JPH05150442A - Foreign matter inspection device - Google Patents
Foreign matter inspection deviceInfo
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- JPH05150442A JPH05150442A JP33590191A JP33590191A JPH05150442A JP H05150442 A JPH05150442 A JP H05150442A JP 33590191 A JP33590191 A JP 33590191A JP 33590191 A JP33590191 A JP 33590191A JP H05150442 A JPH05150442 A JP H05150442A
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- inspection
- light
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- foreign matter
- pellicle
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、異物検査装置に関し、
例えば半導体素子を製造する際に用いられる、枠部材で
支持された保護膜(以下ペリクル膜と言う)表面とペリ
クル膜を備えたフォトマスク表面との少なくとも一方の
異物検査に好適な装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a foreign matter inspection device,
For example, the present invention relates to an apparatus suitable for inspecting foreign matter on at least one of a surface of a protective film (hereinafter referred to as a pellicle film) supported by a frame member and a photomask surface provided with the pellicle film, which is used when manufacturing a semiconductor element. is there.
【0002】[0002]
【従来の技術】図4は、従来のこの種の異物検査装置の
構成を模式的に示した斜視図である。図において、被検
査レチクル101は搬送アーム105上に固定されてお
り、パターン形成面にはペリクルフレーム2が載置され
ている。ペリクルフレーム102にはレチクル101の
パターン形成面を覆うようにペリクル膜103が張設さ
れている。光源107から射出された検査光は走査手段
としての振動ミラー108を介してレチクル101に斜
めに入射する。検査光は、ミラー108の振動によって
レチクル101表面をx方向に所定範囲だけ走査する。2. Description of the Related Art FIG. 4 is a perspective view schematically showing the structure of a conventional foreign matter inspection apparatus of this type. In the figure, the reticle 101 to be inspected is fixed on the transfer arm 105, and the pellicle frame 2 is placed on the pattern formation surface. A pellicle film 103 is stretched on the pellicle frame 102 so as to cover the pattern formation surface of the reticle 101. The inspection light emitted from the light source 107 obliquely enters the reticle 101 via a vibrating mirror 108 as a scanning unit. The inspection light scans the surface of the reticle 101 in a predetermined range in the x direction by the vibration of the mirror 108.
【0003】レチクル101の検査領域は、従来のこの
種の検査装置では一定であり、この一定の領域内を全面
に渡って走査するためにx方向の走査と同時に搬送アー
ム105によりレチクル101がy方向に移動される。
このときレチクル101のパターン形成面からは発生し
た散乱、回折光は受光器104に受光されて光電変換さ
れ、この受光器104の出力信号に基づいて異物の検出
が行われる。The inspection area of the reticle 101 is constant in the conventional inspection apparatus of this type, and in order to scan the entire area within the constant area, the reticle 101 is moved by the transfer arm 105 at the same time as scanning in the x direction. Is moved in the direction.
At this time, the scattered and diffracted light generated from the pattern forming surface of the reticle 101 is received by the light receiver 104 and photoelectrically converted, and the foreign matter is detected based on the output signal of the light receiver 104.
【0004】次に、従来の異物検査装置における検査領
域について図5を参照して説明する。図5は、ペリクル
フレーム102によってペリクル膜103が装着された
被検査レチクル101上の検査開始位置106a(検査
光がペリクルフレーム102にけられずにレチクル10
1に入射し始める点)から順次レチクル101を搬送ア
ーム(不図示)によってy方向に移動させることにより
検査位置を紙面左側に移動させ(ペリクルフレーム10
2の左側の内壁102aに接近させ)、検査位置106
bを検査している様子を示す。図では、光源(図示せ
ず)からレチクル101に入射する検査光(入射光)を
実線で、レチクル101表面から受光器104に向かう
検査光(受光光)を一点鎖線で示している。また、検査
開始位置106aでの入射光の方向をI1 、検査位置1
06bでの入射光の方向をI2 で示す。Next, the inspection area in the conventional foreign substance inspection apparatus will be described with reference to FIG. FIG. 5 shows an inspection start position 106 a on the reticle 101 to be inspected on which the pellicle film 103 is mounted by the pellicle frame 102 (the reticle 10 is not inspected by the inspection light.
1), the reticle 101 is sequentially moved in the y direction by a transfer arm (not shown) to move the inspection position to the left side of the drawing (pellicle frame 10).
2 closer to the inner wall 102a on the left side), and the inspection position 106
It shows how b is inspected. In the figure, the inspection light (incident light) incident on the reticle 101 from a light source (not shown) is indicated by a solid line, and the inspection light (received light) traveling from the surface of the reticle 101 to the light receiver 104 is indicated by a dashed line. Further, the direction of the incident light at the inspection start position 106a is I 1 , the inspection position 1
The direction of the incident light at 06b is indicated by I 2 .
【0005】ここで、入射角α(レチクル101の法線
と入射光のなす角)や受光角β(レチクル101の法線
と受光光のなす角)を大きくすると、一般にどのような
ペリクル膜103も、透過率は上昇下降を繰り返しなが
ら低下する。入射角α、受光角βの少なくとも片方にお
けるペリクル膜103の透過率が100%でない場合、
ペリクル膜103とレチクル101表面の間で入射光と
受光光は反射を繰り返す。Here, when the incident angle α (the angle formed by the normal line of the reticle 101 and the incident light) and the light receiving angle β (the angle formed by the normal line of the reticle 101 and the received light) are increased, what kind of pellicle film 103 is generally used. However, the transmittance decreases while repeating rising and falling. When the transmittance of the pellicle film 103 at at least one of the incident angle α and the light receiving angle β is not 100%,
Incident light and received light are repeatedly reflected between the pellicle film 103 and the surface of the reticle 101.
【0006】これらの入射光と受光光の光路の交点10
9a,109bにペリクルフレーム102の内壁102
aがある場合を考えると、フレーム内壁102aは入射
光I2 により間接的に照明されることになり、散乱光を
発生する。そして、この内壁102aからの散乱光は、
受光光の光路上に存在するので、受光器104に迷光と
して受光される(以下フレーム迷光と言う)。The intersection 10 of the optical paths of these incident light and received light
Inner wall 102 of pellicle frame 102 on 9a and 109b
Considering the case where there is a, the inner wall 102a of the frame is indirectly illuminated by the incident light I 2 and generates scattered light. Then, the scattered light from the inner wall 102a is
Since it exists on the optical path of the received light, it is received by the light receiver 104 as stray light (hereinafter referred to as frame stray light).
【0007】従来の異物検査装置では、このフレーム迷
光量を少なくするために入射角αと受光角βを小さく設
定し、概ねどのペリクル膜でも迷光量が検査領域A(図
5)内で無視できる程度に少なくなる構成としていた。In the conventional foreign matter inspection apparatus, the incident angle α and the light receiving angle β are set small in order to reduce the frame stray light amount, and the stray light amount can be ignored in the inspection area A (FIG. 5) in almost any pellicle film. It was configured to be reduced to a certain degree.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した入射
角α,受光角βと異物検査能力とは、入射角α,受光角
βが大きくなる程異物からの散乱光強度が高くなって異
物検査能力が向上するという関係にあり、従来の異物検
査装置では検査能力が犠牲になっていた。即ち、従来の
装置においては、ペリクル膜やペリクル膜付きのフォト
マスクを検査対象とする場合には、検査光の照射手段と
受光手段の配置が著しく制約されることになり、検査精
度を向上させることができなかった。However, with respect to the incident angle α, the light receiving angle β and the foreign substance inspection ability described above, the scattered light intensity from the foreign substance increases as the incident angle α and the light receiving angle β increase, and the foreign substance inspection is performed. Since the capability is improved, the inspection capability is sacrificed in the conventional foreign substance inspection apparatus. That is, in the conventional apparatus, when the pellicle film or the photomask with the pellicle film is to be inspected, the arrangement of the inspection light irradiating means and the light receiving means is significantly restricted, and the inspection accuracy is improved. I couldn't.
【0009】又、従来においては、常に検査領域を一定
としているので、比較的散乱光を発生しにくいペリクル
膜やペリクルフレームを用いている場合でも、フレーム
内壁に近い領域については検査されないという問題もあ
った。Further, in the prior art, since the inspection area is always constant, there is a problem that the area near the inner wall of the frame is not inspected even when a pellicle film or a pellicle frame which is relatively hard to generate scattered light is used. there were.
【0010】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、ペリクル膜表面とペリクル膜を装着したフォトマ
スク表面との少なくとも一方を検査対象とするにあたっ
て、ペリクル膜やペリクルフレームの種類に応じて最適
の検査領域を効率よく設定することができ、フレーム迷
光の影響を受けずに、高精度の異物検査を行うことので
きる装置を提供することを目的とする。The present invention has been made in view of the above points, and when at least one of the surface of the pellicle film and the surface of the photomask on which the pellicle film is mounted is to be inspected, depending on the type of the pellicle film or the pellicle frame. It is an object of the present invention to provide an apparatus capable of efficiently setting an optimum inspection area and capable of performing highly accurate foreign matter inspection without being affected by frame stray light.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】上記問題点の解決の為に
本発明では、枠部材で支持された保護膜(ペリクル膜)
表面と該保護膜を備えたフォトマスク表面との少なくと
も一方を被検査面とし、該被検査面に光ビームを照射す
る照射手段と、前記被検査面からの光を受光して光電変
換する受光手段と、該受光手段の検出信号に基づいて前
記被検査面上の異物を検出する検出手段とを有する異物
検査装置において、前記枠部材と保護膜との少なくとも
一方の光学的性質に応じて前記被検査面上における検査
領域を変更可能に設定する検査領域設定手段を設けるこ
ととした。In order to solve the above problems, in the present invention, a protective film (pellicle film) supported by a frame member is used.
At least one of the surface and the surface of the photomask provided with the protective film is a surface to be inspected, irradiation means for irradiating the surface to be inspected with a light beam, and light receiving for photoelectrically converting light from the surface to be inspected. And a detection means for detecting a foreign matter on the surface to be inspected based on a detection signal of the light receiving means, wherein the at least one of the frame member and the protective film has an optical property according to the optical property. An inspection area setting means for setting the inspection area on the surface to be inspected so as to be changeable is provided.
【0012】本発明における検査領域設定手段の具体的
な構成としては、前記被検査面に前記光ビームを照射し
た際に前記受光手段で受光される前記枠部材からの散乱
光の光量に対応する量を測定する測定手段を有し、該測
定手段の測定結果に基づいて前記検査領域を設定するも
のがある。A specific configuration of the inspection area setting means in the present invention corresponds to the amount of scattered light from the frame member received by the light receiving means when the surface to be inspected is irradiated with the light beam. There is one that has a measuring means for measuring the quantity and sets the inspection region based on the measurement result of the measuring means.
【0013】また、前記検査領域設定手段に、前記測定
手段によって測定された情報を前記枠部材と保護膜との
少なくとも一方の種類毎に記憶する記憶手段を設け、該
記憶手段に記憶された情報に基づいて前記検査領域を設
定する構成としても良い。Further, the inspection area setting means is provided with a storage means for storing the information measured by the measuring means for at least one of the frame member and the protective film, and the information stored in the storage means. The inspection area may be set based on the above.
【0014】[0014]
【作用】図3を参照して本発明の作用を説明する。図3
(A) において、ペリクル膜3はレチクル1のパターン形
成面上に載置されたペリクルフレーム2によって保持さ
れている。検査光Iはレチクル1上の検査点6を斜め方
向から照射し、レチクル1表面で反射されて受光器4に
入射する。図では、光源(図示せず)からレチクル1に
入射する検査光(入射光)を実線で、レチクル1表面か
ら受光器4に向かう検査光(受光光)を一点鎖線で示し
ている。また、簡単のため入射光、受光光とも主光線の
みを示す。The operation of the present invention will be described with reference to FIG. Figure 3
In (A), the pellicle film 3 is held by the pellicle frame 2 placed on the pattern formation surface of the reticle 1. The inspection light I illuminates the inspection point 6 on the reticle 1 from an oblique direction, is reflected by the surface of the reticle 1 and enters the light receiver 4. In the figure, the inspection light (incident light) incident on the reticle 1 from a light source (not shown) is shown by a solid line, and the inspection light (received light) traveling from the surface of the reticle 1 to the light receiver 4 is shown by a dashed line. Further, for the sake of simplicity, only the chief ray is shown for both the incident light and the received light.
【0015】次に、レチクル1上の検査点を移動するた
め、レチクル1を図中y方向に移動すると、ペリクルフ
レーム2の内壁2aが相対的に検査点に近づく。この様
子は図3(B) に示されており、検査点は6’に移る。図
3(B) において検査光I’はペリクル膜3とレチクル1
表面との間で複数回反射を繰り返してフレーム内壁2a
の点iを照明する。また内壁の点dは、受光器4とレチ
クルのなす角γで受光光軸を複数回折り返した光軸上に
ある。またこの光軸上に発光点があると、受光器4に入
射する。Next, in order to move the inspection point on the reticle 1, when the reticle 1 is moved in the y direction in the figure, the inner wall 2a of the pellicle frame 2 relatively approaches the inspection point. This state is shown in FIG. 3 (B), and the inspection point moves to 6 '. In FIG. 3B, the inspection light I ′ is the pellicle film 3 and the reticle 1.
The inner wall 2a of the frame is repeatedly reflected multiple times on the surface.
Illuminate point i. Further, the point d on the inner wall is on the optical axis obtained by folding back the plurality of received optical axes at the angle γ formed by the light receiver 4 and the reticle. If there is a light emitting point on this optical axis, it is incident on the light receiver 4.
【0016】この際、入射光が複数回反射を繰り返して
進行する光路と、受光光軸を複数回折り返した光軸の交
点ア、イ、ウ、エが生じる。レチクル1が図に示すy方
向にさらに移動すると交点エから順次交点アの位置ま
で、フレーム内壁2aが各交点位置を通過する。これら
の各交点位置にフレーム内壁2aが存在するとき、フレ
ーム内壁2aは入射光により照明され、散乱光を生じ
る。この散乱光は、受光光軸を複数回折り返した光軸上
にあるので、受光器4に入射する。At this time, there are intersections a, a, c, and d of the optical path in which the incident light repeatedly reflects and travels a plurality of times and the optical axis in which the received light optical axis is refracted a plurality of times. When the reticle 1 further moves in the y direction shown in the figure, the frame inner wall 2a passes through the respective intersection positions from the intersection D to the position of the intersection A sequentially. When the frame inner wall 2a is present at each of these intersections, the frame inner wall 2a is illuminated by the incident light and produces scattered light. The scattered light is on the optical axis obtained by bending the received optical axis back a plurality of times, and thus enters the light receiver 4.
【0017】次に、図3(C) は照射光学系と受光光学系
の各光束の立体角を考慮して描いた図3(B) に対応する
図である。図では、入射光と受光光の各々について最も
外側の光線の光路を示しており、ア’、イ’、ウ’、
エ’、オ’で示された領域にフレーム内壁2aがあると
き、内壁2aが検査光で照明されて、内壁2aからの散
乱光が受光器4に入射する。Next, FIG. 3 (C) is a drawing corresponding to FIG. 3 (B) drawn in consideration of the solid angle of each light beam of the irradiation optical system and the light receiving optical system. In the figure, the optical paths of the outermost light rays are shown for each of the incident light and the received light, and a ', a', c ',
When the frame inner wall 2a is present in the region indicated by d), the inner wall 2a is illuminated with the inspection light, and the scattered light from the inner wall 2a enters the light receiver 4.
【0018】このときのフレーム迷光の入射光量は、 1.内壁2aの面が粗いほど、 2.ペリクル膜3の入射角(図5の角α)での反射率が
大きいほど、 3.ペリクル膜3の受光角度(図5の角β)での反射率
が大きいほど、 4.入射光の反射回数が少ないほど、 5.受光光の反射回数が少ないほど、 6.受光系の光軸と入射面のなす角が小さい程、 大きくなる。At this time, the incident light amount of the frame stray light is 1. The rougher the surface of the inner wall 2a is The larger the reflectance at the incident angle of the pellicle film 3 (angle α in FIG. 5) is, 3. The larger the reflectance at the light receiving angle of the pellicle film 3 (angle β in FIG. 5), 4. The smaller the number of times the incident light is reflected, The smaller the number of times the received light is reflected, The smaller the angle between the optical axis of the light receiving system and the incident surface, the larger the angle.
【0019】従って、図3(B) においてエ→アの順にフ
レーム内壁2aからの散乱光の入射光量は大きくなり、
検査動作に与える影響が大きくなる。本発明は、フレー
ム内壁からの散乱光量が上記1〜3、つまりペリクル膜
とペリクルフレームとの少なくとも一方の状態に依存す
ることに注目してなされたものであり、従来ペリクル膜
やペリクルフレームの種類によらず一定であった検査領
域を、ペリクル膜やペリクルフレームの光学的性質に応
じて変更可能に設定する構成を取っている。Therefore, in FIG. 3B, the incident light amount of the scattered light from the frame inner wall 2a becomes larger in the order of D → A,
The influence on the inspection operation becomes large. The present invention has been made paying attention to that the amount of scattered light from the inner wall of the frame depends on the above 1-3, that is, the state of at least one of the pellicle film and the pellicle frame. The inspection area that is constant regardless of the change is set according to the optical properties of the pellicle film and the pellicle frame.
【0020】即ち、本発明においては、ペリクル膜やペ
リクルフレームの種類ごとに、検査点とフレーム内壁が
どれだけ接近したら検査上支障をきたす量の迷光が受光
器に入射するかをあらかじめ測定しておき、この情報に
基づいてペリクル膜やペリクルフレームの種類に応じた
最適の検査領域(フレーム迷光の影響を受けず、かつ必
要な検査範囲を最も多くカバーできる検査領域)が設定
される。That is, in the present invention, for each type of pellicle film or pellicle frame, it is necessary to measure in advance how close the inspection point and the inner wall of the frame are to incident stray light to the photodetector. Then, based on this information, an optimum inspection area (an inspection area that is not affected by frame stray light and can cover the necessary inspection range most) according to the type of the pellicle film or the pellicle frame is set.
【0021】この際、ペリクル膜やペリクルフレームが
フレーム迷光を発生しやすいものである場合(ペリクル
膜の検査光に対する透過率が低く、フレームの反射率が
高い場合)、検査可能領域が必要な検査範囲より狭くな
ることも考えられるが、この場合は、非検査レチクルの
向きを変えたり(例えば、検査されずに残っている領域
をy方向に配置する)、フレーム内壁に近い部分だけ前
述した入射角αと受光角βを小さくして検査を行う等の
ことによって対応することが可能である。At this time, when the pellicle film or the pellicle frame is likely to generate frame stray light (when the pellicle film has a low transmittance for the inspection light and the frame has a high reflectance), an inspection requiring an inspectable area is performed. Although it may be narrower than the range, in this case, the direction of the non-inspection reticle is changed (for example, the area left uninspected is arranged in the y direction), or only the portion close to the inner wall of the frame is incident. This can be dealt with by reducing the angle α and the light receiving angle β and performing an inspection.
【0022】又、ペリクル膜やペリクルフレームがフレ
ーム迷光を発生しにくいものである場合、例えば、ペリ
クルフレームに低反射処理(内壁の平滑化を行ったり、
乱反射防止部材を設けたりする処理であり、特願平3−
56935号に詳しい。)が施されている場合には、必
要な検査範囲全体をカバーできる任意の検査領域を設定
することが可能である。When the pellicle film or the pellicle frame is less likely to generate frame stray light, for example, the pellicle frame is subjected to a low reflection treatment (such as smoothing the inner wall,
This is a process of providing a diffused reflection preventing member, and is disclosed in Japanese Patent Application No. 3-
Details about No. 56935. ), It is possible to set an arbitrary inspection area that can cover the entire required inspection range.
【0023】[0023]
【実施例】次に、図面を参照して本発明の実施例を説明
する。まず、図1は本発明の第1の実施例による異物検
査装置の構成図である。図において、レチクル1上には
パターン形成領域を囲むようにペリクルフレーム2が載
置されており、ペリクルフレーム2にはペリクル膜3が
張設されている。Embodiments of the present invention will now be described with reference to the drawings. First, FIG. 1 is a block diagram of a foreign matter inspection apparatus according to a first embodiment of the present invention. In the figure, a pellicle frame 2 is placed on a reticle 1 so as to surround a pattern formation region, and a pellicle film 3 is stretched on the pellicle frame 2.
【0024】光源(図示せず)から射出された検査光
(入射光)Iは走査手段としての振動ミラー(図示せ
ず)を介してレチクル1に斜めに入射する。この入射角
は、検査光Iがペリクルフレーム2にけられないように
80°から10°の間とすることが好ましい。検査光I
は、振動ミラーによってレチクル1上をx方向(紙面垂
直方向)の所定範囲内を走査する。この際、y方向のフ
レーム内壁については通常フレーム迷光は問題とならな
いので、x方向の走査範囲はあらかじめ一定の範囲が定
められている。Inspection light (incident light) I emitted from a light source (not shown) is obliquely incident on the reticle 1 via a vibrating mirror (not shown) as a scanning means. This incident angle is preferably between 80 ° and 10 ° so that the inspection light I is not blocked by the pellicle frame 2. Inspection light I
Scans the reticle 1 with a vibrating mirror within a predetermined range in the x direction (the direction perpendicular to the paper surface). At this time, since the frame stray light does not pose a problem on the inner wall of the frame in the y direction, the scanning range in the x direction is set to a predetermined range in advance.
【0025】上記のペリクル膜3付のレチクル1は搬送
アーム5上に固定されており、搬送アーム5は駆動部1
5によってy方向に移動可能に、好ましくはx,y平面
内で回転可能に構成されている。搬送アーム5のy方向
移動量は例えばリニアエンコーダーのような測長器によ
って測定されるようになっており、後述する判定部13
からの信号に基づいて搬送制御部14よって所定の値に
制御される。The reticle 1 with the pellicle film 3 is fixed on the transfer arm 5, and the transfer arm 5 is driven by the drive unit 1.
5 is movable in the y-direction, preferably rotatable in the x-y plane. The amount of movement of the transfer arm 5 in the y direction is measured by a length measuring device such as a linear encoder.
The conveyance control unit 14 controls the predetermined value based on the signal from the.
【0026】振動ミラーによるx方向の走査と搬送アー
ム5のy方向の移動により、あらかじめ設定された検査
領域(後述)内全面が検査光によってむらなく走査され
る。このとき被検査レチクル1から発生した光は、受光
器4で受光されてここで光電変換される。受光器4から
の光電変換信号は信号処理部10に送られ、この信号に
基づいて異物の検出が行われる。異物を検出するための
信号処理は特に限定されるものではないが、例えば、パ
ターンからの散乱、回折光は比較的指向性が高く、異物
からの散乱、回折光は比較的無指向性であることを利用
して異物と正規のパターンとの弁別を行うことができ
る。By scanning in the x direction by the vibrating mirror and moving the transport arm 5 in the y direction, the entire surface of a preset inspection region (described later) is uniformly scanned by the inspection light. At this time, the light emitted from the reticle 1 to be inspected is received by the light receiver 4 and is photoelectrically converted therein. The photoelectric conversion signal from the light receiver 4 is sent to the signal processing unit 10, and foreign matter is detected based on this signal. Signal processing for detecting a foreign matter is not particularly limited, but, for example, scattered and diffracted light from a pattern has relatively high directivity, and scattered and diffracted light from foreign matter is relatively omnidirectional. This can be utilized to discriminate the foreign matter from the regular pattern.
【0027】又、図1に示されるようなペリクル膜3越
しの表面検査を行う場合には、ペリクル膜3の透過率に
応じた受光器4の感度補正を行うことが望ましい。本実
施例では自動的に全検査を行えるように、ペリクル透過
率測定部12、感度補正部11からの命令により、信号
処理部10を制御できる構成となっている。ペリクルの
透過率は、検査光Iと同じ波長の光を実際の検査時の入
射角及び受光角でペリクル膜3にそれぞれ照射して測定
することが好ましい。Further, when performing a surface inspection through the pellicle film 3 as shown in FIG. 1, it is desirable to perform sensitivity correction of the light receiver 4 according to the transmittance of the pellicle film 3. In this embodiment, the signal processing unit 10 can be controlled by commands from the pellicle transmittance measuring unit 12 and the sensitivity correcting unit 11 so that all inspections can be performed automatically. The transmittance of the pellicle is preferably measured by irradiating the pellicle film 3 with light having the same wavelength as the inspection light I at an incident angle and a light receiving angle at the time of actual inspection.
【0028】次に、本実施例における検査領域設定のた
めの構成と動作について説明する。本実施例では、実際
の異物検査時と同等の受光感度条件で常に同じ閾値で検
査可能領域を設定するために、異物検査用の受光系(図
1の受光器4)を用いてペリクルフレーム2からの散乱
光を測定する構成としている。このとき、受光感度は、
ペリクル透過率に応じた損失分を前述した透過率測定部
12、感度補正部11からの命令に従って補正してお
く。又、本実施例では、従来の装置に比べて搬送アーム
5のy方向ストロークを十分大きく取ってある。これ
は、検査可能領域を測定する際や低反射処理が施された
フレームを用いたレチクルの異物検査を行う場合に検査
点をフレームに接近させる必要があるからである。Next, the structure and operation for setting the inspection area in this embodiment will be described. In this embodiment, in order to always set the inspectable area with the same threshold value under the light receiving sensitivity condition equivalent to that in the actual foreign matter inspection, the light receiving system for foreign matter inspection (light receiver 4 in FIG. 1) is used and the pellicle frame 2 is used. It is configured to measure scattered light from. At this time, the light receiving sensitivity is
The loss corresponding to the pellicle transmittance is corrected in accordance with the instructions from the transmittance measuring unit 12 and the sensitivity correcting unit 11 described above. Further, in this embodiment, the y-direction stroke of the transfer arm 5 is set to be sufficiently larger than that of the conventional apparatus. This is because it is necessary to bring the inspection point close to the frame when measuring the inspectable area or when performing the foreign substance inspection of the reticle using the frame subjected to the low reflection processing.
【0029】さて、検査可能領域を測定するにあたって
は、先ず、所望の検査領域内でペリクルフレーム2から
の散乱光を受光できる測定位置まで駆動部15、搬送ア
ーム5によりレチクル1を移動させる。図1はこの状態
を示している。次に、振動ミラー(図示せず)により入
射光Iでレチクル1上をx方向に走査すると共に、レチ
クル1からの反射光によってフレーム内壁2aを走査す
る。このとき、フレーム内壁2aからの散乱光は受光器
4で受光されて光電変換される。受光器4からの光電変
換信号は、信号処理部10を経て判定部13に入力され
る。To measure the inspectable area, first, the reticle 1 is moved by the drive unit 15 and the transfer arm 5 to a measurement position where the scattered light from the pellicle frame 2 can be received within a desired inspection area. FIG. 1 shows this state. Next, the vibrating mirror (not shown) scans the reticle 1 with the incident light I in the x direction, and the reflected light from the reticle 1 scans the frame inner wall 2a. At this time, the scattered light from the inner wall 2a of the frame is received by the light receiver 4 and photoelectrically converted. The photoelectric conversion signal from the light receiver 4 is input to the determination unit 13 via the signal processing unit 10.
【0030】この判定部13においては、フレーム迷光
量についてあらかじめ閾値が設定されており(実際の異
物検査に支障をきたすかどうかを考慮して設定される)
受光器4からの信号がこの閾値を越えるか否かが判断さ
れる。閾値以下である場合には、判定部13は搬送動作
制御部14に信号を送って駆動部15により搬送アーム
5をy方向に移動させて検査点を更にフレーム内壁2a
に接近させる。そして、その位置におけるフレーム迷光
量が閾値を越えるか否かが判定部13で判断される。上
記の動作を繰り返すことによりフレーム迷光量が閾値を
越えるときの検査点の位置(y方向の限界位置)が測定
され、これにより検査可能領域が決定される。In this determination unit 13, a threshold value is set in advance for the amount of frame stray light (set in consideration of whether it will interfere with the actual foreign substance inspection).
It is determined whether the signal from the light receiver 4 exceeds this threshold value. If it is less than or equal to the threshold value, the determination unit 13 sends a signal to the transport operation control unit 14 to move the transport arm 5 in the y direction by the drive unit 15 to further set the inspection point to the frame inner wall 2a.
Approach. Then, the determination unit 13 determines whether or not the frame stray light amount at that position exceeds a threshold value. By repeating the above operation, the position of the inspection point (the limit position in the y direction) when the frame stray light amount exceeds the threshold value is measured, and the inspectable area is determined by this.
【0031】あるいは、ペリクルフレーム2からの散乱
光を受光できる測定位置(図1の状態)でレチクル1か
らの反射光によってフレーム内壁2aを走査した際の受
光器4からの信号によってフレーム2の種類を判断し、
あらかじめ設定されている幾つかの検査領域のなかから
適する検査領域を選択するようにしても良い。Alternatively, the type of the frame 2 is determined by the signal from the light receiver 4 when the inner wall 2a of the frame is scanned by the reflected light from the reticle 1 at the measurement position (the state of FIG. 1) where the scattered light from the pellicle frame 2 can be received. Judge,
A suitable inspection area may be selected from among some preset inspection areas.
【0032】又、検査点をフレーム内壁2aに接近させ
てもフレーム迷光量が閾値を越えない場合、つまり判定
部13においてフレーム2に適切な低反射処理が施され
ている(もしくはペリクル膜3の検査光に対する透過率
がほぼ100%)と判断された場合には、検査光Iがフ
レーム2にけられない範囲で任意の検査領域が設定され
る。Further, when the frame stray light amount does not exceed the threshold value even when the inspection point is brought close to the frame inner wall 2a, that is, the frame 2 is appropriately subjected to the low reflection processing in the judging section 13 (or the pellicle film 3 is processed). When it is determined that the transmittance for the inspection light is almost 100%), an arbitrary inspection area is set within a range in which the inspection light I cannot fall on the frame 2.
【0033】実際の異物検査にあたっては、判定部13
から検査可能領域についての情報が搬送動作制御部14
に送られ、この情報に基づいて搬送動作制御部14は駆
動部15を制御する。そして、前述した振動ミラーによ
るx方向の走査と搬送アームのy方向の移動によって設
定された検査領域内が全面に渡って検査光Iで走査され
異物検査が行われる。検査結果は、図示しない表示手段
に表示される。設定された検査領域が必要な検査範囲に
対して不足する場合には、レチクル1の向きを変えて
(搬送手段5によってx,y平面上で回転させて)、検
査されずに残った領域の検査を行う。In the actual foreign matter inspection, the determination unit 13
The information about the inspectable area is transmitted from the transfer operation control unit 14
The transport operation control unit 14 controls the drive unit 15 based on this information. Then, the inside of the inspection region set by the scanning in the x direction by the vibrating mirror and the movement in the y direction of the transport arm is scanned with the inspection light I over the entire surface to perform the foreign substance inspection. The inspection result is displayed on a display unit (not shown). When the set inspection area is insufficient with respect to the required inspection area, the orientation of the reticle 1 is changed (rotated on the x and y planes by the transporting means 5), and the area left uninspected remains. Perform an inspection.
【0034】次に、図2は本発明の第2の実施例であっ
て、第1の実施例とは検査可能領域を決定するための構
成が異なっている。その他の構成は第1の実施例と同様
である。即ち、図2の実施例においては、図1の判定部
13の代わりにキーボード、バーコードリーダ等からな
る入力部16が設けられており、ペリクル膜3とペリク
ルフレーム2の種類等を外部から入力できる構成となっ
ている。Next, FIG. 2 shows a second embodiment of the present invention, which is different from the first embodiment in the structure for determining the inspectable area. The other structure is similar to that of the first embodiment. That is, in the embodiment of FIG. 2, an input unit 16 including a keyboard, a bar code reader and the like is provided instead of the determination unit 13 of FIG. 1, and the types of the pellicle film 3 and the pellicle frame 2 are input from the outside. It can be configured.
【0035】本実施例では検査対象となるレチクル1に
装着されるペリクル膜3及びペリクルフレーム2の品種
毎に、検査可能な領域が予め測定され(測定は第1の実
施例と同様にして行う)、測定結果はペリクル膜3及び
ペリクルフレーム2の品種毎に装置内に記憶される。そ
して、実際の検査時には、入力部16に入力されたペリ
クル膜3及びペリクルフレーム2の品種とあらかじめ記
憶されている上記の検査可能領域に関するデータとを対
照して、最適な検査領域が設定される。In this embodiment, the inspectable area is measured in advance for each type of pellicle film 3 and pellicle frame 2 mounted on the reticle 1 to be inspected (the measurement is performed in the same manner as in the first embodiment). ), The measurement results are stored in the apparatus for each type of pellicle film 3 and pellicle frame 2. At the time of actual inspection, the optimum inspection area is set by comparing the product types of the pellicle film 3 and the pellicle frame 2 input to the input unit 16 with the previously stored data regarding the above-described inspectable area. ..
【0036】又、本実施例においては、検査可能領域に
関するデータの他に、ペリクル膜3の透過率に応じた受
光器4の感度補正値も外部から入力する構成としても良
い。Further, in this embodiment, in addition to the data regarding the inspectable area, the sensitivity correction value of the light receiver 4 according to the transmittance of the pellicle film 3 may be input from the outside.
【0037】なお、上記の第1及び第2の実施例におい
ては、ペリクル膜を装着したレチクル表面を検査する例
について説明したが、本発明の異物検査装置はペリクル
膜自体の異物検査にも適用できることは言うまでもな
い。In the above first and second embodiments, the example of inspecting the surface of the reticle on which the pellicle film is mounted has been described, but the foreign matter inspection apparatus of the present invention is also applied to the foreign matter inspection of the pellicle film itself. It goes without saying that you can do it.
【0038】[0038]
【発明の効果】以上の様に本発明の異物検査装置におい
ては、ペリクル膜とペリクルフレームとの少なくとも一
方の光学的性質に応じて検査領域を変更可能に設定する
手段を備えているので、ペリクル膜とペリクルフレーム
との少なくとも一方の種類毎にフレーム迷光の影響を受
けずに必要な検査範囲を最も多くカバーできる検査領域
を効率良く設定して、異物検査を行うことができる。
又、本発明によれば、検査光の照射手段と受光手段の配
置が著しく制約されることがないので、検査光の照射手
段と受光手段について異物の検出能力を向上させる上で
好ましい配置を取ることができ、検査精度を向上させる
ことができる。As described above, the foreign matter inspection apparatus of the present invention is provided with the means for setting the inspection area to be changeable in accordance with the optical properties of at least one of the pellicle film and the pellicle frame. The foreign substance inspection can be performed by efficiently setting the inspection region that can cover the most necessary inspection range without being affected by the frame stray light for at least one type of the film and the pellicle frame.
Further, according to the present invention, the arrangement of the inspection light irradiating means and the light receiving means is not significantly restricted, so that the inspection light irradiating means and the light receiving means are preferably arranged in order to improve the foreign matter detection capability. Therefore, the inspection accuracy can be improved.
【図1】本発明の第1実施例による異物検査装置の模式
的な構成図である。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a foreign matter inspection device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第2実施例による異物検査装置の模式
的な構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a foreign matter inspection device according to a second embodiment of the present invention.
【図3】(A),(B),(C) は本発明の作用を説明するための
説明図である。3 (A), (B), and (C) are explanatory views for explaining the operation of the present invention.
【図4】従来の異物検査装置の構成を示す斜視図であ
る。FIG. 4 is a perspective view showing a configuration of a conventional foreign matter inspection device.
【図5】従来の異物検査装置におけるフレーム迷光の説
明図である。FIG. 5 is an explanatory diagram of frame stray light in a conventional foreign matter inspection device.
1…レチクル、2…ペリクルフレーム、2a…フレーム
内壁、3…ペリクル膜、4…受光器、5…搬送アーム、
6,6’…検査点、10…信号処理部、11…感度補正
部、12…ペリクル透過率測定部、13…判定部、14
…搬送動作制御部、15…駆動部、16…入力部。DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Reticle, 2 ... Pellicle frame, 2a ... Frame inner wall, 3 ... Pellicle film, 4 ... Photoreceiver, 5 ... Transport arm,
6, 6 '... Inspection point, 10 ... Signal processing section, 11 ... Sensitivity correction section, 12 ... Pellicle transmittance measurement section, 13 ... Judgment section, 14
... conveyance operation control section, 15 ... driving section, 16 ... input section.
Claims (3)
膜を備えたフォトマスク表面との少なくとも一方を被検
査面とし、該被検査面に光ビームを照射する照射手段
と、前記被検査面からの光を受光して光電変換する受光
手段と、該受光手段の検出信号に基づいて前記被検査面
上の異物を検出する検出手段とを有する異物検査装置に
おいて、 前記枠部材と保護膜との少なくとも一方の光学的性質に
応じて前記被検査面上における検査領域を変更可能に設
定する検査領域設定手段を備えたことを特徴とする異物
検査装置。1. An irradiation means for irradiating a light beam onto the surface to be inspected, wherein at least one of the surface of the protective film supported by the frame member and the surface of the photomask provided with the protective film is used as the surface to be inspected. In a foreign matter inspection device having a light receiving means for receiving light from an inspection surface and photoelectrically converting it, and a detecting means for detecting foreign matter on the surface to be inspected based on a detection signal of the light receiving means, A foreign matter inspection apparatus comprising an inspection area setting means for setting an inspection area on the surface to be inspected so as to be changeable according to the optical property of at least one of the film and the film.
前記光ビームを照射した際に前記受光手段で受光される
前記枠部材からの散乱光の光量に対応する量を測定する
測定手段を有し、該測定手段の測定結果に基づいて前記
検査領域を設定するものであること特徴とする請求項1
の異物検査装置。2. The inspection area setting means includes a measuring means for measuring an amount of scattered light from the frame member received by the light receiving means when the surface to be inspected is irradiated with the light beam. The inspection area is set based on the measurement result of the measuring means.
Foreign matter inspection device.
よって測定された情報を前記枠部材と保護膜との少なく
とも一方の種類毎に記憶する記憶手段を有し、該記憶手
段に記憶された情報に基づいて前記検査領域を設定する
ものであることを特徴とする請求項2の異物検査装置。3. The inspection area setting means has a storage means for storing the information measured by the measuring means for each type of at least one of the frame member and the protective film, and the information stored in the storage means. The foreign matter inspection apparatus according to claim 2, wherein the inspection area is set based on
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33590191A JPH05150442A (en) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | Foreign matter inspection device |
US07/979,276 US5365330A (en) | 1991-11-27 | 1992-11-20 | Foreign particle inspection apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33590191A JPH05150442A (en) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | Foreign matter inspection device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05150442A true JPH05150442A (en) | 1993-06-18 |
Family
ID=18293639
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33590191A Pending JPH05150442A (en) | 1991-11-27 | 1991-11-27 | Foreign matter inspection device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05150442A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011197288A (en) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Toppan Printing Co Ltd | Photomask and exposure apparatus |
WO2019079389A1 (en) * | 2017-10-18 | 2019-04-25 | Kla-Tencor Corporation | Adaptive care areas for die-die inspection |
JPWO2021149602A1 (en) * | 2020-01-20 | 2021-07-29 |
-
1991
- 1991-11-27 JP JP33590191A patent/JPH05150442A/en active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011197288A (en) * | 2010-03-18 | 2011-10-06 | Toppan Printing Co Ltd | Photomask and exposure apparatus |
WO2019079389A1 (en) * | 2017-10-18 | 2019-04-25 | Kla-Tencor Corporation | Adaptive care areas for die-die inspection |
US10997710B2 (en) | 2017-10-18 | 2021-05-04 | Kla-Tencor Corporation | Adaptive care areas for die-die inspection |
JPWO2021149602A1 (en) * | 2020-01-20 | 2021-07-29 |
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