JPH05106039A - 基板処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 簡単な構成によって、大型基板を搬送する場
合でも搬送アームの撓みを防止することができるように
した基板処理装置を提供する。 【構成】 処理室４とエアロック室２６との間に両者を
仕切るフラップ弁３０が下側に開くように設けられてお
り、このフラップ弁３０の開いた状態の上側であって搬
送アーム３４の進路上に位置する所に、搬送アーム３４
を前後動可能に支持するローラ５０を支柱５２を介して
取り付けている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、例えばイオン注入装
置、薄膜形成装置、エッチング装置等のように、真空中
で基板を処理する基板処理装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】この種の基板処理装置の従来例を図２に
示す。この基板処理装置は、真空中で基板２を処理する
ための処理室４と、この処理室４にフラップ弁３０を介
して隣接されていて、基板２をこの処理室４と大気中と
の間で出し入れするためのエアロック室２６と、基板２
をこのエアロック室２６と処理室４との間で搬送する搬
送アーム３４とを備えている。

【０００３】処理室４内には、この例では、次のような
構成の基板保持装置１０が設けられている。即ちこの基
板保持装置１０は、基板２を載せるための基板台１１
と、基板２の周縁部を基板台１１に対して押さえ付ける
ための環状のクランパー１２と、クランパー１２を上下
動させるための複数本のクランパー軸１４と、各クラン
パー軸１４を弾性的に押し下げるばね（例えば圧縮コイ
ルばね）１６と、各クランパー軸１４間を連結する連結
板１８と、この連結板１８に支持されていて基板２を昇
降させる昇降ピン２０と、基板台１１およびそれに取り
付けられた物を支えると共に例えば矢印Ａのように回転
させる回転軸２２と、矢印Ｂのように動いて連結板１８
を昇降させる昇降軸２４とを備えている。図中の４０〜
４４は、真空シール用のＯリング等のパッキンである。

【０００４】処理室４の上部には、この例では、基板保
持装置１０に保持された基板２にイオンビーム８を照射
してイオン注入等の処理を施すためのイオン源６が取り
付けられている。

【０００５】フラップ弁３０は、真空弁の一種であって
処理室４とエアロック室２６間を仕切るものであり、矢
印Ｃのように開閉される。３２はその回転軸である。

【０００６】エアロック室２６の上部には、この例で
は、大気中とエアロック室２６内とで基板２を出し入れ
する際に例えば矢印Ｄのように開閉される蓋２８が設け
られている。

【０００７】搬送アーム３４は、この例では、エアロッ
ク室２６の壁面を貫通していて矢印Ｅのように前後動可
能な軸３６と、その先端部に取り付けられていて基板２
を支持する支持板（フォークとも呼ばれる）３８とを有
している。

【０００８】動作例を説明すると、処理室４は常に真空
排気されているものとして、蓋２８を開いて未処理の基
板２を搬送アーム３４の支持板３８に載せて蓋２８を閉
じ、エアロック室２６内を真空排気する。このときフラ
ップ弁３０は閉じられており、エアロック室２６内が所
定の真空度に達したら、フラップ弁３０を開いて搬送ア
ーム３４を前進させ、かつ昇降軸２４によってクランパ
ー１２を上昇させ（図１参照）、基板２を基板台１１と
クランパー１２間に搬送し、その状態で昇降軸２４をも
う１段上昇させて昇降ピン２０で基板２を支持板３８か
ら受け取る。

【０００９】その後搬送アーム３４を後退させ、更に昇
降軸２４を下降させてクランパー１２と基板台１１との
間にばね１６の力で基板２を保持（挟持）し、フラップ
弁３０を閉じ、イオン源６から基板保持装置１０上の基
板２にイオンビーム８を照射して処理を施す。処理後の
基板２の大気中への搬出は、上記と逆の動作で行われ
る。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】ところが近年は、薄膜
トランジスタ式の液晶ディスプレイ等に代表されるよう
に、基板２が大型化し、それに伴って重量も重くストロ
ークも伸びてきており、上記のような従来の装置で大型
の基板２を搬送アーム３４の支持板３８に載せて搬送す
る場合、搬送アーム３４が前進した時に当該搬送アーム
３４が例えば図２中に２点鎖線で示すように大きく撓
（たわ）み、うまく基板２を搬送することができなくな
るという問題がある。これに対しては、搬送アーム３４
やその支持部の強度を大きくすることが考えられるが、
それでも上記のように大きく前進した搬送アーム３４の
撓みは避けられない。

【００１１】そこでこの発明は、簡単な構成によって、
大型基板を搬送する場合でも搬送アームの撓みを防止す
ることができるようにした基板処理装置を提供すること
を主たる目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、この発明の基板処理装置は、前述したような搬送ア
ームの進路上に、同搬送アームを前後動可能に支持する
ローラを設けたことを特徴とする。

【００１３】

【作用】上記構成によれば、ローラによって搬送アーム
を前後動可能に支持することができるので、大型基板を
搬送する場合でも搬送アームの撓みを防止することがで
き、従って大型基板の搬送が可能になる。

【００１４】

【実施例】図１は、この発明の一実施例に係る基板処理
装置を示す断面図である。図２の従来例と同一または相
当する部分には同一符号を付し、以下においては当該従
来例との相違点を主に説明する。

【００１５】前述したフラップ弁３０は図示のように下
側に開くようにされており、この実施例ではこのフラッ
プ弁３０の開いた状態の上側であって搬送アーム３４の
進路上に位置する所に、搬送アーム３４を前後動可能に
支持するローラ５０を支柱５２を介して取り付けてい
る。勿論このローラ５０および支柱５２は、フラップ弁
３０の開閉およびその本来の目的（即ち処理室４とエア
ロック室２６との間の仕切り）に支障のない位置に設け
ている。

【００１６】このようにすれば、搬送アーム３４を前進
させて基板２を処理室４内へ（又は処理室４内から）搬
送する場合、ローラ５０によって搬送アーム３４を前後
動可能に支持することができるので、大型基板２を搬送
する場合でも搬送アーム３４の撓みを防止することがで
き、従って大型基板２の搬送が可能になる。しかも、フ
ラップ弁３０上にローラ５０を設けるだけで良いので、
構成も非常に簡単である。

【００１７】また、ローラ５０はフラップ弁３０とは別
の所に設けても良いが、この実施例のようにフラップ弁
３０上に設けると、余分なスペースを一切必要としない
ので、処理室４やエアロック室２６を大きくしなくて済
むという効果も得られる。

【００１８】なお、上述した基板保持装置１０の構成や
イオン源６、蓋２８を設けること等はあくまでも一例で
あり、この発明はそのようなものを採用した以外の基板
処理装置にも広く適用することができる。

【００１９】

【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、搬送ア
ームの進路上に、同搬送アームを前後動可能に支持する
ローラを設けたので、大型基板を搬送する場合でも搬送
アームの撓みを防止することができ、従って大型基板の
搬送が可能になる。しかもローラを設けるだけで良いの
で、構成も非常に簡単である。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の一実施例に係る基板処理装置を示
す断面図である。

【図２】 従来の基板処理装置の一例を示す断面図であ
る。

【符号の説明】

２ 基板 ４ 処理室 ２６ エアロック室 ３０ フラップ弁 ３４ 搬送アーム ３６ 軸 ３８ 支持板 ５０ ローラ

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空中で基板を処理するための処理室
   と、基板をこの処理室と大気中との間で出し入れするた
   めのエアロック室と、前後動可能な軸およびその先端部
   に取り付けられていて基板を支持する支持板を有してい
   て、この軸を前後動させることにより基板を前記エアロ
   ック室と処理室との間で搬送する搬送アームとを備える
   基板処理装置において、前記搬送アームの進路上に、同
   搬送アームを前後動可能に支持するローラを設けたこと
   を特徴とする基板処理装置。