JPH05222010A - テトラゾール誘導体 - Google Patents
テトラゾール誘導体Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 アルドース還元酵素を阻害して、糖尿病性合
併症の治療ならびに予防効果を有するテトラゾール誘導
体およびその製造法ならびに該誘導体を有効成分とする
アルドースレダクターゼ阻害剤。 【構成】 式〔I〕 〔式中Rは水素原子または低級アルキル基を示し、Aは
C2〜7−アルキレン基を示し、Arは各々(置換)フ
ェニル基、ナフチル基、フリル基、チエニル基、ベンゾ
フリル基及びベンゾチエニル基を示す。〕で示される化
合物と、その製造法およびアルドース還元酵素阻害活
性。 【効果】 上記化合物を経口投与したラットの座骨神経
及びレンズを摘出してソルビトール蓄積量を測定した結
果、優れたソルビトール蓄積阻害率を示した。
併症の治療ならびに予防効果を有するテトラゾール誘導
体およびその製造法ならびに該誘導体を有効成分とする
アルドースレダクターゼ阻害剤。 【構成】 式〔I〕 〔式中Rは水素原子または低級アルキル基を示し、Aは
C2〜7−アルキレン基を示し、Arは各々(置換)フ
ェニル基、ナフチル基、フリル基、チエニル基、ベンゾ
フリル基及びベンゾチエニル基を示す。〕で示される化
合物と、その製造法およびアルドース還元酵素阻害活
性。 【効果】 上記化合物を経口投与したラットの座骨神経
及びレンズを摘出してソルビトール蓄積量を測定した結
果、優れたソルビトール蓄積阻害率を示した。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、アルドースレダクター
ゼ阻害活性を有する新規なテトラゾール誘導体、その製
造法及びそれ等を有効成分とする糖尿病性合併症の予
防、治療剤に関する。
ゼ阻害活性を有する新規なテトラゾール誘導体、その製
造法及びそれ等を有効成分とする糖尿病性合併症の予
防、治療剤に関する。
【0002】
【従来の技術】アルドースレダクターゼ阻害剤が糖尿病
性合併症の予防と治療に有効なことについては、国立衛
生試験所生物化学部生物化学第2室室長、谷本剛氏がフ
ァルマシアvol.24,No.5,459−463
(1988)で詳細に解説している。この文献には、A
lrestain,Tolrestat,4−Isop
ropyl−BPOC,Sorbinil,M−791
75,Alconil,ADN−138,Epalre
stat,CT−112,Statil等の代表的なア
ルドースレダクターゼ阻害剤について、化学構造式及び
アルドースレダクターゼの活性を50%阻害する濃度
(IC50)が開示されている。また、Metaboli
sm,28,456(1979),Jap.J.Opt
halmol.,20,399(1976)にアルドー
スレダクターゼの働きにより生じたソルビトールが糖尿
病患者の水晶体、末梢神経等に蓄積され、その結果合併
症が起こることが記されている。
性合併症の予防と治療に有効なことについては、国立衛
生試験所生物化学部生物化学第2室室長、谷本剛氏がフ
ァルマシアvol.24,No.5,459−463
(1988)で詳細に解説している。この文献には、A
lrestain,Tolrestat,4−Isop
ropyl−BPOC,Sorbinil,M−791
75,Alconil,ADN−138,Epalre
stat,CT−112,Statil等の代表的なア
ルドースレダクターゼ阻害剤について、化学構造式及び
アルドースレダクターゼの活性を50%阻害する濃度
(IC50)が開示されている。また、Metaboli
sm,28,456(1979),Jap.J.Opt
halmol.,20,399(1976)にアルドー
スレダクターゼの働きにより生じたソルビトールが糖尿
病患者の水晶体、末梢神経等に蓄積され、その結果合併
症が起こることが記されている。
【0003】本発明者等は、上記文献で紹介されている
アルドースレダクターゼ阻害剤とはまったく異なった化
学構造を有し、優れたアルドースレダクターゼ阻害活性
を示す多くの新規なテトラゾール酢酸誘導体を開発し
た。(特願平2−068483号、特願平2−2332
20号、特願平3−16889号、特願平3−8435
7号)。
アルドースレダクターゼ阻害剤とはまったく異なった化
学構造を有し、優れたアルドースレダクターゼ阻害活性
を示す多くの新規なテトラゾール酢酸誘導体を開発し
た。(特願平2−068483号、特願平2−2332
20号、特願平3−16889号、特願平3−8435
7号)。
【0004】一方、本発明者らは、R1 CONHCH2
COOR2 (但し、R1 はピリジン、ピロール、フラ
ン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン環等
である)を、まずN,N−ジメチルホルムアミド(DM
F)中PCl5 又はSOCl2で処理し、次いでDMF
中、NaN3 で処理することにより、強いアルドース還
元酵素阻害作用を有する次式(III):
COOR2 (但し、R1 はピリジン、ピロール、フラ
ン、チオフェン、ベンゾフラン、ベンゾチオフェン環等
である)を、まずN,N−ジメチルホルムアミド(DM
F)中PCl5 又はSOCl2で処理し、次いでDMF
中、NaN3 で処理することにより、強いアルドース還
元酵素阻害作用を有する次式(III):
【化3】 (但し、R1 は上記と同じ意味を有する。)で示される
化合物が得られることを報告した(日本薬学会第111
年会、講演要旨集No.2、P220(1991年3月
5日発行))。しかしながら、この方法によると、置換
基R2 に更に−OR(Rは水素又は低級アルキル基)を
導入した化合物を製造することはできなかった。しか
も、このような−OR基をR2 基に導入することによ
り、−OR基を有さない化合物と同等以上の強いアルド
ース還元酵素阻害活性を有する新規な5−置換テトラゾ
ール酢酸誘導体の得られることが分った。
化合物が得られることを報告した(日本薬学会第111
年会、講演要旨集No.2、P220(1991年3月
5日発行))。しかしながら、この方法によると、置換
基R2 に更に−OR(Rは水素又は低級アルキル基)を
導入した化合物を製造することはできなかった。しか
も、このような−OR基をR2 基に導入することによ
り、−OR基を有さない化合物と同等以上の強いアルド
ース還元酵素阻害活性を有する新規な5−置換テトラゾ
ール酢酸誘導体の得られることが分った。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、アルドース
レダクターゼに対し阻害作用を有し生体内におけるソル
ビトール蓄積阻害率を高め、糖尿病性合併症の予防に有
用な新規なテトラゾール誘導体を提供することを目的と
するものである。
レダクターゼに対し阻害作用を有し生体内におけるソル
ビトール蓄積阻害率を高め、糖尿病性合併症の予防に有
用な新規なテトラゾール誘導体を提供することを目的と
するものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式〔I〕
【化4】 〔但し、式中、Rは水素原子または低級アルキル基を示
し、Aは炭素数2〜5のアルキレン基を示し、Arは各
々、フェニル基、ナフチル基、フリル基、チエニル基、
ベンゾフリル基及びベンゾチエニル基を示し、上記のA
rは置換されていないかあるいは低級アルキル基、低級
アルコキシ基、ハロゲン原子、低級ハロアルキル基、ア
ルキルチオ基、アルキルスルホニルアミノ基の置換基を
有しても良い。〕で示される新規なテトラゾール誘導体
が優れたアルドースレダクターゼ阻害効果を有すること
を見出し、本発明を完成させた。
し、Aは炭素数2〜5のアルキレン基を示し、Arは各
々、フェニル基、ナフチル基、フリル基、チエニル基、
ベンゾフリル基及びベンゾチエニル基を示し、上記のA
rは置換されていないかあるいは低級アルキル基、低級
アルコキシ基、ハロゲン原子、低級ハロアルキル基、ア
ルキルチオ基、アルキルスルホニルアミノ基の置換基を
有しても良い。〕で示される新規なテトラゾール誘導体
が優れたアルドースレダクターゼ阻害効果を有すること
を見出し、本発明を完成させた。
【0007】以下、本発明について詳述する。上記の一
般式〔I〕のR及びArは以下のごとくである。Rで示
される低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、tert−ブチル基等があげられる。
般式〔I〕のR及びArは以下のごとくである。Rで示
される低級アルキル基としては、例えば、メチル基、エ
チル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソ
ブチル基、tert−ブチル基等があげられる。
【0008】Arは、フェニル基、ナフチル基、フリル
基、チエニル基、ベンゾフリル基、またはベンゾチエニ
ル基を表わし、置換基を有していてもよい。Arが低級
アルキル基で置換されている場合、この置換基は、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基等が
あげられ、低級アルコキシ基で置換されている場合は、
例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert
−ブトキシ基等があげられ、ハロゲン原子で置換されて
いる場合は、例えば、塩素、臭素、フッ素等があげら
れ、低級ハロアルキル基で置換されている場合は、例え
ば、クロロメチル基、ブロモメチル基、フルオロメチル
基、クロロブチル基等のモノ(または、ジ、トリ)ハロ
アルキル基があげられ、アルキルチオ基で置換されてい
る場合は、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロ
ピルチオ基、ブチルチオ基、フェニルチオ基等があげら
れ、アルキルスルホニルアミノ基で置換されている場合
は、例えば、メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホ
ニルアミノ基、プロピルスルホニルアミノ基、ブチルス
ルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基等があ
げられる。また、これらの置換基は、任意の位置に置換
しうる。
基、チエニル基、ベンゾフリル基、またはベンゾチエニ
ル基を表わし、置換基を有していてもよい。Arが低級
アルキル基で置換されている場合、この置換基は、例え
ば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル
基、ブチル基、イソブチル基、tert−ブチル基等が
あげられ、低級アルコキシ基で置換されている場合は、
例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソ
プロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、tert
−ブトキシ基等があげられ、ハロゲン原子で置換されて
いる場合は、例えば、塩素、臭素、フッ素等があげら
れ、低級ハロアルキル基で置換されている場合は、例え
ば、クロロメチル基、ブロモメチル基、フルオロメチル
基、クロロブチル基等のモノ(または、ジ、トリ)ハロ
アルキル基があげられ、アルキルチオ基で置換されてい
る場合は、例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、プロ
ピルチオ基、ブチルチオ基、フェニルチオ基等があげら
れ、アルキルスルホニルアミノ基で置換されている場合
は、例えば、メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホ
ニルアミノ基、プロピルスルホニルアミノ基、ブチルス
ルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基等があ
げられる。また、これらの置換基は、任意の位置に置換
しうる。
【0009】本発明の一般式〔I〕で示される化合物は
一般式〔II〕
一般式〔II〕
【化5】 〔但し、式中、Arは上記定義と同じ。〕で示される化
合物にアルキレンジオールまたはアルキレンジオールモ
ノアルキルエーテルを反応させることにより容易に製造
することができる。
合物にアルキレンジオールまたはアルキレンジオールモ
ノアルキルエーテルを反応させることにより容易に製造
することができる。
【0010】即ち、一般式〔II〕で示される化合物とア
ルキレンジオールまたはアルキレンジオールモノアルキ
ルエーテルを酸触媒を用いて反応させるかまたは、一般
式〔II〕で示される化合物とアルキレンジオールまたは
アルキレンジオールモノアルキルエーテルを有機溶剤で
溶解または懸濁させ、縮合剤を用いて反応させることに
より高収率で一般式〔I〕で示される化合物を得ること
ができる。酸触媒を用いて反応させる場合は、アルキレ
ンジオールまたはアルキレンジオールモノアルキルエー
テルの使用量は、それ自体反応溶媒として用いることが
できるので何等制限を受けるものではないが、一般式
〔II〕で示される化合物に対して2〜5倍量が好まし
い。反応促進剤として用いる酸触媒としては、硫酸、p
−トルエンスルホン酸等が挙げられ、特に硫酸が好まし
い。反応温度、反応時間は60〜100℃(好ましくは
70〜90℃)で2〜5時間(好ましくは2〜3時間)
反応させることにより有利に進行する。
ルキレンジオールまたはアルキレンジオールモノアルキ
ルエーテルを酸触媒を用いて反応させるかまたは、一般
式〔II〕で示される化合物とアルキレンジオールまたは
アルキレンジオールモノアルキルエーテルを有機溶剤で
溶解または懸濁させ、縮合剤を用いて反応させることに
より高収率で一般式〔I〕で示される化合物を得ること
ができる。酸触媒を用いて反応させる場合は、アルキレ
ンジオールまたはアルキレンジオールモノアルキルエー
テルの使用量は、それ自体反応溶媒として用いることが
できるので何等制限を受けるものではないが、一般式
〔II〕で示される化合物に対して2〜5倍量が好まし
い。反応促進剤として用いる酸触媒としては、硫酸、p
−トルエンスルホン酸等が挙げられ、特に硫酸が好まし
い。反応温度、反応時間は60〜100℃(好ましくは
70〜90℃)で2〜5時間(好ましくは2〜3時間)
反応させることにより有利に進行する。
【0011】また、縮合剤を用いて反応させる場合は、
使用する有機溶剤としては、塩化メチレン、クロロホル
ム、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙
げられ、特にN,N−ジメチルホルムアミドが好まし
い。アルキレンジオールまたはアルキレンジオールモノ
アルキルエーテルの使用量は一般式〔II〕で示される化
合物に対して等モル〜2倍モルが良く、特に1.2〜
1.5倍モルが好ましい。縮合剤としては、ジシクロヘ
キシルカルボジイミド、ジエチルリン酸シアニド等が挙
げられ特にジシクロヘキシルカルボジイミドが好まし
い。使用量は特に制限はないが、一般式〔II〕で示され
る化合物に対して等モル〜2倍モルが良く、特に1.1
〜1.2倍モルが好ましい。反応温度は、通常、0〜3
0℃で行い、特に5〜10℃が好ましい。反応時間は、
30分〜3時間、特に1時間が好ましい。
使用する有機溶剤としては、塩化メチレン、クロロホル
ム、酢酸エチル、N,N−ジメチルホルムアミド等が挙
げられ、特にN,N−ジメチルホルムアミドが好まし
い。アルキレンジオールまたはアルキレンジオールモノ
アルキルエーテルの使用量は一般式〔II〕で示される化
合物に対して等モル〜2倍モルが良く、特に1.2〜
1.5倍モルが好ましい。縮合剤としては、ジシクロヘ
キシルカルボジイミド、ジエチルリン酸シアニド等が挙
げられ特にジシクロヘキシルカルボジイミドが好まし
い。使用量は特に制限はないが、一般式〔II〕で示され
る化合物に対して等モル〜2倍モルが良く、特に1.1
〜1.2倍モルが好ましい。反応温度は、通常、0〜3
0℃で行い、特に5〜10℃が好ましい。反応時間は、
30分〜3時間、特に1時間が好ましい。
【0012】一般式〔II〕で示される化合物は、例え
ば、特開平3−204875号公報(特願平2−233
220号)に記載されている。
ば、特開平3−204875号公報(特願平2−233
220号)に記載されている。
【0013】上述の方法で製造された一般式〔I〕で示
される化合物は抽出、再結晶、カラムクロマトグラフィ
ー等、通常用いられる化学的操作を適用して単離精製
し、本発明のアルドースレダクターゼ阻害剤の有効成分
として利用される。
される化合物は抽出、再結晶、カラムクロマトグラフィ
ー等、通常用いられる化学的操作を適用して単離精製
し、本発明のアルドースレダクターゼ阻害剤の有効成分
として利用される。
【0014】アルドースレダクターゼ阻害剤は、糖尿病
性合併症の予防、治療剤として有用である。糖尿病性合
併症は例えば、末梢神経障害、網膜症、腎症、白内障、
角膜症等その病態は多様であるが、これらは糖尿病によ
る高血糖を引金として、ポリオール代謝経路に於けるソ
ルビトールの産生が異常に亢進し、その結果、細胞内に
ソルビトールが多量蓄積されることにより発病すること
が知られている。
性合併症の予防、治療剤として有用である。糖尿病性合
併症は例えば、末梢神経障害、網膜症、腎症、白内障、
角膜症等その病態は多様であるが、これらは糖尿病によ
る高血糖を引金として、ポリオール代謝経路に於けるソ
ルビトールの産生が異常に亢進し、その結果、細胞内に
ソルビトールが多量蓄積されることにより発病すること
が知られている。
【0015】本発明のアルドースレダクターゼ阻害剤
は、上述のポリオール代謝経路において、ソルビトール
産生に触媒として働いているアルドースレダクターゼの
活性を著しく阻害することによって、ソルビトールの産
生を抑制し、その結果、各種の糖尿病性合併症に対し優
れた予防、治療効果を奏するものである。
は、上述のポリオール代謝経路において、ソルビトール
産生に触媒として働いているアルドースレダクターゼの
活性を著しく阻害することによって、ソルビトールの産
生を抑制し、その結果、各種の糖尿病性合併症に対し優
れた予防、治療効果を奏するものである。
【0016】本発明の化合物〔I〕の投与量は、患者の
症状に応じて適宜定められるが、通常、成人1人当り、
1日に1−1000mgであり、これを1回で、あるい
は、数回に分けて投与する。投与経路は、経口、皮下注
射、静脈注射、局所的投与等いずれでも良い。製剤は通
常、製薬的に許容される担体や賦形剤、その他の添加剤
を用いて錠剤、散剤、細粒剤、顆粒剤、カプセル剤、丸
剤、液剤、注射剤、点眼剤などの剤形に調製される。
症状に応じて適宜定められるが、通常、成人1人当り、
1日に1−1000mgであり、これを1回で、あるい
は、数回に分けて投与する。投与経路は、経口、皮下注
射、静脈注射、局所的投与等いずれでも良い。製剤は通
常、製薬的に許容される担体や賦形剤、その他の添加剤
を用いて錠剤、散剤、細粒剤、顆粒剤、カプセル剤、丸
剤、液剤、注射剤、点眼剤などの剤形に調製される。
【0017】本発明を詳細に説明するために以下、実施
例を挙げるが、本発明はこれらによって限定されるもの
ではない。
例を挙げるが、本発明はこれらによって限定されるもの
ではない。
【0018】
実施例1 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
1g(4.7mM)をエチレングリコール5mlに溶解
し、これに硫酸0.5mlを加え、90℃で2.5時間
加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、析出した結
晶を濾取し、水洗後、減圧乾燥したのちエタノールから
再結晶することにより〔5−(3−チエニル)テトラゾ
ール−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステルを
620mg(収率50%)得た。 融点:103−106℃ N.M.R.(CDCl3 +DMSO−d6 )δ:3.
78(t,2H,J=4.62Hz),4.19(b
r,1H),4.36(t,2H,J=4.64H
z),5.37(s,2H),7.52(dd,1H,
J=5.13,1.47Hz),7.56(dd,1
H,J=5.13,2.83Hz),7.93(dd,
1H,J=2.83,1.47Hz) I.R.νKBr cm-1:3330,1740,157
0,1230 Mass:m/z254〔M+ 〕
2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
1g(4.7mM)をエチレングリコール5mlに溶解
し、これに硫酸0.5mlを加え、90℃で2.5時間
加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、析出した結
晶を濾取し、水洗後、減圧乾燥したのちエタノールから
再結晶することにより〔5−(3−チエニル)テトラゾ
ール−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステルを
620mg(収率50%)得た。 融点:103−106℃ N.M.R.(CDCl3 +DMSO−d6 )δ:3.
78(t,2H,J=4.62Hz),4.19(b
r,1H),4.36(t,2H,J=4.64H
z),5.37(s,2H),7.52(dd,1H,
J=5.13,1.47Hz),7.56(dd,1
H,J=5.13,2.83Hz),7.93(dd,
1H,J=2.83,1.47Hz) I.R.νKBr cm-1:3330,1740,157
0,1230 Mass:m/z254〔M+ 〕
【0019】実施例2 〔5−(2−メチルチオ−3−チエニル)テトラゾール
−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(2−メチルチオ−3−チエニル)テトラゾール
−1−イル〕酢酸920mg(3.6mM)をエチレン
グリコール5mlに溶解し、これに硫酸0.5mlを加
え、90℃で2.5時間加熱撹拌した。反応終了後、氷
水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られ
た濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
出液:クロロホルム/メタノール=50/1)により精
製することにより〔5−(2−メチルチオ−3−チエニ
ル)テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチ
ルエステルを950mg(収率88.1%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:2.48(s,3
H),3.80(t,2H,J=4.64Hz),4.
28(t,2H,J=4.64Hz),5.25(s,
2H),7.17(d,1H,J=5.37Hz),
7.46(d,1H,J=5.37Hz) I.R.νNaClcm-1:3400,2950,175
0,1560,1440,1380,1350,122
0 Mass:m/z300〔M+ 〕
−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(2−メチルチオ−3−チエニル)テトラゾール
−1−イル〕酢酸920mg(3.6mM)をエチレン
グリコール5mlに溶解し、これに硫酸0.5mlを加
え、90℃で2.5時間加熱撹拌した。反応終了後、氷
水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られ
た濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
出液:クロロホルム/メタノール=50/1)により精
製することにより〔5−(2−メチルチオ−3−チエニ
ル)テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチ
ルエステルを950mg(収率88.1%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:2.48(s,3
H),3.80(t,2H,J=4.64Hz),4.
28(t,2H,J=4.64Hz),5.25(s,
2H),7.17(d,1H,J=5.37Hz),
7.46(d,1H,J=5.37Hz) I.R.νNaClcm-1:3400,2950,175
0,1560,1440,1380,1350,122
0 Mass:m/z300〔M+ 〕
【0020】実施例3 〔5−(2−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(2−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
1g(4.7mM)をエチレングリコール5mlに溶解
し、これに硫酸0.5mlを加え、90℃で2.5時間
加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、酢酸エチル
で抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/メ
タノール=50/1)により精製することにより〔5−
(2−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒ
ドロキシエチルエステルを1g(収率88.5%)得
た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:3.84(m,2
H),4.37(t,2H,J=4.52Hz),5.
39(s,2H),7.23(dd,1H,J=5.1
2,3.67Hz),7.60(dd,1H,J=3.
67,1.22Hz),7.65(dd,1H,J=
5.12,1.22Hz) I.R.νNaClcm-1:3400,1750,157
0,1480,1440,1220 Mass:m/z254〔M+ 〕
2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(2−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
1g(4.7mM)をエチレングリコール5mlに溶解
し、これに硫酸0.5mlを加え、90℃で2.5時間
加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、酢酸エチル
で抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/メ
タノール=50/1)により精製することにより〔5−
(2−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒ
ドロキシエチルエステルを1g(収率88.5%)得
た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:3.84(m,2
H),4.37(t,2H,J=4.52Hz),5.
39(s,2H),7.23(dd,1H,J=5.1
2,3.67Hz),7.60(dd,1H,J=3.
67,1.22Hz),7.65(dd,1H,J=
5.12,1.22Hz) I.R.νNaClcm-1:3400,1750,157
0,1480,1440,1220 Mass:m/z254〔M+ 〕
【0021】実施例4 〔5−〔(3−メチルスルホニルアミノ)−2−チエニ
ル〕テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチ
ルエステル 〔5−〔(3−メチルスルホニルアミノ)−2−チエニ
ル〕テトラゾール−1−イル〕酢酸500mg(1.6
mM)をエチレングリコール3mlに溶解し、これに硫
酸0.3mlを加え、90℃で2.5時間加熱撹拌し
た。反応終了後、氷水中にあけ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/メタノール
=30/1)により精製することにより〔5−〔(3−
メチルスルホニルアミノ)−2−チエニル〕テトラゾー
ル−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステルを4
20mg(収率73.3%)得た。 融点:107−108℃ N.M.R.(CDCl3 )δ:3.08(s,3
H),3.81(t,2H,J=4.64Hz),4.
36(t,2H,J=4.64Hz),5.50(s,
2H),7.57(d,1H,J=5.37Hz),
7.62(d,1H,J=5.37Hz),9.94
(br,1H) I.R.νKBr cm-1:3400,3150,294
0,1740,1560,1430,1370,132
0,1210 Mass:m/z347〔M+ 〕
ル〕テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチ
ルエステル 〔5−〔(3−メチルスルホニルアミノ)−2−チエニ
ル〕テトラゾール−1−イル〕酢酸500mg(1.6
mM)をエチレングリコール3mlに溶解し、これに硫
酸0.3mlを加え、90℃で2.5時間加熱撹拌し
た。反応終了後、氷水中にあけ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/メタノール
=30/1)により精製することにより〔5−〔(3−
メチルスルホニルアミノ)−2−チエニル〕テトラゾー
ル−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステルを4
20mg(収率73.3%)得た。 融点:107−108℃ N.M.R.(CDCl3 )δ:3.08(s,3
H),3.81(t,2H,J=4.64Hz),4.
36(t,2H,J=4.64Hz),5.50(s,
2H),7.57(d,1H,J=5.37Hz),
7.62(d,1H,J=5.37Hz),9.94
(br,1H) I.R.νKBr cm-1:3400,3150,294
0,1740,1560,1430,1370,132
0,1210 Mass:m/z347〔M+ 〕
【0022】実施例5 〔5−〔5−(3−フェニルプロピル)−2−チエニ
ル〕テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチ
ルエステル 〔5−〔5−(3−フェニルプロピル)−2−チエニ
ル〕テトラゾール−1−イル〕酢酸300mg(0.9
mM)をエチレングリコール2mlに溶解し、これに硫
酸0.2mlを加え、90℃で2.5時間加熱撹拌し
た。反応終了後、氷水中にあけ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/メタノール
=30/1)により精製することにより〔5−〔5−
(3−フェニルプロピル)−2−チエニル〕テトラゾー
ル−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステルを3
00mg(収率88.2%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:1.92(br,1
H),2.05(quint,2H,J=7.57H
z),2.71(t,2H,J=7.57Hz),2.
90(t,2H,J=7.57Hz),3.82(d
d,1H,J=9.27,5.37Hz),4.36
(t,2H,J=4.64Hz),5.36(s,2
H),6.90(d,1H,J=3.66Hz),7.
17−7.35(m,5H),7.43(d,1H,J
=3.67Hz) I.R.νNaClcm-1:3400,2950,175
0,1580,1510,1430,1210 Mass:m/z372〔M+ 〕
ル〕テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチ
ルエステル 〔5−〔5−(3−フェニルプロピル)−2−チエニ
ル〕テトラゾール−1−イル〕酢酸300mg(0.9
mM)をエチレングリコール2mlに溶解し、これに硫
酸0.2mlを加え、90℃で2.5時間加熱撹拌し
た。反応終了後、氷水中にあけ、酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/メタノール
=30/1)により精製することにより〔5−〔5−
(3−フェニルプロピル)−2−チエニル〕テトラゾー
ル−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステルを3
00mg(収率88.2%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:1.92(br,1
H),2.05(quint,2H,J=7.57H
z),2.71(t,2H,J=7.57Hz),2.
90(t,2H,J=7.57Hz),3.82(d
d,1H,J=9.27,5.37Hz),4.36
(t,2H,J=4.64Hz),5.36(s,2
H),6.90(d,1H,J=3.66Hz),7.
17−7.35(m,5H),7.43(d,1H,J
=3.67Hz) I.R.νNaClcm-1:3400,2950,175
0,1580,1510,1430,1210 Mass:m/z372〔M+ 〕
【0023】実施例6 (5−フェニルテトラゾール−1−イル)酢酸2−ヒド
ロキシエチルエステル (5−フェニルテトラゾール−1−イル)酢酸1g
(4.85mM)をエチレングリコール5mlに溶解
し、これに硫酸0.5mlを加え、90℃で2.5時間
加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、酢酸エチル
で抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/メ
タノール=9/1)により精製することにより(5−フ
ェニルテトラゾール−1−イル)酢酸2−ヒドロキシエ
チルエステルを630mg(収率51.8%)得た。 融点:54−55℃ N.M.R.(CDCl3 )δ:2.31(br,1
H),3.82(br,2H),4.34(t,2H,
J=4.64Hz),5.23(s,2H),7.52
−7.68(m,5H) I.R.νKBr cm-1:3500,2950,176
0,1460,1230,1080 Mass:m/z246〔M+ 〕
ロキシエチルエステル (5−フェニルテトラゾール−1−イル)酢酸1g
(4.85mM)をエチレングリコール5mlに溶解
し、これに硫酸0.5mlを加え、90℃で2.5時間
加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、酢酸エチル
で抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/メ
タノール=9/1)により精製することにより(5−フ
ェニルテトラゾール−1−イル)酢酸2−ヒドロキシエ
チルエステルを630mg(収率51.8%)得た。 融点:54−55℃ N.M.R.(CDCl3 )δ:2.31(br,1
H),3.82(br,2H),4.34(t,2H,
J=4.64Hz),5.23(s,2H),7.52
−7.68(m,5H) I.R.νKBr cm-1:3500,2950,176
0,1460,1230,1080 Mass:m/z246〔M+ 〕
【0024】実施例7 〔5−(4−ブチルフェニル)テトラゾール−1−イ
ル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(4−ブチルフェニル)テトラゾール−1−イ
ル〕酢酸1g(3.84mM)をエチレングリコール5
mlに溶解し、これに硫酸0.5mlを加え、90℃で
2.5時間加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、
酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロ
ホルム/メタノール=9/1)により精製することによ
り〔5−(4−ブチルフェニル)テトラゾール−1−イ
ル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステルを550mg
(収率47.4%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:0.94(t,3H,
J=7.33Hz),1.33−1.58(m,2
H),1.61−1.69(m,2H),2.10(b
r,1H),2.69(t,2H,J=7.69H
z),3.83(br,2H),4.34(t,2H,
J=2.93Hz),5.26(s,2H),7.36
(d,2H,J=8.06Hz),7.57(d,2
H,J=8.43Hz) I.R.νNaClcm-1:3400,2950,176
0,1620,1480,1440,1210,108
0,760 Mass:m/z302〔M+ 〕
ル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(4−ブチルフェニル)テトラゾール−1−イ
ル〕酢酸1g(3.84mM)をエチレングリコール5
mlに溶解し、これに硫酸0.5mlを加え、90℃で
2.5時間加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、
酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグ
ネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣を
シリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロ
ホルム/メタノール=9/1)により精製することによ
り〔5−(4−ブチルフェニル)テトラゾール−1−イ
ル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステルを550mg
(収率47.4%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:0.94(t,3H,
J=7.33Hz),1.33−1.58(m,2
H),1.61−1.69(m,2H),2.10(b
r,1H),2.69(t,2H,J=7.69H
z),3.83(br,2H),4.34(t,2H,
J=2.93Hz),5.26(s,2H),7.36
(d,2H,J=8.06Hz),7.57(d,2
H,J=8.43Hz) I.R.νNaClcm-1:3400,2950,176
0,1620,1480,1440,1210,108
0,760 Mass:m/z302〔M+ 〕
【0025】実施例8 〔5−(4−ブトキシフェニル)テトラゾール−1−イ
ル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(4−ブトキシフェニル)テトラゾール−1−イ
ル〕酢酸0.5g(1.81mM)をエチレングリコー
ル3mlに溶解し、これに硫酸0.3mlを加え、90
℃で2.5時間加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあ
け、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:ク
ロロホルム/メタノール=20/1)により精製するこ
とにより〔5−(4−ブトキシフェニル)テトラゾール
−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステルを40
0mg(収率69%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:0.99(t,3H,
J=7.45Hz),1.44−1.58(m,2
H),1.75−1.86(m,2H),2.08
(t,1H,J=5.62Hz),3.83(br,2
H),4.03(t,2H,J=6.47Hz),4.
34(t,2H,J=4.64Hz),5.24(s,
2H),7.03(dd,2H,J=6.84,2.2
0Hz),7.60(dd,2H,J=6.84,1.
95Hz) I.R.νNaClcm-1:3400,2950,175
0,1610,1480,1250,1210 Mass:m/z320〔M+ 〕
ル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(4−ブトキシフェニル)テトラゾール−1−イ
ル〕酢酸0.5g(1.81mM)をエチレングリコー
ル3mlに溶解し、これに硫酸0.3mlを加え、90
℃で2.5時間加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあ
け、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸
マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残
渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:ク
ロロホルム/メタノール=20/1)により精製するこ
とにより〔5−(4−ブトキシフェニル)テトラゾール
−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステルを40
0mg(収率69%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:0.99(t,3H,
J=7.45Hz),1.44−1.58(m,2
H),1.75−1.86(m,2H),2.08
(t,1H,J=5.62Hz),3.83(br,2
H),4.03(t,2H,J=6.47Hz),4.
34(t,2H,J=4.64Hz),5.24(s,
2H),7.03(dd,2H,J=6.84,2.2
0Hz),7.60(dd,2H,J=6.84,1.
95Hz) I.R.νNaClcm-1:3400,2950,175
0,1610,1480,1250,1210 Mass:m/z320〔M+ 〕
【0026】実施例9 〔5−(4−フルオロフェニル)テトラゾール−1−イ
ル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(4−フルオロフェニル)テトラゾール−1−イ
ル〕酢酸300mg(1.35mM)をエチレングリコ
ール2mlに溶解し、これに硫酸0.2mlを加え、9
0℃で2.5時間加熱撹拌した。反応終了後、氷水中に
あけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:
クロロホルム/メタノール=25/1)により精製する
ことにより〔5−(4−フルオロフェニル)テトラゾー
ル−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステルを2
90mg(収率80.7%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:2.23(br,1
H),3.84(br,2H),4.36(t,2H,
J=4.64Hz),5.25(s,2H),7.22
−7.30(m,2H),7.66−7.71(m,2
H) I.R.νNaClcm-1:3400,2950,175
0,1600,1480,1440,1220 Mass:m/z266〔M+ 〕
ル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(4−フルオロフェニル)テトラゾール−1−イ
ル〕酢酸300mg(1.35mM)をエチレングリコ
ール2mlに溶解し、これに硫酸0.2mlを加え、9
0℃で2.5時間加熱撹拌した。反応終了後、氷水中に
あけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮
残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:
クロロホルム/メタノール=25/1)により精製する
ことにより〔5−(4−フルオロフェニル)テトラゾー
ル−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステルを2
90mg(収率80.7%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:2.23(br,1
H),3.84(br,2H),4.36(t,2H,
J=4.64Hz),5.25(s,2H),7.22
−7.30(m,2H),7.66−7.71(m,2
H) I.R.νNaClcm-1:3400,2950,175
0,1600,1480,1440,1220 Mass:m/z266〔M+ 〕
【0027】実施例10 〔5−(3−トリフルオロメチルフェニル)テトラゾー
ル−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(3−トリフルオロメチルフェニル)テトラゾー
ル−1−イル〕酢酸300mg(1.10mM)をエチ
レングリコール2mlに溶解し、これに硫酸0.2ml
を加え、90℃で2.5時間加熱撹拌した。反応終了
後、氷水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水
洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。
得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出液:クロロホルム/メタノール=20/1)に
より精製することにより〔5−(3−トリフルオロメチ
ルフェニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒドロ
キシエチルエステルを310mg(収率88.9%)得
た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:2.08(t,1H,
J=5.50Hz),3.85(br,2H),4.3
6(t,2H,J=4.64Hz),5.28(s,2
H),7.72(t,1H,J=7.69Hz),7.
88−7.90(m,2H),7.97(s,1H) I.R.νNaClcm-1:3400,1750,145
0,1340,1310,1260,1210 Mass:m/z316〔M+ 〕
ル−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(3−トリフルオロメチルフェニル)テトラゾー
ル−1−イル〕酢酸300mg(1.10mM)をエチ
レングリコール2mlに溶解し、これに硫酸0.2ml
を加え、90℃で2.5時間加熱撹拌した。反応終了
後、氷水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水
洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。
得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(溶出液:クロロホルム/メタノール=20/1)に
より精製することにより〔5−(3−トリフルオロメチ
ルフェニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒドロ
キシエチルエステルを310mg(収率88.9%)得
た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:2.08(t,1H,
J=5.50Hz),3.85(br,2H),4.3
6(t,2H,J=4.64Hz),5.28(s,2
H),7.72(t,1H,J=7.69Hz),7.
88−7.90(m,2H),7.97(s,1H) I.R.νNaClcm-1:3400,1750,145
0,1340,1310,1260,1210 Mass:m/z316〔M+ 〕
【0028】実施例11 〔5−(2−ナフチル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(2−ナフチル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
1g(3.94mM)をエチレングリコール5mlに溶
解し、これに硫酸0.5mlを加え、90℃で2.5時
間加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/
メタノール=9/1)により精製することにより〔5−
(2−ナフチル)テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒ
ドロキシエチルエステルを750mg(収率64.4
%)得た。 融点:64−66℃ N.M.R.(CDCl3 )δ:2.16(t,1H,
J=5.08Hz),3.83(br,2H),4.3
4(t,2H,J=4.58Hz),5.32(s,2
H),7.56−7.66(m,2H),7.71(d
d,1H,J=8.43,1.83Hz),7.90−
7.94(m,2H),8.01(d,1H,J=8.
79Hz),8.17(s,1H) I.R.νKBr cm-1:3400,2920,174
0,1290,1010,820,760 Mass:m/z296〔M+ 〕
2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(2−ナフチル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
1g(3.94mM)をエチレングリコール5mlに溶
解し、これに硫酸0.5mlを加え、90℃で2.5時
間加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、酢酸エチ
ルで抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウム
で乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲ
ルカラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/
メタノール=9/1)により精製することにより〔5−
(2−ナフチル)テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒ
ドロキシエチルエステルを750mg(収率64.4
%)得た。 融点:64−66℃ N.M.R.(CDCl3 )δ:2.16(t,1H,
J=5.08Hz),3.83(br,2H),4.3
4(t,2H,J=4.58Hz),5.32(s,2
H),7.56−7.66(m,2H),7.71(d
d,1H,J=8.43,1.83Hz),7.90−
7.94(m,2H),8.01(d,1H,J=8.
79Hz),8.17(s,1H) I.R.νKBr cm-1:3400,2920,174
0,1290,1010,820,760 Mass:m/z296〔M+ 〕
【0029】実施例12 〔5−(3−フリル)テトラゾール−1−イル〕酢酸2
−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(3−フリル)テトラゾール−1−イル〕酢酸1
g(5.3mM)をエチレングリコール5mlに溶解
し、これに硫酸0.5mlを加え、90℃で2.5時間
加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、酢酸エチル
で抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/メ
タノール=50/1)により精製することにより〔5−
(3−フリル)テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒド
ロキシエチルエステルを670mg(収率54.6%)
得た。 融点:91−93℃ N.M.R.(CDCl3 )δ:2.04(br,1
H),3.86(t,2H,J=4.64Hz),4.
38(t,2H,J=4.64Hz),5.29(s,
2H),6.83(dd,1H,J=1.95,0.9
7Hz),7.62(dd,1H,J=1.95,1.
46Hz),8.00(dd,1H,J=1.46,
0.97Hz) I.R.νKBr cm-1:3350,3100,173
5,1620,1530,1440,1220 Mass:m/z238〔M+ 〕
−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(3−フリル)テトラゾール−1−イル〕酢酸1
g(5.3mM)をエチレングリコール5mlに溶解
し、これに硫酸0.5mlを加え、90℃で2.5時間
加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、酢酸エチル
で抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/メ
タノール=50/1)により精製することにより〔5−
(3−フリル)テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒド
ロキシエチルエステルを670mg(収率54.6%)
得た。 融点:91−93℃ N.M.R.(CDCl3 )δ:2.04(br,1
H),3.86(t,2H,J=4.64Hz),4.
38(t,2H,J=4.64Hz),5.29(s,
2H),6.83(dd,1H,J=1.95,0.9
7Hz),7.62(dd,1H,J=1.95,1.
46Hz),8.00(dd,1H,J=1.46,
0.97Hz) I.R.νKBr cm-1:3350,3100,173
5,1620,1530,1440,1220 Mass:m/z238〔M+ 〕
【0030】実施例13 〔5−(2−ベンゾフリル)テトラゾール−1−イル〕
酢酸2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(2−ベンゾフリル)テトラゾール−1−イル〕
酢酸2.4g(9.8mM)をエチレングリコール12
mlに溶解し、これに硫酸1mlを加え、90℃で2.
5時間加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、析出
した結晶を濾取し、水洗した。結晶を酢酸エチルで溶解
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得
られた濃縮残渣をメタノールから再結晶することにより
〔5−(2−ベンゾフリル)テトラゾール−1−イル〕
酢酸2−ヒドロキシエチルエステルを2.14g(収率
75.4%)得た。 融点:131−135℃ N.M.R.(CDCl3 +DMSO−d6 )δ:3.
82(t,2H,J=4.64Hz),4.34(t,
2H,J=4.64Hz),5.66(s,2H),
7.33−7.39(m,1H),7.42−7.49
(m,1H),7.56(dd,1H,J=8.30,
0.73Hz),7.72−7.75(m,2H) I.R.νKBr cm-1:3350,2950,176
0,1620,1440,1380,1220 Mass:m/z288〔M+ 〕
酢酸2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(2−ベンゾフリル)テトラゾール−1−イル〕
酢酸2.4g(9.8mM)をエチレングリコール12
mlに溶解し、これに硫酸1mlを加え、90℃で2.
5時間加熱撹拌した。反応終了後、氷水中にあけ、析出
した結晶を濾取し、水洗した。結晶を酢酸エチルで溶解
し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得
られた濃縮残渣をメタノールから再結晶することにより
〔5−(2−ベンゾフリル)テトラゾール−1−イル〕
酢酸2−ヒドロキシエチルエステルを2.14g(収率
75.4%)得た。 融点:131−135℃ N.M.R.(CDCl3 +DMSO−d6 )δ:3.
82(t,2H,J=4.64Hz),4.34(t,
2H,J=4.64Hz),5.66(s,2H),
7.33−7.39(m,1H),7.42−7.49
(m,1H),7.56(dd,1H,J=8.30,
0.73Hz),7.72−7.75(m,2H) I.R.νKBr cm-1:3350,2950,176
0,1620,1440,1380,1220 Mass:m/z288〔M+ 〕
【0031】実施例14 〔5−(6−ベンゾ〔b〕チエニル)テトラゾール−1
−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(6−ベンゾ〔b〕チエニル)テトラゾール−1
−イル〕酢酸400mg(1.54mM)をエチレング
リコール3mlに溶解し、これに硫酸0.3mlを加
え、90℃で2.5時間加熱撹拌した。反応終了後、氷
水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られ
た濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
出液:クロロホルム/メタノール=50/1)により精
製することにより〔5−(6−ベンゾ〔b〕チエニル)
テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエ
ステルを400mg(収率85.5%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:2.58(br,1
H),3.81(br,2H),4.34(t,2H,
J=4.64Hz),5.30(s,2H),7.41
(d,1H,J=5.37Hz),7.60(dd,1
H,J=8.30,1.46Hz),7.64(d,1
H,J=5.37Hz),7.95(d,1H,J=
8.30Hz),8.21(t,1H,J=0.73H
z) I.R.νNaClcm-1:3400,2950,175
0,1530,1440,1380,1210 Mass:m/z304〔M+ 〕
−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエステル 〔5−(6−ベンゾ〔b〕チエニル)テトラゾール−1
−イル〕酢酸400mg(1.54mM)をエチレング
リコール3mlに溶解し、これに硫酸0.3mlを加
え、90℃で2.5時間加熱撹拌した。反応終了後、氷
水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を水洗し、
無水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。得られ
た濃縮残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶
出液:クロロホルム/メタノール=50/1)により精
製することにより〔5−(6−ベンゾ〔b〕チエニル)
テトラゾール−1−イル〕酢酸2−ヒドロキシエチルエ
ステルを400mg(収率85.5%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:2.58(br,1
H),3.81(br,2H),4.34(t,2H,
J=4.64Hz),5.30(s,2H),7.41
(d,1H,J=5.37Hz),7.60(dd,1
H,J=8.30,1.46Hz),7.64(d,1
H,J=5.37Hz),7.95(d,1H,J=
8.30Hz),8.21(t,1H,J=0.73H
z) I.R.νNaClcm-1:3400,2950,175
0,1530,1440,1380,1210 Mass:m/z304〔M+ 〕
【0032】実施例15 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
3−ヒドロキシプロピルエステル 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
500mg(2.38mM)、1,3−プロパンジオー
ル220mg(2.85mM)のN,N−ジメチルホル
ムアミド5ml溶液にジシクロヘキシルカルボジイミド
540mg(2.62mM)を室温で加えた後、室温で
30分間撹拌した。反応終了後、少量の酢酸を加え30
分間撹拌した後、反応混液を氷水中にあけ、析出した結
晶を濾別し、水洗した。濾液と洗液を合せ酢酸エチルで
抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/エタ
ノール=60/1)により精製することにより〔5−
(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸3−ヒ
ドロキシプロピルエステルを350mg(収率54.8
%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:1.87(quin
t,2H,J=6.10Hz),3.65(t,2H,
J=6.10Hz),4.38(t,2H,J=6.2
2Hz),5.29(s,2H),7.48(dd,1
H,J=5.12,1.22Hz),7.56(dd,
1H,J=5.12,2.69Hz),7.87(d
d,1H,J=2.69,1.22Hz) I.R.νNaClcm-1:3400,2940,174
0,1570,1430,1350,1210 Mass:m/z268〔M+ 〕
3−ヒドロキシプロピルエステル 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
500mg(2.38mM)、1,3−プロパンジオー
ル220mg(2.85mM)のN,N−ジメチルホル
ムアミド5ml溶液にジシクロヘキシルカルボジイミド
540mg(2.62mM)を室温で加えた後、室温で
30分間撹拌した。反応終了後、少量の酢酸を加え30
分間撹拌した後、反応混液を氷水中にあけ、析出した結
晶を濾別し、水洗した。濾液と洗液を合せ酢酸エチルで
抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾
燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカ
ラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/エタ
ノール=60/1)により精製することにより〔5−
(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸3−ヒ
ドロキシプロピルエステルを350mg(収率54.8
%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:1.87(quin
t,2H,J=6.10Hz),3.65(t,2H,
J=6.10Hz),4.38(t,2H,J=6.2
2Hz),5.29(s,2H),7.48(dd,1
H,J=5.12,1.22Hz),7.56(dd,
1H,J=5.12,2.69Hz),7.87(d
d,1H,J=2.69,1.22Hz) I.R.νNaClcm-1:3400,2940,174
0,1570,1430,1350,1210 Mass:m/z268〔M+ 〕
【0033】実施例16 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
4−ヒドロキシブチルエステル 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
1g(4.76mM)、1,4−ブタンジオール514
mg(5.71mM)のN,N−ジメチルホルムアミド
10ml溶液にジシクロヘキシルカルボジイミド1.0
8g(5.23mM)を室温で加えた後、室温で30分
間撹拌した。反応終了後、少量の酢酸を加え30分間撹
拌した後、反応混液を氷水中にあけ、析出した結晶を濾
別し、水洗した。濾液と洗液を合せ酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/エタノール
=30/1)により精製することにより〔5−(3−チ
エニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸4−ヒドロキシ
ブチルエステルを810mg(収率60.3%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:1.49−1.78
(m,4H),3.64(br,2H),4.26
(t,2H,J=6.35Hz),5.27(s,2
H),7.48(dd,1H,J=5.12,1.46
Hz),7.56(dd,1H,J=5.12,2.9
3Hz),7.86(dd,1H,J=2.93,1.
46Hz) I.R.νNaClcm-1:3400,2940,174
0,1570,1220 Mass:m/z282〔M+ 〕
4−ヒドロキシブチルエステル 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
1g(4.76mM)、1,4−ブタンジオール514
mg(5.71mM)のN,N−ジメチルホルムアミド
10ml溶液にジシクロヘキシルカルボジイミド1.0
8g(5.23mM)を室温で加えた後、室温で30分
間撹拌した。反応終了後、少量の酢酸を加え30分間撹
拌した後、反応混液を氷水中にあけ、析出した結晶を濾
別し、水洗した。濾液と洗液を合せ酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥後、
減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラムク
ロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/エタノール
=30/1)により精製することにより〔5−(3−チ
エニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸4−ヒドロキシ
ブチルエステルを810mg(収率60.3%)得た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:1.49−1.78
(m,4H),3.64(br,2H),4.26
(t,2H,J=6.35Hz),5.27(s,2
H),7.48(dd,1H,J=5.12,1.46
Hz),7.56(dd,1H,J=5.12,2.9
3Hz),7.86(dd,1H,J=2.93,1.
46Hz) I.R.νNaClcm-1:3400,2940,174
0,1570,1220 Mass:m/z282〔M+ 〕
【0034】実施例17 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
4−ヒドロキシブチルエステル 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
1g(4.76mM)、1,4−ブタンジオール514
mg(5.71mM)の酢酸エチル20ml懸濁液にジ
シクロヘキシルカルボジイミド1.08g(5.23m
M)を室温で加えた後、室温で30分間撹拌した。反応
終了後、少量の酢酸を加え30分間撹拌した後、不溶物
を濾別し、濾液を減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホ
ルム/エタノール=30/1)により精製することによ
り〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢
酸4−ヒドロキシブチルエステルを520mg(収率3
8.7%)得た。機器分析値は実施例16で得られた化
合物と一致した。
4−ヒドロキシブチルエステル 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
1g(4.76mM)、1,4−ブタンジオール514
mg(5.71mM)の酢酸エチル20ml懸濁液にジ
シクロヘキシルカルボジイミド1.08g(5.23m
M)を室温で加えた後、室温で30分間撹拌した。反応
終了後、少量の酢酸を加え30分間撹拌した後、不溶物
を濾別し、濾液を減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホ
ルム/エタノール=30/1)により精製することによ
り〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢
酸4−ヒドロキシブチルエステルを520mg(収率3
8.7%)得た。機器分析値は実施例16で得られた化
合物と一致した。
【0035】実施例18 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
5−ヒドロキシペンチルエステル 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
1g(4.76mM)、1,5−ペンタンジオール59
0mg(5.71mM)のN,N−ジメチルホルムアミ
ド10ml溶液にジシクロヘキシルカルボジイミド1.
08g(5.23mM)を室温で加えた後、室温で30
分間撹拌した。反応終了後、少量の酢酸を加え30分間
撹拌した後、反応混液を氷水中にあけ、析出した結晶を
濾別し、水洗した。濾液と洗液を合せ酢酸エチルで抽出
した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/エタノ
ール=60/1)により精製することにより〔5−(3
−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸5−ヒドロ
キシペンチルエステルを670mg(収率47.5%)
得た。 融点:39−42℃ N.M.R.(CDCl3 )δ:1.38−1.79
(m,6H),3.71(br,2H),4.31
(t,2H,J=6.59Hz),5.35(s,2
H),7.57(dd,1H,J=5.13,1.22
Hz),7.64(dd,1H,J=5.13,2.9
3Hz),7.94(dd,1H,J=2.93,1.
22Hz) I.R.νKBr cm-1:3400,2930,174
0,1570,1430,1220 Mass:m/z296〔M+ 〕
5−ヒドロキシペンチルエステル 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
1g(4.76mM)、1,5−ペンタンジオール59
0mg(5.71mM)のN,N−ジメチルホルムアミ
ド10ml溶液にジシクロヘキシルカルボジイミド1.
08g(5.23mM)を室温で加えた後、室温で30
分間撹拌した。反応終了後、少量の酢酸を加え30分間
撹拌した後、反応混液を氷水中にあけ、析出した結晶を
濾別し、水洗した。濾液と洗液を合せ酢酸エチルで抽出
した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで乾燥
後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/エタノ
ール=60/1)により精製することにより〔5−(3
−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸5−ヒドロ
キシペンチルエステルを670mg(収率47.5%)
得た。 融点:39−42℃ N.M.R.(CDCl3 )δ:1.38−1.79
(m,6H),3.71(br,2H),4.31
(t,2H,J=6.59Hz),5.35(s,2
H),7.57(dd,1H,J=5.13,1.22
Hz),7.64(dd,1H,J=5.13,2.9
3Hz),7.94(dd,1H,J=2.93,1.
22Hz) I.R.νKBr cm-1:3400,2930,174
0,1570,1430,1220 Mass:m/z296〔M+ 〕
【0036】実施例19 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
2−メトキシエチルエステル 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
2g(9.51mM)を2−メトキシエタノール10m
lに溶解し、これに硫酸1mlを加え、90℃で2.5
時間加熱撹拌した。反応液を氷水中にあけ、酢酸エチル
で抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/エ
タノール=30/1)により精製することにより〔5−
(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸2−メ
トキシエチルエステルを2.1g(収率82.3%)得
た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:3.35(s,3
H),3.59(t,2H,J=4.64Hz),4.
40(t,2H,J=4.64Hz),5.29(s,
2H),7.49(dd,1H,J=5.13,1.4
7Hz),7.54(dd,1H,J=5.13,2.
93Hz),7.87(dd,1H,J=2.93,
1.47Hz) I.R.νNaClcm-1:1750,1580,144
0,1220 Mass:m/z268〔M+ 〕 以上、実施例順に化合物を第1表に示す。
2−メトキシエチルエステル 〔5−(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸
2g(9.51mM)を2−メトキシエタノール10m
lに溶解し、これに硫酸1mlを加え、90℃で2.5
時間加熱撹拌した。反応液を氷水中にあけ、酢酸エチル
で抽出した。有機層を水洗し、無水硫酸マグネシウムで
乾燥後、減圧濃縮した。得られた濃縮残渣をシリカゲル
カラムクロマトグラフィー(溶出液:クロロホルム/エ
タノール=30/1)により精製することにより〔5−
(3−チエニル)テトラゾール−1−イル〕酢酸2−メ
トキシエチルエステルを2.1g(収率82.3%)得
た。 N.M.R.(CDCl3 )δ:3.35(s,3
H),3.59(t,2H,J=4.64Hz),4.
40(t,2H,J=4.64Hz),5.29(s,
2H),7.49(dd,1H,J=5.13,1.4
7Hz),7.54(dd,1H,J=5.13,2.
93Hz),7.87(dd,1H,J=2.93,
1.47Hz) I.R.νNaClcm-1:1750,1580,144
0,1220 Mass:m/z268〔M+ 〕 以上、実施例順に化合物を第1表に示す。
【0037】
【表1】
【0038】
【表2】
【0039】以下試験例により、本発明の化合物の薬効
について詳細に説明する。
について詳細に説明する。
【0040】試験例1(アルドースレダクターゼ阻害作
用試験) 試験方法 6週令のSD系雄性ラットをエーテル麻酔下に致死さ
せ、直ちに水晶体を摘出し、−80℃に保存した。水晶
体は、3倍量の135mMナトリウムカリウムリン酸緩
衝液(pH7.0)でホモジナイズし、30,000r
pmで30分間遠心分離した。その上清を0.05M塩
化ナトリウム溶液で一夜透析した後、アルドースレダク
ターゼ液とした。以上の操作は総て4℃で行い、酵素液
は−80℃で保存した。アルドースレダクターゼ活性の
測定は、J.H.Kinoshita等の方法(ジャー
ナル・オブ・バイオロジカル・ケミストリー、240
巻、877頁、1965年(Journal of B
iological Chemistry,vol.2
40,877,1965)参照〕を一部改変して行っ
た。即ち、硫酸リチウム(最終濃度400mM)、還元
型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチドリン酸(最終
濃度0.15mM)、上記の酵素液及び供試化合物(最
終濃度10-5M,10-6M,10-7M及び10-8M)を
含むように調製した100mMナトリウムカリウムリン
酸緩衝液(pH6.2)0.9mlにDL−グリセルア
ルデヒド(最終濃度10mM)0.1mlを加え、30
℃で5分間反応を行った。その間340nmの吸光値を
経時的に測定した。反応期間中の吸光度の最大減少速度
(U)を測定し、この値から基質(DL−グリセルアル
デヒド)添加前の反応液の340nmの吸光値の最大減
少速度(Uo )を差引いて、各供試化合物共存下の真の
反応速度(V)とした(V=U−Uo )。供試化合物不
共存下で上述と同様な反応を行い、酵素が阻害されなか
った場合の真の反応速度(Vo )を求めた(Vo =U′
−Uo ′)。アルドースレダクターゼ阻害率は次の計算
式で求めた。 尚、比較のため公知のアルドースレダクターゼ阻害剤O
NO−2235〔(E)−3−カルボキシメチル−5−
〔(2E)−メチル−3−フェニルプロペニリデン)ロ
ダン〕についても同様な試験を行った。本試験の結果を
第2表に示す。
用試験) 試験方法 6週令のSD系雄性ラットをエーテル麻酔下に致死さ
せ、直ちに水晶体を摘出し、−80℃に保存した。水晶
体は、3倍量の135mMナトリウムカリウムリン酸緩
衝液(pH7.0)でホモジナイズし、30,000r
pmで30分間遠心分離した。その上清を0.05M塩
化ナトリウム溶液で一夜透析した後、アルドースレダク
ターゼ液とした。以上の操作は総て4℃で行い、酵素液
は−80℃で保存した。アルドースレダクターゼ活性の
測定は、J.H.Kinoshita等の方法(ジャー
ナル・オブ・バイオロジカル・ケミストリー、240
巻、877頁、1965年(Journal of B
iological Chemistry,vol.2
40,877,1965)参照〕を一部改変して行っ
た。即ち、硫酸リチウム(最終濃度400mM)、還元
型ニコチンアミドアデニンジヌクレオチドリン酸(最終
濃度0.15mM)、上記の酵素液及び供試化合物(最
終濃度10-5M,10-6M,10-7M及び10-8M)を
含むように調製した100mMナトリウムカリウムリン
酸緩衝液(pH6.2)0.9mlにDL−グリセルア
ルデヒド(最終濃度10mM)0.1mlを加え、30
℃で5分間反応を行った。その間340nmの吸光値を
経時的に測定した。反応期間中の吸光度の最大減少速度
(U)を測定し、この値から基質(DL−グリセルアル
デヒド)添加前の反応液の340nmの吸光値の最大減
少速度(Uo )を差引いて、各供試化合物共存下の真の
反応速度(V)とした(V=U−Uo )。供試化合物不
共存下で上述と同様な反応を行い、酵素が阻害されなか
った場合の真の反応速度(Vo )を求めた(Vo =U′
−Uo ′)。アルドースレダクターゼ阻害率は次の計算
式で求めた。 尚、比較のため公知のアルドースレダクターゼ阻害剤O
NO−2235〔(E)−3−カルボキシメチル−5−
〔(2E)−メチル−3−フェニルプロペニリデン)ロ
ダン〕についても同様な試験を行った。本試験の結果を
第2表に示す。
【0041】
【表3】
【0042】試験例2(座骨神経及びレンズ中のソルビ
トール蓄積に対する阻害作用試験) 試験方法 スプラーグ・ドーリー(Sprague−Dawle
y)系の雌性ラット(6−8週令、1群4匹)を18時
間絶食した後、ストレプトゾトシン60mg/kgの用
量を尾静脈に注射して糖尿病ラットを作成した。このラ
ットにストレプトゾトシン投与直後から供試化合物5m
g/kg、10mg/kg、100mg/kgそれぞれ
0.5%カルボキシメチルセルロースナトリウム懸濁液
として1日1回(午前9時)5日間経口投与した。試験
期間中ラットに餌と水を自由に摂取させた。5日目の朝
(午前9時)に最終薬物投与4時間後にラットを殺し座
骨神経及びレンズを摘出してソルビトール蓄積量を測定
した。結果は薬物非投与コントロール群を100とした
時の百分率として示した。尚、対照としてONO−22
35についても同様な条件で試験を行った。本試験の結
果を第3表に示す。
トール蓄積に対する阻害作用試験) 試験方法 スプラーグ・ドーリー(Sprague−Dawle
y)系の雌性ラット(6−8週令、1群4匹)を18時
間絶食した後、ストレプトゾトシン60mg/kgの用
量を尾静脈に注射して糖尿病ラットを作成した。このラ
ットにストレプトゾトシン投与直後から供試化合物5m
g/kg、10mg/kg、100mg/kgそれぞれ
0.5%カルボキシメチルセルロースナトリウム懸濁液
として1日1回(午前9時)5日間経口投与した。試験
期間中ラットに餌と水を自由に摂取させた。5日目の朝
(午前9時)に最終薬物投与4時間後にラットを殺し座
骨神経及びレンズを摘出してソルビトール蓄積量を測定
した。結果は薬物非投与コントロール群を100とした
時の百分率として示した。尚、対照としてONO−22
35についても同様な条件で試験を行った。本試験の結
果を第3表に示す。
【0043】
【表4】
【0044】試験結果 試験例1においては、対照に比べやや活性が低い値を示
したが、試験例2においては、逆に対照に比べてはるか
に高いソルビトール蓄積阻害率を示した、このことは、
本発明の化合物が生体内において優れたアルドースレダ
クターゼ阻害活性を有することを示している。
したが、試験例2においては、逆に対照に比べてはるか
に高いソルビトール蓄積阻害率を示した、このことは、
本発明の化合物が生体内において優れたアルドースレダ
クターゼ阻害活性を有することを示している。
【0045】また、日本薬学会第111年会で発表した
一般式(III)の化合物(式中、R2が水素または低級ア
ルキル基)の薬効を以下の第4表に示す。
一般式(III)の化合物(式中、R2が水素または低級ア
ルキル基)の薬効を以下の第4表に示す。
【表5】 第3表の結果と、第4表の結果を比較すると分るよう
に、テトラゾールアセテートのアルキルエステル部分に
−OR基を導入することにより、座骨神経中のソルビト
ール蓄積阻害率(%)が改善される。例えば、実施例1
の化合物と、公知化合物No.2を比較すると、両者の
相違は、エチルエステル部分に水酸基が更に付加してい
るかどうかの相違であるが、本発明の化合物(実施例
1)は、公知化合物に比べて座骨神経中のソルビトール
蓄積阻害率が63%から73%と大きく向上している。
に、テトラゾールアセテートのアルキルエステル部分に
−OR基を導入することにより、座骨神経中のソルビト
ール蓄積阻害率(%)が改善される。例えば、実施例1
の化合物と、公知化合物No.2を比較すると、両者の
相違は、エチルエステル部分に水酸基が更に付加してい
るかどうかの相違であるが、本発明の化合物(実施例
1)は、公知化合物に比べて座骨神経中のソルビトール
蓄積阻害率が63%から73%と大きく向上している。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 //(C07D 405/04 257:00 7433−4C 307:00) 7729−4C (C07D 409/04 257:00 7433−4C 333:00) 7729−4C (72)発明者 梅沢 真奈美 神奈川県厚木市森の里1−15−2 (72)発明者 後藤 正義 神奈川県伊勢原市東成瀬4−2−5−408
Claims (3)
- 【請求項1】 一般式〔I〕 【化1】 〔但し、式中Rは水素原子または低級アルキル基を示
し、Aは炭素数2〜7のアルキレン基を示し、Arは各
々、フェニル基、ナフチル基、フリル基、チエニル基、
ベンゾフリル基及びベンゾチエニル基を示し、上記のA
rは置換されていないかあるいは低級アルキル基、低級
アルコキシ基、ハロゲン原子、低級ハロアルキル基、ア
ルキルチオ基、アルキルスルホニルアミノ基の置換基を
有しても良い。〕で示される新規なテトラゾール誘導
体。 - 【請求項2】 一般式〔II〕 【化2】 〔但し、式中、Arは請求項1と同じ〕で示される化合
物にアルキレンジオールまたはアルキレンジオールモノ
アルキルエーテルを反応させることによりなる上記請求
項1に記載の一般式〔I〕で示される化合物の製造法。 - 【請求項3】 上記請求項1記載の一般式〔I〕〔但
し、式中の各記号は請求項1と同じ。〕で示される新規
なテトラゾール誘導体を有効成分とするアルドースレダ
クターゼ阻害剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22782492A JPH05222010A (ja) | 1991-08-06 | 1992-08-05 | テトラゾール誘導体 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21927491 | 1991-08-06 | ||
JP3-219274 | 1991-08-06 | ||
JP22782492A JPH05222010A (ja) | 1991-08-06 | 1992-08-05 | テトラゾール誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05222010A true JPH05222010A (ja) | 1993-08-31 |
Family
ID=26523026
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22782492A Pending JPH05222010A (ja) | 1991-08-06 | 1992-08-05 | テトラゾール誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05222010A (ja) |
-
1992
- 1992-08-05 JP JP22782492A patent/JPH05222010A/ja active Pending
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