JPH0467316A - 磁気ディスク媒体 - Google Patents
磁気ディスク媒体Info
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- JPH0467316A JPH0467316A JP17562490A JP17562490A JPH0467316A JP H0467316 A JPH0467316 A JP H0467316A JP 17562490 A JP17562490 A JP 17562490A JP 17562490 A JP17562490 A JP 17562490A JP H0467316 A JPH0467316 A JP H0467316A
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- Japan
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- magnetic disk
- disk medium
- film
- lubricant
- lubricating film
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- Pending
Links
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は情報の記録再生を行うための磁気ディスク媒体
に関し、特に、磁気ディスク媒体の磁性層表面と磁気ヘ
ッドとの接触摺動による磨耗を軽減し、磁気ヘッドによ
る磁気ディスク媒体表面の損傷(−数的には、ヘッド・
クラッシュという)を防止し、信頼性を高めた磁気ディ
スク媒体に関するものである。
に関し、特に、磁気ディスク媒体の磁性層表面と磁気ヘ
ッドとの接触摺動による磨耗を軽減し、磁気ヘッドによ
る磁気ディスク媒体表面の損傷(−数的には、ヘッド・
クラッシュという)を防止し、信頼性を高めた磁気ディ
スク媒体に関するものである。
従来、この種の固定磁気ディスク装置に使用されている
磁気ディスク媒体は磁気ヘッドと接触しながら摺動運動
を行うため、基板の上に塗布法またはメツキ法またはス
パッタ法等で形成した磁性体層に磨耗が生ずる。
磁気ディスク媒体は磁気ヘッドと接触しながら摺動運動
を行うため、基板の上に塗布法またはメツキ法またはス
パッタ法等で形成した磁性体層に磨耗が生ずる。
これを防止するため、従来は、磁性体層の上に潤滑剤と
してパーフロロポリエーテル等の高分子含弗素化合物を
、スプレー法、あるいは、スピンコード法、あるいは、
ディッピング法によって塗布した媒体を使用している。
してパーフロロポリエーテル等の高分子含弗素化合物を
、スプレー法、あるいは、スピンコード法、あるいは、
ディッピング法によって塗布した媒体を使用している。
また、最近では、潤滑膜を単分子レベルの薄膜で付与で
き、がっ、累積も可能なラングミュア・プロジェット法
(Langmuir Blodgeit法、以下、L
、B法と略す)によって潤滑膜を付与した磁気ディスク
媒体の開発も盛んに行われている。
き、がっ、累積も可能なラングミュア・プロジェット法
(Langmuir Blodgeit法、以下、L
、B法と略す)によって潤滑膜を付与した磁気ディスク
媒体の開発も盛んに行われている。
ここで、従来例について図面を参照して説明する。
第2図(A)および(B)は従来例の磁気ディスク媒体
において磁気ディスク媒体表面にり、B法によって成膜
する方法を示す図である。
において磁気ディスク媒体表面にり、B法によって成膜
する方法を示す図である。
第2図において、水中から磁気ディスク媒体を第2図(
A)から第2図(B)のように引き上げる際の、水面と
成膜する磁気ディスク媒体表面の角度は90°である。
A)から第2図(B)のように引き上げる際の、水面と
成膜する磁気ディスク媒体表面の角度は90°である。
この場合、垂直方向への引き上げでは成膜されない部分
ができてしまい、アイランド状の潤滑膜となる。
ができてしまい、アイランド状の潤滑膜となる。
上述した従来の磁気ディスク媒体に用いられている潤滑
剤塗布方法、例えば、スプレー法、あるいは、ディッピ
ング法では、潤滑膜を単分子レベルの薄膜にすることは
困難である。
剤塗布方法、例えば、スプレー法、あるいは、ディッピ
ング法では、潤滑膜を単分子レベルの薄膜にすることは
困難である。
最近の磁気ディスク媒体の高性能化に対応するには、潤
滑膜を単分子レベルの薄膜にすることが必須であり、こ
れが可能なのは、L、B法による成膜以外にない。
滑膜を単分子レベルの薄膜にすることが必須であり、こ
れが可能なのは、L、B法による成膜以外にない。
しかしながら、L、B法による成膜では単分子レベルの
薄膜にすることは可能なものの、磁気ディスク媒体の表
面の化学的性質が一定ではない場合は、第2図に示すよ
うな従来のり、B成膜方法である垂直方向への引き上げ
では成膜されない部分ができてしまい、アイランド状の
潤滑膜となり、磁気ディスク媒体の表面の十分な耐久性
を得ることはできないという欠点がある。
薄膜にすることは可能なものの、磁気ディスク媒体の表
面の化学的性質が一定ではない場合は、第2図に示すよ
うな従来のり、B成膜方法である垂直方向への引き上げ
では成膜されない部分ができてしまい、アイランド状の
潤滑膜となり、磁気ディスク媒体の表面の十分な耐久性
を得ることはできないという欠点がある。
本発明の磁気ディスク媒体は、上記した従来の磁気ディ
スク媒体の欠点を解消したものであり、磁気ディスク媒
体表面にり、B法によって潤滑膜を付与する際に、官能
基を有するパーフロロポリエーテル等を潤滑剤として水
面に展開した後、水中から磁気ディスク媒体を引き上げ
る時に、水面と成膜する磁気ディスク媒体表面の角度を
90”を越えた任意の一定の角度とすることによってこ
れらの問題を解決している。
スク媒体の欠点を解消したものであり、磁気ディスク媒
体表面にり、B法によって潤滑膜を付与する際に、官能
基を有するパーフロロポリエーテル等を潤滑剤として水
面に展開した後、水中から磁気ディスク媒体を引き上げ
る時に、水面と成膜する磁気ディスク媒体表面の角度を
90”を越えた任意の一定の角度とすることによってこ
れらの問題を解決している。
次に、本発明について図面を参照して説明する。
第1図(A)および(B)は本発明の一実施例の磁気デ
ィスク媒体において磁気ディスク媒体表面にり、B法に
よって成膜する方法を示す図である。
ィスク媒体において磁気ディスク媒体表面にり、B法に
よって成膜する方法を示す図である。
第1図(A)において、磁気ディスク媒体1は、まず、
水2中に浸漬され、次いで水2表面に潤滑剤3が展開さ
れる。
水2中に浸漬され、次いで水2表面に潤滑剤3が展開さ
れる。
ここに用いられる潤滑剤は化学式、
のバー70ロポリエーテル、KRYTOX157−FS
(商品名:デュポン(米国))である。
(商品名:デュポン(米国))である。
潤滑剤であ6KRYTOX157−FSはソノ分子の一
端に官能基を有する両親媒性物質であるので、水2表面
に展開すると親水基3aを水2側にして単分子膜を形成
する。
端に官能基を有する両親媒性物質であるので、水2表面
に展開すると親水基3aを水2側にして単分子膜を形成
する。
この状態で水2中より磁気ディスク媒体1をある一定の
角度で傾斜させて引き上げると、第1図(B)のように
親水基3aを親水性のある磁気ディスク媒体1表面側に
して潤滑剤3は移転、成膜される。
角度で傾斜させて引き上げると、第1図(B)のように
親水基3aを親水性のある磁気ディスク媒体1表面側に
して潤滑剤3は移転、成膜される。
この場合、磁気ディスク媒体1の引き上げ方向は垂直方
向でも、傾けた方向でも成膜結果はほぼ同一である。
向でも、傾けた方向でも成膜結果はほぼ同一である。
第3図は、上述した実施例と従来例の磁気ディスク媒体
表面における潤滑膜厚の面内バラツキを比較した図であ
る。
表面における潤滑膜厚の面内バラツキを比較した図であ
る。
ここで、用いたサンプルは5.25インチ塗布型ディス
クであり、L、B成膜条件は次の通りとした。
クであり、L、B成膜条件は次の通りとした。
展開液濃度 :1.0wt%
希釈液 ニトリフロロトリクロルエタン
下層液 :純水(pH=7.0.)温度==
20℃) 表面圧力 :25.OmN/m媒体傾斜(実施
例)+135゜ 引き上げ速度 :50mm/min引き上げ方向
:垂直 成膜回数 :1回 第3図に示すように、従来例ではところどころ膜厚の薄
いところがあり、潤滑膜が明らかにアイランド状になっ
ている。
20℃) 表面圧力 :25.OmN/m媒体傾斜(実施
例)+135゜ 引き上げ速度 :50mm/min引き上げ方向
:垂直 成膜回数 :1回 第3図に示すように、従来例ではところどころ膜厚の薄
いところがあり、潤滑膜が明らかにアイランド状になっ
ている。
これに対して本実施例では潤滑膜厚のバラツキは非常に
小さく、従来例に比べて均一な潤滑膜が成膜されること
が認められる。
小さく、従来例に比べて均一な潤滑膜が成膜されること
が認められる。
以上説明したように本発明によれば、磁気ディスク媒体
表面にり、B法によって潤滑膜を付与する際に、磁気デ
ィスク媒体を90°を越えた任意の一定の角度に傾斜さ
せて成膜することによって、潤滑膜厚の均一性をより改
善した磁気ディスク媒体を供給することができるという
効果がある。
表面にり、B法によって潤滑膜を付与する際に、磁気デ
ィスク媒体を90°を越えた任意の一定の角度に傾斜さ
せて成膜することによって、潤滑膜厚の均一性をより改
善した磁気ディスク媒体を供給することができるという
効果がある。
第1図(A)および(B)は本発明の一実施例の磁気デ
ィスク媒体において磁気ディスク媒体表面にり、B法に
よって成膜する方法を示す図、第2図(A>および(B
)は従来例の磁気ディスク媒体において磁気ディスク媒
体表面にり、B法によって成膜する方法を示す図、第3
図は上述した実施例と従来例の磁気ディスク媒体表面に
おける潤滑膜厚の面内バラツキを比較した図である。 1・・・磁気ディスク媒体、2・・・水、3・・・潤滑
剤、3a・・・親水基、4・・・磁気ディスク媒体、5
・・・水、6・・・潤滑剤、6a・・・親水基。
ィスク媒体において磁気ディスク媒体表面にり、B法に
よって成膜する方法を示す図、第2図(A>および(B
)は従来例の磁気ディスク媒体において磁気ディスク媒
体表面にり、B法によって成膜する方法を示す図、第3
図は上述した実施例と従来例の磁気ディスク媒体表面に
おける潤滑膜厚の面内バラツキを比較した図である。 1・・・磁気ディスク媒体、2・・・水、3・・・潤滑
剤、3a・・・親水基、4・・・磁気ディスク媒体、5
・・・水、6・・・潤滑剤、6a・・・親水基。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、磁気ディスク媒体表面に潤滑剤をラングミュア・プ
ロジェット法によって付与し潤滑膜を形成する磁気ディ
スク媒体において、 下層液の表面に展開剤である親水基を有する潤滑剤を展
開した槽より前記磁気ディスク媒体を引上げる時の成膜
角度を90゜を越えた任意の一定の角度としたことを特
徴とする磁気ディスク媒体。 2、請求項1記載の磁気ディスク媒体において、磁気デ
ィスク媒体表面にラングミュア・プロジェット法によっ
て付与する潤滑剤が、化学式、▲数式、化学式、表等が
あります▼で表されるパーフロロポリエルエーテルであ
ることを特徴とする磁気ディスク媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17562490A JPH0467316A (ja) | 1990-07-03 | 1990-07-03 | 磁気ディスク媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17562490A JPH0467316A (ja) | 1990-07-03 | 1990-07-03 | 磁気ディスク媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0467316A true JPH0467316A (ja) | 1992-03-03 |
Family
ID=15999342
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17562490A Pending JPH0467316A (ja) | 1990-07-03 | 1990-07-03 | 磁気ディスク媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0467316A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006092679A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Hoya Corp | 磁気ディスク及びその製造方法 |
JP2008047284A (ja) * | 2007-09-21 | 2008-02-28 | Hoya Corp | 磁気ディスク |
-
1990
- 1990-07-03 JP JP17562490A patent/JPH0467316A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006092679A (ja) * | 2004-09-24 | 2006-04-06 | Hoya Corp | 磁気ディスク及びその製造方法 |
JP2008047284A (ja) * | 2007-09-21 | 2008-02-28 | Hoya Corp | 磁気ディスク |
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