[go: up one dir, main page]

JPH0474437U - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0474437U
JPH0474437U JP11682790U JP11682790U JPH0474437U JP H0474437 U JPH0474437 U JP H0474437U JP 11682790 U JP11682790 U JP 11682790U JP 11682790 U JP11682790 U JP 11682790U JP H0474437 U JPH0474437 U JP H0474437U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wire
ion beam
ion
stage
contacts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11682790U
Other languages
English (en)
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP11682790U priority Critical patent/JPH0474437U/ja
Publication of JPH0474437U publication Critical patent/JPH0474437U/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案の一実施例を示す配線調整装置
の部分破断斜視図、第２図及び第３図は第１図の
配線調整装置の動作を説明するためのカーブトレ
ーサの画面上のグラフを示す図である。 １……イオン銃、２……ステージ、３……ウエ
ーハ、４……配線、５ａ，５ｂ……接触子駆動機
構、６……接触子、７……カーブトレーサ、９…
…二次イオン検出器。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 半導体基板を載置するとともにＸＹ方向に移動
    し得るステージと、このステージを内部に配置す
    るチヤンバと、このチヤンバに取り付けられると
    ともに前記半導体基板に照射するイオンビームを
    発生するイオン電子銃と、前記半導体基板より発
    生する二次イオンを補足する二次イオン検出器と
    、この二次イオン検出器より検出されたイオンに
    より照射領域を撮像するデイスプレイ装置とを有
    する配線調整装置において、前記半導体基板に形
    成された配線と接触する少なくとも二本の接触子
    を備え、前記イオンビームで切断された前記配線
    の両端を前記接触子で接触し、配線断を検査する
    ことを特徴とする配線調整装置。
JP11682790U 1990-11-07 1990-11-07 Pending JPH0474437U (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11682790U JPH0474437U (ja) 1990-11-07 1990-11-07

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11682790U JPH0474437U (ja) 1990-11-07 1990-11-07

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0474437U true JPH0474437U (ja) 1992-06-30

Family

ID=31864673

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11682790U Pending JPH0474437U (ja) 1990-11-07 1990-11-07

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0474437U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001063660A1 (fr) * 2000-02-25 2001-08-30 Hitachi, Ltd. Appareil de detection de defauts dans un dispositif et procede de detection de defauts
JP2002174667A (ja) * 2000-09-11 2002-06-21 Hoya Corp 多層配線基板及びその製造方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2001063660A1 (fr) * 2000-02-25 2001-08-30 Hitachi, Ltd. Appareil de detection de defauts dans un dispositif et procede de detection de defauts
JP2002174667A (ja) * 2000-09-11 2002-06-21 Hoya Corp 多層配線基板及びその製造方法
JP4509437B2 (ja) * 2000-09-11 2010-07-21 Ｈｏｙａ株式会社 多層配線基板の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CA2152740A1 (en) Electron beam apparatus and image forming apparatus
DE69422932D1 (de) Rasterelektronenmikroskop in kontrollierter atmosphäre
JPH0474437U (ja)
EP0373599A3 (en) Method of determining the position of electron beam irradiation and device used in such method
JPH0229151U (ja)
JPS58115383A (ja) 反射電子検出器
JPS6318763U (ja)
JPS63146962U (ja)
JPS6065967U (ja) 走査電子顕微鏡
JPH0297744U (ja)
JPH0275556U (ja)
JPS6419664A (en) Ion beam device
JPS62188145U (ja)
JPS62114439U (ja)
JPS62157968U (ja)
JPH0231056U (ja)
JPS58200144A (ja) Ｘ線光電子分光装置
JPS6119774U (ja) 走査電子顕微鏡を用いた電位測定装置
JPS63131060U (ja)
JPS6339855U (ja)
JPH0363566U (ja)
JPS6166356U (ja)
JPH03103550U (ja)
JPH0244244U (ja)
JPH0458957U (ja)