JPH053744B2 - - Google Patents
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- JPH053744B2 JPH053744B2 JP60128512A JP12851285A JPH053744B2 JP H053744 B2 JPH053744 B2 JP H053744B2 JP 60128512 A JP60128512 A JP 60128512A JP 12851285 A JP12851285 A JP 12851285A JP H053744 B2 JPH053744 B2 JP H053744B2
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- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/05—Insulated conductive substrates, e.g. insulated metal substrate
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- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
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Description
[技術分野]
本発明は、ICパツケージなどのような電子素
子の基板として用いられる電子素子用チツプキヤ
リアに関するものである。 [背景技術] ICパツケージなどのような電子素子は、半導
体チツプなどの電子部品チツプをリードフレーム
に取り付けた状態で樹脂封止や気密封止してパツ
ケージングすることによつておこなわれる。そし
てこのような電子素子にあつて、端子数の増加に
伴つて電子部品チツプを支持するキヤリアとして
のリードフレームの替わりにプリント配線板を用
いる試みがなされている。 ここにおいて、近時の電子部品チツプの高密度
化は発熱を伴い、この熱を逃がす工夫が必要とさ
れる。しかしキヤリアとして用いられるプリント
配線板は樹脂系のものやセラミツク系のもので形
成されており、熱の伝導性が悪くて放熱を良好に
なすことができず、電子部品チツプのキヤリアと
してプリント配線板を用いることについての難点
になつているものである。 [発明の目的] 本発明は、上記の点に鑑みて為されたものであ
り、放熱性に優れ、しかも、放熱性を高めるの
に、金属基板を備えながら、そのスルーホールに
おけるメツキ層を表面の回路導体の外部端子に利
用できる電子素子用チツプキヤリアを提供するこ
とを目的とするものである。 [発明の開示] しかして本発明に係る電子素子用チツプキヤリ
アは、金属基板1の表面を絶縁層2で被覆し、絶
縁層2の表面に回路導体3を設け、金属基板1を
貫通するとともに金属基板1とは絶縁処理したス
ルーホール15に回路導体3と接続して外部端子
として利用ができるメツキ層16を形成して金属
ベースのプリント配線板4を形成し、このプリン
ト配線板4の表面に電子部品チツプ5を実装して
成ることを特徴とするものであり、チツプキヤリ
アとして用いるプリント配線板4を金属ベースで
形成するようにして上記目的を達成したものであ
つて、以下本発明を実施例により詳述する。 チツプキヤリアとして用いる金属ベースのプリ
ント配線板4は例えば特公昭56−37720号公報に
開示される方法などによつて作成することができ
る。すなわち、まず第4図aに示すように銅板、
銅合金板、銅−インバー−銅(Cu−Inv−Cu)合
金板、鉄−ニツケル合金板、42アロイ板、その他
鋼板、鉄板、アルミニウム板などで形成される金
属基板1に貫通孔11を設けて、この金属基板1
の表面にプリプレグ12を介して銅箔などの金属
箔13を重ねる。プリプレグ12はガラス布など
の基材にエポキシ樹脂やポリイミド樹脂、テフロ
ン等のフツ素樹脂などの樹脂ワニスを含浸して加
熱乾燥することによつて作成される。そしてこの
ように金属基板1にプリプレグ12と金属箔13
とを重ねて加熱加圧成形をおこなうことによつ
て、プリプレグ12中の含浸樹脂を滲出させて第
4図bのようにこの樹脂14で金属基板1の貫通
孔11を充填させるかもしくは少なくとも貫通孔
11の内周面をこの樹脂14で被覆させる。この
ようにして、プリプレグ12の含浸樹脂が硬化す
ることによつて形成される絶縁層2によつて金属
箔13を金属基板1の表面に貼り付けるようにす
るものであり、こののち貫通孔11の径よりも小
さい径で樹脂14と絶縁層2と金属箔13とに貫
通して孔加工を施すことによつて、第4図cのよ
うにスルーホール15を形成させる。このスルー
ホール15その内周面が樹脂14で被覆され、金
属基板1に対する絶縁性を確保することができる
ものである。そして金属箔13にエツチングなど
を施すことによつて常法に従つて回路形成をし、
第4図dのように回路導体3を絶縁層2の表面に
設けると共にスルーホール15にメツキ層16な
どを施すことによつて、金属基板1をベースとし
たプリント配線板4を作成するものである。尚、
このプリント配線板4にあつて、絶縁層2を形成
するプリプレグ12としてはFR−4程度の耐熱
ガラスエポキシを用いるようにするのが好ましい
が、その他耐熱熱硬化性樹脂や耐熱熱可塑性樹脂
を金属基板1の表面に塗布することによつて絶縁
層2を形成させることもできる。 そしてこのように形成したプリント配線板4の
表面に半導体チツプなどの電子部品チツプ5を搭
載し、そして第1図に示すようにワイヤーボンデ
イング17などを電子部品チツプ5と回路導体3
との間に施すことによつてプリント配線板4への
電子部品チツプ5の実装をおこなうものである。
このようにしてプリント配線板4をチツプキヤリ
アとして電子部品チツプ5を保持させ、そしてこ
れをパツケージングすることによつて電子素子と
して仕上げるものである。ここで第1図に示すも
のはPGA(ピン グリツト アレー)型の電子素
子として形成されるようにしたものであり、この
ものではプリント配線板4に設けた各スルーホー
ル15,15…に端子ピン18,18…を下方乃
至上方に突出させるように取り付けるようにして
ある。このものにおいて、スルーホール15は内
周面が絶縁被覆された状態にあるために、金属基
板1に対する絶縁を確保して端子ピン18の取り
付けをおこなうことができるものである。また第
2図に示すものはLCC(リードレス チツプ キ
ヤリア)型の電子素子として形成されるようにし
たものである。 上記のように金属基板1をベースとしたプリン
ト配線板4に電子部品チツプ5を取り付けて電子
素子を形成するようにしたものにあつて、金属基
板1は熱の良導体であつて放熱性に優れ、電子部
品チツプ5からの発熱の放散を良好におこなうこ
とができるものであつて、電子部品チツプ5の高
密度化が可能になるものである。ちなみにプリン
ト配線板4の金属基板として42アロイ板(例1)
を、銅−インバー−銅合金板(例2)を、銅板
(例3)をそれぞれ用いた場合についての熱伝導
率を次表に示す。比較のために、アルミナ板(比
較例1)やガラスエポキシ板(比較例2)を基板
として用いたプリント配線板についてもその熱伝
導率を示す。次表に見られるように金属基板1で
ある例1〜3のものは比較例1、2のものよりも
熱伝導率が高く、放熱性に優れることが確認され
る。また次表に示されるように比較例2のガラス
エポキシ板を基板とするプリント配線板は吸水性
を有しており、吸湿してこの水分が電子部品チツ
プ5に作用するおそれがあるが、金属基板1であ
る例1〜3のものでは金属基板1自体の吸水が殆
どなく、しかも金属基板1で透湿を遮断できるた
めにこのような電子部品チツプ5への水分の作用
のおそれはない。さらに例1、2のような熱膨張
係数が半導体チツプなど電子部品チツプ5の熱膨
張係数に近いものを金属基板1として用いた場合
には、電子部品チツプ5とチツプキヤリアとなる
プリント配線板4との間の接続信頼性を向上させ
ることができることになる。
子の基板として用いられる電子素子用チツプキヤ
リアに関するものである。 [背景技術] ICパツケージなどのような電子素子は、半導
体チツプなどの電子部品チツプをリードフレーム
に取り付けた状態で樹脂封止や気密封止してパツ
ケージングすることによつておこなわれる。そし
てこのような電子素子にあつて、端子数の増加に
伴つて電子部品チツプを支持するキヤリアとして
のリードフレームの替わりにプリント配線板を用
いる試みがなされている。 ここにおいて、近時の電子部品チツプの高密度
化は発熱を伴い、この熱を逃がす工夫が必要とさ
れる。しかしキヤリアとして用いられるプリント
配線板は樹脂系のものやセラミツク系のもので形
成されており、熱の伝導性が悪くて放熱を良好に
なすことができず、電子部品チツプのキヤリアと
してプリント配線板を用いることについての難点
になつているものである。 [発明の目的] 本発明は、上記の点に鑑みて為されたものであ
り、放熱性に優れ、しかも、放熱性を高めるの
に、金属基板を備えながら、そのスルーホールに
おけるメツキ層を表面の回路導体の外部端子に利
用できる電子素子用チツプキヤリアを提供するこ
とを目的とするものである。 [発明の開示] しかして本発明に係る電子素子用チツプキヤリ
アは、金属基板1の表面を絶縁層2で被覆し、絶
縁層2の表面に回路導体3を設け、金属基板1を
貫通するとともに金属基板1とは絶縁処理したス
ルーホール15に回路導体3と接続して外部端子
として利用ができるメツキ層16を形成して金属
ベースのプリント配線板4を形成し、このプリン
ト配線板4の表面に電子部品チツプ5を実装して
成ることを特徴とするものであり、チツプキヤリ
アとして用いるプリント配線板4を金属ベースで
形成するようにして上記目的を達成したものであ
つて、以下本発明を実施例により詳述する。 チツプキヤリアとして用いる金属ベースのプリ
ント配線板4は例えば特公昭56−37720号公報に
開示される方法などによつて作成することができ
る。すなわち、まず第4図aに示すように銅板、
銅合金板、銅−インバー−銅(Cu−Inv−Cu)合
金板、鉄−ニツケル合金板、42アロイ板、その他
鋼板、鉄板、アルミニウム板などで形成される金
属基板1に貫通孔11を設けて、この金属基板1
の表面にプリプレグ12を介して銅箔などの金属
箔13を重ねる。プリプレグ12はガラス布など
の基材にエポキシ樹脂やポリイミド樹脂、テフロ
ン等のフツ素樹脂などの樹脂ワニスを含浸して加
熱乾燥することによつて作成される。そしてこの
ように金属基板1にプリプレグ12と金属箔13
とを重ねて加熱加圧成形をおこなうことによつ
て、プリプレグ12中の含浸樹脂を滲出させて第
4図bのようにこの樹脂14で金属基板1の貫通
孔11を充填させるかもしくは少なくとも貫通孔
11の内周面をこの樹脂14で被覆させる。この
ようにして、プリプレグ12の含浸樹脂が硬化す
ることによつて形成される絶縁層2によつて金属
箔13を金属基板1の表面に貼り付けるようにす
るものであり、こののち貫通孔11の径よりも小
さい径で樹脂14と絶縁層2と金属箔13とに貫
通して孔加工を施すことによつて、第4図cのよ
うにスルーホール15を形成させる。このスルー
ホール15その内周面が樹脂14で被覆され、金
属基板1に対する絶縁性を確保することができる
ものである。そして金属箔13にエツチングなど
を施すことによつて常法に従つて回路形成をし、
第4図dのように回路導体3を絶縁層2の表面に
設けると共にスルーホール15にメツキ層16な
どを施すことによつて、金属基板1をベースとし
たプリント配線板4を作成するものである。尚、
このプリント配線板4にあつて、絶縁層2を形成
するプリプレグ12としてはFR−4程度の耐熱
ガラスエポキシを用いるようにするのが好ましい
が、その他耐熱熱硬化性樹脂や耐熱熱可塑性樹脂
を金属基板1の表面に塗布することによつて絶縁
層2を形成させることもできる。 そしてこのように形成したプリント配線板4の
表面に半導体チツプなどの電子部品チツプ5を搭
載し、そして第1図に示すようにワイヤーボンデ
イング17などを電子部品チツプ5と回路導体3
との間に施すことによつてプリント配線板4への
電子部品チツプ5の実装をおこなうものである。
このようにしてプリント配線板4をチツプキヤリ
アとして電子部品チツプ5を保持させ、そしてこ
れをパツケージングすることによつて電子素子と
して仕上げるものである。ここで第1図に示すも
のはPGA(ピン グリツト アレー)型の電子素
子として形成されるようにしたものであり、この
ものではプリント配線板4に設けた各スルーホー
ル15,15…に端子ピン18,18…を下方乃
至上方に突出させるように取り付けるようにして
ある。このものにおいて、スルーホール15は内
周面が絶縁被覆された状態にあるために、金属基
板1に対する絶縁を確保して端子ピン18の取り
付けをおこなうことができるものである。また第
2図に示すものはLCC(リードレス チツプ キ
ヤリア)型の電子素子として形成されるようにし
たものである。 上記のように金属基板1をベースとしたプリン
ト配線板4に電子部品チツプ5を取り付けて電子
素子を形成するようにしたものにあつて、金属基
板1は熱の良導体であつて放熱性に優れ、電子部
品チツプ5からの発熱の放散を良好におこなうこ
とができるものであつて、電子部品チツプ5の高
密度化が可能になるものである。ちなみにプリン
ト配線板4の金属基板として42アロイ板(例1)
を、銅−インバー−銅合金板(例2)を、銅板
(例3)をそれぞれ用いた場合についての熱伝導
率を次表に示す。比較のために、アルミナ板(比
較例1)やガラスエポキシ板(比較例2)を基板
として用いたプリント配線板についてもその熱伝
導率を示す。次表に見られるように金属基板1で
ある例1〜3のものは比較例1、2のものよりも
熱伝導率が高く、放熱性に優れることが確認され
る。また次表に示されるように比較例2のガラス
エポキシ板を基板とするプリント配線板は吸水性
を有しており、吸湿してこの水分が電子部品チツ
プ5に作用するおそれがあるが、金属基板1であ
る例1〜3のものでは金属基板1自体の吸水が殆
どなく、しかも金属基板1で透湿を遮断できるた
めにこのような電子部品チツプ5への水分の作用
のおそれはない。さらに例1、2のような熱膨張
係数が半導体チツプなど電子部品チツプ5の熱膨
張係数に近いものを金属基板1として用いた場合
には、電子部品チツプ5とチツプキヤリアとなる
プリント配線板4との間の接続信頼性を向上させ
ることができることになる。
【表】
尚、第3図はチツプキヤリアとなるプリント配
線板4の他の実施例を示すもので、電子部品チツ
プ5を実装するための凹所19を設けるようにし
たものである。このものでは凹所19の形成によ
つてこの部分の絶縁層2が除去され、凹所19の
底部において露出する金属基板1に接する状態で
電子部品チツプ5は実装されることになるため
に、電子部品チツプ5からの金属基板1への熱の
伝達が直接おこなわれ、放熱性を一層向上させる
ことができることになる。 [発明の効果] 上述のように本発明にあつては、金属基板の表
面を絶縁層で被覆すると共にこの絶縁層の表面に
回路導体を設けて金属ベースのプリント配線板を
形成し、このプリント配線板の表面に電子部品チ
ツプを実装してあるので、チツプキヤリアとして
用いられることになるプリント配線板は金属基板
をベースとして形成されて金属基板による熱伝導
性によつて放熱性が優れているものであつて、高
密度化された電子部品チツプの実装が可能になる
ものであり、またこのように放熱を得るための金
属基板はプリント配線板のベースを構成するもの
であつて、放熱のための特別な工夫をおこなうよ
うな必要がないものであり、しかも金属基板を貫
通するとともに金属基板とは絶縁処理したスルー
ホールに回路導体と接続して外部端子として利用
できるメツキ層を形成してあるから、金属基板を
備えて放熱効果が充分なプリント配線板でありな
がら、スルーホールに回路導体と接続して形成さ
れるメツキ層を外部端子に利用できるという利点
がある。つまり、スルーホールに端子ピンを電気
的に接続してプリント配線板の表面の回路導体の
外部端子とするPGA(ピン グリツド アレー)
に、そして、メツキ層を施したスルーホールを略
中央で切断して残つたスルーホールのメツキ層部
分を外部端子とするLCC(リードレス チツプ
キヤリア)になすことができるのである。
線板4の他の実施例を示すもので、電子部品チツ
プ5を実装するための凹所19を設けるようにし
たものである。このものでは凹所19の形成によ
つてこの部分の絶縁層2が除去され、凹所19の
底部において露出する金属基板1に接する状態で
電子部品チツプ5は実装されることになるため
に、電子部品チツプ5からの金属基板1への熱の
伝達が直接おこなわれ、放熱性を一層向上させる
ことができることになる。 [発明の効果] 上述のように本発明にあつては、金属基板の表
面を絶縁層で被覆すると共にこの絶縁層の表面に
回路導体を設けて金属ベースのプリント配線板を
形成し、このプリント配線板の表面に電子部品チ
ツプを実装してあるので、チツプキヤリアとして
用いられることになるプリント配線板は金属基板
をベースとして形成されて金属基板による熱伝導
性によつて放熱性が優れているものであつて、高
密度化された電子部品チツプの実装が可能になる
ものであり、またこのように放熱を得るための金
属基板はプリント配線板のベースを構成するもの
であつて、放熱のための特別な工夫をおこなうよ
うな必要がないものであり、しかも金属基板を貫
通するとともに金属基板とは絶縁処理したスルー
ホールに回路導体と接続して外部端子として利用
できるメツキ層を形成してあるから、金属基板を
備えて放熱効果が充分なプリント配線板でありな
がら、スルーホールに回路導体と接続して形成さ
れるメツキ層を外部端子に利用できるという利点
がある。つまり、スルーホールに端子ピンを電気
的に接続してプリント配線板の表面の回路導体の
外部端子とするPGA(ピン グリツド アレー)
に、そして、メツキ層を施したスルーホールを略
中央で切断して残つたスルーホールのメツキ層部
分を外部端子とするLCC(リードレス チツプ
キヤリア)になすことができるのである。
第1図は本発明の一実施例の断面図、第2図
a,b,cは同上の他の実施例の断面図と一部切
欠斜視図及び一部の縮小平面図、第3図はさらに
他の実施例の断面図、第4図a,b,c,dは同
上の製造の各工程を示す断面図である。 1は金属基板、2は絶縁層、3は回路導体、4
はプリント配線板、5は電子部品チツプ、15は
スルーホール、16はメツキ層である。
a,b,cは同上の他の実施例の断面図と一部切
欠斜視図及び一部の縮小平面図、第3図はさらに
他の実施例の断面図、第4図a,b,c,dは同
上の製造の各工程を示す断面図である。 1は金属基板、2は絶縁層、3は回路導体、4
はプリント配線板、5は電子部品チツプ、15は
スルーホール、16はメツキ層である。
Claims (1)
- 1 金属基板の表面を絶縁層で被覆し、絶縁層の
表面に回路導体を設け、金属基板を貫通するとと
もに金属基板とは絶縁処理したスルーホールに回
路導体と接続して外部端子として利用ができるメ
ツキ層を形成してプリント配線板を形成し、この
プリント配線板の表面に電子部品チツプを実装し
て成ることを特徴とする電子素子用チツプキヤリ
ア。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12851285A JPS61287128A (ja) | 1985-06-13 | 1985-06-13 | 電子素子用チツプキヤリア |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12851285A JPS61287128A (ja) | 1985-06-13 | 1985-06-13 | 電子素子用チツプキヤリア |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61287128A JPS61287128A (ja) | 1986-12-17 |
JPH053744B2 true JPH053744B2 (ja) | 1993-01-18 |
Family
ID=14986575
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12851285A Granted JPS61287128A (ja) | 1985-06-13 | 1985-06-13 | 電子素子用チツプキヤリア |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61287128A (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2626785B2 (ja) * | 1988-03-17 | 1997-07-02 | イビデン株式会社 | 電子部品搭載用基板 |
KR100325242B1 (ko) * | 1998-05-15 | 2002-04-17 | 이택렬 | 반도체소자 및 그 제작방법 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5656657A (en) * | 1979-10-16 | 1981-05-18 | Toshiba Corp | Manufacture of hybrid integrated circuit |
JPS5715447A (en) * | 1980-06-30 | 1982-01-26 | Sharp Corp | Production of substrate for carrying components |
JPS5745957A (en) * | 1980-09-02 | 1982-03-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Circuit substrate and manufacture thereof |
JPS57121260A (en) * | 1981-01-21 | 1982-07-28 | Hitachi Ltd | Semiconductor device |
JPS60101998A (ja) * | 1983-11-07 | 1985-06-06 | イビデン株式会社 | プラグインパツケ−ジとその製造方法 |
JPS61177760A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-09 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | ピングリツドアレイ型半導体装置及びその製造方法 |
-
1985
- 1985-06-13 JP JP12851285A patent/JPS61287128A/ja active Granted
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5656657A (en) * | 1979-10-16 | 1981-05-18 | Toshiba Corp | Manufacture of hybrid integrated circuit |
JPS5715447A (en) * | 1980-06-30 | 1982-01-26 | Sharp Corp | Production of substrate for carrying components |
JPS5745957A (en) * | 1980-09-02 | 1982-03-16 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Circuit substrate and manufacture thereof |
JPS57121260A (en) * | 1981-01-21 | 1982-07-28 | Hitachi Ltd | Semiconductor device |
JPS60101998A (ja) * | 1983-11-07 | 1985-06-06 | イビデン株式会社 | プラグインパツケ−ジとその製造方法 |
JPS61177760A (ja) * | 1985-02-04 | 1986-08-09 | Hitachi Micro Comput Eng Ltd | ピングリツドアレイ型半導体装置及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61287128A (ja) | 1986-12-17 |
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