JPH05198000A - Optical recording medium and optical recording method - Google Patents
Optical recording medium and optical recording methodInfo
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- JPH05198000A JPH05198000A JP4279244A JP27924492A JPH05198000A JP H05198000 A JPH05198000 A JP H05198000A JP 4279244 A JP4279244 A JP 4279244A JP 27924492 A JP27924492 A JP 27924492A JP H05198000 A JPH05198000 A JP H05198000A
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Optical Recording Or Reproduction (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、光、熱等の手段によ
り光学的性質が変化する記録層を基板上に備え、その光
学的性質の変化を利用して情報の記録、再生、消去を行
う光記録媒体に関し、特に材料系の初期相がそれぞれの
条件にあった熱プロセスにより互いに異なった組成を有
する2つの相に分離するような相分離の現象を利用した
光記録媒体及びこれを利用した光記録方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention comprises a recording layer whose optical properties are changed by means of light, heat or the like on a substrate, and recording, reproduction or erasing of information by utilizing the change of the optical properties. Regarding an optical recording medium to be performed, in particular, an optical recording medium utilizing a phenomenon of phase separation in which an initial phase of a material system is separated into two phases having different compositions by a thermal process meeting respective conditions, and the same Optical recording method.
【0002】[0002]
【従来の技術】先ず、従来の光記録の技術的流れを簡単
に説明する。最初に読み出しの理論が構築され、それに
伴って光の回折を利用した読み出し専用のメモリーディ
スクであるCD、LDが開発された。その後、ユーザー
側が1回だけ書き込み可能なタイプの光記録方式が開発
された。これはWO(Write Once)タイプと称され、代
表的な方式としては穴開け方式、バブル方式等が提案さ
れている。更にその後、書き換え可能なタイプの記録方
式として、光磁気方式や相転移方式が開発され、その実
用化や改良に関して現在もなお研究途上にある。以下に
これら光記録の技術についてその長所、短所を説明す
る。2. Description of the Related Art First, the technical flow of conventional optical recording will be briefly described. First, the theory of reading was established, and along with that, CD and LD, which are read-only memory disks using light diffraction, were developed. After that, an optical recording system was developed in which the user side could write only once. This is called a WO (Write Once) type, and as a typical method, a punching method, a bubble method, etc. have been proposed. After that, as a rewritable type recording method, a magneto-optical method and a phase transition method were developed, and the practical use and improvement thereof are still under study. The advantages and disadvantages of these optical recording technologies will be described below.
【0003】〔穴開け方式〕適当な材料を用いれば簡単
に実現でき、コントラストも大きいという長所を有す
る。しかしながら、穴の形状が不揃いになるとS/N劣
化を引き起こすので、均一で揃った穴の形成が可能な材
料の選択が必要になるほか、LDの場合にはその構造を
エアーサンドイッチ構造にする必要があり、製造に特殊
な技術が必要になるという問題がある。また、安定性に
関しては、開いてしまった穴の劣化という問題は当然無
いが、膜それ自体の安定性が問題になる。すなわち、材
料が単体では安定性を確保することができないので、各
種の材料を混合したり、合金として使用する場合が多
が、このような混合物や合金の母材料としては、通常T
eが良く使用されるが、混合物にしても、また、合金化
しても、長い時間でみれば酸化して行く傾向を止めるこ
とができず、寿命が短いという問題がある。しかも、作
製法が複雑であり、ロット間のバラつきが大きいという
問題もある。そして、この穴開け方式は当然のことなが
ら書き換えができない。[Punching Method] It has the advantages that it can be easily realized by using an appropriate material and has a large contrast. However, if the shapes of the holes are not uniform, S / N deterioration will occur. Therefore, it is necessary to select a material capable of forming uniform holes, and in the case of LD, the structure must be an air sandwich structure. However, there is a problem that special technology is required for manufacturing. Regarding the stability, of course, there is no problem of deterioration of the opened hole, but the stability of the film itself becomes a problem. That is, since it is not possible to secure stability by itself as a single material, it is often the case that various materials are mixed or used as an alloy.
Although e is often used, even if it is a mixture or alloyed, there is a problem that the tendency to oxidize cannot be stopped in a long time and the life is short. In addition, there is a problem that the manufacturing method is complicated and lot-to-lot variation is large. And, of course, this perforation method cannot be rewritten.
【0004】〔バブル方式〕このバブル方式は、レーザ
ー照射の熱により基板側のプラスティック材料から発生
するガスの圧力によりNiTi等の合金を塑性変形さ
せ、バブルを形成するものであるが、このバブル自体の
安定性が問題である。また、このバブル方式は当然に書
き換えができない。[Bubble Method] In this bubble method, an alloy such as NiTi is plastically deformed by the pressure of gas generated from the plastic material on the substrate side by the heat of laser irradiation to form bubbles. Stability is a problem. Also, this bubble method cannot be rewritten as a matter of course.
【0005】〔相転移方式〕この相転移方式は、一般に
アモルファス−結晶間の相転移を利用するものである。
そして、穴開け方式と比較して、穴の盛り上がりによる
S/N劣化は無いが、相転移によるコントラストの大き
さが穴開け程ではなく、S/Nを確保するのが難しい。
また、準安定状態であるアモルファスの安定性が問題に
なる。更に、その構成材料もカルコゲナイドを中心とし
ており(Te,Se等)、材料自体の安定性にも問題が
ある。しかも、結晶化に時間がかかる材料もあり、シス
テムのパーフォマンス性を悪くする場合がある。しかし
ながら、アモルファス−結晶間で書き換え可能な材料も
存在し、次に述べる光磁気方式と比較すると、1ビーム
で重ね書きができるという大きなメリットがあり、将来
の有望な書き換え方式として注目されている。[Phase Transition System] This phase transition system generally utilizes the phase transition between amorphous and crystalline.
Although the S / N is not deteriorated due to the swelling of the holes as compared with the drilling method, the magnitude of the contrast due to the phase transition is not as large as that of the drilling and it is difficult to secure the S / N.
Further, the stability of amorphous, which is a metastable state, becomes a problem. Furthermore, the constituent material is mainly chalcogenide (Te, Se, etc.), and there is a problem in the stability of the material itself. In addition, some materials take a long time to crystallize, which may deteriorate the performance of the system. However, there are materials that can be rewritten between amorphous and crystalline, and compared with the magneto-optical method described below, there is a great merit that overwriting can be performed with one beam, and it is attracting attention as a promising rewriting method in the future.
【0006】〔光磁気方式〕この光磁気方式は、カー回
転角の変化を検出して信号とする方式である。しかし、
通常、その回転角が小さいためにS/Nを確保するのが
困難であり、媒体構成に種々の工夫がされている。ま
た、一般に金属としてTbやFeを含み、酸化され易い
材料構成になっており、このことも媒体構成を複雑化さ
せる原因になって製造方法を難しくしている。しかしな
がら、書き換え可能なため、多くのメーカーが安定性や
S/Nの改善の研究に取り組んでいる。[Opto-Magnetic Method] This magneto-optical method is a method in which a change in the Kerr rotation angle is detected and used as a signal. But,
Usually, it is difficult to secure S / N because the rotation angle is small, and various measures have been taken in the medium configuration. Further, generally, Tb or Fe is contained as a metal, and the material composition is easily oxidized, which also complicates the composition of the medium and makes the manufacturing method difficult. However, because it is rewritable, many manufacturers are working on research into stability and S / N improvement.
【0007】以上の方式に対して、我々は、特開平3−
96,389号公報において相分離を利用した光記録方
式を提案した。それによると、大レーザーパワーを照射
することにより急冷効果を起こし、スピノーダル分解を
生起させ、LH(Low to High )モードを実現し、ま
た、小レーザーパワーの照射により核の生成と成長によ
る相分離を生起させ、HL(High to Low )モードを実
現するものである。しかも、この大パワーと小パワーの
差により、スピノーダル分解と核の生成と成長による相
分離間で書き換えを行うことも可能である。この相分離
を利用した記録方式のメリットは、第1に、材料は酸化
物多結晶を中心としており、構造変化、酸化等の経時変
化の可能性が小さく、長期保存性に優れていることであ
り、第2に、反応速度が非常に大きいことであり、第3
に、酸化物材料は可視、赤外域において光透過度が大き
く、多層膜構造にして光学的、熱的最適化をする際にお
ける光学設計、熱設計の自由度が大きく、しかも、再生
信号のコントラストを大きくすることが可能であるとい
うことである。In response to the above method, we have disclosed in Japanese Patent Laid-Open No.
In Japanese Patent Publication No. 96,389, an optical recording system utilizing phase separation was proposed. According to it, when a large laser power is irradiated, a quenching effect is caused, spinodal decomposition is caused, an LH (Low to High) mode is realized, and irradiation of a small laser power causes phase separation by nucleation and growth. To realize the HL (High to Low) mode. Moreover, due to the difference between the large power and the small power, it is possible to perform rewriting between phase separation due to spinodal decomposition and nucleus generation and growth. The merit of the recording method using this phase separation is that, firstly, the material is mainly an oxide polycrystal, the possibility of structural change, aging such as oxidation, etc. is small, and it is excellent in long-term storage stability. Yes, secondly, the reaction rate is very fast, and thirdly
In addition, the oxide material has a large light transmittance in the visible and infrared regions, has a high degree of freedom in optical design and thermal design when optimizing the optical and thermal characteristics of a multilayer film structure, and also provides a reproduced signal contrast. It is possible to increase.
【0008】このように、今までに多くの種類の光記録
方式が提案されてきているが、CD、LDは標準化が厳
密に計られたため、読み出し専用メモリとして大量に安
価に生産され、社会に大きく浸透してきている。一方、
WO、書き換え可能なタイプもその標準化が図られ、又
は、図られつつあるが、技術革新が激しくて各社各様の
開発が行われており、ドライブ、媒体共に高価であるこ
とも影響し、CD、LDに比べてまだ大量には普及して
いない。こうして開発されてきた種々の記録方式の間で
は必ずしも互換性がなく、それぞれ別々の生産プロセ
ス、また、別々のドライブにより達成されているのが現
状である。すなわち、異なった記録方式間のドライブ、
ディスク、生産プロセス間の互換性が非常に乏しく、従
ってユーザー、供給者側ともにコストがかかり、また、
使用上も不便であり、普及を遅らせる原因の1つになっ
ていた。As described above, many kinds of optical recording methods have been proposed so far, but since CD and LD have been strictly standardized, they are mass-produced as read-only memories at a low cost, and become popular in society. It has penetrated a lot. on the other hand,
The WO and rewritable types have been or are being standardized, but technological innovation is intense and various companies are developing each, and both the drive and the medium are expensive, which affects the CD. , Has not spread much in comparison with LD. The various recording methods thus developed are not necessarily compatible with each other, and are currently achieved by different production processes and different drives. That is, a drive between different recording methods,
The compatibility between the disc and the production process is very poor, so it is costly for both users and suppliers, and
It was inconvenient to use and was one of the causes of delaying the spread.
【0009】この技術の流れの中で、これらの弊害を除
去する手段の一つとして、フォーマットをCD、LDと
同一フォーマットとし、WOあるいは書き換えを可能と
する技術が研究され、中には製品化されたものもある。
しかしながら、元来これらのフォーマットは反射率を少
なくとも70%以上に設定する必要があり、ところがこ
の初期反射率を70%以上にすると、吸収率は最大でも
30%となり、感度の劣化が大きいという問題がある。
すなわち、CDフォーマットに対しては初期反射率を7
0%以上に設定し、WOを実現できている。しかしなが
ら、媒体感度自体を大きく設定しているため、媒体安定
性を少なからず犠牲にしなければならず、また、LDに
適用する場合、線速度がCDの少なくとも10〜20倍
に達するので、書き込みに際してより大きなレーザーパ
ワーを必要とし、このために、反射率を犠牲にして吸収
率を大きく設定しなければならず、規格から外れてしま
い、LDプレーヤーに対する互換性を損ねている。この
ように、CDあるいはLDフォーマットでWOを実現し
ようとすると、反射率と感度の点から媒体デザインが難
しくなるという大きな問題があった。In the flow of this technique, as one of means for eliminating these adverse effects, a technique in which the format is the same as the CD and LD and WO or rewritable is studied, and some of them are commercialized. Some have been made.
However, originally, it is necessary to set the reflectivity to at least 70% or more, but when the initial reflectivity is set to 70% or more, the absorptivity becomes 30% at the maximum, and the sensitivity is largely deteriorated. There is.
That is, the initial reflectance is 7 for the CD format.
By setting it to 0% or more, WO can be realized. However, since the medium sensitivity itself is set to be large, the medium stability must be sacrificed to a large extent, and when applied to an LD, the linear velocity reaches at least 10 to 20 times that of a CD, so that the writing is performed. A larger laser power is required, and therefore, the absorptance must be set to be large at the expense of the reflectance, which is out of the standard, and the compatibility with the LD player is impaired. As described above, when the WO is realized in the CD or LD format, there is a big problem that the medium design becomes difficult in terms of reflectance and sensitivity.
【0010】[0010]
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明者ら
は、相分離光記録方式のCD、LDフォーマットへの適
用を試みた結果、高感度かつ高反射率であって高コント
ラストであり、これらの規格に準拠する方式を見出し、
本発明に到達した。従って、本発明の目的は、高感度か
つ高反射率であって高コントラストである書き込み可能
な(CD、LDのフォーマットに準拠する)光記録媒体
及び光記録方法を提供することにある。また、本発明の
目的は、書き込み時におけるエネルギービームの反射に
よる損失を可及的に低減し、エネルギービームのエネル
ギーをより効果的に利用できる光記録媒体及び光記録方
法を提供することにある。Therefore, as a result of trying the application of the phase separation optical recording system to the CD and LD formats, the present inventors have found that they have high sensitivity, high reflectance and high contrast. Found a method that complies with the standard of
The present invention has been reached. Therefore, an object of the present invention is to provide a writable optical recording medium (which conforms to the CD and LD formats) and an optical recording method which have high sensitivity, high reflectance and high contrast. It is another object of the present invention to provide an optical recording medium and an optical recording method that can reduce the loss due to the reflection of the energy beam during writing as much as possible and can more effectively use the energy of the energy beam.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、基
板上に設けられた多層膜中に光等のエネルギービームの
照射により相分離を生じる記録層を設けた光記録媒体に
おいて、(a)前記記録層をスピノーダル分解領域の組
成からなる材料とするとともに、(b)前記多層膜を前
記記録層への前記光等のエネルギービームの照射の終了
後この照射された記録層が急速に冷却されるように構成
した光記録媒体である。また、本発明は、光等のエネル
ギービームにより基板上に設けられた多層膜中の記録層
に情報の書き込み及び読み出しを行う光記録方法におい
て、(a)前記記録層をスピノーダル分解領域の組成か
らなる材料とするとともに、(b)前記多層膜を前記記
録層への前記光等のエネルギービームの照射の終了後こ
の照射された記録層が急速に冷却されるように構成し、
(c)スピノーダル分解による相分離の生じていない前
記記録層に書き込むべき情報に応じてスピノーダル分解
による相分離を生じるような強度の光等のエネルギービ
ームを照射し、(d)この書き込まれた情報を前記スピ
ノーダル分解による相分離の生じないような強度の光等
のエネルギービームを照射して読み出す光記録方法であ
る。That is, according to the present invention, there is provided an optical recording medium comprising: a multilayer film provided on a substrate; and a recording layer provided with a recording layer which causes phase separation upon irradiation with an energy beam such as light. The recording layer is made of a material having a composition of a spinodal decomposition region, and (b) the irradiated recording layer is rapidly cooled after the irradiation of the energy beam of the light or the like to the recording layer of the multilayer film is completed. The optical recording medium is configured as described above. Further, the present invention provides an optical recording method for writing and reading information to and from a recording layer in a multilayer film provided on a substrate by an energy beam such as light, in which (a) the recording layer is formed from a composition of a spinodal decomposition region. And (b) the multilayer film is configured such that the irradiated recording layer is rapidly cooled after the irradiation of the energy beam of the light or the like onto the recording layer is completed.
(C) An energy beam such as light having an intensity that causes phase separation by spinodal decomposition is irradiated according to the information to be written in the recording layer in which phase separation by spinodal decomposition does not occur, and (d) this written information. Is an optical recording method for irradiating and reading an energy beam such as light having an intensity that does not cause phase separation due to the spinodal decomposition.
【0012】すなわち、本発明は、(a)記録層をスピ
ノーダル分解領域の組成からなる材料で構成すると共
に、この記録層の初期反射率を比較的低い値、すなわち
30%以下、好ましくは25%程度に形成し、(b)こ
の記録層に対するエネルギービームの照射が終了した際
にはエネルギービームの照射により加熱した記録層が急
速に冷却されるように、比熱や熱伝導率が大きく、結果
として熱吸収率が高く、これによってエネルギービーム
の照射終了後に記録層を急冷することができ、スピノー
ダル分解を円滑に進めるためのアルミニウム、金等の金
属製の反射急冷層を多層膜に設けた光記録媒体である。That is, according to the present invention, (a) the recording layer is made of a material having the composition of the spinodal decomposition region, and the initial reflectance of this recording layer is a relatively low value, that is, 30% or less, preferably 25%. (B) The specific heat and the thermal conductivity are large so that the recording layer heated by the irradiation of the energy beam is rapidly cooled when the irradiation of the energy beam onto the recording layer is completed. It has a high heat absorption rate, which allows the recording layer to be rapidly cooled after the irradiation of the energy beam, and optical recording with a reflective quenching layer made of a metal such as aluminum or gold in the multilayer film to facilitate the spinodal decomposition. It is a medium.
【0013】また、本発明の光記録方法は、このような
光記録媒体の記録層に光等のエネルギービームを照射
し、この記録層に情報を書き込み、又は、この記録層か
ら情報を読み出すものであり、書き込み時には(c)ス
ピノーダル分解による相分離の生じていない記録層に
は、書き込むべき情報に応じて、スピノーダル分解によ
る相分離が生じるような強度のエネルギービームを照射
し、その部分の反射率を上記初期反射率より充分に高い
値、すなわち初期反射率より39%以上、好ましくは4
0%程度高い値であって、反射率が65%程度以上、好
ましくは70〜80%程度の値まで高められる条件で情
報の書き込みを行い、読み出し時には(d)スピノーダ
ル分解による相分離の生じている記録層に、スピノーダ
ル分解による相分離が生じないような強度のエネルギー
ビームを照射して書き込まれている情報を読み出す光記
録方法である。Further, the optical recording method of the present invention irradiates the recording layer of such an optical recording medium with an energy beam such as light to write information in the recording layer or read information from the recording layer. At the time of writing, (c) the recording layer in which the phase separation due to the spinodal decomposition does not occur is irradiated with an energy beam having an intensity that causes the phase separation due to the spinodal decomposition according to the information to be written, and the reflection of the portion. The value is sufficiently higher than the above-mentioned initial reflectance, that is, 39% or more, preferably 4 or more than the initial reflectance.
Information is written under the condition that the reflectance is as high as about 0% and the reflectance is increased to about 65% or more, preferably about 70 to 80%, and at the time of reading, (d) phase separation due to spinodal decomposition occurs. This is an optical recording method for reading the written information by irradiating the existing recording layer with an energy beam of such an intensity that phase separation due to spinodal decomposition does not occur.
【0014】本発明の光記録媒体は、基本的には、基板
と、この基板上に積層され、書き込むべき情報に応じて
スピノーダル分解による相分離が生じるような強度(す
なわち、所定の閾値以上)のエネルギービームを照射す
ることにより、スピノーダル分解による相分離を生じて
高い反射率の記録ビットを形成することができる記録層
とで構成されているものであり、上記エネルギービーム
の周波数が196KHzの際の最大反射率が65%以上
であり、読み出し時における上記エネルギービームの周
波数が720KHzの際に、反射率コントラストが上記
最大反射率の0.3〜0.6倍の範囲内にあり、初期反
射率が上記最大反射率の0.4倍以下であることが必要
である。ここで、上記記録層を構成する記録材料として
は、この記録層に上記閾値以上のエネルギービームの照
射によりスピノーダル分解のみを生起する組成のもので
あるか、あるいは、上記閾値以上のエネルギービームの
照射によりスピノーダル分解又はバイノーダル分解を生
起するが、後述する反射急冷層を設けて閾値以上のエネ
ルギービーム照射後に急冷することによりスピノーダル
分解を生起する組成のものが挙げられ、このような記録
材料として特に好ましいものとして、一般式SbOx
(但し、xは0〜1.0又は1.5〜2.3であり、好
ましくは0.3〜0.6又は1.8〜2.1である)で
表される酸化アンチモン系材料がある。The optical recording medium of the present invention is basically a substrate and a strength that is laminated on the substrate and that causes phase separation by spinodal decomposition depending on the information to be written (that is, a predetermined threshold value or more). When the energy beam has a frequency of 196 KHz, it is composed of a recording layer capable of forming a recording bit having a high reflectance by causing phase separation due to spinodal decomposition by irradiating the energy beam. Has a maximum reflectance of 65% or more, and when the frequency of the energy beam during reading is 720 KHz, the reflectance contrast is within the range of 0.3 to 0.6 times the maximum reflectance, and the initial reflection It is necessary that the index is 0.4 times or less than the maximum reflectivity. Here, as the recording material constituting the recording layer, a recording material having a composition that causes only spinodal decomposition upon irradiation of the recording layer with an energy beam of the threshold value or more, or irradiation with an energy beam of the threshold value or more The spinodal decomposition or the binodal decomposition is caused by, but a composition having a composition that causes the spinodal decomposition by providing a reflective quenching layer described below and irradiating with an energy beam above a threshold value and then quenching is particularly preferable as such a recording material. As a general formula SbOx
(However, x is 0 to 1.0 or 1.5 to 2.3, and preferably 0.3 to 0.6 or 1.8 to 2.1). is there.
【0015】また、上記の酸化アンチモン系材料以外
に、光、熱等の手段で記録層の記録材料をスピノーダル
分解により相分離させることが可能な組成を構成できる
材料としては、例えば、PbTe−GeTe混合系、A
u−Pt混合系、Au−Ni混合系、PbS −PbT
e混合系、GeSe2 −GeSe混合系、As−Ge−
Te混合系等の合金や、Li2 O−SiO2 混合系、N
a2 O−SiO2 混合系、BaO−SiO2 混合系、A
l2 O3 −SiO2 混合系、B2 O3 −SiO2混合
系、Li2 O−B2 O3 混合系、Na2 O−B2 O3 混
合系、K2 O−B2O3 混合系、Rb2 O−B2 O3 混
合系、Cs2 O−B2 O3 混合系、PbO−B2 O3 混
合系等の酸化物−酸化物混合系材料や、ZrO2 −Th
O2 混合系、CaO−SiO2 混合系、B2 O3 −Pb
O混合系、B2 O3 −V2 O5 混合系、SnO2 −Ti
O2 混合系、NiO−CoO混合系、Al2 O3 −Cr
2 O3 混合系、SiO2 −Al2 O3 混合系、ZnWO
4 −MnWO4 混合系、CaWO4 −NaSm(WO
4 )2 混合系、CaWO4 −Sm2 (WO4 )3 混合
系、MnMoO4 −ZnMoO4 混合系、Fe2 TiO
4 −Fe3 O4 混合系、Ca3 Cr2 Si3 O12−Ca
3 Fe2 Si3 O12混合系、65MgSiO3 /35F
eSiO3 −CaSiO3 混合系、LiAl5 O8 −L
iFe5 O8 混合系、NaAlSi3 O8 −KAlSi
3 O8 混合系、Na2 O−B2 O3 −SiO2混合系等
の酸化物−酸化物混合系材料や、LiCl−NaCl混
合系、KCl−NaCl混合系、CsCl−TlCl混
合系、CaCl2 −MnCl2 混合系、CaCl2 −S
rCl2 混合系、LiBr −AgBr 混合系、AgBr
−NaBr 混合系、KBr −NaBr 混合系、TlBr
−CsBr 混合系、KI−NaI混合系、NaI−Ca
I2 混合系、(GaI2 )2 −NaGaI4 混合系、
(GaI2 )2 −KGaI4 混合系、(GaI2 )2 −
RbGaI4 混合系、GaAlI4 −Ga2 I4 混合系
等のハロゲン化物−ハロゲン化物混合系材料や、CeO
n 系、Bi−Bi2 O3 混合系、CaCO3 −MnCO
3 混合系等の酸化物やハロゲン化物等の不定比化合物
や、更にはバイノーダル分解又はスピノーダル分解を引
起こす『ポリマーアロイ』と称されるポリマーブレンド
や、ミクロ相分離を引起こすランダム共重合体、交互共
重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体等の有機
系材料等が挙げられる。そして、このような記録材料の
組成については、選択された記録材料について常法に従
って相分離の相図を描き、求められたスピノーダル線に
従ってその組成を決定する。In addition to the above antimony oxide-based materials, examples of materials that can be used to form a composition capable of phase separation of the recording material of the recording layer by spinodal decomposition by means of light, heat, etc. include, for example, PbTe-GeTe. Mixed system, A
u-Pt mixed system, Au-Ni mixed system, PbS-PbT
e mixed system, GeSe 2 -GeSe mixed system, As-Ge-
Alloys such as Te mixed system, Li 2 O-SiO 2 mixed system, N
a 2 O-SiO 2 mixed system, BaO-SiO 2 mixed system, A
l 2 O 3 -SiO 2 mixed system, B 2 O 3 -SiO 2 mixed system, Li 2 O-B 2 O 3 mixed system, Na 2 O-B 2 O 3 mixed system, K 2 O-B 2 O 3 mixed system, Rb 2 O-B 2 O 3 mixed system, Cs 2 O-B 2 O 3 mixed system, PbO-B 2 O 3 mixture system such as oxides of - or oxide mixture-based material, ZrO 2 -Th
O 2 mixed system, CaO-SiO 2 mixed system, B 2 O 3 -Pb
O mixed system, B 2 O 3 -V 2 O 5 mixed system, SnO 2 -Ti
O 2 mixed system, NiO-CoO mixed system, Al 2 O 3 -Cr
2 O 3 mixed system, SiO 2 -Al 2 O 3 mixed system, ZnWO
4 -MnWO 4 mixed system, CaWO 4 -NaSm (WO
4) 2 mixed system, CaWO 4 -Sm 2 (WO 4 ) 3 mixed system, MnMoO 4 -ZnMoO 4 mixed system, Fe 2 TiO
4 -Fe 3 O 4 mixed system, Ca 3 Cr 2 Si 3 O 12 -Ca
3 Fe 2 Si 3 O 12 mixed system, 65MgSiO 3 / 35F
eSiO 3 -CaSiO 3 mixed system, LiAl 5 O 8 -L
NiFe 5 O 8 mixture system, NaAlSi 3 O 8 -KAlSi
3 O 8 mixture system, Na 2 O-B 2 O 3 -SiO 2 mixture system such as oxides - oxide mixture-based material and, LiCl-NaCl mixed system, KCl-NaCl mixed system, CsCl-TlCl mixed system, CaCl 2- MnCl 2 mixed system, CaCl 2 -S
rCl 2 mixed system, LiBr-AgBr mixed system, AgBr
-NaBr mixed system, KBr-NaBr mixed system, TlBr
-CsBr mixed system, KI-NaI mixed system, NaI-Ca
I 2 mixed system, (GaI 2 ) 2 -NaGaI 4 mixed system,
(GaI 2 ) 2 -KGaI 4 mixed system, (GaI 2 ) 2-
RbGaI 4 mixed system, GaAlI 4 —Ga 2 I 4 mixed system and other halide-halide mixed material, CeO
n system, Bi-Bi 2 O 3 mixed system, CaCO 3 -MnCO
3 Non-stoichiometric compounds such as oxides and halides of mixed systems, further polymer blends called "polymer alloys" that cause binodal decomposition or spinodal decomposition, and random copolymers that cause microphase separation, Examples include organic materials such as alternating copolymers, block copolymers, graft copolymers, and the like. Then, regarding the composition of such a recording material, a phase diagram of phase separation is drawn according to a conventional method for the selected recording material, and the composition is determined according to the obtained spinodal line.
【0016】また、本発明の光記録媒体の媒体構造とし
ては、書き込みの際に加熱した上記記録層が急速に冷却
される多層膜構造であることが好ましく、そのためには
比熱や熱伝導率が大きくて熱吸収率が高く、エネルギー
ビームの照射終了後に記録層を急冷することができるア
ルミニウムやAl−Ti等のアルミニウム系金属、金、
銅等からなる熱吸収率の高い材質で形成された反射急冷
層を設けるのがよい。この反射急冷層は、好ましくは記
録層の上面側に設けられ、記録層を形成する記録材料よ
り融点が高くかつ記録材料溶融物に対して高い濡れ性を
有する金属の酸化物、窒化物及び弗化物から選択された
保護材料よりなる上面側誘電体層を介して形成される。
更に、上記記録層の上面側及び/又は下面側には、その
他の種々の材料、例えば記録層の下面側に設けられる上
記上面側誘電体層と同様の下面側誘電体層を設けたり、
上記反射急冷層の表面を更に保護する目的で、例えば紫
外線硬化樹脂、アクリル、ポリカーボネート、エポキシ
樹脂等の保護膜を設けてもよく、また、記録層からの反
射光量を高める目的でこの記録層上にZnS等の高屈折
率層を設けることもできる。具体的には、本発明の光記
録媒体の媒体構造の好適な例として、基板/下面側誘電
体層/記録層/上面側誘電体層/反射急冷層/紫外線硬
化樹脂の構造、基板/記録層/上面側誘電体層/反射急
冷層/紫外線硬化樹脂の構造、基板/下面側誘電体層/
記録層/反射急冷層/紫外線硬化樹脂の構造等の種々の
ものを挙げることができる。Further, the medium structure of the optical recording medium of the present invention is preferably a multi-layer film structure in which the recording layer heated at the time of writing is rapidly cooled, for which specific heat and thermal conductivity are high. Aluminum, an aluminum-based metal such as aluminum or Al-Ti, which has a large heat absorption rate and can rapidly cool the recording layer after the irradiation of the energy beam, gold,
It is preferable to provide a reflective quenching layer formed of a material having a high heat absorption coefficient such as copper. This reflective quenching layer is preferably provided on the upper surface side of the recording layer, and has a melting point higher than that of the recording material forming the recording layer and high wettability with respect to the recording material melt. It is formed via an upper surface side dielectric layer made of a protective material selected from a compound.
Further, on the upper surface side and / or the lower surface side of the recording layer, various other materials such as a lower surface side dielectric layer similar to the upper surface side dielectric layer provided on the lower surface side of the recording layer may be provided,
For the purpose of further protecting the surface of the reflective quenching layer, a protective film of, for example, an ultraviolet curable resin, acryl, polycarbonate, epoxy resin or the like may be provided, and on the recording layer for the purpose of increasing the amount of reflected light from the recording layer. It is also possible to provide a high refractive index layer such as ZnS. Specifically, as a preferred example of the medium structure of the optical recording medium of the present invention, the structure of substrate / lower surface side dielectric layer / recording layer / upper surface side dielectric layer / reflection quenching layer / ultraviolet curing resin, substrate / recording Layer / upper surface side dielectric layer / reflection quenching layer / structure of UV curable resin, substrate / lower surface side dielectric layer /
Various materials such as recording layer / reflecting quenching layer / ultraviolet curing resin structure can be used.
【0017】そして、このように基板上に構成された多
層膜構造において、上記記録層の初期反射率は、比較的
低い値、すなわち30%以下、好ましくは25%以下で
なくてはならず、記録層を構成する記録材料の種類や多
層膜を構成する各層の屈折率と膜厚を変数として、多層
光学薄膜設計を行い、各層の膜層をシュミレーションに
より決定し、設計することができる。In the multilayer film structure thus constructed on the substrate, the initial reflectance of the recording layer should be a relatively low value, that is, 30% or less, preferably 25% or less. It is possible to design a multilayer optical thin film by designing a multilayer optical thin film by using the type of recording material constituting the recording layer and the refractive index and film thickness of each layer constituting the multilayer film as variables.
【0018】本発明の光記録媒体を製造する方法につい
ては、従来公知の手法を採用することができ、基板上に
記録材料を被着させて記録層を形成したり、あるいは、
保護材料を被着させて誘電体層を形成したり、更には、
熱吸収率の高い材料を被着させて反射急冷層を形成する
等の手段として、例えば、熱蒸着法、イオンプレーティ
ング法、反応性スパッタリング法、化学的気相成長法
(CVD)、イオン支援蒸着法(IAD)、分子線エピ
タキシ法(MBE)等や、共重合体等を基板上で直接重
合反応させて被着させる方法や、共重合体等を溶解した
2次化合物を適宜手段で基板上に塗布して被着させる方
法等を挙げることができる。As a method for producing the optical recording medium of the present invention, a conventionally known method can be adopted, and a recording material is deposited on a substrate to form a recording layer, or
A protective material is applied to form a dielectric layer, and further,
As a means for forming a reflection quenching layer by depositing a material having a high heat absorption rate, for example, a thermal evaporation method, an ion plating method, a reactive sputtering method, a chemical vapor deposition method (CVD), an ion assisting method. A vapor deposition method (IAD), a molecular beam epitaxy method (MBE), etc., a method in which a copolymer or the like is directly subjected to a polymerization reaction on a substrate to deposit, or a secondary compound in which the copolymer or the like is dissolved is appropriately used as a substrate. Examples thereof include a method of coating and depositing on the surface.
【0019】また,このような光記録媒体を使用する光
記録方法としては、書き込み時には、スピノーダル分解
による相分離の生じていない記録層に、書き込むべき情
報に応じて、スピノーダル分解による相分離が生じるよ
うな強度(すなわち、閾値以上の強度)のエネルギービ
ームを照射して情報の書き込みを行う。すなわち、好ま
しくは書き込むべき情報の信号レベルがH(High)の時
には記録層にHのレーザーパワーが印加されてその部分
に高反射率の記録ビットが形成され、また、この情報の
信号レベルがL(Low )の時には記録層にレーザーパワ
ーが印加されないか若しくはスピノーダル分解による相
分離が生じないような強度(すなわち、閾値以下の強
度)のLのレーザーパワーが印加されるような方法で書
き込みを行う。また、読み出し時には、スピノーダル分
解による相分離の生じている記録層に、スピノーダル分
解による相分離が生じないような強度のエネルギービー
ムを照射して書き込まれている情報を読み出す。Further, as an optical recording method using such an optical recording medium, at the time of writing, phase separation due to spinodal decomposition occurs in the recording layer in which phase separation due to spinodal decomposition has not occurred, depending on the information to be written. Information is written by irradiating an energy beam having such an intensity (that is, an intensity equal to or higher than a threshold value). That is, preferably, when the signal level of the information to be written is H (High), H laser power is applied to the recording layer to form a recording bit with high reflectance at that portion, and the signal level of this information is L. When (Low), writing is performed by a method in which no laser power is applied to the recording layer or an L laser power of an intensity (that is, intensity equal to or less than a threshold value) that does not cause phase separation due to spinodal decomposition is applied. .. Further, at the time of reading, the information written is read by irradiating the recording layer in which the phase separation due to the spinodal decomposition has occurred with an energy beam having an intensity that does not cause the phase separation due to the spinodal decomposition.
【0020】ここで、上述のようにして構成された光記
録媒体について、書き込み時にスピノーダル分解による
相分離が生じさせるエネルギービームの強度を決定し、
また、読み出し時にスピノーダル分解による相分離が生
じないようなエネルギービームの強度を決定するには、
構成された媒体の構造から理論的に計算により求めるこ
とも可能であるが、好ましくはエネルギービームの強度
と反射率及びコントラストとの関係を示すグラフ図を実
験的に求め、この実験的に求められたグラフ図から書き
込みに必要なエネルギービームの強度、すなわち反射率
を初期反射率より39%以上、好ましくは45%以上高
めて充分なコントラストを出すことができ、かつ、反射
率が65%程度以上の値になるようにエネルギービーム
の強度を設定し、また、読み出しに必要なエネルギービ
ームの強度についてはエネルギービームを照射しても初
期反射率が変化しない範囲の中から適当な値を選んで設
定するのが望ましい。このように実験的に求めたエネル
ギービームの強度と反射率及びコントラストとの関係を
示すグラフ図からこれら書き込みに必要なエネルギービ
ームの強度と読み出しに必要なエネルギービームの強度
とを設定することにより、設計された媒体の確実な動作
を確保することができる。Here, with respect to the optical recording medium constructed as described above, the intensity of the energy beam which causes phase separation by spinodal decomposition during writing is determined,
Also, to determine the intensity of the energy beam so that phase separation due to spinodal decomposition does not occur during readout,
Although it can be theoretically calculated from the structure of the constructed medium, it is preferable to experimentally obtain a graph showing the relationship between the intensity of the energy beam and the reflectance and contrast. From the graph shown in the figure, the intensity of the energy beam required for writing, that is, the reflectance can be increased by 39% or more, preferably 45% or more from the initial reflectance to obtain sufficient contrast, and the reflectance is about 65% or more. The intensity of the energy beam is set to be the value of, and the intensity of the energy beam required for reading is set by selecting an appropriate value from the range in which the initial reflectance does not change even if the energy beam is irradiated. It is desirable to do. By setting the intensity of the energy beam required for these writing and the intensity of the energy beam required for reading from the graph showing the relationship between the intensity of the energy beam thus obtained experimentally and the reflectance and contrast, It is possible to ensure the reliable operation of the designed medium.
【0021】ところで、本発明による光記録媒体はCD
あるいはLDのような媒体であるから、当然、ROMと
しての機能、例えば各種インデックスや固定情報を付加
させたい場合がある。そのような手段としては2つ考え
られる。すなわち、第1は、基板に予めプリピットとし
てROM情報をデータ書き込み領域と別の場所に隔離し
て設け、その部分を一括露光装置あるいはマルチトラッ
ク書き込み装置により一括露光し、スピノーダル分解を
生起せしめるような光パワーによりスピノーダル分解に
よる相分離を生起させてこの部分の反射率を増加させし
め、好ましくはCDあるいはLDの規格である65%以
上あるいは75%以上の反射率に設定する。勿論、基板
に予めプリピットとしてROM情報をデータ書き込み領
域中へ混在して設けておき、その部分を予めスピノーダ
ル分解を生起せしめるようなレーザーパワーにより連続
的にレーザーを照射し、スピノーダル分解による相分離
を生起させてこの部分の反射率を増加せしめ、好ましく
はCDあるいはLDの規格でる70あるいは75%以上
の反射率に設定し、ROM情報をデータ領域に混在せし
めてもよい。The optical recording medium according to the present invention is a CD
Alternatively, since it is a medium such as an LD, it is naturally desirable to add a function as a ROM, for example, various indexes or fixed information. There are two possible means. That is, the first is that the ROM information is provided as pre-pits on the substrate in advance separately from the data writing area, and that portion is collectively exposed by the batch exposure device or the multi-track writing device to cause spinodal decomposition. The optical power causes phase separation due to spinodal decomposition to increase the reflectance of this portion, and the reflectance is preferably set to 65% or more or 75% or more which is the standard of CD or LD. Of course, ROM information is provided as pre-pits on the substrate in a mixed manner in the data writing area, and that portion is continuously irradiated with laser with a laser power that causes spinodal decomposition in advance, and phase separation by spinodal decomposition is performed. It may be caused to increase the reflectance of this portion, preferably set to 70 or 75% or more of the reflectance of the CD or LD standard, and the ROM information may be mixed in the data area.
【0022】[0022]
【実施例】以下、実施例及び比較例に基づいて、本発明
を具体的に説明する。EXAMPLES The present invention will be specifically described below based on Examples and Comparative Examples.
【0023】実施例1 記録材料に酸化アンチモンを使用し、図1に示すような
構成の媒体ディスクを形成した。すなわち、この媒体デ
ィスクは、PMMC(又はPC)からなる基板1の上に
スパッターによりSiO2 を着膜して1,000Åの厚
さの下面側誘電体層2を形成し、この下面側誘電体層2
の上に高周波イオンプレーティングで厚さ300Åの記
録層3を形成し、更にその上にスパッターによりSiO
2 を着膜して厚さ1,000Åの上面側誘電体層4を形
成し、この上面側誘電体層4の上に急冷反射層5として
500Åの厚さのアルミニウム(Al)膜を着膜し、こ
の急冷反射層5の上に紫外線保護用樹脂6を積層して構
成されている。Example 1 Using antimony oxide as a recording material, a medium disk having a structure as shown in FIG. 1 was formed. That is, in this medium disk, a SiO 2 film is deposited on a substrate 1 made of PMMC (or PC) by sputtering to form a lower surface side dielectric layer 2 having a thickness of 1,000 Å. Layer 2
A recording layer 3 having a thickness of 300Å is formed on the upper surface by high-frequency ion plating, and SiO is sputtered on the recording layer 3.
2 is deposited to form an upper surface side dielectric layer 4 having a thickness of 1,000 Å, and an aluminum (Al) film having a thickness of 500 Å is deposited on the upper surface side dielectric layer 4 as a quenching reflection layer 5. Then, the ultraviolet protection resin 6 is laminated on the quenching reflection layer 5.
【0024】ここで、上記高周波イオンプレーティング
による記録層3の着膜は、図2に示すイオンプレーティ
ング装置を使用して行うものである。すなわち、RF電
源7とマッチングボックス8を備えたチャンバー9内に
そのガス導入口10からArガスとO2 とを導入し、数
十から数百WのRFパワーをRFコイル11に印加して
プラズマを発生せしめ、Sbをエレクトロンビーム(E
B)により蒸発させてイオン化させ、回転している基板
1上に酸化アンチモンを蒸着させることにより行われ
る。なお、符号12はモーターであり、また、符号13
は排気口である。そして、この際の成膜パラメーターと
しては主としてRFパワー、Arガス圧及びO2 ガス圧
の3つがあり、この内、Arガス圧とO2 ガス圧とをそ
れぞれ6×10-4torr、3×10-4torrに設定
し、RFパワーをコントロールした。この際におけるR
Fパワーの大きさの目安としてVdcをモニターした結
果、このVdc の値によって記録モードのレーザーパワ
ー依存性が図3のようになった。ここで、HLの場合は
核の生成と成長による相分離の生起に、また、LHの場
合はスピノーダル分解による相分離の生起にそれぞれ相
当する。この結果、この図3に示すような状態図が推定
される。この図3に示す状態図において、LHのモード
のみが生起する領域をスピノーダル領域として選び、そ
のVdc値で膜を作製した。Here, the deposition of the recording layer 3 by the above-mentioned high frequency ion plating is carried out by using the ion plating apparatus shown in FIG. That is, Ar gas and O 2 are introduced into the chamber 9 equipped with the RF power source 7 and the matching box 8 from the gas inlet 10, and RF power of several tens to several hundreds W is applied to the RF coil 11 to generate plasma. Is generated, and Sb is used as an electron beam (E
It is carried out by evaporating and ionizing according to B) and depositing antimony oxide on the rotating substrate 1. Reference numeral 12 is a motor, and reference numeral 13
Is the exhaust port. The film forming parameters at this time mainly include RF power, Ar gas pressure, and O 2 gas pressure. Of these, Ar gas pressure and O 2 gas pressure are 6 × 10 −4 torr and 3 ×, respectively. The RF power was controlled by setting to 10 −4 torr. R in this case
As a result of monitoring Vdc as a measure of the magnitude of F power, the laser power dependence of the recording mode became as shown in FIG. 3 depending on the value of Vdc. Here, the case of HL corresponds to the occurrence of phase separation due to the generation and growth of nuclei, and the case of LH corresponds to the occurrence of phase separation due to spinodal decomposition. As a result, the state diagram as shown in FIG. 3 is estimated. In the state diagram shown in FIG. 3, a region in which only the LH mode occurs was selected as a spinodal region, and a film was formed with the Vdc value.
【0025】このようにして作製した媒体ディスクに書
き込みレーザーパワー:16mW、読み出しレーザーパ
ワー:1mW、回転数:1,800rpm及び記録信
号:標準NTSC信号の条件で情報の記録を行った。こ
のディスク媒体に書き込みをすると、図4のようなレー
ザーパワー特性(レーザーパワーに対する反射率とコン
トラストの変化を示す特性)が得られた。反射率はas
depo部で約45%であり、吸収率は約40%であ
り、書き込みによる最大反射率は約75%であった。従
って、FM変調された映像信号を反転して書き込めば、
この反射率変化はLDの規格を満足することが確認され
た。実際、NTSC信号を書き込んでS/Nを測定した
結果、約48dBであった。また、50℃、60℃及び
70℃、85%RH及び1,000時間の環境条件で環
境試験を実施したが、ほとんど反射率変化は無かった。
このような記録特性をもつ媒体を市販のビデオディスク
プレーヤーで再生したが、市販のビデオディスクと同等
に再生され、何らの問題がないことが確認された。Information was recorded on the thus prepared medium disk under the conditions of a writing laser power: 16 mW, a reading laser power: 1 mW, a rotation speed: 1,800 rpm, and a recording signal: a standard NTSC signal. When writing was performed on this disk medium, laser power characteristics (characteristics showing changes in reflectance and contrast with respect to laser power) as shown in FIG. 4 were obtained. Reflectance is as
It was about 45% at the depo part, the absorptance was about 40%, and the maximum reflectance by writing was about 75%. Therefore, if the FM-modulated video signal is inverted and written,
It was confirmed that this change in reflectance satisfies the LD standard. Actually, as a result of writing the NTSC signal and measuring the S / N, it was about 48 dB. Further, an environmental test was conducted under the environmental conditions of 50 ° C., 60 ° C. and 70 ° C., 85% RH and 1,000 hours, but there was almost no change in reflectance.
When a medium having such a recording characteristic was reproduced by a commercially available video disc player, it was confirmed that the medium was reproduced in the same manner as a commercially available video disc, and that there was no problem.
【0026】この際の情報信号、この情報信号に対応す
る書き込みレーザーパワー及び再生信号を示す情報信号
の遷移モデルを図5に示す。以上の結果から、CDある
いはLDの規格である70%以上の反射率に設定して、
スピノーダル分解を反射率増加の原理とし、信号を反転
して書き込めばよいことが判明した。また、比較のため
に、as depo 部の反射率が70%に設定された従来方式
の光記録媒体における情報信号の遷移モデルを図6に示
す。この場合、吸収率が約15%であり本発明の場合に
比べて、倍以上のレーザーパワーを要した。FIG. 5 shows a transition model of the information signal, the writing laser power corresponding to the information signal, and the information signal indicating the reproduction signal at this time. From the above results, set the reflectance to 70% or more, which is the standard for CD or LD,
It was found that the spinodal decomposition is used as the principle of increasing the reflectance, and the signal should be inverted before writing. For comparison, FIG. 6 shows a transition model of the information signal in the conventional optical recording medium in which the reflectance of the as depo portion is set to 70%. In this case, the absorptance was about 15%, which required more than twice the laser power as compared with the case of the present invention.
【0027】実施例2 実施例1と同等な条件で作製した媒体を使用し、半径1
50から200の間に再生専用領域を設け、この領域に
予め固定画像情報をプリピットとして設けた。その情報
は通常のNTSC信号であり、そのピット形状は通常の
ビデオディスクと同等の形状とした。その部分を予めキ
セノンフラッシュランプにより一括露光した結果、反射
率が約75%以上になった。その反射率は規格に準拠し
ており、他の部分はその際マスキングをして露光の光が
当たらないようにした。その結果、このディスクを再生
専用部とWO部に分けて使用できることが判明した。Example 2 A medium manufactured under the same conditions as in Example 1 was used, and a radius of 1 was used.
A reproduction-only area was provided between 50 and 200, and fixed image information was previously provided as prepits in this area. The information is a normal NTSC signal, and the pit shape is the same as that of a normal video disc. As a result of collectively exposing the portion in advance with a xenon flash lamp, the reflectance became about 75% or more. The reflectance complies with the standard, and other parts were masked at that time so that the exposure light was not exposed. As a result, it was found that this disc can be used by being divided into a reproduction-only section and a WO section.
【0028】実施例3 実施例1と同等な条件で作製した媒体を使用し、全体を
データ領域とし、その中で、1部のトラックを再生専用
として使用するため、必要なトラックには予めプリピッ
トとして映像情報を設けておき、その部分を1トラック
ずつレーザービームでなぞりながら書き込み、HLのモ
ードを生起せしめ、再生専用画像として用いた。Example 3 A medium prepared under the same conditions as in Example 1 was used, and the entire area was used as a data area. In this, a part of the track was used for reproduction only. As described above, video information was provided, and the portion was written by tracing each track with a laser beam to generate the HL mode and used as a reproduction-only image.
【0029】実施例4 実施例1と同様に、記録材料として酸化アンチモンを使
用し、図1に示すような構成の媒体ディスクを形成し
た。すなわち、PCからなる基板1の上にスパッターに
よりSiO2 を着膜して800Åの厚さの下面側誘電体
層2を形成し、この下面側誘電体層2の上に実施例1で
使用したと同じ高周波イオンプレーティングを使用し、
Arガス圧を6×10-4torrとし、O2 ガス圧を3×1
0-4torrに設定し、数百WのRFパワーをRFコイル1
1に印加してプラズマを発生せしめ、Sbをエレクトロ
ンビーム(EB)により蒸発させてイオン化させ、回転
している基板1上に酸化アンチモンを蒸着させることに
より行い、厚さ約400Åの記録層3を形成した。な
お、この際、RFコイルに印加するエネルギー、すなわ
ちVdcを変化させて複数のディスクを作製した。この
ようにして得られた各々のディスクの記録層3の上にス
パッターによりSiO2 を着膜して厚さ600Åの上面
側誘電体層4を形成し、この上面側誘電体層4の上に急
冷反射層5として600Åの厚さのアルミニウム(A
l)膜を着膜し、この急冷反射層5の上に約2μmの紫
外線保護用樹脂6を積層し、複数の光記録媒体を作製し
た。Example 4 In the same manner as in Example 1, antimony oxide was used as a recording material to form a medium disk having the structure shown in FIG. That is, SiO 2 was deposited on a substrate 1 made of PC by sputtering to form a lower surface side dielectric layer 2 having a thickness of 800 Å, and the lower surface side dielectric layer 2 was used in Example 1 on the lower surface side dielectric layer 2. Same high frequency ion plating as
Ar gas pressure is 6 × 10 −4 torr and O 2 gas pressure is 3 × 1.
RF coil 1 sets RF power of several hundred W by setting to 0 -4 torr
1 is applied to generate plasma, Sb is evaporated by an electron beam (EB) to be ionized, and antimony oxide is vapor-deposited on the rotating substrate 1 to form a recording layer 3 having a thickness of about 400 liters. Formed. At this time, a plurality of disks were produced by changing the energy applied to the RF coil, that is, Vdc. SiO 2 is deposited on the recording layer 3 of each disk thus obtained by sputtering to form an upper surface side dielectric layer 4 having a thickness of 600Å, and the upper surface side dielectric layer 4 is formed on the upper surface side dielectric layer 4. As the quenching reflection layer 5, 600 Å thick aluminum (A
1) A film was deposited, and an ultraviolet protection resin 6 having a thickness of about 2 μm was laminated on the quenched reflection layer 5 to prepare a plurality of optical recording media.
【0030】ここで、上記の記録層3の作製の際に変化
させたVdc値に対応するこの記録層3の酸化アンチモ
ンの組成をRutherford Scattering で測定し、また、各
光記録媒体に線速1.4m/secで約12mWのレー
ザービームを照射し、その照射後の記録層3の相状態を
調べ、記録層3の組成と相状態との関係を調べた。結果
を図7に示す。この図7において、縦軸は記録層3の温
度を示し、横軸は記録層3を構成するSbOx の酸素原
子数比xを表している。図において、xが1.0〜1.
5の領域では記録層3の記録材料はバイノーダル分解の
みを生じ、xが0.3〜0.6及び1.9〜2.05の
領域ではスピノーダル分解のみを生じ、また、xが上記
以外の領域では、レーザービーム照射後の冷却条件によ
って、バイノーダル分解あるいはスピノーダル分解の何
れかを生じる領域であることが判明した。そして、この
記録層3においてレーザービームの照射によりスピノー
ダル分解をした領域は、初期反射率より高い反射率を示
す高反射率領域となり、これはこの記録領域の反射率が
LH記録モードとなることを意味している。反対に、レ
ーザービームの照射によりバイノーダル分解をした領域
は、初期反射率より低い反射率を示す低反射率領域とな
り、これはこの記録領域の反射率がHL記録モードとな
ることを意味している。なお、図7において、実線10
1及び破線102は記録層3を構成する記録材料、酸化
アンチモンの状態図に対応しており、実線101はバイ
ノーダル分解曲線を、また、破線102はスピノーダル
分解曲線を示す。この実施例4においては、記録層の冷
却条件にかかわらずスピノーダル分解を生起するx=
2.0の組成の酸化アンチモンを記録材料として用い
た。Here, the composition of antimony oxide in the recording layer 3 corresponding to the Vdc value changed during the production of the recording layer 3 was measured by Rutherford Scattering, and the linear velocity was 1 for each optical recording medium. A laser beam of about 12 mW was irradiated at 0.4 m / sec, the phase state of the recording layer 3 after the irradiation was examined, and the relationship between the composition of the recording layer 3 and the phase state was examined. The results are shown in Fig. 7. In FIG. 7, the vertical axis represents the temperature of the recording layer 3, and the horizontal axis represents the oxygen atom number ratio x of SbO x forming the recording layer 3. In the figure, x is 1.0 to 1.
In the region of No. 5, the recording material of the recording layer 3 produces only binodal decomposition, in the region of x of 0.3 to 0.6 and 1.9 to 2.05, only spinodal decomposition occurs, and x is other than the above. It was found that in the region, either binodal decomposition or spinodal decomposition was generated depending on the cooling conditions after the laser beam irradiation. The region of the recording layer 3 that has undergone spinodal decomposition by irradiation with a laser beam becomes a high reflectance region having a reflectance higher than the initial reflectance, which means that the reflectance of this recording region becomes the LH recording mode. I mean. On the other hand, the region subjected to the binodal decomposition by irradiation with the laser beam becomes a low reflectance region showing a reflectance lower than the initial reflectance, which means that the reflectance of this recording region becomes the HL recording mode. .. In FIG. 7, the solid line 10
1 and the broken line 102 correspond to the state diagram of the recording material and antimony oxide constituting the recording layer 3, the solid line 101 shows the binodal decomposition curve, and the broken line 102 shows the spinodal decomposition curve. In Example 4, x = which causes spinodal decomposition regardless of the cooling conditions of the recording layer.
Antimony oxide having a composition of 2.0 was used as a recording material.
【0031】次に、CDWO(Compact Disc Write Onc
e )の規格について説明する。図8で縦軸は記録媒体の
反射率を示し、横軸は記録時間を示しており、CDWO
の規格を模式的に表したものである。図に示すようにC
DWO規格では、記録媒体に、196KHzの周波数で
レーザー記録を行った場合(11Tシグナル印加時)
の、記録領域の最大反射率Rtop が65%以上、720
KHzの周波数でレーザー記録を行った場合(3Tシグ
ナル印加時)の反射率振幅R3 が上記最大反射率R0 の
0.3倍以上かつ0.6倍以下、記録媒体の初期反射率
R0 が上記最大反射率Rtop の0.4倍以下であること
が定められている。この関係を示したのが図9であり、
図9で縦軸は反射率(R3 若しくはR0 )を表し、横軸
は反射率Rtop を表し、103はR3 =0.6Rtop の
直線を、104はR3 =0.3Rtop の直線を、105
はR0 =0.4Rtop の直線を表しており、CDWOの
規格を満たす領域は、この図9において、斜線部の重な
り合った部分にあることが判る。具体的にRtop =65
%をもとに計算すると、Rtop ≧65%、R0 ≦26
%、R3 ≧19.5%がCDWO規格となる。Next, CDWO (Compact Disc Write Onc
The standard of e) is explained. In FIG. 8, the vertical axis represents the reflectance of the recording medium and the horizontal axis represents the recording time.
Is a schematic representation of the standard. C as shown
According to the DWO standard, when laser recording is performed on a recording medium at a frequency of 196 KHz (when 11T signal is applied)
The maximum reflectance R top of the recording area is 65% or more, 720
When laser recording is performed at a frequency of KHz (when a 3T signal is applied), the reflectance amplitude R 3 is 0.3 to 0.6 times the maximum reflectance R 0 , and the initial reflectance R 0 of the recording medium. Is 0.4 times or less of the maximum reflectance R top . This relationship is shown in FIG.
The vertical axis in FIG. 9 represents the reflectance (R 3 or R 0), the horizontal axis represents the reflectivity R top, 103 is a straight line R 3 = 0.6R top, 104 are R 3 = 0.3R top The straight line of 105
Indicates a straight line of R 0 = 0.4R top , and it can be seen that the region that satisfies the CDWO standard is in the overlapping portion of the shaded portions in FIG. 9. Specifically R top = 65
When calculated based on%, R top ≧ 65%, R 0 ≦ 26
%, R 3 ≧ 19.5% is the CDWO standard.
【0032】ここで冷却条件にかかわらず、レーザービ
ームの照射によってスピノーダル分解のみを発生するx
が約2.0の記録層3を有する光記録媒体を用い、この
記録媒体がCDWOの規格に適合するか否かの試験実際
の記録試験を行った。すなわち、x=2.0の光記録媒
体の上記Rtop 、R3 、R0 の値がレーザーパワーとど
のような関係にあるかを調べた。その時の条件と結果
は、以下の通りであった。 〔条件〕書き込みレーザーパワー:0〜15mWの範囲
で1mWずつ変化させた 読み出しレーザーパワー:1mW 記録媒体の線速度:1.4m/sec 記録信号:196〜720KHzで変化(デユーテイ
比:50%) 〔結果〕 記録領域における反射率のレーザーパワー依存性を
図10に示す。 非記録領域における反射率のレーザーパワー依存性
を図11に示す。 上記及びに基づく、反射率のコントラストのレ
ーザーパワー依存性を図12に示す。 記録領域における記録周波数fの反射率振幅
(Rf )と最大反射率(Rtop )との比(Rf /
Rtop )のレーザーパワー依存性を図13に示す。 反射率の記録周波数依存性を図14に示す。 記録周波数fにおける反射率振幅(Rf )と最大反
射率(Rtop )との比(Rf /Rtop )の記録周波数依
存性を図15に示す。Here, regardless of the cooling conditions, only spinodal decomposition is generated by the irradiation of the laser beam x
An optical recording medium having a recording layer 3 of about 2.0 was used to test whether or not the recording medium complies with the CDWO standard. An actual recording test was performed. That is, the relationship between the values of R top , R 3 , and R 0 of the optical recording medium of x = 2.0 and the laser power was examined. The conditions and results at that time were as follows. [Conditions] Writing laser power: changed by 1 mW in the range of 0 to 15 mW Reading laser power: 1 mW Linear velocity of recording medium: 1.4 m / sec Recording signal: Change at 196 to 720 KHz (duty ratio: 50%) [ Results] FIG. 10 shows the laser power dependence of the reflectance in the recording area. FIG. 11 shows the laser power dependence of the reflectance in the non-recording area. FIG. 12 shows the laser power dependence of the contrast of the reflectance based on the above and. The ratio ( Rf /) of the reflectance amplitude ( Rf ) at the recording frequency f and the maximum reflectance ( Rtop ) in the recording area.
The laser power dependence of R top ) is shown in FIG. FIG. 14 shows the recording frequency dependence of the reflectance. The recording frequency dependency of the reflectance ratio amplitude at the recording frequency f and (R f) the maximum reflectance and (R top) (R f / R top) shown in FIG. 15.
【0033】図14から明らかな通り、この光記録媒体
においては、書き込みレーザーパワーが12mW以上の
場合に、記録周波数200KHzの場合の最大反射率R
top が65%以上となることが判明した。また、図15
から、記録周波数720KHzの場合の反射率振幅(R
f )と最大反射率(Rtop )との比(Rf /Rtop )の
値が0.31以上あり、また、図10や図11から明ら
かな通り初期反射率が26%であることが判る。更に、
図15から、記録周波数200KHzの場合の反射率振
幅(Rf )と最大反射率(Rtop )との比(Rf /R
top )の値が0.61以上あることも明らかである。結
局、この光記録媒体は、R0 =26%、Rtop >65%
及びRf /Rtop >0.31以上の条件を満たすもので
あり、CDWOの規格を満たしていることが確認され
た。As is apparent from FIG. 14, in this optical recording medium, when the writing laser power is 12 mW or more, the maximum reflectance R at the recording frequency of 200 KHz is obtained.
It was found that the top was 65% or more. In addition, FIG.
From the reflectance amplitude (R
The ratio (R f / R top ) of f ) to the maximum reflectance (R top ) is 0.31 or more, and the initial reflectance is 26% as is clear from FIGS. 10 and 11. I understand. Furthermore,
From FIG. 15, the ratio (R f / R) between the reflectance amplitude (R f ) and the maximum reflectance (R top ) in the case of the recording frequency of 200 KHz.
It is also clear that the value of top ) is 0.61 or more. After all, this optical recording medium has R 0 = 26% and R top > 65%.
And R f / R top > 0.31 are satisfied, and it was confirmed that the CDWO standard was satisfied.
【0034】次に、この光記録媒体を市販のCD−RO
Mドライブで再生したが、一般のCD−ROMディスク
と変わりなく再生された。また、50℃、60℃、70
℃の各温度で85%RH、1000時間の環境変化試験
を行ったが、ほとんど反射率変化は認められなかった。Next, this optical recording medium was put on a commercially available CD-RO.
It was played back with the M drive, but it was played back as it was with a general CD-ROM disc. Also, 50 ℃, 60 ℃, 70
An environmental change test was conducted for 1000 hours at 85% RH at each temperature of ° C, but almost no change in reflectance was observed.
【0035】なお、この記録媒体は、スピノーダル分解
により記録ビットを高い反射率領域として形成するもの
であるため(非記録領域が低反射率領域であり、記録領
域が高い反射率領域である)、情報信号と、書き込みレ
ーザーパワーと、再生信号との関係は図5に示すよう
に、情報信号がHの場合に書き込みレーザーパワーをH
とするように、各強度が互いに比例的に対応したパルス
信号により書き込みを行うことが必要になる。これに対
して、従来の金/有機色素系のCDWOの書き込みにお
いては、図6に示すように、情報信号の強度と書き込み
レーザーパワーとが互いに逆パルスとなるような関係で
行われる。Since this recording medium forms the recording bit as a high reflectance area by spinodal decomposition (the non-recording area is the low reflectance area and the recording area is the high reflectance area), The relationship between the information signal, the writing laser power, and the reproduction signal is as shown in FIG.
As described above, it is necessary to perform writing with a pulse signal in which the respective intensities are proportional to each other. On the other hand, in the conventional writing of gold / organic dye-based CDWO, as shown in FIG. 6, the intensity of the information signal and the writing laser power are pulsed in the opposite pulse.
【0036】実施例5 上記実施例4の光記録媒体では、記録層の冷却条件にか
かわらずスピノーダル分解を生起するx=2.0の組成
の酸化アンチモンを記録材料として用いたが、図7に示
した通り、x=0〜0.3、0.6〜1.0、1.5〜
1.9及び2.05〜2.2の領域においては、記録層
の冷却条件を選択することによって、スピノーダル分解
又はバイノーダル分解の何れかを生起する。そして、こ
の領域でスピノーダル分解を生起させるためには、アル
ミニウム等の金属からなる反射急冷層5が記録層3の近
くに設けられ、これにより記録層3が急冷される条件と
なっていることが必要であり、このように反射急冷層5
を設けることによって、結果的にはx=2.0以外の上
記組成の酸化アンチモンを記録材料として用いても、上
記実施例4と同様の光記録媒体を得ることができる。ま
た、アルミニウム系金属はレーザービームの反射率が高
く、反射率変化の波長依存性がほとんどないため(従来
の金/有機色素系CDWOの反射層として使用されてい
る金は、短波長領域、特に500nm近辺で反射率が急
激に低下する)、短波長レーザーにも使用できるだけで
なく、廉価でもあり、反射急冷層5を形成するための材
料として非常に好ましいものである。Example 5 In the optical recording medium of Example 4 above, antimony oxide having a composition of x = 2.0 that causes spinodal decomposition was used as a recording material regardless of the cooling conditions of the recording layer. As shown, x = 0-0.3, 0.6-1.0, 1.5-
In the region of 1.9 and 2.05-2.2, either spinodal decomposition or binodal decomposition is caused by selecting the cooling condition of the recording layer. In order to cause spinodal decomposition in this region, a reflective quenching layer 5 made of a metal such as aluminum is provided near the recording layer 3, and the recording layer 3 is rapidly cooled. Needed and thus reflective layer 5
As a result, even when antimony oxide having the above composition other than x = 2.0 is used as the recording material, the same optical recording medium as in Example 4 can be obtained. Further, aluminum-based metal has a high reflectance of a laser beam and has almost no wavelength dependence of reflectance change (gold used as a reflection layer of conventional gold / organic dye-based CDWO has a short wavelength range, particularly The reflectance rapidly decreases in the vicinity of 500 nm), it can be used for a short-wavelength laser, and it is inexpensive, which is a very preferable material for forming the reflection quenching layer 5.
【0037】実施例6 実施例4において、図12に示すように、レーザーパワ
ーが小さい領域、具体的にはレーザーパワーが3〜5m
Wの領域で、反射率の低下が見られる。この領域ではバ
イノーダル分解が生じて反射率が低下しているものと考
えられる。このことから、光記録媒体の少なくとも非記
録領域に予め低レーザーパワーを照射してバイノーダル
分解を生起させ、これによって初期反射率を低下させて
おき、次いでより高いレーザーパワーを照射してスピノ
ーダル分解を生起させて高い反射率領域からなる記録領
域を形成してもよく、これにより、より反射率コントラ
ストの高い記録を行うことができる。Example 6 In Example 4, as shown in FIG. 12, a region where the laser power was small, specifically, the laser power was 3 to 5 m.
In the W region, a decrease in reflectance is seen. It is considered that the binodal decomposition occurs in this region and the reflectance is lowered. From this, at least the non-recording area of the optical recording medium is irradiated with low laser power in advance to cause binodal decomposition, thereby lowering the initial reflectance, and then irradiated with higher laser power to decompose spinodal. A recording region having a high reflectance region may be formed to generate a recording region having a higher reflectance contrast.
【0038】実施例7 実施例4と同様な条件で作成した光記録媒体を使用し、
半径50mmから80mmの間に再生専用領域を設け、
この領域に固定情報を予めプリピットとして設けた。ま
た、その他の領域をキセノンフラッシュランプにより予
め一括露光した結果、反射率が約75%となった。この
反射率の値はCDWOの規格に準拠している。また、他
の部分は、このキセノンフラッシュランプによる一括露
光の際にマスキングをした。この結果、この実施例7の
光記録媒体は、再生専用領域とWO領域とに分けてパー
シャルROMとして使用することができた。Example 7 Using an optical recording medium prepared under the same conditions as in Example 4,
A reproduction-only area is provided between a radius of 50 mm and 80 mm,
Fixed information was previously provided as prepits in this area. Further, as a result of collectively exposing the other regions in advance with a xenon flash lamp, the reflectance became about 75%. This reflectance value complies with the CDWO standard. The other parts were masked at the time of collective exposure with this xenon flash lamp. As a result, the optical recording medium of Example 7 could be divided into a read-only area and a WO area and used as a partial ROM.
【0039】実施例8 実施例4と同様な条件で作成した光記録媒体を使用し、
全体をデータ領域とすると共に、一部のトラックを再生
専用領域として使用するため、必要なトラックに予めプ
リピットとして情報を蓄積し、その部分を1トラックづ
つレーザービームでなぞりながら書き込み、HLモード
を生起させて再生専用領域とした。この実施例8の光記
録媒体も、再生専用領域とWO領域とを有するパーシャ
ルROMとして使用することができた。Example 8 Using an optical recording medium prepared under the same conditions as in Example 4,
Since the entire area is used as a data area and some tracks are used as a read-only area, information is stored in advance as pre-pits on the necessary tracks, and that area is written by tracing the laser beam one track at a time to generate the HL mode. To make it a playback-only area. The optical recording medium of Example 8 could also be used as a partial ROM having a read-only area and a WO area.
【0040】[0040]
【発明の効果】本発明によれば、高感度かつ高反射率で
あって高コントラストである書き込み可能な光記録媒体
の実現及びその実施が可能であり、また、低い反射率に
設定された記録層にレーザービームを照射して書き込む
ことになるのでこの書き込み時におけるレーザービーム
の反射による損失が少なく、レーザービームのエネルギ
ーを効率的に利用できる。また、ISO標準のWOデジ
タルデータディスクと同じプロセスにより、CDフォー
マット又はLDフォーマットの基板に記録膜等を着膜
し、CD又はLDとして使用することが可能になり、い
ままでにない広範な用途に対応することができる。ま
た、この媒体は普通のビデオディスクプレーヤーで再生
できるので画像情報の頒布媒体としても使用できる。According to the present invention, it is possible to realize and implement a writable optical recording medium having high sensitivity, high reflectance and high contrast, and recording with a low reflectance set. Since the layer is irradiated with the laser beam for writing, the loss due to the reflection of the laser beam at the time of writing is small and the energy of the laser beam can be efficiently used. Also, by the same process as the ISO standard WO digital data disk, it becomes possible to deposit a recording film or the like on a CD format or LD format substrate and use it as a CD or LD, which has a wide range of applications not available before. Can respond. Further, since this medium can be reproduced by an ordinary video disc player, it can be used as a medium for distributing image information.
【図1】 図1は本発明の実施例1に係る光記録媒体の
構成を示す説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram showing a configuration of an optical recording medium according to a first embodiment of the present invention.
【図2】 図2は実施例1の記録層を着膜させるために
使用したイオンプレーティング装置の説明図である。FIG. 2 is an explanatory diagram of an ion plating apparatus used to deposit a recording layer of Example 1.
【図3】 図3は実施例1の光記録媒体における記録モ
ードのレーザーパワー依存性を示す説明図である。FIG. 3 is an explanatory diagram showing laser power dependence of a recording mode in the optical recording medium of Example 1.
【図4】 図4は実施例1の光記録媒体におけるコント
ラストのレーザーパワー依存性を示す説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram showing laser power dependence of contrast in the optical recording medium of Example 1.
【図5】 図5は本発明の光記録媒体における情報信号
の遷移モデルを示す説明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing a transition model of an information signal in the optical recording medium of the present invention.
【図6】 図6は従来方式の光記録媒体における情報信
号の遷移モデルを示す説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram showing a transition model of an information signal in a conventional optical recording medium.
【図7】 図7は本発明の実施例4に係る光記録媒体に
おける酸化アンチモンの組成と相状態との関係を示す相
図である。FIG. 7 is a phase diagram showing the relationship between the composition of antimony oxide and the phase state in the optical recording medium according to Example 4 of the present invention.
【図8】 図8はCDWOの規格を説明するための記録
時間と反射率との関係を示す説明図である。FIG. 8 is an explanatory diagram showing a relationship between recording time and reflectance for explaining the CDWO standard.
【図9】 図9は実施例4の光記録媒体における反射率
のRtop 依存性を示す説明図である。FIG. 9 is an explanatory diagram showing R top dependency of reflectance in the optical recording medium of Example 4.
【図10】 図10は実施例4の光記録媒体における記
録領域の反射率のレーザーパワー依存性を示す説明図で
ある。FIG. 10 is an explanatory diagram showing laser power dependence of reflectance of a recording area in the optical recording medium of Example 4.
【図11】 図11は実施例4の光記録媒体における非
記録領域の反射率のレーザーパワー依存性を示す説明図
である。FIG. 11 is an explanatory diagram showing laser power dependence of reflectance of a non-recording area in the optical recording medium of Example 4.
【図12】 図12は実施例4の光記録媒体における反
射コントラストのレーザーパワー依存性を示す説明図で
ある。FIG. 12 is an explanatory diagram showing laser power dependence of reflection contrast in the optical recording medium of Example 4.
【図13】 図13は実施例4の光記録媒体における記
録領域のRf /Rtop のレーザーパワー依存性を示す説
明図である。FIG. 13 is an explanatory diagram showing laser power dependence of R f / R top of a recording area in the optical recording medium of Example 4.
【図14】 図14は実施例4の光記録媒体における反
射率の周波数依存性を示す説明図である。FIG. 14 is an explanatory diagram showing the frequency dependence of reflectance in the optical recording medium of Example 4.
【図15】 図15は実施例4の光記録媒体におけるR
f /Rtop の周波数依存性を示す説明図である。FIG. 15 shows R in the optical recording medium of Example 4.
It is explanatory drawing which shows the frequency dependence of f / Rtop .
【符号の説明】 1…基板、2…下面側誘電体層、3…記録層、4…上面
側誘電体層、5…急冷反射層、6…紫外線保護用樹脂。[Explanation of reference numerals] 1 ... Substrate, 2 ... Lower surface side dielectric layer, 3 ... Recording layer, 4 ... Upper surface side dielectric layer, 5 ... Quenching reflection layer, 6 ... UV protection resin.
Claims (2)
ネルギービームの照射により相分離を生じる記録層を設
けた光記録媒体において、(a)前記記録層をスピノー
ダル分解領域の組成からなる材料とすると共に、(b)
前記多層膜を前記記録層への前記光等のエネルギービー
ムの照射の終了後この照射された記録層が急速に冷却さ
れるように構成したことを特徴とする光記録媒体。1. An optical recording medium comprising a multi-layered film provided on a substrate and provided with a recording layer which undergoes phase separation upon irradiation with an energy beam such as light. (A) The recording layer is formed from a composition of a spinodal decomposition region. And (b)
An optical recording medium, characterized in that the multilayer film is configured so that the irradiated recording layer is rapidly cooled after the irradiation of the energy beam such as the light to the recording layer is completed.
設けられた多層膜中の記録層に情報の書き込み及び読み
出しを行う光記録方法において、(a)前記記録層をス
ピノーダル分解領域の組成からなる材料とすると共に、
(b)前記多層膜を前記記録層への前記光等のエネルギ
ービームの照射の終了後この照射された記録層が急速に
冷却されるように構成し、(c)スピノーダル分解によ
る相分離の生じていない前記記録層に書き込むべき情報
に応じてスピノーダル分解による相分離を生じるような
強度の光等のエネルギービームを照射し、(d)この書
き込まれた情報を前記スピノーダル分解による相分離の
生じないような強度の光等のエネルギービームを照射し
て読み出すことを特徴とする光記録方法。2. An optical recording method for writing and reading information to and from a recording layer in a multilayer film provided on a substrate by an energy beam such as light, wherein (a) the recording layer has a composition of a spinodal decomposition region. With the material
(B) The multilayer film is configured so that the irradiated recording layer is rapidly cooled after the irradiation of the energy beam such as the light to the recording layer is completed, and (c) phase separation occurs due to spinodal decomposition. Irradiation with an energy beam such as light having an intensity that causes phase separation due to spinodal decomposition in accordance with the information to be written in the recording layer, which is not performed (d) Phase separation due to the spinodal decomposition does not occur in the written information. An optical recording method comprising irradiating and reading an energy beam such as light having such an intensity.
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JP27497791 | 1991-09-27 | ||
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CN120040182A (en) * | 2025-04-27 | 2025-05-27 | 乌镇实验室 | A laminated microwave dielectric ceramic and its preparation method |
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1992
- 1992-09-25 JP JP27924492A patent/JP3163790B2/en not_active Expired - Fee Related
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