JPH0483515A - フロン系冷媒の分解方法 - Google Patents
フロン系冷媒の分解方法Info
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- JPH0483515A JPH0483515A JP2197940A JP19794090A JPH0483515A JP H0483515 A JPH0483515 A JP H0483515A JP 2197940 A JP2197940 A JP 2197940A JP 19794090 A JP19794090 A JP 19794090A JP H0483515 A JPH0483515 A JP H0483515A
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Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はフロン系冷媒を含有するガスを無害化処理する
方法に関する。
方法に関する。
近年、大気のオゾン層のフロンによる破壊が地球環境の
保護の点から、重大な問題となっており、フロンを排出
する場合には、そのままで排出せずに何らかの無害化処
理が必要とされている。従来はフロンを含むガスを活性
炭等で吸着し回収する方法が知られており、最近では高
圧下でフロンを燃焼する方法、触媒存在下で分解、燃焼
を行う方法等も発表されている。(特開平1−1436
30号公報)。
保護の点から、重大な問題となっており、フロンを排出
する場合には、そのままで排出せずに何らかの無害化処
理が必要とされている。従来はフロンを含むガスを活性
炭等で吸着し回収する方法が知られており、最近では高
圧下でフロンを燃焼する方法、触媒存在下で分解、燃焼
を行う方法等も発表されている。(特開平1−1436
30号公報)。
上記従来技術において、吸着剤を利用したフロン系冷媒
の回収方法は、回収したフロン系冷媒の無害化処理方法
については考慮がなされていない。
の回収方法は、回収したフロン系冷媒の無害化処理方法
については考慮がなされていない。
一方、高圧下で燃焼する方法、高周波プラズマで分解す
る方法などは装置が大がかりであったり、処理コストが
高い等の問題があった。これに対し触媒による分解法は
これらの方法に比べて簡便な方法であるが、熱触媒と光
触媒の二段階の方法によりフロンを分解しており、装置
が大がかりであったり、多量の熱エネルギが無駄になる
恐れがあつた。
る方法などは装置が大がかりであったり、処理コストが
高い等の問題があった。これに対し触媒による分解法は
これらの方法に比べて簡便な方法であるが、熱触媒と光
触媒の二段階の方法によりフロンを分解しており、装置
が大がかりであったり、多量の熱エネルギが無駄になる
恐れがあつた。
また、この触媒分解方法では、ゼオライトやアルミナ等
の硬例が報告されているが、これらは触媒の性能として
は必ずしも充分とは云えなかった。
の硬例が報告されているが、これらは触媒の性能として
は必ずしも充分とは云えなかった。
本発明の目的は、これら従来技術の問題点を解決し、簡
便で効率の良いフロン系冷媒含有ガスの分解方法を提供
することにある。
便で効率の良いフロン系冷媒含有ガスの分解方法を提供
することにある。
上記目的を達成するために、本発明ではガス中のフロン
及び空気、酸素、水蒸気の少なくとも一種以上を含む混
合ガスの存在下で光触媒と接触させながら、紫外線及び
又は可視光を照射させてフロン系冷媒を分解する工程、
フロン系冷媒の分解生成物を還元剤を含有する液および
/又はアルカリを含有する液で処理する工程を備えたこ
とを特徴としている0本発明の方法では、まず、ガス中
のフロン系冷媒及び空気、酸素、水蒸気の少なくとも一
種以上を含む混合ガスを、紫外線及び/又は可視光が照
射されている光触媒層に接触させる。
及び空気、酸素、水蒸気の少なくとも一種以上を含む混
合ガスの存在下で光触媒と接触させながら、紫外線及び
又は可視光を照射させてフロン系冷媒を分解する工程、
フロン系冷媒の分解生成物を還元剤を含有する液および
/又はアルカリを含有する液で処理する工程を備えたこ
とを特徴としている0本発明の方法では、まず、ガス中
のフロン系冷媒及び空気、酸素、水蒸気の少なくとも一
種以上を含む混合ガスを、紫外線及び/又は可視光が照
射されている光触媒層に接触させる。
この時、フロン系冷媒は接触分解、水蒸気リホーミング
、触媒燃焼等の反応が単独、あるいは併発して進行する
ことにより、−酸化炭素、二酸化炭素、塩素、塩素水素
、フッ化水素等に変換される。
、触媒燃焼等の反応が単独、あるいは併発して進行する
ことにより、−酸化炭素、二酸化炭素、塩素、塩素水素
、フッ化水素等に変換される。
この生成物は還元剤を含有する液及び/又はアルカリを
含有する液で処理する。たとえば塩素については、還元
剤の一例として、亜硫酸ソーダ、チオ硫酸ソーダ、第−
鉄塩等の溶液中で処理し、その後、ソーダ灰または希塩
酸を加えて、中和して無害化する。一方、フッ化水素に
ついてはソーダ灰や消石灰の溶液で吸収し中和して無害
化する。
含有する液で処理する。たとえば塩素については、還元
剤の一例として、亜硫酸ソーダ、チオ硫酸ソーダ、第−
鉄塩等の溶液中で処理し、その後、ソーダ灰または希塩
酸を加えて、中和して無害化する。一方、フッ化水素に
ついてはソーダ灰や消石灰の溶液で吸収し中和して無害
化する。
本発明のもう一つの特徴はフロン系冷媒を分解する触媒
として、チタニア担体とし、活性成分とした貴金属を一
種以上含有する触媒を用いたところにある。チタニア単
独でもフロンの分解活性を示すが、本発明ではさらに上
記の貴金属成分を担持することにより大幅に性能が向上
することを見出した。また、本発明の特徴はチタニア担
体に貴金属を一種以上含有させた触媒にコバルト、ニッ
ケル、鉄、マンガン、銅、銀、バナジウム、クロム。
として、チタニア担体とし、活性成分とした貴金属を一
種以上含有する触媒を用いたところにある。チタニア単
独でもフロンの分解活性を示すが、本発明ではさらに上
記の貴金属成分を担持することにより大幅に性能が向上
することを見出した。また、本発明の特徴はチタニア担
体に貴金属を一種以上含有させた触媒にコバルト、ニッ
ケル、鉄、マンガン、銅、銀、バナジウム、クロム。
モリブデンの中から選ばれた少なくとも一種の酸化物を
含有する光触媒を用いたところにある。活性成分の貴金
属はチタニア担体に対し0.1 〜10重量%の範囲が
好ましい。さらに、コバルト。
含有する光触媒を用いたところにある。活性成分の貴金
属はチタニア担体に対し0.1 〜10重量%の範囲が
好ましい。さらに、コバルト。
ニッケル、鉄、マンガン、銅、銀、バナジウム。
クロム、モリブデンは、チタニア担体に対し1〜10重
量%の範囲が好ましい。また、光触媒上でフロン系冷媒
を分解する温度は室温でよく、特に、加熱する必要はな
い。光触媒の形状はペレット状。
量%の範囲が好ましい。また、光触媒上でフロン系冷媒
を分解する温度は室温でよく、特に、加熱する必要はな
い。光触媒の形状はペレット状。
ハニカム状板状、網状等特に限定されない。
本発明に用いるチタニアの原料は酸化チタン。
含水酸化チタン、四塩化チタン、硫酸チタン、有機チタ
ン化合物を用いることができる。貴金属は硝酸塩、塩化
物等の化合物の熱分解等によって製造して使用すること
ができる。一方、コバルト。
ン化合物を用いることができる。貴金属は硝酸塩、塩化
物等の化合物の熱分解等によって製造して使用すること
ができる。一方、コバルト。
鉄、マンガン、銅、銀、バナジウム、クロム、モリブデ
ンは硝酸塩、塩化物、硫酸塩、アンモニウム塩などの化
合物の熱分解、あるいは水溶液の中和などによって酸化
物、あるいは、含水化合物を製造して使用することもで
きる。本発明による触媒の調製には、通常使用される含
浸法、混線法。
ンは硝酸塩、塩化物、硫酸塩、アンモニウム塩などの化
合物の熱分解、あるいは水溶液の中和などによって酸化
物、あるいは、含水化合物を製造して使用することもで
きる。本発明による触媒の調製には、通常使用される含
浸法、混線法。
沈殿法、蒸発幹同法等いずれの場合も使用することがで
き、特に限定されない。
き、特に限定されない。
本発明の光触媒を用いて分解反応を行う紫外波長は20
0〜300nmの範囲が好ましい。また、可視波長は4
00〜800nmの範囲が好ましい。
0〜300nmの範囲が好ましい。また、可視波長は4
00〜800nmの範囲が好ましい。
フロン系冷媒の分解工程に対する処理ガスの供給速度は
触媒の単位体積当り100〜100,000 h −1
の範囲であることが好ましい。
触媒の単位体積当り100〜100,000 h −1
の範囲であることが好ましい。
チタニア担体と活性成分の貴金属及びコバルト。
ニッケル、鉄、マンガン、銅、銀、バナジウム。
クロム、モリブデンの一種から成る光触媒に、バンドキ
ャップ以上のエネルギで励起すると伝導帯に電子が価電
子帯に正孔が生じる。正孔と光触媒の格子酸素及び吸着
酸素が反応し、原子状酸素となって光触媒粒子内に拡散
し、活性化されてフロンより電子を引きぬいて分解され
る。
ャップ以上のエネルギで励起すると伝導帯に電子が価電
子帯に正孔が生じる。正孔と光触媒の格子酸素及び吸着
酸素が反応し、原子状酸素となって光触媒粒子内に拡散
し、活性化されてフロンより電子を引きぬいて分解され
る。
以下、実施例を上げて本発明の内容をより具体的に説明
する。
する。
〈実施例1〉
本実施例では1%のフロンを含む空気を光触媒上で分解
した例を示す。
した例を示す。
フロン含有ガスはフロン113を1%含む空気に水蒸気
を1%加え、白金を1重量%をチタニア担体に担持した
触媒を充てんした反応器に通した。
を1%加え、白金を1重量%をチタニア担体に担持した
触媒を充てんした反応器に通した。
出口ガス中のフロン濃度は120ppmであり、98.
8%の分解率が得られた。
8%の分解率が得られた。
〈実施例2〉
フロン含有ガスはフロン113を1%含む空気に水蒸気
を1%加え、パラジウムを1重量%をチタニア担体に担
持した触媒を充てんした反応器に通した出口ガス中のフ
ロン濃度は150ppmであり、98.5%の分解率が
得られた。
を1%加え、パラジウムを1重量%をチタニア担体に担
持した触媒を充てんした反応器に通した出口ガス中のフ
ロン濃度は150ppmであり、98.5%の分解率が
得られた。
〈実施例3〉
フロン含有ガスとしてフロン113を1%を含む空気に
水蒸気1%を加え、白金を1重量%、酸化コバルトを1
0重景%をチタニア担体に担持した触媒を充てんした反
応器に通した。出口ガス中のフロン濃度は1100pp
であり、99%の分解率が得られた。
水蒸気1%を加え、白金を1重量%、酸化コバルトを1
0重景%をチタニア担体に担持した触媒を充てんした反
応器に通した。出口ガス中のフロン濃度は1100pp
であり、99%の分解率が得られた。
〈実施例4〉
フロン含有ガスとしてフロン113を1%を含む空気に
水蒸気を1%を加え、白金を1重量%。
水蒸気を1%を加え、白金を1重量%。
酸化ニッケルを10重量%をチタニア担体に担持した触
媒を充てんした反応器に通した。出口ガス中のフロン濃
度は1108ppであり、98.9%のフロン分解率が
得られた。
媒を充てんした反応器に通した。出口ガス中のフロン濃
度は1108ppであり、98.9%のフロン分解率が
得られた。
〈実施例5〉
フロン含有ガスとしてフロン113を1%を含む空気に
水蒸気を1%を加え、白金を1重量%。
水蒸気を1%を加え、白金を1重量%。
酸化マンガンを10重量%をチタニア担体に担持した触
媒を充てんした反応器に通した。出口ガス中のフロン濃
度は115ppmであり、98.9%のフロン分解率が
得られた。
媒を充てんした反応器に通した。出口ガス中のフロン濃
度は115ppmであり、98.9%のフロン分解率が
得られた。
〈実施例6〉
フロン含有ガスとしてフロン113を1%を含む空気に
水蒸気を1%を加え、パラジウムを1%。
水蒸気を1%を加え、パラジウムを1%。
酸化コバルトを10重量%をチタニア担体に担持した触
媒を充てんした反応器に通した。出口ガス中のフロン濃
度は123ppmであり、98.8%のフロン分解率が
得られた。
媒を充てんした反応器に通した。出口ガス中のフロン濃
度は123ppmであり、98.8%のフロン分解率が
得られた。
〈実施例7〉
フロン含有ガスとしてフロン113を1%を含む空気に
水蒸気を1%を加え、パラジウムを1重量%、酸化ニッ
ケルを10重量%をチタニア担体に担持した触媒を充て
んした反応器に通した。出口ガス中のフロン濃度は12
8ppmであり、98.7%のフロン分解率が得られた
。
水蒸気を1%を加え、パラジウムを1重量%、酸化ニッ
ケルを10重量%をチタニア担体に担持した触媒を充て
んした反応器に通した。出口ガス中のフロン濃度は12
8ppmであり、98.7%のフロン分解率が得られた
。
〈比較例1〉
本比較例ではチタニア担体に、コバルト、ニッケル、マ
ンガンの酸化物をそれぞれ10重量%担持した触媒を調
製し、実施例1と同様の試験をし、その結果、フロン分
解率は50%であることがわかった。
ンガンの酸化物をそれぞれ10重量%担持した触媒を調
製し、実施例1と同様の試験をし、その結果、フロン分
解率は50%であることがわかった。
〈比較例2〉
本実施例では本発明の方法に従って、フロン含有ガスを
処理した例を示す。
処理した例を示す。
フロン含有ガスとして、フロン113を500ppm含
む空気を、白金を1重量%をチタニア担体に担持した触
媒Logを、紫外線が照射されている反応器に5V20
0h−”で通した。出口ガス中のフロン濃度は10pp
mであり、98%の分解率が得られた。フロンの分解生
成物は炭酸ガス、フッ化水素、塩化水素等があったので
20%消石灰水溶液の吸収塔に通し、吸収中和した。吸
水浴比口のフン化水素、塩化水素は1 ppm以下であ
り、高吸収率が得られた。
む空気を、白金を1重量%をチタニア担体に担持した触
媒Logを、紫外線が照射されている反応器に5V20
0h−”で通した。出口ガス中のフロン濃度は10pp
mであり、98%の分解率が得られた。フロンの分解生
成物は炭酸ガス、フッ化水素、塩化水素等があったので
20%消石灰水溶液の吸収塔に通し、吸収中和した。吸
水浴比口のフン化水素、塩化水素は1 ppm以下であ
り、高吸収率が得られた。
〈実施例9〉
フロン含有ガスとして、フロン113を500ppm含
む空気を、白金を1重量%、コバルト酸化物を10重量
%をチタニア担体に担持した触媒Logを、紫外線が照
射されている反応器に5V2000h−1で通した。出
口ガス中のフロン濃度は7 、8 ppn+であり、9
8.4%の分解率が得られた。フロンの分解生成物は炭
酸ガス、フッ化水素。
む空気を、白金を1重量%、コバルト酸化物を10重量
%をチタニア担体に担持した触媒Logを、紫外線が照
射されている反応器に5V2000h−1で通した。出
口ガス中のフロン濃度は7 、8 ppn+であり、9
8.4%の分解率が得られた。フロンの分解生成物は炭
酸ガス、フッ化水素。
塩化水素等があったので、20%消石灰水溶液の吸収塔
に通して中和した。吸収塔出口のフッ化水素、塩化水素
は1 ppm以下であり、高吸収率が得られた。
に通して中和した。吸収塔出口のフッ化水素、塩化水素
は1 ppm以下であり、高吸収率が得られた。
本発明の方法によれば、きわめて簡単な方法でありなが
ら、フロン系冷媒含有ガスを処理し無害化できる。さら
に本発明の光触媒はフロン用として優れたものであり、
フロン排出による大気のオゾン層の破壊を防ぐのに役立
つ。
ら、フロン系冷媒含有ガスを処理し無害化できる。さら
に本発明の光触媒はフロン用として優れたものであり、
フロン排出による大気のオゾン層の破壊を防ぐのに役立
つ。
第1図は本発明のフロン含有ガスの処理システムのブロ
ック図である。 1・・・フロン含有ガス、2・・・光触媒反応器、3・
・吸収塔、4・・・脱フロンガス。
ック図である。 1・・・フロン含有ガス、2・・・光触媒反応器、3・
・吸収塔、4・・・脱フロンガス。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、フロン系冷媒及び空気、オゾン、水蒸気を少なくと
も一種以上を含むガスをチタニアを担体とし、活性成分
として貴金属をチタニア担体に対し0.1〜10重量%
を含有する光触媒と接触させることを特徴とするフロン
系冷媒の分解方法。 2、フロン系冷媒及び空気、オゾン、水蒸気を少なくと
も一種以上を含むガスをチタニアを担体とし活性成分と
して、貴金属をチタニア担体に対し、0.1〜10重量
%を含みそれにコバルト、ニッケル、鉄、マンガン、銅
、銀、バナジウム、クロム、モリブデンの中から選ばれ
た少なくとも一種の酸化物を含有させることを特徴とす
るフロン冷媒の分解方法。 3、請求項1において、前記チタニアを担体とし、活性
成分として貴金属をチタニア担体に対し0.1〜10重
量%を含有する光触媒から成る分解工程に接触させ、フ
ロン系冷媒の分解生成物を還元剤を有する液及び/又は
アルカリを含有する液中を通過させて処理する工程を備
えたフロン系冷媒の分解方法。 4、請求項2において、前記光触媒がチタニアを担体と
して活性成分として、貴金属をチタニアに対し、0.1
〜10重量%含み、それにコバルト、ニッケル、鉄、マ
ンガン、銅、銀、バナジウム、クロム、モリブデンの中
から選ばれた少なくとも一種の酸化物を含有する光触媒
から成る分解工程に接触させ、フロン系冷媒の分解生成
物を還元剤を含有する液及び/又はアルカリを含有する
液中を通過させて処理する処理工程を備えたフロン系冷
媒の分解方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2197940A JPH0483515A (ja) | 1990-07-27 | 1990-07-27 | フロン系冷媒の分解方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2197940A JPH0483515A (ja) | 1990-07-27 | 1990-07-27 | フロン系冷媒の分解方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0483515A true JPH0483515A (ja) | 1992-03-17 |
Family
ID=16382827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2197940A Pending JPH0483515A (ja) | 1990-07-27 | 1990-07-27 | フロン系冷媒の分解方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0483515A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0792687A4 (en) * | 1994-11-16 | 1998-05-06 | Toto Ltd | PHOTOCATALYTIC FUNCTIONAL MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME |
JPH10296082A (ja) * | 1997-04-25 | 1998-11-10 | Aqueous Res:Kk | 有機物質分解触媒および空気浄化装置 |
US6596915B1 (en) * | 1999-09-22 | 2003-07-22 | Carrier Corporation | Catalysts for destruction of organophosphonate compounds |
CN111545060A (zh) * | 2020-05-18 | 2020-08-18 | 武汉创海森环保科技有限公司 | 一种利用羟基去除室内装修污染的喷涂施工方法及设备 |
-
1990
- 1990-07-27 JP JP2197940A patent/JPH0483515A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0792687A4 (en) * | 1994-11-16 | 1998-05-06 | Toto Ltd | PHOTOCATALYTIC FUNCTIONAL MATERIAL AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME |
JPH10296082A (ja) * | 1997-04-25 | 1998-11-10 | Aqueous Res:Kk | 有機物質分解触媒および空気浄化装置 |
US6596915B1 (en) * | 1999-09-22 | 2003-07-22 | Carrier Corporation | Catalysts for destruction of organophosphonate compounds |
CN111545060A (zh) * | 2020-05-18 | 2020-08-18 | 武汉创海森环保科技有限公司 | 一种利用羟基去除室内装修污染的喷涂施工方法及设备 |
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