JPH0631253A - 円盤状物体の洗浄装置及び洗浄方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】洗浄液の主流を中心穴を有する円盤状被洗浄物
に集中させ、残留パーティクルの原因となる中心穴を利
用して洗浄液の使用効率と洗浄効率を向上し、もって被
洗浄物の表面清浄度を向上する。 【構成】磁気記録媒体用基板などの被洗浄物１は、中心
を一致させ平行に並べて支持装置２に収納される。支持
装置２を洗浄槽１２の中に配置してから給水管４を洗浄
槽１２に設けた穴から被洗浄物１の中心穴１ａに挿通す
る。給水管４は外周に多数の洗浄液の噴射口４ａを持
ち、自転させる自転装置５と軸方向に往復させる往復動
装置６を設け、供給管７に接続する。洗浄時には洗浄液
を洗浄槽１２からオーバフローさせ、排水時には給水量
を少なくして底部から排水する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、磁気記録媒体用基板
などのような円盤状物体を純水などの洗浄液で洗浄する
洗浄装置及び洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の磁気記録媒体用基板などのような
円盤状物体の洗浄装置及び洗浄方法は、数十枚単位の被
洗浄物を、中心を一致させ平行に並べてカセットともい
われる支持装置に収納し、これを洗浄槽に浸漬して上方
からのシャワー又は底部からの洗浄液の供給によって洗
浄し、洗浄が終了したら被洗浄物を引き上げ又は底部か
ら洗浄液を排水する。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】前記の従来の技術で
は、被洗浄物とこれを収納する支持装置が流体抵抗とな
るために、供給される洗浄液の主流は流体抵抗の少ない
洗浄槽の壁面に沿って流れることとなり、洗浄液の全部
が洗浄に寄与するわけではない。また、磁気記録媒体用
基板は中心部に穴の空いた円盤であるため、その穴の部
分が水流の溜まりとなってパーティクルが滞留しやすい
から、洗浄終了後に被洗浄物を引き上げるとき又は底部
からの排水のときに、滞留していた前記パーティクルが
被洗浄物の内周近傍に再付着して洗浄が完全に行われな
い。この残留パーティクルは後工程で磁気記録媒体用基
板などの被洗浄物の製品欠陥となる。

【０００４】この発明の目的は、洗浄液の主流を被洗浄
物の円盤状物体に集中させ、残留パーティクルの原因と
なる中心穴を利用して洗浄液の使用効率と洗浄効率を向
上し、もって被洗浄物の表面清浄度を向上できる円盤状
物体の洗浄装置及び洗浄方法を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】発明１の洗浄装置は、中
心穴を有する被洗浄物を支持する支持装置と、前記被洗
浄物の中心穴に挿通されて外周に洗浄液の噴射口を持つ
給水管とを備えるものである。このとき、発明２は、前
記給水管を自転させる自転装置を備えるものである。

【０００６】発明３は、前記給水管を軸方向に往復させ
る往復動装置を備えるものである。発明４の洗浄装置
は、前記支持装置と前記給水管を、開閉可能な排水口を
底部に持つ洗浄槽の中に配置するものである。発明５の
洗浄方法は、中心穴を有する円盤状被洗浄物の中心部か
ら外周方向に洗浄液を噴射させるものである。このと
き、発明６は、前記洗浄液の噴射方向を周方向に自転さ
せるものである。

【０００７】発明７の洗浄方法は、発明５又は６におい
て、被洗浄物を底部に開閉可能な排水口を持つ洗浄槽の
中に配置し、前記洗浄液を前記排水口からの排水量より
多く噴射して前記洗浄槽からオーバフローさせながら洗
浄し、その後前記洗浄液を前記排水口からの排水量より
少なく噴射して洗浄を終了するものである。このとき、
発明８は、前記洗浄液を前記排水口からの排水量より多
く噴射するときに前記排水口を閉じているものである。

【０００８】

【作用】発明１によれば、被洗浄物１は支持装置２で支
持され、発明５の方法が使用できる。発明２によれば、
給水管の噴射口が周方向に自転し、発明６の方法が使用
できる。

【０００９】発明３によれば、洗浄開始・終了時に被洗
浄物の中心穴に給水管を挿脱する。発明４によれば、発
明７の方法が使用できる。発明５によれば、被洗浄物１
の中心穴１ａの中心部から外周方向に放射状に噴射され
る洗浄液の主流は常に被洗浄物１の表面のパーティクル
を集中的に洗い、一度洗浄した洗浄液の排出液が新しい
洗浄液に混合して再び被洗浄物１の表面を流れることが
ない。このため、洗浄液の使用効率と洗浄効率が向上
し、被洗浄物１の表面清浄度が向上する。

【００１０】発明６によれば、被洗浄物１の表面の洗浄
作用の周方向の均一性が向上する。発明７によれば、洗
浄時には、被洗浄物１を洗浄した洗浄液は洗浄槽１２の
壁面に沿って上昇しパーティクルとともにオーバフロー
して確実に排出され、排水時には、洗浄槽１２内を低下
していく液面に漂うパーティクルは、被洗浄物１の表面
を流れる新しい洗浄液に押し流されて被洗浄物１に再付
着することがない。排水口１１を多少開いてかつ洗浄液
が洗浄槽１２からオーバフローするようにして洗浄をし
てもよく、重いパーティクルは排水口１１から排出され
る。

【００１１】このとき、発明８によれば、重いパーティ
クルがないとき、浮遊する軽いパーティクルは効率よく
オーバフローする。

【００１２】

【実施例】図１は実施例１の洗浄装置の透視正面図、図
２は図１の透視側面図、図３は図１の平面図、図４は図
１の給水管の要部拡大図、図５は図１の洗浄時の流れを
示す要部側面図、図６は図１の排水時の流れを示す要部
側面図であり、図７は実施例２の洗浄装置の透視正面図
であり、図８は実施例３の洗浄装置の透視正面図であ
る。各図において同一符号をつけるものはおよそ同一機
能を持ち、重複説明を省くこともある。また、図２にお
いてフック２ｄとハンガ３の図示を、図３においてハン
ガ３の図示をなど省略する。

【００１３】図１から図４までにおいて、磁気記録媒体
用基板などのような環状円板をなす被洗浄物１は、数十
枚単位で、軸心を一致させ平行に並べてカセットともい
われる支持装置２に収納される。支持装置２にはさまざ
まな形状があるが、ここでは一対の支持枠２ａの４隅を
枠棒２ｂで結合し、被洗浄物１の外周を溝で支持する３
本以上の支持棒２ｃを支持枠２ａに固定する。なお、３
本の支持棒２ｃの１本が上部にあってばねなどで下方に
付勢されるものでもよい。支持装置２はそのフック２ｄ
をハンガ３に引っ掛けて搬送される。被洗浄物１の中心
穴１ａに、外周に洗浄液のための複数の噴射口４ａを持
つ給水管４を挿通する。給水管４には、これを自転させ
る自転装置５と、軸方向に往復させる往復動装置６を設
け、純水などの洗浄液を供給する供給管７に接続する。

【００１４】前記支持装置２と前記給水管４を、開閉可
能な排水口１１を底部に持つ洗浄槽１２の中に搬送可能
に配置する。被洗浄物１を収納した支持装置２を洗浄槽
１２のスタンド１２ａの上に配置してから給水管４を洗
浄槽１２に設けた図示しない穴と被洗浄物１の中心穴１
ａに挿通する。前記穴と給水管４との隙間にラビリンス
シールなどを設けるとよい。

【００１５】このような洗浄装置を使用する洗浄方法は
次のとおりである。被洗浄物１を収納した支持装置２と
給水管４を、洗浄槽１２の中に配置する。環状円板をな
す被洗浄物１の中心穴１ａの軸心近傍の給水管４の噴射
口４ａから洗浄液を径方向に噴射させる。同時に給水管
４を自転装置５で自転させることにより、洗浄液の噴射
口４ａを周方向に自転させる。更に給水管４を往復動装
置６で往復させることにより、洗浄液の噴射口４ａを軸
方向に往復させる。洗浄時には排水量より多い給水量を
補給して洗浄を継続し、排水時には排水量より少ない給
水量を補給して洗浄を終了する。洗浄時には排水口１１
を閉じて洗浄液がパーティクルとともに洗浄槽１２から
オーバフローするようにして洗浄を継続するとよいが、
排水口１１を多少開いてかつ洗浄液が洗浄槽１２からオ
ーバフローするようにして洗浄をしてもよく、重いパー
ティクルは排水口１１から排出される。

【００１６】このような洗浄方法によれば、洗浄時は図
５に示すように、被洗浄物１の中心穴１ａの軸心近傍の
噴射口４ａから径方向に放射状に噴射される洗浄液の主
流は常に被洗浄物１の表面のパーティクルを集中的に洗
い、一度洗浄した洗浄液の排出液が新しい洗浄液に混合
して再び被洗浄物１の表面を流れることがない。このた
め、洗浄液の使用効率と洗浄効率が向上し、被洗浄物１
の表面清浄度が向上する。なお、慣用の方法により噴射
される洗浄液が図５に示すように適宜な角度θの広がり
を持つようにするとよい。また洗浄液の噴射口４ａを周
方向に自転させるから、被洗浄物１の表面の洗浄作用の
周方向の均一性が向上する。そして洗浄液の噴射口４ａ
を軸方向に往復させるから、被洗浄物１の表面は確実に
洗浄液にさらされ洗浄作用が確保される。

【００１７】洗浄時には排水量より多い給水量を補給し
て洗浄を継続するから、被洗浄物１を洗浄した洗浄液は
洗浄槽１２の壁面に沿って上昇しパーティクルとともに
オーバフローして確実に排出される。図６に示すよう
に、排水時には排水量より少ない給水量を補給して洗浄
を終了するから、洗浄槽１２内を低下していく液面に漂
うパーティクルは、被洗浄物１の表面を流れる新しい洗
浄液に押し流されて被洗浄物１に再付着することがな
い。

【００１８】図７に示す実施例２が実施例１と異なる点
は、洗浄槽１２を持たない点であり、クリンールーム内
などで開放して使用する例であり、必要により逆Ｕ字状
のカバーで覆ってもよい。図８に示す実施例３が実施例
１と異なる点は、洗浄槽１２と自転装置５と往復動装置
６とを持たない点であり、給水管４の噴射口４ａを細密
にすればよい。

【００１９】

【発明の効果】以上の本発明の洗浄装置及び洗浄方法に
よれば、洗浄液の主流を被洗浄物に集中させ、残留パー
ティクルの原因となる中心穴を利用して洗浄液の使用効
率と洗浄効率が向上し、もって被洗浄物の表面清浄度を
向上できるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の洗浄装置の透視正面図

【図２】図１の透視側面図

【図３】図１の平面図

【図４】図１の給水管の要部拡大図

【図５】図１の洗浄時の流れを示す要部側面図

【図６】図１の排水時の流れを示す要部側面図

【図７】実施例２の洗浄装置の透視正面図

【図８】実施例３の洗浄装置の透視正面図

【符号の説明】

１ 被洗浄物 １ａ 中心穴 ２ 支持装置 ３ ハンガ ４ 給水管 ４ａ 噴射口 ５ 自転装置 ６ 往復動装置 ７ 供給管 １１ 排水口 １２ 洗浄槽

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】中心穴を有する円盤状被洗浄物を支持する
   支持装置と、前記被洗浄物の中心穴に挿通されて外周に
   洗浄液の噴射口を持つ給水管とを備えることを特徴とす
   る円盤状物体の洗浄装置。
2. 【請求項２】請求項１記載の円盤状物体の洗浄装置にお
   いて、前記給水管を自転させる自転装置を備えることを
   特徴とする円盤状物体の洗浄装置。
3. 【請求項３】請求項１又は２記載の洗浄装置において、
   前記給水管を軸方向に往復させる往復動装置を備えるこ
   とを特徴とする円盤状物体の洗浄装置。
4. 【請求項４】請求項１、２又は３記載の洗浄装置におい
   て、前記支持装置と前記給水管を、開閉可能な排水口を
   底部に持つ洗浄槽の中に配置することを特徴とする円盤
   状物体の洗浄装置。
5. 【請求項５】中心穴を有する円盤状被洗浄物の中心部か
   ら外周方向に洗浄液を噴射させることを特徴とする円盤
   状物体の洗浄方法。
6. 【請求項６】請求項５記載の洗浄方法において、前記洗
   浄液の噴射方向を周方向に自転させることを特徴とする
   円盤状物体の洗浄方法。
7. 【請求項７】請求項５又は６記載の洗浄方法において、
   被洗浄物を底部に開閉可能な排水口を持つ洗浄槽の中に
   配置し、前記洗浄液を前記排水口からの排水量より多く
   噴射して前記洗浄槽からオーバフローさせながら洗浄
   し、その後前記洗浄液を前記排水口からの排水量より少
   なく噴射して洗浄を終了することを特徴とする円盤状物
   体の洗浄方法。
8. 【請求項８】請求項７記載の洗浄方法において、前記洗
   浄液を前記排水口からの排水量より多く噴射するときに
   前記排水口を閉じていることを特徴とする円盤状物体の
   洗浄方法。