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JP2869226B2 - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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Publication number
JP2869226B2
JP2869226B2 JP3270069A JP27006991A JP2869226B2 JP 2869226 B2 JP2869226 B2 JP 2869226B2 JP 3270069 A JP3270069 A JP 3270069A JP 27006991 A JP27006991 A JP 27006991A JP 2869226 B2 JP2869226 B2 JP 2869226B2
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JP
Japan
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line pair
potential
read data
bit line
data line
Prior art date
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JP3270069A
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Inventor
啓 浜出
茂 森
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH0581860A publication Critical patent/JPH0581860A/en
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Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、半導体記憶装置に関
し、特に、読み出し速度の高速化と誤動作の防止が図ら
れた半導体記憶装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a semiconductor memory device in which a reading speed is increased and a malfunction is prevented.

【0002】[0002]

【従来の技術】図5は、従来の読み出しデータ線と書き
込みデータ線の分離した構成をとる半導体記憶装置の主
要部の構成を概略的に示した図である。図において、ビ
ット線BL,/BLにはメモリセルMC,センスアン
プS/A,データ書き込み回路からの信号のみを伝送す
る1対の書き込みデータ線対WI,/WI及びビット線
対BL,/BLに生じた微小電位差をゲートで受け、そ
れを増幅するカレントミラー差動増幅器の駆動部1のn
チャネルトランジスタQ7,Q8が接続されている。更
に、上記書き込みデータ線対WI,/WIとは別に、読
み出しデータのみを伝送する1対の読み出しデータ線対
RI,/RIが設けられ、該RI,/RIには図示しな
いイコライズ手段が設けられている。尚、上記カレント
ミラー差動増幅器は上記nチャネルトランジスタQ5〜
Q8からなる駆動部1とビット線対BL,/BL上の信
号電位を検知増幅するためのpチャネルトランジスタQ
1〜Q4からなる負荷部2とで構成され、nチャネルト
ランジスタQ5,Q6は図示しないコラムデコーダから
の信号をゲートで受け、この信号によりカレントミラー
差動増幅器が活性化されるようになっている。そして、
ビット線対BL,/BLの電位差は上記カレントミラー
差動増幅器により増幅され、出力ノードNO1,NO2
より出力した後、次段の図示しない増幅手段に入力され
る。
2. Description of the Related Art FIG. 5 schematically shows a structure of a main part of a conventional semiconductor memory device having a structure in which a read data line and a write data line are separated. In Figure, the bit line pair BL, / memory cell MC in the BL, the sense amplifier S / A, and the write data line pair of a pair of transmitting only a signal from the data write circuit WI, / WI and the bit line pair BL, / The gate of the current mirror differential amplifier amplifies the small potential difference generated in BL at the gate, and amplifies it.
Channel transistors Q7 and Q8 are connected. Further, apart from the write data line pair WI, / WI, a pair of read data line RI, / RI for transmitting only read data is provided, and the RI, / RI is provided with an equalizing means (not shown). ing. The current mirror differential amplifier is connected to the n-channel transistors Q5 to Q5.
A drive unit 1 comprising a transistor Q8 and a p-channel transistor Q for detecting and amplifying a signal potential on a pair of bit lines BL and / BL.
The n-channel transistors Q5 and Q6 receive at their gates a signal from a column decoder (not shown), and the current mirror differential amplifier is activated by this signal. . And
The potential difference between the pair of bit lines BL and / BL is amplified by the current mirror differential amplifier and output nodes NO1 and NO2.
After that, it is input to the amplification means (not shown) at the next stage.

【0003】次に、上記図5に示す半導体記憶装置の読
み出し動作を図6の信号波形図を用いて説明する。時刻
1 以前に読み出しデータ線対RI,/RI、即ち、出
力ノードNO1,NO2は所定のプリチャージ電位で安
定している。電源電圧VCC,pチャネルトランジスタの
しきい値電圧をVthp とすると、このプリチャージ電位
はVCCよりpチャネルトランジスタのしきい値電圧V
thp の絶対値だけ低い電位VCC−|Vthp |となる。そ
して、この状態で外部からのアドレス信号に応答して1
本のワード線WLが選択され、メモリセルMCの情報が
ビット線BLに読み出され、ビット線BL,/BL間に
微小電位差が生じる。
Next, a read operation of the semiconductor memory device shown in FIG. 5 will be described with reference to a signal waveform diagram of FIG. Time t 1 before the read data line pair RI, / RI, i.e., the output nodes NO1, NO2 is stable at a predetermined precharge potential. Assuming that the power supply voltage V CC and the threshold voltage of the p-channel transistor are V thp , this precharge potential is higher than V CC by the threshold voltage V p of the p-channel transistor.
The potential V CC − | V thp | becomes lower by the absolute value of thp . Then, in this state, 1 responds to an external address signal.
One word line WL is selected, the information of the memory cell MC is read out to the bit line BL, and a small potential difference occurs between the bit lines BL and / BL.

【0004】次に、時刻t1 において、外部アドレスに
応答してコラム選択信号Yiが“L”レベルから“H”
レベルに立ち上がると、nチャネルトランジスタQ5及
びQ6がオンしてトランジスタQ1〜Q8からなるカレ
ントミラー差動増幅器が活性化され、読み出しデータ線
/RIは接地電位に向かって放電し、読み出しデータ線
RIは電源電圧VCCに向かって引かれる。そして、この
読み出しデータ線対RI,/RIの電位はそれぞれの出
力ノードNO2,NO1を介して次段の増幅手段の入力
部へ伝達される。次いで、時刻t3 でコラム選択信号Y
iが“H”レベルから“L”レベルへ移行すると、上記
カレントミラー差動増幅器は不活性状態となり、読み出
しデータ線対RI,/RI、即ち、ノードNO1,NO
2はイコライズされながら所定のプリチャージ電位VCC
−|Vthp |に復帰する。
[0004] Next, at time t 1, the column selection signal Yi in response to an external address "L" level to "H"
When it rises to the level, n-channel transistors Q5 and Q6 are turned on, the current mirror differential amplifier including transistors Q1 to Q8 is activated, read data line / RI is discharged toward the ground potential, and read data line RI is It is pulled toward the power supply voltage V CC . Then, the potential of the read data line pair RI, / RI is transmitted to the input section of the next stage amplifying means via the respective output nodes NO2, NO1. Then, the column selection signal Y at time t 3
When i changes from "H" level to "L" level, the current mirror differential amplifier becomes inactive and the read data line pair RI, / RI, that is, nodes NO1 and NO
2 is a predetermined precharge potential V CC while being equalized
-| V thp |

【0005】次いで、上記の1つのサイクル(サイクル
1)が終了し、次のサイクル(サイクル2)に移った
時、即ち、時刻t4 で、電源電圧はVCCからVCC′に降
下し、プリチャージ電位は、読み出しデータ線対RI,
/RI、即ち、ノードNO1,NO2の電位は溜まって
いる電荷を引き抜く経路がないため、VCC−|Vthp
からVCC′−|Vthp |には降下せず、VCC−|Vthp
|のままで変化しない。次いで、時刻t5 以前にワード
線が“L”レベルから“H”レベルに立ち上がり、ビッ
ト線BLにメモリセルMCの情報が読み出され、ビット
線対BL,/BL間に微小電位差が生ずる。そして、時
刻t5 でコラム選択信号Yiが“H”レベルに立ち上が
り、nチャネルトランジスタQ5,Q6がオン状態とな
り、カレントミラー差動増幅器が活性化すると、ビット
線BL,/BL間の微小電位差はノードNO2及びNO
1に増幅され、上記サイクル1と同様に次段の増幅手段
に伝達される。そして、時刻t7 において、コラム選択
信号Yiが“H”レベルから“L”レベルに立ち下がる
ことにより、トランジスタQ5,Q6はオフ状態とな
り、カレントミラー差動増幅器が不活性状態に移行し、
読み出しデータ線対RI,/RIはイコライズされなが
ら所定のプリチャージレベルに復帰する。
[0005] Then, the above one cycle (cycle 1) is finished, when moved to the next cycle (cycle 2), i.e., at time t 4, the power supply voltage drops to V CC 'from V CC, The precharge potential is equal to the read data line pair RI,
/ RI, that is, the potentials of the nodes NO1 and NO2 have no path for extracting the accumulated charge, and therefore, V CC − | V thp |
V CC 'from - | V thp | to does not drop, V CC - | V thp
| Does not change. Then, the time t 5 before the word line rises to "H" level from the "L" level, data of the memory cell MC is read out to the bit line BL, and the bit line pair BL, small potential difference is generated between the / BL. Then, rising the column selection signal Yi is at the "H" level at time t 5, n-channel transistors Q5, Q6 is turned on, the current mirror differential amplifier is activated, the bit line BL, and the small potential difference between / BL Nodes NO2 and NO
1 and transmitted to the next stage amplifying means in the same manner as in the cycle 1. Then, at time t 7, by falls to the "L" level from the column selection signal Yi is at the "H" level, transistors Q5, Q6 are turned off, the current mirror differential amplifier is shifted to the inactive state,
The read data line pair RI, / RI returns to a predetermined precharge level while being equalized.

【0006】ここで、増幅手段の感度が十分に良好とな
るノードNO1の“L”レベルが、例えば、電源電圧の
1/2だとすると、電源電圧降下前の上記サイクル1で
は、カレントミラー差動増幅器が活性化(時刻t1 )し
てから、ノードNO1の電位が安定電位VCC−|Vthp
|から1/2VCCに到達(時刻t2 )するまでの時間は
ΔTかかり、電源電圧がVCCからVCC′に降下した後の
上記サイクル2では、同様にカレントミラー差動増幅器
が活性化(時刻t5 )してから、ノードNO1の電位が
安定電位VCC−|Vthp |から1/2VCC′に到達(時
刻t6 )するまでの時間はΔT′かかる。つまり、電源
電圧降下後のサイクル2ではサイクル1よりΔV−Δ
V′(=1/2(VCC−VCC′))だけ接地電位に引か
れないと、次段増幅手段が十分な感度を得ることができ
ず、更に、電源電圧の降下に伴い、カレントミラー差動
増幅器の駆動力は衰えるので、サイクル2での応答速度
ΔT′はサイクル1での応答速度ΔTより遅くなってし
まう。
Here, assuming that the "L" level of the node NO1 at which the sensitivity of the amplifying means is sufficiently good is, for example, 1/2 of the power supply voltage, in the cycle 1 before the power supply voltage drops, the current mirror differential amplifier is used. Is activated (time t 1 ), the potential of node NO1 becomes stable potential V CC − | V thp
| From 1 / 2V reached the CC (time t 2) time to take [Delta] T, in the above cycle 2 after the power supply voltage drops to V CC 'from V CC, similarly activated by the current mirror differential amplifier It takes ΔT ′ from (at time t 5 ) until the potential of the node NO1 reaches 1/2 V CC ′ from the stable potential V CC − | V thp | (at time t 6 ). That is, in cycle 2 after the power supply voltage drops, ΔV−Δ
If V '(= 1/2 (V CC -V CC')) but not pulled to the ground potential, can not be the next stage amplifying means to obtain a sufficient sensitivity, furthermore, with the drop in the power supply voltage, the current Since the driving force of the Miller differential amplifier decreases, the response speed ΔT ′ in cycle 2 becomes slower than the response speed ΔT in cycle 1.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
読み出しデータ線と書き込みデータ線が分離して形成さ
れた半導体記憶装置では、電源電圧に負バンプが生じる
と、読み出しデータ線対RI,/RIのプリチャージレ
ベルはそれに追従して降下せず、電源電圧より高い電位
レベルが残ってしまう。このため、カレントミラー差動
増幅器が活性化し、読み出しデータ線の電位を接地電位
に向かって引く際、上記読み出しデータ線対RI,/R
Iの電位が、次段の増幅手段が十分な感度を示すための
所定の電位レベルに到達するまでに要する時間が長くな
ってしまうという問題点があった。
As described above, in the conventional semiconductor memory device in which the read data line and the write data line are formed separately, when a negative bump occurs in the power supply voltage, the read data line pair RI, The precharge level of / RI does not drop following it, and a potential level higher than the power supply voltage remains. For this reason, when the current mirror differential amplifier is activated and the potential of the read data line is pulled toward the ground potential, the read data line pair RI, / R
There is a problem in that the time required for the potential of I to reach a predetermined potential level for the amplification means at the next stage to exhibit sufficient sensitivity becomes long.

【0008】この発明は上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、電源電圧が降下した時に、それ
に追従して読み出しデータ線対のプリチャージ電位も降
下し、読み出し速度が高速化し、誤動作の防止が図られ
た半導体記憶装置を得ることを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems. When the power supply voltage drops, the precharge potential of the read data line pair also drops following the drop of the power supply voltage, thereby increasing the read speed. It is another object of the present invention to obtain a semiconductor memory device in which malfunction is prevented.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】この発明にかかる半導体
記憶装置は、複数のメモリセルと、各メモリセルに対し
て一方がメモリセルに接続するように設けられた複数の
ビット線対と、該複数のビット線対の各ビット線対に対
応して設けられた複数のセンスアンプと、データ書き込
み時に選択されたビット線対に書き込みデータを伝達す
る書き込みデータ線対と、データ読み出し時に選択され
たビット線対から読み出しデータを伝達する読み出しデ
ータ線対と、負荷部と駆動部とがそれぞれ上記読み出し
データ線対と上記ビット線対とに対応して設けられ、上
記ビット線対の電位を入力信号として差動的に増幅する
カレントミラー差動増幅器とを備えた半導体記憶装置に
おいて、電源電圧に連動して該電源電圧の電圧値より低
い電圧値の基準電位を出力する基準電位発生回路と、ド
レインが接地し、上記基準電位発生回路の出力をゲート
に受け、上記読み出しデータ線対にそれぞれソースが接
続された一対の電荷引き抜き用トランジスタと、上記読
み出しデータ線対に設けられ上記カレントミラー差動増
幅器の負荷部と駆動部とを繋ぐ読み出しデータ線対上の
中間電位に相当する電位をゲートで受けるトランスファ
用トランジスタとを備えたものである。
A semiconductor memory device according to the present invention has a plurality of memory cells and a memory cell for each memory cell.
One of which is connected to the memory cell.
A pair of bit lines and a pair of bit lines of the plurality of bit line pairs.
Multiple sense amplifiers and data write
The write data to the selected bit line pair
Write data line pair selected during data read
Read data that transmits read data from the bit line pair
Data line pair, load section and drive section
Provided corresponding to the data line pair and the bit line pair,
Differentially amplify the potential of the bit line pair as an input signal
Semiconductor memory device with current mirror differential amplifier
Lower than the voltage value of the power supply voltage in conjunction with the power supply voltage.
A reference potential generating circuit for outputting a reference potential having a
Rain grounds and gates the output of the reference potential generator
And the source is connected to each of the read data line pairs.
A pair of charge extraction transistors connected
The current mirror differential amplifier
On the read data line pair that connects the
Transfer receiving a potential corresponding to the intermediate potential at the gate
And a transistor for use .

【0010】[0010]

【作用】この発明にかかる半導体記憶装置においては、
電源電圧VCCが降下したとき、これに連動して基準電位
発生回路から出力する出力信号を読み出しデータ線対の
それぞれデータ線に設けられたトランジスタのゲートが
受け、その結果、該トランジスタがオン状態になって導
通して、上記読み出しデータ線対上に電荷を引き抜くパ
スが形成され、これによって、読み出しデータ線の電位
が適切なプリチャージ電位まで下げられる。
In the semiconductor memory device according to the present invention,
When the power supply voltage V CC drops, an output signal output from the reference potential generating circuit in conjunction with the read is received by the gates of the transistors provided on the respective data lines of the read data line pair, and as a result, the transistor is turned on. And a path is formed to conduct the charges on the read data line pair, thereby lowering the potential of the read data line to an appropriate precharge potential.

【0011】[0011]

【実施例】以下、この発明の一実施例を図について説明
する。図1はこの発明の一実施例による半導体記憶装置
の主要部の構成を概略的に示す図であり、図5と同一符
号は同一または相当する部分を示している。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram schematically showing a configuration of a main part of a semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention, and the same reference numerals as those in FIG. 5 indicate the same or corresponding parts.

【0012】ここで、本実施例の半導体記憶装置は、図
5で示した従来の半導体記憶装置と同様に、BL,/B
Lはビット線対であり、該ビット線対BL,/BLには
メモリセルMC,センスアンプS/A,図示しないデー
タ書き込み回路からの信号のみを伝送する1対の書き込
みデータ線対WI,/WI及びビット線対BL,/BL
に生じた微小電位差をゲートで受け、それを増幅するカ
レントミラー差動増幅器の駆動部1のnチャネルトラン
ジスタQ7,Q8が接続されている。更に、上記書き込
みデータ線対WI,/WIとは別に、読み出しデータの
みを伝送する1対の読み出しデータ線対RI,/RIが
設けられ、該読み出しデータ線対RI,/RI上には図
示しないイコライズ手段が設けられている。尚、上記ビ
ット線対BL,/BL上の信号電位を検知増幅するため
の上記カレントミラー差動増幅器はpチャネルトランジ
スタQ1〜Q4からなる負荷部2とnチャネルトランジ
スタQ5〜Q8からなる駆動部1とで構成される。尚、
上記nチャネルトランジスタQ5,Q6は図示しないコ
ラムデコーダからの信号をゲートで受け、上記カレント
ミラー差動増幅器を活性化するスイッチングトランジス
タであり、また、上記カレントミラー差動増幅器におい
てビット線対BL,/BLの電位差は増幅された後、出
力ノードNO,NOより出力され、次段の図示しな
い増幅手段の入力に接続される。
Here, the semiconductor memory device of this embodiment has BL, / B like the conventional semiconductor memory device shown in FIG.
L denotes a bit line pair, and a pair of write data line pairs WI, // which transmit only signals from a memory cell MC, a sense amplifier S / A, and a data write circuit (not shown) to the bit line pairs BL and / BL. WI and bit line pair BL, / BL
The n-channel transistors Q7 and Q8 of the drive unit 1 of the current mirror differential amplifier that receives the small potential difference generated at the gate by the gate and amplifies it are connected. Further, apart from the write data line pair WI, / WI, there is provided a pair of read data line pairs RI, / RI for transmitting only read data, not shown on the read data line pair RI, / RI. Equalizing means is provided. The current mirror differential amplifier for detecting and amplifying the signal potential on the bit line pair BL, / BL includes a load unit 2 including p-channel transistors Q1 to Q4 and a driving unit 1 including n-channel transistors Q5 to Q8. It is composed of still,
The n-channel transistors Q5 and Q6 are switching transistors that receive a signal from a column decoder (not shown) at their gates and activate the current mirror differential amplifier. In the current mirror differential amplifier, the bit line pair BL, / After the potential difference of BL is amplified, it is output from output nodes NO 2 and NO 1 and is connected to the input of an amplifying means (not shown) at the next stage.

【0013】一方、pチャネルトランジスタQ9,Q1
0、抵抗値r1 を持つ抵抗要素R1から基準電位発生回
路3が構成されており、該pチャネルトランジスタQ9
のソース電極は電源電圧VCC端子に接続し、ドレイン電
極及びゲート電極はノードNO3に接続し、また、該p
チャネルトランジスタQ10のソース電極はノードNO
3に接続し、ゲート電極,ドレイン電極はノードNO4
に接続し、また、該抵抗要素R1の一端はノードNO4
に接続し、他端は接地している。そして、更に、上記ノ
ードNO4は電荷引き抜き用のpチャネルトランジスタ
Q11,Q12のそれぞれのゲート電極に接続し、該p
チャネルトランジスタQ11,Q12のソース電極はそ
れぞれ読み出しデータ線RI,/RIに、即ちノードN
O1及,NO2にそれぞれ接続し、また、ドレイン電極
はともに接地している。
On the other hand, p-channel transistors Q9, Q1
0, a resistive element R1 having a resistance value r 1 is configured the reference potential generating circuit 3, the p-channel transistor Q9
The source electrode is connected to the supply voltage V CC terminal, a drain electrode and a gate electrode connected to the node NO3, also, the p
The source electrode of channel transistor Q10 is at node NO.
3 and the gate and drain electrodes are connected to node NO4
And one end of the resistance element R1 is connected to a node NO4.
And the other end is grounded. And further, the node NO4 is connected to the gate electrode of the p-channel transistors Q11, Q12 of the charge withdrawal, the p
The source electrodes of the channel transistors Q11 and Q12 are connected to the read data lines RI and / RI, that is, the node N
O1 and NO2 are connected to each other, and the drain electrodes are both grounded.

【0014】次に、上記装置の動作の概略を説明する。
基準電位発生回路3において抵抗要素R1の抵抗値r1
をトランジスタQ9,Q10のオン抵抗に比べ非常に大
きい値になるように設定すると、ノードNO3には電源
電圧VCCよりpチャネルトランジスタのしきい値電圧
(Vthp )の絶対値分だけ低いVCC−|Vthp |の電圧
が出力される。また、ノードNO4にはノードNO3に
出力される電圧よりpチャネルトランジスタのしきい値
電圧(Vth p )の絶対値分だけ低いVCC−2|Vthp
の電圧が出力される。この時、抵抗値r1 の値を十分に
大きくしておけば、基準電圧発生回路3で流れる電流は
ほとんどゼロとなる。そして、ノードNO4の電位に対
しノードNO1,NO2の電位がpチャネルトランジス
タのしきい値電圧Vthp の絶対値分以上高いと、pチャ
ネルトランジスタQ11及びQ12がオン状態となり、
電流パスができる。即ち、何らかの理由により電源電圧
CCが降下してVCC′になったとき、ノードNO1,N
O2の電位がVCC′−|Vthp |より高ければpチャネ
ルトランジスタQ11,Q12がオンし、ノードNO
1,NO2の電位はVCC′−|Vthp|まで引き下げら
れることになる。そして、ノードNO1,NO2の電位
がVCC′−|Vthp |の電位まで下がれば、ノードQ1
1,Q12はオフ状態になり、それ以上電流は流れなく
なる。
Next, an outline of the operation of the above device will be described.
The resistance value r 1 of the resistance element R1 in the reference potential generation circuit 3
The transistors Q9, when set to be very large value compared with the ON resistance of Q10, absolute value of only low V CC of the threshold voltage of the p-channel transistor than the power supply voltage V CC to the node NO3 (V thp) − | V thp | is output. The node NO4 only the absolute value of the threshold voltage (V th p) of the p-channel transistor from voltage output to the node NO3 low V CC -2 | V thp |
Is output. At this time, if the value of the resistance value r 1 is sufficiently increased, the current flowing in the reference voltage generating circuit 3 becomes almost zero. When the potentials of nodes NO1 and NO2 are higher than the potential of node NO4 by the absolute value of threshold voltage V thp of the p-channel transistor, p-channel transistors Q11 and Q12 are turned on,
There is a current path. That is, when the power supply voltage V CC falls to V CC 'for some reason, the nodes NO1 and N
If the potential of O2 is higher than V CC '-| V thp |, p-channel transistors Q11 and Q12 turn on, and node NO
1, the potential of NO2 is reduced to V CC '-| V thp |. Then, the node NO1, the potential of NO2 is V CC '- | V thp | if Sagare to the potential, the node Q1
1, Q12 is turned off, and no more current flows.

【0015】以下、上記半導体記憶装置の動作を図2の
信号波形図を用いてより詳しく説明する。先ず、時刻t
1 以前では読み出しデータ線RI(ノードNO1),/
RI(ノードNO2)は、従来と同様に、電源電圧VCC
よりpチャネルトランジスタのしきい値電圧Vthp の絶
対値分だけ低い電位VCC−|Vthp |で安定している。
そして、この状態で外部からのアドレス信号に応答して
1本のワード線が選択され、メモリセルMCの情報がビ
ット線BLに読み出され、ビット線対BL,/BL間に
微小電位差が生じる。以後、サイクル1(時刻t3 から
4 まで)の読み出し動作は従来と同様となる。
Hereinafter, the operation of the semiconductor memory device will be described in more detail with reference to the signal waveform diagram of FIG. First, time t
1 or earlier, the read data line RI (node NO1),
RI (node NO2) is equal to power supply voltage V CC as in the prior art.
It is stable at a potential V CC − | V thp | lower than the absolute value of the threshold voltage V thp of the p-channel transistor.
Then, in this state, one word line is selected in response to an externally applied address signal, information of the memory cell MC is read out to the bit line BL, and a minute potential difference is generated between the pair of bit lines BL and / BL. . Thereafter, the read operation cycle 1 (from time t 3 to t 4) is the same as the conventional.

【0016】次に、サイクル1からサイクル2に移り、
時刻t4 で電源電圧がVCCからVCC′に降下すると、そ
れに連動して基準電位発生回路3の出力であるノードN
O4の電位も降下し、該電位はVCC′−2|Vthp |と
なる。つまり、電源電圧がどのように変化しようともノ
ードNO4には電源電圧よりpチャネルトランジスタの
しきい値電圧Vthp の絶対値の2段落ちの電圧が出力さ
れる。この時、ノードNO1及びNO2の電位は電源電
圧降下前の電源電圧VCCより|Vthp |分だけ低いVCC
−|Vthp |であるので、pチャネルトランジスタQ1
1,Q12では、ゲート電位VCC′−2|Vthp |に対
しソース電位VCC−|Vthp |がVCC−VCC′+|V
thp |だけ高く、即ち、ゲート電位に対してソース電位
が|Vthp |以上高くなるので、pチャネルトランジス
タQ11,Q12は導通状態になり、ノードNO1,N
O2の電位レベルをVCC′−|Vthp |のレベルまで引
き下げることになる。
Next, a transition is made from cycle 1 to cycle 2,
When the power supply voltage drops from V CC to V CC 'at time t 4 , the output of node N
The potential of O4 also drops, and the potential becomes V CC '-2 | V thp |. That is, no matter how the power supply voltage changes, a voltage two steps lower than the power supply voltage in absolute value of the threshold voltage V thp of the p-channel transistor is output to the node NO4. At this time, the nodes NO1 and NO2 of the potential before the power supply voltage drops below the power supply voltage V CC | V thp | amount corresponding lower V CC
− | V thp |, the p-channel transistor Q1
1, the Q12, the gate potential V CC '-2 | V thp | respect to the source potential V CC - | V thp | is V CC -V CC' + | V
thp |, that is, the source potential becomes higher than the gate potential by | V thp | or more, so that the p-channel transistors Q11 and Q12 are turned on, and the nodes NO1 and N1
The O2 potential level of V CC '- | will be lowered to the level of | V thp.

【0017】次いで、時刻t5 で外部アドレスからのコ
ラム選択信号Yiに応答して“L”レベルから“H”レ
ベルに立ち上がると、nチャネルトランジスタQ5,Q
6がオンしてトランジスタQ1〜Q8よりなるカレント
ミラー差動増幅器が活性化し、読み出しデータ線/RI
(ノードNO2)は接地電位に向かって引かれ、一方、
読み出しデータ線RI(ノードNO1)は電源電圧
CC′に向かって引かれる。ここで、電源電圧の降下に
ともない、出力ノードNO1,NO2の安定電位も連動
して降下しているので、出力ノードNO1が次段の増幅
手段の感度の十分に良好なレベル(例えば、従来と同様
に電源電圧の1/2の電位レベル)まで到達する時刻t
6 までの所要時間Δt′は電源電圧降下前のサイクル1
での応答時間Δtと同等になり、従来のような電源電圧
の降下による応答速度の遅延化が改善されて、安定した
読み出し動作が実現される。そして、時刻t7 でコラム
選択信号Yiが“H”レベルから“L”に立ち下がるこ
とにより、トランジスタQ5,Q6はオフ状態に移行
し、読み出しデータ線対RI,/RI(即ちノードNO
1,NO2)は所定の安定電位VCC′−|Vthp |に復
帰する。
[0017] Then, the time t 5 in response to a column selection signal Yi from the external address rises to "H" level from the "L" level, n-channel transistors Q5, Q
6 is turned on to activate the current mirror differential amplifier including the transistors Q1 to Q8, and the read data line / RI
(Node NO2) is pulled towards ground potential, while
Read data line RI (node NO1) is pulled toward power supply voltage V CC '. Here, the stable potentials of the output nodes NO1 and NO2 also drop in conjunction with the drop of the power supply voltage, so that the output node NO1 has a sufficiently high level of sensitivity of the amplifying means of the next stage (for example, the conventional one). Similarly, the time t when the voltage reaches the half of the power supply voltage)
The required time Δt 'up to 6 is cycle 1 before the power supply voltage drops.
, The response time delay due to a drop in power supply voltage as in the prior art is improved, and a stable read operation is realized. By falls to "L" from the column selection signal Yi is at the "H" level at time t 7, transistors Q5, Q6 shifts to the OFF state, the read data line pair RI, / RI (i.e. node NO
1, NO2) is predetermined stable potential V CC '- | return to | V thp.

【0018】このような本実施例にかかる半導体記憶装
置では、例えば、読み出し動作の1サイクルが終了し、
電源電圧がVccからVCC′に降下すると、これに連動し
て上記基準電位発生回路3の出力である上記ノードNO
4の電位が、pチャネルトランジスタのしきい値電圧V
thp の絶対値の2段分だけ降下してVCC′−2|Vth p
|になり、pチャネルトランジスタQ11,Q12のゲ
ート電位はVCC′−2|Vthp |に、ソース電位は電源
電圧降下前の電源電圧Vccより|Vthp |だけ低いVcc
−|Vthp |になり、その結果、ソース電位がゲート電
位よりVcc−VCC′+|Vthp |だけ高くなって、上記
pチャネルトランジスタQ11,Q12が導通し、ノー
ドNO1,NO2の電位レベルもVCC′−|Vthp |の
レベルまで引下げられることになり、これにより、次段
の増幅手段の感度に十分な電位レベルに達するまでの所
要時間が短くなり、電源電圧の降下による応答速度の遅
延化を抑制することができる。
In the semiconductor memory device according to the present embodiment, for example, one cycle of the read operation is completed.
When the power supply voltage drops from V cc to V cc ′, the node NO, which is the output of the reference potential generating circuit 3, is interlocked with this.
4 is the threshold voltage V of the p-channel transistor
drop by two steps of the absolute value of thp and V CC '-2 | V th p
| Becomes the gate potential of the p-channel transistors Q11, Q12 is V CC '-2 |, the source potential before the power supply voltage drops below the supply voltage V cc | | V thp V thp | only low V cc
- | V thp | becomes, as a result, V source potential than the gate potential cc -V CC '+ | V thp | becomes as high, the p-channel transistors Q11, Q12 is conductive, node NO1, NO2 potential level V CC '- | V thp | will be pulled down to the level of, thereby, the time required to reach a sufficient potential level to the sensitivity of the next-stage amplifying means is shortened, response by drop of the power supply voltage Speed delay can be suppressed.

【0019】図3は、この発明の第2の実施例による半
導体記憶装置の主要部の構成を概略的に示した図であ
り、図1と同一符号は同一または相当する部分を示し、
本実施例の半導体記憶装置では、図1に示した半導体記
憶装置に、読み出しデータ線対RI,/RI上の出力ノ
ードNO1,NO2の直下にある基準電位(定電圧=V
ref )をゲートに受けるトランスファ用nチャネルトラ
ンジスタQ13,Q14を読み出しデータ線対RI,/
RIに設け、更に、出力ノードNO1,NO2に対し
て、電源電圧の負バンプ発生時の電荷引き抜き用トラン
ジスタQ20,Q21と該トランジスタQ20,Q21
のそれぞれのゲートが接続した基準電圧発生回路3’を
設けたものである。
FIG. 3 is a diagram schematically showing a configuration of a main part of a semiconductor memory device according to a second embodiment of the present invention, wherein the same reference numerals as in FIG. 1 denote the same or corresponding parts.
In the semiconductor memory device of this embodiment, a reference potential (constant voltage = V) immediately below the output nodes NO1 and NO2 on the read data line pair RI and / RI is added to the semiconductor memory device shown in FIG.
ref ) to the gate of the transfer data line pair RI, /
In addition, the transistors Q20 and Q21 and the transistors Q20 and Q21 for extracting charges when a negative bump of the power supply voltage occurs are provided to the output nodes NO1 and NO2 .
Is provided with a reference voltage generating circuit 3 'connected to the respective gates.

【0020】このような本実施例による半導体集積回路
装置では、図1で示した半導体記憶装置の読み出しデー
タ線RI,/RI上に、トランスファ用nチャネルトラ
ンジスタQ13,Q14を設けるとともに、上記読み出
しデータ線RI,/RIに電荷引き抜き用トランジスタ
Q20,Q21を介して基準電圧発生回路3’を接続し
ているため、トランスファ用nチャネルトランジスタQ
13,Q14(図中Vrefはある中間電位)によりカ
レントミラー差動増幅器の負荷部2が軽くなり、出力ノ
ードNO1,NO2の応答をより高速化し、カレントミ
ラー差動増幅器の駆動部1側の大きな容量が付加されて
いるノードNOA,NOBの論理振幅が制限されて、低
消費電力化を実現することができる。
[0020] In the semiconductor integrated circuit device according to the present embodiment, the read data line RI of the semiconductor memory device shown in FIG. 1, / on the RI, along with providing the n for transfer, channel transistors Q13, Q14, said read data lines RI, / RI in through the charge pull transistors Q20, Q21 for connecting the reference voltage generating circuit 3 ', the transfer for n, channel transistor Q
13, Q14 (Vref is a certain intermediate potential in the figure), the load 2 of the current mirror differential amplifier is lightened, the response of the output nodes NO1 and NO2 is further speeded up, and the drive unit 1 side of the current mirror differential amplifier is large. The logic amplitude of the nodes NOA and NOB to which the capacitance is added is limited, and low power consumption can be realized.

【0021】図4は、この発明の第3の実施例による半
導体記憶装置の基準電位発生回路の回路構成を示す図で
あり、図において、電源VCCと接地間にはpチャネルト
ランジスタQ15,nチャネルトランジスタQ16,p
チャネルトランジスタQ17と抵抗値r2 をもつ抵抗成
分R2 列接続して構成された基準電位発生段と、
チャネルトランジスタQ18,チャネルトランジスタ
Q19を列接続して構成された出力段とがそれぞれ形
成されており、該基準電位発生段のpチャネルトランジ
スタQ15のゲートとnチャネルトランジスタQ16の
ゲートを接続したノードが、pチャネルトランジスタQ
15のドレインとnチャネルトランジスタQ16のドレ
インとを接続したノードNO5を介してチャネルトラ
ンジスタQ18のゲートに接続され、pチャネルトラン
ジスタQ17のゲートがpチャネルトランジスタQ17
ドレインと抵抗成分R2 とを接続したノードN7を
介してチャネルトランジスタQ19のゲートに接続さ
れており、チャネルトランジスタQ18,チャネル
トランジスタQ19のソース接続するノードNO8が
図示しない電荷引き抜き用トランジスタQ1,Q1
のゲートに接続されている。
FIG. 4 is a diagram showing a circuit configuration of a reference potential generating circuit of a semiconductor memory device according to a third embodiment of the present invention. In FIG. 4, p-channel transistors Q15 and n are connected between a power supply Vcc and ground. Channel transistor Q16, p
And a reference potential onset raw stage resistive component R 2 having a channel transistors Q17 resistance value r 2 is constructed by series connection, n
Channel transistor Q18, p is a channel transistor Q19 is formed with series connected is configured by an output stage, respectively, to connect the gates of the n-channel transistor Q16 of the p-channel transistor Q15 of the reference potential onset raw stage The node is a p-channel transistor Q
15 is connected to the gate of n- channel transistor Q18 via node NO5 connecting the drain of n-channel transistor Q16 to the gate of p-channel transistor Q17.
The drain and through the resistance component R 2 and node N O 7 connected to is connected to the gate of the p-channel transistor Q19, the charge node NO8 connecting the source of the n-channel transistor Q18, p-channel transistor Q19 is not shown pull transistor Q1 1, Q1 2
Connected to the gate.

【0022】このような本実施例の基準電位発生回路で
は、pチャネルトランジスタQ15とnチャネルトラン
ジスタQ16とのノードNO5にはVCC−|Vthp |の
電位が、nチャネルトランジスタQ16とpチャネルト
ランジスタQ17とのノードNO6にはVCC−|Vthp
|−Vthn の電位が、pチャネルトランジスタQ17と
抵抗値r2 をもつ抵抗成分R2 とのノードNO7にはV
CC−|Vthp |−Vthn −|Vthp |=VCC−2|V
thp |−Vthn の電位が、チャネルトランジスタQ1
8とチャネルトランジスタQ19のノードNO8には
CC−2|Vthp|の電位がそれぞれ出力されるため、
上記実施例と同様に、読み出し動作の1サイクルが終了
し、電源電圧がVCCからVCC' に降下した場合、電荷引
き抜き用トランジスタのゲート電位がソース電位に比べ
てVCCーVCC' +|Vthp |だけ高くなって導通状態に
なり、その結果、電源電圧の降下による応答速度の遅延
化を抑制することができる。また、出力段を構成する上
記nチャネルトランジスタQ16,pチャネルトランジ
スタQ17のサイズを大きくし、駆動能力を上げると、
低インピーダンスでの基準電位を出力することができ
る。
[0022] In the reference voltage generating circuit to the present embodiment, p-channel transistor Q15 and the node NO5 the n-channel transistor Q16 V CC - | V thp | potentials, n-channel transistor Q16 and a p-channel transistor V CC − | V thp is connected to node NO6 with Q17.
| Potential of -V thn is, the node NO7 the resistance component R 2 having the p-channel transistor Q17 and the resistance value r 2 V
CC − | V thp | −V thn − | V thp | = V CC −2 | V
thp | -Vthn is applied to the n- channel transistor Q1.
8 and p-channel transistor Q19 node NO8 V CC -2 to | because the potential is outputted, | V thp
Similar to the above embodiment, one cycle is completed read operation, the power supply voltage V CC from V CC 'if you drop, V CC over V CC gate potential than the source potential of the charge pull transistor' + Becomes higher by | V thp |, and as a result, it is possible to suppress a delay in response speed due to a drop in power supply voltage. Further, when the size of the n-channel transistor Q16 and the p-channel transistor Q17 constituting the output stage is increased to increase the driving capability,
A reference potential with low impedance can be output.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上のように、この発明に係る半導体記
憶装置によれば、複数のメモリセルと、各メモリセルに
対して一方がメモリセルに接続するように設けられた複
数のビット線対と、該複数のビット線対の各ビット線対
に対応して設けられた複数のセンスアンプと、データ書
き込み時に選択されたビット線対に書き込みデータを伝
達する書き込みデータ線対と、データ読み出し時に選択
されたビット線対から読み出しデータを伝達する読み出
しデータ線対と、負荷部と駆動部とがそれぞれ上記読み
出しデータ線対と上記ビット線対とに対応して設けら
れ、上記ビット線対の電位を入力信号として差動的に増
幅するカレントミラー差動増幅器とを備えた半導体記憶
装置において、電源電圧に連動して該電源電圧の電圧値
より低い電圧値の基準電位を出力する基準電位発生回路
と、ドレインが接地し、上記基準電位発生回路の出力を
ゲートに受け、上記読み出しデータ線対にそれぞれソー
スが接続された一対の電荷引き抜き用トランジスタと、
上記読み出しデータ線対に設けられ、上記カレントミラ
ー差動増幅器の負荷部と駆動部とを繋ぐ読み出しデータ
線対上の中間電位に相当する電位をゲートで受けるトラ
ンスファ用トランジスタとを備えたので、電源電圧に負
バンプが生じた時、上記電荷引き抜き用トランジスタが
オン状態になって電荷を引き抜くパスが形成されて、読
み出しデータ線対も電源電圧降下後の適切な安定電位ま
で降下し、その結果、読み出し動作が高速化し、安定し
た読み出し動作を行うことができるとともに、カレント
ミラー差動増幅器の駆動部が繋がれた上記読み出しデー
タ線のノードの論理振幅を制限することができるため、
読み出し動作の高速化と低消費電力化を図ることがで
き、その結果、より安定した読み出し動作を行うことが
できる効果がある。
As described above, the semiconductor memory according to the present invention is described.
According to the storage device, a plurality of memory cells and each memory cell
On the other hand, a complex provided so that one is connected to the memory cell
Bit line pairs and each bit line pair of the plurality of bit line pairs
Multiple sense amplifiers and data
Write data is transmitted to the selected bit line pair during programming.
Select the write data line pair to reach and when reading data
To transfer read data from the selected bit line pair
The data line pair, the load section and the drive section read
Output data line pairs and bit line pairs
And the potential of the bit line pair is differentially increased as an input signal.
Semiconductor memory with wide current mirror differential amplifier
In the device, the voltage value of the power supply voltage in conjunction with the supply voltage
A reference potential generation circuit for outputting a reference potential having a lower voltage value, and a drain grounded, and an output of the reference potential generation circuit
A gate receiving, saw respectively to the read data line pair
A pair of charge pull transistor which scan is connected,
The current mirror is provided for the read data line pair.
-Read data that connects the load and drive of the differential amplifier
A gate receiving a potential corresponding to the intermediate potential on the line pair at the gate
Since a transfer transistor is provided , when a negative bump occurs in the power supply voltage, the charge extraction transistor is turned on to form a path for extracting electric charge, and the read data line pair is also properly connected after the power supply voltage drops. It drops to a stable potential, as a result, the read operation is faster, it is possible to perform stable read operation, the current
The read data connected to the mirror differential amplifier driver
Since the logic amplitude of the node of the data line can be limited,
High-speed read operation and low power consumption can be achieved.
As a result, a more stable read operation can be performed.
There is an effect that can be done .

【0024】[0024]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施例による半導体記憶装置の主
要部の回路構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a circuit configuration of a main part of a semiconductor memory device according to an embodiment of the present invention.

【図2】この発明の一実施例による半導体記憶装置の読
み出し動作を示す信号波形図である。
FIG. 2 is a signal waveform diagram showing a read operation of the semiconductor memory device according to one embodiment of the present invention.

【図3】この発明の他の実施例による半導体記憶装置の
主要部の回路構成を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a circuit configuration of a main part of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention.

【図4】この発明の他の実施例による半導体記憶装置の
基準電位発生回路の回路構成を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a circuit configuration of a reference potential generating circuit of a semiconductor memory device according to another embodiment of the present invention.

【図5】従来の半導体記憶装置の主要部の回路構成を示
す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a circuit configuration of a main part of a conventional semiconductor memory device.

【図6】従来の半導体記憶装置の読み出し動作を示す信
号波形図である。
FIG. 6 is a signal waveform diagram showing a read operation of a conventional semiconductor memory device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 カレントミラー差動増幅器の駆動部 2 カレントミラー差動増幅器の負荷部 3 基準電位発生回路 3’基準電位発生回路 4 電荷引き抜き用トランジスタ群 4’電荷引き抜き用トランジスタ群 5 トランスファ用トランジスタ群 Q1〜Q4,Q9〜Q12,Q15,Q17,Q1
Q20,Q21 Pチャネルトランジスタ Q5〜Q8 Q13,Q14,Q1 Nチャネルトラ
ンジスタ NO1,NO2,NO3,NO4,NO5,NO6,N
O7,NO8 ノード BL,/BL ビット線 WI,/WI 書き込みデータ線 RI,/RI 読み出しデータ線 WL ワード線 NOA,NOB ノード
REFERENCE SIGNS LIST 1 drive unit of current mirror differential amplifier 2 load unit of current mirror differential amplifier 3 reference potential generation circuit 3 ′ reference potential generation circuit 4 charge extraction transistor group 4 ′ charge extraction transistor group 5 transfer transistor group Q 1 to Q 4 , Q9~Q12, Q15, Q17, Q1 9,
Q20, Q21 P-channel transistor Q5~Q8 Q13, Q14, Q1 8 N-channel transistor NO1, NO2, NO3, NO4, NO5, NO6, N
O7, NO8 Node BL, / BL Bit line WI, / WI Write data line RI, / RI Read data line WL Word line NOA, NOB node

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.6,DB名) G11C 11/407 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on front page (58) Field surveyed (Int.Cl. 6 , DB name) G11C 11/407

Claims (1)

(57)【特許請求の範囲】(57) [Claims] 【請求項1】 複数のメモリセルと、 各メモリセルに対して一方がメモリセルに接続するよう
に設けられた複数のビット線対と、 該複数のビット線対の各ビット線対に対応して設けられ
た複数のセンスアンプと、 データ書き込み時に選択されたビット線対に書き込みデ
ータを伝達する書き込みデータ線対と、 データ読み出し時に選択されたビット線対から読み出し
データを伝達する読み出しデータ線対と、負荷部と駆動部とがそれぞれ 上記読み出しデータ線対と
上記ビット線対とに対応して設けられ、上記ビット線対
の電位を入力信号として差動的に増幅するカレントミラ
ー差動増幅器とを備えた半導体記憶装置において、 電源電圧に連動して該電源電圧の電圧値より低い電圧値
の基準電位を出力する基準電位発生回路と、 ドレインが接地し、上記基準電位発生回路の出力をゲー
トに受け、上記読み出しデータ線対にそれぞれソースが
接続された一対の電荷引き抜き用トランジスタと 上記読み出しデータ線対に設けられ、上記カレントミラ
ー差動増幅器の負荷部と駆動部とを繋ぐ読み出しデータ
線対上の中間電位に相当する電位をゲートで受けるトラ
ンスファ用トランジスタとを備えた ことを特徴とする半
導体記憶装置。
A plurality of memory cells; a plurality of bit line pairs provided so that one of the memory cells is connected to the memory cell; and a plurality of bit line pairs corresponding to the plurality of bit line pairs. A plurality of sense amplifiers, a write data line pair for transmitting write data to a selected bit line pair during data writing, and a read data line pair for transmitting read data from the selected bit line pair during data read And a current mirror differential amplifier in which a load unit and a drive unit are provided corresponding to the read data line pair and the bit line pair, respectively, and differentially amplify the potential of the bit line pair as an input signal. A reference potential generating circuit for outputting a reference potential having a voltage value lower than the voltage value of the power supply voltage in conjunction with the power supply voltage; And, receiving the output of the reference potential generating circuit to the gate, a pair of charge pull transistor whose source respectively to the read data line pair is connected, is provided on the read data line pair, said current mirror
-Read data that connects the load and drive of the differential amplifier
A gate receiving a potential corresponding to the intermediate potential on the line pair at the gate
And a transfer transistor .
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