JPH05339359A - 制電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ−ト - Google Patents
制電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ−トInfo
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- JPH05339359A JPH05339359A JP15232292A JP15232292A JPH05339359A JP H05339359 A JPH05339359 A JP H05339359A JP 15232292 A JP15232292 A JP 15232292A JP 15232292 A JP15232292 A JP 15232292A JP H05339359 A JPH05339359 A JP H05339359A
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- polyether carbonate
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- thermoplastic resin
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Abstract
(57)【要約】
【目的】熱可塑性樹脂に混合して制電効果を耐久化させ
ることが可能な親水性ポリマ−を開発する。 【構成】 (a)末端基がアルコ−ル性またはフェノ−ル性水酸基
である数平均分子量200〜20,000のポリアルキ
レンオキシド、(b)炭素原子数2〜30のグリコ−ル
および/または二価フェノ−ルを重量比で(b)/
(a)=0/100〜90/10となるように調整し、
次いで(c)カ−ボネ−ト前駆物質と縮合して得られる
制電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ−ト。 【効果】本発明の制電性能を有するポリエ−テルカ−ボ
ネ−トは任意の熱可塑性樹脂に対して、適当量混合する
ことにより、それらの熱可塑性樹脂の機械的強度等の物
性を損なうことなく、水洗によってもその制電性能が変
化しない。このように、優れた永久制電性と光沢、機械
的強度を有した制電性熱可塑性樹脂組成物は種々の成形
部品、繊維、フィルム、シ−ト等を供する。
ることが可能な親水性ポリマ−を開発する。 【構成】 (a)末端基がアルコ−ル性またはフェノ−ル性水酸基
である数平均分子量200〜20,000のポリアルキ
レンオキシド、(b)炭素原子数2〜30のグリコ−ル
および/または二価フェノ−ルを重量比で(b)/
(a)=0/100〜90/10となるように調整し、
次いで(c)カ−ボネ−ト前駆物質と縮合して得られる
制電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ−ト。 【効果】本発明の制電性能を有するポリエ−テルカ−ボ
ネ−トは任意の熱可塑性樹脂に対して、適当量混合する
ことにより、それらの熱可塑性樹脂の機械的強度等の物
性を損なうことなく、水洗によってもその制電性能が変
化しない。このように、優れた永久制電性と光沢、機械
的強度を有した制電性熱可塑性樹脂組成物は種々の成形
部品、繊維、フィルム、シ−ト等を供する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は制電性能を有するポリエ
−テルカ−ボネ−トに関する。さらに詳しくは、種々の
熱可塑性樹脂成形品に永久的な制電性と光沢を付与する
ために混合する制電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ
−トに関する。
−テルカ−ボネ−トに関する。さらに詳しくは、種々の
熱可塑性樹脂成形品に永久的な制電性と光沢を付与する
ために混合する制電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ
−トに関する。
【0002】
【従来の技術】プラスチック材料は、その優れた特性に
よって広範な分野で使用されている。しかしながら、こ
れらの材料のほとんどは疎水性であるため、もし制電性
が付与されればさらにその用途を拡大することができ
る。例えば静電気による障害を防止したい複写機、プリ
ンタ−、合繊衣服や防塵用部品などへの用途展開が可能
となる。プラスチック材料に制電性を付与する方法とし
てはこれまでに数多くの提案がなされている。
よって広範な分野で使用されている。しかしながら、こ
れらの材料のほとんどは疎水性であるため、もし制電性
が付与されればさらにその用途を拡大することができ
る。例えば静電気による障害を防止したい複写機、プリ
ンタ−、合繊衣服や防塵用部品などへの用途展開が可能
となる。プラスチック材料に制電性を付与する方法とし
てはこれまでに数多くの提案がなされている。
【0003】例えば、帯電防止剤を熱可塑性樹脂に、表
面コ−ティングするかまたは練り込む方法が挙げられ
る。特にスルホン酸金属塩を用いることが特開昭50−
53465号公報、特開昭54−6049号公報および
特開昭60−38123号公報等に紹介されているが、
制電効果の経時的な減少が顕著で、水洗などによっては
帯電防止剤が脱落することが問題であった。
面コ−ティングするかまたは練り込む方法が挙げられ
る。特にスルホン酸金属塩を用いることが特開昭50−
53465号公報、特開昭54−6049号公報および
特開昭60−38123号公報等に紹介されているが、
制電効果の経時的な減少が顕著で、水洗などによっては
帯電防止剤が脱落することが問題であった。
【0004】制電効果を耐久化させるため親水性ポリマ
−を熱可塑性樹脂に混合し、場合により帯電防止剤を配
合する方法も知られている。その最も代表的な方法とし
ては、ポリアルキレンオキシドとスルホン酸金属塩を併
用する方法が特公昭60−11944等で提案されてい
る。
−を熱可塑性樹脂に混合し、場合により帯電防止剤を配
合する方法も知られている。その最も代表的な方法とし
ては、ポリアルキレンオキシドとスルホン酸金属塩を併
用する方法が特公昭60−11944等で提案されてい
る。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ポリア
ルキレンオキシド自体の機械的強度や耐熱性が悪いばか
りでなく、一般的に疎水性の熱可塑性樹脂との相溶性も
悪いため、得られる樹脂組成物の諸物性が大幅に低下す
る問題があった。
ルキレンオキシド自体の機械的強度や耐熱性が悪いばか
りでなく、一般的に疎水性の熱可塑性樹脂との相溶性も
悪いため、得られる樹脂組成物の諸物性が大幅に低下す
る問題があった。
【0006】また、従来、熱可塑性成形樹脂の制電化を
するために、イオン性低分子化合物や親水性ポリマ−が
用いられてきたが、制電効果の水洗等による著しい低減
や成形樹脂の物性低下等の問題を抱えていた。
するために、イオン性低分子化合物や親水性ポリマ−が
用いられてきたが、制電効果の水洗等による著しい低減
や成形樹脂の物性低下等の問題を抱えていた。
【0007】本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭
意検討の結果、成形用熱可塑性樹脂に適量混合すること
で、前記樹脂の機械的強度、耐熱性等の諸物性を損なう
ことなく、優れた永久制電性と光沢を付与する効果を有
する樹脂改質剤として特定のポリエ−テルカ−ボネ−ト
が、これら諸条件を完全に満たすことを見出し、本発明
を完成するに至った。
意検討の結果、成形用熱可塑性樹脂に適量混合すること
で、前記樹脂の機械的強度、耐熱性等の諸物性を損なう
ことなく、優れた永久制電性と光沢を付与する効果を有
する樹脂改質剤として特定のポリエ−テルカ−ボネ−ト
が、これら諸条件を完全に満たすことを見出し、本発明
を完成するに至った。
【0008】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は「(a)
末端基がアルコ−ル性またはフェノ−ル性水酸基である
数平均分子量200〜20,000のポリアルキレンオ
キシド、(b)炭素原子数2〜30のグリコ−ルおよび
/または二価フェノ−ルを重量比で(b)/(a)=0
/100〜90/10となるように調整し、次いで
(c)カ−ボネ−ト前駆物質と縮合して得られることを
特徴とする制電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ−
ト」である。
末端基がアルコ−ル性またはフェノ−ル性水酸基である
数平均分子量200〜20,000のポリアルキレンオ
キシド、(b)炭素原子数2〜30のグリコ−ルおよび
/または二価フェノ−ルを重量比で(b)/(a)=0
/100〜90/10となるように調整し、次いで
(c)カ−ボネ−ト前駆物質と縮合して得られることを
特徴とする制電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ−
ト」である。
【0009】以下、本発明を具体的に説明する。
【0010】本発明のポリエ−テルカ−ボネ−トの構成
成分である(a)末端基がアルコ−ル性またはフェノ−
ル性の水酸基である、数平均分子量200〜20,00
0のポリアルキレンオキシドとしては、炭素原子数2〜
6の環状エ−テルの開環重合またはグリコ−ルの脱水反
応によって得られ、少なくとも片末端、好ましくは両末
端基がアルコ−ル性またはフェノ−ル性の水酸基である
重合体又は共重合体が挙げられる。
成分である(a)末端基がアルコ−ル性またはフェノ−
ル性の水酸基である、数平均分子量200〜20,00
0のポリアルキレンオキシドとしては、炭素原子数2〜
6の環状エ−テルの開環重合またはグリコ−ルの脱水反
応によって得られ、少なくとも片末端、好ましくは両末
端基がアルコ−ル性またはフェノ−ル性の水酸基である
重合体又は共重合体が挙げられる。
【0011】通常のポリアルキレンオキシドは水または
グリコ−ルを開始剤とした環状エ−テルの開環重合によ
り得られ、その両末端はアルコ−ル性の水酸基であり好
ましく用いられる。両末端がフェノ−ル性の水酸基であ
るポリアルキレンオキシドを得る方法は特に限定されな
いが、両末端アルコ−ル性水酸基のポリアルキレンオキ
シドを安息香酸メチルや安息香酸クロリド等の反応によ
り、フェノ−ル性水酸基に変性する方法、および安息香
酸や二価フェノ−ルモノナトリュウムラ−ト等で環状エ
−テルの開環重合を開始し、安息香酸クロリド等でクエ
ンチングする方法等を用いることができる。
グリコ−ルを開始剤とした環状エ−テルの開環重合によ
り得られ、その両末端はアルコ−ル性の水酸基であり好
ましく用いられる。両末端がフェノ−ル性の水酸基であ
るポリアルキレンオキシドを得る方法は特に限定されな
いが、両末端アルコ−ル性水酸基のポリアルキレンオキ
シドを安息香酸メチルや安息香酸クロリド等の反応によ
り、フェノ−ル性水酸基に変性する方法、および安息香
酸や二価フェノ−ルモノナトリュウムラ−ト等で環状エ
−テルの開環重合を開始し、安息香酸クロリド等でクエ
ンチングする方法等を用いることができる。
【0012】本発明において用いられるポリアルキレン
オキシドの具体例としては、ポリエチレンオキシド、ポ
リ(1,2−プロピレン)オキシド、ポリ(1,3−プ
ロピレン)オキシド、ポリテトラメチレンオキシド、ポ
リヘキサメチレンオキシド、エチレンオキシドとプロピ
レンオキシドのブロックまたはランダム共重合体および
エチレンオキシドとテトラヒドロフランのブロックまた
はランダム共重合体などが挙げられる。これらの中で
も、制電性が優れる点で特にポリエチレンオキシドが好
ましく用いられる。
オキシドの具体例としては、ポリエチレンオキシド、ポ
リ(1,2−プロピレン)オキシド、ポリ(1,3−プ
ロピレン)オキシド、ポリテトラメチレンオキシド、ポ
リヘキサメチレンオキシド、エチレンオキシドとプロピ
レンオキシドのブロックまたはランダム共重合体および
エチレンオキシドとテトラヒドロフランのブロックまた
はランダム共重合体などが挙げられる。これらの中で
も、制電性が優れる点で特にポリエチレンオキシドが好
ましく用いられる。
【0013】ポリアルキレンオキシドの数平均分子量は
200〜20,000、好ましくは600〜6,000
の範囲で用いられる。数平均分子量が200未満では得
られるポリエ−テルカ−ボネ−トの機械的性質が劣り、
数平均分子量が20,000を超える場合は制電性能が
不足するため好ましくない。
200〜20,000、好ましくは600〜6,000
の範囲で用いられる。数平均分子量が200未満では得
られるポリエ−テルカ−ボネ−トの機械的性質が劣り、
数平均分子量が20,000を超える場合は制電性能が
不足するため好ましくない。
【0014】次に、本発明の制電性能を有するポリエ−
テルカ−ボネ−トの構成成分である(b)炭素原子数2
〜30のグリコ−ル(および/または)二価フェノ−ル
としては、ポリエ−テルカ−ボネ−トの用途や性能にあ
わせて、1種単独または2種以上の混合物として、任意
に用いられる。
テルカ−ボネ−トの構成成分である(b)炭素原子数2
〜30のグリコ−ル(および/または)二価フェノ−ル
としては、ポリエ−テルカ−ボネ−トの用途や性能にあ
わせて、1種単独または2種以上の混合物として、任意
に用いられる。
【0015】本発明の制電性能を有するポリエ−テルカ
−ボネ−トを製造する際、使用される(a)ポリアルキ
レンオキシドと(b)グリコ−ル(および/または)二
価フェノ−ルの重量百分率比(b)/(a)としては0
/100〜90/10の範囲である。(b)グリコ−ル
(および/または)二価フェノ−ルは、ポリエ−テルカ
−ボネ−トの構成成分として必ずしも必要でないが、機
械的強度や耐熱性を向上させるために用いたほうが好ま
しい。
−ボネ−トを製造する際、使用される(a)ポリアルキ
レンオキシドと(b)グリコ−ル(および/または)二
価フェノ−ルの重量百分率比(b)/(a)としては0
/100〜90/10の範囲である。(b)グリコ−ル
(および/または)二価フェノ−ルは、ポリエ−テルカ
−ボネ−トの構成成分として必ずしも必要でないが、機
械的強度や耐熱性を向上させるために用いたほうが好ま
しい。
【0016】(a)ポリアルキレンオキシドの(b)グ
リコ−ル(および/または)二価フェノ−ルとの合計量
全体に占める重量百分率が10%を下回るとポリエ−テ
ルカ−ボネ−トの制電性能が劣り好ましくない。
リコ−ル(および/または)二価フェノ−ルとの合計量
全体に占める重量百分率が10%を下回るとポリエ−テ
ルカ−ボネ−トの制電性能が劣り好ましくない。
【0017】本発明における(b)グリコ−ルの具体例
としては、エチレングリコ−ル、プロピレングリコ−
ル、1,4−ブタンジオ−ル、1,3−ブタンジオ−
ル、1,2−ブチレングリコ−ル、トリメチレングリコ
−ル、ネオペンチルグリコ−ル、ジエチレングリコ−
ル、2−メチル−1,3−プロピレングリコ−ル、トリ
エチレングリコ−ル、オクタメチレングリコ−ル、1,
4−シクロヘキサンジメタノ−ル、1,4−シクロヘキ
サンジオ−ルなどが用いられる。
としては、エチレングリコ−ル、プロピレングリコ−
ル、1,4−ブタンジオ−ル、1,3−ブタンジオ−
ル、1,2−ブチレングリコ−ル、トリメチレングリコ
−ル、ネオペンチルグリコ−ル、ジエチレングリコ−
ル、2−メチル−1,3−プロピレングリコ−ル、トリ
エチレングリコ−ル、オクタメチレングリコ−ル、1,
4−シクロヘキサンジメタノ−ル、1,4−シクロヘキ
サンジオ−ルなどが用いられる。
【0018】本発明における(b)二価フェノ−ルの代
表例としては、下記一般式[A]、[B]、[C]およ
び[D]
表例としては、下記一般式[A]、[B]、[C]およ
び[D]
【化1】
【化2】
【化3】
【化4】 等が挙げられる。
【0019】《ここでRは水素又は炭素数1〜8の直鎖
又は枝分れを含むアルキル基、又はフェニル基であり、
Xはハロゲン原子でp=0〜4、q=1〜4である》。
又は枝分れを含むアルキル基、又はフェニル基であり、
Xはハロゲン原子でp=0〜4、q=1〜4である》。
【0020】具体的には、一般式[A]に分類される二
価フェノ−ルとして2,2−ビス−(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフ
ェニル)ブタン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−4−メチルペンタン、2,2−ビス−(4−ヒ
ドロキシフェニル)オクタン、4,4´−ジヒドロキシ
−2,2,2−トリフェニルエタン、2,2−ビス−
(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン等、一般式[B]に分類される二価フェノ−ルとし
て、2,2−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシ−3
−イソプロピルフェニル)プロパン、2,2−ビス−
(4−ヒドロキシ−3−sec・ブチルフェニル)プロ
パン、2,2−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン、2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシ−3−タ−シャリブチルフェニル)プロパン等、一
般式[C]に分類される二価フェノ−ルとして、1,1
´−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−パラ−ジイソ
プロピルベンゼン、1,1´−ビス−(4−ヒドロキシ
フェニル)−メタ−ジイソプロピルベンゼン等、一般式
[D]に分類される二価フェノ−ルとして、1,1´−
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン等が
挙げられる。またその他の二価フェノ−ルとして、ジヒ
ドロキシジフェニルエ−テル、ジヒドロキシジフェニル
スルホン、ジヒドロキシジフェニルスルフィド、ハイド
ロキノン、レゾルシン、オルソ−メチルレゾルシン、オ
ルソ−クミルレゾルシド等も使用できる。
価フェノ−ルとして2,2−ビス−(4−ヒドロキシフ
ェニル)プロパン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフ
ェニル)ブタン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェ
ニル)−4−メチルペンタン、2,2−ビス−(4−ヒ
ドロキシフェニル)オクタン、4,4´−ジヒドロキシ
−2,2,2−トリフェニルエタン、2,2−ビス−
(3,5−ジブロモ−4−ヒドロキシフェニル)プロパ
ン等、一般式[B]に分類される二価フェノ−ルとし
て、2,2−ビス−(4−ヒドロキシ−3−メチルフェ
ニル)プロパン、2,2−ビス−(4−ヒドロキシ−3
−イソプロピルフェニル)プロパン、2,2−ビス−
(4−ヒドロキシ−3−sec・ブチルフェニル)プロ
パン、2,2−ビス−(3,5−ジメチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロパン、2,2−ビス−(4−ヒドロ
キシ−3−タ−シャリブチルフェニル)プロパン等、一
般式[C]に分類される二価フェノ−ルとして、1,1
´−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−パラ−ジイソ
プロピルベンゼン、1,1´−ビス−(4−ヒドロキシ
フェニル)−メタ−ジイソプロピルベンゼン等、一般式
[D]に分類される二価フェノ−ルとして、1,1´−
ビス−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン等が
挙げられる。またその他の二価フェノ−ルとして、ジヒ
ドロキシジフェニルエ−テル、ジヒドロキシジフェニル
スルホン、ジヒドロキシジフェニルスルフィド、ハイド
ロキノン、レゾルシン、オルソ−メチルレゾルシン、オ
ルソ−クミルレゾルシド等も使用できる。
【0021】本発明の制電性能を有するポリエ−テルカ
−ボネ−トの3番目の構成成分である(C)カ−ボネ−
ト前駆物質としては、アルコ−ル性またはフェノ−ル性
水酸基と反応し、カ−ボネ−ト結合を形成し得る化合物
ならばいかなるものでも良い。 具体的には、ホスゲ
ン、ジブロモカルボニル、ジョ−ドカルボニル、二価フ
ェノ−ルのビスハロホルメ−ト(例えばヒドロキノン、
ビルフェノ−ルAなどのビスクロロホルメ−ト)、グリ
コ−ルのビスハロホルメ−ト(例えばエチレングリコ−
ル、ポリエチレングリコ−ルなどのビスクロロホルメ−
ト)などのホスゲンに代表されるグル−プと、ジフェニ
ルカ−ボネ−ト、ジ(2,4,6−トリクロロ)フェニ
ルカ−ボネ−ト、ジメチルカ−ボネ−ト、ジエチルカ−
ボネ−ト等の炭酸エステルが挙げられる。
−ボネ−トの3番目の構成成分である(C)カ−ボネ−
ト前駆物質としては、アルコ−ル性またはフェノ−ル性
水酸基と反応し、カ−ボネ−ト結合を形成し得る化合物
ならばいかなるものでも良い。 具体的には、ホスゲ
ン、ジブロモカルボニル、ジョ−ドカルボニル、二価フ
ェノ−ルのビスハロホルメ−ト(例えばヒドロキノン、
ビルフェノ−ルAなどのビスクロロホルメ−ト)、グリ
コ−ルのビスハロホルメ−ト(例えばエチレングリコ−
ル、ポリエチレングリコ−ルなどのビスクロロホルメ−
ト)などのホスゲンに代表されるグル−プと、ジフェニ
ルカ−ボネ−ト、ジ(2,4,6−トリクロロ)フェニ
ルカ−ボネ−ト、ジメチルカ−ボネ−ト、ジエチルカ−
ボネ−ト等の炭酸エステルが挙げられる。
【0022】本発明の制電性能を有するポリエ−テルカ
−ボネ−トの製造方法に関しては、特に限定されない
が、例えばホスゲンを用いるホスゲン法および炭酸エス
テルを用いるエステル交換法等が好ましい。ホスゲン法
としては、ホスゲンまたはホスゲンに類似のカルボニル
源供与体を第三アミン等の有機塩基性化合物に溶解し、
ポリアルキレンオキシド(および/または)二価フェノ
−ル等と均一系で縮合する方法と不均質相系にて界面重
縮合する方法が挙げられる。
−ボネ−トの製造方法に関しては、特に限定されない
が、例えばホスゲンを用いるホスゲン法および炭酸エス
テルを用いるエステル交換法等が好ましい。ホスゲン法
としては、ホスゲンまたはホスゲンに類似のカルボニル
源供与体を第三アミン等の有機塩基性化合物に溶解し、
ポリアルキレンオキシド(および/または)二価フェノ
−ル等と均一系で縮合する方法と不均質相系にて界面重
縮合する方法が挙げられる。
【0023】前者の均一系で縮合を行う方法の場合、第
三アミンとしては、例えばピリジン、N,N−ジメチル
アニリン、キノリン等が挙げられ、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クロロベンゼン、クロロホルム、塩化メ
チレン等で希釈してもしなくてもよい。第三アミンは、
反応を促進し良好な溶剤であり、しかも反応中に放出さ
れるハロゲン酸の受容体として働くので有利である。
三アミンとしては、例えばピリジン、N,N−ジメチル
アニリン、キノリン等が挙げられ、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、クロロベンゼン、クロロホルム、塩化メ
チレン等で希釈してもしなくてもよい。第三アミンは、
反応を促進し良好な溶剤であり、しかも反応中に放出さ
れるハロゲン酸の受容体として働くので有利である。
【0024】ホスゲン反応は0℃以下から100℃以上
までの温度範囲で行うことができるが、25℃〜50℃
の範囲が好ましい。
までの温度範囲で行うことができるが、25℃〜50℃
の範囲が好ましい。
【0025】(a)ポリアルキレンオキシドおよび/ま
たは(b)グリコ−ルおよび/または二価フェノ−ルの
合計量に対して、実質的に等モル量のホスゲンを使用で
きるが1.5モルまで、またはそれ以上の過剰量を用い
ても良い。
たは(b)グリコ−ルおよび/または二価フェノ−ルの
合計量に対して、実質的に等モル量のホスゲンを使用で
きるが1.5モルまで、またはそれ以上の過剰量を用い
ても良い。
【0026】溶液中の(a)ポリアルキレンオキシドお
よび(b)二価フェノ−ル類の合計濃度は特に限定され
ないが、約1〜25重量%程度が扱い易く好適である。
よび(b)二価フェノ−ル類の合計濃度は特に限定され
ないが、約1〜25重量%程度が扱い易く好適である。
【0027】ホスゲン法後者の界面重縮合法としては、
(a)ポリアルキレンオキシドおよび(b)二価フェノ
−ル類を水酸化ナトリウム等塩基性化合物水溶液に溶解
し、ホスゲンの塩化メチレン溶液との界面で重縮合する
方法が挙げられる。「ジャ−ナル・オブ・ポリマ−・サ
イエンス(J. Polymer Sci.,)」55巻(1961
年)、343頁、および「インダストリアル・エンジニ
アリング・ケミストリ・プロダクション・リサ−チ・デ
ベロップメント(Ind. Eng. Chem. Prod. Res. Develo
p.)」2巻(1963年)、246頁等に界面重縮合法
が詳しく記載されている。精製は、ポリカ−ボネ−トに
ついて知られた方法で、例えば脱揮発型押出機で溶剤を
蒸発除去することにより行う。
(a)ポリアルキレンオキシドおよび(b)二価フェノ
−ル類を水酸化ナトリウム等塩基性化合物水溶液に溶解
し、ホスゲンの塩化メチレン溶液との界面で重縮合する
方法が挙げられる。「ジャ−ナル・オブ・ポリマ−・サ
イエンス(J. Polymer Sci.,)」55巻(1961
年)、343頁、および「インダストリアル・エンジニ
アリング・ケミストリ・プロダクション・リサ−チ・デ
ベロップメント(Ind. Eng. Chem. Prod. Res. Develo
p.)」2巻(1963年)、246頁等に界面重縮合法
が詳しく記載されている。精製は、ポリカ−ボネ−トに
ついて知られた方法で、例えば脱揮発型押出機で溶剤を
蒸発除去することにより行う。
【0028】エステル交換法としては、(a)ポリアル
キレンオキシド(および/または)(b)二価フェノ−
ル類およびジフェニルカ−ボネ−ト等の炭酸エステルを
約100℃〜300℃の温度、好ましくは130℃〜2
80℃の範囲で溶融重縮合する方法が挙げられる。13
0℃未満であると反応速度が遅くなり、280℃を超え
ると副反応が起こり易くなり好ましくない。反応系中を
減圧にすれば、反応が速く進行し好ましい。標準的な圧
力としては、反応段階に従って約0.1〜760mmHgの
間で自由に設定できる。
キレンオキシド(および/または)(b)二価フェノ−
ル類およびジフェニルカ−ボネ−ト等の炭酸エステルを
約100℃〜300℃の温度、好ましくは130℃〜2
80℃の範囲で溶融重縮合する方法が挙げられる。13
0℃未満であると反応速度が遅くなり、280℃を超え
ると副反応が起こり易くなり好ましくない。反応系中を
減圧にすれば、反応が速く進行し好ましい。標準的な圧
力としては、反応段階に従って約0.1〜760mmHgの
間で自由に設定できる。
【0029】また、この反応の際に触媒を用いると、重
縮合が速やかに進行し好ましい。使用する触媒として
は、通常のポリカ−ボネ−ト重合触媒のいかなるもので
も問題なく使用できる。代表例としては、アミン化合
物、チタン化合物、リン化合物、ヒ素化合物、アンチモ
ン化合物およびビスマス化合物が挙げられ、具体的には
N,N−ジメチルアニリン、4−ピペリジノピリジン、
アミノキノリン、ジアザビシクロオクタン、チタニウム
テトラブトキシトリフェニルホスフィン、トリフェニル
ホスファイト、テトラフェニルヒ素、三酸化アンチモ
ン、ビスマストリエチルカルボキシレ−ト等がある。
縮合が速やかに進行し好ましい。使用する触媒として
は、通常のポリカ−ボネ−ト重合触媒のいかなるもので
も問題なく使用できる。代表例としては、アミン化合
物、チタン化合物、リン化合物、ヒ素化合物、アンチモ
ン化合物およびビスマス化合物が挙げられ、具体的には
N,N−ジメチルアニリン、4−ピペリジノピリジン、
アミノキノリン、ジアザビシクロオクタン、チタニウム
テトラブトキシトリフェニルホスフィン、トリフェニル
ホスファイト、テトラフェニルヒ素、三酸化アンチモ
ン、ビスマストリエチルカルボキシレ−ト等がある。
【0030】これらの中でも、N,N−ジメチルアニリ
ンのような電子供与性アミン化合物は好ましく用いら
れ、この場合電子供与性アミン化合物は、反応系中の全
原料に対して10-1モル当量から10-5モル当量、好ま
しくは10-2モル当量から10-4モル当量の範囲で用い
られる。
ンのような電子供与性アミン化合物は好ましく用いら
れ、この場合電子供与性アミン化合物は、反応系中の全
原料に対して10-1モル当量から10-5モル当量、好ま
しくは10-2モル当量から10-4モル当量の範囲で用い
られる。
【0031】10-5モル当量未満であると触媒作用が少
なく重合速度が遅れ、10-1モル当量以上であると、生
成するポリエ−テルカ−ボネ−ト中の残存触媒濃度が上
がり、着色や物性低下の原因ともなり好ましくない。本
発明の制電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ−トの数
平均分子量においては、特に限定されないが5,000
〜500,000、好ましくは50,000〜300,
000の範囲である。
なく重合速度が遅れ、10-1モル当量以上であると、生
成するポリエ−テルカ−ボネ−ト中の残存触媒濃度が上
がり、着色や物性低下の原因ともなり好ましくない。本
発明の制電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ−トの数
平均分子量においては、特に限定されないが5,000
〜500,000、好ましくは50,000〜300,
000の範囲である。
【0032】ポリエ−テルカ−ボネ−トの数平均分子量
が5,000を下回る場合は機械的強度および耐熱性が
劣り、500,000を上回る場合は不融不溶のゲル化
合物が存在するなど好ましくない。本発明の制電性能を
有するポリエ−テルカ−ボネ−トは、任意の成形用熱可
塑性樹脂に対して、制電性能とその他物性等の用途に応
じて任意量混合できる。
が5,000を下回る場合は機械的強度および耐熱性が
劣り、500,000を上回る場合は不融不溶のゲル化
合物が存在するなど好ましくない。本発明の制電性能を
有するポリエ−テルカ−ボネ−トは、任意の成形用熱可
塑性樹脂に対して、制電性能とその他物性等の用途に応
じて任意量混合できる。
【0033】一般的には成形用熱可塑性樹脂100重量
部に対して、本発明の制電性能を有するポリエ−テルカ
−ボネ−トを1〜30重量部の範囲で混合するのが好ま
しい。 ポリエ−テルカ−ボネ−トの添加量が1重量部
を下回る場合は制電性能が満足できなく、逆に30重量
部を上回ると樹脂の機械的強度や耐熱性が低下し好まし
くない。本発明のポリエ−テルカ−ボネ−トは成形用熱
可塑性樹脂に混合して使用されるが、それらの成形用熱
可塑性樹脂は特に限定されなく、具体的には熱可塑性ポ
リエステル樹脂、ポリカ−ボネ−ト樹脂、ポリスチレン
樹脂、ポリ(スチレン−アクリロニトリルブタジエン)
系共重合体(ABS樹脂)やハイインパクトポリスチレ
ン(HIPS)樹脂等のスチレン系共重合体、アクリル
樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンエ−テル樹脂、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等に代
表されるポリオレフィン樹脂、およびその共重合体、ポ
リオキシメチレン樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹
脂、ポリグルタルイミド樹脂等、およびこれらの樹脂ブ
レンド物を挙げることができる。
部に対して、本発明の制電性能を有するポリエ−テルカ
−ボネ−トを1〜30重量部の範囲で混合するのが好ま
しい。 ポリエ−テルカ−ボネ−トの添加量が1重量部
を下回る場合は制電性能が満足できなく、逆に30重量
部を上回ると樹脂の機械的強度や耐熱性が低下し好まし
くない。本発明のポリエ−テルカ−ボネ−トは成形用熱
可塑性樹脂に混合して使用されるが、それらの成形用熱
可塑性樹脂は特に限定されなく、具体的には熱可塑性ポ
リエステル樹脂、ポリカ−ボネ−ト樹脂、ポリスチレン
樹脂、ポリ(スチレン−アクリロニトリルブタジエン)
系共重合体(ABS樹脂)やハイインパクトポリスチレ
ン(HIPS)樹脂等のスチレン系共重合体、アクリル
樹脂、ポリアミド樹脂、ポリフェニレンエ−テル樹脂、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等に代
表されるポリオレフィン樹脂、およびその共重合体、ポ
リオキシメチレン樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹
脂、ポリグルタルイミド樹脂等、およびこれらの樹脂ブ
レンド物を挙げることができる。
【0034】本発明の制電性能を有するポリエ−テルカ
−ボネ−トおよびこのポリエ−テルカ−ボネ−トを混合
した熱可塑性樹脂組成物について任意の添加剤の一種単
独または二種以上を任意量、任意の時期に混合すること
ができる。
−ボネ−トおよびこのポリエ−テルカ−ボネ−トを混合
した熱可塑性樹脂組成物について任意の添加剤の一種単
独または二種以上を任意量、任意の時期に混合すること
ができる。
【0035】具体的には、ドデシルスルホン酸ナトリウ
ム、ドデシルスルホン酸カリウム、ドデシルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸金属塩に代
表されるイオン性帯電防止剤、イオン性帯電防止剤以外
の公知の帯電防止剤、ブラックカ−ボン、金属塩、金属
粉末等の導電性物質、熱安定剤、紫外線吸収剤、酸化防
止剤、光安定剤等の安定剤、滑剤、顔料、染料、防曇
剤、可塑剤あるいはガラス繊維、チタン酸カリウィスカ
−等の繊維状強化剤、タルク、マイカ、炭酸カルシュウ
ム、クレ−、酸化チタン、ガラスフレ−ク等の粒状強化
剤等が挙げられる。 本発明の制電性能を有するポリエ
−テルカ−ボネ−トを成形用熱可塑性樹脂に混合する方
法は特に限定されるものではないが、任意の成形用熱可
塑性樹脂、ポリエ−テルカ−ボネ−トおよび必要に応じ
て公知の各種添加剤を通常用いられている方法により溶
融混練することで容易に混合できる。
ム、ドデシルスルホン酸カリウム、ドデシルベンゼンス
ルホン酸ナトリウム等のアルキルスルホン酸金属塩に代
表されるイオン性帯電防止剤、イオン性帯電防止剤以外
の公知の帯電防止剤、ブラックカ−ボン、金属塩、金属
粉末等の導電性物質、熱安定剤、紫外線吸収剤、酸化防
止剤、光安定剤等の安定剤、滑剤、顔料、染料、防曇
剤、可塑剤あるいはガラス繊維、チタン酸カリウィスカ
−等の繊維状強化剤、タルク、マイカ、炭酸カルシュウ
ム、クレ−、酸化チタン、ガラスフレ−ク等の粒状強化
剤等が挙げられる。 本発明の制電性能を有するポリエ
−テルカ−ボネ−トを成形用熱可塑性樹脂に混合する方
法は特に限定されるものではないが、任意の成形用熱可
塑性樹脂、ポリエ−テルカ−ボネ−トおよび必要に応じ
て公知の各種添加剤を通常用いられている方法により溶
融混練することで容易に混合できる。
【0036】その中でも押出機を用いて溶融混練した
後、常法に従って各種成形用部品、繊維、フィルム、シ
−ト等製造する方法が何等の支障なく採用でき好まし
い。
後、常法に従って各種成形用部品、繊維、フィルム、シ
−ト等製造する方法が何等の支障なく採用でき好まし
い。
【0037】[実施例]以下、実施例により本発明の制
電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ−トを具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、以下の各例において%および部は、それぞれ重量
%および重量部を示す。
電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ−トを具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
なお、以下の各例において%および部は、それぞれ重量
%および重量部を示す。
【0038】実施例1 [ポリエ−テルカ−ボネ−ト
(1)の製造] 温度調節器、チッ素導入管、撹拌装置を取り付けた5リ
ットルのフラスコに数平均分子量2,000のポリ(エ
チレンオキシド)グリコ−ル(三洋化成(株)製、PE
G2000)100部、安息香酸メチル15.2部およ
び水酸化カリウム0.03部を仕込み、チッ素流入下メ
タノ−ルを除去しながら200℃でポリ(エチレンオキ
シド)グリコ−ルの末端フェノ−ル化反応を2時間行っ
た。
(1)の製造] 温度調節器、チッ素導入管、撹拌装置を取り付けた5リ
ットルのフラスコに数平均分子量2,000のポリ(エ
チレンオキシド)グリコ−ル(三洋化成(株)製、PE
G2000)100部、安息香酸メチル15.2部およ
び水酸化カリウム0.03部を仕込み、チッ素流入下メ
タノ−ルを除去しながら200℃でポリ(エチレンオキ
シド)グリコ−ルの末端フェノ−ル化反応を2時間行っ
た。
【0039】2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニ
ル)−プロパン50部、ジフェニルカ−ボネ−ト60.
6部およびN,N−ジメチルアニリン0.05部を添加
し、1mmHg以下の減圧下、250℃でフェノ−ルの
流出がなくなるまで3時間反応を続け、ポリエ−テルカ
−ボネ−ト(1)を得た。
ル)−プロパン50部、ジフェニルカ−ボネ−ト60.
6部およびN,N−ジメチルアニリン0.05部を添加
し、1mmHg以下の減圧下、250℃でフェノ−ルの
流出がなくなるまで3時間反応を続け、ポリエ−テルカ
−ボネ−ト(1)を得た。
【0040】このもののゲルパ−ミエ−ションクロマト
グラフィ−による標準スチレン換算数平均分子量は6
8,000であった。
グラフィ−による標準スチレン換算数平均分子量は6
8,000であった。
【0041】実施例2 [ポリエ−テルカ−ボネ−ト
(2)の製造] 実施例1と同様な装置に、数平均分子量2,000のポ
リテトラメチレングリコ−ル(保土谷化学工業(株)
製、PTG2000)100部、ポリエチレングリコ−
ル(三洋化成(株)製、PEG400)50部、ジフェ
ニルカ−ボネ−ト39.3部およびチタニウムテトラブ
トキシド0.1部を仕込み、チッ素流入下220℃で2
時間反応させた後、1mmHg以下の減圧下、250℃
でフェノ−ルの流出がなくなるまで4時間反応を続け、
ポリエ−テルカ−ボネ−ト(2)を得た。 このものの
ゲルパ−ミエ−ションクロマトグラフィ−による標準ス
チレン換算 数平均分子量は71,000であった。
(2)の製造] 実施例1と同様な装置に、数平均分子量2,000のポ
リテトラメチレングリコ−ル(保土谷化学工業(株)
製、PTG2000)100部、ポリエチレングリコ−
ル(三洋化成(株)製、PEG400)50部、ジフェ
ニルカ−ボネ−ト39.3部およびチタニウムテトラブ
トキシド0.1部を仕込み、チッ素流入下220℃で2
時間反応させた後、1mmHg以下の減圧下、250℃
でフェノ−ルの流出がなくなるまで4時間反応を続け、
ポリエ−テルカ−ボネ−ト(2)を得た。 このものの
ゲルパ−ミエ−ションクロマトグラフィ−による標準ス
チレン換算 数平均分子量は71,000であった。
【0042】実施例3 [ポリエ−テルカ−ボネ−ト
(3)の製造] 温度調節器、滴下ロ−ト、撹拌装置を取り付けたフラス
コに溶媒としてピリジン100部にホスゲン5.05部
を溶解させ仕込み、0℃に保ったまま、滴下ロ−トから
塩化メチレン900部に溶解させた数平均分子量200
0のポリ(エチレンオキシド)グリコ−ル[三洋化成
(株)製、PEG2000]100部を2時間かけて添
加した。
(3)の製造] 温度調節器、滴下ロ−ト、撹拌装置を取り付けたフラス
コに溶媒としてピリジン100部にホスゲン5.05部
を溶解させ仕込み、0℃に保ったまま、滴下ロ−トから
塩化メチレン900部に溶解させた数平均分子量200
0のポリ(エチレンオキシド)グリコ−ル[三洋化成
(株)製、PEG2000]100部を2時間かけて添
加した。
【0043】温度を徐々に50℃まで昇温させさらに2
時間反応させ、ホスゲンが存在しないことを確認し、脱
溶媒、中和等の処理後ポリエ−テルカ−ボネ−ト(3)
を得た。このもののゲルパ−ミエ−ションクロマトグラ
フィ−による標準スチレン換算数平均分子量は74,0
00であった。
時間反応させ、ホスゲンが存在しないことを確認し、脱
溶媒、中和等の処理後ポリエ−テルカ−ボネ−ト(3)
を得た。このもののゲルパ−ミエ−ションクロマトグラ
フィ−による標準スチレン換算数平均分子量は74,0
00であった。
【0044】実施例4 [ポリエ−テルカ−ボネ−ト
(4)の製造] 実施例3と同様の装置を用い、ピリジン200部にホス
ゲン32.4部を溶解させ仕込み、滴下ロ−トから塩化
メチレン800部に溶解させた数平均分子量1000の
ポリ(エチレンオキシド)グリコ−ル[三洋化成(株)
製、PEG1000]100部およびシクロヘキサンジ
メタノ−ル30部を2時間かけて添加した。その後、実
施例3と同様の操作を行い、ポリエ−テルカ−ボネ−ト
(4)を得た。このもののゲルパ−ミエ−ションクロマ
トグラフィ−による標準スチレン換算数平均分子量は5
5,000であった。
(4)の製造] 実施例3と同様の装置を用い、ピリジン200部にホス
ゲン32.4部を溶解させ仕込み、滴下ロ−トから塩化
メチレン800部に溶解させた数平均分子量1000の
ポリ(エチレンオキシド)グリコ−ル[三洋化成(株)
製、PEG1000]100部およびシクロヘキサンジ
メタノ−ル30部を2時間かけて添加した。その後、実
施例3と同様の操作を行い、ポリエ−テルカ−ボネ−ト
(4)を得た。このもののゲルパ−ミエ−ションクロマ
トグラフィ−による標準スチレン換算数平均分子量は5
5,000であった。
【0045】実施例5 [ポリエ−テルカ−ボネ−ト
(5)の製造] 実施例3と同様の装置を用い、ピリジン200部にホス
ゲン28.58部を溶解させ仕込み、滴下ロ−トから塩
化メチレン800部に溶解させた、実施例1に記載され
ている末端フェノ−ル化反応を行った数平均分子量20
00のポリエチレンオキサイド100部、2,2−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン40部および
ジヒドロキシジフェニルエ−テル10部を2時間かけて
添加した。その後、実施例3と同様の操作を行い、ポリ
エ−テルカ−ボネ−ト(5)を得た。 このもののゲル
パ−ミエ−ションクロマトグラフィ−による標準スチレ
ン換算数平均分子量は114,000であった。実施例
1〜5で得られたポリエ−テルカ−ボネ−ト(1)〜
(5)の制電性能を評価するために、以下に示す成形用
熱可塑性樹脂を実施例6〜15、比較例1〜4に使用し
た。
(5)の製造] 実施例3と同様の装置を用い、ピリジン200部にホス
ゲン28.58部を溶解させ仕込み、滴下ロ−トから塩
化メチレン800部に溶解させた、実施例1に記載され
ている末端フェノ−ル化反応を行った数平均分子量20
00のポリエチレンオキサイド100部、2,2−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン40部および
ジヒドロキシジフェニルエ−テル10部を2時間かけて
添加した。その後、実施例3と同様の操作を行い、ポリ
エ−テルカ−ボネ−ト(5)を得た。 このもののゲル
パ−ミエ−ションクロマトグラフィ−による標準スチレ
ン換算数平均分子量は114,000であった。実施例
1〜5で得られたポリエ−テルカ−ボネ−ト(1)〜
(5)の制電性能を評価するために、以下に示す成形用
熱可塑性樹脂を実施例6〜15、比較例1〜4に使用し
た。
【0046】ABS樹脂[ダイセル化学工業(株)製、
セビアンV300、(以下ABS−Vと記す)ポリカ−
ボネ−ト[三菱瓦斯化学(株)製、ユ−ピロンS−30
00、以下PCと記す] 実施例6〜13 実施例1〜5で得られたポリエ−テルカ−ボネ−ト
(1)〜(5)、ABS−VおよびPCを表1に記載し
た割合に各々秤量し、公知の酸化防止剤と滑剤を各々同
量加え、ポリエチレン袋に入れV型ブレンダ−を用い2
0分間ドライブレンドした。ブレンド後の樹脂混合物を
大阪精機(株)製40mmφ単軸押出機を用い260℃
で混練押出した。
セビアンV300、(以下ABS−Vと記す)ポリカ−
ボネ−ト[三菱瓦斯化学(株)製、ユ−ピロンS−30
00、以下PCと記す] 実施例6〜13 実施例1〜5で得られたポリエ−テルカ−ボネ−ト
(1)〜(5)、ABS−VおよびPCを表1に記載し
た割合に各々秤量し、公知の酸化防止剤と滑剤を各々同
量加え、ポリエチレン袋に入れV型ブレンダ−を用い2
0分間ドライブレンドした。ブレンド後の樹脂混合物を
大阪精機(株)製40mmφ単軸押出機を用い260℃
で混練押出した。
【0047】押出時は特にベントアップもサ−ジングも
観察されなかった。押出ストランドは水槽で冷却されペ
レット化された。このペレットは熱風乾燥機中90℃で
4時間乾燥された後、日精樹脂工業(株)製射出成形機
TS−100型物性測定用試験片、引張試験用・AST
Mダンベン(2号)、曲げ試験とアイゾット衝撃試験用
1/4”バ−および表面固有抵抗試験用カラ−プレ−ト
に成形された。
観察されなかった。押出ストランドは水槽で冷却されペ
レット化された。このペレットは熱風乾燥機中90℃で
4時間乾燥された後、日精樹脂工業(株)製射出成形機
TS−100型物性測定用試験片、引張試験用・AST
Mダンベン(2号)、曲げ試験とアイゾット衝撃試験用
1/4”バ−および表面固有抵抗試験用カラ−プレ−ト
に成形された。
【0048】これら成形試験片のうちASTMダンベル
と1/4”バ−は23℃×60%RH空調室に一昼夜放
置した後、物性を評価した。また、カラ−プレ−トにつ
いては、成形1時間後に表面固有抵抗を測定し、次い
で、表面を水で洗い、水分をふきとった後1ヵ月空調室
に放置して再び表面固有抵抗を測定した。
と1/4”バ−は23℃×60%RH空調室に一昼夜放
置した後、物性を評価した。また、カラ−プレ−トにつ
いては、成形1時間後に表面固有抵抗を測定し、次い
で、表面を水で洗い、水分をふきとった後1ヵ月空調室
に放置して再び表面固有抵抗を測定した。
【0049】こうして測定された物性と表面固有抵抗の
結果および成形試験片の表面外観を表1に併せて記載し
た。これらの制電性樹脂組成物は、水洗後もほとんど表
面固有抵抗値に変化なく、優れた永久制電性を有してお
り、また機械的強度は高く、成形品の外観、押出作業性
も申し分なかった。
結果および成形試験片の表面外観を表1に併せて記載し
た。これらの制電性樹脂組成物は、水洗後もほとんど表
面固有抵抗値に変化なく、優れた永久制電性を有してお
り、また機械的強度は高く、成形品の外観、押出作業性
も申し分なかった。
【0050】実施例14、15 実施例1および2の樹脂組成物100部に対して、2.
5部のドデシルスルホン酸ナトリウムを添加し、実施例
6〜13に示した方法と同様な方法で、秤量、ドライブ
レンド、混練押出、成形、物性測定を行った。こうして
測定された結果を表1に併せて記載した。
5部のドデシルスルホン酸ナトリウムを添加し、実施例
6〜13に示した方法と同様な方法で、秤量、ドライブ
レンド、混練押出、成形、物性測定を行った。こうして
測定された結果を表1に併せて記載した。
【0051】ドデシルスルホン酸ナトリウムを添加する
と、さらに良好な制電性を示し、水洗後の表面固有抵抗
値も大幅には変化しなかった。
と、さらに良好な制電性を示し、水洗後の表面固有抵抗
値も大幅には変化しなかった。
【0052】比較例1〜4 比較のために、ABS−V、PCおよびそれぞれの樹脂
100部に対して、ドデシルスルホン酸ナトリウム2.
5部を添加したものを、実施例6〜13に示した方法と
同様な方法で、秤量、ドライブレンド、混練押出、成
形、物性測定を行った。こうして測定された結果を表1
に併せて記載した。
100部に対して、ドデシルスルホン酸ナトリウム2.
5部を添加したものを、実施例6〜13に示した方法と
同様な方法で、秤量、ドライブレンド、混練押出、成
形、物性測定を行った。こうして測定された結果を表1
に併せて記載した。
【0053】ドデシルスルホン酸ナトリウムを添加した
ABS−V、PBTはともに成形1時間後の表面固有抵
抗値は良好な値を示すが、水洗後のそれは、ほとんど元
の樹脂と同じ値であり、また成形片表面に若干のベタつ
きがある等問題があった。
ABS−V、PBTはともに成形1時間後の表面固有抵
抗値は良好な値を示すが、水洗後のそれは、ほとんど元
の樹脂と同じ値であり、また成形片表面に若干のベタつ
きがある等問題があった。
【0054】なお、表−1〜表−3において、( )内
の数値はドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを2.5
部添加したものである。
の数値はドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウムを2.5
部添加したものである。
【0055】 表−1 実施例 6 7 8 9 10 ポリエ−テル (1) 10 カ−ボネ−ト (2) 10 (部) (3) 5 10 20 熱可塑性樹脂 ABS-V 90 90 95 90 80 (部) 引張強度(Kg/cm2) 380 350 360 330 300 引張伸度(%) >200 >200 >200 >200 >200 曲げ弾性率(Kg/cm2) 16000 15000 15000 14000 12000 アイゾッド衝撃試験 26 31 42 40 49 (Kg ・cm/cm) 成形1時間後 4×1011 9×1011 3×1012 1×1011 3×1010 の表面固有抵抗 (Ω) 水洗後の表面固有抵抗 6×1011 3×1012 5×1012 1×1011 4×1010 (Ω) 表面外観 ○ ○ ○ ○ ○ (以下余白) 表−2 実施例 11 12 13 14 15 ポリエ−テル (1) 10 カ−ボネ−ト (2) (3) (4) 10 (部) (5) 10 熱可塑性樹脂 PC 90 90 90 (90) (90) (部) 引張強度(Kg/cm2) 570 530 540 360 340 引張伸度(%) 110 150 120 >200 >200 曲げ弾性率(Kg/cm2) 20000 16000 18000 15000 14000 アイゾッド衝撃試験 12 21 13 22 29 (Kg ・cm/cm) 成形1時間後 8×1011 2×1011 7×1011 5×1010 8×1010 の表面固有抵抗 (Ω) 水洗後の表面固有抵抗 9×1011 3×1011 2×1012 2×1011 6×1011 (Ω) 表面外観 ○ ○ ○ ○ ○ (以下余白) 表−3 比較例 1 2 3 4 熱可塑性樹脂 ABS-V 100 (100) (部) PC 100 (100) 引張強度(Kg/cm2) 370 600 360 580 引張伸度(%) >200 150 >200 130 曲げ弾性率(Kg/cm2) 17000 22000 15000 21000 アイゾッド衝撃試験 45 10 36 10 (Kg ・cm/cm) 成形1時間後 無限大 無限大 5×1011 4×1011 の表面固有抵抗 (Ω) 水洗後の表面固有抵抗 無限大 無限大 6×1015 7×1015 (Ω) 表面外観 ○ ○ △ △ (以下余白)
【0056】
【発明の効果】本発明の制電性能を有するポリエ−テル
カ−ボネ−トは任意の熱可塑性樹脂に対して、適当量混
合することにより、それらの熱可塑性樹脂の機械的強度
等の物性を損なうことなく、水洗によってもその制電性
能が変化しない。このように、優れた永久制電性と光
沢、機械的強度を有した制電性熱可塑性樹脂組成物は種
々の成形部品、繊維、フィルム、シ−ト等を供する。
(以下余白)
カ−ボネ−トは任意の熱可塑性樹脂に対して、適当量混
合することにより、それらの熱可塑性樹脂の機械的強度
等の物性を損なうことなく、水洗によってもその制電性
能が変化しない。このように、優れた永久制電性と光
沢、機械的強度を有した制電性熱可塑性樹脂組成物は種
々の成形部品、繊維、フィルム、シ−ト等を供する。
(以下余白)
Claims (1)
- 【請求項1】(a)末端基がアルコ−ル性またはフェノ
−ル性水酸基である数平均分子量200〜20,000
のポリアルキレンオキシド、(b)炭素原子数2〜30
のグリコ−ルおよび/または二価フェノ−ルを重量比で
(b)/(a)=0/100〜90/10となるように
調整し、次いで(c)カ−ボネ−ト前駆物質と縮合して
得られることを特徴とする制電性能を有するポリエ−テ
ルカ−ボネ−ト。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15232292A JPH05339359A (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | 制電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ−ト |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15232292A JPH05339359A (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | 制電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ−ト |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05339359A true JPH05339359A (ja) | 1993-12-21 |
Family
ID=15538000
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15232292A Pending JPH05339359A (ja) | 1992-06-11 | 1992-06-11 | 制電性能を有するポリエ−テルカ−ボネ−ト |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05339359A (ja) |
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---|---|---|---|---|
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-
1992
- 1992-06-11 JP JP15232292A patent/JPH05339359A/ja active Pending
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