JPH0445712B2 - - Google Patents
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- JPH0445712B2 JPH0445712B2 JP61134734A JP13473486A JPH0445712B2 JP H0445712 B2 JPH0445712 B2 JP H0445712B2 JP 61134734 A JP61134734 A JP 61134734A JP 13473486 A JP13473486 A JP 13473486A JP H0445712 B2 JPH0445712 B2 JP H0445712B2
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Links
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 15
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 10
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 71
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 8
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 4
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 3
- 238000011010 flushing procedure Methods 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010420 art technique Methods 0.000 description 1
- IGOGAEYHSPSTHS-UHFFFAOYSA-N dimethylgallium Chemical compound C[Ga]C IGOGAEYHSPSTHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 1
- BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N hydridophosphorus(.) (triplet) Chemical compound [PH] BHEPBYXIRTUNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000000630 rising effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010408 sweeping Methods 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- 238000013022 venting Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
- F16K27/003—Housing formed from a plurality of the same valve elements
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J4/00—Feed or outlet devices; Feed or outlet control devices
- B01J4/001—Feed or outlet devices as such, e.g. feeding tubes
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Mechanical Engineering (AREA)
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- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
この発明はモジユール式ガス取扱装置に関する
ものであり、更に詳しくは多くの流路をその中に
有したモジユール式のブロツクであつて例えば半
導体の製造などで用いられる有害または高価なガ
スを取扱うものに関するものである。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Industrial Application Field) The present invention relates to a modular gas handling device, and more specifically to a modular block having many flow paths therein, such as a semiconductor block. This relates to products that handle harmful or expensive gases used in manufacturing, etc.
なおこの明細書においては『モジユール』なる
用語を用いるが、これは全体的に多数の標準部品
からなりかつその組立および一部変更が容易なよ
うな集合体をいう。 In this specification, the term "module" is used, which refers to an assembly that is made up of a large number of standard parts and that is easy to assemble and partially change.
(従来技術)
ガスや液体などの流体を取扱うシステムとして
は、種々のものが多年に亙つて知られている。特
に鉄などの材料からなるブロツク上に多数の流体
取扱弁を架設する技術が良く知られている。その
ようなシステムにおいては種々の流路に弁を仲介
させて、これにより流路を開いたり閉じたりして
いる。加えてこれらのシステムをモジユール化す
ることおよびそのようなモジユールを互いに連結
するこもよく知られている。(Prior Art) Various systems for handling fluids such as gases and liquids have been known for many years. Techniques for mounting a large number of fluid handling valves on a block of material, particularly iron, are well known. In such systems, valves are interposed in the various flow paths to open and close the flow paths. Additionally, it is well known to modularize these systems and to connect such modules to each other.
このようなモジユール式システムに関してはた
だ単にガスを取扱うというに留まらず、特殊な条
件下例えば高真空条件下でガスを取扱うことが研
究されている。また非常に融通性に富んだシステ
ム、および流路間をあまり過剰に接続する必要な
しにこのようなシステムを着脱自在に互いに連結
することも研究されている。更に高価なガスを取
扱てしかも流路内でのガスの損失を最小限にする
技術も研究されている。このようなシステムは特
に半導体の製造時に水晶の成長を促すプロセスに
有用であるが、一般に非常に高価なガスを取扱う
ものであるから非常に注意深くこれを制御監視す
る必要がある。 Such modular systems are being studied not only for handling gas, but also for handling gas under special conditions, for example under high vacuum conditions. There is also research into highly flexible systems and how such systems can be removably coupled together without the need for too many connections between channels. Research is also being conducted on techniques that can handle more expensive gas and minimize gas loss within the flow path. Such systems are particularly useful in processes that promote crystal growth in semiconductor manufacturing, but typically involve very expensive gases that must be very carefully controlled and monitored.
上記のようなガスの処理に際しては、特にこれ
を単一のモジユールブロツク内に組み込むとする
と、複雑なロジツク型式の流れ回路を該モジユー
ル内に構成することになる。 The processing of such gases, especially when incorporated within a single module block, requires the construction of complex logic-type flow circuits within the module.
このように単一のモジユール内に組み込まれた
ロジツク型式の流れ回路において処理すべきガス
を切り換えるに際しては、次のガス(新ガス)の
導入前に、最初のガス(旧ガス)により汚染され
ている流れ回路内を完全に洗い流してやる必要が
ある。この発明が対象とするような半導体製造の
水晶成長システムにおいて用いる希少で危険およ
び/または高価なガスの場合には特にその必要が
ある。しかし従来このような洗い流し作業を成功
裡に行なうには、流れ回路が構成上極めて制約さ
れたものとなるのを免れなかつた。与えられた流
れ回路がいかなる構成のものであつてもこのよう
な洗い流しを完全に行なうためには、極めて複雑
な作業を必要としたのである。 When switching between gases to be processed in such a logic-type flow circuit integrated within a single module, the first gas (old gas) must be contaminated before the next gas (new gas) is introduced. It is necessary to completely flush out the inside of the flow circuit. This is particularly necessary in the case of rare, dangerous and/or expensive gases used in semiconductor manufacturing crystal growth systems such as those to which this invention is directed. However, in the past, in order to successfully carry out such a flushing operation, the flow circuit had to be extremely restricted in its construction. Completely performing such flushing for any given flow circuit, regardless of its configuration, required extremely complex operations.
(発明の要旨)
この発明の目的は、単一のブロツクに組み込ま
れたロジツク型式の流れ回路におけるガス切換え
に際しての流れ回路の洗流し作業を、回路構成に
一切の制約を掛けることなく、簡単な構成で行な
うことにある。(Summary of the Invention) An object of the present invention is to simplify the flow circuit flushing operation when switching gases in a logic-type flow circuit incorporated in a single block, without placing any restrictions on the circuit configuration. It's all about composition.
すなわちこの発明の基本構成においては、第2
図および第9図に示すように、単一の流路ブロツ
ク1内にその表面に複数のポートを形成する複数
のガス流路を貫通延在せしめ、第1の弁流路21
bには第1の弁入口孔13bまたは15bと第1
の弁25b′により制御される第1の弁座46bま
たは46b′とを設け、第2の弁流路21cには第
2の弁入口孔13cまたは13bと第2の弁25
c′により制御される第22の弁座46cまたは46
bとを設け、第1のガス流路54または52が第
2の弁入口孔と第2の弁座との間の所定の位置お
いて第2の弁流路21cを横断して延在し、かつ
第2のガス流路58または54が第2の弁座を横
断して延在するように構成したものである。 That is, in the basic configuration of this invention, the second
As shown in FIG. 9 and FIG. 9, a plurality of gas flow paths forming a plurality of ports on the surface of a single flow path block 1 extend through the first valve flow path 21.
b has the first valve inlet hole 13b or 15b and the first valve inlet hole 13b or 15b.
A first valve seat 46b or 46b' controlled by the valve 25b' is provided, and a second valve inlet hole 13c or 13b and a second valve seat 46b or 46b' are provided in the second valve passage 21c.
22nd valve seat 46c or 46 controlled by c'
b, and the first gas flow path 54 or 52 extends across the second valve flow path 21c at a predetermined position between the second valve inlet hole and the second valve seat. , and the second gas passage 58 or 54 extends across the second valve seat.
このように構成した結果、第2の弁座を閉じて
旧ガスの流れを断ち、第1の弁により第1の弁座
を開いて第1のガス流路54または52に新ガス
を流せば、この新ガスが上記の所定の位置から第
2の弁流路21cに流れ込んでその洗流しを行な
うのである。 As a result of this configuration, if the second valve seat is closed to cut off the flow of old gas, and the first valve seat is opened by the first valve to allow new gas to flow into the first gas passage 54 or 52, This new gas flows into the second valve flow path 21c from the above-mentioned predetermined position and washes it out.
(実施態様)
第1図に示すモジユール式流路ブロツク1は耐
食性の不活性なステンレスから形成されており、
空洞がなくてしかも内部亀裂に対して抵抗力を有
してたものである。その寸法は例えば4”x41/
2”x11/2”程度の原材料にミリングやボーリ
ングなどの機械加工を加えたものである。(Embodiment) The modular flow path block 1 shown in FIG. 1 is made of corrosion-resistant inert stainless steel.
It had no cavities and was resistant to internal cracks. Its dimensions are, for example, 4”x41/
It is made by adding mechanical processing such as milling and boring to raw materials of about 2" x 11/2".
この例の場合モジユール式流路ブロツク1は長
方形をしており、その側方に突出部2aを具えた
上面2と、底面11と、壁3および5を具えた左
側面と、壁7および9を具えた右側面と、壁4お
よび6および8を具えた前面と、壁10を具えた
後面とを有している。また後記するようにその
種々の面には超高真空弁を架設する架設機構を有
している。モジユール式流路ブロツク1内には多
数のガス流路が形成されており、これらはそれぞ
れガスポート17a〜17fに連通している。上
面2に形成されたガスポート17bと底面11に
形成されたガスポート17dとは流路70,72
により接続されており、更にこれらの流路は後記
する弁により互いに適宜接続されている。 In this example, the modular channel block 1 has a rectangular shape and has a top surface 2 with a protrusion 2a on its side, a bottom surface 11, a left side surface with walls 3 and 5, and walls 7 and 9. , a front side with walls 4 , 6 and 8 , and a rear side with wall 10 . Furthermore, as will be described later, various surfaces thereof have construction mechanisms for installing ultra-high vacuum valves. A large number of gas passages are formed within the modular passage block 1, and these passages communicate with gas ports 17a-17f, respectively. The gas port 17b formed on the top surface 2 and the gas port 17d formed on the bottom surface 11 are connected to flow paths 70, 72.
Furthermore, these flow paths are appropriately connected to each other by valves to be described later.
更に上面2に形成されたガスポート17cはガ
ス流路66と68により底面11に形成されたガ
スポート17eに接続されており、上面2に形成
されたガスポート17aはガス流路74と76に
より底面11に形成されたガスポート17fに接
続されている。 Furthermore, the gas port 17c formed on the top surface 2 is connected to the gas port 17e formed on the bottom surface 11 through gas channels 66 and 68, and the gas port 17a formed on the top surface 2 is connected to the gas port 17e formed on the bottom surface 11 through gas channels 74 and 76. It is connected to a gas port 17f formed on the bottom surface 11.
その他にもモジユール式流路ブロツク1にはい
くつかの弁座が貫通形成されている。即ち弁座1
3a〜13cはそれぞれ上面2、後面の壁10お
よび左側面の壁3に形成されている。また弁座1
5a〜15cはそれぞれ前面の壁6と4と8に形
成されている。これらの弁は超高真空性であつ
て、例えば10-6torr.の圧力下でその防漏度は
4x10-9std.cm3位である。これらはベローズ弁であ
つて、その内部は全て耐食性のステエンレスでヘ
リアーク溶接により形成されている。内部シール
体としては軟質ステンレスまたはミネソタ鉱業社
により製造されているKEL−Fなどのような低
蒸気圧エラストマーを用いるとよい。かかる弁の
例としてはオハイオ州のヌプロ社のものがある。
この発明のようなモジユール式ガス取扱装置を用
いたシステムは例えば半導体の製造などに非常に
有用である。即ちそのようなシステムによれば少
量のガスでも非常に正確に取扱できるし、ヒソ、
燐および塩化水素などのような有毒および/また
は高価なガスを取扱うシステムにもこの発明の装
置は有利に応用できるのである。これらのような
システムにあつては漏洩の防止が厳しく要求され
る。この発明によればその様な要求に充分応え得
るのみならず、非常に簡単であり、しかも溶接の
場合などと違つて流路の接続を自在に変更するこ
とも可能である。 In addition, several valve seats are formed through the modular flow path block 1. That is, valve seat 1
3a to 13c are formed on the upper surface 2, the rear wall 10, and the left wall 3, respectively. Also valve seat 1
5a to 15c are formed on the front walls 6, 4, and 8, respectively. These valves are ultra-high vacuum resistant, and are not leak-tight under a pressure of, for example, 10 -6 torr.
4x10 -9 std.cm 3rd place. These are bellows valves, and the interior thereof is entirely made of corrosion-resistant stainless steel and is formed by heli-arc welding. The internal seal may be made of soft stainless steel or a low vapor pressure elastomer such as KEL-F manufactured by Minnesota Mining Company. An example of such a valve is one manufactured by Nupro Corporation of Ohio.
A system using a modular gas handling device as in the present invention is very useful in, for example, semiconductor manufacturing. In other words, such a system can handle small amounts of gas with great precision, and
The device of the invention can also be advantageously applied to systems that handle toxic and/or expensive gases such as phosphorous and hydrogen chloride. In systems such as these, leakage prevention is strictly required. According to the present invention, not only can such demands be fully met, but it is also very simple, and unlike the case of welding, it is also possible to freely change the connection of the flow paths.
更に従来のような溶接を用いいてないので装置
内の無駄な空間がなくなり、損失や汚染も回避す
ることができる。また多数の流路を平行に組立て
ることによりシステムの規模を自由に拡張するこ
ともできる。 Furthermore, since conventional welding is not used, there is no wasted space within the device, and loss and contamination can be avoided. Furthermore, the scale of the system can be freely expanded by assembling a large number of channels in parallel.
さて第1図に戻つて、弁座13a〜13cはそ
れぞれ下降壁14と円形の横断壁16とによつて
画定されている。横断壁16の内面は第2の下降
壁18を構成しており、この壁は更に下降して円
形横断架設面19に至つている。この架設面19
に内面は円筒状下降壁21を通つて下降し第6,
8,9図に示すように弁座46a〜46cに至つ
ている。 Returning now to FIG. 1, each of the valve seats 13a-13c is defined by a descending wall 14 and a circular transverse wall 16. The inner surface of the transverse wall 16 constitutes a second descending wall 18 , which descends further into a circular transverse construction surface 19 . This construction surface 19
The inner surface descends through the cylindrical descending wall 21 and the sixth,
As shown in FIGS. 8 and 9, the valve seats 46a to 46c are reached.
超高真空弁のモジユール式流路ブロツク1への
架設に当たつてはつぎのようにする。各ベローズ
弁は弁杆21a〜21cに架設されたベローズ体
23a〜23cを有している。弁杆の下端には
種々の弁座に収容されるシール面37a〜37c
が形成されている。また弁杆21a〜21cは架
設体24a〜24cによりベローズ体23a〜2
3cに固定されている。ベローズ体23a〜23
cの他端は自由に浮動した状態で、前環状面30
a〜30cを有している。ここでこの環状面30
a〜30cはベローズ体23a〜23cによつて
囲まれた弁杆21a〜21cに対して可動であ
る。弁杆21上には円筒状弁架設リング25が固
定されており、その外フランジ29を具えた前端
は環状面30の上面に当接する。弁架設リング2
5の上端には弁杆21を囲んでこれと協働する小
径部が形成されている。したがつて円形横断面1
9に環状面30がきつちりと嵌合するまで弁杆2
1の前端を弁座の方に挿入すると弁がおのずと弁
座に挿入される。また弁をその上に置く前に予め
環状横断面19上には金属ガスケツト27a〜2
7cが置かれている。 The ultra-high vacuum valve is installed in the modular flow path block 1 as follows. Each bellows valve has bellows bodies 23a to 23c installed on valve rods 21a to 21c. The lower end of the valve rod has sealing surfaces 37a to 37c accommodated in various valve seats.
is formed. Further, the valve rods 21a to 21c are connected to the bellows bodies 23a to 23 by the construction bodies 24a to 24c.
It is fixed at 3c. Bellows bodies 23a to 23
The other end of c is in a freely floating state and is attached to the front annular surface 30.
It has a to 30c. Here, this annular surface 30
a to 30c are movable relative to valve rods 21a to 21c surrounded by bellows bodies 23a to 23c. A cylindrical valve mounting ring 25 is fixed on the valve stem 21 , the front end of which is provided with an outer flange 29 abuts against the upper surface of the annular surface 30 . Valve installation ring 2
A small diameter portion is formed at the upper end of the valve rod 5 to surround and cooperate with the valve rod 21. Therefore, the circular cross section 1
9 until the annular surface 30 is tightly fitted into the valve rod 2.
When the front end of 1 is inserted toward the valve seat, the valve will automatically be inserted into the valve seat. Also, before placing the valve thereon, metal gaskets 27a to 2 are placed on the annular cross section 19.
7c is placed.
弁をモジユール式流路ブロツク1に対して最終
的に架設しかつシールするには、弁杆21上ひい
ては弁架設リング25の外面上で環状弁フランジ
20a〜20cを摺動させる。この環状弁フラン
ジはそれ自身弁架設リング25と摺動可能に嵌合
する内側開口37を有しており、これが弁架設リ
ング25のフランジ29の上面に当接する。また
弁フランジ20a〜20cの内側環状面39は環
状凹部41を有しており、それが正しい位置に置
かれたときにこの環状凹部41が架設リング25
上のフランジ29の外壁に係合する。かくして弁
フランジ20a〜20cと弁架設リング25上の
フランジ29の面との間に均一な会合面が得られ
るのである。弁フランジ20a〜20cはその周
に沿つて数個の円筒状の孔36a〜36cを有し
ており、これに対応した数のネジ孔43が環状横
断面16に形成されている。従つて弁が架設され
ると、弁フランジ20a〜20cが弁座13a−
13c内に上面を面一にして収る。ついでネジ3
8a〜38cを孔36a〜36cからねじ孔43
に挿入することにより架設とシールとが完結され
る。ネジを締めて弁をなるべく弁座に押圧する
と、弁は確実に架設されるのみならず、金属ガス
ケツト27a〜27cと協働して強固なシールが
得られる。第1図に示す他の弁23a′〜23c′も
弁座13a〜13cとの関係において同様に作用
するものであるが、この場合には押圧されるので
はなくて上面と面一になつている。この場合弁座
15a〜15cは環状横断面45に至る下降壁4
4を有しており、この横断面の内面は円筒状下降
壁47を経て弁座46a′〜46c′に至つている。
更に弁それ自体および環状弁フランジ20a′〜2
0c′の構造は上記の場合と同様である。しかしこ
の場合には、架設に際して環状弁フランジ20
a′〜20c′がモジユール式流路ブロツク1それ自
体の面上に架設される。この場合にもモジユール
式流路ブロツク1の周面にはネジ孔41bが形成
されており、これに対応して環状弁フランジは3
個の円筒状孔を有している。この場合にもネジ3
8a′〜38c′をネジ孔41a〜41cにねじ込む
ことにより超高真空弁をモジユール式流路ブロツ
ク1に直接架設できる。更に金属ガスケツト27
a′〜27c′を用いてシールを完全なものとする。
ここで密封シールに関して2つの事項を説明す
る。まずこの発明によれば、一旦架設されたなら
ばモジユール式流路ブロツク1の面に対して環状
弁フランジを直線移動するだけで弁の架設装着が
できるということである。 To finally mount and seal the valve to the modular flow path block 1, the annular valve flanges 20a-20c are slid over the valve stem 21 and thus over the outer surface of the valve mount ring 25. The annular valve flange itself has an inner opening 37 that slidably engages the valve mounting ring 25, which abuts the upper surface of the flange 29 of the valve mounting ring 25. The inner annular surface 39 of the valve flanges 20a-20c also has an annular recess 41 which, when placed in the correct position, allows the bridging ring 20
It engages the outer wall of the upper flange 29. A uniform meeting surface is thus obtained between the valve flanges 20a-20c and the surface of the flange 29 on the valve mounting ring 25. The valve flanges 20a to 20c have several cylindrical holes 36a to 36c along their peripheries, and a corresponding number of threaded holes 43 are formed in the annular cross section 16. Therefore, when the valve is installed, the valve flanges 20a-20c are aligned with the valve seats 13a-
It fits in 13c with the top surface flush. Then screw 3
8a to 38c from holes 36a to 36c to screw holes 43
The construction and sealing are completed by inserting the tube into the tube. By tightening the screws and pressing the valve as close to the valve seat as possible, the valve is not only reliably installed, but also cooperates with the metal gaskets 27a-27c to provide a strong seal. The other valves 23a' to 23c' shown in FIG. 1 function similarly in relation to the valve seats 13a to 13c, but in this case they are not pressed but flush with the top surface. There is. In this case, the valve seats 15a to 15c are connected to the descending wall 4 leading to the annular cross section 45.
4, and the inner surface of this cross section reaches the valve seats 46a' to 46c' via a cylindrical descending wall 47.
Furthermore, the valve itself and the annular valve flange 20a'-2
The structure of 0c' is the same as in the above case. However, in this case, the annular valve flange 20 is
a' to 20c' are installed on the surface of the modular flow path block 1 itself. In this case as well, a threaded hole 41b is formed on the circumferential surface of the modular flow path block 1, and correspondingly, the annular valve flange has three screw holes 41b.
It has cylindrical holes. In this case as well, screw 3
By screwing screws 8a' to 38c' into the screw holes 41a to 41c, the ultra-high vacuum valve can be installed directly on the modular flow path block 1. Furthermore, metal gasket 27
Complete the seal using a'-27c'.
Here, two matters regarding the hermetic seal will be explained. First, according to the invention, once the valve has been installed, the valve can be installed by simply moving the annular valve flange linearly relative to the surface of the modular flow path block 1.
これに関連して同様なタイプの超高真空弁を装
着する典型的な従来技術を第10,11図に示
す。ここでは支持立方体90が弁座104と立上
り円形壁92を具えた上面とを有している。円形
壁92の外面にはネジ112が形成されており、
上面には凹状の環状面94が形成されて円筒状房
室96に延在している。この房室の底部には弁座
104が形成されている。 In this connection, typical prior art techniques for installing similar types of ultra-high vacuum valves are shown in FIGS. 10 and 11. Here, a support cube 90 has a valve seat 104 and an upper surface with a raised circular wall 92 . A screw 112 is formed on the outer surface of the circular wall 92,
A concave annular surface 94 is formed on the upper surface and extends into a cylindrical chamber 96 . A valve seat 104 is formed at the bottom of this chamber.
弁を環状架設面93に架設すると弁杆108が
弁座104に嵌入する。このとき弁それ自身には
められたスリツプリング110が用いられる。そ
の下降壁122は内側ネジ部114を有してお
り、このネジが立上り壁92の外面上のネジ11
2と合致する。このスリツプシング110の上端
は内側に突出する環状壁117によつて弁に固定
されている。またこの環状壁は弁架設リング25
の外面に摺動可能に係合する。 When the valve is installed on the annular installation surface 93, the valve rod 108 fits into the valve seat 104. A slip ring 110 is then used which is fitted onto the valve itself. The descending wall 122 has an internal thread 114 that is connected to the thread 11 on the external surface of the rising wall 92.
Matches 2. The upper end of this slipping 110 is fixed to the valve by an inwardly projecting annular wall 117. This annular wall also has a valve installation ring 25.
slidably engages the outer surface of the.
装着に当つて弁を正しい位置に置くと、ネジ1
14がネジ112に係合するまでスリツプリング
110が下方に移動し、弁が立方体90にネジ固
定される。しかしこの場合には最終的な架設がス
リツプリング110の円形部により行われるので
ネジ過ぎなども起こるから高度の正確さを得るこ
とは難しい。この発明の場合には環状弁フランジ
を面に対して直線状に移動させるので、これより
遥かに正確な架設状態が得られるのである。 When installing, place the valve in the correct position and screw 1
Slip ring 110 is moved downward until 14 engages screw 112 and the valve is screwed to cube 90. However, in this case, the final installation is performed using the circular portion of the slip ring 110, and over-threading may occur, making it difficult to achieve a high degree of accuracy. In the case of the present invention, the annular valve flange is moved in a straight line relative to the plane, so that a much more accurate installation is achieved.
第1〜9図に戻つて、各弁ポートは弁座に連通
している。第2図に示すようにモジユール式流路
ブロツク1の上面2上の弁座13aは下方に延在
して弁座46aに連通している。しかしこの例の
場合には、下降円筒部21の内壁は2個の孔を有
しており、前方孔は流路64を経て他の弁座に連
通し、第2の側方流路62はガスポート17jに
連通している。モジユール式流路ブロツク1の左
面3に位置する弁座13hは開いた弁座46bを
有しており、これは流路56からガスポート17
iに連通している。弁座13b中の下降円筒面2
1は1対の孔を有しており、後方孔は流路50を
介してガスポート17gに連通し、前方孔は流路
52を介して他の弁に連通している。弁座13c
に関していうと、弁座46cは流路58を介して
下側の更に他の弁座に連通している。下降円筒壁
21は2個の流路を有しており、これらはガスポ
ート17iと弁座13bにそれぞれ連通してい
る。前面の弁座15a〜15cはそれぞれ同様に
流路に連通している。弁座15aは開いた弁座4
6a′を有しており、これが流路64を介して弁座
13aの弁座46上方の下降円筒壁21に連通し
ている。弁座15中の下降円形壁21は流路66
およびガスポート17cに連通する上側開口を有
している。 Returning to Figures 1-9, each valve port communicates with a valve seat. As shown in FIG. 2, the valve seat 13a on the upper surface 2 of the modular flow path block 1 extends downward and communicates with the valve seat 46a. However, in this example, the inner wall of the descending cylindrical portion 21 has two holes, the front hole communicating with the other valve seat via the channel 64, and the second side channel 62 communicating with the other valve seat. It communicates with the gas port 17j. The valve seat 13h located on the left side 3 of the modular flow path block 1 has an open valve seat 46b, which extends from the flow path 56 to the gas port 17.
It is connected to i. Descending cylindrical surface 2 in valve seat 13b
1 has a pair of holes, the rear hole communicates with the gas port 17g via a flow path 50, and the front hole communicates with another valve via a flow path 52. Valve seat 13c
Specifically, the valve seat 46c communicates with a further valve seat below via a flow path 58. The descending cylindrical wall 21 has two flow paths, which communicate with the gas port 17i and the valve seat 13b, respectively. The valve seats 15a to 15c on the front side similarly communicate with the flow passages. The valve seat 15a is the open valve seat 4
6a', which communicates via a flow path 64 with the descending cylindrical wall 21 above the valve seat 46 of the valve seat 13a. The descending circular wall 21 in the valve seat 15 is connected to the flow path 66
and has an upper opening communicating with the gas port 17c.
弁座15bは弁座46b′を有しており、これが
流路52を介して弁座13b中の下降円筒壁21
に連通している。 The valve seat 15b has a valve seat 46b' which connects via a flow path 52 to the descending cylindrical wall 21 in the valve seat 13b.
is connected to.
弁座15cは弁座46c′を有しており、これが
流路58を介して弁座13中の開いた弁座46c
に連通している。円筒下降壁21は孔を有してお
り、左側の流路62はこの壁を下降円形壁21に
接続し、右側の流路60はガスポート17hに連
通している。 The valve seat 15c has a valve seat 46c', which is connected to the open valve seat 46c in the valve seat 13 via a flow path 58.
is connected to. The cylindrical descending wall 21 has holes, a left channel 62 connects this wall to the descending circular wall 21, and a right channel 60 communicates with the gas port 17h.
かくして例えば弁座13中の弁を閉じると流路
54,56に対して流路58,74,76を遮断
することができる。 Thus, for example, closing the valve in the valve seat 13 can block the flow paths 58, 74, 76 from the flow paths 54, 56.
モジユール式流路ブロツク1の面3から延在す
る流路16はモジユール式流路ブロツク1を貫通
うしてガスポート17bからの中間流路72に連
通し、その後流路80を介して弁座46および弁
座13aの底部に達する。かくして例えば弁座1
3a中の弁を閉じると流路80を流路62,64
から遮断することになる。さて第3図において弁
座15b中において弁座46b′に連なる流路21
を囲む横断環状面18上に金属ガスケツト27を
置く。モジユール式流路ブロツク1に着脱可能に
かつシール状に固定されるのは弁23b′と弁架設
リング25b′とである。ついで金属ガスケツトを
通して弁座15d中に弁23b′を挿入する。つい
で架設リング25b′をして弁23b′上を通過させ
る。 A passage 16 extending from face 3 of modular passage block 1 communicates through modular passage block 1 with an intermediate passage 72 from gas port 17b and then via passage 80 to valve seat 46. and reaches the bottom of the valve seat 13a. Thus, for example, valve seat 1
When the valve in 3a is closed, the flow path 80 is connected to the flow paths 62 and 64.
It will be cut off from Now, in FIG. 3, a flow path 21 in the valve seat 15b that is connected to the valve seat 46b'
A metal gasket 27 is placed on the transverse annular surface 18 surrounding the gasket. A valve 23b' and a valve mounting ring 25b' are removably and sealably fixed to the modular flow path block 1. Then, the valve 23b' is inserted into the valve seat 15d through the metal gasket. The construction ring 25b' is then passed over the valve 23b'.
かくして弁フランジ20b′を弁および弁架設リ
ングに施すことにより弁はモジユール式流路ブロ
ツクに固定架設され、ネジ38b′をネジ孔41b
に螺入すると弁が弁座15bに気密にシールされ
る。またネジ38b′をねじ込むことにより金属ガ
スケツト27b′が広がり、問題となつている環状
面間を完全に満たすのである。このガスケツトは
ニツケルや焼鈍されたステンレスなどモジユール
式流路ブロツクと同じ耐食性の金属からなり、空
洞や細孔のない0、上面5インチ位の厚い金属板
から打ち抜きにより製造されるものである。第1
0,11図に示す従来技術の場合に比べて、フラ
ンジ20b′その他の要素に回転力を掛けることな
くネジ38b′により弁を直接面に締結できるので
非常に有利である。従来のようにネジ係合が緩む
こともなく気密なシールが簡単に得られるのであ
る。 Thus, by attaching the valve flange 20b' to the valve and the valve installation ring, the valve is fixedly installed on the modular flow path block, and the screw 38b' is inserted into the screw hole 41b.
When the valve is screwed into the valve seat 15b, the valve is hermetically sealed to the valve seat 15b. Further, by screwing in the screw 38b', the metal gasket 27b' expands and completely fills the annular space in question. This gasket is made of the same corrosion-resistant metal as the modular flow path block, such as nickel or annealed stainless steel, and is manufactured by punching from a thick metal plate with a top surface of about 5 inches and no cavities or pores. 1st
Compared to the prior art shown in FIGS. 0 and 11, this is very advantageous because the valve can be fastened directly to the surface by the screw 38b' without applying any rotational force to the flange 20b' or other elements. An airtight seal can be easily obtained without the screw engagement loosening as in the conventional case.
第15図に流路のガスポートへの取付け構造を
示す。モジユール式流路ブロツクaはガスポート
170をまたモジユール式流路ブロツクbはガス
ポート171をそれぞれ含んでいる。これらのガ
スポートを互いに接続するために、連結流路17
3が用いられている。この流路173は両端に拡
大端部175を具えている。その入口ポート17
7を囲む環状面である端面176には環状のエツ
ジ178が設けられており、ほぼ三角形の断面を
有して入口ポート177を囲んでいる。連結流路
173に沿つて摺動自在に1対の環状フランジ1
80が設けられており、これらのフランジは上記
摺動に充分な内径を有している。またその内径は
連結流路173の拡大端部175の外径182に
きつちりと合致するようになつている。またその
内面には環状フランジ部183が形成されてお
り、これによりフランジが流路の端部から拡大端
部175を越えて脱出するのを防いでいる。これ
らのフランジ180がその端面177へ更に移動
すると、モジユール式流路ブロツクの面と当接す
る平な面を与える。この面がガスポートのひとつ
と接触すると、まず連結流路184がポート間に
挿入される。金属ガスケツト184の直径は端面
177の環状エツジ178の直径に相当する。ま
たガスポート170はその中央流路を囲む環状エ
ツジ174を有しており、これが流路173の端
面177の環状エツジ178に対応する。したが
つて金属ガスケツトを間に流路173の端面17
7がガスポートに押し付けられると、金属ガスケ
ツトは環状エツジ178と174間にクランプさ
れる。リング180を端面にまで摺動させてとネ
ジ186をガスポート1790,171を囲むネ
ジ孔190にねじ込むと、気密シールが得られ
る。ここでも圧力により金属ガスケツトが広がる
第16図にこの発明の流路ブロツクを構成する連
結ブロツク2モジユール式流路ブロツクを示す。
その種々の面にはガスポート270が形成されて
おり、これらはそれぞれ流路ブロツクを貫通する
流路によつて他のガスポートに接続されている。
このような流路ブロツクは種々の接続に広く利用
できるものである。第12図に示すのは冷却コイ
ル110であつて流路ブロツク上において1対の
ガスポート間に介設されるものである。コイルの
端部には拡大端部112が形成されており、1対
のリングを用いてこれらがガスポートに接続され
る。第13図にガスポートに接続される膜房室1
20を示す。この房室は内部に設けた膜122に
よつて二分されており、ガスは流路124から流
路ブロツク内に入り、第1の房室126からこの
膜を通ることにより純化されて第2の房室128
に入り、流路130を経て送り出される。排気の
ために弁133を具えた弁132が設けられてい
る。 FIG. 15 shows the structure for attaching the flow path to the gas port. Modular flow path block a includes a gas port 170, and modular flow path block b includes a gas port 171. Connecting channels 17 are provided to connect these gas ports to each other.
3 is used. This channel 173 has enlarged end portions 175 at both ends. Its inlet port 17
End face 176 is provided with an annular edge 178 and has a generally triangular cross section and surrounds inlet port 177 . A pair of annular flanges 1 are slidably attached along the connecting channel 173.
80 are provided, and these flanges have an inner diameter sufficient for said sliding movement. Further, its inner diameter is adapted to closely match the outer diameter 182 of the enlarged end 175 of the connecting channel 173. Further, an annular flange portion 183 is formed on the inner surface thereof, thereby preventing the flange from escaping from the end of the flow path beyond the enlarged end portion 175. As these flanges 180 move further toward their end faces 177, they provide a flat surface that abuts the face of the modular flow block. When this surface contacts one of the gas ports, the connecting channel 184 is first inserted between the ports. The diameter of metal gasket 184 corresponds to the diameter of annular edge 178 of end face 177. The gas port 170 also has an annular edge 174 surrounding its central passageway, which corresponds to an annular edge 178 on the end face 177 of the passageway 173. Therefore, the metal gasket is placed between the end face 17 of the flow path 173.
7 is pressed against the gas port, the metal gasket is clamped between annular edges 178 and 174. By sliding the ring 180 to the end face and threading the screw 186 into the threaded hole 190 surrounding the gas ports 1790, 171, an airtight seal is obtained. Again, the metal gasket expands due to pressure. FIG. 16 shows a modular flow path block with two connecting blocks constituting the flow path block of the present invention.
Gas ports 270 are formed on its various faces, each of which is connected to another gas port by a passage through the passage block.
Such channel blocks can be widely used for a variety of connections. FIG. 12 shows a cooling coil 110 that is interposed between a pair of gas ports on a flow path block. The ends of the coil are formed with enlarged ends 112, and a pair of rings are used to connect these to the gas ports. Figure 13 shows the membrane chamber 1 connected to the gas port.
20 is shown. This chamber is divided into two by a membrane 122 provided inside, and gas enters the flow path block through a channel 124 and is purified by passing through this membrane from the first chamber 126 to the second chamber. Chamber 128
and is sent out through the flow path 130. A valve 132 with a valve 133 is provided for venting.
第14図に示す例においては泡房室135が1
対のガスポートに固定されている。流路137は
弁138を具え、流路140は弁142を具えて
いる。これらの流路はともに閉塞房室144内に
延在し、流路137は液レベル150の下側に開
口して流路ブロツクからのガスを泡の形で放出し
ており、かく放出されたガスは液レベル150上
側に開口する流路140を経て再び流路ブロツク
に回収される。つぎに実例として第13図の装置
を用いて半導体ガリウムアルセナイドの薄層を成
長させる場合を説明する。まずジメチルガリウム
などの金属−有機化合物を房室120に入れ、こ
の房室を流路124,130を介して例えば第4
図に示すようなガスポート17i,17jに気密
にシール付設する。前記のように拡大端部とガス
ポートとの間には金属ガスケツトを介装する。こ
れには前出のネジ186、ネジ孔190およびフ
ランジ180などを用いる。 In the example shown in FIG. 14, the bubble chamber 135 is one
Fixed to twin gas ports. Channel 137 includes valve 138 and channel 140 includes valve 142. Both channels extend into the closed chamber 144, with channel 137 opening below the fluid level 150 to release gas from the channel block in the form of bubbles. The gas passes through a channel 140 that opens above the liquid level 150 and is collected again into the channel block. Next, as an example, the case where a thin layer of semiconductor gallium arsenide is grown using the apparatus shown in FIG. 13 will be described. First, a metal-organic compound such as dimethyl gallium is introduced into the chamber 120, and this chamber is passed through channels 124, 130 to, for example, a fourth chamber.
Gas ports 17i and 17j as shown in the figure are airtightly sealed. As mentioned above, a metal gasket is interposed between the enlarged end and the gas port. For this purpose, the aforementioned screw 186, screw hole 190, flange 180, etc. are used.
つぎに水素などの搬送ガスを導く流路を流路ブ
ロツクのガスポート17cに接続する。この場合
流路66,68は成長ラインの一部となる。 Next, a channel for introducing a carrier gas such as hydrogen is connected to the gas port 17c of the channel block. In this case, channels 66 and 68 become part of the growth line.
ついで他の搬送ガス用流路をガスポート17b
に接続する。この場合には流路70,72が排出
ラインの一部となる。 Next, connect the other carrier gas flow path to the gas port 17b.
Connect to. In this case, the channels 70, 72 become part of the discharge line.
これらのガス搬送流はかなり大きく成長ガス混
合物を流路ブロツクから結晶成長房室または排出
部に送るに充分な能力を具えている。 These gas carrier streams are fairly large and have sufficient capacity to convey the growth gas mixture from the channel block to the crystal growth chamber or exhaust.
更に第3の搬送ガス流路をガスポート17gに
接続する。この搬送ガスは流路ブロツク中の種々
の流路を介して送られて次に述べるように成長ガ
ス混合物を形成するものである。また真空ポンプ
をポート17aにシール接続する。 Furthermore, a third carrier gas flow path is connected to the gas port 17g. This carrier gas is routed through various channels in the channel block to form a growth gas mixture as described below. A vacuum pump is also sealed connected to port 17a.
ついで弁座13c,15c内の弁を開き他の弁
座中の弁は閉じておく。ポ〜ト17aを介して真
空ポンプを利かせると、弁座46b内の空気と水
蒸気が全てライン54,56を介してポート17
iに固定された容器の入口に、更には弁座46
a′,ライン58,62,64,60へと流れ、こ
れらのラインから空気と水蒸気とが完全に除かれ
る。これにより高純度ガス流および純化合物の汚
染が防止される。 Then, the valves in the valve seats 13c and 15c are opened, and the valves in the other valve seats are closed. When the vacuum pump is operated through the port 17a, all the air and water vapor inside the valve seat 46b are transferred to the port 17 through the lines 54 and 56.
At the inlet of the container fixed to i, there is also a valve seat 46
a', into lines 58, 62, 64, and 60, from which air and water vapor are completely removed. This prevents contamination of high purity gas streams and pure compounds.
ついで弁座13c,15c内の弁を閉じ弁座1
5b内の弁を開く。正確に測定した量の入力ガス
流をポート17gから流路52,50に送り込む
と、弁座13b,15b内の弁のベローズを一掃
してポート17dを経て排出される。 Then, close the valves in the valve seats 13c and 15c, and close the valves in the valve seats 1.
Open the valve in 5b. A precisely measured amount of input gas flow is directed into channels 52, 50 through port 17g, sweeping out the valve bellows within valve seats 13b, 15b and exiting through port 17d.
以上の処理が終了したら弁座13a,13b中
の弁を開き、弁座13b内の弁を同時に閉じる。
すると水素搬送ガスが流路54に入り、流路5
6、金属−有機化合物貯留器120を通過する。
かくして搬送ガスは金属−有機化合物により飽和
され、流路60,62,80を通つて流路70,
72に流れ込む。 When the above processing is completed, the valves in the valve seats 13a and 13b are opened, and the valves in the valve seat 13b are simultaneously closed.
Then, the hydrogen carrier gas enters the flow path 54, and the hydrogen carrier gas enters the flow path 54.
6. Pass through metal-organic compound reservoir 120.
The carrier gas is thus saturated with metal-organic compounds and passes through channels 60, 62, 80 to channels 70,
It flows into 72.
結晶成長工程で金属−有機化合物が必要とされ
る期間が過ぎると、弁座13a中の弁が閉じら
れ、弁座15a中の弁は開かれ、搬送ガスと化合
物との混合物が流路66,68に送り込まれる。 Once the period during which the metal-organic compound is required in the crystal growth process has elapsed, the valve in valve seat 13a is closed and the valve in valve seat 15a is opened, allowing the mixture of carrier gas and compound to pass through channel 66, 68.
第1図この発明の装置に用いる流路ブロツクの
一例を示す斜視図、第2図同流路ブロツクの平面
図、第3図流路ブロツクに設けられた超高真空弁
の一部断面側面図、第4図同流路ブロツクの後面
図、第5図同流路ブロツクの左側面図、第6図同
流路ブロツクの右側面図、第7図同流路ブロツク
の前面図、第8図同流路ブロツクの後面図、第9
図同流路ブロツクの底面図、第10図従来の弁架
設構造の平面図、第11図同一部断面側面図、第
12図流路ブロツクに用いる冷却コイルの側面
図、第13図流路ブロツクに用いる膜房室の斜視
図、第14図流路ブロツクに用いる泡房室の一部
断面側面図、第15図流路ブロツクを接続する構
造の斜視図、第16図連結ブロツクの斜視図。
1…モジユール式流路ブロツク、2…上面、1
1…底面、13,15…弁座。
Fig. 1 is a perspective view showing an example of a flow path block used in the device of the present invention, Fig. 2 is a plan view of the same flow path block, and Fig. 3 is a partially sectional side view of an ultra-high vacuum valve provided in the flow path block. , FIG. 4: Rear view of the same flow path block, FIG. 5: Left side view of the same flow path block, FIG. 6: Right side view of the same flow path block, FIG. 7: Front view of the same flow path block, FIG. 8 Rear view of the flow path block, No. 9
Fig. 10 is a plan view of the conventional valve installation structure; Fig. 11 is a partially sectional side view of the same; Fig. 12 is a side view of the cooling coil used in the flow path block; Fig. 13 is the flow path block. FIG. 14 is a partially sectional side view of a foam chamber used in the flow path block, FIG. 15 is a perspective view of a structure connecting the flow path blocks, and FIG. 16 is a perspective view of a connecting block. 1...Modular flow path block, 2...Top surface, 1
1...Bottom surface, 13, 15...Valve seat.
Claims (1)
の各表面に複数のポートを形成する複数のガス流
路を有しており、 第1の弁流路21bがこの流路ブロツク1内に
延在しており、 この第1の弁流路21bが第1の弁入口孔13
b,15bと第1の弁25b′により制御される第
1の弁座46b,46b′とを有しており、 第2の弁流路21cが上記の流路ブロツク1内
に延在しており、 この第2の弁流路21cが第2の弁入口孔13
c,13bと第2の弁25c′により制御される第
2の弁座46c,46bとを有しており、 第1のガス流路54,52が第2の弁入口孔1
3c,13bと第2の弁座46c,46bとの間
の所定の位置において第2の弁流路21cを横断
して延在し、 第2のガス流路58,54が第2の弁座46
c,46bを横断して通延在しており、 第2の弁座46c,46bが閉じられていると
きでも、第1のガス流路54,52を流れるガス
が第2の弁流路21cを洗い流し、この洗流し動
作が第1の弁25b′により制御される ことを特徴とするモジユール式ガス取扱装置。 2 第1と第2の弁が超高真空弁である ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の装
置。 3 超高真空弁がベローズ弁である ことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載の装
置。 4 第1の弁架設手段20が第1の弁を流路ブロ
ツクに架設し、 第2の弁架設手段が第2の弁を流路ブロツクに
架設し、 第1と第2の弁架設手段が第1と第2の弁フラ
ンジ体を含んでいる ことを特徴とする特許請求の範囲第1〜3項のい
ずれかひとつに記載の装置。 5 複数個の流路フランジ体180が設けられて
おり、各流路フランジ体が、これに回転力を掛け
る必要なしに、流路173をいずれかのポートに
おいて流路ブロツクに架設することができる ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の装
置。 6 第1と第2の弁フランジ体が複数のネジ孔3
6を有しており、かつ 第1と第2の弁入口孔が複数の対応するネジ孔
43を有しており、 第1と第2の弁フランジ体上の対応するネジ孔
と第1と第2の弁入口孔とに複数のネジを通すこ
とにより、第1と第2の弁が第1と第2の弁フラ
ンジ体により流路ブロツクに架設される ことを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の装
置。 7 複数の流路ブロツク2が設けられており、 流路173が各ポートにおいて1対の流路フラ
ンジ体180により両方の流路ブロツクに架設さ
れることにより、1個の流路ブロツク上の少なく
とも1個のポートが他の流路ブロツク上の1個の
ポートに気密にシールされる ことを特徴とする特許請求の範囲第5項記載の装
置。 8 複数の弁流路のための複数の弁入口孔が環状
凹部13を有しており、この環状凹部が超高真空
弁134上の対応するフランジを収受する ことを特徴とする特許請求の範囲第1〜7項のい
ずれかひとつに記載の装置。 9 金属ガスケツト184が環状凹部に内に設け
られており、超高真空弁34が流路ブロツクにシ
ール架設されている ことを特徴とする特許請求の範囲第8項記載の装
置。 10 複数のポートが環状のポート体凹部17を
有しており、 各ポート体凹部17がその上に環状突起174
とこれに施された金属ガスケツト184とを有し
ており、流路が流路ブロツクにシール架設されて
いる ことを特徴とする特許請求の範囲第1〜3項のい
ずれかひとつに記載の装置。[Scope of Claims] 1. It has a plurality of gas flow paths extending through the flow path block and forming a plurality of ports on each surface of the flow path block, and the first valve flow path 21b is connected to the gas flow path 21b. The first valve flow path 21b extends into the flow path block 1, and the first valve flow path 21b is connected to the first valve inlet hole 13.
b, 15b and first valve seats 46b, 46b' controlled by the first valve 25b', and the second valve passage 21c extends within the passage block 1. This second valve flow path 21c is connected to the second valve inlet hole 13.
c, 13b and second valve seats 46c, 46b controlled by the second valve 25c', and the first gas flow paths 54, 52 are connected to the second valve inlet hole 1.
3c, 13b and the second valve seat 46c, 46b, the second gas flow path 58, 54 extends across the second valve flow path 21c at a predetermined position between the second valve seat 46c, 46b, and the second gas flow path 58, 54 46
c, 46b, and even when the second valve seats 46c, 46b are closed, the gas flowing through the first gas flow paths 54, 52 flows into the second valve flow path 21c. A modular gas handling device characterized in that the washing operation is controlled by a first valve 25b'. 2. The device according to claim 1, wherein the first and second valves are ultra-high vacuum valves. 3. The device according to claim 2, wherein the ultra-high vacuum valve is a bellows valve. 4 The first valve installation means 20 installs the first valve on the flow path block, the second valve installation means installs the second valve on the flow path block, and the first and second valve installation means 4. A device according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it comprises first and second valve flange bodies. 5. A plurality of flow path flange bodies 180 are provided, and each flow path flange body can construct the flow path 173 on the flow path block at any port without the need to apply a rotational force thereto. An apparatus according to claim 1, characterized in that: 6 The first and second valve flange bodies have a plurality of screw holes 3
6, and the first and second valve inlet holes have a plurality of corresponding screw holes 43, and the corresponding screw holes on the first and second valve flange bodies and the first Claims characterized in that the first and second valves are installed in the flow path block by the first and second valve flange bodies by passing a plurality of screws through the second valve inlet hole. The device according to paragraph 5. 7 A plurality of flow path blocks 2 are provided, and the flow path 173 is installed across both flow path blocks by a pair of flow path flanges 180 at each port, so that at least 6. The device of claim 5, wherein one port is hermetically sealed to a port on another flow block. 8. Claims characterized in that the plurality of valve inlet holes for the plurality of valve channels have an annular recess 13 which receives a corresponding flange on the ultra-high vacuum valve 134 Apparatus according to any one of clauses 1 to 7. 9. The apparatus of claim 8, wherein a metal gasket 184 is disposed within the annular recess, and the ultra-high vacuum valve 34 is sealingly mounted to the flow path block. 10 The plurality of ports have an annular port body recess 17, and each port body recess 17 has an annular protrusion 174 thereon.
and a metal gasket 184 applied thereto, and the flow path is installed in a flow path block with a seal, according to any one of claims 1 to 3. .
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US74331785A | 1985-06-10 | 1985-06-10 | |
US743317 | 1985-06-10 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS622081A JPS622081A (en) | 1987-01-08 |
JPH0445712B2 true JPH0445712B2 (en) | 1992-07-27 |
Family
ID=24988332
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13473486A Granted JPS622081A (en) | 1985-06-10 | 1986-06-10 | Module type gas treater |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS622081A (en) |
GB (1) | GB2176270B (en) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4892115A (en) * | 1988-06-16 | 1990-01-09 | Continental Can Company, Inc. | Control valve assembly |
FR2670270B1 (en) * | 1990-12-05 | 1993-04-02 | Spirax Sarco | MONOBLOCK BLEEDING STATION WITH BUILT-IN ISOLATION TAPS. |
US5163475A (en) * | 1991-11-26 | 1992-11-17 | Praxair Technology, Inc. | Gas delivery panels |
DE4324867A1 (en) * | 1993-07-23 | 1995-01-26 | Roemer J C Avs Gmbh | Ball valve, distributor housing and modular construction system with ball valves |
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1986
- 1986-06-10 GB GB8614112A patent/GB2176270B/en not_active Expired
- 1986-06-10 JP JP13473486A patent/JPS622081A/en active Granted
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5054923A (en) * | 1973-09-14 | 1975-05-14 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB2176270B (en) | 1989-08-23 |
JPS622081A (en) | 1987-01-08 |
GB8614112D0 (en) | 1986-07-16 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
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|
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|
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