JPH05267849A - Manufacture of ceramic multilayer circuit board - Google Patents
Manufacture of ceramic multilayer circuit boardInfo
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 セラミックス多層回路基板に関し、焼成した
セラミックス多層回路基板におけるスルーホール充填の
高融点金属導電層への銅含浸を十分に行うことのできる
該回路基板の製造方法を提供する。
【構成】 スルーホールを多孔質の高融点金属導電層1
2で充填したセラミックス多層回路基板11を焼成して
制作し、銅含浸のために、銅とは濡れ性の悪いセラミッ
クスの外容器1、内容器2および荷重板3からなる銅含
浸用治具を用意し、該外容器の底にはスルーホール対応
位置に空気孔4が設けられ、該内容器は外容器内をスラ
イド可能であり、底にスルーホール対応位置に貫通孔5
が設けられかつ溶融する銅板6およびその上の荷重板3
を収容しており、そして、セラミックス多層回路基板1
1を外容器1と内容器2との間に配置して、銅融点以上
に加熱して銅板6を溶融し、荷重板3によって溶融した
銅を多孔質の高融点金属導電層12に浸透させるように
構成する。
(57) [Abstract] [PROBLEMS] To provide a method for manufacturing a ceramic multilayer circuit board, which is capable of sufficiently impregnating a through-hole-filled refractory metal conductive layer with copper in a fired ceramic multilayer circuit board. To do. [Structure] Through-hole is made of a porous refractory metal conductive layer 1
The ceramic multi-layer circuit board 11 filled with 2 is fired to produce a jig for copper impregnation, which is composed of an outer container 1, an inner container 2 and a load plate 3 made of ceramics having poor wettability with copper for copper impregnation. An air hole 4 is provided at a position corresponding to a through hole on the bottom of the outer container, the inner container is slidable in the outer container, and a through hole 5 is provided at a position corresponding to the through hole on the bottom.
Copper plate 6 provided with and melting and load plate 3 thereon
And a ceramic multilayer circuit board 1
1 is arranged between the outer container 1 and the inner container 2 and heated to a temperature equal to or higher than the copper melting point to melt the copper plate 6, and the copper melted by the load plate 3 is permeated into the porous refractory metal conductive layer 12. To configure.
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、セラミックス多層回路
基板、より詳しくは、該基板のスルーホールを充填して
いる多孔質高融点金属に銅を含浸させる方法の改善に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a ceramic multilayer circuit board, and more particularly to an improvement in a method of impregnating a porous refractory metal filling a through hole of the board with copper.
【0002】[0002]
【従来の技術】セラミックス多層回路基板はその焼成温
度がアルミナ(Al2O3 )であれば1500〜1600℃
であり、窒化アルミニウム(AlN )であれば1800℃
と高温であるので、スルーホールを充填する金属は同時
焼成可能性および熱膨張係数の調和を考慮して、高融点
金属のタングステン(W)やモリブデン(Mo)が使用
されている。しかしながら、タングステンやモリブデン
は抵抗が高いという欠点がある。 2. Description of the Related Art A ceramic multilayer circuit board is 1500 to 1600 ° C. if its firing temperature is alumina (Al 2 O 3 ).
And 1800 ° C for aluminum nitride (AlN).
Since the temperature is high, the metal filling the through hole is tungsten (W) or molybdenum (Mo), which are refractory metals, in consideration of co-firing possibility and harmony of thermal expansion coefficient. However, tungsten and molybdenum have the drawback of high resistance.
【0003】この欠点を直すために提案された方法は、
タングステンなどの導体が焼成したときに多孔質となる
ようにし、そこに銅などを含浸させて低抵抗化する方法
である。この場合には、スルーホール充填および配線層
形成の導体ペースト(タングステンペースト)の組成
で、タングステン粉末、バインダーのエチルセルロー
ス、溶剤のテレピネオールおよび収縮率調整用のセラミ
ックス粉末(AlN 粉)に多孔性付与剤のテレフタル酸が
添加されている。これらの混合物である導体ペーストに
おいて、テレフタル酸は溶剤に溶けずかつ焼成の際に焼
失するものである。Proposed methods to remedy this drawback are:
In this method, a conductor such as tungsten is made porous when fired and impregnated with copper or the like to reduce the resistance. In this case, the composition of the conductor paste (tungsten paste) for filling the through holes and forming the wiring layer is tungsten powder, ethyl cellulose as a binder, terpineol as a solvent, and ceramic powder (AlN powder) for adjusting the shrinkage ratio as a porosity imparting agent. Terephthalic acid is added. In the conductor paste, which is a mixture of these, terephthalic acid is insoluble in the solvent and burns out during firing.
【0004】このような導体ペーストでもってグリーン
シートのスルーホールを充填し、配線層に印刷し、グリ
ーンシートを積層して焼成すると、導体ペースト中の混
ざり合っていたテレフタレ酸が揮発して、そこが気孔と
なり、焼成した導電層(タングステン層)は多孔質にな
っている。この多孔質導電層の気孔に銅を含浸させるに
は、焼成したセラミックス多層回路基板の上に、銅ペレ
ットを載せ、還元性雰囲気にて、銅融点より高い温度に
加熱し、銅を溶融し、導電層に溶浸させる。導電層に低
抵抗の銅が含まれるので、電気抵抗を低くすることがで
きる。When the through holes of the green sheet are filled with such a conductor paste, printed on the wiring layer, and the green sheets are laminated and fired, the mixed terephthaleic acid in the conductor paste is volatilized and there Become pores, and the fired conductive layer (tungsten layer) is porous. In order to impregnate the pores of this porous conductive layer with copper, on the fired ceramics multilayer circuit board, copper pellets are placed, in a reducing atmosphere, heated to a temperature higher than the copper melting point to melt copper, Infiltrate the conductive layer. Since the conductive layer contains low resistance copper, the electric resistance can be lowered.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上述したように銅を溶
浸させるわけであるが、銅とセラミックス(特に、Al
N)とは濡れ性が悪いので、セラミックスが銅をはじい
てしまい、銅が十分にスルーホールの金属導電層に含浸
していかないことがある。そうなると、抵抗率を十分に
下げることはできない。As described above, copper is infiltrated, but copper and ceramics (especially Al
Since N) has poor wettability, ceramics may repel copper and copper may not sufficiently impregnate the metal conductive layer of the through hole. If this happens, the resistivity cannot be lowered sufficiently.
【0006】本発明の目的は、焼成したセラミックス多
層回路基板におけるスルーホール充填の高融点金属導電
層への銅含浸を十分に行うことのできる該回路基板の製
造方法を提供することである。An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a fired ceramic multilayer circuit board, which is capable of sufficiently impregnating a through-hole-filled refractory metal conductive layer with copper.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上述の目的が、スルーホ
ールを多孔質の高融点金属導電層で充填したセラミック
ス多層回路基板を焼成して制作し、該高融点金属導電層
に溶融した銅を含浸させることからなるセラミックス多
層回路基板の製造方法において、銅含浸のために、銅と
は濡れ性の悪いセラミックスの外容器、内容器および荷
重板からなる銅含浸用治具を用意し、該外容器の底には
スルーホール対応位置に空気孔が設けられ、該内容器は
前記外容器内をスライド可能であり、底にスルーホール
対応位置に貫通孔が設けられかつ溶融する銅板およびそ
の上の前記荷重板を収容しており、そして、前記セラミ
ックス多層回路基板を前記外容器と内容器との間に配置
して、銅融点以上に加熱して前記銅板を溶融し、前記荷
重板によって溶融した銅を前記多孔質の高融点金属導電
層に浸透させることを特徴とするセラミックス多層回路
基板の製造方法によって達成される。The above-mentioned object is to produce a ceramic multilayer circuit board in which through holes are filled with a porous refractory metal conductive layer by firing, and to produce molten copper in the refractory metal conductive layer. In a method of manufacturing a ceramics multilayer circuit board comprising impregnation, a copper impregnation jig is prepared which comprises an outer container, an inner container and a load plate of ceramics having poor wettability with copper for copper impregnation. An air hole is provided at a position corresponding to a through hole on the bottom of the container, the inner container is slidable in the outer container, a through hole is provided at a position corresponding to the through hole on the bottom, and a melting copper plate and the above The load plate is housed, and the ceramic multilayer circuit board is arranged between the outer container and the inner container, and is heated to a temperature equal to or higher than the copper melting point to melt the copper plate, and the load plate melts And the copper is accomplished by the method of manufacturing a ceramic multilayer circuit board, wherein the infiltrating refractory metal conductive layer of the porous.
【0008】さらに、銅含浸用治具の形態を変えても良
く、その場合には、銅とは濡れ性の悪いセラミックスの
外容器、内容器および荷重板からなる銅含浸用治具を用
意し、該外容器は底を有し、該内容器は前記外容器内を
スライド可能であり、底にスルーホール対応位置に貫通
孔が設けられかつ溶融する銅板およびその上の前記荷重
板を収容しており、該荷重板にはスルーホール対応位置
に空気孔が設けられ、そして、前記銅板を前記外容器と
内容器との間に配置し、前記セラミックス多層回路基板
を前記内容器と前記荷重板との間に配置して、銅融点以
上に加熱して前記銅板を溶融し、前記荷重板によって溶
融した銅を前記内容器の貫通孔を通して前記多孔質の高
融点金属導電層に浸透させることを特徴とするセラミッ
クス多層回路基板の製造方法によっても上述の目的が達
成される。Further, the form of the copper impregnating jig may be changed. In that case, a copper impregnating jig consisting of an outer container, an inner container and a load plate made of a ceramic having poor wettability with copper is prepared. , The outer container has a bottom, the inner container is slidable in the outer container, and a through hole is provided at a position corresponding to a through hole in the bottom and accommodates a melting copper plate and the load plate thereon. The load plate is provided with an air hole at a position corresponding to a through hole, the copper plate is disposed between the outer container and the inner container, and the ceramic multilayer circuit board is provided with the inner container and the load plate. Placed between and to melt the copper plate by heating above the copper melting point, and permeating the copper melted by the load plate into the porous refractory metal conductive layer through the through holes of the inner container. Characteristic ceramic multilayer circuit board The foregoing objects are achieved by the production method.
【0009】高融点金属はタングステンまはたモリブデ
ンであることが好ましい。The refractory metal is preferably tungsten or molybdenum.
【0010】[0010]
【作用】本発明によると、加熱して銅板を溶融し、その
時に、周囲の外容器および内容器は濡れ性の悪い材料な
ので銅をはじき、かつ荷重板からの圧力が液状の銅の全
体に加わる。この加圧された溶融銅が、(1)内容器の
底の貫通孔から下方へ押し出されて、あるいは(2)内
容器の底の貫通孔から上方へ押し出されて、多孔質のス
ルーホール充填金属導電層に達し、毛細管現象的に浸み
込み全体に溶浸する。According to the present invention, the copper plate is melted by heating, and at that time, the surrounding outer container and inner container are materials having poor wettability, so that the copper is repelled, and the pressure from the load plate causes the entire liquid copper to melt. Join. The pressurized molten copper is (1) extruded downward from the through hole at the bottom of the inner container, or (2) extruded upward from the through hole at the bottom of the inner container to fill the porous through hole. It reaches the metal conductive layer and infiltrates like a capillary phenomenon and infiltrates the whole.
【0011】[0011]
【実施例】以下、添付図面を参照して、本発明の実施態
様例および比較例によって本発明を詳細に説明する。先
ず、セラミックス多層回路基板を次のようにして制作す
る。窒化アルミニウム粉末と、バインダーと、溶剤と、
分散剤とを混合して、泥漿とし、ドクタープレード法に
よってグリーンシートにする。このグリーンシートに打
ち抜きでスルーホールを形成し、表1の組成を有するタ
ングステンペースト(導体ペースト)試料1〜11のそ
れぞれを印刷でスルーホールを充填しかつ配線層を形成
する。なお、タングステンペーストは、タングステン粉
末(粒径:2μm)、エチルセルロース、テレピネオー
ル、セラミックス粉末(AlN 粉)およびテレフタル酸の
混合物である。ぺースト試料1はテレフタル酸を含まな
いものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings by way of embodiments and comparative examples of the present invention. First, a ceramic multilayer circuit board is manufactured as follows. Aluminum nitride powder, binder, solvent,
Mix with a dispersant to make sludge and make a green sheet by the doctor blade method. A through hole is formed in this green sheet by punching, and each of the tungsten paste (conductor paste) samples 1 to 11 having the composition shown in Table 1 is printed to fill the through hole and form a wiring layer. The tungsten paste is a mixture of tungsten powder (particle size: 2 μm), ethyl cellulose, terpineol, ceramic powder (AlN powder) and terephthalic acid. Paste sample 1 does not contain terephthalic acid.
【0012】[0012]
【表1】 [Table 1]
【0013】この導体ペースト印刷のグリーンシートを
8枚圧着積層し、外形切断し、バインダー抜き(脱脂)
を窒素(N2)雰囲気中で500℃、4時間にて行い、続
いて、焼成を窒素(N2)雰囲気中にて1800℃、12
時間で行う。焼成後のスルーホール充填のタングステン
層は、テレフタレン酸の焼失による気泡で多孔質になっ
ている。テレフタル酸を含まないぺースト試料1の場合
には、焼成によって多孔質とはならず、緻密なタングス
テン層となる。Eight green sheets of this conductor paste printing are laminated under pressure, the outer shape is cut, and the binder is removed (degreasing).
Nitrogen (N 2) atmosphere 500 ° C. in carried out at 4 hours, followed by, 1800 ° C. The firing in a nitrogen (N 2) atmosphere, 12
Do in time. The through-hole filled tungsten layer after firing is made porous by bubbles due to burning of terephthalic acid. In the case of the paste sample 1 containing no terephthalic acid, it does not become porous by firing, but becomes a dense tungsten layer.
【0014】実施例 図1〜図3に示すような、銅とは濡れ性の悪いセラミッ
クス(AlN )の外容器1、内容器2および荷重板3から
なる銅含浸用治具を用意する。外容器1の底にはスルー
ホール対応位置に(セラミックス多層回路基板11のタ
ングステン層12の下方に)空気孔4が、例えば、16
個設けられている(但し、図3では6個としてある)。
内容器2は外容器1内をスライド可能に作られており、
その底にスルーホール対応位置に(タングステン層12
の上方に)貫通孔5が設けられている。これら空気孔4
および貫通孔5の直径はスルーホールの直径よりも少し
大きい。荷重板3は内容器2の内側サイズとほぼ同じサ
イズのAlN 板であり(図2)、内容器2との間で銅板6
を挟むようになっている。EXAMPLE As shown in FIGS. 1 to 3, a copper impregnating jig comprising an outer container 1, an inner container 2 and a load plate 3 made of ceramics (AlN) having poor wettability with copper is prepared. Air holes 4 are formed in the bottom of the outer container 1 at positions corresponding to the through holes (below the tungsten layer 12 of the ceramic multilayer circuit board 11), for example, 16
The number is provided (however, the number is six in FIG. 3).
The inner container 2 is made slidable inside the outer container 1,
At the position corresponding to the through hole on the bottom (tungsten layer 12
A through hole 5 is provided). These air holes 4
The diameter of the through hole 5 is slightly larger than the diameter of the through hole. The load plate 3 is an AlN plate of approximately the same size as the inner size of the inner container 2 (Fig. 2), and a copper plate 6 is provided between the load plate 3 and the inner container 2.
It is designed to sandwich.
【0015】この銅含浸用治具を利用して、図1に示す
ように、制作したセラミックス多層回路基板11を外容
器と内容器との間に配置し、銅板6を内容器2と荷重板
3との間に配置し、水素(H2)還元雰囲気中にて、全体
を銅融点以上に加熱して銅板6を溶融する。1230
℃、30分の加熱中に、荷重板3に圧力(0.5〜1.0g/
cm2 )を加えて溶融した銅を多孔質のタングステン層1
2に浸透させる。冷却してから、セラミックス多層回路
基板11を銅含浸用治具から外し、得られた基板11の
両面を表面研磨して仕上げる。Using this copper impregnating jig, as shown in FIG. 1, the produced ceramic multilayer circuit board 11 is arranged between the outer container and the inner container, and the copper plate 6 is arranged between the inner container 2 and the load plate. 3, and the whole is heated above the melting point of copper in a hydrogen (H 2 ) reducing atmosphere to melt the copper plate 6. 1230
During heating for 30 minutes at ℃, pressure (0.5-1.0 g /
cm 2 ). Added molten copper to a porous tungsten layer 1
Infiltrate 2. After cooling, the ceramic multilayer circuit board 11 is removed from the copper impregnation jig, and both surfaces of the obtained board 11 are surface-polished to finish.
【0016】セラミックス多層回路基板11のスルーホ
ール充填タングステン層12の抵抗を、タングステンペ
ースト試料2〜11(表1)のそれぞれについて、銅含
浸の前に、そして含浸後に、測定して表2に示す結果が
得られた。なお、抵抗値は19個のタングステン層のう
ちで最も良い値を採用した。ペースト試料1では銅含浸
処理を行わずに、焼成して製造した基板のタングステン
層12の抵抗を測定した。図1および図3では、スルー
ホール充填タングステン層12の数を9個として、空気
孔4も9個として示してある。The resistance of the through-hole filled tungsten layer 12 of the ceramic multilayer circuit board 11 was measured for each of the tungsten paste samples 2-11 (Table 1) before copper impregnation and after impregnation and is shown in Table 2. Results were obtained. The resistance value was the best value among the 19 tungsten layers. In the paste sample 1, the resistance of the tungsten layer 12 of the substrate manufactured by firing was measured without performing the copper impregnation treatment. 1 and 3, the number of the through-hole filling tungsten layers 12 is nine and the number of the air holes 4 is nine.
【0017】[0017]
【表2】 [Table 2]
【0018】比較例 上述したセラミック多層回路基板11のスルーホール充
填タングステン層12(表1での試料2〜11)に銅を
従来のやり方にしたがって、図4に示すように、タング
ステン層12の上に銅ペレット13を載せた状態で、還
元性雰囲気中にて銅融点以上に加熱して銅含浸を行っ
た。タングステン層12の抵抗を、銅含浸の前に、そし
て含浸後に、測定して表3に示す結果が得られた。な
お、抵抗値は16個のタングステン層のうちで最も良い
値を採用した。ペースト試料1については上述した場合
の値である。Comparative Example Copper was applied to the through-hole-filled tungsten layer 12 (Samples 2 to 11 in Table 1) of the above-mentioned ceramic multilayer circuit board 11 according to a conventional method, as shown in FIG. With the copper pellets 13 placed on, the copper impregnation was performed by heating the copper pellets 13 to a temperature not lower than the melting point of the copper in a reducing atmosphere. The resistance of the tungsten layer 12 was measured before and after copper impregnation and the results shown in Table 3 were obtained. The resistance value was the best value among the 16 tungsten layers. The values for the paste sample 1 are as described above.
【0019】[0019]
【表3】 [Table 3]
【0020】これらの表から分かるように、スルーホー
ル充填タングステン層が多孔質になれば緻密な場合(試
料1)よりも抵抗値は大きくなり、銅含浸を行うことで
抵抗値を低くすることができる。それでも、比較例(従
来例)の場合には多孔質にしない試料1でのタングステ
ン層の抵抗値よりも下がったのは、試料10だけであ
り、含浸の状態は良くないといえる。なお、試料10の
抵抗値は非常に低く、特別な要因があってのことと推定
される。一方、本発明の場合には、銅含浸用治具によっ
て、殆どのペーストからのタングステン層において含浸
状態が改善され、試料6および7を除き、抵抗値は試料
1よりも低くなる。抵抗値の低減程度は本発明のほうが
比較例よりも大幅である。As can be seen from these tables, if the through-hole filled tungsten layer becomes porous, the resistance value becomes larger than that when it is dense (Sample 1), and the resistance value can be lowered by impregnating copper. it can. Even so, in the case of the comparative example (conventional example), only the sample 10 was lower than the resistance value of the tungsten layer in the sample 1 which was not made porous, and it can be said that the impregnation state is not good. The resistance value of the sample 10 is extremely low, and it is presumed that there is a special factor. On the other hand, in the case of the present invention, the copper impregnation jig improves the impregnation state in the tungsten layer from most of the paste, and the resistance value becomes lower than that of sample 1 except for samples 6 and 7. The degree of reduction in the resistance value is greater in the present invention than in the comparative example.
【0021】さらに、本発明の別の実施態様例を図5お
よび図6に示す。銅含浸用治具としては、上述の実施例
と同様に、銅とは濡れ性の悪いセラミックス(AlN )の
外容器21、内容器2および荷重板23からなるが、外
容器21の底には空気孔はなく、荷重板23には空気孔
24、例えば、16個設けられている(但し、図6では
9個)。内容器2は上述の実施例と同じで、外容器21
内をスライド可能に作られており、その底にスルーホー
ル対応位置に(タングステン層12の上方に)貫通孔5
が設けられている。これら空気孔24および貫通孔5の
直径はスルーホールの直径よりも少し大きい。荷重板2
3は内容器2の内側サイズとほぼ同じサイズのAlN 板で
あり(図6)、セラミックス多層回路基板11の上に直
接に載せてある。Further, another embodiment of the present invention is shown in FIGS. 5 and 6. As the copper impregnating jig, similar to the above-described embodiment, the outer container 21, the inner container 2 and the load plate 23 made of ceramic (AlN) having poor wettability with copper are used. There are no air holes, and the load plate 23 is provided with, for example, 16 air holes 24 (however, 9 in FIG. 6). The inner container 2 is the same as the above-mentioned embodiment, and the outer container 21
The inside is slidable, and the through hole 5 is provided at the bottom of the through hole 5 at the position corresponding to the through hole (above the tungsten layer 12).
Is provided. The diameters of the air holes 24 and the through holes 5 are slightly larger than the diameter of the through holes. Load plate 2
Reference numeral 3 is an AlN plate having substantially the same size as the inner size of the inner container 2 (FIG. 6), and is directly mounted on the ceramic multilayer circuit board 11.
【0022】この銅含浸用治具を利用して、図5に示す
ように、銅板6を外容器と内容器との間に配置し、制作
したセラミックス多層回路基板11を内容器2の上に、
その上に荷重板3を配置し、水素(H2)還元雰囲気中に
て、全体を銅融点以上に加熱して銅板6を溶融する。1
230℃、30分の加熱中に、荷重板3に圧力(0.5〜
1.0g/cm2 )を加えて溶融した銅を内容器2の貫通孔5
を通して多孔質のタングステン層12に浸透させる。冷
却してから、セラミックス多層回路基板11を銅含浸用
治具から外し、得られた基板11の両面を表面研磨して
仕上げる。Using this copper impregnating jig, as shown in FIG. 5, a copper plate 6 is arranged between an outer container and an inner container, and the produced ceramic multilayer circuit board 11 is placed on the inner container 2. ,
The load plate 3 is placed thereon, and the whole is heated above the copper melting point in a hydrogen (H 2 ) reducing atmosphere to melt the copper plate 6. 1
During heating at 230 ° C. for 30 minutes, pressure (0.5 to 0.5) is applied to the load plate 3.
1.0 g / cm 2 ) was added and molten copper was passed through the through hole 5 of the inner container 2.
To penetrate into the porous tungsten layer 12. After cooling, the ceramic multilayer circuit board 11 is removed from the copper impregnating jig, and both surfaces of the obtained board 11 are surface-polished to finish.
【0023】このようにして製造した多層回路基板のタ
ングステン層12はその抵抗値が実施例とほぼ同じであ
った。The resistance value of the tungsten layer 12 of the multilayer circuit board manufactured in this manner was almost the same as that of the embodiment.
【0024】[0024]
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る製造
方法により、多孔質のスルーホール充填タングステン層
(高融点金属層)に銅を従来よりも十分に含浸させるこ
とができて、抵抗値を下げる。さらに、従来方法では、
溶浸熱処理時に振動により載せた銅ペレットがスルーホ
ール位置よりずれたり、溶融した銅がセラミックスには
じかれてスルーホールからずれて、十分に多孔質タング
ステン層に浸透しないスルーホールがあったが、本発明
ではそのようなことはなく、全てのスルーホール充填タ
ングステン層での銅含浸状態は良好である。As described above, according to the manufacturing method of the present invention, the porous through-hole filling tungsten layer (refractory metal layer) can be sufficiently impregnated with copper, and the resistance value can be increased. Lower. Furthermore, in the conventional method,
There was a through hole that copper pellets placed due to vibration during the infiltration heat treatment shifted from the through hole position, or molten copper was repelled by ceramics and shifted from the through hole, and did not penetrate sufficiently into the porous tungsten layer. In the invention, this is not the case, and all the through-hole filled tungsten layers have good copper impregnation.
【図1】本発明に係る第1実施態様での銅含浸用治具お
よびセラミックス多層回路基板の概略断面図である。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a copper impregnating jig and a ceramic multilayer circuit board according to a first embodiment of the present invention.
【図2】図1の銅含浸用治具の上面図である。FIG. 2 is a top view of the copper impregnating jig of FIG.
【図3】図1の銅含浸用治具の底面図である。3 is a bottom view of the copper impregnating jig of FIG. 1. FIG.
【図4】従来の銅含浸を説明するセラミックス多層回路
基板の概略断面図である。FIG. 4 is a schematic sectional view of a ceramic multilayer circuit board for explaining conventional copper impregnation.
【図5】本発明に係る第2実施態様での銅含浸用治具お
よびセラミックス多層回路基板の概略断面図である。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view of a copper impregnating jig and a ceramic multilayer circuit board according to a second embodiment of the present invention.
【図6】図5の銅含浸用治具の上面図である。FIG. 6 is a top view of the copper impregnating jig of FIG.
1…外容器 2…内容器 3…荷重板 4…空気孔 5…貫通孔 6…銅板 11…セラミックス多層回路基板 12…スルーホール充填のタングステン層 13…銅ペレット 21…外容器 23…荷重板 24…貫通孔 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Outer container 2 ... Inner container 3 ... Load plate 4 ... Air hole 5 ... Through hole 6 ... Copper plate 11 ... Ceramic multilayer circuit board 12 ... Through hole filling tungsten layer 13 ... Copper pellet 21 ... Outer container 23 ... Load plate 24 … Through holes
Claims (3)
層で充填したセラミックス多層回路基板を焼成して制作
し、該高融点金属導電層に溶融した銅を含浸させること
からなるセラミックス多層回路基板の製造方法におい
て、銅含浸のために、銅とは濡れ性の悪いセラミックス
の外容器(1)、内容器(2)および荷重板(3)から
なる銅含浸用治具を用意し、該外容器(1)の底にはス
ルーホール対応位置に空気孔(4)が設けられ、該内容
器(2)は前記外容器内をスライド可能であり、底にス
ルーホール対応位置に貫通孔(5)が設けられかつ溶融
する銅板(6)およびその上の前記荷重板(3)を収容
しており、そして、前記セラミックス多層回路基板(1
1)を前記外容器(1)と内容器(2)との間に配置し
て、銅融点以上に加熱して前記銅板(6)を溶融し、前
記荷重板(3)によって溶融した銅を前記多孔質の高融
点金属導電層(12)に浸透させることを特徴とするセ
ラミックス多層回路基板の製造方法。1. A ceramic multi-layer circuit board, which is produced by firing a ceramic multi-layer circuit board having through holes filled with a porous high-melting-point metal conductive layer, and impregnating the high-melting-point metal conductive layer with molten copper. In the manufacturing method of 1., for impregnating copper, a copper impregnating jig including an outer container (1), an inner container (2) and a load plate (3) made of a ceramic having poor wettability with copper is prepared. The bottom of the container (1) is provided with an air hole (4) at a position corresponding to a through hole, the inner container (2) is slidable in the outer container, and the bottom has a through hole (5) at a position corresponding to the through hole. ) Is provided and contains a melting copper plate (6) and the load plate (3) thereon, and the ceramic multilayer circuit board (1)
1) is placed between the outer container (1) and the inner container (2), heated to a temperature equal to or higher than the copper melting point to melt the copper plate (6), and the copper melted by the load plate (3) is removed. A method for manufacturing a ceramics multilayer circuit board, characterized in that the porous high-melting-point metal conductive layer (12) is permeated.
層で充填したセラミックス多層回路基板を焼成して制作
し、該高融点金属導電層に溶融した銅を含浸させること
からなるセラミックス多層回路基板の製造方法におい
て、銅含浸のために、銅とは濡れ性の悪いセラミックス
の外容器(21)、内容器(2)および荷重板(23)
からなる銅含浸用治具を用意し、該外容器(21)は底
を有し、該内容器(2)は前記外容器内をスライド可能
であり、底にスルーホール対応位置に貫通孔(5)が設
けられかつ溶融する銅板(6)およびその上の前記荷重
板(23)を収容しており、該荷重板(23)にはスル
ーホール対応位置に空気孔(24)が設けられ、そし
て、前記銅板(6)を前記外容器(21)と内容器
(2)との間に配置し、前記セラミックス多層回路基板
(11)を前記内容器(2)と前記荷重板(23)との
間に配置して、銅融点以上に加熱して前記銅板(6)を
溶融し、前記荷重板(23)によって溶融した銅を前記
内容器の貫通孔(24)を通して前記多孔質の高融点金
属導電層(12)に浸透させることを特徴とするセラミ
ックス多層回路基板の製造方法。2. A ceramic multi-layer circuit board, which is produced by firing a ceramic multi-layer circuit board having through holes filled with a porous high-melting-point metal conductive layer, and impregnating the high-melting-point metal conductive layer with molten copper. In the manufacturing method of (1), an outer container (21), an inner container (2) and a load plate (23) made of ceramics having poor wettability with copper due to impregnation with copper
A copper impregnating jig is prepared, the outer container (21) has a bottom, the inner container (2) is slidable in the outer container, and the bottom has a through hole at a position corresponding to a through hole ( 5) is provided and contains a melting copper plate (6) and the load plate (23) thereon, and the load plate (23) is provided with air holes (24) at positions corresponding to through holes, The copper plate (6) is placed between the outer container (21) and the inner container (2), and the ceramic multilayer circuit board (11) is connected to the inner container (2) and the load plate (23). And melting the copper plate (6) by heating the copper plate above the melting point of copper and melting the copper melted by the load plate (23) through the through hole (24) of the inner container. Manufacture of a ceramic multilayer circuit board characterized by being impregnated into a metal conductive layer (12) Method.
リブデンであることを特徴とする請求項1または2記載
の製造方法。3. The method according to claim 1, wherein the refractory metal is tungsten or molybdenum.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6287092A JPH05267849A (en) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | Manufacture of ceramic multilayer circuit board |
Applications Claiming Priority (1)
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JP6287092A JPH05267849A (en) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | Manufacture of ceramic multilayer circuit board |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05267849A true JPH05267849A (en) | 1993-10-15 |
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ID=13212744
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6287092A Withdrawn JPH05267849A (en) | 1992-03-19 | 1992-03-19 | Manufacture of ceramic multilayer circuit board |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05267849A (en) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002261439A (en) * | 2001-02-28 | 2002-09-13 | Kyocera Corp | INSULATING SHEET AND ITS MANUFACTURING METHOD, WIRING BOARD AND ITS MANUFACTURING METHOD |
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WO2014106925A1 (en) | 2013-01-07 | 2014-07-10 | 株式会社アライドマテリアル | Ceramic wiring substrate, semiconductor device, and method for manufacturing ceramic wiring substrate |
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-
1992
- 1992-03-19 JP JP6287092A patent/JPH05267849A/en not_active Withdrawn
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