JPH05202136A - 官能基を含む、新規硫黄−修飾ブタジエンコポリマー及び他のゴムとのその混合物 - Google Patents
官能基を含む、新規硫黄−修飾ブタジエンコポリマー及び他のゴムとのその混合物Info
- Publication number
- JPH05202136A JPH05202136A JP26785092A JP26785092A JPH05202136A JP H05202136 A JPH05202136 A JP H05202136A JP 26785092 A JP26785092 A JP 26785092A JP 26785092 A JP26785092 A JP 26785092A JP H05202136 A JPH05202136 A JP H05202136A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sulfur
- weight
- mixture
- butadiene
- rubber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 61
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 title claims abstract description 39
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 title claims abstract description 34
- 239000005060 rubber Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 title claims description 12
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 57
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 42
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims abstract description 30
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims abstract description 30
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims abstract description 30
- 239000004636 vulcanized rubber Substances 0.000 claims abstract description 8
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 5
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 abstract description 7
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical compound NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 238000004898 kneading Methods 0.000 abstract description 5
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 abstract description 5
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 abstract description 5
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 abstract description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 abstract 1
- 229920000459 Nitrile rubber Polymers 0.000 description 35
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 19
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 18
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 16
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 15
- 235000019241 carbon black Nutrition 0.000 description 15
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 15
- 239000000047 product Substances 0.000 description 14
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 13
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 13
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 13
- RPACBEVZENYWOL-XFULWGLBSA-M sodium;(2r)-2-[6-(4-chlorophenoxy)hexyl]oxirane-2-carboxylate Chemical compound [Na+].C=1C=C(Cl)C=CC=1OCCCCCC[C@]1(C(=O)[O-])CO1 RPACBEVZENYWOL-XFULWGLBSA-M 0.000 description 12
- 238000004073 vulcanization Methods 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 10
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 9
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N disulfiram Chemical compound CCN(CC)C(=S)SSC(=S)N(CC)CC AUZONCFQVSMFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 7
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 7
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical compound CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 6
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 6
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 6
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 5
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 5
- SZRLKIKBPASKQH-UHFFFAOYSA-M dibutyldithiocarbamate Chemical compound CCCCN(C([S-])=S)CCCC SZRLKIKBPASKQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 5
- 229920001084 poly(chloroprene) Polymers 0.000 description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 5
- 229960002447 thiram Drugs 0.000 description 5
- -1 thiuram disulfides Chemical class 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical compound [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 4
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- 230000003712 anti-aging effect Effects 0.000 description 4
- 229920005549 butyl rubber Polymers 0.000 description 4
- CSNJTIWCTNEOSW-UHFFFAOYSA-N carbamothioylsulfanyl carbamodithioate Chemical compound NC(=S)SSC(N)=S CSNJTIWCTNEOSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011630 iodine Substances 0.000 description 4
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 4
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 3
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 3
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 3
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N thiram Chemical compound CN(C)C(=S)SSC(=S)N(C)C KUAZQDVKQLNFPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 1,5-Hexadiene Natural products CC=CCC=C PRBHEGAFLDMLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZNRLMGFXSPUZNR-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethyl-1h-quinoline Chemical compound C1=CC=C2C(C)=CC(C)(C)NC2=C1 ZNRLMGFXSPUZNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 4,4,4-trifluorobutan-2-one Chemical compound CC(=O)CC(F)(F)F BTXXTMOWISPQSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXLINXBIWJYFNR-UHFFFAOYSA-N 4-phenylpyridine-2-carbonitrile Chemical compound C1=NC(C#N)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1 TXLINXBIWJYFNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JAJIPIAHCFBEPI-UHFFFAOYSA-N 9,10-dioxoanthracene-1-sulfonic acid Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2S(=O)(=O)O JAJIPIAHCFBEPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N Abietic acid Natural products CC(C)C1=CC2=CC[C@]3(C)[C@](C)(CCC[C@@]3(C)C(=O)O)[C@H]2CC1 BQACOLQNOUYJCE-FYZZASKESA-N 0.000 description 2
- RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N Abietic-Saeure Natural products C12CCC(C(C)C)=CC2=CCC2C1(C)CCCC2(C)C(O)=O RSWGJHLUYNHPMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006237 Intermediate SAF Substances 0.000 description 2
- OUBMGJOQLXMSNT-UHFFFAOYSA-N N-isopropyl-N'-phenyl-p-phenylenediamine Chemical compound C1=CC(NC(C)C)=CC=C1NC1=CC=CC=C1 OUBMGJOQLXMSNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006057 Non-nutritive feed additive Substances 0.000 description 2
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 2
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N chloroprene Chemical compound ClC(=C)C=C YACLQRRMGMJLJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019864 coconut oil Nutrition 0.000 description 2
- 239000003240 coconut oil Substances 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N cyclohexa-1,3-diene Chemical compound C1CC=CC=C1 MGNZXYYWBUKAII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N cyclopentadiene Chemical compound C1C=CC=C1 ZSWFCLXCOIISFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 150000002019 disulfides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004659 dithiocarbamates Chemical class 0.000 description 2
- WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N dodecane-1-thiol Chemical compound CCCCCCCCCCCCS WNAHIZMDSQCWRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 2
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 2
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 2
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 2
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical compound C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 150000004965 peroxy acids Chemical class 0.000 description 2
- 229920002587 poly(1,3-butadiene) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 2
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- OJOWICOBYCXEKR-APPZFPTMSA-N (1S,4R)-5-ethylidenebicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound CC=C1C[C@@H]2C[C@@H]1C=C2 OJOWICOBYCXEKR-APPZFPTMSA-N 0.000 description 1
- RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N (1z,3z)-cycloocta-1,3-diene Chemical compound C1CC\C=C/C=C\C1 RRKODOZNUZCUBN-CCAGOZQPSA-N 0.000 description 1
- PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N (4e)-hexa-1,4-diene Chemical compound C\C=C\CC=C PRBHEGAFLDMLAL-GQCTYLIASA-N 0.000 description 1
- HYBLFDUGSBOMPI-BQYQJAHWSA-N (4e)-octa-1,4-diene Chemical compound CCC\C=C\CC=C HYBLFDUGSBOMPI-BQYQJAHWSA-N 0.000 description 1
- OJOWICOBYCXEKR-KRXBUXKQSA-N (5e)-5-ethylidenebicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(=C/C)/CC1C=C2 OJOWICOBYCXEKR-KRXBUXKQSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N (E)-1,3-pentadiene Chemical compound C\C=C\C=C PMJHHCWVYXUKFD-SNAWJCMRSA-N 0.000 description 1
- HIACAHMKXQESOV-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(prop-1-en-2-yl)benzene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1C(C)=C HIACAHMKXQESOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical class C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C(C)=C)OC(=O)C(C)=C OGBWMWKMTUSNKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 1-monostearoylglycerol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 1-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCC(OC(=O)C=C)OC(=O)C=C VOBUAPTXJKMNCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 1755-01-7 Chemical compound C1[C@H]2[C@@H]3CC=C[C@@H]3[C@@H]1C=C2 HECLRDQVFMWTQS-RGOKHQFPSA-N 0.000 description 1
- GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 2,2-bis(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)CO GZBSIABKXVPBFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylbuta-1,3-diene Chemical compound CC(=C)C(C)=C SDJHPPZKZZWAKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-triallyloxy-1,3,5-triazine Chemical compound C=CCOC1=NC(OCC=C)=NC(OCC=C)=N1 BJELTSYBAHKXRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DSAYAFZWRDYBQY-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylhexa-1,5-diene Chemical compound CC(=C)CCC(C)=C DSAYAFZWRDYBQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxypropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC(C)COC(=O)C=C VFZKVQVQOMDJEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 4-(2-methylprop-2-enoyloxy)butyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCOC(=O)C(C)=C XOJWAAUYNWGQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 4-prop-2-enoyloxybutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCOC(=O)C=C JHWGFJBTMHEZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWPQAENAYWENSD-UHFFFAOYSA-N 5-butylidenebicyclo[2.2.1]hept-2-ene Chemical compound C1C2C(=CCCC)CC1C=C2 NWPQAENAYWENSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CWIYBOJLSWJGKV-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical compound CC1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 CWIYBOJLSWJGKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000007173 Abies balsamea Nutrition 0.000 description 1
- 239000004857 Balsam Substances 0.000 description 1
- NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N Butylhydroxytoluene Chemical compound CC1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C(C(C)(C)C)=C1 NLZUEZXRPGMBCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDOMDURUZFIZPF-UHFFFAOYSA-N CC(C)=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C Chemical compound CC(C)=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C HDOMDURUZFIZPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004971 Cross linker Substances 0.000 description 1
- 239000004641 Diallyl-phthalate Substances 0.000 description 1
- 229920001174 Diethylhydroxylamine Polymers 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- DCXXMTOCNZCJGO-UHFFFAOYSA-N Glycerol trioctadecanoate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC DCXXMTOCNZCJGO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 244000018716 Impatiens biflora Species 0.000 description 1
- QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N Iodochlorine Chemical compound ICl QZRGKCOWNLSUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004146 Propane-1,2-diol Substances 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane trimethacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(CC)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C OKKRPWIIYQTPQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical compound C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-(2-methylprop-2-enoyloxy)-2-(2-methylprop-2-enoyloxymethyl)propyl] 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC(C)(COC(=O)C(C)=C)COC(=O)C(C)=C SWHLOXLFJPTYTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N [2-methyl-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HSZUHSXXAOWGQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCJQWJKKTGJDCM-UHFFFAOYSA-N [P].[S] Chemical compound [P].[S] QCJQWJKKTGJDCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910001413 alkali metal ion Inorganic materials 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N bis(prop-2-enyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCC=C QUDWYFHPNIMBFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005345 coagulation Methods 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- FVCOIAYSJZGECG-UHFFFAOYSA-N diethylhydroxylamine Chemical compound CCN(O)CC FVCOIAYSJZGECG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJSBUWDGPXGFGA-UHFFFAOYSA-N dimethyl-butadiene Natural products CC(C)=CC=C CJSBUWDGPXGFGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007323 disproportionation reaction Methods 0.000 description 1
- GRWZHXKQBITJKP-UHFFFAOYSA-L dithionite(2-) Chemical compound [O-]S(=O)S([O-])=O GRWZHXKQBITJKP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N divinyl sulfone Chemical compound C=CS(=O)(=O)C=C AFOSIXZFDONLBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043264 dodecyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 238000004442 gravimetric analysis Methods 0.000 description 1
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical class OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- IUJLOAKJZQBENM-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)-2-methylpropan-2-amine Chemical compound C1=CC=C2SC(SNC(C)(C)C)=NC2=C1 IUJLOAKJZQBENM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N n-(1,3-benzothiazol-2-ylsulfanyl)cyclohexanamine Chemical compound C1CCCCC1NSC1=NC2=CC=CC=C2S1 DEQZTKGFXNUBJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002560 nitrile group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 1
- JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N norbornene Chemical compound C1[C@@H]2CC[C@H]1C=C2 JFNLZVQOOSMTJK-KNVOCYPGSA-N 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006353 oxyethylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229940059574 pentaerithrityl Drugs 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L peroxydisulfate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O JRKICGRDRMAZLK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N piperylene Natural products CC=CC=C PMJHHCWVYXUKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002589 poly(vinylethylene) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910001414 potassium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 1
- 229960004063 propylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000010926 purge Methods 0.000 description 1
- 230000003134 recirculating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 150000004763 sulfides Chemical class 0.000 description 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N tris(prop-2-enyl) benzene-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound C=CCOC(=O)C1=CC=C(C(=O)OCC=C)C(C(=O)OCC=C)=C1 GRPURDFRFHUDSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 1
- 239000003981 vehicle Substances 0.000 description 1
- 229960000834 vinyl ether Drugs 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N zinc;oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Zn+2] RNWHGQJWIACOKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08C—TREATMENT OR CHEMICAL MODIFICATION OF RUBBERS
- C08C19/00—Chemical modification of rubber
- C08C19/08—Depolymerisation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F236/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds
- C08F236/02—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds
- C08F236/04—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, at least one having two or more carbon-to-carbon double bonds the radical having only two carbon-to-carbon double bonds conjugated
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 エチレン性不飽和モノマーと共重合させ、官
能基を含む新規硫黄−修飾ブタジエンを、モノマーの使
用量に基づいて0.05−2.5重量部の硫黄元素又は
当量の硫黄供与体の存在下で、モノマーの使用量に基づ
いて合計0.1−6.0重量部のしゃく解剤を用いて製
造し、C=C二重結合を含む他のゴムとの混合物とし
て、加硫ゴムの製造に使用する。 【効果】 塩素を含まずに優れた特性を持つ加硫ゴムを
製造することができる。
能基を含む新規硫黄−修飾ブタジエンを、モノマーの使
用量に基づいて0.05−2.5重量部の硫黄元素又は
当量の硫黄供与体の存在下で、モノマーの使用量に基づ
いて合計0.1−6.0重量部のしゃく解剤を用いて製
造し、C=C二重結合を含む他のゴムとの混合物とし
て、加硫ゴムの製造に使用する。 【効果】 塩素を含まずに優れた特性を持つ加硫ゴムを
製造することができる。
Description
【0001】本発明は、エチレン性不飽和モノマーと共
重合し、官能基を含む新規硫黄−含有ブタジエン、及び
C=C二重結合を含む他のゴムとのその混合物に関す
る。
重合し、官能基を含む新規硫黄−含有ブタジエン、及び
C=C二重結合を含む他のゴムとのその混合物に関す
る。
【0002】硫黄−含有ブタジエンコポリマーは、西ド
イツ特許211 796に記載されている。これは、バ
ルサム抽出物及び/又はあらかじめ硫黄で不均化したタ
ル樹脂を用いて製造する。しかし不均化の間に少なくと
も硫黄元素の一部が化学的変態を起こし、硫黄元素をブ
タジエンコポリマーの製造に必要な正確な量で使用でき
ない。さらに重合には、ポリマー中の官能基、及び所望
のポリマー粘度を与える選択的解凝固が伴わない。
イツ特許211 796に記載されている。これは、バ
ルサム抽出物及び/又はあらかじめ硫黄で不均化したタ
ル樹脂を用いて製造する。しかし不均化の間に少なくと
も硫黄元素の一部が化学的変態を起こし、硫黄元素をブ
タジエンコポリマーの製造に必要な正確な量で使用でき
ない。さらに重合には、ポリマー中の官能基、及び所望
のポリマー粘度を与える選択的解凝固が伴わない。
【0003】従って本発明は、エチレン性不飽和モノマ
ーと共重合し、官能基を含む硫黄−修飾ブタジエンにお
いて、それらをモノマーの使用量[ブタジエン+エチレ
ン性不飽和モノマー]に基づいて0.05−2.5重量
部、好ましくは0.1−1.5重量部の硫黄元素又は当
量の硫黄供与体の存在下で製造し、しゃく解剤の合計使
用量がモノマーの使用量に基づいて0.1−6.0重量
部、好ましくは0.5−5.0重量部であることを特徴
とするブタジエンに関する。
ーと共重合し、官能基を含む硫黄−修飾ブタジエンにお
いて、それらをモノマーの使用量[ブタジエン+エチレ
ン性不飽和モノマー]に基づいて0.05−2.5重量
部、好ましくは0.1−1.5重量部の硫黄元素又は当
量の硫黄供与体の存在下で製造し、しゃく解剤の合計使
用量がモノマーの使用量に基づいて0.1−6.0重量
部、好ましくは0.5−5.0重量部であることを特徴
とするブタジエンに関する。
【0004】エチレン性不飽和モノマーと共重合させる
ことができるブタジエンは、例えばブタジエン及び/又
はイソプレンであり、ブタジエンが好ましい。
ことができるブタジエンは、例えばブタジエン及び/又
はイソプレンであり、ブタジエンが好ましい。
【0005】ブタジエンと共重合させることができるエ
チレン性不飽和モノマーは、例えばアクリロニトリル、
メタクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル酸、アク
リレート及びメタクリレート、スチレン及びα−メチル
スチレンである。アクリロニトリル及びスチレンが好ま
しい。アクリロニトリルが特に好ましい。エチレン性不
飽和モノマーは、個別に及び互いの混合物として使用す
ることができる。
チレン性不飽和モノマーは、例えばアクリロニトリル、
メタクリロニトリル、アクリル酸、メタクリル酸、アク
リレート及びメタクリレート、スチレン及びα−メチル
スチレンである。アクリロニトリル及びスチレンが好ま
しい。アクリロニトリルが特に好ましい。エチレン性不
飽和モノマーは、個別に及び互いの混合物として使用す
ることができる。
【0006】ブタジエンコポリマーは、2−60重量
%、好ましくは5−50重量%の量でエチレン性不飽和
モノマーを含む。
%、好ましくは5−50重量%の量でエチレン性不飽和
モノマーを含む。
【0007】ブタジエンは、40−98重量%、好まし
くは50−95重量%(挿入された硫黄単位及び官能基
を含まずに)の量でコポリマー中に挿入する。
くは50−95重量%(挿入された硫黄単位及び官能基
を含まずに)の量でコポリマー中に挿入する。
【0008】硫黄−修飾ブタジエンコポリマーは、硫黄
元素又は硫黄供与体、例えばキサントゲンポリスルフィ
ド及びチウラムポリスルフィドの存在下で製造する。ジ
ペンタメチレンチウラムテトラ−及びヘキサスルフィド
を、この種類の代表とし挙げることができる。
元素又は硫黄供与体、例えばキサントゲンポリスルフィ
ド及びチウラムポリスルフィドの存在下で製造する。ジ
ペンタメチレンチウラムテトラ−及びヘキサスルフィド
を、この種類の代表とし挙げることができる。
【0009】硫黄元素の使用が好ましい。硫黄は、モノ
マー中の溶液として、及び水性懸濁液の形態の両方で使
用することができる。水性懸濁液の形態で使用するのが
好ましい。
マー中の溶液として、及び水性懸濁液の形態の両方で使
用することができる。水性懸濁液の形態で使用するのが
好ましい。
【0010】もちろん硫黄及び硫黄供与体は、互いの混
合物として使用することができる。使用するしゃく解剤
は、文献により周知の化合物であり、ジチオカルバメー
ト、チウラムジスルフィド、キサントゲネート、キサン
トゲンジスルフィド、メルカプタン、メルカプトベンズ
チアゾール及びヨードホルムである(W.Obrech
t in Houben−Weyl“Methoden
der organischen Chemie”,
Vol.E20/2(1987),842頁以下,Ge
rog Thieme Verlag,Stuttga
rt/NewYorkを参照)。以下のアニオンを含む
水溶性ジチオカルバメート及び/又はキサントゲネート
合物として使用することができる。使用するしゃく解剤
は、文献により周知の化合物であり、ジチオカルバメー
ト、チウラムジスルフィド、キサントゲネート、キサン
トゲンジスルフィド、メルカプタン、メルカプトベンズ
チアゾール及びヨードホルムである(W.Obrech
t in Houben−Weyl“Methoden
der organischen Chemie”,
Vol.E20/2(1987),842頁以下,Ge
rog Thieme Verlag,Stuttga
rt/NewYorkを参照)。以下のアニオンを含む
水溶性ジチオカルバメート及び/又はキサントゲネート
【0011】
【化1】
【0012】又は
【0013】
【化2】
【0014】及び/又は次式に対応するチウラムジスル
フィド及び/又はキサントゲンジスルフィドの使用が好
ましい:
フィド及び/又はキサントゲンジスルフィドの使用が好
ましい:
【0015】
【化3】
【0016】又は
【0017】
【化4】
【0018】式中、R1、R2及びR3は、同一又は異な
りC1-24アルキル、C5-16シクロアルキル又はC5-18ア
リールであり、最高3個の複素原子を含むことができ、
R1及びR2が共に任意に複素原子、好ましくは1個の複
素原子により中断されていることができる炭素数が3−
5の環を形成することができる。
りC1-24アルキル、C5-16シクロアルキル又はC5-18ア
リールであり、最高3個の複素原子を含むことができ、
R1及びR2が共に任意に複素原子、好ましくは1個の複
素原子により中断されていることができる炭素数が3−
5の環を形成することができる。
【0019】特に好ましい具体化の場合、R1及びR2が
互いに独立してC1-4アルキルであり、R3がC1-8アル
キル又は次式に対応する2,2−(2,4−ジオキサペ
ンタメチレン)−n−ブチルである。
互いに独立してC1-4アルキルであり、R3がC1-8アル
キル又は次式に対応する2,2−(2,4−ジオキサペ
ンタメチレン)−n−ブチルである。
【0020】
【化5】
【0021】好ましい複素原子は、窒素及び酸素であ
る。
る。
【0022】しゃく解剤(1)及び(2)のための好ま
しいカチオンは、アルカリ金属イオン、特にナトリウム
及びカリウムイオン、ならびにアンモニウムイオンであ
る。しゃく解剤の使用により、ポリマー中の硫黄セグメ
ントの分裂が促進され、ポリマー中に官能基が導入され
る(K.Mitsumichi等,Journalof
the Society of Rubber In
dustry,Japan,Vol.63,322−3
30頁(1990);Y.Miyata等,Inter
national Rubber Conferenc
e Kyoto,16A−12,217−222頁(1
985)及びA.L.Klebanskii等,Jou
rnal of Polymer Science,V
ol.30,363−374頁(1958),Prag
ue Symposiumを参照)。
しいカチオンは、アルカリ金属イオン、特にナトリウム
及びカリウムイオン、ならびにアンモニウムイオンであ
る。しゃく解剤の使用により、ポリマー中の硫黄セグメ
ントの分裂が促進され、ポリマー中に官能基が導入され
る(K.Mitsumichi等,Journalof
the Society of Rubber In
dustry,Japan,Vol.63,322−3
30頁(1990);Y.Miyata等,Inter
national Rubber Conferenc
e Kyoto,16A−12,217−222頁(1
985)及びA.L.Klebanskii等,Jou
rnal of Polymer Science,V
ol.30,363−374頁(1958),Prag
ue Symposiumを参照)。
【0023】ジチオカルバメート及びチウラムジスルフ
ィドならびにキサントゲネート及びキサントゲンスルフ
ィドを使用すると、ジチオカルバメート及びキサントゲ
ネート官能基が導入される。
ィドならびにキサントゲネート及びキサントゲンスルフ
ィドを使用すると、ジチオカルバメート及びキサントゲ
ネート官能基が導入される。
【0024】しゃく解剤は、互いに組み合わせて使用す
ることもできる。それらは、重合の前、その間及び後に
加えることができる。ジチオカルバメート及び/又はキ
サントゲネートを重合開始の前に添加し、チウラムジス
ルフィド及び/又はキサントゲンジスルフィドの、重合
反応の連鎖停止相、又は未反応モノマーの除去前又は後
の連鎖停止樹脂への添加と組み合わせるのが特に好まし
い。これに関してメルカプタン及び/又はキサントゲン
ジスルフィドを重合の開始前にさらに導入するのも有利
である。
ることもできる。それらは、重合の前、その間及び後に
加えることができる。ジチオカルバメート及び/又はキ
サントゲネートを重合開始の前に添加し、チウラムジス
ルフィド及び/又はキサントゲンジスルフィドの、重合
反応の連鎖停止相、又は未反応モノマーの除去前又は後
の連鎖停止樹脂への添加と組み合わせるのが特に好まし
い。これに関してメルカプタン及び/又はキサントゲン
ジスルフィドを重合の開始前にさらに導入するのも有利
である。
【0025】硫黄−修飾ブタジエンコポリマーは、例え
ばDE 19 11 439,2018 736,27
55 074,32 46 748,35 07 8
25,26 45 920,EP 21 212,20
0 857,FR 1 457 004及びUS−PS
2,264,713, 3,378,538及び3,
397,173に記載の硫黄−修飾ポリクロロプレンと
同様の方法で製造する(W.Obrecht in H
ouben−Weyl“Methodender or
ganischen Chemie”,Vol.E20
/2(1987),842頁以下,Georg Thi
eme Verlag,Stuttgart/New
Yorkも参照)。
ばDE 19 11 439,2018 736,27
55 074,32 46 748,35 07 8
25,26 45 920,EP 21 212,20
0 857,FR 1 457 004及びUS−PS
2,264,713, 3,378,538及び3,
397,173に記載の硫黄−修飾ポリクロロプレンと
同様の方法で製造する(W.Obrecht in H
ouben−Weyl“Methodender or
ganischen Chemie”,Vol.E20
/2(1987),842頁以下,Georg Thi
eme Verlag,Stuttgart/New
Yorkも参照)。
【0026】コポリマーは、不連続的に又は連続的に、
溶液重合及び乳化重合の両方により製造することができ
る。0−70℃、好ましくは0−50℃で乳化重合によ
り製造するのが好ましい。
溶液重合及び乳化重合の両方により製造することができ
る。0−70℃、好ましくは0−50℃で乳化重合によ
り製造するのが好ましい。
【0027】本発明の硫黄−修飾ブタジエンコポリマー
のムーニー粘度(DIN 53 523に従う)は一般
に5−140、好ましくは10−120MU(ML 1
+4/100℃)である。
のムーニー粘度(DIN 53 523に従う)は一般
に5−140、好ましくは10−120MU(ML 1
+4/100℃)である。
【0028】保存中の安定性を増すためにフェノール
性、アミン性、リン−及び硫黄−含有化合物などの安定
剤を本発明のブタジエンコポリマーに加えることができ
る。
性、アミン性、リン−及び硫黄−含有化合物などの安定
剤を本発明のブタジエンコポリマーに加えることができ
る。
【0029】好ましい硫黄−修飾ブタジエン/アクリニ
トリルコポリマー(後文ではS−NBRと呼ぶ)は、重
合ブタジエン単位の他に、コポリマーに対して2−60
重量%、好ましくは5−50重量%の共重合アクリロニ
トリル単位を含む。S−NBRは以下の混合物を含むと
理解される: −架橋S−NBR(ゲル)と非架橋S−NBR(ゾル)
の混合物;ゲルは、トルエン又はメチルエチルケトンな
どの溶剤に不溶性のポリマーを意味する。ゲル含有量
は、最高97重量%である。
トリルコポリマー(後文ではS−NBRと呼ぶ)は、重
合ブタジエン単位の他に、コポリマーに対して2−60
重量%、好ましくは5−50重量%の共重合アクリロニ
トリル単位を含む。S−NBRは以下の混合物を含むと
理解される: −架橋S−NBR(ゲル)と非架橋S−NBR(ゾル)
の混合物;ゲルは、トルエン又はメチルエチルケトンな
どの溶剤に不溶性のポリマーを意味する。ゲル含有量
は、最高97重量%である。
【0030】−ニトリル含有量の異なるS−NBRの混
合物。混合物の各成分中のニトリル含有量は、2−60
重量%である。
合物。混合物の各成分中のニトリル含有量は、2−60
重量%である。
【0031】−異なる量の硫黄元素又は当量の硫黄供与
体を用いて製造したS−NBRの混合物;混合物の各成
分の製造に用いた硫黄の量は、モノマーの使用量に対し
て0.05−2.5重量部であることができる。
体を用いて製造したS−NBRの混合物;混合物の各成
分の製造に用いた硫黄の量は、モノマーの使用量に対し
て0.05−2.5重量部であることができる。
【0032】−ニトリル含有量が異なり、その製造に使
用した硫黄の量又は硫黄供与体の当量が異なるS−NB
Rの混合物。混合物の各成分の変動の範囲は、モノマー
の使用量に対して2−60重量%のニトリル含有量及び
0.05−2.5重量部の硫黄であることができる。
用した硫黄の量又は硫黄供与体の当量が異なるS−NB
Rの混合物。混合物の各成分の変動の範囲は、モノマー
の使用量に対して2−60重量%のニトリル含有量及び
0.05−2.5重量部の硫黄であることができる。
【0033】−S−NBRと架橋及び/又は非架橋硫黄
−非含有NBR(すなわち硫黄元素を含まない)との混
合物、ならびに上記の変動の組み合わせ。
−非含有NBR(すなわち硫黄元素を含まない)との混
合物、ならびに上記の変動の組み合わせ。
【0034】一般に各成分の使用量は、目的とする特定
の用途により決定する。従って天然ゴム、混合物及び加
硫ゴムの性質は、熟練者に周知の影響を受ける。例えば
押し出し物が押し出しの時に起こす膨潤は、ゲル含有量
により影響される。ニトリル含有量は、例えば低温柔軟
度、燃料中の膨潤度、引っ張り強さ及び加硫ゴムの弾性
率などの性質に影響する。
の用途により決定する。従って天然ゴム、混合物及び加
硫ゴムの性質は、熟練者に周知の影響を受ける。例えば
押し出し物が押し出しの時に起こす膨潤は、ゲル含有量
により影響される。ニトリル含有量は、例えば低温柔軟
度、燃料中の膨潤度、引っ張り強さ及び加硫ゴムの弾性
率などの性質に影響する。
【0035】架橋S−NBRは、高変換率の重合によ
り、又はモノマー流入法を用いた場合は高内部変換率の
重合により製造することができる。S−NBRは、架橋
効果を持つ多官能基化合物の共重合によっても架橋する
ことができる。好ましい架橋性多官能基コモノマーは、
少なくとも2個、好ましくは2又は3個の共重合性C=
C二重結合を持つ化合物、例えばジイソプロペニルベン
ゼン、ジビニルベンゼン、ジビニルエーテル、ジビニル
スルホン、ジアリルフタレート、トリアリルシアヌレー
ト、トリアリルイソシアヌレート、1,2−ポリブタジ
エン、N,N’−m−フェニレンジマレイミド、トリア
リルトリメリテートならびに多価、好ましくは2価から
4価のC2-10アルコール、例えばエチレングリコール、
プロパン−1,2−ジオール、プロパン−1,3−ジオ
ール、ブタン−1,4−ジオール、ヘキサン−1,6−
ジオール、2−20、好ましくは2−4個のオキシエチ
レン単位を持つポリエチレングリコールトリメチロール
エタン及びプロパン、テトラメチロールメタンのアクリ
レート及びメタクリレートである。好ましい架橋性アク
リレート及びメタクリレートは、エチレンジアクリレー
ト及びジメタクリレート、プロピレンジアクリレート及
びジメタクリレート、イソブチレンジアクリレート及び
ジメタクリレート、ブチレンジアクリレート及びジメタ
クレリート、ヘキサンジオールジアクリレート及びジメ
タクリレート、ジ−、トリ−及びテトラエチレングリコ
ールジアクリレート及びジメタクリレート、トリメチロ
ールエタントリアクリレート及びトリメタクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート及びトリメタ
クリレート及び/又はテトラメチロールメタンテトラア
クリレート及びテトラメタクリレートである。
り、又はモノマー流入法を用いた場合は高内部変換率の
重合により製造することができる。S−NBRは、架橋
効果を持つ多官能基化合物の共重合によっても架橋する
ことができる。好ましい架橋性多官能基コモノマーは、
少なくとも2個、好ましくは2又は3個の共重合性C=
C二重結合を持つ化合物、例えばジイソプロペニルベン
ゼン、ジビニルベンゼン、ジビニルエーテル、ジビニル
スルホン、ジアリルフタレート、トリアリルシアヌレー
ト、トリアリルイソシアヌレート、1,2−ポリブタジ
エン、N,N’−m−フェニレンジマレイミド、トリア
リルトリメリテートならびに多価、好ましくは2価から
4価のC2-10アルコール、例えばエチレングリコール、
プロパン−1,2−ジオール、プロパン−1,3−ジオ
ール、ブタン−1,4−ジオール、ヘキサン−1,6−
ジオール、2−20、好ましくは2−4個のオキシエチ
レン単位を持つポリエチレングリコールトリメチロール
エタン及びプロパン、テトラメチロールメタンのアクリ
レート及びメタクリレートである。好ましい架橋性アク
リレート及びメタクリレートは、エチレンジアクリレー
ト及びジメタクリレート、プロピレンジアクリレート及
びジメタクリレート、イソブチレンジアクリレート及び
ジメタクリレート、ブチレンジアクリレート及びジメタ
クレリート、ヘキサンジオールジアクリレート及びジメ
タクリレート、ジ−、トリ−及びテトラエチレングリコ
ールジアクリレート及びジメタクリレート、トリメチロ
ールエタントリアクリレート及びトリメタクリレート、
トリメチロールプロパントリアクリレート及びトリメタ
クリレート及び/又はテトラメチロールメタンテトラア
クリレート及びテトラメタクリレートである。
【0036】硫黄−修飾ブタジエンコポリマー、特にS
−NBRは、加硫促進剤を必要とせずに実際の要求に適
した加硫速度で加硫することができる。非架橋、すなわ
ち溶解性S−NBR(ゾル)は特に混練の改良、すなわ
ち向上が顕著であり、熟練者に周知の通り、粘度の低下
の故に混合物の製造の間のエネルギー消費が少ない。従
って本発明は、エチレン性不飽和モノマーと共重合し、
官能基を含む硫黄−修飾ブタジエンから得た加硫ゴムも
含む。
−NBRは、加硫促進剤を必要とせずに実際の要求に適
した加硫速度で加硫することができる。非架橋、すなわ
ち溶解性S−NBR(ゾル)は特に混練の改良、すなわ
ち向上が顕著であり、熟練者に周知の通り、粘度の低下
の故に混合物の製造の間のエネルギー消費が少ない。従
って本発明は、エチレン性不飽和モノマーと共重合し、
官能基を含む硫黄−修飾ブタジエンから得た加硫ゴムも
含む。
【0037】官能基を含む本発明の硫黄−修飾ブタジエ
ンコポリマーは、通常の方法で、どのような充填剤の存
在下ででも加硫することができる。好ましい充填剤は、
カーボンブラックである。好ましいカーボンブラックの
表面積は、35−200m2/g(CTAB測定)であ
る。特に好ましいカーボンブラックは、SAF、HA
F、FEF、ISAF及びSRFカーボンブラックなら
びにそれらの合物である。(充填剤活性剤を含む、及び
含まない)カーボンブラックとシリカの混合物、ならび
に粒径及び表面積がカーボンブラックと同等であるシリ
カも、充填剤として適している。充填剤の含有量は、熟
練者に周知の通り広い範囲内で変えることができ、特定
の用途に合わせるべきである。
ンコポリマーは、通常の方法で、どのような充填剤の存
在下ででも加硫することができる。好ましい充填剤は、
カーボンブラックである。好ましいカーボンブラックの
表面積は、35−200m2/g(CTAB測定)であ
る。特に好ましいカーボンブラックは、SAF、HA
F、FEF、ISAF及びSRFカーボンブラックなら
びにそれらの合物である。(充填剤活性剤を含む、及び
含まない)カーボンブラックとシリカの混合物、ならび
に粒径及び表面積がカーボンブラックと同等であるシリ
カも、充填剤として適している。充填剤の含有量は、熟
練者に周知の通り広い範囲内で変えることができ、特定
の用途に合わせるべきである。
【0038】所望の性質を持つ粗混合物又は加硫ゴムを
得るために、通常の加工助剤、可塑剤、老化防止剤、サ
ブ及び樹脂を本発明のブタジエンコポリマーに加えるこ
とができる。
得るために、通常の加工助剤、可塑剤、老化防止剤、サ
ブ及び樹脂を本発明のブタジエンコポリマーに加えるこ
とができる。
【0039】適した架橋系は、硫黄架橋、過酸架橋、ウ
レタン架橋、金属酸化物架橋、樹脂架橋、放射架橋及び
これらの組み合わせなどの、ゴムの技術で典型的に用い
られるいずれの系であることもできる。使用する特定の
架橋系は、本発明のブタジエンコポリマーの組成及び特
定の用途により決定する。
レタン架橋、金属酸化物架橋、樹脂架橋、放射架橋及び
これらの組み合わせなどの、ゴムの技術で典型的に用い
られるいずれの系であることもできる。使用する特定の
架橋系は、本発明のブタジエンコポリマーの組成及び特
定の用途により決定する。
【0040】本発明の硫黄−修飾ブタジエンコポリマー
の別の有用な性質は、C=C二重結合を含むゴムと混合
すると、それから製造する加硫ゴムのヒステリシス損失
が減少することである。
の別の有用な性質は、C=C二重結合を含むゴムと混合
すると、それから製造する加硫ゴムのヒステリシス損失
が減少することである。
【0041】ゴムの技術において、ヒステリシス損失
は、エラストマーの動応力の結果不可逆的に熱に変換さ
れるエネルギーの量である。ヒステリシス損失は、貯蔵
弾性率に対する損失弾性率の比として定義されるtan
δとして測定する。DIN53 513,DIN53
535も参照。使用上重要な温度/周波数又は振幅範
囲におけるtan δの減少により、エラストマー中の
熱の蓄積が減少する。ヒステリシス損失が減少した加硫
ゴムのタイヤトレッドは、回転抵抗性の減少、従ってそ
れを装着した自動車の燃料消費の低下において顕著であ
る。
は、エラストマーの動応力の結果不可逆的に熱に変換さ
れるエネルギーの量である。ヒステリシス損失は、貯蔵
弾性率に対する損失弾性率の比として定義されるtan
δとして測定する。DIN53 513,DIN53
535も参照。使用上重要な温度/周波数又は振幅範
囲におけるtan δの減少により、エラストマー中の
熱の蓄積が減少する。ヒステリシス損失が減少した加硫
ゴムのタイヤトレッドは、回転抵抗性の減少、従ってそ
れを装着した自動車の燃料消費の低下において顕著であ
る。
【0042】使用できるゴムが多数あるにもかかわら
ず、タイヤ製造の熟練者の注意は中でも天然ゴム(N
R)、シス−ポリブタジエン(BR)及びスチレン/ブ
タジエンコポリマー(SBR)に向けられている。これ
らのゴム又はその混合物は、世界中でタイヤ製造に使用
されている。
ず、タイヤ製造の熟練者の注意は中でも天然ゴム(N
R)、シス−ポリブタジエン(BR)及びスチレン/ブ
タジエンコポリマー(SBR)に向けられている。これ
らのゴム又はその混合物は、世界中でタイヤ製造に使用
されている。
【0043】タイヤトレッドの回転抵抗性を減少させる
多くの試みが文献に記載されている。C=C二重結合を
含むゴムと硫黄−修飾ポリクロロプレンゲルの混合物
が、この目的で提示された(EP 405 216)。
しかしこれらの混合物の欠点は、不溶性ポリマー(ゲ
ル)を用いなければならないことである。ゲルの製造に
は高い変換率が必要で、すなわち比較的長い重合時間、
又は架橋化学品の余分の使用が必要である。しかし両方
共製造コストの増加を招く。CRゲルの使用のさらに別
の欠点は、ゴムの価格及び塩素−含有成分を考慮した場
合の中古タイヤの再使用に含まれる生態学的問題にあ
る。
多くの試みが文献に記載されている。C=C二重結合を
含むゴムと硫黄−修飾ポリクロロプレンゲルの混合物
が、この目的で提示された(EP 405 216)。
しかしこれらの混合物の欠点は、不溶性ポリマー(ゲ
ル)を用いなければならないことである。ゲルの製造に
は高い変換率が必要で、すなわち比較的長い重合時間、
又は架橋化学品の余分の使用が必要である。しかし両方
共製造コストの増加を招く。CRゲルの使用のさらに別
の欠点は、ゴムの価格及び塩素−含有成分を考慮した場
合の中古タイヤの再使用に含まれる生態学的問題にあ
る。
【0044】従って本発明は、 A)エチレン性不飽和モノマーと共重合させ、官能基を
含む硫黄−修飾ブタジエン、及び B)C=C二重結合を含む他のゴムの混合物において、
ブタジエンコポリマーA)の量が成分A)及びB)に基
づいて1−90重量%、好ましくは3−70重量%であ
ることを特徴とする混合物も含む。
含む硫黄−修飾ブタジエン、及び B)C=C二重結合を含む他のゴムの混合物において、
ブタジエンコポリマーA)の量が成分A)及びB)に基
づいて1−90重量%、好ましくは3−70重量%であ
ることを特徴とする混合物も含む。
【0045】もちろん用途によってはより高いパーセン
テージの硫黄−修飾ブタジエンコポリマーを使用するこ
とができる。
テージの硫黄−修飾ブタジエンコポリマーを使用するこ
とができる。
【0046】好ましい硫黄−含有コポリマーA)は、前
文で記載した種類のブタジエン/アクリロニトリルコポ
リマーである。
文で記載した種類のブタジエン/アクリロニトリルコポ
リマーである。
【0047】好ましいゴムB)は、少なくとも2、好ま
しくは5−470の範囲のヨウ素価に対応するC=C二
重結合を含む。ヨウ素価は一般にWijs法による酢酸
中の塩化ヨウ素の添加により決定する(DIN 53
241,パート1)。ヨウ素価は、100gの基質によ
り化学的に結合したヨウ素の量をグラムで表した値であ
る。
しくは5−470の範囲のヨウ素価に対応するC=C二
重結合を含む。ヨウ素価は一般にWijs法による酢酸
中の塩化ヨウ素の添加により決定する(DIN 53
241,パート1)。ヨウ素価は、100gの基質によ
り化学的に結合したヨウ素の量をグラムで表した値であ
る。
【0048】ゴムB)には、中でもEPDM、ブチルゴ
ム、ニトリルゴム、水素化ニトリルゴム、天然ゴム、ポ
リイソプレン、ポリブタジエン及びスチレン/ブタジエ
ンコポリマー(SBR)ならびにこれらの混合物が含ま
れる。
ム、ニトリルゴム、水素化ニトリルゴム、天然ゴム、ポ
リイソプレン、ポリブタジエン及びスチレン/ブタジエ
ンコポリマー(SBR)ならびにこれらの混合物が含ま
れる。
【0049】ゴムB)のムーニー粘度(DIN53 5
23)は、10−150、好ましくは25−80(ML
1+4)/100℃である。
23)は、10−150、好ましくは25−80(ML
1+4)/100℃である。
【0050】略字“EPDM”は、エチレン/プロピレ
ン/ジエン三元ポリマーを示す。EPDMは、プロピレ
ン単位に対するエチレン単位の重量比が40:60から
65:35の範囲であり、炭素原子1,000個当たり
1−20個のC=C二重結合を含むことができるゴムを
含む。EPDM中の適したジエンモノマーの例は、共役
ジエン、例えばイソプレン及び1,3−ブタジエン、な
らびに炭素数が5−25の非共役ジエン、例えば1,4
−ペンタジエン、1,4−ヘキサジエン、1,5−ヘキ
サジエン、2,5−ジメチル−1,5−ヘキサジエン及
び1,4−オクタジエン;環状ジエン、例えばシクロペ
ンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン
及びジシクロペンタジエン;アルキリデン及びアルケニ
ルノルボルネン、例えば5−エチリデン−2−ノルボル
ネン、5−ブチリデン−2−ノルボルネン、2−メチル
アリル−5−ノルボルネン、2−イソプロペニル−5−
ノルボルネン及びトリシクロジエンである。
ン/ジエン三元ポリマーを示す。EPDMは、プロピレ
ン単位に対するエチレン単位の重量比が40:60から
65:35の範囲であり、炭素原子1,000個当たり
1−20個のC=C二重結合を含むことができるゴムを
含む。EPDM中の適したジエンモノマーの例は、共役
ジエン、例えばイソプレン及び1,3−ブタジエン、な
らびに炭素数が5−25の非共役ジエン、例えば1,4
−ペンタジエン、1,4−ヘキサジエン、1,5−ヘキ
サジエン、2,5−ジメチル−1,5−ヘキサジエン及
び1,4−オクタジエン;環状ジエン、例えばシクロペ
ンタジエン、シクロヘキサジエン、シクロオクタジエン
及びジシクロペンタジエン;アルキリデン及びアルケニ
ルノルボルネン、例えば5−エチリデン−2−ノルボル
ネン、5−ブチリデン−2−ノルボルネン、2−メチル
アリル−5−ノルボルネン、2−イソプロペニル−5−
ノルボルネン及びトリシクロジエンである。
【0051】非共役ジエン、1,5−ヘキサジエン、エ
チリデンノルボルネン及びジシクロペンタジエンが好ま
しい。EPDM中のジエン含有量は、EPDMに基づい
て0.5−10重量%が好ましい。
チリデンノルボルネン及びジシクロペンタジエンが好ま
しい。EPDM中のジエン含有量は、EPDMに基づい
て0.5−10重量%が好ましい。
【0052】問題の種類のEPDMゴムは、例えばDE
−OS 2 808 709に記載されている。
−OS 2 808 709に記載されている。
【0053】本発明に関する限り“ブチルゴム”という
表現は、95−99.5重量%、好ましくは97.5−
99.5重量%のイソブテン及び0.5−5重量%、好
ましくは0.5−2.5重量%の共重合性ジエン、例え
ばブタジエン、ジメチルブタジエン、1,3−ペンタジ
エン、特にイソプレンから成るイソブテンコポリマーを
含む。工業規模の場合ブチルゴムはほとんど例外なくイ
ソブテン/イソプレンコポリマーとして低温におけるカ
チオン性溶液重合により製造する。例えばKirk−O
thmer,Encyclopedia of Che
mical Technology,第2版、Vol.
7,688頁,Interscience Publ.
New York/London/Sydney,19
65及びWinnacker−Kuechler,Ch
emische Technologie,第4版,V
ol.6,550−555頁,Carl Hanser
Verlag,Muenchen/Wien 1962
を参照。
表現は、95−99.5重量%、好ましくは97.5−
99.5重量%のイソブテン及び0.5−5重量%、好
ましくは0.5−2.5重量%の共重合性ジエン、例え
ばブタジエン、ジメチルブタジエン、1,3−ペンタジ
エン、特にイソプレンから成るイソブテンコポリマーを
含む。工業規模の場合ブチルゴムはほとんど例外なくイ
ソブテン/イソプレンコポリマーとして低温におけるカ
チオン性溶液重合により製造する。例えばKirk−O
thmer,Encyclopedia of Che
mical Technology,第2版、Vol.
7,688頁,Interscience Publ.
New York/London/Sydney,19
65及びWinnacker−Kuechler,Ch
emische Technologie,第4版,V
ol.6,550−555頁,Carl Hanser
Verlag,Muenchen/Wien 1962
を参照。
【0054】“ニトリルゴム”という表現は、5−60
重量%、好ましくは10−50重量%の共重合性アクリ
ロニトリルを含むブタジエン/アクリロニトリルコポリ
マーを示す。これに関して“水素化”は、水素化可能な
C=C二重結合の90−98.5、好ましくは95−9
8%が水素化されているがニトリル基のC≡N三重結合
は水素化されていないことを意味する。ニトリルゴムの
水素化は、周知である(US−PS 3,700,63
7、DE−OS 25 39 132,3046 00
8,30 46 251,32 27 650,33
29 974,EP−A 111 412,FR−PS
2 540 503)。
重量%、好ましくは10−50重量%の共重合性アクリ
ロニトリルを含むブタジエン/アクリロニトリルコポリ
マーを示す。これに関して“水素化”は、水素化可能な
C=C二重結合の90−98.5、好ましくは95−9
8%が水素化されているがニトリル基のC≡N三重結合
は水素化されていないことを意味する。ニトリルゴムの
水素化は、周知である(US−PS 3,700,63
7、DE−OS 25 39 132,3046 00
8,30 46 251,32 27 650,33
29 974,EP−A 111 412,FR−PS
2 540 503)。
【0055】好ましいスチレン/ブタジエンコポリマー
は、18−60重量%、好ましくは20−50重量%の
共重合性スチレンを含むコポリマーである。溶液及び乳
化重合が特に好ましい。
は、18−60重量%、好ましくは20−50重量%の
共重合性スチレンを含むコポリマーである。溶液及び乳
化重合が特に好ましい。
【0056】もちろんどのような充填剤も本発明のゴム
混合物に加えることができる。。好ましい充填剤は、カ
ーボンブラックである。好ましいカーボンブラックの表
面積は、35−200m2/g(CTAB測定)であ
る。特に好ましいカーボンブラックは、SAF、HA
F、FEF、ISAF及びSRFカーボンブラックなら
びにそれらの混合物である。(充填剤活性剤を含む、及
び含まない)カーボンブラックとシリカの混合物、なら
びに粒径及び表面積がカーボンブラックと同等であるシ
リカも、充填剤として適している。充填剤の含有量は、
熟練者に周知の通り広い範囲内で変えることができる
が、ゴム(A+B)100重量部当たり30−80重量
部の充填剤の使用が多い。
混合物に加えることができる。。好ましい充填剤は、カ
ーボンブラックである。好ましいカーボンブラックの表
面積は、35−200m2/g(CTAB測定)であ
る。特に好ましいカーボンブラックは、SAF、HA
F、FEF、ISAF及びSRFカーボンブラックなら
びにそれらの混合物である。(充填剤活性剤を含む、及
び含まない)カーボンブラックとシリカの混合物、なら
びに粒径及び表面積がカーボンブラックと同等であるシ
リカも、充填剤として適している。充填剤の含有量は、
熟練者に周知の通り広い範囲内で変えることができる
が、ゴム(A+B)100重量部当たり30−80重量
部の充填剤の使用が多い。
【0057】本発明の混合物は、種々の方法で製造する
ことができる。他方、もちろん固体の各成分を混合する
こともできる。適した混合装置は、例えば練りロール及
び密閉式ミキサーである。しかし各ゴムのラテックスの
混合により製造することもできる。そのようにして製造
した本発明の混合物は、蒸発による濃縮、沈澱又は凍結
凝固により通常の方法で単離することができる(US−
PS 2,187,146を参照)。ラテックス混合物
に充填剤を挿入し、その後仕上げをすることにより、本
発明の混合物をゴム/充填剤配合物として直接得ること
ができる。従って本発明は、成分を合わせることによる
上記の混合物の製造法も含む。
ことができる。他方、もちろん固体の各成分を混合する
こともできる。適した混合装置は、例えば練りロール及
び密閉式ミキサーである。しかし各ゴムのラテックスの
混合により製造することもできる。そのようにして製造
した本発明の混合物は、蒸発による濃縮、沈澱又は凍結
凝固により通常の方法で単離することができる(US−
PS 2,187,146を参照)。ラテックス混合物
に充填剤を挿入し、その後仕上げをすることにより、本
発明の混合物をゴム/充填剤配合物として直接得ること
ができる。従って本発明は、成分を合わせることによる
上記の混合物の製造法も含む。
【0058】所望の性質を持つ粗混合物又は加硫ゴムを
得るために、通常の加工助剤、可塑剤、老化防止剤、サ
ブ及び樹脂を本発明の混合物に加えることができる。
得るために、通常の加工助剤、可塑剤、老化防止剤、サ
ブ及び樹脂を本発明の混合物に加えることができる。
【0059】適した架橋系は、硫黄架橋、過酸架橋、ウ
レタン架橋、金属酸化物架橋、樹脂架橋、放射架橋及び
これらの組み合わせなどの、ゴムの技術で典型的に用い
られるいずれの系であることもできる。好ましい架橋系
は、本発明の混合物で使用するゴムBに依存し、硫黄架
橋系が特に好ましい。
レタン架橋、金属酸化物架橋、樹脂架橋、放射架橋及び
これらの組み合わせなどの、ゴムの技術で典型的に用い
られるいずれの系であることもできる。好ましい架橋系
は、本発明の混合物で使用するゴムBに依存し、硫黄架
橋系が特に好ましい。
【0060】本発明は、上記の混合物から製造した加硫
ゴムも含む。
ゴムも含む。
【0061】本発明の混合物の加硫ゴムは、ヒステリシ
ス損失が減少しており、従ってタイヤの製造に非常に適
している。
ス損失が減少しており、従ってタイヤの製造に非常に適
している。
【0062】
1.本発明の硫黄−修飾ブタジエン/アクリロニトリル
コポリマーA及びBの製造 以下の基本的配合を用い、250リットルの撹拌反応容
器中で重合を行った(量は、重量部)。
コポリマーA及びBの製造 以下の基本的配合を用い、250リットルの撹拌反応容
器中で重合を行った(量は、重量部)。
【0063】
【表1】 S−NBR A S−NBR B ─────────────────────────────────── アクリロニトリル 35 31.5 ブタジエン 65 67.5 ジビニルベンゼン 0.8 脱イオン水(合計量) 155 152 ココナツ油脂肪酸のK塩 3.5 2.6 ナフタレンスルホン酸とホルムアルデヒド 0.5 0.4 の縮合物(Na塩) tert.ドデシルメルカプタン 0.07 0.15 硫黄 0.4 0.6 トリエタノールアミン 0.44 0.88 ジブチルジチオカルバメート(Na塩) 2.0 2.0 カリウム ペルオキソジサルフェート 0.92 1.84 (合計量) 70%の変換率で重合を停止し、ラテックスを以下の安定剤で安定させた: テトラエチルチウラムジスルフィド 1.5 1.5 老化防止剤(Vulkanox KBR, 1.25 1.25 Bayer AGの製品) 重合は、窒素雰囲気下で行った。脱イオン水(pH1
2)、ココナツ油脂肪酸のK塩、トリエタノールアミン
及びナフタレンスルホン酸/ホルムアルデヒド縮合物の
Na塩を含む水相を撹拌反応容器に導入した。その後ア
クリロニトリル(S−NBR Bの場合はジビニルベン
ゼンと共に)及びブタジエンを連続的に加えた。硫黄を
50重量%の水性分散液の形態で加え、ジブチルジチオ
カルバメート(Na塩)を30%水溶液の形態で加え
た。形成された乳液の温度を25℃に調節し、3.5%
水溶液の形態のカリウムペルオキシジサリフェートを用
いて重合を開始し、さらに25℃でカリウムペルオキソ
ジサルフェートを加えることにより維持し、70%の変
換率まで続けた。
2)、ココナツ油脂肪酸のK塩、トリエタノールアミン
及びナフタレンスルホン酸/ホルムアルデヒド縮合物の
Na塩を含む水相を撹拌反応容器に導入した。その後ア
クリロニトリル(S−NBR Bの場合はジビニルベン
ゼンと共に)及びブタジエンを連続的に加えた。硫黄を
50重量%の水性分散液の形態で加え、ジブチルジチオ
カルバメート(Na塩)を30%水溶液の形態で加え
た。形成された乳液の温度を25℃に調節し、3.5%
水溶液の形態のカリウムペルオキシジサリフェートを用
いて重合を開始し、さらに25℃でカリウムペルオキソ
ジサルフェートを加えることにより維持し、70%の変
換率まで続けた。
【0064】トルエン溶液の25%水性乳液の形態のテ
トラエチルチウラムジスルフィド(25重量%のテトラ
エチルチウラムジスルフィド、37重量%のトルエン、
6重量%のナフタレンスルホン酸とホルムアルデヒドの
縮合生成物のNa塩、3.2重量%のドデシルサルフェ
ート(Na塩)、28.8重量%の脱イオン水)の添加
により重合を停止した。蒸気を用いた真空中のサイクロ
ンガス抜きにより、ラテックスから未反応モノマーを除
去し、水性分散液の形態の2,6−ジ−tert.−ブ
チル−o−クレゾールで安定化した。
トラエチルチウラムジスルフィド(25重量%のテトラ
エチルチウラムジスルフィド、37重量%のトルエン、
6重量%のナフタレンスルホン酸とホルムアルデヒドの
縮合生成物のNa塩、3.2重量%のドデシルサルフェ
ート(Na塩)、28.8重量%の脱イオン水)の添加
により重合を停止した。蒸気を用いた真空中のサイクロ
ンガス抜きにより、ラテックスから未反応モノマーを除
去し、水性分散液の形態の2,6−ジ−tert.−ブ
チル−o−クレゾールで安定化した。
【0065】22℃にて20%NaCl溶液を用いてラ
テックスを沈降させ、得られたポリマーを室温で洗浄し
てクロリドを除去し、再循環空気乾燥室で60℃にて乾
燥した。
テックスを沈降させ、得られたポリマーを室温で洗浄し
てクロリドを除去し、再循環空気乾燥室で60℃にて乾
燥した。
【0066】S−NBRのムーニー粘度は、40MU
(ML 1+4/100℃)であった。S−NBR B
のゲル含有量は、88%であり、トルエン中で測定した
膨潤指数は、10であった。
(ML 1+4/100℃)であった。S−NBR B
のゲル含有量は、88%であり、トルエン中で測定した
膨潤指数は、10であった。
【0067】2.NBR 1の製造 硫黄元素及びチウラムジスルフィドを用いない以外は、
S−NBR Aと同方法でNBR 1を製造した。te
rt.ドデシルメルカプタンの量は、モノマーに基づい
て0.3重量%であった。モノマーに対して1.2重量
%のNaジチオナイトの添加により、70%の変換率で
重合を停止した。ポリマーのガス抜き、安定化及び単離
は、S−NBR Aと同方法で行った。比較例1のポリ
マーのムーニー粘度は、42MU(ML 1+4/10
0℃)であった。
S−NBR Aと同方法でNBR 1を製造した。te
rt.ドデシルメルカプタンの量は、モノマーに基づい
て0.3重量%であった。モノマーに対して1.2重量
%のNaジチオナイトの添加により、70%の変換率で
重合を停止した。ポリマーのガス抜き、安定化及び単離
は、S−NBR Aと同方法で行った。比較例1のポリ
マーのムーニー粘度は、42MU(ML 1+4/10
0℃)であった。
【0068】3.EP 0 405 216に従った硫
黄−修飾CRゲルの製造 以下の基本的配合を用い、250リットルの撹拌反応容
器中で重合を行った(量は、重量部)。
黄−修飾CRゲルの製造 以下の基本的配合を用い、250リットルの撹拌反応容
器中で重合を行った(量は、重量部)。
【0069】
【表2】 クロロプレン 95 エチレングリコールジメタクリレート 5 脱イオン水(合計量) 125 不均化アビエチン酸のNa塩 5.3 ナフタレンスルホン酸/ホルムアルデヒド縮合物のNa塩 0.6 KOH 0.5 K2S2O8 0.11 アントラキノンスルホン酸のNa塩 0.06 硫黄 0.5 Naジブチルジチオカルバメート(DBDTC) 1.0 テトラエチルチウラムジスルフィド(TETD) 3.0 脱イオン水、不均化アビエチン酸のNa塩、メチレン−
架橋ナフタレンスルホン酸のNa塩、アントラキノンス
ルホン酸のNa塩及びKOHを反応器に導入し、窒素を
用いてパージし、30℃に加熱した。
架橋ナフタレンスルホン酸のNa塩、アントラキノンス
ルホン酸のNa塩及びKOHを反応器に導入し、窒素を
用いてパージし、30℃に加熱した。
【0070】その後窒素パージモノマーを加えた。架橋
剤、エチレングリコールジメタクリレートをモノマー中
に溶解した。予定の反応温度である30℃に達した後、
硫黄を50重量%分散液の形態で、及びDBDTCを3
0重量%溶液の形態で加えた。その後少量の窒素パージ
K2S2O8の希水溶液の添加により重合を開始し、この
窒素パージペルサルフェート水溶液の添加により維持し
た。
剤、エチレングリコールジメタクリレートをモノマー中
に溶解した。予定の反応温度である30℃に達した後、
硫黄を50重量%分散液の形態で、及びDBDTCを3
0重量%溶液の形態で加えた。その後少量の窒素パージ
K2S2O8の希水溶液の添加により重合を開始し、この
窒素パージペルサルフェート水溶液の添加により維持し
た。
【0071】変換率を重量分析により追跡した。83%
変換率で、ラテックスに基づいて0.03重量%のジエ
チルヒドロキシルアミンの2.5重量%水溶液を添加す
ることにより重合を停止し、ラテックスにテトラエチル
チウラムジスルフィド(TETD)を加えた。TETD
は、トルエン溶液中の25重量%水性乳液の形態で用い
た。
変換率で、ラテックスに基づいて0.03重量%のジエ
チルヒドロキシルアミンの2.5重量%水溶液を添加す
ることにより重合を停止し、ラテックスにテトラエチル
チウラムジスルフィド(TETD)を加えた。TETD
は、トルエン溶液中の25重量%水性乳液の形態で用い
た。
【0072】ラテックスを約500ppm残留クロロプ
レン(ラテックスに基づいて)までガス抜きした。
レン(ラテックスに基づいて)までガス抜きした。
【0073】硫黄−修飾ポリクロロプレンゲルは、2重
量%のCaCl2水溶液(固体100g当たりCaCl2
5g)の添加によりラテックスから沈澱させ、真空乾燥
室中60℃にて乾燥した。
量%のCaCl2水溶液(固体100g当たりCaCl2
5g)の添加によりラテックスから沈澱させ、真空乾燥
室中60℃にて乾燥した。
【0074】4.性能試験 本発明のS−NBR A及びNBR 1を、混練挙動に
関して試験した。この目的で、ビーズを持つ実験室用ロ
ール機上40℃にて8分間混練し、その後ムーニー粘度
(ML 1+4/100℃)を測定した。以下の結果を
得た:
関して試験した。この目的で、ビーズを持つ実験室用ロ
ール機上40℃にて8分間混練し、その後ムーニー粘度
(ML 1+4/100℃)を測定した。以下の結果を
得た:
【0075】
【表3】 0値 8分値 (MU) (MU) ─────────────────────────────────── 実施例1 40 29 (ポリマー S−NBR A) 比較例1 42 38 (ポリマー NBR 1) 以下の基本的混合物1にて加硫挙動を試験した(加硫温
度150℃):
度150℃):
【0076】
【表4】 ポリマー 100重量部R カーボンブラック Corax N 5501) 50R ZnO aktiv2) 3.0R Magelite DE3) 2.0R Vulkanox HS4) 1.0R Vulkanox OCD5) 1.0R Vulkanox ZMB6) 2.0R Vulkanol OT7) 5.01) Degussa AG,Hanauの製品2) 活性酸化亜鉛、Bayer AG,Leverku
senの製品3) 酸化マグネシウム、Merck & Co.In
c.,USAの製品4) 2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリ
ン、ポリマー(老化防止剤)、Bayer AG,Le
verkusenの製品5) オクチル化ジフェニルアミン(老化防止剤)、Ba
yer AG,Leverkusenの製品6) 4−又は5−メチルメルカプトベンズイミダゾール
のZn塩(老化防止剤)、Bayer AG,Leve
rkusenの製品7) エーテルチオエーテル(可塑剤)、Bayer A
G,Leverkusenの製品 混合物は、1.5リットルの混練機中100℃にて調製
した。
senの製品3) 酸化マグネシウム、Merck & Co.In
c.,USAの製品4) 2,2,4−トリメチル−1,2−ジヒドロキノリ
ン、ポリマー(老化防止剤)、Bayer AG,Le
verkusenの製品5) オクチル化ジフェニルアミン(老化防止剤)、Ba
yer AG,Leverkusenの製品6) 4−又は5−メチルメルカプトベンズイミダゾール
のZn塩(老化防止剤)、Bayer AG,Leve
rkusenの製品7) エーテルチオエーテル(可塑剤)、Bayer A
G,Leverkusenの製品 混合物は、1.5リットルの混練機中100℃にて調製
した。
【0077】実施例2 実施例2では、本発明のS−NBR Aを基本的混合物
1で使用した。
1で使用した。
【0078】比較例2 比較例2では、NBR 1を基本的混合物で使用し、
1.5重量部の硫黄及び2.0重量部のVulkaci
t CZ(ベンゾチアジル−2−シクロヘキシルスルフ
ェンアミド、加硫促進剤、Bayer AG,Leve
rkusenの製品)も加えた。
1.5重量部の硫黄及び2.0重量部のVulkaci
t CZ(ベンゾチアジル−2−シクロヘキシルスルフ
ェンアミド、加硫促進剤、Bayer AG,Leve
rkusenの製品)も加えた。
【0079】以下の表は、本発明の実施例2が加硫促進
剤を用いずに実際の目的に適した加硫速度を与えること
を示す。
剤を用いずに実際の目的に適した加硫速度を与えること
を示す。
【0080】
【表5】 150℃における加硫 t10 t70 t90 (分) (分) (分) ─────────────────────────────────── 実施例2 1.6 3.7 7.0 比較例2 2.6 4.1 7.6 実施例3及び4、ならびに比較例3及び4 下記の試験混合物2を用いて、本発明の硫黄−修飾ブタ
ジエンコポリマーの、C=C二重結合を含む他のゴムと
の混合物がヒステリシス損失の減少した加硫ゴムを与え
ることを示すことを目的とする。
ジエンコポリマーの、C=C二重結合を含む他のゴムと
の混合物がヒステリシス損失の減少した加硫ゴムを与え
ることを示すことを目的とする。
【0081】試験混合物2
【0082】
【表6】R Buna SL 7501)* 123.8重量部 添加ポリマー** 10.0重量部R カーボンブラック Corax N 2202) 70.0重量部R ZnO−RS3) 3.0重量部 ステアリン酸 1.0重量部R Vulkanox 4010 NA4) 1.0重量部 硫黄 1.8重量部R Vulkacit NZ5) 1.2重量部1) 18重量%の共重合スチレンを含む溶液SBR、油
展(37.5重量%油)、Buna Werke Hu
els AG,Marlの製品2) Degussa AG,Hanauの製品3) 酸化亜鉛、Zinkweiβ−Forschung
sgesellschaft mbHの製品4) N−イソプロピル−N’−フェニル−p−フェノレ
ンジアミン(老化防止剤)、Bayer AG,Lev
erkusenの製品5) tert.ブチルベンズチアジルスルフェンアミド
(加硫促進剤)、Bayer AG,Leverkus
enの製品 * Buna SL 750を独立して用いる場合は1
37.5重量部を用いる(比較例)。
展(37.5重量%油)、Buna Werke Hu
els AG,Marlの製品2) Degussa AG,Hanauの製品3) 酸化亜鉛、Zinkweiβ−Forschung
sgesellschaft mbHの製品4) N−イソプロピル−N’−フェニル−p−フェノレ
ンジアミン(老化防止剤)、Bayer AG,Lev
erkusenの製品5) tert.ブチルベンズチアジルスルフェンアミド
(加硫促進剤)、Bayer AG,Leverkus
enの製品 * Buna SL 750を独立して用いる場合は1
37.5重量部を用いる(比較例)。
【0083】** S−NBR A(実施例3)、S−
NBR B(実施例4)、EP 0405 216に従
う硫黄−修飾CRゲル(比較例4)混合物の調製
NBR B(実施例4)、EP 0405 216に従
う硫黄−修飾CRゲル(比較例4)混合物の調製
【0084】
【表7】 添加ポリマー 10.0重量部 Buna SL 750 123.8重量部 (独立して使用する場合) 137.5重量部 カーボンブラック Corax N 220 70.0重量部 Vulkanox 4010 NAR 1.0重量部 ZnO−RS 3.0重量部 ステアリン酸 1.0重量部 上記の配合表に従い、密閉式ミキサー(ジャケット温度
120℃、80r.p.m.)中でポリマーを配合し
た。1.8重量部の硫黄及び1.2重量部の促進剤(V
ulkacitRNZ)を、60℃の練りロール上で加
えた。
120℃、80r.p.m.)中でポリマーを配合し
た。1.8重量部の硫黄及び1.2重量部の促進剤(V
ulkacitRNZ)を、60℃の練りロール上で加
えた。
【0085】加硫 1mmのシートを150℃にて加硫した。加硫時間は、
20分であった。
20分であった。
【0086】混合物の調製及び加硫に関する上記の方法
を、本発明の実施例及び比較例の両方に適用した。
を、本発明の実施例及び比較例の両方に適用した。
【0087】性能特性 以下のデータを、実施例及び比較例の加硫ゴムにつき決
定した:
定した:
【0088】
【表8】 特性 決定法 引っ張り強さ(MPa) DIN 53 504 破断点伸び(%) DIN 53 504 300%モジュラス DIN 53 504 伸び率(MPa) 70℃におけるtan δ MER=Imass Mechanical 90℃におけるtan δ Energy Resolver 1100 A
【0089】
【表9】
【0090】上記の表の結果として(実施例3,4及び
比較例3)、本発明の混合物は、純粋なタイヤゴム(比
較例3)よりヒステリシス損失が明確に低い加硫ゴムを
与える。
比較例3)、本発明の混合物は、純粋なタイヤゴム(比
較例3)よりヒステリシス損失が明確に低い加硫ゴムを
与える。
【0091】本発明の混合物(実施例3及び4)の値
は、硫黄−修飾ポリクロロプレンゲル(比較例4)と誤
差範囲内で同等である。しかし硫黄−修飾ポリクロロプ
レンゲルの使用は、本文に記載の欠点を有する(コス
ト、生態学的問題)。
は、硫黄−修飾ポリクロロプレンゲル(比較例4)と誤
差範囲内で同等である。しかし硫黄−修飾ポリクロロプ
レンゲルの使用は、本文に記載の欠点を有する(コス
ト、生態学的問題)。
【0092】本発明の主たる特徴及び態様は、以下の通
りである。
りである。
【0093】1.エチレン性不飽和モノマーと共重合
し、官能基を含む硫黄−修飾ブタジエンにおいて、それ
らをモノマーの使用量に基づいて0.05−2.5重量
部の硫黄元素又は当量の硫黄供与体の存在下で製造し、
しゃく解剤の合計使用量がモノマーの使用量に基づいて
0.1−6.0重量部であることを特徴とするブタジエ
ン。
し、官能基を含む硫黄−修飾ブタジエンにおいて、それ
らをモノマーの使用量に基づいて0.05−2.5重量
部の硫黄元素又は当量の硫黄供与体の存在下で製造し、
しゃく解剤の合計使用量がモノマーの使用量に基づいて
0.1−6.0重量部であることを特徴とするブタジエ
ン。
【0094】2.第1項に記載の硫黄−修飾ブタジエン
ポリマーにおいて、それをアクリロニトリルと共重合さ
せることを特徴とするポリマー。
ポリマーにおいて、それをアクリロニトリルと共重合さ
せることを特徴とするポリマー。
【0095】3.第1及び2項に記載の硫黄−修飾ブタ
ジエンコポリマーにおいて、チウラムポリスルフィド及
び/又はキサントゲンポリスルフィドを硫黄供与体とし
て用いることを特徴とするコポリマー。
ジエンコポリマーにおいて、チウラムポリスルフィド及
び/又はキサントゲンポリスルフィドを硫黄供与体とし
て用いることを特徴とするコポリマー。
【0096】4.第1−3項に記載の硫黄−修飾ブタジ
エンポリマーにおいて、使用するしゃく解剤が以下のア
ニオンに基づく水溶性ジチオカルバメート及び/又はキ
サントゲネート:
エンポリマーにおいて、使用するしゃく解剤が以下のア
ニオンに基づく水溶性ジチオカルバメート及び/又はキ
サントゲネート:
【0097】
【化6】
【0098】又は
【0099】
【化7】
【0100】及び/又は次式に対応するチウラムジスル
フィド及び/又はキサントゲンジスルフィド:
フィド及び/又はキサントゲンジスルフィド:
【0101】
【化8】
【0102】又は
【0103】
【化9】
【0104】であり、式中、R1,R2及びR3は、同一
又は異なりC1-24アルキル、C5-16シクロアルキル又は
C5-18アリールであり、最高3個の複素原子を含むこと
ができ、R1及びR2が共に任意に複素原子により中断さ
れていることができる炭素数が3−5の環を形成するこ
とができることを特徴とするポリマー。
又は異なりC1-24アルキル、C5-16シクロアルキル又は
C5-18アリールであり、最高3個の複素原子を含むこと
ができ、R1及びR2が共に任意に複素原子により中断さ
れていることができる炭素数が3−5の環を形成するこ
とができることを特徴とするポリマー。
【0105】5.以下、 A)第1項に記載の硫黄−修飾ブタジエンコポリマー、
及び B)C=C二重結合を含む他のゴムの混合物において、
ブタジエンコポリマーA)の量が成分A)+B)に基づ
いて1−90重量%であることを特徴とする混合物。
及び B)C=C二重結合を含む他のゴムの混合物において、
ブタジエンコポリマーA)の量が成分A)+B)に基づ
いて1−90重量%であることを特徴とする混合物。
【0106】6.第5項に記載の混合物において、ブタ
ジエンコポリマーA)がブタジエン/アクリロニトリル
コポリマーであることを特徴とする混合物。
ジエンコポリマーA)がブタジエン/アクリロニトリル
コポリマーであることを特徴とする混合物。
【0107】7.第5及び6項に記載の混合物におい
て、ゴムB)をEPDM、ブチルゴム、ニトリルゴム、
水素化ニトリルゴム、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ
ブタジエン及びSBRから成る群より選ぶことを特徴と
する混合物。
て、ゴムB)をEPDM、ブチルゴム、ニトリルゴム、
水素化ニトリルゴム、天然ゴム、ポリイソプレン、ポリ
ブタジエン及びSBRから成る群より選ぶことを特徴と
する混合物。
【0108】8.第1項に記載の硫黄−修飾ブタジエン
コポリマーの、加硫ゴムとしての利用。
コポリマーの、加硫ゴムとしての利用。
【0109】9.第5項に記載の混合物の、加硫ゴムの
製造への利用。
製造への利用。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 クリスチアネ・オツペンハイマー−シユテ イツクス ドイツ連邦共和国デー4040ノイス1・アム シユポルトハーフエン12 (72)発明者 ペーター・ベントリング ドイツ連邦共和国デー5090レーフエルクー ゼン1・フランツ−マルク−シユトラーセ 9 (72)発明者 ハンス−ビルヘルム・エンゲルス ドイツ連邦共和国デー5014ケルペン3・デ イツカイヒヤーフエルト12 (72)発明者 ウルリヒ・アイゼレ ドイツ連邦共和国デー5090レーフエルクー ゼン1・アルフレート−クビン−シユトラ ーセ13 (72)発明者 ツゾルト・スツエンテイフアニー 東京都品川区旗の台6丁目13−11
Claims (3)
- 【請求項1】 エチレン性不飽和モノマーと共重合し、
官能基を含む硫黄−修飾ブタジエンにおいて、それらを
モノマーの使用量に基づいて0.05−2.5重量部の
硫黄元素又は当量の硫黄供与体の存在下で製造し、しゃ
く解剤の合計使用量がモノマーの使用量に基づいて0.
1−6.0重量部であることを特徴とするブタジエン。 - 【請求項2】 以下、 A)請求項1に記載の硫黄−修飾ブタジエンコポリマ
ー、及び B)C=C二重結合を含む他のゴムの混合物において、
ブタジエンコポリマーA)の量が成分A)+B)に基づ
いて1−90重量%であることを特徴とする混合物。 - 【請求項3】 請求項1に記載の硫黄−修飾ブタジエン
コポリマーの、加硫ゴムとしての利用。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19914131186 DE4131186A1 (de) | 1991-09-19 | 1991-09-19 | Neue, schwefel-modifizierte, funktionelle gruppen enthaltende butadien-copolymere sowie deren mischungen mit anderen kautschuken |
DE4131186.8 | 1991-09-19 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05202136A true JPH05202136A (ja) | 1993-08-10 |
Family
ID=6440980
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26785092A Pending JPH05202136A (ja) | 1991-09-19 | 1992-09-11 | 官能基を含む、新規硫黄−修飾ブタジエンコポリマー及び他のゴムとのその混合物 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0533015A1 (ja) |
JP (1) | JPH05202136A (ja) |
CA (1) | CA2078414A1 (ja) |
DE (1) | DE4131186A1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012172105A (ja) * | 2011-02-23 | 2012-09-10 | Tosoh Corp | 硫黄変性クロロプレン重合体の製造方法 |
CN110072936A (zh) * | 2016-12-15 | 2019-07-30 | 昕特玛私人有限公司 | 用于橡胶制品制造的可固化聚合物胶乳组合物 |
JP2020015885A (ja) * | 2018-07-23 | 2020-01-30 | 壽男 小野 | ゴム組成物 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE19701489A1 (de) * | 1997-01-17 | 1998-07-23 | Bayer Ag | Modifizierte Kautschukgele enthaltende Kautschukmischungen |
DE102009047175A1 (de) | 2009-11-26 | 2011-06-01 | Evonik Degussa Gmbh | Kautschukmischung |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2248107A (en) * | 1937-03-02 | 1941-07-08 | Jasco Inc | Polymerization of butadienes |
GB529838A (en) * | 1938-04-26 | 1940-11-29 | Du Pont | Plasticizing rubber substitutes |
US2234204A (en) * | 1939-03-28 | 1941-03-11 | Du Pont | Plastic polymer of butadiene and process of producing same |
US3373146A (en) * | 1966-11-25 | 1968-03-12 | Goodyear Tire & Rubber | Mercaptan terminated polymers |
US4269250A (en) * | 1977-03-25 | 1981-05-26 | The Goodyear Tire & Rubber Company | Rubber composition having improved adhesion to metal cord |
-
1991
- 1991-09-19 DE DE19914131186 patent/DE4131186A1/de not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-09-07 EP EP92115275A patent/EP0533015A1/de not_active Withdrawn
- 1992-09-11 JP JP26785092A patent/JPH05202136A/ja active Pending
- 1992-09-16 CA CA 2078414 patent/CA2078414A1/en not_active Abandoned
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012172105A (ja) * | 2011-02-23 | 2012-09-10 | Tosoh Corp | 硫黄変性クロロプレン重合体の製造方法 |
CN110072936A (zh) * | 2016-12-15 | 2019-07-30 | 昕特玛私人有限公司 | 用于橡胶制品制造的可固化聚合物胶乳组合物 |
KR20190090391A (ko) * | 2016-12-15 | 2019-08-01 | 신쏘머 에스디엔. 비에이치디. | 고무 제품을 제조하기 위한 경화성 중합체 라텍스 조성물 |
JP2020503401A (ja) * | 2016-12-15 | 2020-01-30 | シントマー スンディリアン ブルハド | ゴム製品製造用の硬化性ポリマーラテックス組成物 |
CN110072936B (zh) * | 2016-12-15 | 2021-09-14 | 昕特玛私人有限公司 | 用于橡胶制品制造的可固化聚合物胶乳组合物 |
US11230621B2 (en) | 2016-12-15 | 2022-01-25 | Synthomer Sdn. Bhd | Curable polymer latex compositions for the manufacture of rubber articles |
TWI759377B (zh) * | 2016-12-15 | 2022-04-01 | 馬來西亞商昕特瑪私人有限公司 | 用於製造橡膠物件之可固化聚合物乳膠組成物 |
JP2020015885A (ja) * | 2018-07-23 | 2020-01-30 | 壽男 小野 | ゴム組成物 |
WO2020021929A1 (ja) * | 2018-07-23 | 2020-01-30 | 壽男 小野 | ゴム組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0533015A1 (de) | 1993-03-24 |
DE4131186A1 (de) | 1993-03-25 |
CA2078414A1 (en) | 1993-03-20 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5124408A (en) | Rubber mixtures containing sulfur-modified polychloroprene gel | |
JP3736577B2 (ja) | ゴム組成物及びその製造方法 | |
JP3299343B2 (ja) | ポリブタジエンゲルを含むゴム混合物 | |
JP3794810B2 (ja) | Sbrゴムゲルを含有するゴム混合物 | |
JP3622799B2 (ja) | ゴム組成物 | |
DE69506885T2 (de) | Ungesättigtes nitrilkonjugiertes diencopolymer, verfahren zu dessen herstellung und vulkanisierbare kautschukzusammensetzung | |
EP3060412B1 (de) | Kautschukzusammensetzung | |
DE60133364T2 (de) | Kautschukzusammensetzung und vernetzter kautschuk | |
US6114432A (en) | Diene rubber composition | |
JP3656670B2 (ja) | ゴム組成物 | |
DE60118364T2 (de) | Konjugiertes dienkautschukgel, kautschukzusammensetzungen die dieses enthalten und verfahren zur herstellung von konjugiertem dienkautschuk | |
US6211321B1 (en) | Diene rubber | |
EP1148094B1 (en) | Chloroprene-based rubber composition | |
US7108033B2 (en) | Synthetic rubber that exhibits low hysteresis | |
US6342559B1 (en) | Conjugated diene rubber, process for producing the same, and rubber composition | |
JPH05202136A (ja) | 官能基を含む、新規硫黄−修飾ブタジエンコポリマー及び他のゴムとのその混合物 | |
JP7513610B2 (ja) | Pegアクリレート-hnbrコポリマーを製造するためのプロセス | |
JP7177133B2 (ja) | 水素化ニトリル-ジエン-カルボン酸エステルコポリマー及びシリカを含む加硫可能な組成物 | |
JPH11106562A (ja) | ジエン系ゴム組成物 | |
EP0105348A4 (en) | NATURAL AND SYNTHETIC RUBBER MIXTURES. | |
JPH1180438A (ja) | ゴム組成物及び加硫ゴム | |
JP3275391B2 (ja) | 加硫性ゴム組成物 | |
KR20200098516A (ko) | 니트릴-디엔-카르복실산 에스테르 공중합체 | |
US7019096B2 (en) | Synthetic rubber that exhibits low hysteresis | |
JP3216267B2 (ja) | 加硫性ゴム組成物 |