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JPH0540021A - マルチスリツト投光器 - Google Patents

マルチスリツト投光器

Info

Publication number
JPH0540021A
JPH0540021A JP3199196A JP19919691A JPH0540021A JP H0540021 A JPH0540021 A JP H0540021A JP 3199196 A JP3199196 A JP 3199196A JP 19919691 A JP19919691 A JP 19919691A JP H0540021 A JPH0540021 A JP H0540021A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
slit
light
lens
slit light
diffraction
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP3199196A
Other languages
English (en)
Inventor
Jun Wakitani
潤 脇谷
Shinji Kanda
真司 神田
Tsugihito Maruyama
次人 丸山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP3199196A priority Critical patent/JPH0540021A/ja
Publication of JPH0540021A publication Critical patent/JPH0540021A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Measurement Of Optical Distance (AREA)
  • Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 物体の三次元計測用のスリット光パターンを
発生するマルチスリット投光器に関し、装置の小型化及
び解像度の向上を目的とする。 【構成】 マルチスリット投光器1の発光源11を出射
した発散光は、コリメートレンズ12によって整形され
て平行光となり、その平行光は回折格子13及び回折格
子15を通過することによって、2次元スポット群16
を生じる。さらに、円筒型レンズ17を通過するとマル
チスリット光18を生じ、シャッタアレイ19は所定の
スリット光パターンを発生する。このシャッタアレイ1
9の後段には、円筒型レンズ17の軸方向 (X方向) と
直角方向 (Y方向) の軸を有する円筒型レンズ20が設
けられ、シャッタアレイ19を通過したスリット光は、
円筒型レンズ20のレンズ効果によってX方向の回折角
が小さくなる。そのスリット光が物体2に照射され、物
体2の三次元測定に供試される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は物体の三次元計測に使用
するスリット光パターンを発生するマルチスリット投光
器に関し、特に装置の小型化、解像度向上等を図ったマ
ルチスリット投光器に関する。
【0002】産業用ロボット等に動作制御を行わせるに
は、対象物の三次元形状や空間的配置を認識させておく
必要がある。そのために、物体の三次元計測が行われる
が、その計測方法として、例えば光切断法がある。この
光切断法は、構造化されたマルチスリット光を物体に照
射しそれをカメラで撮像して計測する方法であり、同時
に複数点の計測を行うことにより、計測時間を大幅に短
縮することができるため、極めて有効な方法として考え
られている。マルチスリット投光器は、このような用途
に適したスリット光パターンを発生する装置である。
【0003】
【従来の技術】図5はマルチスリット光による物体の三
次元計測方法を示す図である。図において、マルチスリ
ット投光器10には、本発明の出願人が特開平1−27
7707号で提案したものが使用されている。三次元計
測される物体2の上に、マルチスリット投光器10を用
いて発生させたスリット光l1,l2──を照射し、各
スリット光l1,l2──と物体2との交線 (光切断)
をカメラ3で撮像する。この光切断法による撮像データ
から、三角測量の原理に基づいて物体1の三次元形状が
求められる。
【0004】図6は上記マルチスリット投光器の構成を
概略的に示す図である。図において、マルチスリット投
光器10は、発光源11,回折格子13,15,円筒型
レンズ17及びシャッタアレイ19から構成され、これ
らは光軸30上に順次配置されている。単一波長の光を
発生する発光源 (例えば、半導体レーザ、発光ダイオー
ド) 11を出射した発散光は、コリメートレンズ12に
よって整形されて平行光となり、その平行光は回折格子
13を通過することによって、長円形のスポット光がY
方向に配列したスポット群14を生じる。このスポット
群14は、さらに回折格子15を通過することによっ
て、スポット群がX方向に複数個平行に並んだ2次元ス
ポット群16を生じる。なお、回折格子13及び15に
は、例えばファイバグレーティングを用いる。この2次
元スポット群16が円筒型レンズ17を通過すると、各
列のスポット群はそのY方向の間隔が狭められて、隣接
するスポット光が互いに一部重複するように配列され、
それぞれがスリット光を形成してマルチスリット光18
を生じる。最終段のシャッタアレイ19は、複数個のセ
グメントから成り、各セグメントは独立に電源をオンオ
フされることにより、電源オフ時には対応するスリット
光を遮断し、オン時には透過させるように構成される。
したがって、シャッタアレイ19を用いて、マルチスリ
ット光18から任意のスリット光パターンを構成するこ
とができ、そのスリット光パターンが物体2に照射さ
れ、物体2の三次元測定に供試される。次に、このシャ
ッタアレイ19がシャッタとしての機能を発揮するため
に必要な条件について説明する。
【0005】図7は発光源から出射された単一波長光の
干渉の様子を示すモデル図であり、(A) は一般的な干
渉を、 (B) は回折光が回り込む場合を、 (C) は回折
光の回り込みがなくなる場合をそれぞれ示す。図7
(A)において、発光源70から出射された単一波長光
は回折格子71を通過して回折し、その干渉によりスポ
ット光72が形成される。この場合、回折格子71の格
子間隔dと、回折格子71から距離Lの位置Mに形成さ
れるスポット光72の間隔Dとの間には、近似的に次式
(1)の関係が成立している。
【0006】 D=Lλ/d・・・・・(1) (λ:光の波長) ここで、位置Mにシャッタアレイ73を置いてスポット
光72を遮断しようとすると、そのシャッタアレイ73
を構成する各セグメント73aの幅は、スポット光73
の幅Dに設定せざるを得ない。一方、図7(B)に示す
ように、回折格子71を通過する光の幅nd (n:回折
格子71の格子数) がセグメント73aの幅Dに比べて
大きくなる (nd>D) ときは、回折光はセグメント7
3aを回り込んで、その背後の位置Nで干渉を起こし、
完全に光を遮断することができなくなる。これに対し、
図7(C)に示すように、距離Lを大きくとると、格子
間隔dは一定であれば、式(1)の間隔Dが大きくなる
ため、D=ndとすることができる。この場合は、回折
光がセグメント73aを回り込むことなく、背後での干
渉も発生せず完全に光を遮断することができる。すなわ
ち、シャッタアレイ73を用いて回折格子71を通過す
る光を完全に遮断するには、そのセグメント73aの幅
Dが光の回り込み防止の条件D=ndを満たしている必
要があり、そのためには距離Lも長くとらざるをえな
い。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このことは、
従来のマルチスリット投光器10の場合、その長さが長
くなって大型化することにつながるため、実際にロボッ
トのマニピュレータの手先などに設置して使用すること
が不可能となるという問題点があった。
【0008】一方、光の回り込み防止の条件D=ndを
保持した状態で、マルチスリット投光器10の小型化を
図る方法として、式(1)の格子間隔dを小さくとって
回折格子71の密度を上げ (この場合、格子数nは増
加) 、それに応じて距離Lを小さくすることが考えられ
る。このようにすれば、光の回り込み防止の条件D=n
dを保持した状態で距離Lを短くすることができる。す
なわち、マルチスリット投光器10の場合、回折格子7
1の格子間隔dに相当するのは回折格子13のファイバ
グレーティング間隔であり、そのファイバグレーティン
グ間隔を小さくとることにより、マルチスリット投光器
10の小型化を図ることができることになる。
【0009】しかし、従来のマルチスリット投光器10
において、回折格子13のファイバグレーティング間隔
を小さくとりその密度をあげると、回折格子13から出
射された光の回折角が大きくなるため、最終段のシャッ
タアレイ19から出射されたスリット光の間隔もその密
度が粗くなってしまう。このため、物体2に照射された
スリット光をカメラ3が撮像して画像処理を行っても、
その解像度が悪くなるという問題点があった。
【0010】また、上述した回折格子13のファイバグ
レーティング間隔の密度をあげる方法は、点光源の数を
増やすこととなるため、回折格子13からの回折光の波
形がよりシャープになるという効果を持っている。この
ため、最終段のシャッタアレイ19から出射されるスリ
ット光も、よりシャープな光となり、画像処理を容易に
する上で非常に有効な方法となる。しかし、その場合で
も、上述した場合と同じく、回折角が大きくなるため、
スリット光の間隔が粗くなり、解像度が悪化するという
問題点を有していた。
【0011】さらに、従来のマルチスリット投光器10
では、シャッタアレイ19から出射されるスリット光が
物体2に投射されるときの投射角は、回折格子13,1
5による干渉のみによって決定される。したがって、光
軸に垂直な面にスリット光を投射すると、高次の回折光
になる程、スリット光間隔が大きく見えるようになる。
このため、光軸からの距離によって解像度が変化し、均
一な解像度が得られないという問題点があった。特に、
光源から離れた位置では解像度が悪化していた。
【0012】また、従来のマルチスリット投光器10で
は、シャッタアレイ19から出射されたスリット光の投
射角は、上述したように、光がシャッタアレイ19に到
達するまでの回折格子13,15によって既に決定され
ており、任意に制御することができない。このため、例
えば物体2の所定箇所の解像度を上げて測定精度をあげ
るべく、その箇所に密度の高いスリット光を照射しよう
としても、そのようなスリット光を得ることができなか
った。
【0013】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、装置の小型化を図ると共に、小型化に伴い生
じる回折角増大による解像度の悪化を防止したマルチス
リット投光器を提供することを第1の目的とする。
【0014】また、シャープなスリット光を物体に照射
して画像処理を容易にすることを第2の目的とする。さ
らに、物体に投射されるスリット光の間隔を均一化する
とともに、高密度化することを第3の目的とする。
【0015】また、物体に照射するスリット光の投影角
を任意に制御することを第4の目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】図1は本発明の原理説明
図である。本発明のマルチスリット投光器1は、第1及
び第2の回折格子13,15,円筒型レンズ17,シャ
ッタアレイ19及び円筒型レンズ20から構成される。
第1及び第2の回折格子13及び15は、単一波長光の
光軸上に回折方向が互いに直交するように配置される。
その第2の回折格子15の後段に円筒型レンズ17が配
置される。この円筒型レンズ17の軸方向は第1または
第2の回折格子13,15のいずれか一方の回折方向と
直行している。その円筒型レンズ17の後段に円筒型レ
ンズ17から出力されたマルチスリット光の内、所定の
スリット光を遮断してスリット光パターンを出力するシ
ャッタアレイ19が設けられる。さらに、そのシャッタ
アレイ19の後段には、円筒型レンズ17の軸方向と直
角方向にレンズ効果を有するレンズ20が設けられる。
【0017】
【作用】単一波長の光を発生する発光源11を出射した
発散光は、コリメートレンズ12によって整形されて平
行光となり、その平行光は回折格子13を通過すること
によって、長円形のスポット光がY方向に配列したスポ
ット群14を生じる。このスポット群14は、さらに回
折格子15を通過することによって、スポット群がX方
向に複数個平行に並んだ2次元スポット群16を生じ
る。なお、回折格子13及び15には、例えばファイバ
グレーティングを用いる。この2次元スポット群16が
円筒型レンズ17を通過すると、各列のスポット群はそ
のY方向の間隔が狭められて、隣接するスポット光が互
いに一部重複するように配列され、それぞれがスリット
光を形成してマルチスリット光18を生じる。円筒型レ
ンズ17の後段のシャッタアレイ19は、複数個のセグ
メントから成り、各セグメントが独立に電源をオンオフ
されることにより、マルチスリット光18から任意のス
リット光パターンを得ることができる。さらに、最終段
のレンズ20は、円筒型レンズ17の軸方向と直角方向
にレンズ効果を有するので、シャッタアレイ19を通過
したスリット光の回折角は、そのレンズ効果によって小
さくなる。
【0018】上記第1の目的については、第1の回折格
子の格子間隔密度を上げることにより、マルチスリット
投光器10の長さを短縮して小型化を実現することがで
きる。その場合、従来は、格子間隔密度アップに伴いス
リット光の回折角が大きくなりスリット光の間隔が粗く
なって解像度が悪化していた。これに対して、本発明で
は、レンズ20を設けてそのレンズ効果により回折角を
小さくしたので、解像度を悪化させることなく、マルチ
スリット投光器を小型化することができる。
【0019】また、上記第2の目的については、第1の
回折格子の格子間隔密度を上げて第1の回折格子での点
光源の数を増加させることにより実現できるが、その場
合もやはり回折角大に伴う解像度の悪化が生じる。これ
に対して、レンズ20を設けることにより、回折角を小
さくすることができ、解像度を悪化させることなくシャ
ープなスリット光を物体に照射することができる。
【0020】さらに、上記第3の目的については、最終
段のレンズ20にフーリエ変換レンズを用いることによ
り、光軸中心から離れた高次の回折によるスリット光を
中心方向に集めることができる。したがって、回折角が
小さくなるとともに、より高密度で均一なスリット光を
得ることができる。
【0021】また、上記第4の目的については、レンズ
20にグレーティングレンズを用い、グレーティングレ
ンズの各段の屈折角を設計することにより、物体に照射
されるスリット光の投射角を任意に制御することができ
る。
【0022】
【実施例】以下、本発明の各実施例を図面に基づいて説
明する。本発明の第1の実施例を、図1に基づいて説明
する。本発明のマルチスリット投光器1は、発光源1
1,回折格子13,15,円筒型レンズ17,シャッタ
アレイ19及びレンズ20から構成され、これらは光軸
30上に順次配置されている。単一波長の光を発生する
発光源 (例えば、半導体レーザ、発光ダイオード)11
を出射した発散光は、コリメートレンズ12によって整
形されて平行光となり、その平行光は回折格子13を通
過することによって、長円形のスポット光がY方向に配
列したスポット群14を生じる。このスポット群14
は、さらに回折格子15を通過することによって、スポ
ット群がX方向に複数個平行に並んだ2次元スポット群
16を生じる。なお、回折格子13及び15には、所定
長さのファイバを横一列に重ね各ファイバのレンズ作用
を利用するファイバグレーティングを用いる。この2次
元スポット群16が円筒型レンズ17を通過すると、各
列のスポット群はそのY方向の間隔が狭められて、隣接
するスポット光が互いに一部重複するように配列され、
それぞれがスリット光を形成してマルチスリット光18
を生じる。
【0023】円筒型レンズ17の後段に配置されたシャ
ッタアレイ19は、複数個のセグメントから成り、各セ
グメントは独立に電源をオンオフされることにより、電
源オフ時には対応するスリット光を遮断し、オン時には
透過させるように構成される。したがって、シャッタア
レイ19を用いて、マルチスリット光18から任意のス
リット光パターンを構成することができ、また任意のス
リット光を基準スリット光として選択することができ
る。このシャッタアレイ19の後段には、円筒型レンズ
17の軸方向 (X方向) と直角方向 (Y方向) の軸を有
する円筒型レンズ20が設けられる。したがって、シャ
ッタアレイ19を通過した各スリット光は、円筒型レン
ズ20のレンズ効果によってX方向の回折角が小さくな
る。この円筒型レンズ20を通過したスリット光は、物
体2に照射され、物体2の三次元測定に供試される。
【0024】図2は最終段レンズの効果を説明するため
の図である。図に示すように、光源(この場合、回折格
子13からの回折光に相当) 50から角度θの広がりを
もって出射された光は、最終的にスリット光としてシャ
ッタアレイ19を通過した後、円筒型レンズ20によっ
てその角度θが狭められる。このようなスリット光が物
体2に照射されると、そのスリット光の間隔密度が上が
るので、カメラ3による撮像画面を画像処理する際の解
像度が向上することになる。
【0025】ところで、マルチスリット投光器1の小型
化は、回折格子13のファイバグレーティング間隔を小
さくしてその密度を上げることにより可能であるが、従
来は、回折格子13の間隔密度アップに伴いスリット光
の回折角 (図2の角度θに相当) が大きくなりスリット
光の間隔が粗くなって解像度が悪化していた。これに対
して、本実施例では円筒型レンズ20を設けるため、そ
のレンズ効果により回折角を小さくできる。したがっ
て、解像度を悪化させることなく、マルチスリット投光
器10を小型化することができる。
【0026】また、上述した回折格子13の間隔密度を
上げる方法は、点光源の数を増やすこととなるため、そ
の結果得られる干渉縞はよりシャープになり、スリット
光を投射した後の画像処理も容易に行えるようになる
が、この場合も同様に回折角が大きくなるため、解像度
が悪化するという問題点を有していた。これに対して、
本実施例では、円筒型レンズ20を設けるために、回折
角を小さくすることができる。すなわち、回折格子13
の間隔密度を上げても、解像度を悪化させることなくシ
ャープなスリット光を物体に照射することができる。
【0027】なお、上記の説明では、最終段レンズに円
筒型レンズを用いるようにしたが、その円筒型レンズと
同様のレンズ効果を有するレンズ、例えば凸レンズを用
いる構成とすることもできる。
【0028】図3は最終段レンズにフーリエ変換レンズ
を用いた場合を示す図である。フーリエ変換レンズ21
は、光軸中心から離れた高次の回折によるスリット光を
中心方向に集め、そのスリット光間隔を均一化する作用
を有する。このため、フーリエ変換レンズ21を最終段
に用いることにより、スリット光の回折角を小さくする
ことができるとともに、より高密度で均一なスリット光
を得ることができる。したがって、画像処理時の解像度
を向上させることができる。
【0029】図4は最終段レンズにグレーティングレン
ズを用いた場合を示す図である。グレーティングレンズ
22は、その各段22aの傾き角を設計することによ
り、各段22aの屈折角を任意に設定することができ
る。このため、スリット光がグレーティングレンズ22
を通過すると、そのスリット光は各段22aの屈折角に
応じた角度で物体2に投射される。したがって、物体に
照射されるスリット光の投射角を任意に制御することが
でき、例えば物体2の測定精度を上げたい箇所には、そ
れに応じて設計されたフーリエ変換レンズ22を配置す
ることにより、その箇所に密度の高いスリット光を投射
することができる。
【0030】上記の説明では、円筒型レンズ17を回折
格子15の後段に配置したが、コリメートレンズ12の
後段に配置することもできる。また、円筒型レンズ17
の軸方向がX方向、円筒型レンズ20の軸方向がY方向
となるように配置したが、逆に、円筒型レンズ17がY
方向、円筒型レンズ20がX方向となるようにしてもよ
い。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように本発明では、マルチ
スリット投光器において、シャッタアレイの後段にさら
にレンズを設け、そのレンズ効果によりシャッタアレイ
を通過したスリット光の回折角が小さくなるように構成
した。したがって、物体に照射されるスリット光の間隔
密度が上がるので、画像処理する際の解像度を向上させ
ることができる。
【0032】また、第1の回折格子の格子間隔密度を上
げることにより、マルチスリット投光器を小型化できる
が、従来は、その際に解像度も悪化していた。これに対
して、最終段にレンズを設けたので、そのレンズ効果に
より回折角が小さくなり、解像度を悪化させることな
く、マルチスリット投光器を小型化することができる。
同様に、第1の回折格子の格子間隔密度を上げるとシャ
ープなスリット光が得られる反面、それに伴い解像度が
悪化していたが、最終段にレンズを設けたので、解像度
を悪化させることなくシャープなスリット光を物体に照
射することができる。
【0033】さらに、最終段にフーリエ変換レンズを設
けたので、光軸中心から離れた高次の回折によるスリッ
ト光を中心方向に集めることができる。したがって、回
折角を小さくすることができるとともに、より高密度で
均一なスリット光を得ることができる。
【0034】また、最終段にグレーティングレンズを設
けたので、グレーティングレンズの各段の屈折角を設計
することにより、物体に照射されるスリット光の投射角
を任意に制御することができる。したがって、物体の測
定精度を上げたい箇所には、それに応じて設計されたフ
ーリエ変換レンズを配置することにより、その箇所に密
度の高いスリット光を投射することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の原理説明図である。
【図2】最終段レンズの効果を説明するための図であ
る。
【図3】最終段レンズにフーリエ変換レンズを用いた場
合を示す図である。
【図4】最終段レンズにグレーティングレンズを用いた
場合を示す図である。
【図5】マルチスリット光による物体の三次元計測方法
を示す図である。
【図6】従来のマルチスリット投光器の構成を概略的に
示す図である。
【図7】発光源から出射された単一波長光の干渉の様子
を示すモデル図であり、 (A)は一般的な干渉を、 (B)
は回折光が回り込む場合を、 (C) は回折光の回り込
みがなくなる場合をそれぞれ示す。
【符号の説明】
1 マルチスリット投光器 13,15 回折格子 17,20 円筒型レンズ 19 シャッタアレイ 21 フーリエ変換レンズ 22 グレーティングレンズ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 物体の3次元計測に使用するスリット光
    パターンを発生するマルチスリット投光器において、 単一波長光の光軸上(30)に配置され回折方向が互いに直
    交する第1及び第2の回折格子(13,15) と、 前記第2の回折格子(15)からの回折出力光が入射され、
    軸方向が前記第1または第2の回折格子(13,15) のいず
    れか一方の回折方向と直行する円筒型レンズ(17)と、 前記円筒型レンズ(17)から出力されたマルチスリット光
    の内、所定のスリット光を遮断してスリット光パターン
    を出力するシャッタアレイ(19)と、 前記シャッタアレイ(19)の後段に配置され前記円筒型レ
    ンズ(17)の軸方向と直角方向にレンズ効果を有するレン
    ズ(20)と、 を有することを特徴とするマルチスリット投光器。
  2. 【請求項2】 前記レンズ(20)はフーリエ変換レンズで
    あることを特徴とする請求項1記載のマルチスリット投
    光器。
  3. 【請求項3】 前記レンズ(20)はグレーティングレンズ
    であることを特徴とする請求項1記載のマルチスリット
    投光器。
JP3199196A 1991-08-08 1991-08-08 マルチスリツト投光器 Withdrawn JPH0540021A (ja)

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