JPH0480901B2 - - Google Patents
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- C07C303/22—Preparation of esters or amides of sulfuric acids; Preparation of sulfonic acids or of their esters, halides, anhydrides or amides of sulfonic acids or halides thereof from sulfonic acids, by reactions not involving the formation of sulfo or halosulfonyl groups; from sulfonic halides by reactions not involving the formation of halosulfonyl groups
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、塩不含のN−アセチルアミノアリー
ルスルホン酸の製造法に関する。 N−アセチルアミノスルホン酸、特にベンゼン
及びナフタリンのそれの塩は、一部その対応する
遊離の酸たとえばN−アセチルスルフアニル酸
(p−アセトアミノベンゼンスルホン酸、p−ア
セトアニリンスルホン酸)及びN−アセチルナフ
チオン酸(4−アセトアミノナフタリンスルホン
酸−1)と共に、古くから知られている。 N−アセチルアミノアリールスルホン酸の製造
のために、一つはN−アセチルアミノアレーンへ
のスルホン酸基の導入と、他方ではアミノアリー
ルスルホン酸のアミノ基へのアセチル化とは原則
として区別しうる。 製造方法の前者の群から下記の事が言える:発
煙硫酸へのアセトアニリドの導入及び生じた溶液
の数時間の加熱;N−アセチルアミノベンゼンス
ルホン酸の単離は不可能であつた(Ber.18
(1885)296参照)。これに対し、発煙硫酸を用い
てp−アセトアニリンスルホン及び、p−トルイ
ジンの及び1,4,2−及び1,3,4−キシリ
ジンのN−アセチル化スルホン酸を結晶形態で得
ることができた(Ber.33(1900)1364/6)。ま
たN−アセチルスルフアニル酸は、アセトアニリ
ドから“アセチル硫酸”(濃硫酸と無水酢酸から
の)を用いて得られる(Ber.42(1909)4539)。
動力学的研究に基づいて、70%の含水硫酸より大
なるの濃度においてスルホン化がN−アセチル基
の加水分解に勝ることが確認された(Chem.&
Ind.36(1970)1172,Tetrahedron Letters
1971,2161/2)。最後に、スルホン酸基の導入
のためにアセトアニリドの核ハロゲン置換生成物
が酸性又は中性亜硫酸塩と反応させられてN−ア
セチルアミノベンゼンスルホン酸又はその塩を形
成する(西独国特許明細書第101777号、Friedl.
5754/6)。 これらの方法の総てが、工業規模でのN−アセ
チルアミノアリールスルホン酸の製造のために適
していない。 上述の製造法の後者の群からは下記の事が云え
る: たとえば水性溶液中のスルフアニル酸ナトリウ
ムのケテンとの反応(西独国特許明細書第453577
号、Friedl.16237/9)。ケテンの毒性及び取扱
いのむずかしさの故に、この方法は工業的規模で
の実施にあまり適しない。 ベンゼン及びナフタリンのアミノスルホン酸の
乾いた粉末状のNa−,K−,Ba塩と無水酢酸と
の反応(Ber.17(1884)707/8,21(1888)
2579/82,39(1906)1559/70,58(1925)
2287,J.Prakt.Chem.(2)63(1901)406/9)、又
はNa塩と氷酢酸との反応(西独国特許明細書第
92796,Friedl.41152)。 水性溶液又は懸濁物中のベンゼン及びナフタリ
ン系列のアミノスルホン酸の塩と無水酢酸との反
応(西独国特許明細書第129000,Friedl.6215/
7,Ber.46(1913)777,Bull.Soc.Chim.France
(5)21(1954)97/8、又は酢酸及び無水酢酸との
反応(西独国特許明細書第410364,Friedl,15
133,Ber.33(1900)417,J.Org.Chem 6,25
(1941))。 ピリジン中のベンゼン及びナフタリンのアミノ
スルホン酸と無水酢酸との、場合により氷酢酸の
添加下での反応(J.Soc.Chem.Ind.46(1927)
224T/226T,47(1928)155T〜157T,J.Soc.
Dyers Colourists59(1943)144/8,Synthesis
12,1974,877/8)。 上述の方法においてアセチル化は強い発熱反応
でN−アセチルアミノアリールスルホン酸の塩
(金属又はピリジニウム塩)をもたらすが、遊離
のアミノアリールスルホン酸のアセチル化は、例
外的場合、たとえばo−トルイジンスルホン酸の
場合、にのみうまく行く(Ber.17(1884)707/
8)。o−,m−及びp−アミノベンゼンスルホ
ン酸は、100〜140℃に10時間加熱しても無水酢酸
と反応しない(Bull.Soc.Chim.France(5)21
(1954)98)。 N−アセチルスルフアニル酸のNa塩を作る好
ましい工業的方法は従来、水性溶液中のスルフア
ニル酸ナトリウム(スルフアニル酸と炭酸ナトリ
ウムからの)と無水酢酸との反応であつた
(Ullmanns Encyclopa¨die der Technischen
Chemie、第4版、第8巻、426ページ、BIOS
Final Rept.No.1149、125/6ページによる)。 遊離のN−アセチルアミノアリールスルホン酸
は、その塩の水性溶液から強酸である鉱酸での処
理によつて得られる(西独国特許出願J4736,
Friedl.5756,Ber.39(1906)1559/70)。その
際、著しい量の鉱酸の塩を含む酸が生じ、これは
なる程度の再生を不可能にはしないが、これに関
係するコストを著しく高くする。 コスト及び環境問題の理由から、遊離の形のア
ミノアリールスルホン酸をアセチル化できる方法
に対する差し迫つた必要性が存在している。 本発明者は、アミノアリールスルホン酸が溶媒
としての硫酸中で無水酢酸又は塩化アセチルによ
つてアセチル化されてN−アセチルアミノアリー
ルスルホン酸を生じうることを見い出した。 本発明者は、無水酢酸又は塩化アセチルでのア
ミノアリールスルホン酸のアセチル化によつてN
−アセチルアミノアリールスルホン酸を作る方法
において、アセチル化を溶媒としての硫酸中で行
うことを特徴とする方法を見い出した。 無水酢酸の場合、酢酸が形成され、これは反応
混合物中に残り、塩化アセチルの場合には気体状
のHClが逃げる。 硫酸は好ましくは、少量の水及び/又はジメチ
ルホルムアミド及び/又はN−メチルピロリドン
を含むのがよい。有利には、各々硫酸に対して2
重量%まで、特に1重量%までの水、又は3重量
%まで、特に2.5重量%までのジメチルホルムア
ミド又はN−メチルピロリドンが用いられる。 反応混合物を良好に攪拌できるように保つため
に、硫酸のみが最初に導入される場合に、好まし
くは1モルのアミノアリールスルホン酸当り約4
〜5モルの最少量の硫酸が用いられる。もし硫酸
と共にアセチル化剤つまり無水酢酸又は塩化アセ
チルも最初に導入されるのなら、最少硫酸量は1
モルのアミノアリールスルホン酸当り約2〜3モ
ルに減少する。 アセチル化剤は有利には、アミノアリールスル
ホン酸1モル当り約1.25〜約2モルの量で用い
る。 有利には硫酸又は硫酸とアセチル化剤を最初に
導入し、そして室温(約25℃)で水不含かつ塩不
含の粉末状のアミノアリールスルホン酸及びアセ
チル化剤を又はアミノアリールスルホン酸のみを
加える。場合により、この導入の間に反応混合物
の攪拌可能性の改善のために温度を少し高めるこ
とが必要である。導入が終つた後に温度を、アセ
チル化されるべきアミノアリールスルホン酸に従
つて約60ないし約90℃に上げる。 アセチル化の進行は有利には、なお残つている
アセチル化されていないアミノスルホン酸の薄膜
クロマトグラフによつて追跡される。必要な場合
には、不足しているアセチル化剤を供給バルブを
通して追加できる。 一般に、良好に攪拌できる中程度の粘度のN−
アセチルアミノアリールスルホン酸の溶液又は懸
濁物が得られ、これは対応するスルホン酸クロラ
イドへの転化のために直接使用でき、あるいはN
−アセチルアミノアリールスルホン酸の単離のた
めにまだ熱いまま攪拌しながら用意した水中に注
ぐことができる。 その際、N−アセチルアミノアリールスルホン
酸の水和物が晶出する。良好な過可能性を得る
ために、有利には約30〜約40℃の温度に維持す
る。用意する水の量は有利には、少くとも約30%
の硫酸及び少くとも約20%の酢酸を含む液酸が
得られるように決められる。 別したN−アセチルアミノアリールスルホン
酸は有利には、約20〜30%塩酸の形の約3〜約6
モルのHClで硫酸がなくなるまで洗う。有利には
滓を塩酸の一部中に混合攪拌し、過し、そし
て残りの塩酸で洗う。しかし生成物をフイルター
の上に残して、塩酸の全量で洗うこともできる。 洗つた際に、なお数パーセントの硫酸及びまた
酢酸を含む塩酸が得られる。 N−アセチルアミノアリールスルホン酸の良好
な水溶性の故に、水による最後の洗いは、多かれ
少なかれかなりの物質の損失を伴う。しかし上述
した塩酸による洗いは、損失を著しく少くする。
硫酸不含の、塩酸を含む湿つた生成物としてN−
アセチルアミノアリールスルホン酸が得られ、こ
れは有利には耐腐蝕性の乾燥機たとえばホウロウ
びきの二重円錐形乾燥機で120℃までの温度で、
好ましくは減圧下でHCl及び水を除去されうる。
乾燥した生成物は、高々こん跡程度のアミノアリ
ールスルホン酸及び少量の水を含む。そのように
乾燥した生成物は場合により粉砕される。そして
それは、容易に配量できる。 収率は理論値の90〜95%である。 湿つた生成物はまた、ホウロウびきした攪拌槽
内で有機物質たとえば高沸点の石油留分(特に
110〜140℃の沸点のもの)と共に加熱及びその共
沸成分の留去によつて水を除きうる。 硫酸の洗い落しは出来るだけ完全に行われなけ
ればならず、それによつて高い乾燥温度におい
て、得られたN−アセチルアミノアリールスルホ
ン酸のスルホン化が起きなくなる。 液酸(酢酸を含む硫酸、及び少量の硫酸と酢
酸を含む塩酸)は、公知法で揮発成分(HCl及び
酢酸)を除かれ、濃縮される。この再生は困難で
ない。何故なら妨害する塩が含まれていないから
である。またそれは、下水に流されるにちがいな
い残渣を残さない。 本発明の方法によつて、アミノアリールスルホ
ン酸、好ましくはベンゼン及びナフタリンのそれ
(これらは核置換、好ましくはアルキル置換、特
に好ましくはメチル化されていることも出来
る。)、特にo−,m−及びp−アミノベンゼンス
ルホン酸及びアミノナフタリンスルホン酸−1,
4,−2,6及び−2,8は、そのN−アセチル
誘導体へとアセチル化される。 得られたN−アセチルアミノアリールスルホン
酸は、上述したように、アセチル化反応後に得ら
れた溶液又は懸濁物の形で、又は単離し乾燥した
物質として、対応するスルホニルクロライドの製
造のために用いられ得る。 従来技術に従うN−アセチルアミノアリールス
ルホニルクロライドの製造を以下に挙げる: アセトアニリド及びクロルスルホン酸又は発煙
硫酸及びクロルスルホン酸から(その際さらに他
の酸クロライド特性の塩素化剤たとえば三塩化リ
ン及び五塩化リンならびに好ましくは塩化チオニ
ルが用いられる。)(西独国特許明細書第752572
号、Ber.39(1906)1559/70,46(1913)777,
Zh.Prikl.Khin.11(1938)316/27,C.Z.1939 I
4934/6)。 N−アセチルアミノアリールスルホン酸の金属
塩とクロルスルホン酸との反応(Zh.Prikl.Khim.
34(1961)1625/7,J.Appl.Chem.U.S.S.R.(英
文版)34(1961)1549/51、西独特許明細書第
532399号、Friedl,18601/4、東独国特許明細
書第30312号、Organic Syntheses collective
Vol.I,ページ8/10、ニユーヨーク−ロンドン、
第2版)又はピリジニウム塩とクロルスルホン酸
との反応(Synthesis 1974、ページ877/8)又
は五塩化リンとの反応(Ann.380(1911)309)。 アセトアミノ芳香族化合物のスルホクロル化は
少量のアセトアミノアリールスルホニルクロライ
ドの代表物を与え、これは不満足な収率であり、
一方N−アセチルアミノアリールスルホン酸の塩
を経由する製造は遊離のN−アセチルアミノアリ
ールスルホン酸の製造について記述したのと同じ
欠点を伴う:含まれる金属イオンによりその再生
が強く妨害される液酸の多量の生成。 本発明に従い得られた塩不含のN−アセチルア
ミノアリールスルホン酸の使用は、塩を含まない
その塩化物の製造可能性をもたらす。 アセチル化反応後に得られた溶液又は懸濁物を
使用する場合には、好ましい塩素化剤としての塩
化チオニルの過剰量が必要であり、これはN−ア
セチルアミノアリールスルホン酸がどれだけの硫
酸中に溶解されているかに依存する。硫酸は塩化
チオニルと反応してクロルスルホン酸を生じる。
同時にN−アセチルアミノアリールスルホン酸が
酸クロライドへと塩素化される。場合により、塩
化チオニルの添加の前にクロルスルホン酸を、N
−アセチルアミノアリールスルホン酸の硫酸中溶
液に加えることができる。 単離し乾燥したN−アセチルアミノアリールス
ルホン酸を用いるなら、これを有利にはクロルス
ルホン酸に溶解し、そして塩化チオニルによつて
酸クロライドへと塩素化する。 この二つの場合において塩素化剤としての塩化
チオニルのこの好ましい使用の際にSO2とHClが
廃ガスとして生じ、これは公知法でガスの洗滌の
ための装置中で困難なく分離される。 二つの場合において、塩化チオニルとの反応は
有利には30〜70℃、好ましくは50〜60℃で行われ
る。塩化チオニルの添加の終了後に、同じ温度で
なお暫時攪拌する。 塩化チオニルとの反応は、少量のジメチルホル
ムアミドの添加によつて促進される(Helv.
Chim.Acta42(1959)1653〜1658)。 ガスの発生の終了後に、得られた反応混合物を
氷水に注ぐ。その際にN−アセチルアミノアリー
ルスルホン酸クロライドが析出する。析出した生
成物を吸引過し、氷水で洗い、そして湿つた形
態で更に用いるか又は有利には乾燥棚で薄い層に
して減圧下で約50℃までの温度で乾いた窒素流を
流しながら乾燥する。 N−アセチルアミノアリールスルホン酸の本発
明に従う製造の場合と同様に、その酸塩化物の製
造の際に液及び洗滌液が生じ、これは困難なく
再生又は後処理されうる。何故ならそれはこれら
のプロセスを妨害する塩を含まないからである。 明らかにアミノアリールスルホン酸の金属塩も
本発明方法によつてアセチル化されうるが、しか
し上述したようにN−アセチルアミノアリールス
ルホン酸は塩不含では得られず、そして含まれる
塩によつて再生可能性が著しく制限されるところ
の液及び洗滌液が生じる。 N−アセチルアミノアリールスルホン酸及びそ
の塩化物はアミノアリールスルホン酸の誘導体
(たとえばその酸塩化物及び酸アミド又はスルホ
ン)の製造の際の価値ある中間体である。すなわ
ち、個々の反応の前にアミノ基をアセチル基の導
入によつて保護することがしばしば必要である。
アセチル基は、適当な後程の段階で加水分解によ
つて再び脱離される。 実施例 以下の実施例において、特記なき限り部は常に
重量部を意味する。同様にパーセントは、特記な
き限り重量パーセントを意味する。 実施例 1 (a) m−アセトアミノベンゼンスルホン酸(N−
アセチルメタニル酸) 攪拌装置に備えられた三口ガラスフラスコ中で
攪拌下に、約20℃に調節された645部の無水酢酸
及び1005部の99.5%硫酸から成る混合物中に、1
時間かけてゆつくりと約20℃から約40℃へ温度を
上げながら866部の乾いたメタニル酸を加える。
アセチル化の完結のために約80℃に加熱し、そし
てこの温度で更に60部の無水酢酸の配量下に更に
攪拌する。次に反応混合物を、開放容器中に用意
した約35℃の水1000部中に加え攪拌する。その際
N−アセチルメタニル酸が水和物の形で晶出す
る。約15℃で更に攪拌し、吸引過する。約75%
純度の生成物(付着する水性硫酸及び酢酸を含
む。)1350部が得られ、これを開放ガラス容器中
に用意した約5℃の26%塩酸1355部中に加え攪拌
する。生じた白い懸濁物を吸引過し、そして31
%塩酸580部で洗う。 硫酸を含まず、約100部の塩化水素含量を持つ、
約73%純度のN−アセチルメタニル酸水和物1380
部が得られる。生成物を窒素流下で約200ミリバ
ールで約25℃から120℃にゆつくり温度を上げて
乾燥し、続いて粉砕する。 215〜220℃の融点を持つ、約99%純度の粉末と
してN−アセチルメタニル酸1020部が得られ、こ
れは理論値の95%の収率に相当する。 更に下記のものが得られる: 約430部の酢酸含量を持つ、塩及び塩酸を含ま
ず再生できる、約40%濃度の液硫酸2180部、 100部の硫酸及び35部の酢酸含量を持つ、約22
%の液塩酸1820部。 (b) N−アセチルメタニル酸クロライド 気密な攪拌装置、ガス導入及び排出管を備える
ガラスフラスコ中に233部のクロルスルホン酸を
入れ、攪拌下に1時間かけてゆつくり約25℃から
約55℃へ温度を上げながら配量スクリユーを用い
て、実施例1(a)に従い得たN−アセチルメタニル
酸215部を加える。その後、約55℃で4時間かけ
て238部の塩化チオニルを流入させる。ガス発生
(HCl,SO2:前者は通常の方法でまず水中に導
くことにより吸収され、続いて後者が苛性ソーダ
で吸収される。)の終了後に、反応混合物を、30
部の活性炭粉末を懸濁された1000部の氷水(800
部の水と200部の氷から成る。)に加え攪拌する。
析出した生成物を吸引過し、800部の氷水で洗
う。洗滌液は、次回のバツチで用いられる。 メタニル酸に対して理論値の83%の収率で、工
業用の湿つた生成物としてN−アセチルメタニル
酸クロライド210部を得る。 更に下記のものが得られる: 65部の塩化水素及び17部のメタニル酸含量を持
つ、塩を含まない、再生できる約15%の硫酸1130
部、 10部の塩化水素及び15部の硫酸を含む洗滌液
800部、 約20部のSO2含量を持つ約23%の(廃ガス洗滌
からの)塩酸300部、 ほとんど塩化物不含の、約25%の(廃ガス洗滌
からの)亜硫酸水素ナトリウム溶液200部。 実施例 2〜9 N−アセチルメタニル酸の中間単離なしでの
N−アセチルメタニル酸クロライド製造 実施例 2 実施例1(b)で用いたガラスフラスコに159部の
塩化アセチルを用意し、20℃で攪拌及び外部冷却
下に200部の水不含の硫酸を滴下する。その後、
約45℃で配量スクリユーを用いて173部の乾いた
メタニル酸を加え攪拌する。アセチル化の終了の
ために約95℃に加熱する。 冷却後に、中間単離することなくN−アセチル
メタニル酸の得られた溶液を約30℃で233部のク
ロルスルホン酸で希釈する。約55℃で約4時間か
けて攪拌下に417部の塩化チオニルを流入させる。
ガス発生(SO2,HCl:その吸収は実施例1(b)に
記載したように常法で行われる。)の終了後に反
応混合物を、30部の活性炭粉末を懸濁した1500部
の氷水(各750部の水と氷)中に加え攪拌する。
析出した生成物を吸引過し、1500部の氷水で洗
う。洗滌液は次回のために用いうる。 メタニル酸に関して理論値の90%の収率で、工
業用の湿つた生成物として210部のN−アセチル
メタニル酸クロライドを得る。 更に下記のものを得る: 127部の塩化水素、30部の酢酸及び17部のメタ
ニル酸含量を持つ、塩を含まない、再生できる約
19%の液硫酸1763部、 15部の塩化水素及び40部の硫酸含量を持つた洗
滌液1546部、 60部のSO2及び30部の酢酸含量を持つ、約27%
の(廃ガス洗滌からの)塩酸771部、 約21%のほぼ塩化物不含の(廃ガス洗滌から
の)亜硫酸水素ナトリウム溶液1008部。 実施例 3 実施例1(b)で用いたガラスフラスコ中で攪拌下
に約20℃に調節した645部の無水酢酸及び1000部
の水不含の硫酸より成る混合物に、1時間かけて
ゆつくりと約20℃から約40℃に温度を上げなが
ら、865部の乾いたメタニル酸を配量スクリユー
で加える。アセチル化の完了のために約85℃に加
熱し、この温度で更に60部の無水酢酸の配量下に
さらに攪拌する。 約50℃への冷却後に、中間単離することなく得
たN−アセチルメタニル酸溶液を583部のクロル
スルホン酸で希釈する。約55℃で約8時間かけて
攪拌下に2678部の塩化チオニルを加える。次に約
55℃で更に2時間攪拌する。ガス発生(SO2,
HCl;これの吸収は実施例1(b)と同様に常法で行
われる。)の終了後に、反応混合物は乾いた窒素
流中で残留ガスを除き、その後5500部に氷水(各
2750部の水と氷)中に入れ攪拌する。析出した生
成物を吸引過し、5500部の氷水で洗う。洗滌
液は次のバツチで用いられる。 メタニル酸に対して80%の収率で、工業用の湿
つた生成物としてN−アセチルメタニル酸クロラ
イド935部を得る。 析出の開始時に生じるゴム状の粘着性の状態
は、析出の前に5500部の氷水に150部の活性炭粉
末又は先行のバツチからの生成物100部を懸濁す
ることによつて避けられうる。 更に下記のものが得られる: 430部の塩化水素、430部の酢酸及び170部のメ
タニル酸含量を持つ、塩不含の、再生できる約19
%の液硫酸6700部、 80部の塩化水素及び210部の硫酸含量を持つ洗
滌液5000部、 205部のSO2及び140部の酢酸含量を持つ、約25
%の(廃ガス洗滌からの)塩酸4700部、 少しの酢酸含量(10部未満)を持つ約22%の、
殆んど塩化物不含の(塩化ナトリウム含量1%未
満)亜硫酸水素ナトリウム溶液(廃ガス洗滌から
の)8200部。 実施例 4 2975部の塩化チオニルを10時間かけて加える他
は、実施例3と同様に行う。 935部のN−アセチルメタニル酸クロライドが
得られ、これは同じ80%の収率に相当する。 実施例 5 塩化チオニルの添加の直前に25部のジメチルホ
ルムアミドを反応混合物に入れる他は、実施例3
と同様に行う。 970部のN−アセチルメタニル酸クロライドが
得られ、これは83%の収率に相当する。廃ガス洗
滌からの塩酸中に240部の酢酸が存在する。 実施例 6 645部の無水酢酸及び1000部の水不含の硫酸よ
り成る混合物に25部のジメチルホルムアミドが加
えられる他は、実施例4と同様に行う。 1040部のN−アセチルメタニル酸クロライドが
得られ、これは89%の収率に相当する。 実施例 7 1000部の水不含の硫酸に5部の水を加える他
は、実施例4と同様に行う。 1017部のN−アセチルメタニル酸クロライドが
得られ、これは87%の収率に相当する。 実施例 8 10部の水を加える他は、実施例7と同様に行
う。 やはり1017部のN−アセチルメタニル酸クロラ
イドを得る。 実施例 9 実施例7及び5におけると同様に行う。1040部
のN−アセチルメタニル酸クロライドが得られ、
これは89%の収率に相当する。 実施例 10 (a) p−アセトアミノベンゼンスルホン酸(N−
アセチルスルフアニル酸) 実施例1(a)で用いたガラスフラスコ中に、205
部の無水酢酸、5部のジメチルホルムアミド及び
300部の水不含の硫酸から成り、約15℃に調節さ
れた混合物を用意する。 ゆつくりと約15℃から約30℃に温度を上げなが
ら、攪拌下に約1時間かけて173部の乾いたスル
フアニル酸を加える。アセチル化の完了のために
約65℃に加熱し、この温度で更に攪拌を続ける。
次に反応混合物を約35℃の300部の水に加え攪拌
し、その際N−アセチルスルフアニル酸が水和物
の形で晶出する。結晶化を、さらに約15℃で攪拌
して完結させる。吸引過後に293部の約60%純
度の生成物が得られ、これを5℃の26%塩酸500
部に加え攪拌する。生じた白い懸濁物を吸引過
し、250部の26%冷塩酸で洗う。 硫酸不含の、塩酸を含むN−アセチルスルフア
ニル酸水和物304部が得られる。生成物を約25℃
から約90℃にゆつくり温度を上げながら窒素流下
で約200ミリバールで乾燥棚で乾燥する。 243〜246℃の融点を持つ99%純度の粉末として
N−アセチルスルフアニル酸193部を得る。これ
は90%の収率に相当する。 更に下記のものが得られる: 144部の酢酸含量を持つ、塩及び塩酸不含の、
再生できる約35%の液硫酸733部、 25部の硫酸及び10部の酢酸含量を持つ、約21%
液塩酸712部。 (b) p−アセトアミノベンゼンスルホニルクロラ
イド(N−アセチルスルフアニル酸クロライ
ド) 実施例1(b)で用いたガラスフラスコに117部の
クロルスルホン酸を入れ、攪拌下にゆつくりと約
25℃から45℃に温度を上げながら1時間かけて、
実施例10(a)で得たN−アセチルスルフアニル酸
114部を加える。完全に溶解した後に250部のジメ
チルホルムアミドを加える。次に約50〜55℃で4
時間かけて119部の塩化チオニルを流入させる。
50〜55℃で更に2時間攪拌する。ガス発生
(HCl,SO2:その吸収は実施例1(b)と同様に常
法で行う。)の終了後に、反応混合物を乾いた窒
素流中で残留ガスを除き、そして500部の氷水
(各250部の水と氷)に加えて攪拌する。生じた生
成物を吸引過し、500部の氷水で洗う。スルフ
アニル酸に対して86%の収率で、工業用の湿つた
生成物として119部のp−アセトアミノベンゼン
スルホニルクロライドが得られる。 さらに下記のものが得られる: 43部の塩化水素含量を持つ、塩不含の、再生で
きる約22%硫酸640部、 6部の塩化水素及び13部の硫酸含量を持つ洗滌
液480部、 13部のSO2含量を持つ約20%の(廃ガス洗滌か
らの)塩酸140部、 約20%の(廃ガス洗滌からの)亜硫酸水素ナト
リウム95部。 実施例 11 o−アセトアミノベンゼンスルホン酸(N−
アセチルオルタニル酸) 173部のスルフアニル酸の代りに同量の乾いた
オルタニル酸を用いる他は、実施例10(a)と同様に
行う。 228〜230℃の融点を持つ97%純度の粉末として
N−アセチルオルタニル酸133部が得られる。収
率は62%である。 さらに下記のものが得られる: 155部の酢酸含量を持つ、塩及び塩酸不含の、
再生できる約36%液硫酸723部、 36部の硫酸及び48部の酢酸含量を持つ約22%
液塩酸793部。 実施例 12 (a) 2−アセトアミノナフタリン−8−スルホン
酸 実施例1(a)で用いたガラスフラスコに、1025部
の無水酢酸及び1500部の水不含の硫酸より成る、
約15℃に調節した混合物を入れる。ゆつくりと約
20℃から約45℃へ温度を上げながら攪拌下に約1
時間かけて1117部の乾いた2−アミノナフタリン
−8−スルホン酸を加える。アセチル化の完了の
ために約80℃に加熱し、この温度で更に攪拌す
る。次に反応混合物を、約35℃の水2500部に加え
攪拌する。その際2−アセトアミノナフタリン−
8−スルホン酸が晶出する。結晶化を約15℃でさ
らに攪拌することによつて完全にする。吸引過
後に、約70%純度の生成物1800部が得られる。こ
れを、1750部の31%塩酸及び300部の氷から成る
混合物に加え攪拌する。生じた明灰色の懸濁物を
約5℃で吸引過し、580部の31%塩酸で洗う。 硫酸不含の、塩酸を含む、75%純度の2−アセ
トアミノナフタリン−8−スルホン酸水和物1670
部が得られる。生成物を、乾燥棚で約25℃から約
120℃へとゆつくり温度を上げながら窒素流下で
約200ミリバールで乾燥する。 97%純度の粉末として2−アセトアミノナフタ
リン−8−スルホン酸1260部が得られる。これは
2−アミノナフタリン−8−スルホン酸に関して
95%の収率に相当する。 更に次のものが得られる: 780部の酢酸含量を持つ、塩及び塩酸不含の、
再生できる、約30%液硫酸3800部、 185部の硫酸含量を持つ約22%液塩酸2250部。 (b) 2−アセトアミノナフタリン−8−スルホン
酸クロライド 実施例1(b)で用いたガラスフラスコに466部の
クロルスルホン酸を入れ、攪拌下に、実施例12(a)
で得た2−アセトアミノナフタリン−8−スルホ
ン酸265部を2時間かけてゆつくりと約25℃から
約50℃へ温度を上げながら加える。ガス発生の終
了後に、約45〜50℃で5時間かけて238部の塩化
チオニルを流入させる。ガス発生(SO2,HCl;
その吸収は実施例1(b)と同様に常法で行われる。)
の終了後に、反応混合物を、30部の活性炭粉末を
懸濁した2000部の氷水(各1000部の水と氷)中に
加えて攪拌する。析出した生成物を吸引過し、
1200部の氷水で洗う。洗滌液は次回のバツチで
用いうる。 2−アミノナフタリン−8−スルホン酸に対し
て95%の収率で、工業用の湿つた生成物として2
−アセトアミノナフタリン−8−スルホン酸クロ
ライド283部を得る。 さらに下記のものが得られる: 75部の塩化水素含量を持つ、塩不含の、再生で
きる約14%硫酸1660部、 40部の塩化水素及び110部の硫酸含量を持つ洗
滌液1150部、 10部のSO2含量を持つ約30%の(廃ガス洗滌か
らの)塩酸300部、 ほとんど塩化物不含の約24%の(廃ガス洗滌か
らの)亜硫酸水素ナトリウム溶液375部。 実施例 13 実施例1(b)で用いたガラスフラスコ中で攪拌下
に、205部の無水酢酸、5部のジメチルホルムア
ミド及び300部の水不含の硫酸から成る15℃に調
節した混合物に、1時間かけてゆつくりと温度を
約20℃から約40℃に上昇させながら223部の乾い
た2−アミノナフタリン−8−スルホン酸を加え
る。アセチル化の完了のために約80℃に加熱し、
この温度で3時間攪拌する。 約50℃への冷却後に、中間単離することなく、
得た2−アセトアミノナフタリン−8−スルホン
酸の溶液を233部のクロルスルホン酸で希釈し、
約50℃でガス発生が終るまで攪拌する。約50℃で
約8時間かけて攪拌下に833部の塩化チオニルを
滴下する。次に約50℃でさらに2時間攪拌する。
ガス発生(SO2,HCl;その吸収は実施例1(b)と
同様に常法で行う。)の終了後に、反応混合物は
乾いた窒素流で残留ガスを除き、次に、30部の活
性炭粉末を懸濁させた2000部の氷水(各1000部の
水と氷)に加えて攪拌する。析出した生成物を吸
引過し、2000部の氷水で洗う。 2−アミノナフタリン−8−スルホン酸に対し
て90%の収率で、工業用の湿つた生成物として2
−アセトアミノナフタリン−8−スルホン酸クロ
ライド255部が得られる。 さらに下記のものが得られる: 145部の塩化水素及び約145部の酢酸含量を持
つ、塩不含の、再生できる約15%液硫酸2000
部、 61部の塩化水素及び170部の硫酸含量を持つ洗
滌液2260部、 33部のSO2及び5部の酢酸含量を持つ約35%の
(廃ガス洗滌からの)塩酸890部、 4部の酢酸含量を持つ、ほとんど塩化物不含の
(塩化ナトリウム含量3%未満)約11%亜硫酸水
素ナトリウム溶液(廃ガス洗滌からの)5100部。 実施例 14 (a) 2−アセトアミノナフタリン−6−スルホン
酸 実施例1(a)で用いたガラスフラスコに、1025部
の無水酢酸及び1515部の99.0%硫酸から成り、約
15℃に調節した混合物を入れる。攪拌下に1117部
の乾いた2−アミノナフタリン−6−スルホン酸
を約2時間かけて、ゆつくりと約20℃から約75℃
へ温度を上昇させながら加える。次に約85℃でさ
らに攪拌する。2−アミノナフタリン−6−スル
ホン酸の添加から3時間後に、更に255部の無水
酢酸を加える。アセチル化の終了のために更に2
時間約85℃で攪拌する。次に反応混合物を約35℃
の3000部の水に加え攪拌すると、2−アセトアミ
ノナフタリン−6−スルホン酸が晶出する。結晶
化を、約25℃でさらに攪拌して完結させる。吸引
過後に、約35%純度の生成物3000部が得られ
る。これを、3500部の31%塩酸及び1000部の氷か
ら成る混合物に加え攪拌する。生じた明灰色の懸
濁物を約25℃で吸引過し、20%塩酸2750部で洗
う。 硫酸不含の、塩酸を含む、40%純度の2−アセ
トアミノナフタリン−6−スルホン酸水和物約
2600部を得る。生成物を、乾燥棚で約25℃から約
90℃にゆつくり温度を上げながら窒素流中で約
200ミリバールで乾燥する。 約95%純度の粉末として2−アセトアミノナフ
タリン−6−スルホン酸1140部が得られ、これは
2−アミノナフタリン−6−スルホン酸に対して
80%の収率に相当する。 更に下記のものが得られる: 670部の酢酸含量を持つ、塩及び塩酸不含の、
再生できる、約25%の液硫酸3400部、 440部の硫酸及び380部の酢酸含量を持つ約20%
の液塩酸7300部。 (b) 2−アセトアミノナフタリン−6−スルホン
酸クロライド 実施例1(b)で使用したガラスフラスコに、583
部のクロルスルホン酸、15部の無水酢酸及び5部
のジメチルホルムアミドより成る混合物を入れ、
実施例14(a)で得た2−アセトアミノナフタリン−
6−スルホン酸265部を攪拌下に1時間かけて、
約20℃から約35℃へゆつくりと温度を上昇させな
がら加える。次に約55℃で5時間かけて238部の
塩化チオニルを流入させる。さらに約2時間約55
℃で攪拌する。ガス発生(SO2,HCl;その吸収
は実施例1(b)と同様に常法で行われる。)の終了
後に、反応混合物に窒素を吹き込み、そしてフラ
スコ内容物を、30部の活性炭粉末を懸濁した2200
部の氷水(500部の水と1700部の氷)に加え1時
間攪拌する。析出した生成物を吸引過し、1500
部の氷水で洗う。洗滌液は次回のバツチで使用で
きる。 2−アミノナフタリン−6−スルホン酸に対し
て80%の収率で、工業用の湿つた生成物として2
−アセトアミノナフタリン−6−スルホン酸クロ
ライド283部が得られる。 さらに下記のものが得られる: 135部の塩化水素含量ならびに少量の酢酸及び
ジメチルホルムアミドを含む、塩不含の再生でき
る約15%純度の廃硫酸2330部、 40部の塩化水素及び100部の硫酸を含む洗滌
液1620部、 20部のSO2含量を持つ約23%の(廃ガス洗滌か
らの)塩酸300部、 約12%の、殆んど塩化物を含まない(塩化ナト
リウム含量1%未満)廃ガス洗滌からの亜硫酸水
素ナトリウム溶液700部。 実施例 15 実施例1(b)で用いたガラスフラスコで攪拌下
に、205部の無水酢酸、5部のジメチルホルムア
ミド及び300部の水不含の硫酸より成る約15℃に
調節された混合物に、223部の乾いた2−アミノ
ナフタリン−6−スルホン酸を2時間かけてゆつ
くりと約20℃から約70〜85℃に温度を上昇させな
がら加える。アセチル化の終了のために約85℃で
3時間さらに攪拌する。次に更に51部の無水酢酸
を約50℃で加え、更に2時間約85℃で攪拌を続け
る。 約50℃に冷却後に、得られた2−アセトアミノ
ナフタリン−6−スルホン酸溶液を中間単離する
ことなく、233部のクロルスルホン酸で希釈し、
約50℃でガス発生が終るまで攪拌する。約50℃で
約8時間かけて833部の塩化チオニルを攪拌下に
滴下する。次に約50℃で更に2時間攪拌する。ガ
ス発生(SO2,HCl;これの吸収は実施例1(b)と
同様に常法で行われる。)の終了後に、反応混合
物は乾いた窒素流中で残留ガスを除き、次に30部
の活性炭粉末を加えた2000部の氷水(各1000部の
水と氷)に加えて攪拌する。析出した生成物を吸
引過し、2000部の氷水で洗う。 2−アミノナフタリン−6−スルホン酸に対し
て89%の収率で、工業用の湿つた生成物として
251部の2−アセトアミノナフタリン−6−スル
ホン酸クロライドが得られる。 さらに次のものが得られる: 117部の塩化水素と92部の酢酸含量を持つ、塩
不含の、再生できる約15%の液硫酸2370部、 31部の塩化水素及び83部の硫酸を含む洗滌液
2110部、 36部のSO2及び81部の酢酸含量を持つ約35%の
(廃ガス洗滌からの)塩酸887部、 41部の酢酸含量を持つ、約11%の、殆んど塩化
物を含まない(塩化ナトリウム含量3%未満)
(廃ガス洗滌からの)亜硫酸水素ナトリウム溶液
5260部。 実施例16 (比較例) (a) 実施例1(a)で用いたガラスフラスコ中で300
部の水中の173部のメタニル酸(水で湿つた物
としての)を、化学量論の苛性ソーダを加えて
ナトリウム塩へと中和する。続いて約80℃で
141部の無水酢酸を流入させる。アセチル化の
終了のために、約80℃でさらに攪拌し、その際
PHは約7から約2に下る。次に水及び酢酸(72
部)を留去する。乾燥棚で120℃、約200ミリバ
ールで乾燥後に、97%純度の生成物として237
部のN−アセチルメタニル酸ナトリウムが得ら
れる。 (b) 実施例1(b)で用いたガラスフラスコに525部
のクロルスルホン酸を入れ、実施例16(a)で得た
N−アセチルメタニル酸ナトリウム237部を、
攪拌下に約1時間かけてゆつくりと約25℃から
約55℃へ温度を上昇させながら加える。次に約
55℃で5時間かけて238部の塩化チオニルを攪
拌下に流入させる。ガス発生(SO2,HCl;そ
の吸収は実施例1(b)と同様に常法で行われる。)
の終了後に、反応混合物を、30部の活性炭粉末
を懸濁した1700部の氷水(1200部の水と500部
の氷)に加え攪拌する。析出した生成物を吸引
過し、1100部の氷水で洗う。洗滌液は次回
のバツチで使用できる。 メタニル酸に関して90%の収率で、工業用の
湿つた生成物として210部のN−アセチルメタ
ニル酸クロライドが得られる。 さらに下記のものが得られる: 塩(120部のNaHSO4)を含む約20%の廃硫
酸2100部:これの再生は塩含量の故に著しく妨
害される。これは更に190部の塩化水素及び17
部のメタニル酸を含む。 36部の塩化水素及び40部の硫酸を含む洗滌
液1000部、 20部のSO2含量を持つ約27%の(廃ガス洗滌
よりの)塩酸300部、 約18%の酢酸(実施例16(a)からの)400部、 約27%亜硫酸水素ナトリウム溶液250部。 実施例17 (比較例) メタニル酸の中和のために必要な化学量論量の
苛性ソーダの添加を行わない他は、実施例16(a)と
同様に行う。メタニル酸はアセチル化されない。
ルスルホン酸の製造法に関する。 N−アセチルアミノスルホン酸、特にベンゼン
及びナフタリンのそれの塩は、一部その対応する
遊離の酸たとえばN−アセチルスルフアニル酸
(p−アセトアミノベンゼンスルホン酸、p−ア
セトアニリンスルホン酸)及びN−アセチルナフ
チオン酸(4−アセトアミノナフタリンスルホン
酸−1)と共に、古くから知られている。 N−アセチルアミノアリールスルホン酸の製造
のために、一つはN−アセチルアミノアレーンへ
のスルホン酸基の導入と、他方ではアミノアリー
ルスルホン酸のアミノ基へのアセチル化とは原則
として区別しうる。 製造方法の前者の群から下記の事が言える:発
煙硫酸へのアセトアニリドの導入及び生じた溶液
の数時間の加熱;N−アセチルアミノベンゼンス
ルホン酸の単離は不可能であつた(Ber.18
(1885)296参照)。これに対し、発煙硫酸を用い
てp−アセトアニリンスルホン及び、p−トルイ
ジンの及び1,4,2−及び1,3,4−キシリ
ジンのN−アセチル化スルホン酸を結晶形態で得
ることができた(Ber.33(1900)1364/6)。ま
たN−アセチルスルフアニル酸は、アセトアニリ
ドから“アセチル硫酸”(濃硫酸と無水酢酸から
の)を用いて得られる(Ber.42(1909)4539)。
動力学的研究に基づいて、70%の含水硫酸より大
なるの濃度においてスルホン化がN−アセチル基
の加水分解に勝ることが確認された(Chem.&
Ind.36(1970)1172,Tetrahedron Letters
1971,2161/2)。最後に、スルホン酸基の導入
のためにアセトアニリドの核ハロゲン置換生成物
が酸性又は中性亜硫酸塩と反応させられてN−ア
セチルアミノベンゼンスルホン酸又はその塩を形
成する(西独国特許明細書第101777号、Friedl.
5754/6)。 これらの方法の総てが、工業規模でのN−アセ
チルアミノアリールスルホン酸の製造のために適
していない。 上述の製造法の後者の群からは下記の事が云え
る: たとえば水性溶液中のスルフアニル酸ナトリウ
ムのケテンとの反応(西独国特許明細書第453577
号、Friedl.16237/9)。ケテンの毒性及び取扱
いのむずかしさの故に、この方法は工業的規模で
の実施にあまり適しない。 ベンゼン及びナフタリンのアミノスルホン酸の
乾いた粉末状のNa−,K−,Ba塩と無水酢酸と
の反応(Ber.17(1884)707/8,21(1888)
2579/82,39(1906)1559/70,58(1925)
2287,J.Prakt.Chem.(2)63(1901)406/9)、又
はNa塩と氷酢酸との反応(西独国特許明細書第
92796,Friedl.41152)。 水性溶液又は懸濁物中のベンゼン及びナフタリ
ン系列のアミノスルホン酸の塩と無水酢酸との反
応(西独国特許明細書第129000,Friedl.6215/
7,Ber.46(1913)777,Bull.Soc.Chim.France
(5)21(1954)97/8、又は酢酸及び無水酢酸との
反応(西独国特許明細書第410364,Friedl,15
133,Ber.33(1900)417,J.Org.Chem 6,25
(1941))。 ピリジン中のベンゼン及びナフタリンのアミノ
スルホン酸と無水酢酸との、場合により氷酢酸の
添加下での反応(J.Soc.Chem.Ind.46(1927)
224T/226T,47(1928)155T〜157T,J.Soc.
Dyers Colourists59(1943)144/8,Synthesis
12,1974,877/8)。 上述の方法においてアセチル化は強い発熱反応
でN−アセチルアミノアリールスルホン酸の塩
(金属又はピリジニウム塩)をもたらすが、遊離
のアミノアリールスルホン酸のアセチル化は、例
外的場合、たとえばo−トルイジンスルホン酸の
場合、にのみうまく行く(Ber.17(1884)707/
8)。o−,m−及びp−アミノベンゼンスルホ
ン酸は、100〜140℃に10時間加熱しても無水酢酸
と反応しない(Bull.Soc.Chim.France(5)21
(1954)98)。 N−アセチルスルフアニル酸のNa塩を作る好
ましい工業的方法は従来、水性溶液中のスルフア
ニル酸ナトリウム(スルフアニル酸と炭酸ナトリ
ウムからの)と無水酢酸との反応であつた
(Ullmanns Encyclopa¨die der Technischen
Chemie、第4版、第8巻、426ページ、BIOS
Final Rept.No.1149、125/6ページによる)。 遊離のN−アセチルアミノアリールスルホン酸
は、その塩の水性溶液から強酸である鉱酸での処
理によつて得られる(西独国特許出願J4736,
Friedl.5756,Ber.39(1906)1559/70)。その
際、著しい量の鉱酸の塩を含む酸が生じ、これは
なる程度の再生を不可能にはしないが、これに関
係するコストを著しく高くする。 コスト及び環境問題の理由から、遊離の形のア
ミノアリールスルホン酸をアセチル化できる方法
に対する差し迫つた必要性が存在している。 本発明者は、アミノアリールスルホン酸が溶媒
としての硫酸中で無水酢酸又は塩化アセチルによ
つてアセチル化されてN−アセチルアミノアリー
ルスルホン酸を生じうることを見い出した。 本発明者は、無水酢酸又は塩化アセチルでのア
ミノアリールスルホン酸のアセチル化によつてN
−アセチルアミノアリールスルホン酸を作る方法
において、アセチル化を溶媒としての硫酸中で行
うことを特徴とする方法を見い出した。 無水酢酸の場合、酢酸が形成され、これは反応
混合物中に残り、塩化アセチルの場合には気体状
のHClが逃げる。 硫酸は好ましくは、少量の水及び/又はジメチ
ルホルムアミド及び/又はN−メチルピロリドン
を含むのがよい。有利には、各々硫酸に対して2
重量%まで、特に1重量%までの水、又は3重量
%まで、特に2.5重量%までのジメチルホルムア
ミド又はN−メチルピロリドンが用いられる。 反応混合物を良好に攪拌できるように保つため
に、硫酸のみが最初に導入される場合に、好まし
くは1モルのアミノアリールスルホン酸当り約4
〜5モルの最少量の硫酸が用いられる。もし硫酸
と共にアセチル化剤つまり無水酢酸又は塩化アセ
チルも最初に導入されるのなら、最少硫酸量は1
モルのアミノアリールスルホン酸当り約2〜3モ
ルに減少する。 アセチル化剤は有利には、アミノアリールスル
ホン酸1モル当り約1.25〜約2モルの量で用い
る。 有利には硫酸又は硫酸とアセチル化剤を最初に
導入し、そして室温(約25℃)で水不含かつ塩不
含の粉末状のアミノアリールスルホン酸及びアセ
チル化剤を又はアミノアリールスルホン酸のみを
加える。場合により、この導入の間に反応混合物
の攪拌可能性の改善のために温度を少し高めるこ
とが必要である。導入が終つた後に温度を、アセ
チル化されるべきアミノアリールスルホン酸に従
つて約60ないし約90℃に上げる。 アセチル化の進行は有利には、なお残つている
アセチル化されていないアミノスルホン酸の薄膜
クロマトグラフによつて追跡される。必要な場合
には、不足しているアセチル化剤を供給バルブを
通して追加できる。 一般に、良好に攪拌できる中程度の粘度のN−
アセチルアミノアリールスルホン酸の溶液又は懸
濁物が得られ、これは対応するスルホン酸クロラ
イドへの転化のために直接使用でき、あるいはN
−アセチルアミノアリールスルホン酸の単離のた
めにまだ熱いまま攪拌しながら用意した水中に注
ぐことができる。 その際、N−アセチルアミノアリールスルホン
酸の水和物が晶出する。良好な過可能性を得る
ために、有利には約30〜約40℃の温度に維持す
る。用意する水の量は有利には、少くとも約30%
の硫酸及び少くとも約20%の酢酸を含む液酸が
得られるように決められる。 別したN−アセチルアミノアリールスルホン
酸は有利には、約20〜30%塩酸の形の約3〜約6
モルのHClで硫酸がなくなるまで洗う。有利には
滓を塩酸の一部中に混合攪拌し、過し、そし
て残りの塩酸で洗う。しかし生成物をフイルター
の上に残して、塩酸の全量で洗うこともできる。 洗つた際に、なお数パーセントの硫酸及びまた
酢酸を含む塩酸が得られる。 N−アセチルアミノアリールスルホン酸の良好
な水溶性の故に、水による最後の洗いは、多かれ
少なかれかなりの物質の損失を伴う。しかし上述
した塩酸による洗いは、損失を著しく少くする。
硫酸不含の、塩酸を含む湿つた生成物としてN−
アセチルアミノアリールスルホン酸が得られ、こ
れは有利には耐腐蝕性の乾燥機たとえばホウロウ
びきの二重円錐形乾燥機で120℃までの温度で、
好ましくは減圧下でHCl及び水を除去されうる。
乾燥した生成物は、高々こん跡程度のアミノアリ
ールスルホン酸及び少量の水を含む。そのように
乾燥した生成物は場合により粉砕される。そして
それは、容易に配量できる。 収率は理論値の90〜95%である。 湿つた生成物はまた、ホウロウびきした攪拌槽
内で有機物質たとえば高沸点の石油留分(特に
110〜140℃の沸点のもの)と共に加熱及びその共
沸成分の留去によつて水を除きうる。 硫酸の洗い落しは出来るだけ完全に行われなけ
ればならず、それによつて高い乾燥温度におい
て、得られたN−アセチルアミノアリールスルホ
ン酸のスルホン化が起きなくなる。 液酸(酢酸を含む硫酸、及び少量の硫酸と酢
酸を含む塩酸)は、公知法で揮発成分(HCl及び
酢酸)を除かれ、濃縮される。この再生は困難で
ない。何故なら妨害する塩が含まれていないから
である。またそれは、下水に流されるにちがいな
い残渣を残さない。 本発明の方法によつて、アミノアリールスルホ
ン酸、好ましくはベンゼン及びナフタリンのそれ
(これらは核置換、好ましくはアルキル置換、特
に好ましくはメチル化されていることも出来
る。)、特にo−,m−及びp−アミノベンゼンス
ルホン酸及びアミノナフタリンスルホン酸−1,
4,−2,6及び−2,8は、そのN−アセチル
誘導体へとアセチル化される。 得られたN−アセチルアミノアリールスルホン
酸は、上述したように、アセチル化反応後に得ら
れた溶液又は懸濁物の形で、又は単離し乾燥した
物質として、対応するスルホニルクロライドの製
造のために用いられ得る。 従来技術に従うN−アセチルアミノアリールス
ルホニルクロライドの製造を以下に挙げる: アセトアニリド及びクロルスルホン酸又は発煙
硫酸及びクロルスルホン酸から(その際さらに他
の酸クロライド特性の塩素化剤たとえば三塩化リ
ン及び五塩化リンならびに好ましくは塩化チオニ
ルが用いられる。)(西独国特許明細書第752572
号、Ber.39(1906)1559/70,46(1913)777,
Zh.Prikl.Khin.11(1938)316/27,C.Z.1939 I
4934/6)。 N−アセチルアミノアリールスルホン酸の金属
塩とクロルスルホン酸との反応(Zh.Prikl.Khim.
34(1961)1625/7,J.Appl.Chem.U.S.S.R.(英
文版)34(1961)1549/51、西独特許明細書第
532399号、Friedl,18601/4、東独国特許明細
書第30312号、Organic Syntheses collective
Vol.I,ページ8/10、ニユーヨーク−ロンドン、
第2版)又はピリジニウム塩とクロルスルホン酸
との反応(Synthesis 1974、ページ877/8)又
は五塩化リンとの反応(Ann.380(1911)309)。 アセトアミノ芳香族化合物のスルホクロル化は
少量のアセトアミノアリールスルホニルクロライ
ドの代表物を与え、これは不満足な収率であり、
一方N−アセチルアミノアリールスルホン酸の塩
を経由する製造は遊離のN−アセチルアミノアリ
ールスルホン酸の製造について記述したのと同じ
欠点を伴う:含まれる金属イオンによりその再生
が強く妨害される液酸の多量の生成。 本発明に従い得られた塩不含のN−アセチルア
ミノアリールスルホン酸の使用は、塩を含まない
その塩化物の製造可能性をもたらす。 アセチル化反応後に得られた溶液又は懸濁物を
使用する場合には、好ましい塩素化剤としての塩
化チオニルの過剰量が必要であり、これはN−ア
セチルアミノアリールスルホン酸がどれだけの硫
酸中に溶解されているかに依存する。硫酸は塩化
チオニルと反応してクロルスルホン酸を生じる。
同時にN−アセチルアミノアリールスルホン酸が
酸クロライドへと塩素化される。場合により、塩
化チオニルの添加の前にクロルスルホン酸を、N
−アセチルアミノアリールスルホン酸の硫酸中溶
液に加えることができる。 単離し乾燥したN−アセチルアミノアリールス
ルホン酸を用いるなら、これを有利にはクロルス
ルホン酸に溶解し、そして塩化チオニルによつて
酸クロライドへと塩素化する。 この二つの場合において塩素化剤としての塩化
チオニルのこの好ましい使用の際にSO2とHClが
廃ガスとして生じ、これは公知法でガスの洗滌の
ための装置中で困難なく分離される。 二つの場合において、塩化チオニルとの反応は
有利には30〜70℃、好ましくは50〜60℃で行われ
る。塩化チオニルの添加の終了後に、同じ温度で
なお暫時攪拌する。 塩化チオニルとの反応は、少量のジメチルホル
ムアミドの添加によつて促進される(Helv.
Chim.Acta42(1959)1653〜1658)。 ガスの発生の終了後に、得られた反応混合物を
氷水に注ぐ。その際にN−アセチルアミノアリー
ルスルホン酸クロライドが析出する。析出した生
成物を吸引過し、氷水で洗い、そして湿つた形
態で更に用いるか又は有利には乾燥棚で薄い層に
して減圧下で約50℃までの温度で乾いた窒素流を
流しながら乾燥する。 N−アセチルアミノアリールスルホン酸の本発
明に従う製造の場合と同様に、その酸塩化物の製
造の際に液及び洗滌液が生じ、これは困難なく
再生又は後処理されうる。何故ならそれはこれら
のプロセスを妨害する塩を含まないからである。 明らかにアミノアリールスルホン酸の金属塩も
本発明方法によつてアセチル化されうるが、しか
し上述したようにN−アセチルアミノアリールス
ルホン酸は塩不含では得られず、そして含まれる
塩によつて再生可能性が著しく制限されるところ
の液及び洗滌液が生じる。 N−アセチルアミノアリールスルホン酸及びそ
の塩化物はアミノアリールスルホン酸の誘導体
(たとえばその酸塩化物及び酸アミド又はスルホ
ン)の製造の際の価値ある中間体である。すなわ
ち、個々の反応の前にアミノ基をアセチル基の導
入によつて保護することがしばしば必要である。
アセチル基は、適当な後程の段階で加水分解によ
つて再び脱離される。 実施例 以下の実施例において、特記なき限り部は常に
重量部を意味する。同様にパーセントは、特記な
き限り重量パーセントを意味する。 実施例 1 (a) m−アセトアミノベンゼンスルホン酸(N−
アセチルメタニル酸) 攪拌装置に備えられた三口ガラスフラスコ中で
攪拌下に、約20℃に調節された645部の無水酢酸
及び1005部の99.5%硫酸から成る混合物中に、1
時間かけてゆつくりと約20℃から約40℃へ温度を
上げながら866部の乾いたメタニル酸を加える。
アセチル化の完結のために約80℃に加熱し、そし
てこの温度で更に60部の無水酢酸の配量下に更に
攪拌する。次に反応混合物を、開放容器中に用意
した約35℃の水1000部中に加え攪拌する。その際
N−アセチルメタニル酸が水和物の形で晶出す
る。約15℃で更に攪拌し、吸引過する。約75%
純度の生成物(付着する水性硫酸及び酢酸を含
む。)1350部が得られ、これを開放ガラス容器中
に用意した約5℃の26%塩酸1355部中に加え攪拌
する。生じた白い懸濁物を吸引過し、そして31
%塩酸580部で洗う。 硫酸を含まず、約100部の塩化水素含量を持つ、
約73%純度のN−アセチルメタニル酸水和物1380
部が得られる。生成物を窒素流下で約200ミリバ
ールで約25℃から120℃にゆつくり温度を上げて
乾燥し、続いて粉砕する。 215〜220℃の融点を持つ、約99%純度の粉末と
してN−アセチルメタニル酸1020部が得られ、こ
れは理論値の95%の収率に相当する。 更に下記のものが得られる: 約430部の酢酸含量を持つ、塩及び塩酸を含ま
ず再生できる、約40%濃度の液硫酸2180部、 100部の硫酸及び35部の酢酸含量を持つ、約22
%の液塩酸1820部。 (b) N−アセチルメタニル酸クロライド 気密な攪拌装置、ガス導入及び排出管を備える
ガラスフラスコ中に233部のクロルスルホン酸を
入れ、攪拌下に1時間かけてゆつくり約25℃から
約55℃へ温度を上げながら配量スクリユーを用い
て、実施例1(a)に従い得たN−アセチルメタニル
酸215部を加える。その後、約55℃で4時間かけ
て238部の塩化チオニルを流入させる。ガス発生
(HCl,SO2:前者は通常の方法でまず水中に導
くことにより吸収され、続いて後者が苛性ソーダ
で吸収される。)の終了後に、反応混合物を、30
部の活性炭粉末を懸濁された1000部の氷水(800
部の水と200部の氷から成る。)に加え攪拌する。
析出した生成物を吸引過し、800部の氷水で洗
う。洗滌液は、次回のバツチで用いられる。 メタニル酸に対して理論値の83%の収率で、工
業用の湿つた生成物としてN−アセチルメタニル
酸クロライド210部を得る。 更に下記のものが得られる: 65部の塩化水素及び17部のメタニル酸含量を持
つ、塩を含まない、再生できる約15%の硫酸1130
部、 10部の塩化水素及び15部の硫酸を含む洗滌液
800部、 約20部のSO2含量を持つ約23%の(廃ガス洗滌
からの)塩酸300部、 ほとんど塩化物不含の、約25%の(廃ガス洗滌
からの)亜硫酸水素ナトリウム溶液200部。 実施例 2〜9 N−アセチルメタニル酸の中間単離なしでの
N−アセチルメタニル酸クロライド製造 実施例 2 実施例1(b)で用いたガラスフラスコに159部の
塩化アセチルを用意し、20℃で攪拌及び外部冷却
下に200部の水不含の硫酸を滴下する。その後、
約45℃で配量スクリユーを用いて173部の乾いた
メタニル酸を加え攪拌する。アセチル化の終了の
ために約95℃に加熱する。 冷却後に、中間単離することなくN−アセチル
メタニル酸の得られた溶液を約30℃で233部のク
ロルスルホン酸で希釈する。約55℃で約4時間か
けて攪拌下に417部の塩化チオニルを流入させる。
ガス発生(SO2,HCl:その吸収は実施例1(b)に
記載したように常法で行われる。)の終了後に反
応混合物を、30部の活性炭粉末を懸濁した1500部
の氷水(各750部の水と氷)中に加え攪拌する。
析出した生成物を吸引過し、1500部の氷水で洗
う。洗滌液は次回のために用いうる。 メタニル酸に関して理論値の90%の収率で、工
業用の湿つた生成物として210部のN−アセチル
メタニル酸クロライドを得る。 更に下記のものを得る: 127部の塩化水素、30部の酢酸及び17部のメタ
ニル酸含量を持つ、塩を含まない、再生できる約
19%の液硫酸1763部、 15部の塩化水素及び40部の硫酸含量を持つた洗
滌液1546部、 60部のSO2及び30部の酢酸含量を持つ、約27%
の(廃ガス洗滌からの)塩酸771部、 約21%のほぼ塩化物不含の(廃ガス洗滌から
の)亜硫酸水素ナトリウム溶液1008部。 実施例 3 実施例1(b)で用いたガラスフラスコ中で攪拌下
に約20℃に調節した645部の無水酢酸及び1000部
の水不含の硫酸より成る混合物に、1時間かけて
ゆつくりと約20℃から約40℃に温度を上げなが
ら、865部の乾いたメタニル酸を配量スクリユー
で加える。アセチル化の完了のために約85℃に加
熱し、この温度で更に60部の無水酢酸の配量下に
さらに攪拌する。 約50℃への冷却後に、中間単離することなく得
たN−アセチルメタニル酸溶液を583部のクロル
スルホン酸で希釈する。約55℃で約8時間かけて
攪拌下に2678部の塩化チオニルを加える。次に約
55℃で更に2時間攪拌する。ガス発生(SO2,
HCl;これの吸収は実施例1(b)と同様に常法で行
われる。)の終了後に、反応混合物は乾いた窒素
流中で残留ガスを除き、その後5500部に氷水(各
2750部の水と氷)中に入れ攪拌する。析出した生
成物を吸引過し、5500部の氷水で洗う。洗滌
液は次のバツチで用いられる。 メタニル酸に対して80%の収率で、工業用の湿
つた生成物としてN−アセチルメタニル酸クロラ
イド935部を得る。 析出の開始時に生じるゴム状の粘着性の状態
は、析出の前に5500部の氷水に150部の活性炭粉
末又は先行のバツチからの生成物100部を懸濁す
ることによつて避けられうる。 更に下記のものが得られる: 430部の塩化水素、430部の酢酸及び170部のメ
タニル酸含量を持つ、塩不含の、再生できる約19
%の液硫酸6700部、 80部の塩化水素及び210部の硫酸含量を持つ洗
滌液5000部、 205部のSO2及び140部の酢酸含量を持つ、約25
%の(廃ガス洗滌からの)塩酸4700部、 少しの酢酸含量(10部未満)を持つ約22%の、
殆んど塩化物不含の(塩化ナトリウム含量1%未
満)亜硫酸水素ナトリウム溶液(廃ガス洗滌から
の)8200部。 実施例 4 2975部の塩化チオニルを10時間かけて加える他
は、実施例3と同様に行う。 935部のN−アセチルメタニル酸クロライドが
得られ、これは同じ80%の収率に相当する。 実施例 5 塩化チオニルの添加の直前に25部のジメチルホ
ルムアミドを反応混合物に入れる他は、実施例3
と同様に行う。 970部のN−アセチルメタニル酸クロライドが
得られ、これは83%の収率に相当する。廃ガス洗
滌からの塩酸中に240部の酢酸が存在する。 実施例 6 645部の無水酢酸及び1000部の水不含の硫酸よ
り成る混合物に25部のジメチルホルムアミドが加
えられる他は、実施例4と同様に行う。 1040部のN−アセチルメタニル酸クロライドが
得られ、これは89%の収率に相当する。 実施例 7 1000部の水不含の硫酸に5部の水を加える他
は、実施例4と同様に行う。 1017部のN−アセチルメタニル酸クロライドが
得られ、これは87%の収率に相当する。 実施例 8 10部の水を加える他は、実施例7と同様に行
う。 やはり1017部のN−アセチルメタニル酸クロラ
イドを得る。 実施例 9 実施例7及び5におけると同様に行う。1040部
のN−アセチルメタニル酸クロライドが得られ、
これは89%の収率に相当する。 実施例 10 (a) p−アセトアミノベンゼンスルホン酸(N−
アセチルスルフアニル酸) 実施例1(a)で用いたガラスフラスコ中に、205
部の無水酢酸、5部のジメチルホルムアミド及び
300部の水不含の硫酸から成り、約15℃に調節さ
れた混合物を用意する。 ゆつくりと約15℃から約30℃に温度を上げなが
ら、攪拌下に約1時間かけて173部の乾いたスル
フアニル酸を加える。アセチル化の完了のために
約65℃に加熱し、この温度で更に攪拌を続ける。
次に反応混合物を約35℃の300部の水に加え攪拌
し、その際N−アセチルスルフアニル酸が水和物
の形で晶出する。結晶化を、さらに約15℃で攪拌
して完結させる。吸引過後に293部の約60%純
度の生成物が得られ、これを5℃の26%塩酸500
部に加え攪拌する。生じた白い懸濁物を吸引過
し、250部の26%冷塩酸で洗う。 硫酸不含の、塩酸を含むN−アセチルスルフア
ニル酸水和物304部が得られる。生成物を約25℃
から約90℃にゆつくり温度を上げながら窒素流下
で約200ミリバールで乾燥棚で乾燥する。 243〜246℃の融点を持つ99%純度の粉末として
N−アセチルスルフアニル酸193部を得る。これ
は90%の収率に相当する。 更に下記のものが得られる: 144部の酢酸含量を持つ、塩及び塩酸不含の、
再生できる約35%の液硫酸733部、 25部の硫酸及び10部の酢酸含量を持つ、約21%
液塩酸712部。 (b) p−アセトアミノベンゼンスルホニルクロラ
イド(N−アセチルスルフアニル酸クロライ
ド) 実施例1(b)で用いたガラスフラスコに117部の
クロルスルホン酸を入れ、攪拌下にゆつくりと約
25℃から45℃に温度を上げながら1時間かけて、
実施例10(a)で得たN−アセチルスルフアニル酸
114部を加える。完全に溶解した後に250部のジメ
チルホルムアミドを加える。次に約50〜55℃で4
時間かけて119部の塩化チオニルを流入させる。
50〜55℃で更に2時間攪拌する。ガス発生
(HCl,SO2:その吸収は実施例1(b)と同様に常
法で行う。)の終了後に、反応混合物を乾いた窒
素流中で残留ガスを除き、そして500部の氷水
(各250部の水と氷)に加えて攪拌する。生じた生
成物を吸引過し、500部の氷水で洗う。スルフ
アニル酸に対して86%の収率で、工業用の湿つた
生成物として119部のp−アセトアミノベンゼン
スルホニルクロライドが得られる。 さらに下記のものが得られる: 43部の塩化水素含量を持つ、塩不含の、再生で
きる約22%硫酸640部、 6部の塩化水素及び13部の硫酸含量を持つ洗滌
液480部、 13部のSO2含量を持つ約20%の(廃ガス洗滌か
らの)塩酸140部、 約20%の(廃ガス洗滌からの)亜硫酸水素ナト
リウム95部。 実施例 11 o−アセトアミノベンゼンスルホン酸(N−
アセチルオルタニル酸) 173部のスルフアニル酸の代りに同量の乾いた
オルタニル酸を用いる他は、実施例10(a)と同様に
行う。 228〜230℃の融点を持つ97%純度の粉末として
N−アセチルオルタニル酸133部が得られる。収
率は62%である。 さらに下記のものが得られる: 155部の酢酸含量を持つ、塩及び塩酸不含の、
再生できる約36%液硫酸723部、 36部の硫酸及び48部の酢酸含量を持つ約22%
液塩酸793部。 実施例 12 (a) 2−アセトアミノナフタリン−8−スルホン
酸 実施例1(a)で用いたガラスフラスコに、1025部
の無水酢酸及び1500部の水不含の硫酸より成る、
約15℃に調節した混合物を入れる。ゆつくりと約
20℃から約45℃へ温度を上げながら攪拌下に約1
時間かけて1117部の乾いた2−アミノナフタリン
−8−スルホン酸を加える。アセチル化の完了の
ために約80℃に加熱し、この温度で更に攪拌す
る。次に反応混合物を、約35℃の水2500部に加え
攪拌する。その際2−アセトアミノナフタリン−
8−スルホン酸が晶出する。結晶化を約15℃でさ
らに攪拌することによつて完全にする。吸引過
後に、約70%純度の生成物1800部が得られる。こ
れを、1750部の31%塩酸及び300部の氷から成る
混合物に加え攪拌する。生じた明灰色の懸濁物を
約5℃で吸引過し、580部の31%塩酸で洗う。 硫酸不含の、塩酸を含む、75%純度の2−アセ
トアミノナフタリン−8−スルホン酸水和物1670
部が得られる。生成物を、乾燥棚で約25℃から約
120℃へとゆつくり温度を上げながら窒素流下で
約200ミリバールで乾燥する。 97%純度の粉末として2−アセトアミノナフタ
リン−8−スルホン酸1260部が得られる。これは
2−アミノナフタリン−8−スルホン酸に関して
95%の収率に相当する。 更に次のものが得られる: 780部の酢酸含量を持つ、塩及び塩酸不含の、
再生できる、約30%液硫酸3800部、 185部の硫酸含量を持つ約22%液塩酸2250部。 (b) 2−アセトアミノナフタリン−8−スルホン
酸クロライド 実施例1(b)で用いたガラスフラスコに466部の
クロルスルホン酸を入れ、攪拌下に、実施例12(a)
で得た2−アセトアミノナフタリン−8−スルホ
ン酸265部を2時間かけてゆつくりと約25℃から
約50℃へ温度を上げながら加える。ガス発生の終
了後に、約45〜50℃で5時間かけて238部の塩化
チオニルを流入させる。ガス発生(SO2,HCl;
その吸収は実施例1(b)と同様に常法で行われる。)
の終了後に、反応混合物を、30部の活性炭粉末を
懸濁した2000部の氷水(各1000部の水と氷)中に
加えて攪拌する。析出した生成物を吸引過し、
1200部の氷水で洗う。洗滌液は次回のバツチで
用いうる。 2−アミノナフタリン−8−スルホン酸に対し
て95%の収率で、工業用の湿つた生成物として2
−アセトアミノナフタリン−8−スルホン酸クロ
ライド283部を得る。 さらに下記のものが得られる: 75部の塩化水素含量を持つ、塩不含の、再生で
きる約14%硫酸1660部、 40部の塩化水素及び110部の硫酸含量を持つ洗
滌液1150部、 10部のSO2含量を持つ約30%の(廃ガス洗滌か
らの)塩酸300部、 ほとんど塩化物不含の約24%の(廃ガス洗滌か
らの)亜硫酸水素ナトリウム溶液375部。 実施例 13 実施例1(b)で用いたガラスフラスコ中で攪拌下
に、205部の無水酢酸、5部のジメチルホルムア
ミド及び300部の水不含の硫酸から成る15℃に調
節した混合物に、1時間かけてゆつくりと温度を
約20℃から約40℃に上昇させながら223部の乾い
た2−アミノナフタリン−8−スルホン酸を加え
る。アセチル化の完了のために約80℃に加熱し、
この温度で3時間攪拌する。 約50℃への冷却後に、中間単離することなく、
得た2−アセトアミノナフタリン−8−スルホン
酸の溶液を233部のクロルスルホン酸で希釈し、
約50℃でガス発生が終るまで攪拌する。約50℃で
約8時間かけて攪拌下に833部の塩化チオニルを
滴下する。次に約50℃でさらに2時間攪拌する。
ガス発生(SO2,HCl;その吸収は実施例1(b)と
同様に常法で行う。)の終了後に、反応混合物は
乾いた窒素流で残留ガスを除き、次に、30部の活
性炭粉末を懸濁させた2000部の氷水(各1000部の
水と氷)に加えて攪拌する。析出した生成物を吸
引過し、2000部の氷水で洗う。 2−アミノナフタリン−8−スルホン酸に対し
て90%の収率で、工業用の湿つた生成物として2
−アセトアミノナフタリン−8−スルホン酸クロ
ライド255部が得られる。 さらに下記のものが得られる: 145部の塩化水素及び約145部の酢酸含量を持
つ、塩不含の、再生できる約15%液硫酸2000
部、 61部の塩化水素及び170部の硫酸含量を持つ洗
滌液2260部、 33部のSO2及び5部の酢酸含量を持つ約35%の
(廃ガス洗滌からの)塩酸890部、 4部の酢酸含量を持つ、ほとんど塩化物不含の
(塩化ナトリウム含量3%未満)約11%亜硫酸水
素ナトリウム溶液(廃ガス洗滌からの)5100部。 実施例 14 (a) 2−アセトアミノナフタリン−6−スルホン
酸 実施例1(a)で用いたガラスフラスコに、1025部
の無水酢酸及び1515部の99.0%硫酸から成り、約
15℃に調節した混合物を入れる。攪拌下に1117部
の乾いた2−アミノナフタリン−6−スルホン酸
を約2時間かけて、ゆつくりと約20℃から約75℃
へ温度を上昇させながら加える。次に約85℃でさ
らに攪拌する。2−アミノナフタリン−6−スル
ホン酸の添加から3時間後に、更に255部の無水
酢酸を加える。アセチル化の終了のために更に2
時間約85℃で攪拌する。次に反応混合物を約35℃
の3000部の水に加え攪拌すると、2−アセトアミ
ノナフタリン−6−スルホン酸が晶出する。結晶
化を、約25℃でさらに攪拌して完結させる。吸引
過後に、約35%純度の生成物3000部が得られ
る。これを、3500部の31%塩酸及び1000部の氷か
ら成る混合物に加え攪拌する。生じた明灰色の懸
濁物を約25℃で吸引過し、20%塩酸2750部で洗
う。 硫酸不含の、塩酸を含む、40%純度の2−アセ
トアミノナフタリン−6−スルホン酸水和物約
2600部を得る。生成物を、乾燥棚で約25℃から約
90℃にゆつくり温度を上げながら窒素流中で約
200ミリバールで乾燥する。 約95%純度の粉末として2−アセトアミノナフ
タリン−6−スルホン酸1140部が得られ、これは
2−アミノナフタリン−6−スルホン酸に対して
80%の収率に相当する。 更に下記のものが得られる: 670部の酢酸含量を持つ、塩及び塩酸不含の、
再生できる、約25%の液硫酸3400部、 440部の硫酸及び380部の酢酸含量を持つ約20%
の液塩酸7300部。 (b) 2−アセトアミノナフタリン−6−スルホン
酸クロライド 実施例1(b)で使用したガラスフラスコに、583
部のクロルスルホン酸、15部の無水酢酸及び5部
のジメチルホルムアミドより成る混合物を入れ、
実施例14(a)で得た2−アセトアミノナフタリン−
6−スルホン酸265部を攪拌下に1時間かけて、
約20℃から約35℃へゆつくりと温度を上昇させな
がら加える。次に約55℃で5時間かけて238部の
塩化チオニルを流入させる。さらに約2時間約55
℃で攪拌する。ガス発生(SO2,HCl;その吸収
は実施例1(b)と同様に常法で行われる。)の終了
後に、反応混合物に窒素を吹き込み、そしてフラ
スコ内容物を、30部の活性炭粉末を懸濁した2200
部の氷水(500部の水と1700部の氷)に加え1時
間攪拌する。析出した生成物を吸引過し、1500
部の氷水で洗う。洗滌液は次回のバツチで使用で
きる。 2−アミノナフタリン−6−スルホン酸に対し
て80%の収率で、工業用の湿つた生成物として2
−アセトアミノナフタリン−6−スルホン酸クロ
ライド283部が得られる。 さらに下記のものが得られる: 135部の塩化水素含量ならびに少量の酢酸及び
ジメチルホルムアミドを含む、塩不含の再生でき
る約15%純度の廃硫酸2330部、 40部の塩化水素及び100部の硫酸を含む洗滌
液1620部、 20部のSO2含量を持つ約23%の(廃ガス洗滌か
らの)塩酸300部、 約12%の、殆んど塩化物を含まない(塩化ナト
リウム含量1%未満)廃ガス洗滌からの亜硫酸水
素ナトリウム溶液700部。 実施例 15 実施例1(b)で用いたガラスフラスコで攪拌下
に、205部の無水酢酸、5部のジメチルホルムア
ミド及び300部の水不含の硫酸より成る約15℃に
調節された混合物に、223部の乾いた2−アミノ
ナフタリン−6−スルホン酸を2時間かけてゆつ
くりと約20℃から約70〜85℃に温度を上昇させな
がら加える。アセチル化の終了のために約85℃で
3時間さらに攪拌する。次に更に51部の無水酢酸
を約50℃で加え、更に2時間約85℃で攪拌を続け
る。 約50℃に冷却後に、得られた2−アセトアミノ
ナフタリン−6−スルホン酸溶液を中間単離する
ことなく、233部のクロルスルホン酸で希釈し、
約50℃でガス発生が終るまで攪拌する。約50℃で
約8時間かけて833部の塩化チオニルを攪拌下に
滴下する。次に約50℃で更に2時間攪拌する。ガ
ス発生(SO2,HCl;これの吸収は実施例1(b)と
同様に常法で行われる。)の終了後に、反応混合
物は乾いた窒素流中で残留ガスを除き、次に30部
の活性炭粉末を加えた2000部の氷水(各1000部の
水と氷)に加えて攪拌する。析出した生成物を吸
引過し、2000部の氷水で洗う。 2−アミノナフタリン−6−スルホン酸に対し
て89%の収率で、工業用の湿つた生成物として
251部の2−アセトアミノナフタリン−6−スル
ホン酸クロライドが得られる。 さらに次のものが得られる: 117部の塩化水素と92部の酢酸含量を持つ、塩
不含の、再生できる約15%の液硫酸2370部、 31部の塩化水素及び83部の硫酸を含む洗滌液
2110部、 36部のSO2及び81部の酢酸含量を持つ約35%の
(廃ガス洗滌からの)塩酸887部、 41部の酢酸含量を持つ、約11%の、殆んど塩化
物を含まない(塩化ナトリウム含量3%未満)
(廃ガス洗滌からの)亜硫酸水素ナトリウム溶液
5260部。 実施例16 (比較例) (a) 実施例1(a)で用いたガラスフラスコ中で300
部の水中の173部のメタニル酸(水で湿つた物
としての)を、化学量論の苛性ソーダを加えて
ナトリウム塩へと中和する。続いて約80℃で
141部の無水酢酸を流入させる。アセチル化の
終了のために、約80℃でさらに攪拌し、その際
PHは約7から約2に下る。次に水及び酢酸(72
部)を留去する。乾燥棚で120℃、約200ミリバ
ールで乾燥後に、97%純度の生成物として237
部のN−アセチルメタニル酸ナトリウムが得ら
れる。 (b) 実施例1(b)で用いたガラスフラスコに525部
のクロルスルホン酸を入れ、実施例16(a)で得た
N−アセチルメタニル酸ナトリウム237部を、
攪拌下に約1時間かけてゆつくりと約25℃から
約55℃へ温度を上昇させながら加える。次に約
55℃で5時間かけて238部の塩化チオニルを攪
拌下に流入させる。ガス発生(SO2,HCl;そ
の吸収は実施例1(b)と同様に常法で行われる。)
の終了後に、反応混合物を、30部の活性炭粉末
を懸濁した1700部の氷水(1200部の水と500部
の氷)に加え攪拌する。析出した生成物を吸引
過し、1100部の氷水で洗う。洗滌液は次回
のバツチで使用できる。 メタニル酸に関して90%の収率で、工業用の
湿つた生成物として210部のN−アセチルメタ
ニル酸クロライドが得られる。 さらに下記のものが得られる: 塩(120部のNaHSO4)を含む約20%の廃硫
酸2100部:これの再生は塩含量の故に著しく妨
害される。これは更に190部の塩化水素及び17
部のメタニル酸を含む。 36部の塩化水素及び40部の硫酸を含む洗滌
液1000部、 20部のSO2含量を持つ約27%の(廃ガス洗滌
よりの)塩酸300部、 約18%の酢酸(実施例16(a)からの)400部、 約27%亜硫酸水素ナトリウム溶液250部。 実施例17 (比較例) メタニル酸の中和のために必要な化学量論量の
苛性ソーダの添加を行わない他は、実施例16(a)と
同様に行う。メタニル酸はアセチル化されない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 アミノアリールスルホン酸を無水酢酸又は塩
化アセチルでアセチル化することによるN−アセ
チルアミノアリールスルホン酸の製造法におい
て、アセチル化を溶媒としての硫酸中で行うこと
を特徴とする方法。 2 アセチル化を少量の水及び/又はジメチルホ
ルムアミド及び/又はN−メチルピロリドンの存
在下で行う特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 アセチル化を、各々硫酸に対して2重量%ま
での水又は3重量%までのジメチルホルムアミド
又はN−メチルピロリドンの存在下で行う特許請
求の範囲第1項又は第2項記載の方法。 4 アセチル化剤と共にアミノアリールスルホン
酸1モル当たり2〜3モルの硫酸が先に反応系に
容易されると特許請求の範囲第1項、第2項又は
第3項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19823219651 DE3219651A1 (de) | 1982-05-26 | 1982-05-26 | Verfahren zur herstellung von n-acetylaminoarylsulfonsaeuren |
DE3219651.2 | 1982-05-26 |
Related Child Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3233173A Division JPH04356455A (ja) | 1982-05-26 | 1991-09-12 | 固形で、遊離形態で無水形のn−アセチルメタニル酸 |
JP3233172A Division JPH04356456A (ja) | 1982-05-26 | 1991-09-12 | N−アセチルアミノアリールスルホン酸クロライドの製造法 |
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---|---|
JPS58216152A JPS58216152A (ja) | 1983-12-15 |
JPH0480901B2 true JPH0480901B2 (ja) | 1992-12-21 |
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Family Applications (3)
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---|---|---|---|
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JP3233172A Pending JPH04356456A (ja) | 1982-05-26 | 1991-09-12 | N−アセチルアミノアリールスルホン酸クロライドの製造法 |
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---|---|---|---|
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JP3233172A Pending JPH04356456A (ja) | 1982-05-26 | 1991-09-12 | N−アセチルアミノアリールスルホン酸クロライドの製造法 |
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DE3661265D1 (en) * | 1985-10-09 | 1988-12-29 | Hoechst Ag | Single pot process for the production of 2-acetamidonaphthalene-6-sulphonic acid with a high purity |
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DE2702584C2 (de) * | 1977-01-22 | 1982-10-14 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Konzentrierte wäßrige oder wäßrig-organische Lösungen von Acetoacetylaminoarylsulfonsäuresalzen, Verfahren zu deren Herstellung und Verfahren zur Herstellung von konzentrierten Lösungen sulfonsäuregruppenhaltiger Azofarbstoffe aus den vorgenannten Lösungen |
-
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-
1991
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- 1991-09-12 JP JP3233172A patent/JPH04356456A/ja active Pending
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