JPH05155837A - アシルアミノベンズアミド化合物、その製造法、それを含有する殺カビ剤組成物 - Google Patents
アシルアミノベンズアミド化合物、その製造法、それを含有する殺カビ剤組成物Info
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- A01—AGRICULTURE; FORESTRY; ANIMAL HUSBANDRY; HUNTING; TRAPPING; FISHING
- A01N—PRESERVATION OF BODIES OF HUMANS OR ANIMALS OR PLANTS OR PARTS THEREOF; BIOCIDES, e.g. AS DISINFECTANTS, AS PESTICIDES OR AS HERBICIDES; PEST REPELLANTS OR ATTRACTANTS; PLANT GROWTH REGULATORS
- A01N37/00—Biocides, pest repellants or attractants, or plant growth regulators containing organic compounds containing a carbon atom having three bonds to hetero atoms with at the most two bonds to halogen, e.g. carboxylic acids
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-
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】新規な殺カビ性アシルアミノベンズアミド化合
物、これら化合物の製造方法、これら化合物を含む殺カ
ビ剤組成物、およびこれら化合物を使用する殺カビ方
法、特に植物へのカビの感染を防止する方法を提供す
る。 【構成】次の式: (例えば上式中、R1、R2:CH3,R3:H,
R4:(CH3)3C,A、B、D、E:H,X、Y:
Oの化合物)で表わされるアシルアミノベンズアミド化
合物、その製造法、それを含有する殺カビ剤組成物。
物、これら化合物の製造方法、これら化合物を含む殺カ
ビ剤組成物、およびこれら化合物を使用する殺カビ方
法、特に植物へのカビの感染を防止する方法を提供す
る。 【構成】次の式: (例えば上式中、R1、R2:CH3,R3:H,
R4:(CH3)3C,A、B、D、E:H,X、Y:
Oの化合物)で表わされるアシルアミノベンズアミド化
合物、その製造法、それを含有する殺カビ剤組成物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規な殺カビ性アシルア
ミノベンズアミド化合物、これら化合物の製造方法、こ
れら化合物を含む殺カビ剤組成物、およびこれら化合物
を使用する殺カビ方法、特に植物へのカビの感染を防止
する方法に関する。
ミノベンズアミド化合物、これら化合物の製造方法、こ
れら化合物を含む殺カビ剤組成物、およびこれら化合物
を使用する殺カビ方法、特に植物へのカビの感染を防止
する方法に関する。
【0002】英国特許出願第42454/77号および
EP−A−0127990号が出願され、またこの英国
特許出願に基づき優先権を主張して米国特許第4282
218号が出願されている。上記英国特許出願は抗アン
ドロゲン特性を有するアシルアニリドについて述べてお
り、EP−A−0127990は殺カビ特性を有するア
ニリン誘導体について述べている。
EP−A−0127990号が出願され、またこの英国
特許出願に基づき優先権を主張して米国特許第4282
218号が出願されている。上記英国特許出願は抗アン
ドロゲン特性を有するアシルアニリドについて述べてお
り、EP−A−0127990は殺カビ特性を有するア
ニリン誘導体について述べている。
【0003】本発明によれば、後記の式(I)の化合物
が提供され、この式(I)において、AおよびBはそれ
ぞれH原子、沃素原子、ニトロ基、シアノ基、C1-4 ア
ルコキシカルボニル基、C1-4 アルコキシ(C1-4 )ア
ルキル基、C1-4 アルキルチオ(C1-4 )アルキル基、
ホルミル基、C1-4 アルキルチオ基、ハロ(C1-4 )ア
ルキルチオ基、ハロ(C1-4 )アルコキシ基、C1-4 ア
ルキルカルボニル基、基−CR5 =NOR6 (基中のR
5 およびR6 はそれぞれH原子またはC1-4 アルキル基
である)、C2-4 アルケニル基またはC2-4 アルキニル
基であり、ただしAおよびBの両方がH原子であっては
ならず;DおよびEはそれぞれH原子またはフッ素原子
であり;R1 はH原子、C1-4 アルキル基またはC1-4
アルコキシ基であり;R2 はC1-4 アルキル基、C1-4
アルコキシ基または任意に置換されていてもよいフェニ
ル基であるか、またはR1 およびR2 は、これらに結合
した窒素原子と共に結合して、C1-4 アルキル基により
任意に置換されていてもよいモルホリン環、ピペリジン
環、ピロリジン環またはアゼチジン環を形成し;R3 は
H原子であり;R4 はトリクロロメチル基、C2-8 アル
キル基〔該基はハロゲン原子、C1-8 アルコキシ基また
は基R′S(O)n(但し、R′はC1-4 アルキル基、
C2-4 アルケニル基またはC2-4 アルキニル基であり、
nは0、1または2である)により任意に置換されてい
てもよい〕、シクロプロピル基(該基はハロゲン原子ま
たはC1-4 アルキル基により任意に置換されていてもよ
い)、C2-8 アルケニル基、C2-8 アルキニル基または
C2-8 アルコキシ基(これらの基はそれぞれハロゲン原
子により任意に置換されていてもよい)、モノもしくは
ジ(C1-4 )アルキルアミノ基またはR″ON=C(C
N)基(但し、R″はC1-4 アルキル基である)である
か、あるいはR3 およびR4 は、これらに結合したC
(O)N基と共に結合して、ハロゲン原子またはC1-4
アルキル基により任意に置換されていてもよいアゼチジ
ン−2−オン環を形成し;XおよびYはそれぞれ酸素原
子または硫黄原子である。アルキル基、および他のアル
キル基含有基のアルキル部分は直鎖でも分岐鎖でもよ
い。その例としてはメチル基、エチル基、プロピル基
(n−およびiso-プロピル基)、ブチル基(n−、sec
-、iso-およびt−ブチル基)、1,1−ジメチルプロ
ピル基および1,1−ジメチルブチル基がある。アルケ
ニル基およびアルキニル基もまた直鎖でも分岐鎖でもよ
い。その例としては1,1−ジメチルブタ−3−エニル
基および1,1−ジメチルプロパ−2−イニル基であ
る。
が提供され、この式(I)において、AおよびBはそれ
ぞれH原子、沃素原子、ニトロ基、シアノ基、C1-4 ア
ルコキシカルボニル基、C1-4 アルコキシ(C1-4 )ア
ルキル基、C1-4 アルキルチオ(C1-4 )アルキル基、
ホルミル基、C1-4 アルキルチオ基、ハロ(C1-4 )ア
ルキルチオ基、ハロ(C1-4 )アルコキシ基、C1-4 ア
ルキルカルボニル基、基−CR5 =NOR6 (基中のR
5 およびR6 はそれぞれH原子またはC1-4 アルキル基
である)、C2-4 アルケニル基またはC2-4 アルキニル
基であり、ただしAおよびBの両方がH原子であっては
ならず;DおよびEはそれぞれH原子またはフッ素原子
であり;R1 はH原子、C1-4 アルキル基またはC1-4
アルコキシ基であり;R2 はC1-4 アルキル基、C1-4
アルコキシ基または任意に置換されていてもよいフェニ
ル基であるか、またはR1 およびR2 は、これらに結合
した窒素原子と共に結合して、C1-4 アルキル基により
任意に置換されていてもよいモルホリン環、ピペリジン
環、ピロリジン環またはアゼチジン環を形成し;R3 は
H原子であり;R4 はトリクロロメチル基、C2-8 アル
キル基〔該基はハロゲン原子、C1-8 アルコキシ基また
は基R′S(O)n(但し、R′はC1-4 アルキル基、
C2-4 アルケニル基またはC2-4 アルキニル基であり、
nは0、1または2である)により任意に置換されてい
てもよい〕、シクロプロピル基(該基はハロゲン原子ま
たはC1-4 アルキル基により任意に置換されていてもよ
い)、C2-8 アルケニル基、C2-8 アルキニル基または
C2-8 アルコキシ基(これらの基はそれぞれハロゲン原
子により任意に置換されていてもよい)、モノもしくは
ジ(C1-4 )アルキルアミノ基またはR″ON=C(C
N)基(但し、R″はC1-4 アルキル基である)である
か、あるいはR3 およびR4 は、これらに結合したC
(O)N基と共に結合して、ハロゲン原子またはC1-4
アルキル基により任意に置換されていてもよいアゼチジ
ン−2−オン環を形成し;XおよびYはそれぞれ酸素原
子または硫黄原子である。アルキル基、および他のアル
キル基含有基のアルキル部分は直鎖でも分岐鎖でもよ
い。その例としてはメチル基、エチル基、プロピル基
(n−およびiso-プロピル基)、ブチル基(n−、sec
-、iso-およびt−ブチル基)、1,1−ジメチルプロ
ピル基および1,1−ジメチルブチル基がある。アルケ
ニル基およびアルキニル基もまた直鎖でも分岐鎖でもよ
い。その例としては1,1−ジメチルブタ−3−エニル
基および1,1−ジメチルプロパ−2−イニル基であ
る。
【0004】R4 の好適なアルキル基は基R(CH3 )
2 C〔式中、Rはハロゲン原子、C1-4 アルキル基また
はC1-4 アルコキシ基、特に基F(CH3 )2 Cであ
る〕である。R4 の他の好適なアルキル基は基F
(R8 )(R9 )C〔式中、R8 およびR9 はそれぞれ
H原子、C1-4 アルキル基またはハロ(C1-4 )アルキ
ル基である〕である。
2 C〔式中、Rはハロゲン原子、C1-4 アルキル基また
はC1-4 アルコキシ基、特に基F(CH3 )2 Cであ
る〕である。R4 の他の好適なアルキル基は基F
(R8 )(R9 )C〔式中、R8 およびR9 はそれぞれ
H原子、C1-4 アルキル基またはハロ(C1-4 )アルキ
ル基である〕である。
【0005】ハロゲンとしては、弗素、塩素および臭素
がある。フェニル基の任意の置換基としては、ハロゲン
原子、C1-4 アルキル基(例えばメチル基)、C1-4 ア
ルコキシ基(例えばメトキシ基)、C1-4 アルキルチオ
基(例えばメチルチオ基)、トリフルオロメチル基、ト
リフルオロメトキシ基、ニトロ基、シアノ基、C1-4 ア
ルキルカルボニル基、アミノ基、モノ−およびジ−(C
1-4 )アルキルアミノ基がある。
がある。フェニル基の任意の置換基としては、ハロゲン
原子、C1-4 アルキル基(例えばメチル基)、C1-4 ア
ルコキシ基(例えばメトキシ基)、C1-4 アルキルチオ
基(例えばメチルチオ基)、トリフルオロメチル基、ト
リフルオロメトキシ基、ニトロ基、シアノ基、C1-4 ア
ルキルカルボニル基、アミノ基、モノ−およびジ−(C
1-4 )アルキルアミノ基がある。
【0006】1つの態様において、本発明は後記の式
(I)において、Aは沃素原子、シアノ基、ニトロ基、
C1-4 アルコキシカルボニル基、C1-4 アルキルカルボ
ニル基、C1-4 アルコキシ(C1-4 )アルキル基、C
1-4 アルキルチオ基、ホルミル基、C1-4 アルキルチオ
(C1-4 )アルキル基、または基−CH=NOR6 (式
中、R6 はC1-4 アルキル基である)であり、R1 およ
びR2 はアルキル基(特にメチル基またはエチル基)で
あり;R3 、B、DおよびEはH原子であり;R4 はハ
ロゲンによって任意に置換されていてもよいC2-6 アル
キル基またはC1-4 アルコキシ基であり;XおよびYは
両方とも酸素原子または硫黄原子である式(I) で表わさ
れる化合物を提供する。
(I)において、Aは沃素原子、シアノ基、ニトロ基、
C1-4 アルコキシカルボニル基、C1-4 アルキルカルボ
ニル基、C1-4 アルコキシ(C1-4 )アルキル基、C
1-4 アルキルチオ基、ホルミル基、C1-4 アルキルチオ
(C1-4 )アルキル基、または基−CH=NOR6 (式
中、R6 はC1-4 アルキル基である)であり、R1 およ
びR2 はアルキル基(特にメチル基またはエチル基)で
あり;R3 、B、DおよびEはH原子であり;R4 はハ
ロゲンによって任意に置換されていてもよいC2-6 アル
キル基またはC1-4 アルコキシ基であり;XおよびYは
両方とも酸素原子または硫黄原子である式(I) で表わさ
れる化合物を提供する。
【0007】本発明に関する化合物は次の表Iに挙げら
れる。これら化合物は後記の式(I)によって表わされ、
式中、R1 、R2 、R4 、AおよびBは表に示されてい
る値を有する。R3、DおよびEはH原子であり、Xお
よびYはO原子である。
れる。これら化合物は後記の式(I)によって表わされ、
式中、R1 、R2 、R4 、AおよびBは表に示されてい
る値を有する。R3、DおよびEはH原子であり、Xお
よびYはO原子である。
【0008】
【0009】
【0010】
【0011】本発明の化合物は例えば後記の反応工程図
1および2に略示されている方法により製造することが
できる。これらの反応工程図において、R1 、R2 、R
4 、A、B、DおよびEは上記に定義した通りである。
1および2に略示されている方法により製造することが
できる。これらの反応工程図において、R1 、R2 、R
4 、A、B、DおよびEは上記に定義した通りである。
【0012】後記の反応工程図1において、式(II)
(Aが例えばシアノ基またはC1-4 アルキルチオ基であ
る)の化合物は、N,N−ジメチルホルムアミドまたは
ジメチルスルホキシドのような適当な溶媒中で式(IX)
のヨード化合物を遷移金属塩例えばシアン化第1銅また
はメタンチオール酸第1銅と反応させることにより製造
することができる。
(Aが例えばシアノ基またはC1-4 アルキルチオ基であ
る)の化合物は、N,N−ジメチルホルムアミドまたは
ジメチルスルホキシドのような適当な溶媒中で式(IX)
のヨード化合物を遷移金属塩例えばシアン化第1銅また
はメタンチオール酸第1銅と反応させることにより製造
することができる。
【0013】式(IX)のヨード化合物は、亜硝酸(例え
ば硝酸ナトリウムおよび硫酸から生成)および沃化カリ
ウムのような沃化物源で処理することにより式(VIII)
のアニリンから製造することができる。
ば硝酸ナトリウムおよび硫酸から生成)および沃化カリ
ウムのような沃化物源で処理することにより式(VIII)
のアニリンから製造することができる。
【0014】式(VIII)のアニリンは式(VII) (式中、
Pは保護基である)の化合物から製造することができ
る。例えば、Pがトリフルオロアセチル基である場合に
は、この基はヒドロキシル基を有する溶媒中で塩基によ
り、例えばメタノール中でカルボン酸カリウムにより式
(VII) の化合物を処理することにより除去することがで
きる。
Pは保護基である)の化合物から製造することができ
る。例えば、Pがトリフルオロアセチル基である場合に
は、この基はヒドロキシル基を有する溶媒中で塩基によ
り、例えばメタノール中でカルボン酸カリウムにより式
(VII) の化合物を処理することにより除去することがで
きる。
【0015】式(VII) の化合物は、第3アミン(例えば
トリエチルアミン)、炭酸アルカリ金属または水酸化ア
ルカリ金属(例えば炭酸ナトリウムまたは水酸化ナトリ
ウム)の存在下で塩化メチレンのような適当な有機溶媒
中で酸塩化物R4 COClと反応させることにより式
(VI)のアニリンから製造することができる。
トリエチルアミン)、炭酸アルカリ金属または水酸化ア
ルカリ金属(例えば炭酸ナトリウムまたは水酸化ナトリ
ウム)の存在下で塩化メチレンのような適当な有機溶媒
中で酸塩化物R4 COClと反応させることにより式
(VI)のアニリンから製造することができる。
【0016】式(VI)のアニリンは、適当な溶媒(例え
ば酢酸エチル)中の貴金属触媒(例えば木炭上のパラジ
ウム)または塩酸中の鉄または塩化第一錫による水素添
加のような標準的な方法を用いて還元することにより式
(V)のニトロ化合物から製造することができる。
ば酢酸エチル)中の貴金属触媒(例えば木炭上のパラジ
ウム)または塩酸中の鉄または塩化第一錫による水素添
加のような標準的な方法を用いて還元することにより式
(V)のニトロ化合物から製造することができる。
【0017】式(V)のニトロアミドは、まず塩化チオ
ニルまたは塩化オキサリルのような標準的な試薬で処理
して酸塩化物を生成し、次にこれを第3アミン(例えば
トリエチルアミン)、炭酸アルカリ金属または水酸化ア
ルカリ金属(例えば炭酸カリウムまたは水酸化ナトリウ
ム)のような塩基の存在で塩化メチレンのような適当な
有機溶媒中でR1 R2 NHのアミンと反応させることに
より式(IV)のニトロ酸から製造することができる。
ニルまたは塩化オキサリルのような標準的な試薬で処理
して酸塩化物を生成し、次にこれを第3アミン(例えば
トリエチルアミン)、炭酸アルカリ金属または水酸化ア
ルカリ金属(例えば炭酸カリウムまたは水酸化ナトリウ
ム)のような塩基の存在で塩化メチレンのような適当な
有機溶媒中でR1 R2 NHのアミンと反応させることに
より式(IV)のニトロ酸から製造することができる。
【0018】式(IV)のニトロ酸はトリフルオロアセチ
ル基のような保護基Pでアミノ基を保護し、無水トリフ
ルオロ酢酸と反応させることにより式(III) の化合物か
ら製造することができる。
ル基のような保護基Pでアミノ基を保護し、無水トリフ
ルオロ酢酸と反応させることにより式(III) の化合物か
ら製造することができる。
【0019】後記の反応工程図2において、式(II)の
化合物は第3アミン(例えばトリエチルアミン)、炭酸
アルカリ金属または水酸化アルカリ金属(例えば炭酸ナ
トリウムまたは水酸化ナトリウム)のような塩基の存在
下でジクロロメタンのような適当な有機溶媒中でR4 C
OClの酸塩化物と反応させることにより式(XIX) のア
ミノアミドから製造することができる。
化合物は第3アミン(例えばトリエチルアミン)、炭酸
アルカリ金属または水酸化アルカリ金属(例えば炭酸ナ
トリウムまたは水酸化ナトリウム)のような塩基の存在
下でジクロロメタンのような適当な有機溶媒中でR4 C
OClの酸塩化物と反応させることにより式(XIX) のア
ミノアミドから製造することができる。
【0020】式(XIX) のアミノアミドは適当な溶媒(例
えば酢酸エチル)中の貴金属触媒(例えば木炭上のパラ
ジウム)または塩酸中の鉄または塩化第一錫による水素
添加のような標準的な方法を用いて還元することにより
式(XXVII) のニトロ化合物から製造することができる。
えば酢酸エチル)中の貴金属触媒(例えば木炭上のパラ
ジウム)または塩酸中の鉄または塩化第一錫による水素
添加のような標準的な方法を用いて還元することにより
式(XXVII) のニトロ化合物から製造することができる。
【0021】反応工程図2に述べられている経路は、式
(II)(Aは沃素原子、C2-4 アルケン−1−イル基ま
たはC2-4 アルキン−1−イル基である)の化合物を製
造するのに特に有用である。AがC2-4 アルケン−1−
イル基またはC2-4 アルキン−1−イル基である場合に
は、式(XXVII) のニトロ化合物は、触媒〔例えばビス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム−II−ジクロラ
イド〕の存在下で且つ場合によっては任意に銅(I)塩
(例えば沃化第一銅)の存在下で適当な溶媒(例えば
N,N−ジメチルホルムアミドまたはアセトニトリル)
中でC2-4 アルキンまたは1−トリ−n−ブチルスタニ
ル(stannyl) −(C2-4 )アルケンとの反応により式
(XXVI)の沃化物から製造される。Aがエチニル基であ
る場合には、使用するC2-4 アルキンはトリメチルシリ
ルエチンであり、トリメチルシリル基はメタノールのよ
うな適当な溶媒中で炭酸カリウムで処理することにより
次の段階で除去することもできる。Aが沃素原子である
場合には、式(XXVI)の沃化物が式(XXVII) のニトロ化
合物として直接使用される。
(II)(Aは沃素原子、C2-4 アルケン−1−イル基ま
たはC2-4 アルキン−1−イル基である)の化合物を製
造するのに特に有用である。AがC2-4 アルケン−1−
イル基またはC2-4 アルキン−1−イル基である場合に
は、式(XXVII) のニトロ化合物は、触媒〔例えばビス
(トリフェニルホスフィン)パラジウム−II−ジクロラ
イド〕の存在下で且つ場合によっては任意に銅(I)塩
(例えば沃化第一銅)の存在下で適当な溶媒(例えば
N,N−ジメチルホルムアミドまたはアセトニトリル)
中でC2-4 アルキンまたは1−トリ−n−ブチルスタニ
ル(stannyl) −(C2-4 )アルケンとの反応により式
(XXVI)の沃化物から製造される。Aがエチニル基であ
る場合には、使用するC2-4 アルキンはトリメチルシリ
ルエチンであり、トリメチルシリル基はメタノールのよ
うな適当な溶媒中で炭酸カリウムで処理することにより
次の段階で除去することもできる。Aが沃素原子である
場合には、式(XXVI)の沃化物が式(XXVII) のニトロ化
合物として直接使用される。
【0022】式(XXVI)の沃化物は、まず塩化チオニル
または塩化オキサリルのような標準的な試薬で処理して
酸塩化物を製造し、次にこれを第3アミン(例えばトリ
エチルアミン)、炭酸アルカリ金属または水酸化アルカ
リ金属(例えば炭酸カリウムまたは水酸化ナトリウム)
のような塩基の存在下でジクロロメタンのような適当な
溶媒中でR1 R2 NHのアミンと反応させることにより
式(XXV) のニトロ酸から製造することができる。
または塩化オキサリルのような標準的な試薬で処理して
酸塩化物を製造し、次にこれを第3アミン(例えばトリ
エチルアミン)、炭酸アルカリ金属または水酸化アルカ
リ金属(例えば炭酸カリウムまたは水酸化ナトリウム)
のような塩基の存在下でジクロロメタンのような適当な
溶媒中でR1 R2 NHのアミンと反応させることにより
式(XXV) のニトロ酸から製造することができる。
【0023】式(XXV) のニトロ酸は、亜硝酸(例えば硝
酸ナトリウムおよび硫酸から生成)および沃化カリウム
のような沃化物源で処理することにより式(III) のアニ
リンから製造することができる。
酸ナトリウムおよび硫酸から生成)および沃化カリウム
のような沃化物源で処理することにより式(III) のアニ
リンから製造することができる。
【0024】本発明の化合物はまたEP-A-0381330号明細
書、英国特許出願第9016577.0 号明細書、第9016580.4
号明細書、第9016582.0 号明細書およびこれらの優先権
を主張している出願明細書に述べられている方法および
技術を使用して製造することができる。これらの明細書
の記載内容は本明細書において参照される。
書、英国特許出願第9016577.0 号明細書、第9016580.4
号明細書、第9016582.0 号明細書およびこれらの優先権
を主張している出願明細書に述べられている方法および
技術を使用して製造することができる。これらの明細書
の記載内容は本明細書において参照される。
【0025】さらに別の要旨によれば、本発明は本発明
の化合物を製造する方法を提供する。この方法は本発明
の化合物を製造するために使用するEP-A-0381330号明細
書に述べられている方法を包含する。 この後者の方法
において、本発明の化合物は: (a) XおよびYの両方が酸素原子であり、R3 がH
原子である場合には、(i) 後記の一般式(X)で表
わされる化合物を塩基の存在下で適当な有機溶媒中でR
4 COCl(式中、R4 は後記の意義を有する)の酸塩
化物と反応させることにより;または(ii) 後記の一
般式(XI)で表わされる化合物を塩基または過剰の下記
アミンR1 R2 NHの存在下で適当な有機溶媒中でR1
R2 NH(式中、R1 およびR2 は後記の意義を有す
る)のアミンと反応させることにより;または(iii)
後記の一般式(XII) で表わされる化合物を一般式R4 −
CO−NH2 (式中、R4 は後記の意義を有する)の化
合物および塩基と反応させることにより製造され;また
は (b) XおよびYの両方が酸素原子であり、R3 およ
びR4 がC(O)Nの基と共に後記の式(XIII)で表わ
される環を形成する場合には、(i) 後記の一般式(X
IV) で表わされる化合物を相間移動触媒の存在下で有機
溶媒および水から成る2相系中で塩基で処理することに
より製造され;または (c) XおよびYの両方が酸素原子であり、R3 がH
原子であり、R4 が後記の式(XV)で表わされる基であ
る場合には、(i) 後記の一般式(XVI) で表わされる
化合物を適当な溶媒中でフッ素転移(fluoride transfe
r) 試薬で処理することによって製造され;または (d) XおよびYの両方が酸素原子であり、R3 がH
原子であり、R4 が後記の式(XVII)で表わされる基で
ある場合には、(i) 後記の一般式(XVIII) で表わさ
れる化合物を適当な溶媒中でフッ素化剤で処理すること
により製造され;または (e) Xが酸素原子または硫黄原子であり、Yが硫黄
原子であり、R3がH原子である場合には、(i) 後
記の一般式(II)で表わされる化合物を適当な溶媒中の
加硫化試薬で処理して、Xが酸素原子であり、Yが硫黄
原子であり、R3 が水素原子である後記一般式(I)の
化合物、またはXが酸素原子であり、Yが硫黄原子であ
り、R3 が水素原子である後記一般式(I)の化合物と
XおよびYの両方が硫黄原子であり、R3 が水素原子で
ある後記一般式(I)の化合物との混合物を製造するこ
とにより製造され;または (f) Xが硫黄原子であり、Yが酸素原子であり、R
3 が水素原子である場合には、(i) 後記の一般式(X
XI) で表わされるイソチオシアネートを−78℃〜+2
5℃の温度で適当な溶媒中で有機金属試薬R4 Liまた
はR4 Mg−ハロゲン(式中、R4 は後記の意義を有す
る)と反応させることにより製造され;または(ii)
後記の式(XXII)で表わされる酸塩化物を塩基の存在下
でR1 R2 NH(式中、R1 およびR2 は後記の意義を
有する)のアミンと反応させることにより製造され;ま
たは (g) XおよびYの両方が酸素原子であり、R3 がH
原子であり、R4 が後記の式(XXIII) で表わされる基で
ある場合には、(i) 後記の一般式(XXIV)〔上記各
式中、A、B、D、E、R1 、R2 およびR4 (別に記
載がある場合を除く)は請求項1に記載の意義を有し、
R5 およびR6 はH原子であり、C1-4 アルキル基また
はハロゲン原子であり、R8 およびR9 はH原子、C
1-4 アルキル基またはハロC1-4 アルキル基であり、R
11はC1-4 アルキル基であり、X′は塩素、臭素または
沃素であり、ハロはハロゲン原子であり、およびLは残
基である〕の化合物を適当な溶媒中で塩基の存在下でR
11−ハロゲン(式中、R11は前記の意義を有する)のハ
ロゲン化物と反応させることにより製造される。
の化合物を製造する方法を提供する。この方法は本発明
の化合物を製造するために使用するEP-A-0381330号明細
書に述べられている方法を包含する。 この後者の方法
において、本発明の化合物は: (a) XおよびYの両方が酸素原子であり、R3 がH
原子である場合には、(i) 後記の一般式(X)で表
わされる化合物を塩基の存在下で適当な有機溶媒中でR
4 COCl(式中、R4 は後記の意義を有する)の酸塩
化物と反応させることにより;または(ii) 後記の一
般式(XI)で表わされる化合物を塩基または過剰の下記
アミンR1 R2 NHの存在下で適当な有機溶媒中でR1
R2 NH(式中、R1 およびR2 は後記の意義を有す
る)のアミンと反応させることにより;または(iii)
後記の一般式(XII) で表わされる化合物を一般式R4 −
CO−NH2 (式中、R4 は後記の意義を有する)の化
合物および塩基と反応させることにより製造され;また
は (b) XおよびYの両方が酸素原子であり、R3 およ
びR4 がC(O)Nの基と共に後記の式(XIII)で表わ
される環を形成する場合には、(i) 後記の一般式(X
IV) で表わされる化合物を相間移動触媒の存在下で有機
溶媒および水から成る2相系中で塩基で処理することに
より製造され;または (c) XおよびYの両方が酸素原子であり、R3 がH
原子であり、R4 が後記の式(XV)で表わされる基であ
る場合には、(i) 後記の一般式(XVI) で表わされる
化合物を適当な溶媒中でフッ素転移(fluoride transfe
r) 試薬で処理することによって製造され;または (d) XおよびYの両方が酸素原子であり、R3 がH
原子であり、R4 が後記の式(XVII)で表わされる基で
ある場合には、(i) 後記の一般式(XVIII) で表わさ
れる化合物を適当な溶媒中でフッ素化剤で処理すること
により製造され;または (e) Xが酸素原子または硫黄原子であり、Yが硫黄
原子であり、R3がH原子である場合には、(i) 後
記の一般式(II)で表わされる化合物を適当な溶媒中の
加硫化試薬で処理して、Xが酸素原子であり、Yが硫黄
原子であり、R3 が水素原子である後記一般式(I)の
化合物、またはXが酸素原子であり、Yが硫黄原子であ
り、R3 が水素原子である後記一般式(I)の化合物と
XおよびYの両方が硫黄原子であり、R3 が水素原子で
ある後記一般式(I)の化合物との混合物を製造するこ
とにより製造され;または (f) Xが硫黄原子であり、Yが酸素原子であり、R
3 が水素原子である場合には、(i) 後記の一般式(X
XI) で表わされるイソチオシアネートを−78℃〜+2
5℃の温度で適当な溶媒中で有機金属試薬R4 Liまた
はR4 Mg−ハロゲン(式中、R4 は後記の意義を有す
る)と反応させることにより製造され;または(ii)
後記の式(XXII)で表わされる酸塩化物を塩基の存在下
でR1 R2 NH(式中、R1 およびR2 は後記の意義を
有する)のアミンと反応させることにより製造され;ま
たは (g) XおよびYの両方が酸素原子であり、R3 がH
原子であり、R4 が後記の式(XXIII) で表わされる基で
ある場合には、(i) 後記の一般式(XXIV)〔上記各
式中、A、B、D、E、R1 、R2 およびR4 (別に記
載がある場合を除く)は請求項1に記載の意義を有し、
R5 およびR6 はH原子であり、C1-4 アルキル基また
はハロゲン原子であり、R8 およびR9 はH原子、C
1-4 アルキル基またはハロC1-4 アルキル基であり、R
11はC1-4 アルキル基であり、X′は塩素、臭素または
沃素であり、ハロはハロゲン原子であり、およびLは残
基である〕の化合物を適当な溶媒中で塩基の存在下でR
11−ハロゲン(式中、R11は前記の意義を有する)のハ
ロゲン化物と反応させることにより製造される。
【0026】本発明の化合物は植物の病気を防御するた
め殺カビ作用を示す。しかしながら、本発明の化合物は
藻菌類(卵菌綱に対応)として公知の病原菌に対して特
に活性を示す。これら病原菌の種類としては、フィトフ
トラ(Phytophthora)、プラスモパラ(Plasmopara)、ペロ
ノスポラ(Peronospora) およびシュウドペロノスポラ(P
seudoperonospora) がある。本発明の化合物が抑制する
のに特に効果的な病原菌の例としては、ブドウのベト病
菌(Plasmopara viticola);レタスのベト病菌(Brem
ia lactucae)のような他のベト病菌;大豆、タバコ、
タマネギおよび他の宿主植物のベト病菌(Peronospora
spp);ホップのベト病菌(Pseudopero nospora humul
i);ウリ類のベト病菌(Pseudoperonospora cubensi
s);馬鈴薯およびトマトの胴枯れ病菌(Phytophthora
infestans );野菜、イチゴ、アボガド、コショウ、
観賞植物、タバコ、ココアおよび他の宿主植物及び他の
胴枯れ病菌(Phytophthora spp);および稲、園芸植
物、野菜および芝生のピチウム菌(Pythium sp)があ
る。
め殺カビ作用を示す。しかしながら、本発明の化合物は
藻菌類(卵菌綱に対応)として公知の病原菌に対して特
に活性を示す。これら病原菌の種類としては、フィトフ
トラ(Phytophthora)、プラスモパラ(Plasmopara)、ペロ
ノスポラ(Peronospora) およびシュウドペロノスポラ(P
seudoperonospora) がある。本発明の化合物が抑制する
のに特に効果的な病原菌の例としては、ブドウのベト病
菌(Plasmopara viticola);レタスのベト病菌(Brem
ia lactucae)のような他のベト病菌;大豆、タバコ、
タマネギおよび他の宿主植物のベト病菌(Peronospora
spp);ホップのベト病菌(Pseudopero nospora humul
i);ウリ類のベト病菌(Pseudoperonospora cubensi
s);馬鈴薯およびトマトの胴枯れ病菌(Phytophthora
infestans );野菜、イチゴ、アボガド、コショウ、
観賞植物、タバコ、ココアおよび他の宿主植物及び他の
胴枯れ病菌(Phytophthora spp);および稲、園芸植
物、野菜および芝生のピチウム菌(Pythium sp)があ
る。
【0027】従って、本発明によれば、植物、植物の種
子又は植物又は植物の種子が生育している場所に前記に
定義した化合物又はこれを含有する組成物を殺カビ有効
量を施すことを特徴とする、殺カビ法が提供される。
子又は植物又は植物の種子が生育している場所に前記に
定義した化合物又はこれを含有する組成物を殺カビ有効
量を施すことを特徴とする、殺カビ法が提供される。
【0028】本発明の化合物はそのままで農園芸的用途
に使用し得るが、担体又は稀釈剤を使用してかかる用途
に使用するための組成物に製剤することがより好都合で
ある。従って本発明によれば、前記に定義した化合物お
よび好適な担体または稀釈剤からなる殺カビ剤(fungici
dal)組成物が提供される。
に使用し得るが、担体又は稀釈剤を使用してかかる用途
に使用するための組成物に製剤することがより好都合で
ある。従って本発明によれば、前記に定義した化合物お
よび好適な担体または稀釈剤からなる殺カビ剤(fungici
dal)組成物が提供される。
【0029】本発明の化合物は種々の方法で施し得る;
例えばこれらの化合物は製剤にするかあるいは製剤にす
ることなしに、直接、植物の葉、種子、あるいは、植物
が生育しつつあるもしくは植えられるべき他の媒体に施
用できる。この化合物は噴霧もしくは散布により又はク
リーム状もしくはペースト状製剤として又は蒸気の形で
あるいは遅効性顆粒の形で施用できる。
例えばこれらの化合物は製剤にするかあるいは製剤にす
ることなしに、直接、植物の葉、種子、あるいは、植物
が生育しつつあるもしくは植えられるべき他の媒体に施
用できる。この化合物は噴霧もしくは散布により又はク
リーム状もしくはペースト状製剤として又は蒸気の形で
あるいは遅効性顆粒の形で施用できる。
【0030】施用は植物の任意の部分、例えば、葉、
茎、枝または根、または、根の周囲の土壌または播種す
る前の種子または土壌、通常水田水(paddywater) また
は水栽培用培地系に行うことができる。また、本発明の
化合物は植物に注入することができ、あるいは電動噴霧
方法又は他の低容量法を使用して植物上に噴霧し得る。
茎、枝または根、または、根の周囲の土壌または播種す
る前の種子または土壌、通常水田水(paddywater) また
は水栽培用培地系に行うことができる。また、本発明の
化合物は植物に注入することができ、あるいは電動噴霧
方法又は他の低容量法を使用して植物上に噴霧し得る。
【0031】本明細書で用いられる用語“植物”は苗
木、低木及び高木を包含するものである。更に本発明に
よる殺カビ方法は予防、保護及び撲滅処理を包含する。
木、低木及び高木を包含するものである。更に本発明に
よる殺カビ方法は予防、保護及び撲滅処理を包含する。
【0032】本発明の化合物は好ましくは組成物の形で
農園芸用に使用される。使用される組成物の型は意図さ
れる特定の目的に応じて変化するであろう。
農園芸用に使用される。使用される組成物の型は意図さ
れる特定の目的に応じて変化するであろう。
【0033】組成物は、活性成分(本発明の化合物)と
固体稀釈剤又は担体、例えばカオリン、ベントナイト、
珪藻土、ドロマイト、炭酸カルシウム、タルク、粉末マ
グネシア、フラー土、石膏、珪藻土岩及び陶土のごとき
充填剤とからなる撒布用粉末または粒剤の形であり得
る。かかる顆粒は、更に処理することなしに土壌に施す
のに適当な予備成形された顆粒であり得る。これらの顆
粒は充填剤ペレットに活性成分を含浸させるかまたは活
性成分と粉末充填剤との混合物をペレット化することに
より調製し得る。種子ドレッシング用の組成物は、例え
ば組成物の種子への付着性を助長する薬剤(例えば鉱
油)を含有し得る;また、有機溶剤(例えばN−メチル
ピロリドン、プロピレングリコールまたはN,N−ジメ
チルホルムアミド)を使用して活性成分を種子ドレッシ
ング用の製剤とし得る。組成物はまた粉末又は粒剤の液
体中の分散を容易にするための湿潤剤又は分散剤を含む
湿潤性粉末又は水分散性粒剤の形であることもできる。
かかる粉末又は粒剤は更に充填剤及び懸濁剤を含有し得
る。
固体稀釈剤又は担体、例えばカオリン、ベントナイト、
珪藻土、ドロマイト、炭酸カルシウム、タルク、粉末マ
グネシア、フラー土、石膏、珪藻土岩及び陶土のごとき
充填剤とからなる撒布用粉末または粒剤の形であり得
る。かかる顆粒は、更に処理することなしに土壌に施す
のに適当な予備成形された顆粒であり得る。これらの顆
粒は充填剤ペレットに活性成分を含浸させるかまたは活
性成分と粉末充填剤との混合物をペレット化することに
より調製し得る。種子ドレッシング用の組成物は、例え
ば組成物の種子への付着性を助長する薬剤(例えば鉱
油)を含有し得る;また、有機溶剤(例えばN−メチル
ピロリドン、プロピレングリコールまたはN,N−ジメ
チルホルムアミド)を使用して活性成分を種子ドレッシ
ング用の製剤とし得る。組成物はまた粉末又は粒剤の液
体中の分散を容易にするための湿潤剤又は分散剤を含む
湿潤性粉末又は水分散性粒剤の形であることもできる。
かかる粉末又は粒剤は更に充填剤及び懸濁剤を含有し得
る。
【0034】乳化性濃厚液又はエマルジョンは、活性成
分を場合により湿潤剤又は乳化剤を含有し得る有機溶剤
中に溶解し、ついで得られた混合物をこれまた湿潤剤又
は乳化剤を含有し得る水に添加することによって調製で
きる。適当な有機溶剤はアルキルベンゼン及びアルキル
ナフタレンのごとき芳香族溶剤、シクロヘキサノン及び
メチルシクロヘキサノンのごときケトン、クロルベンゼ
ン及びトリクロルエタンのごとき塩素化炭化水素及びベ
ンジルアルコール、フルフリルアルコール、ブタノール
及びグリコールエーテルのごときアルコールである。
分を場合により湿潤剤又は乳化剤を含有し得る有機溶剤
中に溶解し、ついで得られた混合物をこれまた湿潤剤又
は乳化剤を含有し得る水に添加することによって調製で
きる。適当な有機溶剤はアルキルベンゼン及びアルキル
ナフタレンのごとき芳香族溶剤、シクロヘキサノン及び
メチルシクロヘキサノンのごときケトン、クロルベンゼ
ン及びトリクロルエタンのごとき塩素化炭化水素及びベ
ンジルアルコール、フルフリルアルコール、ブタノール
及びグリコールエーテルのごときアルコールである。
【0035】溶解性の非常に低い固体の懸濁濃厚液は分
散剤と共にボールミリング又はビーズミリングを行いつ
いで懸濁剤を添加して固体の沈降を防止することによっ
て調製できる。
散剤と共にボールミリング又はビーズミリングを行いつ
いで懸濁剤を添加して固体の沈降を防止することによっ
て調製できる。
【0036】噴霧用組成物はまた、製剤を例えばフルオ
ロトリクロルメタン又はジクロルジフルオルメタンのよ
うな噴霧剤の存在下に加圧容器中に保持したエアゾール
の形であることもできる。
ロトリクロルメタン又はジクロルジフルオルメタンのよ
うな噴霧剤の存在下に加圧容器中に保持したエアゾール
の形であることもできる。
【0037】また本発明の化合物は乾燥状態で燻蒸混合
物(Pyrotechnic mixture) と混合することによって該化
合物を含む煙を密閉空間で発生せしめるに適する組成物
にすることもできる。
物(Pyrotechnic mixture) と混合することによって該化
合物を含む煙を密閉空間で発生せしめるに適する組成物
にすることもできる。
【0038】別法として、本発明の化合物はマイクロカ
プセルの形で使用し得る。また、この化合物は、活性成
分の遅いかつ制御された放出を行わせるために、生分解
性高分子製剤とし得る。
プセルの形で使用し得る。また、この化合物は、活性成
分の遅いかつ制御された放出を行わせるために、生分解
性高分子製剤とし得る。
【0039】適当な添加剤、例えば被処理表面への拡展
性、付着性および耐雨性を改良するための添加剤を配合
することによって、種々の組成物を意図する種々の用途
によりよりよく適合させることができる。他の添加剤は
種々の製剤の生物学的効果を改善するために含有するこ
とができる。そのような添加剤としては、製剤で処理さ
れる表面上の湿潤性および保持特性さらに活性剤の吸収
率および移動度を改善するための表面活性剤、さらに油
を基剤とする噴霧添加剤が含まれる。例えば、特定の鉱
油および天然植物油(例えば大豆油およびナタネ油)の
添加剤は、例えばベト病菌(Plasmopara viticola )に
対して葉の保護活性を数倍高めることが解った。
性、付着性および耐雨性を改良するための添加剤を配合
することによって、種々の組成物を意図する種々の用途
によりよりよく適合させることができる。他の添加剤は
種々の製剤の生物学的効果を改善するために含有するこ
とができる。そのような添加剤としては、製剤で処理さ
れる表面上の湿潤性および保持特性さらに活性剤の吸収
率および移動度を改善するための表面活性剤、さらに油
を基剤とする噴霧添加剤が含まれる。例えば、特定の鉱
油および天然植物油(例えば大豆油およびナタネ油)の
添加剤は、例えばベト病菌(Plasmopara viticola )に
対して葉の保護活性を数倍高めることが解った。
【0040】本発明の化合物は肥料(例えば窒素、カリ
ウム又は燐含有肥料)との混合物として使用することも
できる。化合物を例えば被覆により配合した肥料の粒剤
のみからなる組成物が好ましい。かかる粒剤は前記化合
物を25重量%までの量で含有するのが適当である。従
って本発明によれば、更に、式(I)の化合物またはそ
の塩もしくは金属錯体を含有する肥料組成物が提供され
る。
ウム又は燐含有肥料)との混合物として使用することも
できる。化合物を例えば被覆により配合した肥料の粒剤
のみからなる組成物が好ましい。かかる粒剤は前記化合
物を25重量%までの量で含有するのが適当である。従
って本発明によれば、更に、式(I)の化合物またはそ
の塩もしくは金属錯体を含有する肥料組成物が提供され
る。
【0041】湿潤性粉末、乳化性濃厚液及び懸濁濃厚液
は、通常、表面活性剤、例えば湿潤剤、分散剤、乳化剤
又は懸濁剤を含有するであろう。かかる薬剤は陽イオ
ン、陰イオン又は非イオン活性剤であり得る。
は、通常、表面活性剤、例えば湿潤剤、分散剤、乳化剤
又は懸濁剤を含有するであろう。かかる薬剤は陽イオ
ン、陰イオン又は非イオン活性剤であり得る。
【0042】適当な陽イオン活性剤は第4級アンモニウ
ム化合物、例えばセチルトリメチルアンモニウムブロマ
イドである。
ム化合物、例えばセチルトリメチルアンモニウムブロマ
イドである。
【0043】適当な陰イオン活性剤は、石鹸、硫酸の脂
肪族モノエステルの塩(例えばナトリウムラウリルサル
フェート)、スルホン化芳香族化合物の塩(例えばナト
リウム ドデシルベンゼンスルホネートナトリウム、カ
ルシウム又はアンモニウムリグノスルホネート、ブチル
ナフタレンスルホネート及びジイソプロピル−とトリイ
ソプロピルナフタリンスルホン酸のナトリウム塩の混合
物)である。
肪族モノエステルの塩(例えばナトリウムラウリルサル
フェート)、スルホン化芳香族化合物の塩(例えばナト
リウム ドデシルベンゼンスルホネートナトリウム、カ
ルシウム又はアンモニウムリグノスルホネート、ブチル
ナフタレンスルホネート及びジイソプロピル−とトリイ
ソプロピルナフタリンスルホン酸のナトリウム塩の混合
物)である。
【0044】適当な非イオン活性剤は、エチレンオキシ
ドと、オレイルアルコール又はセチルアルコールの如き
脂肪族アルコールあるいはオクチルフェノール、ノニル
フェノール又はオクチル クレゾールの如きアルキルフ
ェノールとの縮合生成物である。他の非イオン活性剤
は、長鎖脂肪酸とヘキシトール無水物とから誘導された
部分エステル、該部分エステルとエチレンオキシドとの
縮合生成物及びレシチンである。適当な懸濁剤は例えば
親水性コロイド(たとえばポリビニルピロリドン及びナ
トリウムカルボキシメチルセルロース)及びベントナイ
ト及びアタパルジャイトのごとき膨潤クレイである。
ドと、オレイルアルコール又はセチルアルコールの如き
脂肪族アルコールあるいはオクチルフェノール、ノニル
フェノール又はオクチル クレゾールの如きアルキルフ
ェノールとの縮合生成物である。他の非イオン活性剤
は、長鎖脂肪酸とヘキシトール無水物とから誘導された
部分エステル、該部分エステルとエチレンオキシドとの
縮合生成物及びレシチンである。適当な懸濁剤は例えば
親水性コロイド(たとえばポリビニルピロリドン及びナ
トリウムカルボキシメチルセルロース)及びベントナイ
ト及びアタパルジャイトのごとき膨潤クレイである。
【0045】水性分散液又はエマルジョンの形で使用さ
れる組成物は、通常活性成分を高割合で含む濃厚液の形
で供給され、使用前に水で稀釈される。かかる濃厚液は
好ましくは長期間の貯蔵に耐えかつかかる長期貯蔵後に
水で稀釈する際、慣用の噴霧装置で施用されるに十分な
持間均質に保持される水性製剤を形成し得るものである
ことが必要である。かかる濃厚液は好都合には95重量
%まで、好適には10〜85重量%、例えば25〜60
重量%の活性成分を含有し得る。水性製剤の調製のため
に稀釈した場合、かかる製剤はその使用目的に応じて種
々の量の活性成分を含有し得るが、一般に0.0005
重量%または0.01重量%〜10重量%の活性成分を
含む水性製剤を使用できる。
れる組成物は、通常活性成分を高割合で含む濃厚液の形
で供給され、使用前に水で稀釈される。かかる濃厚液は
好ましくは長期間の貯蔵に耐えかつかかる長期貯蔵後に
水で稀釈する際、慣用の噴霧装置で施用されるに十分な
持間均質に保持される水性製剤を形成し得るものである
ことが必要である。かかる濃厚液は好都合には95重量
%まで、好適には10〜85重量%、例えば25〜60
重量%の活性成分を含有し得る。水性製剤の調製のため
に稀釈した場合、かかる製剤はその使用目的に応じて種
々の量の活性成分を含有し得るが、一般に0.0005
重量%または0.01重量%〜10重量%の活性成分を
含む水性製剤を使用できる。
【0046】本発明の組成物は更に、生物学的活性を有
する他の化合物、例えば類似のあるいは補助的な殺菌活
性を有する化合物、または植物成長調整活性、除草活性
又は殺虫活性を有する化合物を含有し得る。
する他の化合物、例えば類似のあるいは補助的な殺菌活
性を有する化合物、または植物成長調整活性、除草活性
又は殺虫活性を有する化合物を含有し得る。
【0047】本発明の組成物中に存在させ得る他の殺菌
剤化合物は穀物(例えば小麦)の穂(ear) の病気例えSe
ptoria, Gibberellaおよび Helminthoporium属、種子お
よび土壌に発生する病気、ぶどうのベト病およびウドン
コ病、およびりんご等のウドンコ病及びクロホシ病を撲
滅させ得る化合物である。他の殺菌剤を包含させること
により、組成物は式(I)の化合物単独の場合より、よ
り広範囲な活性を有し得る。さらに、他の殺カビ剤は一
般式(I)の化合物の殺カビ活性に相乗効果を有する。
剤化合物は穀物(例えば小麦)の穂(ear) の病気例えSe
ptoria, Gibberellaおよび Helminthoporium属、種子お
よび土壌に発生する病気、ぶどうのベト病およびウドン
コ病、およびりんご等のウドンコ病及びクロホシ病を撲
滅させ得る化合物である。他の殺菌剤を包含させること
により、組成物は式(I)の化合物単独の場合より、よ
り広範囲な活性を有し得る。さらに、他の殺カビ剤は一
般式(I)の化合物の殺カビ活性に相乗効果を有する。
【0048】本発明の組成物中に存在させ得る他の殺菌
剤の例としては(RS)−1−アミノプロピルホスホン
酸、(RS)−4−(4−クロルフェニル)−2−フェ
ニル−2−(1H−1,2,4−トリアゾール−1−イ
ルメチル)ブチロニトリル、(Z)−N−ブタ−2−エ
ニルオキシメチル−2−クロル−2′,6′−ジエチル
アセトアニライド、1−(2−シアノ−2−メトキシイ
ミノアセチル)−3−エチル尿素、3−(2,4−ジク
ロルフェニル)−2−(1H−1,2,4−トリアゾー
ル−1−イル)キナゾリン−4(3H)−オン、4−ブ
ロム−2−シアノ−N,N−ジメチル−6−トリフルオ
ルメチルベンズイミダゾール−1−スルホンアミド、5
−エチル−5,8−ジヒドロ−8−オキソ(1,3)−
ジオキソロ(4.5g)キノリン−7−カルボン酸、α
−〔N−(3−クロル−2,6−キシリル)−2−メト
キシアセトアミド〕−γ−ブチロアセトン、アルジモル
フ、アニザリン、ベナラキシル、ベノミル、ビロキサゾ
ール、ビナパクリル、ビテルタノール、ブラスチジン−
S、ブロムコナゾール、ブピリメート、ブチオベート、
キャプタフオル、キャプタン、カンベンダジム、カルボ
キシン、クロルベンズチアゾン、クロロネブ、クロロタ
ロニル、クロロゾリネート、オキシ塩化銅、硫酸銅及び
ボルドー混合物のごとき銅含有化合物、シクロヘキシミ
ド、シモキサニル、シプロコナゾール、シクロフラム、
ジ−2−ピリジルジサルファイド−1,1′−ジオキシ
ド、ジクロフルアニド、ジクロン、ジクロブトラゾー
ル、ジクロメジン、ジクロラン、ジフェンコナゾール、
ジメタモルフ、ジメチリモール、ジニコナゾール、ジノ
キャプ、ジタリムフォス、ジチアノン、ドデモルフ、ド
ジン、エジフェンホス、エタコナゾール、エチリモー
ル、エチル(Z)−N−ベンジル−N−(〔メチル(メ
チルチオエチリデンアミノ−オキシカルボニル)アミ
ノ〕チオ)−β−アラニネート、エトリダゾール、フェ
ナパニル、フェナリモール、フェンフラム、フェンピク
ロニル、フェンプロピジン、フェンプロピモルフ、フェ
ンチンアセテート、フェンチンヒドロオキシド、フルト
ラニル、フルトリアフオル、フルジラゾール、フォルペ
ット、フォセチル−アルミニウム、フベリダゾール、フ
ララキシル、フルコナゾール−シス、グアザチン、ヘキ
サコナゾール、ヒドロキシイソキサゾール、イマザリ
ル、イミベンコナゾール、イプロベンフォス、イプロジ
オン、イソプロチオラン、カスガマイシン、マンコゼ
ブ、マネブ、メパニピリム、メプロニル、メタラキシ
ル、メトフロキサム、メトスルフォバックス、ミクロブ
タニル、ネオアソジン、ニッケルジメチルジチオカルバ
メート、ニトロタル−イソプロピル、ヌアリモール、オ
フレース、オルガノ水銀化合物、オキサジキシル、オキ
シカルボキシン、ペフラゾエート、ペンコナーゾール、
ペンシクロン、フェナジンオキシド、フタライド、ポリ
オキシン−D、ポリラム、プロベナゾール、プロクロラ
ズ、プロシミドン、プロパモカーブ、プロピコナゾー
ル、プロピネブ、プロチオカーブ、ピラゾフオス、ピリ
フェノックス、ピロクイロン、ピロキシフル、ピロール
ニトリン、キノメチオネート、クイントゼン、SSF−
109、ストレプトマイシン、硫黄、テブコナゾール、
テクロフタラム、テクナゼン、テトラコナゾール、チア
ベンダゾール、チシオフェン、チオファナテ−メチル、
チラム、トルクロフォス−メチル、1,1′−イミノジ
(オクタメチレン)ジグアニジンのトリアセテート、ト
リアジメフォン、トリアジメノール、トリアズブチル、
トリシクロラゾール、トリデモルフ、トリフォリン、バ
リダマイシン−A,ビンクロゾリン、ザリラミド及びジ
ネブが挙げられる。
剤の例としては(RS)−1−アミノプロピルホスホン
酸、(RS)−4−(4−クロルフェニル)−2−フェ
ニル−2−(1H−1,2,4−トリアゾール−1−イ
ルメチル)ブチロニトリル、(Z)−N−ブタ−2−エ
ニルオキシメチル−2−クロル−2′,6′−ジエチル
アセトアニライド、1−(2−シアノ−2−メトキシイ
ミノアセチル)−3−エチル尿素、3−(2,4−ジク
ロルフェニル)−2−(1H−1,2,4−トリアゾー
ル−1−イル)キナゾリン−4(3H)−オン、4−ブ
ロム−2−シアノ−N,N−ジメチル−6−トリフルオ
ルメチルベンズイミダゾール−1−スルホンアミド、5
−エチル−5,8−ジヒドロ−8−オキソ(1,3)−
ジオキソロ(4.5g)キノリン−7−カルボン酸、α
−〔N−(3−クロル−2,6−キシリル)−2−メト
キシアセトアミド〕−γ−ブチロアセトン、アルジモル
フ、アニザリン、ベナラキシル、ベノミル、ビロキサゾ
ール、ビナパクリル、ビテルタノール、ブラスチジン−
S、ブロムコナゾール、ブピリメート、ブチオベート、
キャプタフオル、キャプタン、カンベンダジム、カルボ
キシン、クロルベンズチアゾン、クロロネブ、クロロタ
ロニル、クロロゾリネート、オキシ塩化銅、硫酸銅及び
ボルドー混合物のごとき銅含有化合物、シクロヘキシミ
ド、シモキサニル、シプロコナゾール、シクロフラム、
ジ−2−ピリジルジサルファイド−1,1′−ジオキシ
ド、ジクロフルアニド、ジクロン、ジクロブトラゾー
ル、ジクロメジン、ジクロラン、ジフェンコナゾール、
ジメタモルフ、ジメチリモール、ジニコナゾール、ジノ
キャプ、ジタリムフォス、ジチアノン、ドデモルフ、ド
ジン、エジフェンホス、エタコナゾール、エチリモー
ル、エチル(Z)−N−ベンジル−N−(〔メチル(メ
チルチオエチリデンアミノ−オキシカルボニル)アミ
ノ〕チオ)−β−アラニネート、エトリダゾール、フェ
ナパニル、フェナリモール、フェンフラム、フェンピク
ロニル、フェンプロピジン、フェンプロピモルフ、フェ
ンチンアセテート、フェンチンヒドロオキシド、フルト
ラニル、フルトリアフオル、フルジラゾール、フォルペ
ット、フォセチル−アルミニウム、フベリダゾール、フ
ララキシル、フルコナゾール−シス、グアザチン、ヘキ
サコナゾール、ヒドロキシイソキサゾール、イマザリ
ル、イミベンコナゾール、イプロベンフォス、イプロジ
オン、イソプロチオラン、カスガマイシン、マンコゼ
ブ、マネブ、メパニピリム、メプロニル、メタラキシ
ル、メトフロキサム、メトスルフォバックス、ミクロブ
タニル、ネオアソジン、ニッケルジメチルジチオカルバ
メート、ニトロタル−イソプロピル、ヌアリモール、オ
フレース、オルガノ水銀化合物、オキサジキシル、オキ
シカルボキシン、ペフラゾエート、ペンコナーゾール、
ペンシクロン、フェナジンオキシド、フタライド、ポリ
オキシン−D、ポリラム、プロベナゾール、プロクロラ
ズ、プロシミドン、プロパモカーブ、プロピコナゾー
ル、プロピネブ、プロチオカーブ、ピラゾフオス、ピリ
フェノックス、ピロクイロン、ピロキシフル、ピロール
ニトリン、キノメチオネート、クイントゼン、SSF−
109、ストレプトマイシン、硫黄、テブコナゾール、
テクロフタラム、テクナゼン、テトラコナゾール、チア
ベンダゾール、チシオフェン、チオファナテ−メチル、
チラム、トルクロフォス−メチル、1,1′−イミノジ
(オクタメチレン)ジグアニジンのトリアセテート、ト
リアジメフォン、トリアジメノール、トリアズブチル、
トリシクロラゾール、トリデモルフ、トリフォリン、バ
リダマイシン−A,ビンクロゾリン、ザリラミド及びジ
ネブが挙げられる。
【0049】一般式(I)の化合物は土壌、堆肥または
種子、土壌または葉に発生する菌による病害から植物を
保護するための他の媒体と混合し得る。
種子、土壌または葉に発生する菌による病害から植物を
保護するための他の媒体と混合し得る。
【0050】本発明の組成物中に配合し得る適当な殺虫
剤としてはブプロフェジン、カルバリル、カルボフラ
ン、カルボスルファン、クロルピリフォス、シクロプロ
トリン、デメトン−S−メチル、ジアジノン、ジメトエ
ート、エトフェンプロックス、フェニトロチオン、フェ
ノブカーブ、フェンチオン、フォルモチオン、イソプロ
カーブ、イソキサチオン、モノクロトフォス、フェント
エート、ピリミカーブ、プロパホス及びXMCが挙げら
れる。
剤としてはブプロフェジン、カルバリル、カルボフラ
ン、カルボスルファン、クロルピリフォス、シクロプロ
トリン、デメトン−S−メチル、ジアジノン、ジメトエ
ート、エトフェンプロックス、フェニトロチオン、フェ
ノブカーブ、フェンチオン、フォルモチオン、イソプロ
カーブ、イソキサチオン、モノクロトフォス、フェント
エート、ピリミカーブ、プロパホス及びXMCが挙げら
れる。
【0051】植物生長調整剤は雑草の生長または種子頭
(seedhead)の形成を抑制しそして好ましくない植物(例
えば雑草)の生長を選択的に抑制する化合物である。
(seedhead)の形成を抑制しそして好ましくない植物(例
えば雑草)の生長を選択的に抑制する化合物である。
【0052】本発明の化合物と共に使用するのに適当な
植物生長調節剤の例としては、3,6−ジクロルピコリ
ン酸、1−(4−クロルフェニル)−4,6−ジメチル
−2−オキソ−1,2−ジヒドロピリジン−3−カルボ
ン酸、3,6−ジクロルアニス酸メチル、アブシン酸、
アスラム、ベンゾリルプロプ−エチル、カルベタミド、
ダミノジド、ジヘンゾクオート、ジケグラック、エテフ
ォン、フェンペンテゾール、フルオリダミド、グリホセ
ート、グリホシン、ヒドロキシベンゾニトリル(例えば
ブロモキシニル)、イナベンフィド、イソピリモール、
長鎖脂肪族アルコール及び脂肪酸、マレイン酸ヒドラジ
ド、メフルイダイド、モルファクチン(例えばクロルフ
ルオロエコール)、パルコブラゾトール、フェノキシ酢
酸(例えば2,4−D又はMCPA)、置換安息香酸
(例えばトリヨード安息香酸)、置換第四アンモニウム
又はホスホニウム化合物(例えばクロルメクオート、ク
ロルホニウム又はメピクオートクロライド)、テクナゼ
ン、オーキシン(例えばインドール酢酸、インドール酪
酸、ナフチル酢酸又はナフトキシ酢酸)、シトキニン
(例えばベンズイミダゾール、ベンジルアデニン、ベン
ジルアミノプリン、ジフェニル尿素又はキネチン)、キ
ベリレン(例えばGA3 ,GA4 又はGA7 )及びトリ
アペンテノールが挙げられる。
植物生長調節剤の例としては、3,6−ジクロルピコリ
ン酸、1−(4−クロルフェニル)−4,6−ジメチル
−2−オキソ−1,2−ジヒドロピリジン−3−カルボ
ン酸、3,6−ジクロルアニス酸メチル、アブシン酸、
アスラム、ベンゾリルプロプ−エチル、カルベタミド、
ダミノジド、ジヘンゾクオート、ジケグラック、エテフ
ォン、フェンペンテゾール、フルオリダミド、グリホセ
ート、グリホシン、ヒドロキシベンゾニトリル(例えば
ブロモキシニル)、イナベンフィド、イソピリモール、
長鎖脂肪族アルコール及び脂肪酸、マレイン酸ヒドラジ
ド、メフルイダイド、モルファクチン(例えばクロルフ
ルオロエコール)、パルコブラゾトール、フェノキシ酢
酸(例えば2,4−D又はMCPA)、置換安息香酸
(例えばトリヨード安息香酸)、置換第四アンモニウム
又はホスホニウム化合物(例えばクロルメクオート、ク
ロルホニウム又はメピクオートクロライド)、テクナゼ
ン、オーキシン(例えばインドール酢酸、インドール酪
酸、ナフチル酢酸又はナフトキシ酢酸)、シトキニン
(例えばベンズイミダゾール、ベンジルアデニン、ベン
ジルアミノプリン、ジフェニル尿素又はキネチン)、キ
ベリレン(例えばGA3 ,GA4 又はGA7 )及びトリ
アペンテノールが挙げられる。
【0053】以下に本発明の実施例を示す。実施例中の
「エーテル」という用語はジエチルエーテルを表わし、
溶液を乾燥するためには硫酸マグネシウムを使用し、溶
液は減圧下で濃縮した。赤外線吸収スペクトルおよびN
MRスペクトルのデータの表示は選択的に示されてい
る。すべての場合においてあらゆる吸収を示すことはし
ていない。実施例中では下記の略号を使用した。 s: 一重項 d: 二重項 dd:二重項の二重項 t: 三重項 m: 多重項 b: ブロード mp:融点 DMF: N,N−ジメチルホルムアミド NMR: 核磁気共鳴
「エーテル」という用語はジエチルエーテルを表わし、
溶液を乾燥するためには硫酸マグネシウムを使用し、溶
液は減圧下で濃縮した。赤外線吸収スペクトルおよびN
MRスペクトルのデータの表示は選択的に示されてい
る。すべての場合においてあらゆる吸収を示すことはし
ていない。実施例中では下記の略号を使用した。 s: 一重項 d: 二重項 dd:二重項の二重項 t: 三重項 m: 多重項 b: ブロード mp:融点 DMF: N,N−ジメチルホルムアミド NMR: 核磁気共鳴
【0054】実施例1 本実施例は4−トリメチルアセトアミド−2−ヨード−
N,N−ジメチルベンズアミド(第1表の化合物No.
1)の製造を例示する。
N,N−ジメチルベンズアミド(第1表の化合物No.
1)の製造を例示する。
【0055】工程1 4−ニトロ−2−トリフルオロアセトアミド安息香酸の
製造。乾燥エーテル(600ml)中の4−ニトロアン
トラニル酸(10g)の攪拌懸濁液に炭酸ナトリウム
(80g)を加えた。この懸濁液を2℃に冷却し、無水
トリフルオロ酢酸(85ml)を滴下した。得られた黄
緑色の混合物を室温まで温め、5時間攪拌し、クロロホ
ルムに注ぎ入れた。過剰の無水物を氷で分解し、有機層
を水で洗浄し、乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮して有機
固体を生成させた。得られた有機固体をシリカクロマト
グラフィーにかけて酢酸エチル/ヘキサン/酢酸(5
0:60:5)で溶離し、黄色固形物の4−ニトロ−2
−トリフルオロアセトアミド安息香酸(4g)を得た。
1H NMR(CDCl3 、270MHz)δ8.06
(1H,d)、8.38(1H,d)、9.47(1
H,bs)、13.22(1H,bs)ppm;融点1
30℃(分解)。
製造。乾燥エーテル(600ml)中の4−ニトロアン
トラニル酸(10g)の攪拌懸濁液に炭酸ナトリウム
(80g)を加えた。この懸濁液を2℃に冷却し、無水
トリフルオロ酢酸(85ml)を滴下した。得られた黄
緑色の混合物を室温まで温め、5時間攪拌し、クロロホ
ルムに注ぎ入れた。過剰の無水物を氷で分解し、有機層
を水で洗浄し、乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮して有機
固体を生成させた。得られた有機固体をシリカクロマト
グラフィーにかけて酢酸エチル/ヘキサン/酢酸(5
0:60:5)で溶離し、黄色固形物の4−ニトロ−2
−トリフルオロアセトアミド安息香酸(4g)を得た。
1H NMR(CDCl3 、270MHz)δ8.06
(1H,d)、8.38(1H,d)、9.47(1
H,bs)、13.22(1H,bs)ppm;融点1
30℃(分解)。
【0056】工程2 4−ニトロ−2−トリフルオロアセトアミド−N,N−
ジメチルベンズアミドの製造。ジクロロメタン(30m
l)中の4−ニトロ−2−トリフルオロアセトアミド安
息香酸(3.5g)およびDMF(3滴)の攪拌懸濁液
に塩化オキサリル(1.1ml)を徐々に加えた。さらに、
ジクロロメタン(70ml)を加え、混合物を溶解し、
1.5時間攪拌した後、5℃でジメチルアミン(40
%、w/w 水溶液;14ml)および4−ジメチルアミノ
ピリジン(触媒量)を徐々に加えた。得られた明黄色の
混合物を5℃で1.5時間攪拌し、次に希HCl水溶
液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液および水で洗浄した。
有機層を乾燥し、濾過し且つ減圧下で濃縮して、黄色の
油状物(3g)を生成させ、酢酸エチル/ヘキサン
(1:1)で処理し凝固させた。少量の酢酸エチル/ヘ
キサン(1:1)で研和し、淡黄色固形物の4−ニトロ
−2−トリフルオロアセトアミド−N,N−ジメチルベ
ンズアミド(1.85g)を得た。 1H NMR(CD
Cl3 、270MHz)δ:3.15(6H,bs)、
7.55(1H,d)、8.08(1H,dd)、9.1
8(1H,s)、10.55(1H,s)ppm; 融
点139.5〜140.5℃。
ジメチルベンズアミドの製造。ジクロロメタン(30m
l)中の4−ニトロ−2−トリフルオロアセトアミド安
息香酸(3.5g)およびDMF(3滴)の攪拌懸濁液
に塩化オキサリル(1.1ml)を徐々に加えた。さらに、
ジクロロメタン(70ml)を加え、混合物を溶解し、
1.5時間攪拌した後、5℃でジメチルアミン(40
%、w/w 水溶液;14ml)および4−ジメチルアミノ
ピリジン(触媒量)を徐々に加えた。得られた明黄色の
混合物を5℃で1.5時間攪拌し、次に希HCl水溶
液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液および水で洗浄した。
有機層を乾燥し、濾過し且つ減圧下で濃縮して、黄色の
油状物(3g)を生成させ、酢酸エチル/ヘキサン
(1:1)で処理し凝固させた。少量の酢酸エチル/ヘ
キサン(1:1)で研和し、淡黄色固形物の4−ニトロ
−2−トリフルオロアセトアミド−N,N−ジメチルベ
ンズアミド(1.85g)を得た。 1H NMR(CD
Cl3 、270MHz)δ:3.15(6H,bs)、
7.55(1H,d)、8.08(1H,dd)、9.1
8(1H,s)、10.55(1H,s)ppm; 融
点139.5〜140.5℃。
【0057】工程3 4−アミノ−2−トリフルオロアセトアミド−N,N−
ジメチルベンズアミドの製造。木炭上のパラジウム(木
炭上に10%、触媒量)をアルゴンで充分にフラッシュ
した。メタノール(4.5ml)中の4−ニトロ−2−
トリフルオロアセトアミド−N,N−ジメチルベンズア
ミド(1.3g)を加え、反応容器を水素で3回フラッ
シュし、水素の下で3時間保持した。この混合物をハイ
フロ(ケイソウ土)および濾紙で2回濾過して触媒を除
いた。減圧下で濃縮して、淡黄色固形物(1.09g)
の4−アミノ−2−トリフルオロアセトアミド−N,N
−ジメチルベンズアミドを得た。 1H NMR(CD
Cl3 、270MHz) δ:3.1(6H,s)、
4.7(2H,s)、6.45(1H,dd)、7.1
7(1H,d)、7.68(1H,s)、11.4(1
H,s)ppm; 融点170〜171℃。
ジメチルベンズアミドの製造。木炭上のパラジウム(木
炭上に10%、触媒量)をアルゴンで充分にフラッシュ
した。メタノール(4.5ml)中の4−ニトロ−2−
トリフルオロアセトアミド−N,N−ジメチルベンズア
ミド(1.3g)を加え、反応容器を水素で3回フラッ
シュし、水素の下で3時間保持した。この混合物をハイ
フロ(ケイソウ土)および濾紙で2回濾過して触媒を除
いた。減圧下で濃縮して、淡黄色固形物(1.09g)
の4−アミノ−2−トリフルオロアセトアミド−N,N
−ジメチルベンズアミドを得た。 1H NMR(CD
Cl3 、270MHz) δ:3.1(6H,s)、
4.7(2H,s)、6.45(1H,dd)、7.1
7(1H,d)、7.68(1H,s)、11.4(1
H,s)ppm; 融点170〜171℃。
【0058】工程4 4−トリメチルアセトアミド−2−トリフルオロアセト
アミド−N,N−ジメチルベンズアミドの製造。塩化ト
リメチルアセチル(384μl)をジクロロメタン(4
0ml)中の4−アミノ−2−トリフルオロアセトアミ
ド−N,N−ジメチルベンズアミド(800mg)、ト
リエチルアミン(610μl)および4−ジメチルアミ
ノピリジン(触媒量)の攪拌溶液に滴下した。18時間
後、反応混合物を希HCl水溶液、飽和重炭酸ナトリウ
ム水溶液および水で洗浄し、乾燥し、濾過し且つ減圧の
下で濃縮し有機油状物を生成し、これをヘキサンと研和
して結晶化した。シリカクロマトグラフィーにかけてヘ
キサン/酢酸エチル(1:1)で溶離して、白色結晶の
4−トリメチルアセトアミド−2−トリフルオロアセト
アミド−N,N−ジメチルベンズアミドを得た。 1H
NMR(CDCl3 、270MHz)δ:1.3(9
H,s)、3.1(6H,s)、7.45(1H,
d)、7.68(1H,s)、7.96(1H,d
d)、8.1(1H,s)ppm;融点 190〜19
1℃。
アミド−N,N−ジメチルベンズアミドの製造。塩化ト
リメチルアセチル(384μl)をジクロロメタン(4
0ml)中の4−アミノ−2−トリフルオロアセトアミ
ド−N,N−ジメチルベンズアミド(800mg)、ト
リエチルアミン(610μl)および4−ジメチルアミ
ノピリジン(触媒量)の攪拌溶液に滴下した。18時間
後、反応混合物を希HCl水溶液、飽和重炭酸ナトリウ
ム水溶液および水で洗浄し、乾燥し、濾過し且つ減圧の
下で濃縮し有機油状物を生成し、これをヘキサンと研和
して結晶化した。シリカクロマトグラフィーにかけてヘ
キサン/酢酸エチル(1:1)で溶離して、白色結晶の
4−トリメチルアセトアミド−2−トリフルオロアセト
アミド−N,N−ジメチルベンズアミドを得た。 1H
NMR(CDCl3 、270MHz)δ:1.3(9
H,s)、3.1(6H,s)、7.45(1H,
d)、7.68(1H,s)、7.96(1H,d
d)、8.1(1H,s)ppm;融点 190〜19
1℃。
【0059】工程5 4−トリメチルアセトアミド−2−アミノ−N,N−ジ
メチルベンズアミドの製造。メタノール水溶液中の炭酸
カリウムの攪拌溶液(40ml;7%;2:5v/v)
に4−トリメチルアセトアミド−2−トリフルオロアセ
トアミド−N,N−ジメチルベンズアミド(360m
g)を加えた。32時間後、反応混合物を水中に注ぎ入
れ、生成物をエーテルで抽出した(2回)。有機抽出物
を合わせ、乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮して、黄色固
体の4−トリメチルアセトアミド−2−アミノ−N,N
−ジメチルベンズアミド(164mg)を得た。 1H
NMR(CDCl3 、270MHz)δ:1.3(9
H,s)、3.05(6H,s)、4.65(1H,b
s)、6.85(1H,dd)、7.03(1H,
d)、7.22(1H,s)、8.10(1H,s)p
pm;融点175〜175.5℃。
メチルベンズアミドの製造。メタノール水溶液中の炭酸
カリウムの攪拌溶液(40ml;7%;2:5v/v)
に4−トリメチルアセトアミド−2−トリフルオロアセ
トアミド−N,N−ジメチルベンズアミド(360m
g)を加えた。32時間後、反応混合物を水中に注ぎ入
れ、生成物をエーテルで抽出した(2回)。有機抽出物
を合わせ、乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮して、黄色固
体の4−トリメチルアセトアミド−2−アミノ−N,N
−ジメチルベンズアミド(164mg)を得た。 1H
NMR(CDCl3 、270MHz)δ:1.3(9
H,s)、3.05(6H,s)、4.65(1H,b
s)、6.85(1H,dd)、7.03(1H,
d)、7.22(1H,s)、8.10(1H,s)p
pm;融点175〜175.5℃。
【0060】工程6 4−トリメチルアセトアミド−2−ヨード−N,N−ジ
メチルベンズアミドの製造。水(1ml)中の亜硝酸ナ
トリウム(220mg)の溶液を0℃以下の温度に保持
しながら濃HCl水溶液(5ml)中の4−トリメチル
アセトアミド−2−アミノ−N,N−ジメチルベンズア
ミド(740mg)の攪拌溶液に加えた。−2℃に15
分間保持した後、反応混合物を沃化カリウム水溶液(2
ml中に560mg)に加え、一晩攪拌した。混合物を
酢酸エチルに溶解し、水酸化ナトリウム水溶液(10
%)、水、硫酸ナトリウム水溶液(5%)および水で洗
浄した。有機抽出物を乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮し
て黄色固形物(610mg)を得た。シリカクロマトグ
ラフィーにかけて酢酸エチルで溶離して、淡黄色固形物
の4−トリメチルアセトアミド−2−ヨード−N,N−
ジメチルベンズアミド(200mg)を得た。 1H
NMR(CDCl3 、270MHz)δ:1.3(9
H,s)、2.85(3H,s)、3.12(3H,
s)、7.02(1H,d)、7.47(1H,s)、
7.9(1H,s)、8.0(1H,s)ppm;融点2
28.5〜230.5℃。
メチルベンズアミドの製造。水(1ml)中の亜硝酸ナ
トリウム(220mg)の溶液を0℃以下の温度に保持
しながら濃HCl水溶液(5ml)中の4−トリメチル
アセトアミド−2−アミノ−N,N−ジメチルベンズア
ミド(740mg)の攪拌溶液に加えた。−2℃に15
分間保持した後、反応混合物を沃化カリウム水溶液(2
ml中に560mg)に加え、一晩攪拌した。混合物を
酢酸エチルに溶解し、水酸化ナトリウム水溶液(10
%)、水、硫酸ナトリウム水溶液(5%)および水で洗
浄した。有機抽出物を乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮し
て黄色固形物(610mg)を得た。シリカクロマトグ
ラフィーにかけて酢酸エチルで溶離して、淡黄色固形物
の4−トリメチルアセトアミド−2−ヨード−N,N−
ジメチルベンズアミド(200mg)を得た。 1H
NMR(CDCl3 、270MHz)δ:1.3(9
H,s)、2.85(3H,s)、3.12(3H,
s)、7.02(1H,d)、7.47(1H,s)、
7.9(1H,s)、8.0(1H,s)ppm;融点2
28.5〜230.5℃。
【0061】実施例2 この実施例は4−(2−フルオロ−2−メチルプロパン
アミド)−2−ヨード−N,N−ジメチルベンズアミド
(第I表の化合物No.5)の製造を例示する。
アミド)−2−ヨード−N,N−ジメチルベンズアミド
(第I表の化合物No.5)の製造を例示する。
【0062】工程1 2−ヨード−4−ニトロ安息香酸の製造。−5℃まで冷
却した濃HCl水溶液(30ml)中の4−ニトロアン
トラニル酸(1.82g)の攪拌溶液に0℃以下の温度
を保持しながら水(3ml)中の亜硝酸ナトリウム(7
60mg)を加えた。混合物を−5℃まで冷却し、15
分後に水(10ml)中の沃化カリウム(2g)の溶液
に加え、20時間攪拌した。この混合物を酢酸エチルで
希釈し、有機層を10%チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗
浄し、乾燥し(MgSO4 )、減圧下で濃縮して、黄色
固形物(1.83g)を得た。この生成物はさらに精製
せずに次の工程2で使用した。 1H NMR(270M
Hz;CDCl3 )δ:8.12(1H,d)、8.3
(1H,dd)、8.88(1H,d)ppm。
却した濃HCl水溶液(30ml)中の4−ニトロアン
トラニル酸(1.82g)の攪拌溶液に0℃以下の温度
を保持しながら水(3ml)中の亜硝酸ナトリウム(7
60mg)を加えた。混合物を−5℃まで冷却し、15
分後に水(10ml)中の沃化カリウム(2g)の溶液
に加え、20時間攪拌した。この混合物を酢酸エチルで
希釈し、有機層を10%チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗
浄し、乾燥し(MgSO4 )、減圧下で濃縮して、黄色
固形物(1.83g)を得た。この生成物はさらに精製
せずに次の工程2で使用した。 1H NMR(270M
Hz;CDCl3 )δ:8.12(1H,d)、8.3
(1H,dd)、8.88(1H,d)ppm。
【0063】工程2 2−ヨード−N,N−ジメチルベンズアミドの製造。窒
素雰囲気の下で塩化オキサリル(6.7ml)をジクロ
ロメタン(200ml)中の2−ヨード−4−ニトロ安
息香酸(23g)の攪拌懸濁液に滴下した。2.5時間
後、すべての固形物が溶解した。溶液をジメチルアミン
(40%水溶液;41ml)に加え、得られた混合物を
4.5時間攪拌した。ジクロロメタン溶液を希HCl水
溶液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液および水で洗浄し、
乾燥し(MgSO4 )、減圧下で濃縮して暗黄色固形物
(22.09g)の生成物を得た。 1H NMR(27
0MHz;CDCl3 )δ2.85(3H,s)、3.
18(3H,s)、7.39(1H,d)、8.28
(1H,dd)、8.69(1H,dd)ppm。
素雰囲気の下で塩化オキサリル(6.7ml)をジクロ
ロメタン(200ml)中の2−ヨード−4−ニトロ安
息香酸(23g)の攪拌懸濁液に滴下した。2.5時間
後、すべての固形物が溶解した。溶液をジメチルアミン
(40%水溶液;41ml)に加え、得られた混合物を
4.5時間攪拌した。ジクロロメタン溶液を希HCl水
溶液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液および水で洗浄し、
乾燥し(MgSO4 )、減圧下で濃縮して暗黄色固形物
(22.09g)の生成物を得た。 1H NMR(27
0MHz;CDCl3 )δ2.85(3H,s)、3.
18(3H,s)、7.39(1H,d)、8.28
(1H,dd)、8.69(1H,dd)ppm。
【0064】工程3 4−アミノ−2−ヨード−N,N−ジメチルベンズアミ
ドの製造。2−ヨード−4−ニトロ−N,N−ジメチル
ベンズアミド(1.28g)を0℃で塩化錫(II)
(2.3g)の濃HCl水溶液に滴下した。20分後に
混合物を室温まで温めた。1時間後、混合物を水に注ぎ
入れ、水酸化ナトリウム水溶液で塩基性化し、ジクロロ
メタンで2回抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥し
(MgSO4 )、減圧下で濃縮して黄色固形物の生成物
(950mg)を得た。 1H NMR(270MHz;
CDCl3 )δ2.88(3H,s)、3.10(3
H,s)、3.79(2H,s)、6.65(1H,d
d)、6.97(1H,d)、7.12(1H,dd)
ppm。
ドの製造。2−ヨード−4−ニトロ−N,N−ジメチル
ベンズアミド(1.28g)を0℃で塩化錫(II)
(2.3g)の濃HCl水溶液に滴下した。20分後に
混合物を室温まで温めた。1時間後、混合物を水に注ぎ
入れ、水酸化ナトリウム水溶液で塩基性化し、ジクロロ
メタンで2回抽出した。合わせた有機抽出物を乾燥し
(MgSO4 )、減圧下で濃縮して黄色固形物の生成物
(950mg)を得た。 1H NMR(270MHz;
CDCl3 )δ2.88(3H,s)、3.10(3
H,s)、3.79(2H,s)、6.65(1H,d
d)、6.97(1H,d)、7.12(1H,dd)
ppm。
【0065】工程4 4−(2−フルオロ−2−メチルプロパンアミド)−2
−ヨード−N,N−ジメチルベンズアミドの製造。ジク
ロロメタン(5ml)中の2−フルオロ−2−メチルプ
ロパン酸(426mg)およびDMF(2滴)を塩化オ
キサリル(350μl)で処理して、塩化2−フルオロ
−2−メチルプロパノイルの溶液を調製し、1.5時間
攪拌した。この溶液をジクロロメタン(45ml)中の
4−アミノ−2−ヨード−N,N−ジメチルベンズアミ
ド(950mg)、トリエチルアミン(0.7ml)お
よびN,N−ジメチルアミノピリジン(触媒量)の攪拌
溶液に滴下し、混合物を2時間攪拌した。溶液を希HC
l水溶液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液および水で洗浄
し、乾燥し(MgSO4 )、減圧下で濃縮して黄色発泡
体(985mg)を得た。シリカクロマトグラフィーに
かけて酢酸エチルで溶離して、クリーム状固形物の生成
物(850mg)を得た。融点165.5〜168℃。
−ヨード−N,N−ジメチルベンズアミドの製造。ジク
ロロメタン(5ml)中の2−フルオロ−2−メチルプ
ロパン酸(426mg)およびDMF(2滴)を塩化オ
キサリル(350μl)で処理して、塩化2−フルオロ
−2−メチルプロパノイルの溶液を調製し、1.5時間
攪拌した。この溶液をジクロロメタン(45ml)中の
4−アミノ−2−ヨード−N,N−ジメチルベンズアミ
ド(950mg)、トリエチルアミン(0.7ml)お
よびN,N−ジメチルアミノピリジン(触媒量)の攪拌
溶液に滴下し、混合物を2時間攪拌した。溶液を希HC
l水溶液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液および水で洗浄
し、乾燥し(MgSO4 )、減圧下で濃縮して黄色発泡
体(985mg)を得た。シリカクロマトグラフィーに
かけて酢酸エチルで溶離して、クリーム状固形物の生成
物(850mg)を得た。融点165.5〜168℃。
【0066】実施例3 この実施例は4−(2−フルオロ−2−メチルプロパン
アミド)−2−エチニル−N,N−ジメチルベンズアミ
ド(第I表の化合物No.33)の製造について述べ
る。
アミド)−2−エチニル−N,N−ジメチルベンズアミ
ド(第I表の化合物No.33)の製造について述べ
る。
【0067】工程1 4−ニトロ−2−(2−トリメチルシリルエチニル)−
N,N−ジメチルベンズアミドの製造。アセトニトリル
(40ml)中の2−ヨード−4−ニトロ−N,N−ジ
メチルベンズアミド(実施例2、工程2から)、トリメ
チルシリルエチン(1ml)、塩化ビス(トリフェニル
ホスフィン)パラジウム(II)(192mg)、沃化
銅(I)(192mg)およびトリエチルアミン(1.
3ml)の混合物を窒素雰囲気の下で2時間攪拌した。
反応混合物をエーテルで希釈し、希HCl水溶液、水お
よびアンモニア水で洗浄し、乾燥し(MgSO4 )、減
圧下で濃縮して黄色固形物の生成物を得た。 1H NM
R(270MHz;CDCl3 )δ:(特に)2.90
(3H,s)、3.15(3H,s)、7.50(1
H,d)、8.20(1H,dd)、8.32(1H,
d)ppm。
N,N−ジメチルベンズアミドの製造。アセトニトリル
(40ml)中の2−ヨード−4−ニトロ−N,N−ジ
メチルベンズアミド(実施例2、工程2から)、トリメ
チルシリルエチン(1ml)、塩化ビス(トリフェニル
ホスフィン)パラジウム(II)(192mg)、沃化
銅(I)(192mg)およびトリエチルアミン(1.
3ml)の混合物を窒素雰囲気の下で2時間攪拌した。
反応混合物をエーテルで希釈し、希HCl水溶液、水お
よびアンモニア水で洗浄し、乾燥し(MgSO4 )、減
圧下で濃縮して黄色固形物の生成物を得た。 1H NM
R(270MHz;CDCl3 )δ:(特に)2.90
(3H,s)、3.15(3H,s)、7.50(1
H,d)、8.20(1H,dd)、8.32(1H,
d)ppm。
【0068】工程2 4−ニトロ−2−エチニル−N,N−ジメチルベンズア
ミドの製造。4−ニトロ−2−(2−トリメチルシリル
エチニル)−N,N−ジメチルベンズアミド(1.58
g)をメタノール(30ml)に溶解し、且つ、炭酸カ
リウム(200mg)を一度に加えた。1時間後、固形
物を濾過により除去し、濾液を減圧下で濃縮し、ジクロ
ロメタンに再溶解した。溶液を水で洗浄し、乾燥し(M
gSO4 )、減圧下で濃縮して暗黄色固形物を得た。こ
の固形物はさらに精製することなく次の工程3で使用し
た。 1H NMR(270MHz;CDCl3 )δ2.90
(3H,s)、3.35(1H,s)、3.18(3
H,s)、7.50(1H,d)、8.25(1H,d
d)、8.39(1H,d)ppm 。
ミドの製造。4−ニトロ−2−(2−トリメチルシリル
エチニル)−N,N−ジメチルベンズアミド(1.58
g)をメタノール(30ml)に溶解し、且つ、炭酸カ
リウム(200mg)を一度に加えた。1時間後、固形
物を濾過により除去し、濾液を減圧下で濃縮し、ジクロ
ロメタンに再溶解した。溶液を水で洗浄し、乾燥し(M
gSO4 )、減圧下で濃縮して暗黄色固形物を得た。こ
の固形物はさらに精製することなく次の工程3で使用し
た。 1H NMR(270MHz;CDCl3 )δ2.90
(3H,s)、3.35(1H,s)、3.18(3
H,s)、7.50(1H,d)、8.25(1H,d
d)、8.39(1H,d)ppm 。
【0069】工程3 4−アミノ−2−エチニル−N,N−ジメチルベンズア
ミドの製造。4−ニトロ−2−エチニル−N,N−ジメ
チルベンズアミド(960mg)を0℃で塩化錫(I
I)(2.5g)の濃HCl水溶液(30ml)に加え
た。1時間後、混合物を水に加え、水酸化ナトリウム水
溶液で塩基性化した。水性層をジクロロメタンで抽出
し、乾燥し(MgSO4 )、減圧下で濃縮して、黄色油
状物(760mg)を得た。この油状物はさらに精製す
ることなく次の工程4で使用した。 1H NMR(27
0MHz;CDCl3 )δ2.90(3H,s)、3.
10(3H,s)、3.10(1H,s)、3.80
(2H,bs)、6.68(1H,dd)、6.79
(1H,d)、7.10(1H,d)ppm 。
ミドの製造。4−ニトロ−2−エチニル−N,N−ジメ
チルベンズアミド(960mg)を0℃で塩化錫(I
I)(2.5g)の濃HCl水溶液(30ml)に加え
た。1時間後、混合物を水に加え、水酸化ナトリウム水
溶液で塩基性化した。水性層をジクロロメタンで抽出
し、乾燥し(MgSO4 )、減圧下で濃縮して、黄色油
状物(760mg)を得た。この油状物はさらに精製す
ることなく次の工程4で使用した。 1H NMR(27
0MHz;CDCl3 )δ2.90(3H,s)、3.
10(3H,s)、3.10(1H,s)、3.80
(2H,bs)、6.68(1H,dd)、6.79
(1H,d)、7.10(1H,d)ppm 。
【0070】工程4 4−(2−フルオロ−2−メチルプロパンアミド)−2
−エチニル−N,N−ジメチルベンズアミドの製造。ジ
クロロメタン(10ml)中の2−フルオロ−2−メチ
ルプロパン酸(263mg)およびDMF(3滴)を塩化
オキサリル(215μl)で処理し、1.5時間攪拌す
ることにより、塩化2−フルオロ−2−メチルプロパノ
イルの溶液を生成した。この溶液をジクロロメタン(2
5ml)中の4−アミノ−2−エチニル−N,N−ジメ
チルベンズアミド(360mg)、トリエチルアミン
(0.6ml)およびN,N−ジメチルアミノピリジン
(触媒量)の攪拌溶液に滴下し、混合物を1.5時間攪
拌した。溶液を希HCl水溶液、飽和重炭酸ナトリウム
および水で洗浄し、乾燥し(MgSO4 )、減圧の下で
濃縮して、褐色の油状物(590mg)を生成し、放置
して結晶化した。シリカクロマトグラフィーにかけて酢
酸エチルで溶離し、黄色油状物の純粋な生成物を得た。
この生成物を放置して結晶化した(317mg)。融点
110℃(分解)。
−エチニル−N,N−ジメチルベンズアミドの製造。ジ
クロロメタン(10ml)中の2−フルオロ−2−メチ
ルプロパン酸(263mg)およびDMF(3滴)を塩化
オキサリル(215μl)で処理し、1.5時間攪拌す
ることにより、塩化2−フルオロ−2−メチルプロパノ
イルの溶液を生成した。この溶液をジクロロメタン(2
5ml)中の4−アミノ−2−エチニル−N,N−ジメ
チルベンズアミド(360mg)、トリエチルアミン
(0.6ml)およびN,N−ジメチルアミノピリジン
(触媒量)の攪拌溶液に滴下し、混合物を1.5時間攪
拌した。溶液を希HCl水溶液、飽和重炭酸ナトリウム
および水で洗浄し、乾燥し(MgSO4 )、減圧の下で
濃縮して、褐色の油状物(590mg)を生成し、放置
して結晶化した。シリカクロマトグラフィーにかけて酢
酸エチルで溶離し、黄色油状物の純粋な生成物を得た。
この生成物を放置して結晶化した(317mg)。融点
110℃(分解)。
【0071】実施例4 この実施例は4−(2−フルオロ−2−メチルプロパン
アミド)−2−エテニル−N,N−ジメチルベンズアミ
ド(表Iの化合物No.34)の製造を例示する。
アミド)−2−エテニル−N,N−ジメチルベンズアミ
ド(表Iの化合物No.34)の製造を例示する。
【0072】工程1 4−ニトロ−2−エテニル−N,N−ジメチルベンズイ
ミドの製造。乾燥DMF(20ml)中の2−ヨード−
4−ニトロ−N,N−ジメチルベンズアミド(実施例
2、工程2から)(1g)、塩化ビス(トリフェニルホ
スフィン)パラジウム(II)(80mg)およびビニ
ルトリブチル錫(915μl)の攪拌混合物を窒素雰囲
気の下で70℃で12時間加熱した。この冷却した混合
物をフッ化カリウム(10%)水溶液およびエーテルに
加え、得られた混合物を1時間攪拌し、ハイフロ(ケイ
ソウ土)で濾過した。エーテル層を分離し、水性層をさ
らにエーテルで抽出した。エーテル抽出液を合わせ、塩
水で洗浄し、乾燥し(MgSO4 )、減圧下で濃縮し、
オレンジ色の油状物を生成させ、ヘキサンで研和した。
残分はさらに精製することなしに次の工程2で使用し
た。 1H NMR(270MHz;CDCl3 )δ2.
50(3H,s)、3.16(3H,s)、5.52
(1H,d)、5.95(1H,d)、6.73(1
H,dd)、7.40(1H,d)、8.15(1H,
dd)、8.44(1H,d)ppm。
ミドの製造。乾燥DMF(20ml)中の2−ヨード−
4−ニトロ−N,N−ジメチルベンズアミド(実施例
2、工程2から)(1g)、塩化ビス(トリフェニルホ
スフィン)パラジウム(II)(80mg)およびビニ
ルトリブチル錫(915μl)の攪拌混合物を窒素雰囲
気の下で70℃で12時間加熱した。この冷却した混合
物をフッ化カリウム(10%)水溶液およびエーテルに
加え、得られた混合物を1時間攪拌し、ハイフロ(ケイ
ソウ土)で濾過した。エーテル層を分離し、水性層をさ
らにエーテルで抽出した。エーテル抽出液を合わせ、塩
水で洗浄し、乾燥し(MgSO4 )、減圧下で濃縮し、
オレンジ色の油状物を生成させ、ヘキサンで研和した。
残分はさらに精製することなしに次の工程2で使用し
た。 1H NMR(270MHz;CDCl3 )δ2.
50(3H,s)、3.16(3H,s)、5.52
(1H,d)、5.95(1H,d)、6.73(1
H,dd)、7.40(1H,d)、8.15(1H,
dd)、8.44(1H,d)ppm。
【0073】工程2 4−アミノ−2−エテニル−N,N−ジメチルベンズア
ミドの製造。4−ニトロ−2−エテニル−N,N−ジメ
チルベンズアミド(690mg)を0℃で濃HCl水溶
液(30ml)中の塩化錫(II)(1.8g)の溶液
に徐々に加えた。1時間後、混合物を水に注ぎ入れ、水
酸化ナトリウム水溶液で塩基性化した。不溶性物質を濾
過により除去した。水性層をジクロロメタンで抽出し、
乾燥し(MgSO4 )、減圧下で濃縮して黄色油状物
(457mg)を得た。この油状物はさらに精製するこ
となしに次の工程3において使用した。 1H NMR
(270MHz;CDCl3 )δ2.80(3H,
s)、3.11(3H,s)、3.78(2H,s)、
5.26(1H,d)、5.67(1H,d)、6.6
1(1H,dd)、6.65(1H,dd)、6.85
(1H,d)、7.03(1H,d)ppm。
ミドの製造。4−ニトロ−2−エテニル−N,N−ジメ
チルベンズアミド(690mg)を0℃で濃HCl水溶
液(30ml)中の塩化錫(II)(1.8g)の溶液
に徐々に加えた。1時間後、混合物を水に注ぎ入れ、水
酸化ナトリウム水溶液で塩基性化した。不溶性物質を濾
過により除去した。水性層をジクロロメタンで抽出し、
乾燥し(MgSO4 )、減圧下で濃縮して黄色油状物
(457mg)を得た。この油状物はさらに精製するこ
となしに次の工程3において使用した。 1H NMR
(270MHz;CDCl3 )δ2.80(3H,
s)、3.11(3H,s)、3.78(2H,s)、
5.26(1H,d)、5.67(1H,d)、6.6
1(1H,dd)、6.65(1H,dd)、6.85
(1H,d)、7.03(1H,d)ppm。
【0074】工程3 4−(2−フルオロ−2−メチルプロパンアミド)−2
−エテニル−N,N−ジメチルベンズアミドの製造。ジ
クロロメタン(5ml)中の2−フルオロ−2−メチル
プロパン酸(300mg)およびDMF(2滴)を塩化
オキサリル(250μl)で処理して、塩化2−フルオ
ロ−2−メチルプロパノイルの溶液を生成し、1時間攪
拌した。この溶液をジクロロメタン(20ml)中の4
−アミノ−2−エテニル−N,N−ジメチルベンズアミ
ド(450mg)、トリエチルアミン(0.5ml)お
よびN,N−ジメチルアミノピリジン(触媒量)の攪拌
溶液に滴下し、得られた混合物を1時間攪拌した。この
溶液を希HCl水溶液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液お
よび水で洗浄し、乾燥し(MgSO4 )、減圧下で濃縮
して、黄色油状物を得た。この油状物を放置し結晶化し
た。酢酸エチル/ヘキサンから再結晶して、黄色結晶生
成物(327mg)を得た。融点164〜165℃。
−エテニル−N,N−ジメチルベンズアミドの製造。ジ
クロロメタン(5ml)中の2−フルオロ−2−メチル
プロパン酸(300mg)およびDMF(2滴)を塩化
オキサリル(250μl)で処理して、塩化2−フルオ
ロ−2−メチルプロパノイルの溶液を生成し、1時間攪
拌した。この溶液をジクロロメタン(20ml)中の4
−アミノ−2−エテニル−N,N−ジメチルベンズアミ
ド(450mg)、トリエチルアミン(0.5ml)お
よびN,N−ジメチルアミノピリジン(触媒量)の攪拌
溶液に滴下し、得られた混合物を1時間攪拌した。この
溶液を希HCl水溶液、飽和重炭酸ナトリウム水溶液お
よび水で洗浄し、乾燥し(MgSO4 )、減圧下で濃縮
して、黄色油状物を得た。この油状物を放置し結晶化し
た。酢酸エチル/ヘキサンから再結晶して、黄色結晶生
成物(327mg)を得た。融点164〜165℃。
【0075】次に、本発明の化合物から調製し得る農業
および園芸で使用するのに適する組成物を以下の実施例
に示す。これらの組成物は本発明のもう一つの態様であ
る。パーセントは重量%である。
および園芸で使用するのに適する組成物を以下の実施例
に示す。これらの組成物は本発明のもう一つの態様であ
る。パーセントは重量%である。
【0076】実施例5 次の成分をすべて溶解するまで混合攪拌して、乳剤を調
製した。 表Iの化合物No.1 10% ベンジルアルコール 30% ドデシルベンゼンスルフォン酸カルシウム 5% ノニルフェノールエトキシレート 10% (13モルの酸化エチレン) アルキルベンゼン 45%
製した。 表Iの化合物No.1 10% ベンジルアルコール 30% ドデシルベンゼンスルフォン酸カルシウム 5% ノニルフェノールエトキシレート 10% (13モルの酸化エチレン) アルキルベンゼン 45%
【0077】実施例6 二塩化メチレンに活性成分を溶解し、得られた溶液をア
タパルジャイトクレイ顆粒上に噴霧した。ついで溶剤を
蒸発させて顆粒状組成物を得た。 表Iの化合物No.1 5% アタパルジャイト顆粒 95%
タパルジャイトクレイ顆粒上に噴霧した。ついで溶剤を
蒸発させて顆粒状組成物を得た。 表Iの化合物No.1 5% アタパルジャイト顆粒 95%
【0078】実施例7 下記の3成分を粉砕しついで混合して種子ドレッシング
剤として好適な組成物を調製した。 表Iの化合物No.1 50% 鉱 油 2% 陶 土 48%
剤として好適な組成物を調製した。 表Iの化合物No.1 50% 鉱 油 2% 陶 土 48%
【0079】実施例8 活性成分とタルクを粉砕しついで混合することにより散
布用粉末を調製した。 表Iの化合物No.1 5% タルク 95%
布用粉末を調製した。 表Iの化合物No.1 5% タルク 95%
【0080】実施例9 下記成分をボールミルにかけることにより、粉砕混合物
の水性懸濁濃縮物を調製した。 表Iの化合物No.1 40% リグノスルホン酸ナトリウム 10% ベントナイトクレイ 1% 水 49% この製剤は水で希釈するか、または種子に直接施すこと
により噴霧液として使用し得る。
の水性懸濁濃縮物を調製した。 表Iの化合物No.1 40% リグノスルホン酸ナトリウム 10% ベントナイトクレイ 1% 水 49% この製剤は水で希釈するか、または種子に直接施すこと
により噴霧液として使用し得る。
【0081】実施例10 下記成分をすべて完全に混合するまで混合し、粉砕する
ことにより水和剤を調製した。 表Iの化合物No.1 25% ラウリル硫酸ナトリウム 2% リグノスルホン酸ナトリウム 5% シリカ 25% 陶土 43%
ことにより水和剤を調製した。 表Iの化合物No.1 25% ラウリル硫酸ナトリウム 2% リグノスルホン酸ナトリウム 5% シリカ 25% 陶土 43%
【0082】実施例11 本発明の化合物を植物の葉に寄生する種々の菌類による
病害に対して試験した。用いた試験法は次の通りであ
る。供試植物を直径4cmの小さい鉢の中でジョインネ
ス鉢植用堆肥(No.1又はNo.2)内で生育させ
た。供試化合物はディスパゾール(Dispersol) T水溶液
とビーズ混練するかあるいはアセトンまたはアセトン/
エタノール中の溶液(これは使用直前に所要の濃度に稀
釈)として製剤化した。葉の病害に対して、製剤(活性
成分100ppm)を葉に噴霧しまた植物の根の土壌を
介して施した。噴霧液は保留が最大になるように施し、
根ドレンチ液は最終濃度が乾燥土壌当り活性成分約40
ppmに等しくなるように施した。噴霧液を穀物に施し
た時にトゥイーン(Tween) 20を最終濃度が0.05%
になるように添加した。ほとんどの試験の場合、供試化
合物は植物に病原菌を接種する1日〜2日前に土壌
(根)及び葉(噴霧により)に施した、ウドンコ病(Er
ysiphe graminis)についての試験では処理の24時間
前に植物に菌を接種した。葉の病原菌は胞子懸濁液とし
て供試植物の葉に噴霧した。接種後、植物を適当な環境
に移して感染せしめ、ついで病害の程度を評価するまで
培養させた。接種から評価までの期間は病害の種類及び
環境に応じて4〜14日であった。病害の防除を下記の
等級により記録した: 4=病害なし 3=未処理植物で生じた病害に比べて微小−5% 2=未処理植物で生じた病害の6−25%に相当 1=未処理植物で生じた病害の26−59%に相当 0=未処理植物で生じた病害の60−100%に相当 得られた結果を第II表に示す。
病害に対して試験した。用いた試験法は次の通りであ
る。供試植物を直径4cmの小さい鉢の中でジョインネ
ス鉢植用堆肥(No.1又はNo.2)内で生育させ
た。供試化合物はディスパゾール(Dispersol) T水溶液
とビーズ混練するかあるいはアセトンまたはアセトン/
エタノール中の溶液(これは使用直前に所要の濃度に稀
釈)として製剤化した。葉の病害に対して、製剤(活性
成分100ppm)を葉に噴霧しまた植物の根の土壌を
介して施した。噴霧液は保留が最大になるように施し、
根ドレンチ液は最終濃度が乾燥土壌当り活性成分約40
ppmに等しくなるように施した。噴霧液を穀物に施し
た時にトゥイーン(Tween) 20を最終濃度が0.05%
になるように添加した。ほとんどの試験の場合、供試化
合物は植物に病原菌を接種する1日〜2日前に土壌
(根)及び葉(噴霧により)に施した、ウドンコ病(Er
ysiphe graminis)についての試験では処理の24時間
前に植物に菌を接種した。葉の病原菌は胞子懸濁液とし
て供試植物の葉に噴霧した。接種後、植物を適当な環境
に移して感染せしめ、ついで病害の程度を評価するまで
培養させた。接種から評価までの期間は病害の種類及び
環境に応じて4〜14日であった。病害の防除を下記の
等級により記録した: 4=病害なし 3=未処理植物で生じた病害に比べて微小−5% 2=未処理植物で生じた病害の6−25%に相当 1=未処理植物で生じた病害の26−59%に相当 0=未処理植物で生じた病害の60−100%に相当 得られた結果を第II表に示す。
【0083】
【0084】
【0085】
【0086】
【0087】
【0088】
【0089】
【0090】
【0091】
【0092】
【0093】
【0094】
【0095】
【0096】
【0097】
【0098】
【0099】
【0100】
【0101】
フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 231/14 251/48 9160−4H 255/49 6917−4H 259/10 8318−4H 323/50 7419−4H 323/60 7419−4H C07D 295/10 Z (72)発明者 パトリツク・ジエルフ・クラウレー イギリス国.アールジイ12・6イーワイ. バークシヤー.ブラツクネル.ジヤロツ ツ・ヒル・リサーチ・ステーシヨン(番地 その他表示なし) (72)発明者 ケビン・ロバート・ローソン イギリス国.アールジイ12・6イーワイ. バークシヤー.ブラツクネル.ジヤロツ ツ・ヒル・リサーチ・ステーシヨン(番地 その他表示なし) (72)発明者 ロサムンド・アリソン・スペンス イギリス国.アールジイ12・6イーワイ. バークシヤー.ブラツクネル.ジヤロツ ツ・ヒル・リサーチ・ステーシヨン(番地 その他表示なし) (72)発明者 アラスドエアー・トーマス・グレン イギリス国.チエシヤー.マツクレスフイ ールド.オールダーレイ・パーク(番地そ の他表示なし)
Claims (11)
- 【請求項1】 式(I): 〔式中、AおよびBはそれぞれH原子、沃素原子、ニト
ロ基、シアノ基、C1-4 アルコキシカルボニル基、C
1-4 アルコキシ(C1-4 )アルキル基、C1-4 アルキル
チオ(C1-4 )アルキル基、ホルミル基、C1-4 アルキ
ルチオ基、ハロ(C1-4 )アルキルチオ基、ハロ(C
1-4 )アルコキシ基、C1-4 アルキルカルボニル基、基
−CR5 =NOR6 (但し、R5 およびR6 はそれぞれ
H原子またはC1-4 アルキル基である)、C2-4 アルケ
ニル基またはC2-4 アルキニル基であるが、ただしAお
よびBの両方がH原子であってはならず;DおよびEは
それぞれH原子またはフッ素原子であり;R1 はH原
子、C1-4 アルキル基またはC1-4 アルコキシ基であ
り;R2 はC1-4 アルキル基、C1-4 アルコキシ基また
は任意に置換されていてもよいフェニル基であるか、あ
るいはR1 およびR2 は、これらに結合した窒素原子と
共に結合して、C1-4 アルキル基により任意に置換され
ていてもよいモルホリン環、ピペリジン環、ピロリジン
環またはアゼチジン環を形成し;R3 はH原子であり;
R4 はトリクロロメチル基、C2-8 アルキル基〔該基は
ハロゲン原子、C1-8 アルコキシ基またはR′S(O)
n基(基中のR′はC1-4 アルキル基、C2-4 アルケニ
ル基またはC2-4 アルキニル基であり、nは0、1また
は2である)により任意に置換されていてもよい〕、シ
クロプロピル基(該基はハロゲン原子またはC1-4 アル
キル基により任意に置換されていてもよい)、C2-8 ア
ルケニル基、C2-8 アルキニル基またはC2-8 アルコキ
シ基(これらの基はそれぞれハロゲン原子により任意に
置換されていてもよい)、モノもしくはジ(C1-4 )ア
ルキルアミノ基またはR″ON=C(CN)基(基中の
R″はC1-4 アルキル基である)であるか、あるいはR
3 およびR4 は、これらに結合したC(O)N基と共に
結合して、ハロゲン原子またはC1-4 アルキル基により
任意に置換されていてもよいアゼチジン−2−オン環を
形成し;XおよびYはそれぞれ酸素原子または硫黄原子
である〕で表わされるアシルアミノベンズアミド化合
物。 - 【請求項2】 R4 が基R(CH3 )2 Cであり、この
基中のRがハロゲン原子、C1-4 アルキル基またはC
1-4 アルコキシ基である請求項1に記載の化合物。 - 【請求項3】 R4 が基F(CH3 )2 Cである請求項
1に記載の化合物。 - 【請求項4】 R4 が基F(R8 )(R9 )Cであり、
この基中のR8 およびR9 はそれぞれH原子、C1-4 ア
ルキル基またはハロ(C1-4 )アルキル基である請求項
1に記載の化合物。 - 【請求項5】 Aが沃素原子、シアノ基、ニトロ基、C
1-4 アルコキシカルボニル基、C1-4 アルキルカルボニ
ル基、C1-4 アルコキシ(C1-4 )アルキル基、C1-4
アルキルチオ基、ホルミル基、C1-4 アルキルチオ(C
1-4 )アルキル基または基−CH=NOR6 (但し、R
4 はC1-4 アルキル基である)であり;R1 およびR2
はアルキル基であり;R3 、B、DおよびEはH原子で
あり;R4 はハロゲンまたはC1-4 アルコキシ基により
任意に置換されていてもよいC2-6 アルキル基であり;
XおよびYは両方とも酸素原子である請求項1に記載の
化合物。 - 【請求項6】 式(VIII): (式中、B、D、E、R1 、R2 およびR4 は請求項1
に記載の意義を有する)で表わされる化合物を亜硝酸お
よび沃素源で処理することから成る、Aが沃素原子であ
り、R3 がH原子であり、XおよびYの両方が酸素原子
である請求項1の化合物の製造法。 - 【請求項7】 式(IX): (B、D、E、R1 、R2 およびR4 は請求項1に記載
の意義を有する)で表わされる化合物を溶媒中でシアン
化物の遷移金属塩またはC1-4 アルカンチオレートと反
応させることから成る、Aがシアノ基またはC1-4 アル
キルチオ基であり、R3 がH原子であり、XおよびYの
両方が酸素原子である請求項1の化合物の製造法。 - 【請求項8】 式 (XIX): (式中、A、B、D、E、R1 、R2 およびR4 は請求
項1に記載の意義を有する)で表わされる化合物を塩基
の存在で溶媒中で酸塩化物R4 COClと反応させるこ
とから成る、XおよびYの両方が酸素原子である請求項
1の化合物の製造法。 - 【請求項9】 (a) XおよびYの両方が酸素原子で
あり、R3 がH原子である場合には、 (i) 一般式(X) (式中、A、B、D、E、R1 およびR2 は後記の意義
を有する)で表わされる化合物を塩基の存在で有機溶媒
中で酸塩化物R4 COCl(式中、R4 は後記の意義を
有する)と反応させることにより; (ii) 一般式(XI): (式中、A、B、D、EおよびR4 は後記の意義を有す
る)で表わされる化合物を塩基または過剰の下記アミン
R1 R2 NH(式中、R1 およびR2 は後記の意義を有
する)の存在下に有機溶媒中でアミンR1 R2 NH(式
中、R1 およびR2 は後記の意義を有する)と反応させ
ることにより;または (iii) 一般式 (XII): (式中、A、B、D、E、R1 、R2 およびLは後記の
意義を有する)で表わされる化合物を一般式R4 −CO
−NH2 (式中、R4 は後記の意義を有する)で表わさ
れる化合物および塩基と反応させることにより請求項1
記載の化合物を製造し; (b) XおよびYの両方が酸素原子であり、R3 およ
びR4 が基C(O)Nと共に式(XIII): (式中、R5 およびR6 は後記の意義を有する)で表わ
される環を形成する場合には、 (i) 一般式 (XIV): (式中、A、B、D、E、R1 、R2 、R5 、R6 およ
びX′は後記の意義を有する)で表わされる化合物を相
間移動触媒の存在下で有機溶媒および水から成る2相系
中で塩基で処理することにより請求項1記載の化合物を
製造し; (c) XおよびYの両方が酸素原子であり、R3 がH
原子であり、R4 が式(XV): (式中、R8 およびR9 は後記の意義を有する)で表わ
される基である場合には、 (i) 一般式 (XVI) (式中、A、B、D、E、R1 、R2 、R8 およびR9
は後記の意義を有する)で表わされる化合物を溶媒中で
フッ素転移試薬で処理することによって請求項1記載の
化合物を製造し; (d) XおよびYの両方が酸素原子であり、R3 がH
であり、R4 が式(XVII): (式中、R8 およびR9 は後記の意義を有する)で表わ
される基である場合には、 (i) 一般式 (XVIII): (式中、A、B、D、E、R1 、R2 、R8 およびR9
は後記の意義を有する)で表わされる化合物を溶媒中で
フッ素化剤で処理することにより請求項1記載の化合物
を製造し; (e) Xが酸素原子またはイオウ原子であり、Yが硫
黄原子であり、R3 がH原子である場合には、(i)
一般式(II): (式中、A、B、D、E、R1 、R2 およびR4 は後記
の意義を有する)で表わされる化合物を溶媒中で加硫化
試薬で処理して、Xが酸素原子であり、Yが硫黄原子で
あり、R3 が水素原子である一般式(I)の化合物、ま
たはXが酸素原子であり、Yが硫黄原子であり、R3 が
水素原子である一般式(I)の化合物とXおよびYの両
方が硫黄原子であり、R3 が水素原子である一般式
(I)の化合物との混合物を生成することにより請求項
1記載の化合物を製造し; (f) Xが硫黄原子であり、Yが酸素原子であり、R
3 がH原子である場合には、(i) 一般式 (XXI): (式中、A、B、D、E、R1 およびR2 は後記の意義
を有する)で表わされるイソチオシアネートを−78℃
〜+25℃の温度で溶媒中で有機金属試薬R4 Li(R
4 は後記の意義を有する)またはR4 Mg−ハロゲン
(R4 は後記の意義を有する)と反応させることによ
り;または(ii) 式(XXII): (式中、A、B、D、EおよびR4 は後記の意義を有す
る)で表わされる酸塩化物を塩基の存在下でアミンR1
R2 NH(式中、R1 およびR2 は後記の意義を有す
る)と反応させることにより請求項1記載の化合物を製
造し;または (g) XおよびYの両方が酸素原子であり、R3 がH
原子であり、R4 が式(XXIII) : (式中、R8 、R9 およびR11は後記の意義を有する)
で表わされる基である場合には、(i) 一般式(XXI
V): 〔上記各式中、A、B、D、E,R1 、R2 およびR4
(別に限定がある場合を除く)は請求項1に記載の意義
を有し、R5 およびR6 はH原子、C1-4 アルキル基ま
たはハロゲン原子であり、R8 およびR9 はH原子、C
1-4 アルキル基またはC1-4 ハロアルキル基であり、R
11はC1-4 アルキル基であり、X′は塩素原子、臭素原
子または沃素原子であり、ハロはハロゲン原子であり、
およびLは残基である〕で表わされる化合物を溶媒中で
塩基の存在下でR11−ハロゲンのハロゲン化物と反応さ
せることにより請求項1の化合物を製造することを特徴
とする請求項1記載の化合物の製造法。 - 【請求項10】 殺カビ有効量の請求項1記載の化合物
と殺カビ剤に許容される担体または希釈剤とを含有して
成ることを特徴とする殺カビ剤組成物。 - 【請求項11】 請求項1記載の化合物または請求項1
0記載の組成物を植物、植物の種子または植物もしくは
種子の生育している場所に施用することを特徴とする殺
カビ方法。
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