JPH0441941B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0441941B2 JPH0441941B2 JP60218463A JP21846385A JPH0441941B2 JP H0441941 B2 JPH0441941 B2 JP H0441941B2 JP 60218463 A JP60218463 A JP 60218463A JP 21846385 A JP21846385 A JP 21846385A JP H0441941 B2 JPH0441941 B2 JP H0441941B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- rotating
- disk
- slit disk
- spiral groove
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/59—Transmissivity
- G01N21/5907—Densitometers
- G01N21/5911—Densitometers of the scanning type
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、光吸収測定法の応用機器、とり分け
クロマトスキヤナに関するものである。
クロマトスキヤナに関するものである。
（従来の技術）
紫外、可視あるいは時には赤外の分光光度計又
はその他の光吸収分析を行なわせる場合、出口ス
リツトの幅、高さを変えることにより波長分解能
及び線幅（バンド幅とも称される）並びに試料へ
の入射光量を変えることができる。しかし、通常
の固定スリツトを用いた方式では試料内、もしく
は試料表面上での空間方向に対する１次元又は２
次元方向の吸光度分布を遂次連続的に分析し調べ
るのには適さない。
はその他の光吸収分析を行なわせる場合、出口ス
リツトの幅、高さを変えることにより波長分解能
及び線幅（バンド幅とも称される）並びに試料へ
の入射光量を変えることができる。しかし、通常
の固定スリツトを用いた方式では試料内、もしく
は試料表面上での空間方向に対する１次元又は２
次元方向の吸光度分布を遂次連続的に分析し調べ
るのには適さない。
そこで、１つの方式として試料上での入射光す
なわち照射点を、試料を固定しておいてから逐次
移動させるフライングスポツト方式が提案されて
いる。
なわち照射点を、試料を固定しておいてから逐次
移動させるフライングスポツト方式が提案されて
いる。
第４図にフライングスポツト方式のクロマトス
キヤナの一例を示す。
キヤナの一例を示す。
１ａ，１ｂは光源ランプ、２は集光鏡、３はカ
ツトフイルタ、４は入口スリツト、５はコリメー
タ鏡、６は平面回折格子、７はパルスモータであ
る。パルスモータ７の回転軸には回転スリツト円
板９が取りつけられ、回転スリツト円板９には回
転角に比例して中心からの距離の増分が現われる
螺旋状みぞ穴があけられている。８は出口スリツ
ト部組立であり、そのスリツト板には回転スリツ
ト円板９の螺旋状みぞ穴と交差する位置に出口ス
リツトの幅方向を規定する方形穴８ａがあけられ
ており、回転スリツト円板９と重ならない位置に
幅と高さの固定された複数種類の方形穴８ｂがあ
けられている。パルスモータ７と出口スリツト部
組立８は、矢印で示されるＡ，Ｂ方向に直線的に
移動することのできる摺動基台１０に取りつけら
れている。１１は遮光板である。
ツトフイルタ、４は入口スリツト、５はコリメー
タ鏡、６は平面回折格子、７はパルスモータであ
る。パルスモータ７の回転軸には回転スリツト円
板９が取りつけられ、回転スリツト円板９には回
転角に比例して中心からの距離の増分が現われる
螺旋状みぞ穴があけられている。８は出口スリツ
ト部組立であり、そのスリツト板には回転スリツ
ト円板９の螺旋状みぞ穴と交差する位置に出口ス
リツトの幅方向を規定する方形穴８ａがあけられ
ており、回転スリツト円板９と重ならない位置に
幅と高さの固定された複数種類の方形穴８ｂがあ
けられている。パルスモータ７と出口スリツト部
組立８は、矢印で示されるＡ，Ｂ方向に直線的に
移動することのできる摺動基台１０に取りつけら
れている。１１は遮光板である。
フライングスポツト方式のジグザク走査を行な
う場合には、螺旋状の細長い溝穴を打ち抜いた回
転スリツト円板をその半径上で平行に合わせて置
かれた（僅かな空〓は必要になるが）細長い方形
スリツト８ａの前後（図の場合は後）で回転さ
せ、両者の交差する部分に生じた穴をもれ出る光
束が方形スリツトの高さ方向に移動する現象を利
用する。そして、固定スリツトによる測定方式に
切換えるにはこの回転スリツト円板９のシステム
を主光束の位置から完全に移動させ、固定スリツ
ト用の方形穴８ｂのいずれかを主光束の位置に位
置決めする。
う場合には、螺旋状の細長い溝穴を打ち抜いた回
転スリツト円板をその半径上で平行に合わせて置
かれた（僅かな空〓は必要になるが）細長い方形
スリツト８ａの前後（図の場合は後）で回転さ
せ、両者の交差する部分に生じた穴をもれ出る光
束が方形スリツトの高さ方向に移動する現象を利
用する。そして、固定スリツトによる測定方式に
切換えるにはこの回転スリツト円板９のシステム
を主光束の位置から完全に移動させ、固定スリツ
ト用の方形穴８ｂのいずれかを主光束の位置に位
置決めする。
（発明が解決しようとする問題点）
第４図のクロマトスキヤナでは、回転スリツト
円板９の直径が大きくなると、フライングスポツ
ト方式から固定スリツト方式への切替えの際に相
当の距離に渡り直線移動させねばならないので、
機械設計上からもスペースロスが大きいことがわ
かる。また固定スリツトを取りつけている出口ス
リツト部組立８が摺動基台１０に対して取りつけ
られる際、周囲の他の機械部品との「当り」を避
けるため、場合によつては無理のある（即ち完全
に振動やたわみの影響をカバーしきれない）状態
で取りつけられてしまう可能性もある。
円板９の直径が大きくなると、フライングスポツ
ト方式から固定スリツト方式への切替えの際に相
当の距離に渡り直線移動させねばならないので、
機械設計上からもスペースロスが大きいことがわ
かる。また固定スリツトを取りつけている出口ス
リツト部組立８が摺動基台１０に対して取りつけ
られる際、周囲の他の機械部品との「当り」を避
けるため、場合によつては無理のある（即ち完全
に振動やたわみの影響をカバーしきれない）状態
で取りつけられてしまう可能性もある。
回転スリツト円板９は一方向にのみ回転させら
れる。そのため、フライングスポツト方式のジグ
ザク走査では光が螺旋状みぞ穴を通過する部分
と、回転スリツト円板９に遮られて全く光の通過
しない部分とが存在する。そのため検出器の光電
子増倍管の負高圧レベルの急変や測光信号の応答
異常というような測光上の不都合が生じる。
れる。そのため、フライングスポツト方式のジグ
ザク走査では光が螺旋状みぞ穴を通過する部分
と、回転スリツト円板９に遮られて全く光の通過
しない部分とが存在する。そのため検出器の光電
子増倍管の負高圧レベルの急変や測光信号の応答
異常というような測光上の不都合が生じる。
本発明の目的は、フライングスポツト方式のジ
グザク走査において、測光上の不都合が生じない
ようにするとともに、フライングスポツト方式と
固定スリツト方式との間の切替えに際し、回転ス
リツト円板及び固定スリツトとその周辺機構部分
をスライド移動させなくてもすむようにして、複
雑で調整工数のかかるスライド式移動機構を不要
にすることにある。
グザク走査において、測光上の不都合が生じない
ようにするとともに、フライングスポツト方式と
固定スリツト方式との間の切替えに際し、回転ス
リツト円板及び固定スリツトとその周辺機構部分
をスライド移動させなくてもすむようにして、複
雑で調整工数のかかるスライド式移動機構を不要
にすることにある。
（問題点を解決するための手段）
一実施例を示す第１図Ａを参照して説明する
と、本発明のクロマトスキヤナでは、ほぼ半円領
域に回転角に比例して中心からの距離の増分が現
われる螺旋状みぞ穴１３があけられ、残りのほぼ
半円領域に方形の穴１４−１〜１４−５があけら
れた回転スリツト円板１２を出口スリツト位置に
設け、フライングスポツト方式のジグザク走査を
行なう場合には螺旋状みぞ穴１３を光束が通過す
る範囲内で回転スリツト円板１２を正逆往復回転
させ、固定スリツト方式の走査を行なう場合には
回転スリツト円板１２の方形の穴１４−１〜１４
−５を選択してその選択された方形の穴を光束が
通過する位置に回転スリツト円板１２を固定す
る。
と、本発明のクロマトスキヤナでは、ほぼ半円領
域に回転角に比例して中心からの距離の増分が現
われる螺旋状みぞ穴１３があけられ、残りのほぼ
半円領域に方形の穴１４−１〜１４−５があけら
れた回転スリツト円板１２を出口スリツト位置に
設け、フライングスポツト方式のジグザク走査を
行なう場合には螺旋状みぞ穴１３を光束が通過す
る範囲内で回転スリツト円板１２を正逆往復回転
させ、固定スリツト方式の走査を行なう場合には
回転スリツト円板１２の方形の穴１４−１〜１４
−５を選択してその選択された方形の穴を光束が
通過する位置に回転スリツト円板１２を固定す
る。
（実施例）
第１図Ａは一実施例における回転スリツト円板
１２をパルスモータ７に取りつけた状態の正面図
を表わし、同図Ｂは側面図である。
１２をパルスモータ７に取りつけた状態の正面図
を表わし、同図Ｂは側面図である。
回転スリツト円板１２は支持板１６に貼りつけ
られてパルスモータ７の回転軸に取りつけられて
いる。
られてパルスモータ７の回転軸に取りつけられて
いる。
回転スリツト円板１２の半円の領域に螺旋状み
ぞ穴スリツト１３が打ち抜かれている。みぞ穴ス
リツト１３は回転スリツト円板１２が図で時計方
向に回転するとｘ軸（図上の水平軸のこと）とこ
のみぞ穴スリツトとが交差する位置は、中心であ
る原点からの半径で表わして ｒ＝r1＋（r2−r1）θ／180 となる。１５は回転角原点検出用穴であり、θは
回転角原点検出用穴１５が設けられている位置か
ら反時計まわりの角度（度）である。回転スリツ
ト円板１２が時計回りをする場合、ｒの大きさは
r1→r2に向つて増大し、その後、反時計回りをす
る場合にはr2→r1に向けて減少する。このことか
ら図上でｙ軸（鉛直軸）上のｔ＝rm｛＝（r1＋
r2）／２｝なる位置を分光器の出口スリツトを通
る主光束（要するに光軸）の位置に定め、円板を
±90°の回転角で正逆両方向に交互に回転させる
と、ｙ＝r1からｙ＝r2までの範囲内でみぞ穴１３
から漏れ出る光束の位置が周期的振動をする。そ
して、回転スリツト円板１２の回転中に、回転ス
リツト円板１２を通過する光が完全に遮断される
こともない。
ぞ穴スリツト１３が打ち抜かれている。みぞ穴ス
リツト１３は回転スリツト円板１２が図で時計方
向に回転するとｘ軸（図上の水平軸のこと）とこ
のみぞ穴スリツトとが交差する位置は、中心であ
る原点からの半径で表わして ｒ＝r1＋（r2−r1）θ／180 となる。１５は回転角原点検出用穴であり、θは
回転角原点検出用穴１５が設けられている位置か
ら反時計まわりの角度（度）である。回転スリツ
ト円板１２が時計回りをする場合、ｒの大きさは
r1→r2に向つて増大し、その後、反時計回りをす
る場合にはr2→r1に向けて減少する。このことか
ら図上でｙ軸（鉛直軸）上のｔ＝rm｛＝（r1＋
r2）／２｝なる位置を分光器の出口スリツトを通
る主光束（要するに光軸）の位置に定め、円板を
±90°の回転角で正逆両方向に交互に回転させる
と、ｙ＝r1からｙ＝r2までの範囲内でみぞ穴１３
から漏れ出る光束の位置が周期的振動をする。そ
して、回転スリツト円板１２の回転中に、回転ス
リツト円板１２を通過する光が完全に遮断される
こともない。
また、回転スリツト円板１２の残りの半円の領
域には、幅（円周方向）と高さ（半径方向）が固
定された５種類の方形スリツト１４−１〜１４−
５が打ち抜かれている。方形スリツト１４−１〜
１４−５は回転角原点検出用穴１５が設けられて
いる位置から時計まわりにそれぞれθ1〜θ5の位置
に設けられている。
域には、幅（円周方向）と高さ（半径方向）が固
定された５種類の方形スリツト１４−１〜１４−
５が打ち抜かれている。方形スリツト１４−１〜
１４−５は回転角原点検出用穴１５が設けられて
いる位置から時計まわりにそれぞれθ1〜θ5の位置
に設けられている。
これらの方形スリツト１４−１〜１４−５のい
ずれかを選択するには、回転角原点検出用穴１５
がフオトカプラの溝を横切つて原点検出をした
後、そこからの必要パルス数を円板駆動用のパル
スモータ７に送り込んで特定の幅、高さの方形ス
リツト１４−１〜１４−５を主光束の位置に位置
決めする。この操作は本体機器に接続されている
操作部のキーボードからの入力により行なうこと
ができる。
ずれかを選択するには、回転角原点検出用穴１５
がフオトカプラの溝を横切つて原点検出をした
後、そこからの必要パルス数を円板駆動用のパル
スモータ７に送り込んで特定の幅、高さの方形ス
リツト１４−１〜１４−５を主光束の位置に位置
決めする。この操作は本体機器に接続されている
操作部のキーボードからの入力により行なうこと
ができる。
回転スリツト円板１２の各半円の領域に異なる
パターンのスリツト穴を打ち抜くので、回転スリ
ツト円板１２を貼りつける支持円板１６には双方
の領域に対して質量の片寄りがなく、うまくバラ
ンスが取れて回転スリツト円板１２が正常に回転
するように逃がし穴（スリツト部分以外の穴）を
打ち抜いておく。
パターンのスリツト穴を打ち抜くので、回転スリ
ツト円板１２を貼りつける支持円板１６には双方
の領域に対して質量の片寄りがなく、うまくバラ
ンスが取れて回転スリツト円板１２が正常に回転
するように逃がし穴（スリツト部分以外の穴）を
打ち抜いておく。
第１図Ａの回転スリツト円板１２を用いてフラ
イングスポツト方式のジグザク走査を行なうとき
は、光束が螺旋状みぞ穴１３を通過する半円の範
囲内で回転スリツト円板１２を正逆両方向に交互
に回転させる。光束は絶えず回転スリツト円板１
２のみぞ穴１３から漏れ出し、また、光束が他の
半円領域の方形スリツト１４−１〜１４−５を通
過することもない。そのため、測光系には、急激
な光量変化による光電子増倍管の負高圧レベルの
突発的変動や測光信号の応答異常のような悪影響
は現われない。
イングスポツト方式のジグザク走査を行なうとき
は、光束が螺旋状みぞ穴１３を通過する半円の範
囲内で回転スリツト円板１２を正逆両方向に交互
に回転させる。光束は絶えず回転スリツト円板１
２のみぞ穴１３から漏れ出し、また、光束が他の
半円領域の方形スリツト１４−１〜１４−５を通
過することもない。そのため、測光系には、急激
な光量変化による光電子増倍管の負高圧レベルの
突発的変動や測光信号の応答異常のような悪影響
は現われない。
このフライングスポツト方式のジグザク走査の
様子を示すと第２図のようになる。図で２２は幅
方向スリツト、２３は結像用光学素子（球面鏡で
もよい）、２４は折曲げ鏡である。２５は薄層プ
レート又は二次元泳動ゲルである。回転スリツト
円板１２と幅方向スリツト２２を通過した光スポ
ツトは、薄層プレート又は二次元泳動ゲル２５上
でＸ方向（すなわち左右）に移動し、薄層プレー
ト２５はＸ−Ｙステージ（図示略）により光スポ
ツトの移動方向Ｘと直交するＹ方向に移動させら
れる。
様子を示すと第２図のようになる。図で２２は幅
方向スリツト、２３は結像用光学素子（球面鏡で
もよい）、２４は折曲げ鏡である。２５は薄層プ
レート又は二次元泳動ゲルである。回転スリツト
円板１２と幅方向スリツト２２を通過した光スポ
ツトは、薄層プレート又は二次元泳動ゲル２５上
でＸ方向（すなわち左右）に移動し、薄層プレー
ト２５はＸ−Ｙステージ（図示略）により光スポ
ツトの移動方向Ｘと直交するＹ方向に移動させら
れる。
固定スリツト方式に切り替える場合は、所定の
方形スリツト１４−１〜１４−５を主光束の位置
へ位置決めし、回転スリツト円板１２を固定す
る。このとき、回転スリツト円板１２の方形スポ
ツトを通過した光スポツトは固定されており、薄
層プレート又は二次元泳動ゲル２５がＸ−Ｙステ
ージによりＸ，Ｙ方向にジグザグ走査させられる
か、Ｙ方向のみにリニア走査させられる。
方形スリツト１４−１〜１４−５を主光束の位置
へ位置決めし、回転スリツト円板１２を固定す
る。このとき、回転スリツト円板１２の方形スポ
ツトを通過した光スポツトは固定されており、薄
層プレート又は二次元泳動ゲル２５がＸ−Ｙステ
ージによりＸ，Ｙ方向にジグザグ走査させられる
か、Ｙ方向のみにリニア走査させられる。
第３図に他の実施例を示す。
分光器出口スリツト上で結像（試料面上へのピ
ント合わせ）がスリツト高さ方向と幅方向とで多
少ずれがあり、両方向各々に分けて出口スリツト
位置を取扱わなければならない場合、回転スリツ
ト円板１２の固定スリツトとしては高さ方向の大
きさを変えた数種類を打ち抜き、回転スリツト円
板１２に対して光束の進行方向から見て前又は後
（図の場合は後）に幅方向を規定する可変のスリ
ツト２６を設ける。ただし、この場合は図のよう
に２枚の刃先のギヤツプを連続可変させてしまう
ようなタイプが適する。
ント合わせ）がスリツト高さ方向と幅方向とで多
少ずれがあり、両方向各々に分けて出口スリツト
位置を取扱わなければならない場合、回転スリツ
ト円板１２の固定スリツトとしては高さ方向の大
きさを変えた数種類を打ち抜き、回転スリツト円
板１２に対して光束の進行方向から見て前又は後
（図の場合は後）に幅方向を規定する可変のスリ
ツト２６を設ける。ただし、この場合は図のよう
に２枚の刃先のギヤツプを連続可変させてしまう
ようなタイプが適する。
（発明の効果）
本発明によれば、次のような効果を達成するこ
とができる。
とができる。
(1) フライングスポツト方式での測定実行中は螺
旋状みぞ穴の切られている範囲内のみで正逆交
互往復回転させるので、途中で光束が完全に遮
断されたり、固定用スリツトの方形穴が光束を
よぎるということがない。そのため、測光系
に、光電子増倍管の負高圧レベルの急変や測光
信号の応答異常というような悪影響を与えるこ
とがない。
旋状みぞ穴の切られている範囲内のみで正逆交
互往復回転させるので、途中で光束が完全に遮
断されたり、固定用スリツトの方形穴が光束を
よぎるということがない。そのため、測光系
に、光電子増倍管の負高圧レベルの急変や測光
信号の応答異常というような悪影響を与えるこ
とがない。
(2) フライングスポツト方式用のスリツトから固
定用スリツトへの切替えは、回転スリツト円板
の回転の制御だけで行なうことが可能になるの
で、モータを含めた回転スリツト円板の機構全
体を直線移動させる必要がない。同時にそのよ
うな移動のための複雑な機構が不必要となる。
また、コストダウにもなる。
定用スリツトへの切替えは、回転スリツト円板
の回転の制御だけで行なうことが可能になるの
で、モータを含めた回転スリツト円板の機構全
体を直線移動させる必要がない。同時にそのよ
うな移動のための複雑な機構が不必要となる。
また、コストダウにもなる。
(3) 固定スリツト方式の走査を行なうために、回
転スリツト円板の方形の穴によつて方形スリツ
トの高さ又は幅を規定するようにし、可変スリ
ツトを別に設けて方形スリツトの幅又は高さを
規定するようにすれば、分光器出口スリツト上
でスリツトの高さ方向と幅方向で結像にずれが
ある場合にも良好に適用することができる。
転スリツト円板の方形の穴によつて方形スリツ
トの高さ又は幅を規定するようにし、可変スリ
ツトを別に設けて方形スリツトの幅又は高さを
規定するようにすれば、分光器出口スリツト上
でスリツトの高さ方向と幅方向で結像にずれが
ある場合にも良好に適用することができる。
第１図は本発明の一実施例で用いられる回転ス
リツト円板をモータに取りつけた状態を表わし、
同図Ａは回転スリツト円板側から見た正面図、同
図Ｂは側面図である。第２図は同実施例における
フライングスポツト方式のジグザク走査を示す概
略図、第３図は他の実施例を示す側面図、第４図
は従来のクロマトスキヤナを示す平面図である。 １２……回転スリツト円板、１３……螺旋状み
ぞ穴、１４−１〜１４−５……方形スリツト、１
５……回転角原点検出用穴。
リツト円板をモータに取りつけた状態を表わし、
同図Ａは回転スリツト円板側から見た正面図、同
図Ｂは側面図である。第２図は同実施例における
フライングスポツト方式のジグザク走査を示す概
略図、第３図は他の実施例を示す側面図、第４図
は従来のクロマトスキヤナを示す平面図である。 １２……回転スリツト円板、１３……螺旋状み
ぞ穴、１４−１〜１４−５……方形スリツト、１
５……回転角原点検出用穴。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ほぼ半円領域に回転角に比例して中心からの
距離の増分が現われる螺旋状みぞ穴があけられ、
残りのほぼ半円領域に方形の穴があけられた回転
スリツト円板を出口スリツト位置に設け、フライ
ングスポツト方式のジグザグ走査を行なう場合に
は前記螺旋状みぞ穴を光束が通過する範囲内で前
記回転スリツト円板を正逆往復回転させ、固定ス
リツト方式の走査を行なう場合には前記回転スリ
ツト円板の方形の穴を選択してその方形の穴を主
光束が通過する位置に前記回転スリツト円板を固
定することを特徴とするクロマトスキヤナ。 ２ ほぼ半円領域に回転角に比例して中心からの
距離の増分が現われる螺旋状みぞ穴があけられ、
残りのほぼ半円領域に高さと幅のうちの一方を異
ならせ他方を十分な大きさにした複数種類の方形
の穴があけられた回転スリツト円板を出口スリツ
ト位置に設け、光束進行方向に対して前記回転ス
リツト円板の前方又は後方でその回転スリツト円
板に接近して前記方形の穴の十分な大きさをもつ
た側の寸法を規定する可変スリツトを設け、フラ
イングスポツト方式のジグザク走査を行なう場合
には、前記可変スリツトを十分な大きさに広げた
状態にして前記螺旋状みぞ穴を光束が通過する範
囲内で前記回転スリツト円板を正逆往復回転さ
せ、固定スリツト方式の走査を行なう場合には、
前記可変スリツトで前記方形の穴の十分な大きさ
をもつた側の寸法を規定し、前記回転スリツト円
板の方形の穴を選択してその方形の穴を主光束が
通過する位置に前記回転スリツト円板を固定する
ことを特徴とするクロマトスキヤナ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21846385A JPS6276434A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | クロマトスキャナ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21846385A JPS6276434A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | クロマトスキャナ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6276434A JPS6276434A (ja) | 1987-04-08 |
| JPH0441941B2 true JPH0441941B2 (ja) | 1992-07-09 |
Family
ID=16720298
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21846385A Granted JPS6276434A (ja) | 1985-09-30 | 1985-09-30 | クロマトスキャナ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6276434A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4797233B2 (ja) * | 2000-09-25 | 2011-10-19 | パナソニック株式会社 | 小型試料濃度測定装置 |
| EP2077444A3 (en) * | 2000-09-25 | 2009-11-04 | Panasonic Corporation | Chromatography quantitative measuring apparatus |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4913088A (ja) * | 1972-05-18 | 1974-02-05 | ||
| JPS5123795A (ja) * | 1974-08-21 | 1976-02-25 | Shimadzu Corp |
-
1985
- 1985-09-30 JP JP21846385A patent/JPS6276434A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4913088A (ja) * | 1972-05-18 | 1974-02-05 | ||
| JPS5123795A (ja) * | 1974-08-21 | 1976-02-25 | Shimadzu Corp |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6276434A (ja) | 1987-04-08 |
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