用トランジスタのゲート電位がソース電位に比べ
てVCCーVCC' +|Vthp |だけ高くなって導通状態に
なり、その結果、電源電圧の降下による応答速度の遅延
化を抑制することができる。また、出力段を構成する上
記nチャネルトランジスタQ16,pチャネルトランジ
スタQ17のサイズを大きくし、駆動能力を上げると、
低インピーダンスでの基準電位を出力することができ
る。In the reference potential generating circuit of the present embodiment, the node NO5 between the p-channel transistor Q15 and the n-channel transistor Q16 has a potential of V CC -│V thp │ and the n-channel transistor Q16 and the p-channel transistor Q16. The node NO6 with Q17 has V CC − | V thp
The potential of | -V thn is V in the node NO7 between the p-channel transistor Q17 and the resistance component R 2 having the resistance value r 2.
CC - | V thp | -V th n - | V thp | = V CC -2 | V
The potential of thp │−V thn is the p-channel transistor Q1.
8 and the node NO8 of the n-channel transistor Q19 output the potential of V CC −2 | V thp | , respectively.
Similar to the above embodiment, one cycle is completed read operation, the power supply voltage V CC from V CC 'if you drop, V CC over V CC gate potential than the source potential of the charge pull transistor' + It becomes conductive by increasing by | V thp |, and as a result, it is possible to suppress the delay of the response speed due to the drop of the power supply voltage. In addition, if the size of the n-channel transistor Q16 and the p-channel transistor Q17 forming the output stage is increased to improve the driving capability,
It is possible to output the reference potential with low impedance.
【手続補正8】[Procedure Amendment 8]
【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement
【補正対象項目名】符号の説明[Correction target item name] Explanation of code
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【符号の説明】 1 カレントミラー差動増幅器の駆動部 2 カレントミラー差動増幅器の負荷部 3 基準電位発生回路 3’基準電位発生回路 4 電荷引き抜き用トランジスタ群 4’電荷引き抜き用トランジスタ群 5 トランスファ用トランジスタ群 Q1〜Q4,Q9〜Q12,Q15,Q17,Q18,
Q20,Q21 Pチャネルトランジスタ Q5〜Q8 Q13,Q14,Q19 Nチャネルトラ
ンジスタ NO1,NO2,NO3,NO4,NO5,NO6,N
O7,NO8 ノード BL,/BL ビット線 WI,/WI 書き込みデータ線 RI,/RI 読み出しデータ線 WL ワード線 NOA,NOB ノード[Description of Reference Signs] 1 current mirror differential amplifier drive section 2 current mirror differential amplifier load section 3 reference potential generation circuit 3'reference potential generation circuit 4 charge extraction transistor group 4'charge extraction transistor group 5 for transfer Transistor groups Q1 to Q4, Q9 to Q12, Q15, Q17, Q18,
Q20, Q21 P, channel transistor Q5~Q8 Q13, Q14, Q19 N, channel transistor NO1, NO2, NO3, NO4, NO5, NO6, N
O7, NO8 node BL, / BL bit line WI, / WI write data line RI, / RI read data line WL word line NOA, NOB node
【手続補正9】[Procedure Amendment 9]
【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing
【補正対象項目名】図1[Name of item to be corrected] Figure 1
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図1】 [Figure 1]
【手続補正10】[Procedure Amendment 10]
【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing
【補正対象項目名】図3[Name of item to be corrected] Figure 3
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図3】 [Figure 3]
【手続補正11】[Procedure Amendment 11]
【補正対象書類名】図面[Document name to be corrected] Drawing
【補正対象項目名】図5[Name of item to be corrected] Figure 5
【補正方法】変更[Correction method] Change
【補正内容】[Correction content]
【図5】 [Figure 5]
Claims (2)
に設けられた複数のビット線対と、 該複数のビット線対の各ビット線対に対応して設けられ
た複数のセンスアンプと、 データ書き込み時に選択されたビット線対に書き込みデ
ータを伝達する書き込みデータ線対と、 データ読み出し時に選択されたビット線対に読み出しデ
ータを伝達する読み出しデータ線対と、 上記読み出しデータ線対と上記ビット線対とに対応して
設けられ、上記ビット線対の電位を入力信号として差動
的に増幅するカレントミラー差動増幅器とを備えた半導
体記憶装置において、 電源電圧に連動して該電源電圧の電圧値より低い電圧値
の基準電位を出力する基準電位発生回路と、 ドレインが接地し、上記基準電位発生回路の出力をゲー
トに受け、上記読み出しデータ線対にそれぞれソースが
接続された一対の電荷引き抜き用トランジスタとを設け
たことを特徴とする半導体記憶装置。1. A plurality of memory cells, a plurality of bit line pairs provided so that one of the memory cells is connected to the memory cell, and a plurality of bit line pairs corresponding to the bit line pairs. A plurality of sense amplifiers that are provided as a set, a write data line pair that transmits write data to the bit line pair selected when writing data, and a read data line pair that transmits read data to the bit line pair selected when reading data. And a current mirror differential amplifier provided corresponding to the read data line pair and the bit line pair and differentially amplifying the potential of the bit line pair as an input signal, A reference potential generating circuit that outputs a reference potential having a voltage value lower than the voltage value of the power source voltage in conjunction with the power source voltage, and a drain that is grounded Subjected to a force to the gate, the semiconductor memory device is characterized by providing a pair of charge pull transistor whose source respectively to the read data line pair is connected.
て、 上記カレントミラー差動増幅器の負荷部と駆動部とを繋
ぐ読み出しデータ線対上の中間電位をゲートで受けるト
ランスファ用トランジスタを上記読み出しデータ線対に
設けたことを特徴とする半導体記憶装置。2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein a transfer transistor that receives at its gate an intermediate potential on a read data line pair connecting the load section and the drive section of the current mirror differential amplifier is used as the read data. A semiconductor memory device provided in line pairs.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP3270069A JP2869226B2 (en) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | Semiconductor storage device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP3270069A JP2869226B2 (en) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | Semiconductor storage device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JPH0581860A true JPH0581860A (en) | 1993-04-02 |
JP2869226B2 JP2869226B2 (en) | 1999-03-10 |
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Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01169798A (en) * | 1987-12-24 | 1989-07-05 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor memory device |
JPH01235094A (en) * | 1988-03-14 | 1989-09-20 | Mitsubishi Electric Corp | I/o line load circuit |
JPH02116082A (en) * | 1988-10-24 | 1990-04-27 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor memory |
-
1991
- 1991-09-19 JP JP3270069A patent/JP2869226B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
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JPH01169798A (en) * | 1987-12-24 | 1989-07-05 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor memory device |
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JPH02116082A (en) * | 1988-10-24 | 1990-04-27 | Mitsubishi Electric Corp | Semiconductor memory |
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JP2869226B2 (en) | 1999-03-10 |
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