JPH0562070U - 電子回路板の洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 遠心回転型洗浄装置を用いて更に一次洗浄剤
の量を必要最少量にする。 【構成】 遠心回転台２上の電子回路板１に一次洗浄剤
滴下ノズル３を備えるとともに二次洗浄剤である純水洗
浄用の噴射ノズル５を備え、制御部１０により一次洗浄
剤及び二次洗浄剤の供給時間，遠心回転台の回転数，回
転時間を制御する。

Description

【考案の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】

本考案は、電子回路板の洗浄装置に関し、特に遠心回転機構を使った洗浄装置 に関する。

【０００２】

【従来の技術】

従来、この種の電子回路基板の洗浄装置は、１−１−１・トリクロルエタンや １−１−３・トリフルオルエタン等の塩素系或いは弗素系の低沸点溶剤を用いる 蒸気洗浄装置、又はテレペン系溶剤を用いて、浸漬洗浄後に高圧純水洗浄，エア ー噴射水切りを行うテレペン系及び高圧水洗装置が一般的である。

【０００３】 従来、電子回路板を含む精密な部品のこの種の遠心回転洗浄装置においては、 単一或いは、調合させた洗浄剤を所定の時間だけ被洗浄物に流下又は噴射させる 装置を有し、流下或いは噴射中又は流下或いは噴射後に遠心回転装置を起動させ 洗浄作用と同時に脱水処理を行う装置であった。

【０００４】

【考案が解決しようとする課題】

この従来の遠心回転洗浄装置では、洗浄処理に複数段階即ち、本例のごとく一 次洗浄剤としてテレペン系洗浄剤，二次洗浄剤として純水のような場合、遠心回 転部をとりまく部分、即ち槽は洗浄剤の種類毎に必要になる。

【０００５】 又、同一槽にて処理を行う場合は、洗浄剤同士の混入が著しく、その廃液の処 理が必要な場合においては、廃液処理装置の能力に及ぼす影響が大きいという問 題点を有している。

【０００６】 本考案の目的は、テレペン系洗浄剤の供給量を最少限にさせるとともに、完全 な洗浄を行うようにした電子回路板の洗浄装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】

前記目的を達成するため、本考案に係る電子回路板の洗浄装置においては、遠 心回転台と、一次洗浄剤供給部と、二次洗浄剤供給部と、制御部とを有する洗浄 装置であって、 遠心回転台は、被洗浄物を保持し、回転するものであり、 一次洗浄剤供給部は、遠心回転台上の被洗浄物に一次洗浄剤を供給するもので あり、 二次洗浄剤供給部は、遠心回転台上の被洗浄物に二次洗浄剤を供給するもので あり、 制御部は、一次洗浄剤及び二次洗浄剤の供給時間、一次洗浄剤及び二次洗浄剤 による洗浄時での遠心回転台の回転数及び回転時間を制御するものである。

【０００８】

【作用】

一次洗浄剤を被洗浄物表面の被洗浄箇所である電子回路板上の表面のはんだ付 部周辺をとりかこむフラックスの残存部、即ち電子回路板表面と若干の部品リー ド立ち上がり部に必要最少限供給し、一次洗浄剤を滴下後に表面にムラなく塗布 するために遠心回転させ一次洗浄剤の働きによりフラックスを溶解させた後、一 次洗浄剤とフラックス及びフラックスの中に含まれる水溶性無機物を完全に除去 するための純水による二次洗浄を行う。

【０００９】 又、これら一連の処理工程を効率よく行うための一次洗浄剤の滴下量と滴下時 間、遠心回転塗布供給の回転数と回転時間，並びに二次洗浄剤である純水の噴射 供給時間と純水噴射後の遠心回転数と回転時間を制御する。

【００１０】

【実施例】

以下、本考案の一実施例を図により説明する。図１は、本考案の一実施例を示 す断面図、図２，図３は、処理工程を示す断面図である。

【００１１】 図１において、本実施例に係る洗浄装置は、遠心回転台２と、一次洗浄剤供給 部と、二次洗浄剤供給部と、制御部１０とを有している。

【００１２】 遠心回転台２は、被洗浄物としての電子回路板１を保持し、回転するものであ る。

【００１３】 一次洗浄剤供給部は、一次洗浄剤供給タンク４と一次洗浄剤滴下ノズル３とを 含み、遠心回転台２上の電子回路板１に一次洗浄剤を供給するものである。

【００１４】 二次洗浄剤供給部は、一次洗浄剤分離槽７，廃液処理装置８，ポンプ６，二次 洗浄剤純水噴射ノズル５とを含み、遠心回転台２上の電子回路板１に二次洗浄剤 を供給するものである。

【００１５】 制御部１０は、一次洗浄剤及び二次洗浄剤の供給時間、一次洗浄剤及び二次洗 浄剤による洗浄時での遠心回転台２の回転数及び回転時間を制御するものである 。

【００１６】 実施例において、被洗浄物である電子回路板１を遠心回転台２に固定し、装置 の蓋９により密閉し、一次洗浄剤供給タンク４中のテレペン洗浄剤を滴下ノズル ３を通じて電子回路板１の表面に滴下する。

【００１７】 その後、遠心回転台２を６０〜１００ＲＰＭで回転させることにより、図２に 示すように電子回路板１表面の表面実装部品１２の下側及びはんだ付リード１３ に均一にテレペン洗浄剤１１を塗布する。

【００１８】 しかる後、図３に示すように一次洗浄剤分離槽７及び廃液処理装置８を通じて 精製される純水１４をポンプ６により高圧化して噴射ノズル５より噴射するとと もに遠心回転台２を１００ＲＰＭ以上の高速で回転させることにより、図３の矢 印で示すように水平方向の高速流とさせ洗浄を容易に行う。

【００１９】 更に純水の噴射を停止し、回転を継続させることにより水切り乾燥を行う。

【００２０】

【考案の効果】

以上説明したように本考案は、一次洗浄剤であるテレペンオイルを滴下させる 装置と、二次洗浄剤である純水を噴射させる装置とを備え、滴下，噴射の条件及 び遠心回転条件を順序よく制御することによりテレペンオイルの供給量を最少限 にさせるとともに、表面実装部品下やはんだ付リード部の微細な部分の汚れ，即 ちフラックスをより完全に除去させ、電子回路板の清浄度を極めて良化できると いう効果を有する、

【図面の簡単な説明】

【図１】本考案の一実施例を示す断面図である。

【図２】本考案の処理工程を説明する断面図である。

【図３】本考案の処理工程を説明する断面図である。

【符号の説明】

１ 電子回路板 ２ 遠心回転台 ３ 一次洗浄剤滴下ノズル ４ 一次洗浄剤供給タンク ５ 二次洗浄剤純水噴射ノズル ６ ポンプ ７ 一次洗浄剤分離槽 ８ 廃液処理装置 ９ 蓋 １１ テレペン洗浄剤（一次洗浄剤） １２ 表面実装部品 １３ はんだ付リード

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 【請求項１】 遠心回転台と、一次洗浄剤供給部と、二
   次洗浄剤供給部と、制御部とを有する洗浄装置であっ
   て、 遠心回転台は、被洗浄物を保持し、回転するものであ
   り、 一次洗浄剤供給部は、遠心回転台上の被洗浄物に一次洗
   浄剤を供給するものであり、 二次洗浄剤供給部は、遠心回転台上の被洗浄物に二次洗
   浄剤を供給するものであり、 制御部は、一次洗浄剤及び二次洗浄剤の供給時間、一次
   洗浄剤及び二次洗浄剤による洗浄時での遠心回転台の回
   転数及び回転時間を制御するものであることを特徴とす
   る電子回路板の洗浄装置。