JPH05119000A - 蛍光ｘ線分析装置 - Google Patents
蛍光ｘ線分析装置Info
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- JPH05119000A JPH05119000A JP30419891A JP30419891A JPH05119000A JP H05119000 A JPH05119000 A JP H05119000A JP 30419891 A JP30419891 A JP 30419891A JP 30419891 A JP30419891 A JP 30419891A JP H05119000 A JPH05119000 A JP H05119000A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 試料が液体であっても測定することができ、
しかも、Ｘ線パス部の気圧や温度変化の影響を受けるこ
となく、経済的に試料分析を行うことができる蛍光Ｘ線
分析装置を提供すること。 【構成】 試料６に対して空気層よりなるＸ線パス部７
を介して一次Ｘ線14を照射し、試料から放出される二次
Ｘ線16に基づいて試料分析を行うようにした蛍光Ｘ線分
析装置において、前記一次Ｘ線14として単一エネルギー
またはそれに近い単色の一次Ｘ線を用いると共に、前記
Ｘ線パス部７の気圧および温度を測定し、この測定され
た気圧および温度を用いて、前記蛍光Ｘ線および散乱Ｘ
線の強度を補正し、この補正された蛍光Ｘ線と散乱Ｘ線
との比をとるようにしている。
しかも、Ｘ線パス部の気圧や温度変化の影響を受けるこ
となく、経済的に試料分析を行うことができる蛍光Ｘ線
分析装置を提供すること。 【構成】 試料６に対して空気層よりなるＸ線パス部７
を介して一次Ｘ線14を照射し、試料から放出される二次
Ｘ線16に基づいて試料分析を行うようにした蛍光Ｘ線分
析装置において、前記一次Ｘ線14として単一エネルギー
またはそれに近い単色の一次Ｘ線を用いると共に、前記
Ｘ線パス部７の気圧および温度を測定し、この測定され
た気圧および温度を用いて、前記蛍光Ｘ線および散乱Ｘ
線の強度を補正し、この補正された蛍光Ｘ線と散乱Ｘ線
との比をとるようにしている。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、試料に対して空気層よ
りなるＸ線パス部を介して一次Ｘ線を照射し、試料から
放出される二次Ｘ線に基づいて試料分析を行うようにし
た蛍光Ｘ線分析装置に関する。
りなるＸ線パス部を介して一次Ｘ線を照射し、試料から
放出される二次Ｘ線に基づいて試料分析を行うようにし
た蛍光Ｘ線分析装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】蛍光Ｘ線分析装置は、例えば原油中に含
まれる硫黄分の含有量の測定や、鋼材の種類判別、ある
いは、メッキ組成の分析などに用いられるが、その測定
対象元素によっては、Ｘ線パス部の密度変化によってそ
の測定値に影響が及ばされるところから、次のような対
策が講じられていた。
まれる硫黄分の含有量の測定や、鋼材の種類判別、ある
いは、メッキ組成の分析などに用いられるが、その測定
対象元素によっては、Ｘ線パス部の密度変化によってそ
の測定値に影響が及ばされるところから、次のような対
策が講じられていた。
【０００３】すなわち、Ｘ線パス部を真空にする、
Ｘ線パス部をヘリウムガスによってパージする、Ｘ線
パス部の気圧および温度を測定し、その値から測定値を
補正する（例えば特開昭57− 86030号公報）、Ｘ線パ
ス部の気圧および温度を測定し、その値から蛍光Ｘ線強
度を質量吸収係数などの物理定数を使って補正する（例
えば特開昭60− 61649号公報）、といった手段がある。
Ｘ線パス部をヘリウムガスによってパージする、Ｘ線
パス部の気圧および温度を測定し、その値から測定値を
補正する（例えば特開昭57− 86030号公報）、Ｘ線パ
ス部の気圧および温度を測定し、その値から蛍光Ｘ線強
度を質量吸収係数などの物理定数を使って補正する（例
えば特開昭60− 61649号公報）、といった手段がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記
の手法は、試料が液体の場合、適用が困難であり、の
手法は、高価なヘリウムガスを用いるためランニングコ
ストが高くつき、の手法は、気圧および温度の影響度
をそれぞれ予め把握しておく必要があり、の手法は、
蛍光Ｘ線分析において、試料の組成影響を補正する一手
法である散乱比法（試料に一次Ｘ線を照射したときに発
生する二次Ｘ線に含まれる蛍光Ｘ線の強度と散乱Ｘ線の
強度の比に基づいて試料の分析を行う手法）には適用で
きない、などの欠点がある。
の手法は、試料が液体の場合、適用が困難であり、の
手法は、高価なヘリウムガスを用いるためランニングコ
ストが高くつき、の手法は、気圧および温度の影響度
をそれぞれ予め把握しておく必要があり、の手法は、
蛍光Ｘ線分析において、試料の組成影響を補正する一手
法である散乱比法（試料に一次Ｘ線を照射したときに発
生する二次Ｘ線に含まれる蛍光Ｘ線の強度と散乱Ｘ線の
強度の比に基づいて試料の分析を行う手法）には適用で
きない、などの欠点がある。
【０００５】ところで、散乱比法は、すでに説明したよ
うに、試料に一次Ｘ線を照射したときに発生する蛍光Ｘ
線の強度と散乱Ｘ線の強度の比に基づいて試料の分析を
行う手法であり、試料の組成影響を補正することができ
る。
うに、試料に一次Ｘ線を照射したときに発生する蛍光Ｘ
線の強度と散乱Ｘ線の強度の比に基づいて試料の分析を
行う手法であり、試料の組成影響を補正することができ
る。
【０００６】しかしながら、この散乱比法も必ずしも万
全の手法とは云えないのである。すなわち、試料に対し
て空気層よりなるＸ線パス部を介して一次Ｘ線を照射
し、試料から放出される二次Ｘ線に基づいて試料分析を
行うようにした場合、蛍光Ｘ線の強度のみならず散乱Ｘ
線の強度をも補正する必要がある。
全の手法とは云えないのである。すなわち、試料に対し
て空気層よりなるＸ線パス部を介して一次Ｘ線を照射
し、試料から放出される二次Ｘ線に基づいて試料分析を
行うようにした場合、蛍光Ｘ線の強度のみならず散乱Ｘ
線の強度をも補正する必要がある。
【０００７】今、例えば励起源として反射型のＸ線管を
用いた場合、一次Ｘ線はターゲット材料による特性Ｘ線
の他に、大量の連続Ｘ線を含んでいる。この連続Ｘ線を
励起源として使用した場合、散乱Ｘ線も連続的なエネル
ギー分布を持ち、そのエネルギーに応じてＸ線パス部に
おける空気密度の影響が異なる。従って、補正計算を行
う際には、連続Ｘ線をエネルギーで分割するなど煩雑な
操作が必要となる。その上、連続Ｘ線のうち、エネルギ
ーの高いＸ線は、コンプトン散乱の割合が大きく、しか
も、コンプトン散乱とレイリー散乱とのエネルギー差が
大きく、試料組成によりコンプトン散乱とレイリー散乱
との比も変化するため、散乱Ｘ線の平均エネルギー値が
変化し、厳密な意味での気圧および温度影響の補正が困
難である。
用いた場合、一次Ｘ線はターゲット材料による特性Ｘ線
の他に、大量の連続Ｘ線を含んでいる。この連続Ｘ線を
励起源として使用した場合、散乱Ｘ線も連続的なエネル
ギー分布を持ち、そのエネルギーに応じてＸ線パス部に
おける空気密度の影響が異なる。従って、補正計算を行
う際には、連続Ｘ線をエネルギーで分割するなど煩雑な
操作が必要となる。その上、連続Ｘ線のうち、エネルギ
ーの高いＸ線は、コンプトン散乱の割合が大きく、しか
も、コンプトン散乱とレイリー散乱とのエネルギー差が
大きく、試料組成によりコンプトン散乱とレイリー散乱
との比も変化するため、散乱Ｘ線の平均エネルギー値が
変化し、厳密な意味での気圧および温度影響の補正が困
難である。
【０００８】本発明は、上述の事柄に留意してなされた
もので、その目的とするところは、試料が液体であって
も測定することができ、しかも、Ｘ線パス部の気圧や温
度変化の影響を受けることなく、経済的に試料分析を行
うことができる蛍光Ｘ線分析装置を提供することにあ
る。
もので、その目的とするところは、試料が液体であって
も測定することができ、しかも、Ｘ線パス部の気圧や温
度変化の影響を受けることなく、経済的に試料分析を行
うことができる蛍光Ｘ線分析装置を提供することにあ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明においては、試料に対して空気層よりなるＸ
線パス部を介して一次Ｘ線を照射し、試料から放出され
る二次Ｘ線に基づいて試料分析を行うようにした蛍光Ｘ
線分析装置において、前記一次Ｘ線として単一エネルギ
ーまたはそれに近い単色の一次Ｘ線を用いると共に、前
記Ｘ線パス部の気圧および温度を測定し、この測定され
た気圧および温度を用いて、前記蛍光Ｘ線および散乱Ｘ
線の強度を補正し、この補正された蛍光Ｘ線と散乱Ｘ線
との比をとるようにしている。
め、本発明においては、試料に対して空気層よりなるＸ
線パス部を介して一次Ｘ線を照射し、試料から放出され
る二次Ｘ線に基づいて試料分析を行うようにした蛍光Ｘ
線分析装置において、前記一次Ｘ線として単一エネルギ
ーまたはそれに近い単色の一次Ｘ線を用いると共に、前
記Ｘ線パス部の気圧および温度を測定し、この測定され
た気圧および温度を用いて、前記蛍光Ｘ線および散乱Ｘ
線の強度を補正し、この補正された蛍光Ｘ線と散乱Ｘ線
との比をとるようにしている。
【００１０】
【作用】上記構成の蛍光Ｘ線分析装置によれば、試料が
液体であっても測定を行うことができる。そして、一次
Ｘ線として単一エネルギーまたはそれに近い単色の一次
Ｘ線を用いているので、散乱Ｘ線の平均エネルギー値が
変化することがなくなり、しかも、Ｘ線パス部の気圧お
よび温度を測定し、この測定された気圧および温度を用
いて、蛍光Ｘ線および散乱Ｘ線の強度を補正しているの
で、蛍光Ｘ線と散乱Ｘ線との比をより正確に求めること
ができ、Ｘ線パス部の気圧や温度変化の影響を受けるこ
とがない。
液体であっても測定を行うことができる。そして、一次
Ｘ線として単一エネルギーまたはそれに近い単色の一次
Ｘ線を用いているので、散乱Ｘ線の平均エネルギー値が
変化することがなくなり、しかも、Ｘ線パス部の気圧お
よび温度を測定し、この測定された気圧および温度を用
いて、蛍光Ｘ線および散乱Ｘ線の強度を補正しているの
で、蛍光Ｘ線と散乱Ｘ線との比をより正確に求めること
ができ、Ｘ線パス部の気圧や温度変化の影響を受けるこ
とがない。
【００１１】
【実施例】以下、本発明の実施例を、図面を参照しなが
ら説明する。
ら説明する。
【００１２】図１は、本発明に係る蛍光Ｘ線分析装置の
構成を概略的に示すもので、この図において、１は窓２
を備えた試料載置台で、この試料載置台１の窓２が形成
された部分には、試料収容容器３を載置するように構成
されている。試料収容容器３は、例えば筒状の枠体４
と、この枠体４の底部側を閉塞するように張設された樹
脂製のフィルムよりなるＸ線透過膜５とから構成され、
その内部には例えば原油などの液体試料６が収容されて
いる。
構成を概略的に示すもので、この図において、１は窓２
を備えた試料載置台で、この試料載置台１の窓２が形成
された部分には、試料収容容器３を載置するように構成
されている。試料収容容器３は、例えば筒状の枠体４
と、この枠体４の底部側を閉塞するように張設された樹
脂製のフィルムよりなるＸ線透過膜５とから構成され、
その内部には例えば原油などの液体試料６が収容されて
いる。
【００１３】前記試料載置台１の下方には、空気層より
なるＸ線パス部７を介してＸ線源８が設けられている。
このＸ線源８は、例えば図２に示すように、電子線９を
発する電子銃10と、入射された電子線９を、所定の一次
Ｘ線11に変えて反射するターゲット12とからなるＸ線管
13と、このＸ線管13から出力された一次Ｘ線11をそのエ
ネルギーが単一またはそれに近い状態の単色の一次Ｘ線
（以下、単色Ｘ線と云う）14とするためのＸ線フィルタ
15とからなり、反射型に構成されている。そして、この
Ｘ線源８から発せられた単色Ｘ線14は、Ｘ線パス部７を
およびＸ線透過膜５を介して液体試料６に照射され、液
体試料６からは蛍光Ｘ線および散乱Ｘ線などを含む二次
Ｘ線16が発せられる。
なるＸ線パス部７を介してＸ線源８が設けられている。
このＸ線源８は、例えば図２に示すように、電子線９を
発する電子銃10と、入射された電子線９を、所定の一次
Ｘ線11に変えて反射するターゲット12とからなるＸ線管
13と、このＸ線管13から出力された一次Ｘ線11をそのエ
ネルギーが単一またはそれに近い状態の単色の一次Ｘ線
（以下、単色Ｘ線と云う）14とするためのＸ線フィルタ
15とからなり、反射型に構成されている。そして、この
Ｘ線源８から発せられた単色Ｘ線14は、Ｘ線パス部７を
およびＸ線透過膜５を介して液体試料６に照射され、液
体試料６からは蛍光Ｘ線および散乱Ｘ線などを含む二次
Ｘ線16が発せられる。
【００１４】また、前記試料載置台１の下方には、前記
Ｘ線源８と異なった位置に、同じく空気層よりなるＸ線
パス部７を介して前記二次Ｘ線16を検出する二次Ｘ線検
出部17が設けられている。この二次Ｘ線検出部17は、計
測しようとする波長近傍のノイズを吸収するためのＸ線
フィルタ18、例えばＮｅガス封入比例係数管からなる検
出器19、プリアンプ20、パルス波高分析器21、計数器22
をこの順に備えている。そして、この二次Ｘ線検出部17
からは、測定元素（例えば硫黄）の濃度に応じた蛍光Ｘ
線と散乱Ｘ線の強度が計数値として得られ、この計数結
果はＣＰＵ23に入力される。
Ｘ線源８と異なった位置に、同じく空気層よりなるＸ線
パス部７を介して前記二次Ｘ線16を検出する二次Ｘ線検
出部17が設けられている。この二次Ｘ線検出部17は、計
測しようとする波長近傍のノイズを吸収するためのＸ線
フィルタ18、例えばＮｅガス封入比例係数管からなる検
出器19、プリアンプ20、パルス波高分析器21、計数器22
をこの順に備えている。そして、この二次Ｘ線検出部17
からは、測定元素（例えば硫黄）の濃度に応じた蛍光Ｘ
線と散乱Ｘ線の強度が計数値として得られ、この計数結
果はＣＰＵ23に入力される。
【００１５】24, 25は前記空気層よりなるＸ線パス部７
の気圧および温度をそれぞれ測定する気圧計、温度計
で、これらの測定結果はＣＰＵ23に入力される。ＣＰＵ
23においては、気圧計24、温度計25によって測定された
Ｘ線パス部７の気圧および温度を、所定の補正式（例え
ば特開昭60− 61649号公報に開示された式）に入力する
ることにより、二次Ｘ線検出部17から入力された蛍光Ｘ
線と散乱Ｘ線の強度を補正する。そして、この補正され
た蛍光Ｘ線と散乱Ｘ線との比をとることにより、例えば
原油中の硫黄分を測定することができる。なお、26は表
示器である。
の気圧および温度をそれぞれ測定する気圧計、温度計
で、これらの測定結果はＣＰＵ23に入力される。ＣＰＵ
23においては、気圧計24、温度計25によって測定された
Ｘ線パス部７の気圧および温度を、所定の補正式（例え
ば特開昭60− 61649号公報に開示された式）に入力する
ることにより、二次Ｘ線検出部17から入力された蛍光Ｘ
線と散乱Ｘ線の強度を補正する。そして、この補正され
た蛍光Ｘ線と散乱Ｘ線との比をとることにより、例えば
原油中の硫黄分を測定することができる。なお、26は表
示器である。
【００１６】上述の説明から明らかなように、本発明に
係る蛍光Ｘ線分析装置においては、一次Ｘ線として単一
エネルギーまたはそれに近い単色の一次Ｘ線14を用いて
いるので、散乱Ｘ線の平均エネルギー値が変化すること
がなくなり、しかも、Ｘ線パス部７の気圧および温度を
測定し、この測定された気圧および温度を用いて、蛍光
Ｘ線および散乱Ｘ線の強度を補正しているので、蛍光Ｘ
線と散乱Ｘ線との比をより正確に求めることができ、Ｘ
線パス部７の気圧や温度変化の影響を受けることがな
い。また、Ｘ線パス部７は空気層よりなるので、固体試
料は勿論のこと、液体試料も測定することができる。
係る蛍光Ｘ線分析装置においては、一次Ｘ線として単一
エネルギーまたはそれに近い単色の一次Ｘ線14を用いて
いるので、散乱Ｘ線の平均エネルギー値が変化すること
がなくなり、しかも、Ｘ線パス部７の気圧および温度を
測定し、この測定された気圧および温度を用いて、蛍光
Ｘ線および散乱Ｘ線の強度を補正しているので、蛍光Ｘ
線と散乱Ｘ線との比をより正確に求めることができ、Ｘ
線パス部７の気圧や温度変化の影響を受けることがな
い。また、Ｘ線パス部７は空気層よりなるので、固体試
料は勿論のこと、液体試料も測定することができる。
【００１７】本発明は、上記実施例に限られるものでは
なく、例えばＸ線源８におけるＸ線フィルタ15に代えて
分光結晶を用いるようにしてもよい。また、Ｘ線源８
を、図３に示すように、透過型に構成してもよい。この
図において、27は薄膜状のターゲットで、Ｘ線フィルタ
の機能をも備えており、Ｘ線源８からのＸ線をこのター
ゲット27を通過させることにより、単色に近い一次Ｘ線
が得られる。
なく、例えばＸ線源８におけるＸ線フィルタ15に代えて
分光結晶を用いるようにしてもよい。また、Ｘ線源８
を、図３に示すように、透過型に構成してもよい。この
図において、27は薄膜状のターゲットで、Ｘ線フィルタ
の機能をも備えており、Ｘ線源８からのＸ線をこのター
ゲット27を通過させることにより、単色に近い一次Ｘ線
が得られる。
【００１８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
試料が固体の場合は勿論のこと、液体であっても測定す
ることができ、しかも、高価なヘリウムガスを用いなく
とも、Ｘ線パス部の気圧や温度変化の影響を受けない精
度の高い測定を行うことができると共に、標準試料によ
る装置の校正の間隔を長くすることができるので、経済
的に試料分析を行うことができる。
試料が固体の場合は勿論のこと、液体であっても測定す
ることができ、しかも、高価なヘリウムガスを用いなく
とも、Ｘ線パス部の気圧や温度変化の影響を受けない精
度の高い測定を行うことができると共に、標準試料によ
る装置の校正の間隔を長くすることができるので、経済
的に試料分析を行うことができる。
【図１】本発明に係る蛍光Ｘ線分析装置の構成を概略的
に示す図である。
に示す図である。
【図２】Ｘ線源の構成例を示す図である。
【図３】Ｘ線源の他の構成例を示す図である。
６…試料、７…Ｘ線パス部、14…一次Ｘ線、16…二次Ｘ
線。
線。
Claims (1)
- 【請求項１】 試料に対して空気層よりなるＸ線パス部
を介して一次Ｘ線を照射し、試料から放出される二次Ｘ
線に基づいて試料分析を行うようにした蛍光Ｘ線分析装
置において、前記一次Ｘ線として単一エネルギーまたは
それに近い単色の一次Ｘ線を用いると共に、前記Ｘ線パ
ス部の気圧および温度を測定し、この測定された気圧お
よび温度を用いて、前記蛍光Ｘ線および散乱Ｘ線の強度
を補正し、この補正された蛍光Ｘ線と散乱Ｘ線との比を
とるようにしたことを特徴とする蛍光Ｘ線分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3304198A JP2613511B2 (ja) | 1991-10-23 | 1991-10-23 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3304198A JP2613511B2 (ja) | 1991-10-23 | 1991-10-23 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05119000A true JPH05119000A (ja) | 1993-05-14 |
| JP2613511B2 JP2613511B2 (ja) | 1997-05-28 |
Family
ID=17930201
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3304198A Expired - Fee Related JP2613511B2 (ja) | 1991-10-23 | 1991-10-23 | 蛍光ｘ線分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2613511B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2096431A1 (en) * | 2008-02-27 | 2009-09-02 | Oxford Instruments Analytical Oy | Portable X-ray fluorescence analyzer |
| JP2014145618A (ja) * | 2013-01-28 | 2014-08-14 | Dkk Toa Corp | エネルギー分散型蛍光ｘ線分析装置 |
| KR20190041161A (ko) * | 2017-10-12 | 2019-04-22 | 주식회사 포스코 | 도금 성분 측정 장치 |
| EP3745122A3 (en) * | 2019-05-31 | 2020-12-16 | Jeol Ltd. | X-ray analyzer |
| US20220365008A1 (en) * | 2021-05-14 | 2022-11-17 | Malvern Panalytical B.V. | Apparatus and Method for X-ray Fluorescence Analysis |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5160591A (en) * | 1974-11-22 | 1976-05-26 | Mitsubishi Electric Corp | Keiko x seniobunsekisochi |
| JPS5786030A (en) * | 1980-11-17 | 1982-05-28 | Idemitsu Kosan Co Ltd | Method and apparatus for analysis of fluorescence x-rays |
| JPS6061649A (ja) * | 1983-09-16 | 1985-04-09 | Rigaku Denki Kogyo Kk | 螢光ｘ線分析の補正方法 |
| JPH02257045A (ja) * | 1989-03-30 | 1990-10-17 | Nkk Corp | メッキ鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成の測定方法およびその測定装置 |
-
1991
- 1991-10-23 JP JP3304198A patent/JP2613511B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JPH02257045A (ja) * | 1989-03-30 | 1990-10-17 | Nkk Corp | メッキ鋼板のメッキ付着量およびメッキ被膜組成の測定方法およびその測定装置 |
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| JP2014145618A (ja) * | 2013-01-28 | 2014-08-14 | Dkk Toa Corp | エネルギー分散型蛍光ｘ線分析装置 |
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| US20220365008A1 (en) * | 2021-05-14 | 2022-11-17 | Malvern Panalytical B.V. | Apparatus and Method for X-ray Fluorescence Analysis |
| US12007380B2 (en) * | 2021-05-14 | 2024-06-11 | Malvern Panalytical B.V. | Apparatus and method for x-ray fluorescence analysis |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2613511B2 (ja) | 1997-05-28 |
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