JPH04370548A - 光記録ディスク用基体の製造方法およびそれを実施するための装置 - Google Patents
光記録ディスク用基体の製造方法およびそれを実施するための装置Info
- Publication number
- JPH04370548A JPH04370548A JP3148643A JP14864391A JPH04370548A JP H04370548 A JPH04370548 A JP H04370548A JP 3148643 A JP3148643 A JP 3148643A JP 14864391 A JP14864391 A JP 14864391A JP H04370548 A JPH04370548 A JP H04370548A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- transfer layer
- optical recording
- support
- stamper
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
- G11B7/263—Preparing and using a stamper, e.g. pressing or injection molding substrates
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ディスク状の基板と、
この基板の表面に積層されたグルーブを有する転写層と
を有する光記録ディスク用基体の製造方法およびそれを
実施するための装置に関する。
この基板の表面に積層されたグルーブを有する転写層と
を有する光記録ディスク用基体の製造方法およびそれを
実施するための装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、光記録ディスクの基板表面には
同心円またはスパイラルのトラッキング用グルーブが設
けられており、このものを設ける方法として、プラスチ
ック射出成形によって基板とグルーブを一体成形する方
法と、基板上にグルーブを有する転写層を設けるいわゆ
る２Ｐ（光重合；Ｐｈｏｔｏ−Ｐｏｌｙｍｅｒｒｉｚａ
ｔｉｏｎ）法とが知られている。
同心円またはスパイラルのトラッキング用グルーブが設
けられており、このものを設ける方法として、プラスチ
ック射出成形によって基板とグルーブを一体成形する方
法と、基板上にグルーブを有する転写層を設けるいわゆ
る２Ｐ（光重合；Ｐｈｏｔｏ−Ｐｏｌｙｍｅｒｒｉｚａ
ｔｉｏｎ）法とが知られている。
【０００３】このうち、後者の２Ｐ法は、図６〜図９に
示されるような工程で製造される。すなわち、グルーブ
作製原盤３０（以下にスタンパ３０という）又は光透過
性の基板１１（光学ガラス又は透明樹脂にて形成される
）の上に紫外線硬化性樹脂溶液１２ａを、中心軸に対し
て同心円状に塗布した後（図６参照）、スタンパ３０と
基板１１とを圧接し、しかる後、基板１１を通して紫外
線（ＵＶ）を照射することにより、紫外線硬化性樹脂溶
液１２ａを硬化させ、転写層１２を形成させる。（図７
参照）。基板１１と一体化した転写層１２をスタンパ３
０から剥離すると、硬化した転写層１２の表面上にスタ
ンパ３０のグルーブパターンが転写複製される（図８，
９参照）。そして、転写層１２の表面に記録層を積層し
、接着剤層を介して別の基板（保護板）を接着すること
により光記録ディスクが製造される。
示されるような工程で製造される。すなわち、グルーブ
作製原盤３０（以下にスタンパ３０という）又は光透過
性の基板１１（光学ガラス又は透明樹脂にて形成される
）の上に紫外線硬化性樹脂溶液１２ａを、中心軸に対し
て同心円状に塗布した後（図６参照）、スタンパ３０と
基板１１とを圧接し、しかる後、基板１１を通して紫外
線（ＵＶ）を照射することにより、紫外線硬化性樹脂溶
液１２ａを硬化させ、転写層１２を形成させる。（図７
参照）。基板１１と一体化した転写層１２をスタンパ３
０から剥離すると、硬化した転写層１２の表面上にスタ
ンパ３０のグルーブパターンが転写複製される（図８，
９参照）。そして、転写層１２の表面に記録層を積層し
、接着剤層を介して別の基板（保護板）を接着すること
により光記録ディスクが製造される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記、従
来の光記録ディスクのグルーブ作製のための転写複製工
程においては、以下の問題が生じていた。
来の光記録ディスクのグルーブ作製のための転写複製工
程においては、以下の問題が生じていた。
【０００５】すなわち、光記録ディスクの基板に用いら
れる、例えばガラス基板は、はじめから完璧な平面とは
なっておらず、必ず種々の成形ひずみに起因する反りが
生じており、そのため、このようなガラス基板に２Ｐか
らなる転写層を形成しても、転写層の厚みが不均一とな
ってしまう。光記録ディスクの光学系は、基板の厚みに
よる収差を考慮して設計されるため、レンズのＮＡ（開
口数）が大きくなると転写層の厚みの不均一が収差に及
ぼす影響が大きく、転写層の厚みの不均一は深刻な問題
となる。
れる、例えばガラス基板は、はじめから完璧な平面とは
なっておらず、必ず種々の成形ひずみに起因する反りが
生じており、そのため、このようなガラス基板に２Ｐか
らなる転写層を形成しても、転写層の厚みが不均一とな
ってしまう。光記録ディスクの光学系は、基板の厚みに
よる収差を考慮して設計されるため、レンズのＮＡ（開
口数）が大きくなると転写層の厚みの不均一が収差に及
ぼす影響が大きく、転写層の厚みの不均一は深刻な問題
となる。
【０００６】このような問題を解決するために、本発明
は創案されたものであって、その目的は、従来の問題点
を解決し、基板の反りに起因する転写層の厚みの不均一
性を防止し、極めて転写層厚みの均一性に優れる光記録
ディスク用基体を製造する方法およびそれを実施するた
めの装置を提供することにある。
は創案されたものであって、その目的は、従来の問題点
を解決し、基板の反りに起因する転写層の厚みの不均一
性を防止し、極めて転写層厚みの均一性に優れる光記録
ディスク用基体を製造する方法およびそれを実施するた
めの装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明は、スタンパ又は光透過性のディスク状基板の
上に紫外線硬化性樹脂溶液を、中心軸に対して同心円状
に塗布した後、スタンパと基板とを圧接し、しかる後、
基板を通して紫外線ＵＶを照射することにより、紫外線
硬化性樹脂溶液を硬化させて転写層を形成させる工程を
含む光記録ディスク用基体の製造方法であって、前記基
板は、転写層を形成する前に、予め、基板中央から基板
外周にかけて略円錘状凸部形状となるように強制的に変
形させられ、しかる後、この基板の略円錘状凸部形状側
に転写層を積層して形成するように構成した。また、光
透過性の基板を載置する第一の支持体と、前記基板と対
向するように設けられたスタンパを載置する第二の支持
体と、前記第一の支持体と第二の支持体とを相対的に接
近せしめる駆動装置とを備える光記録ディスク用基体の
製造装置であって、前記第一の支持体は、中心シャフト
と、この中心シャフトの上部に設けられ、基板のセンタ
ーホールの内周面と当接するテーパ面を有する係止部材
とを備え、前記第二の支持体は、前記中心シャフトを包
囲するような筒状形状をなし、前記基板のセンターホー
ル内周周縁部近傍と当接する当接リング部を備えるよう
に構成した。
に本発明は、スタンパ又は光透過性のディスク状基板の
上に紫外線硬化性樹脂溶液を、中心軸に対して同心円状
に塗布した後、スタンパと基板とを圧接し、しかる後、
基板を通して紫外線ＵＶを照射することにより、紫外線
硬化性樹脂溶液を硬化させて転写層を形成させる工程を
含む光記録ディスク用基体の製造方法であって、前記基
板は、転写層を形成する前に、予め、基板中央から基板
外周にかけて略円錘状凸部形状となるように強制的に変
形させられ、しかる後、この基板の略円錘状凸部形状側
に転写層を積層して形成するように構成した。また、光
透過性の基板を載置する第一の支持体と、前記基板と対
向するように設けられたスタンパを載置する第二の支持
体と、前記第一の支持体と第二の支持体とを相対的に接
近せしめる駆動装置とを備える光記録ディスク用基体の
製造装置であって、前記第一の支持体は、中心シャフト
と、この中心シャフトの上部に設けられ、基板のセンタ
ーホールの内周面と当接するテーパ面を有する係止部材
とを備え、前記第二の支持体は、前記中心シャフトを包
囲するような筒状形状をなし、前記基板のセンターホー
ル内周周縁部近傍と当接する当接リング部を備えるよう
に構成した。
【０００８】
【作用】転写層を形成する前に、基板を予め、基板中央
から基板外周にかけて略円錘状凸部形状となるように強
制的に変形せしめ、しかる後、この基板の略円錘状凸部
形状側に転写層を積層したので、紫外線照射に基ずく転
写層の硬化収縮によって、基板の反りを戻す力が生じて
転写層は均一厚さとなる。
から基板外周にかけて略円錘状凸部形状となるように強
制的に変形せしめ、しかる後、この基板の略円錘状凸部
形状側に転写層を積層したので、紫外線照射に基ずく転
写層の硬化収縮によって、基板の反りを戻す力が生じて
転写層は均一厚さとなる。
【０００９】
【実施例】以下、本発明の光記録ディスク用基体の製造
装置について、図１〜図３に基づいて説明する。
装置について、図１〜図３に基づいて説明する。
【００１０】本発明の装置５０は、中央部に光透過性の
ディスク状基板１１を載置する第一の支持体６０と、こ
の第一の支持体６０の外周を包囲するように設けられ、
前記基板１１と対向するように設けられたスタンパ３０
を載置する第二の支持体８０と、前記第一の支持体６０
と第二の支持体８０とを相対的に接近せしめる駆動装置
（図示しない）とを備えている。
ディスク状基板１１を載置する第一の支持体６０と、こ
の第一の支持体６０の外周を包囲するように設けられ、
前記基板１１と対向するように設けられたスタンパ３０
を載置する第二の支持体８０と、前記第一の支持体６０
と第二の支持体８０とを相対的に接近せしめる駆動装置
（図示しない）とを備えている。
【００１１】前記第一の支持体６０は、中心シャフト６
１と、この中心シャフト６１の上部６１ａに設けられる
係止部材６３とを備えている。この係止部材６３は、基
板１１のセンターホールの内周面１１ａと当接すること
のあるテーパ面６３ａを有する円錘台形状をしており、
この係止部材６３の内部中央部には、前記中心シャフト
６１の上部６１ａから伸びる係合突起６２と係合するた
めの孔部６３ｂが穿設されている（図１）。このような
係止部材６３と前記中心シャフト６１とは、接合部に設
けられた捩子（図示しない）によって接合できるように
なっている。
１と、この中心シャフト６１の上部６１ａに設けられる
係止部材６３とを備えている。この係止部材６３は、基
板１１のセンターホールの内周面１１ａと当接すること
のあるテーパ面６３ａを有する円錘台形状をしており、
この係止部材６３の内部中央部には、前記中心シャフト
６１の上部６１ａから伸びる係合突起６２と係合するた
めの孔部６３ｂが穿設されている（図１）。このような
係止部材６３と前記中心シャフト６１とは、接合部に設
けられた捩子（図示しない）によって接合できるように
なっている。
【００１２】前記第二の支持体８０は、前記中心シャフ
ト６１を包囲するような筒状形状をなしている。そして
、この第二の支持体８０は、図３に示されるように前記
第一の支持体６０と第二の支持体８０とを相対的に接近
せしめた時に、基板１１のセンターホール内周周縁部近
傍１１ｂと当接する当接リング部８３を備えている。 この当接リング部８３は、基板１１を一時的に一定方向
に強制的に反らせて変形させるためのものであり、基板
１１の内周周縁部近傍１１ｂと係合するものであれば特
にその形態に制限はない。本実施例では、図３に示され
るように筒状形状をした第二の支持体８０の内周上端部
８３が当接リング部８３となっている。
ト６１を包囲するような筒状形状をなしている。そして
、この第二の支持体８０は、図３に示されるように前記
第一の支持体６０と第二の支持体８０とを相対的に接近
せしめた時に、基板１１のセンターホール内周周縁部近
傍１１ｂと当接する当接リング部８３を備えている。 この当接リング部８３は、基板１１を一時的に一定方向
に強制的に反らせて変形させるためのものであり、基板
１１の内周周縁部近傍１１ｂと係合するものであれば特
にその形態に制限はない。本実施例では、図３に示され
るように筒状形状をした第二の支持体８０の内周上端部
８３が当接リング部８３となっている。
【００１３】この第二の支持体８０の上端部には、図２
に示されるようにスタンパ３０が固定して設けられるよ
うになっている。このスタンパ３０の上面には、グルー
ブを形成するための溝（図示しない）が形成されている
。
に示されるようにスタンパ３０が固定して設けられるよ
うになっている。このスタンパ３０の上面には、グルー
ブを形成するための溝（図示しない）が形成されている
。
【００１４】図示しない駆動装置は、本実施例の場合、
第一の支持体６０に取り付けられており、第一の支持体
６０が上下に昇降可能になっている。次に、本発明の光
記録ディスク用基体の製造方法について説明する。
第一の支持体６０に取り付けられており、第一の支持体
６０が上下に昇降可能になっている。次に、本発明の光
記録ディスク用基体の製造方法について説明する。
【００１５】まず、図３に示されるようにスタンパ３０
の上に紫外線硬化性樹脂溶液１２ａを、中心軸に対して
同心円状に塗布する。塗布はスタンパ３０を１５〜２０
ｒｐｍのゆっくりした回転速度で回転させながら、紫外
線硬化性樹脂溶液１２ａを所定量滴下することにより行
われる。この滴下量は、３〜４ｃｃ程度である。
の上に紫外線硬化性樹脂溶液１２ａを、中心軸に対して
同心円状に塗布する。塗布はスタンパ３０を１５〜２０
ｒｐｍのゆっくりした回転速度で回転させながら、紫外
線硬化性樹脂溶液１２ａを所定量滴下することにより行
われる。この滴下量は、３〜４ｃｃ程度である。
【００１６】ついで、図示しない駆動装置が駆動し、第
一の支持体６０が、１〜２ｃｍ／ｍｉｎ程度の降下速度
で徐々に降りてくる。基板１１とスタンパ３０とが接し
た後もさらに、第一の支持体６０の降下は続けられ、あ
る降下位置で、図３に示されるように、係止部材６３の
テーパ面６３ａと基板１１のセンターホールの内周面１
１ａとが係合し始め、さらに降下が続けられると、第二
の支持体８０の当接リング部８３を支点として、基板１
１が基板中央から基板外周にかけて略円錐状凸部形状と
なるように強制的に変形させられ、降下は停止される。 この時、スタンパ３０と基板１１とは紫外線硬化性樹脂
溶液１２ａを介して、圧接された状態にあり、基板上に
紫外線硬化性樹脂溶液が延ばされる。この状態において
は図４（ａ）の概念図に示されるように、基板１１の外
径方向に行くにつれ、塗設量は大きくなっている。この
場合における基板の略円錘状凸部形状の傾斜（矯正反り
量）は、０．０１〜１ｍｒａｄ（ミリラジアン）、好ま
しくは、０．０１〜０．７ｍｒａｄである。これらの範
囲を外れると、紫外線硬化性樹脂溶液１２ａの硬化収縮
に基ずく転写層１２厚みの均一性が達成できない。
一の支持体６０が、１〜２ｃｍ／ｍｉｎ程度の降下速度
で徐々に降りてくる。基板１１とスタンパ３０とが接し
た後もさらに、第一の支持体６０の降下は続けられ、あ
る降下位置で、図３に示されるように、係止部材６３の
テーパ面６３ａと基板１１のセンターホールの内周面１
１ａとが係合し始め、さらに降下が続けられると、第二
の支持体８０の当接リング部８３を支点として、基板１
１が基板中央から基板外周にかけて略円錐状凸部形状と
なるように強制的に変形させられ、降下は停止される。 この時、スタンパ３０と基板１１とは紫外線硬化性樹脂
溶液１２ａを介して、圧接された状態にあり、基板上に
紫外線硬化性樹脂溶液が延ばされる。この状態において
は図４（ａ）の概念図に示されるように、基板１１の外
径方向に行くにつれ、塗設量は大きくなっている。この
場合における基板の略円錘状凸部形状の傾斜（矯正反り
量）は、０．０１〜１ｍｒａｄ（ミリラジアン）、好ま
しくは、０．０１〜０．７ｍｒａｄである。これらの範
囲を外れると、紫外線硬化性樹脂溶液１２ａの硬化収縮
に基ずく転写層１２厚みの均一性が達成できない。
【００１７】このようにして基板１１とスタンパ３０と
が紫外線硬化性樹脂溶液１２ａを介して圧接された後、
基板１１を通して紫外線（ＵＶ）を照射することにより
、紫外線硬化性樹脂溶液１２ａが硬化される。この際に
、転写層１２の硬化収縮により、転写層１２の厚さは均
一になるとともに、基板の反りもなくなる（図４（ｂ）
）。
が紫外線硬化性樹脂溶液１２ａを介して圧接された後、
基板１１を通して紫外線（ＵＶ）を照射することにより
、紫外線硬化性樹脂溶液１２ａが硬化される。この際に
、転写層１２の硬化収縮により、転写層１２の厚さは均
一になるとともに、基板の反りもなくなる（図４（ｂ）
）。
【００１８】しかる後、基板１１と一体化した転写層１
２（硬化した紫外線硬化性樹脂溶液１２ａをスタンパ３
０から剥離すると、硬化した転写層１２の表面上にスタ
ンパ３０のグルーブパターンが転写複製され、本発明の
光記録ディスク用基体が製造される。そして、例えば、
図１０に示されるように転写層１２の表面に記録層１３
を積層し、接着剤層１４を介して別の保護基板１５を接
着することにより光記録ディスクが製造される。
２（硬化した紫外線硬化性樹脂溶液１２ａをスタンパ３
０から剥離すると、硬化した転写層１２の表面上にスタ
ンパ３０のグルーブパターンが転写複製され、本発明の
光記録ディスク用基体が製造される。そして、例えば、
図１０に示されるように転写層１２の表面に記録層１３
を積層し、接着剤層１４を介して別の保護基板１５を接
着することにより光記録ディスクが製造される。
【００１９】なお、本発明では紫外線硬化性樹脂溶液を
スタンパ３０の上に最初に塗設する場合を例にとって説
明したが、スタンパ３０と基板１１との位置関係を逆に
して最初に、基板１１に塗設してもよいことは勿論であ
る。
スタンパ３０の上に最初に塗設する場合を例にとって説
明したが、スタンパ３０と基板１１との位置関係を逆に
して最初に、基板１１に塗設してもよいことは勿論であ
る。
【００２０】なお、基板１１は、光透過性のガラスや、
ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メチル（
ＰＭＭＡ）等の樹脂から形成される。このような基板１
１の厚さは１．１〜１．２ｍｍ程度とされる。また、記
録層１３は、光記録可能な材料から形成される。例えば
、ＴｅＦｅＣｏ、ＧｄＴｂＦｅ、ＧａＴｂＣｏ、ＧｄＦ
ｅＢｉ、ＤｙＦｅ、ＧｄＦｅ、ＧｄＣｏ、ＢｉＳｍＹｂ
ＣｏＧｅＩＧ、ＢｉＳｍＥｒＧａＩＧ、ＧｄＩＧ、Ｃｏ
Ｃｒ、ＣｒＯ２ 、ＰｔＣｏ、ＥｕＯＦｅ、ＥｕＯ、Ｍ
ｎＣｕＢｉ、ＭｎＡｌＧｅ、ＭｎＢｉ等の光磁気記録材
料や、Ｔｅ系やシアニン等の有機色素系のピット形成タ
イプの記録材料や、Ａｓ−Ｔｅ−Ｇｅ系、Ｓｎ−Ｔｅ−
Ｓｅ系、ＴｅＯｘ 系、Ｓｂ２ Ｓｅ３ 等の相変化に
よる記録材料が一例として挙げられる。
ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメタクリル酸メチル（
ＰＭＭＡ）等の樹脂から形成される。このような基板１
１の厚さは１．１〜１．２ｍｍ程度とされる。また、記
録層１３は、光記録可能な材料から形成される。例えば
、ＴｅＦｅＣｏ、ＧｄＴｂＦｅ、ＧａＴｂＣｏ、ＧｄＦ
ｅＢｉ、ＤｙＦｅ、ＧｄＦｅ、ＧｄＣｏ、ＢｉＳｍＹｂ
ＣｏＧｅＩＧ、ＢｉＳｍＥｒＧａＩＧ、ＧｄＩＧ、Ｃｏ
Ｃｒ、ＣｒＯ２ 、ＰｔＣｏ、ＥｕＯＦｅ、ＥｕＯ、Ｍ
ｎＣｕＢｉ、ＭｎＡｌＧｅ、ＭｎＢｉ等の光磁気記録材
料や、Ｔｅ系やシアニン等の有機色素系のピット形成タ
イプの記録材料や、Ａｓ−Ｔｅ−Ｇｅ系、Ｓｎ−Ｔｅ−
Ｓｅ系、ＴｅＯｘ 系、Ｓｂ２ Ｓｅ３ 等の相変化に
よる記録材料が一例として挙げられる。
【００２１】以下、具体的実験例を示し、本発明をさら
に詳細に説明する。 実験例 まず、直径３２７ｍｍのスタンパ３０を回転させつつ、
中心から１００ｍｍの位置に紫外線硬化性樹脂溶液１２
ａを連続的に滴下し、中心軸に対してリング状の溶液帯
（幅約１０ｍｍ）を作製した。その後、スタンパ３０に
対向して設けられた直径３００ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの
ガラス基板１１を載置する第一の支持体６０を、スタン
パ３０の方に移動させてスタンパ３０と基板１１とを圧
接し、紫外線硬化性樹脂溶液１２ａを内側および外側に
延ばし、基板１１のほぼ全面に塗設した。しかる後、基
板１１を通して紫外線（ＵＶ）を照射することにより、
紫外線硬化性樹脂溶液１２ａを硬化させ、スタンパ３０
を基板１１から離して基板表面に転写層１２を形成させ
た。この実験において、図１の装置を用いて基板を強制
的に略円錐状凸部形状とし、この上に転写層を積層した
本発明サンプルと、最初から反っている基板をそのまま
用いて、基板の凹面側に転写層を積層した比較サンプル
とを作製した。これらの両サンプルについて、転写層の
半径方向の厚さを測定したところ、図５のグラフに示さ
れるような結果が得られた。このグラフに示されるよう
に本発明サンプルのものは、比較サンプルに比べて転写
層の半径方向の厚さ分布がきわめて均一であることが確
認された。
に詳細に説明する。 実験例 まず、直径３２７ｍｍのスタンパ３０を回転させつつ、
中心から１００ｍｍの位置に紫外線硬化性樹脂溶液１２
ａを連続的に滴下し、中心軸に対してリング状の溶液帯
（幅約１０ｍｍ）を作製した。その後、スタンパ３０に
対向して設けられた直径３００ｍｍ、厚さ１．２ｍｍの
ガラス基板１１を載置する第一の支持体６０を、スタン
パ３０の方に移動させてスタンパ３０と基板１１とを圧
接し、紫外線硬化性樹脂溶液１２ａを内側および外側に
延ばし、基板１１のほぼ全面に塗設した。しかる後、基
板１１を通して紫外線（ＵＶ）を照射することにより、
紫外線硬化性樹脂溶液１２ａを硬化させ、スタンパ３０
を基板１１から離して基板表面に転写層１２を形成させ
た。この実験において、図１の装置を用いて基板を強制
的に略円錐状凸部形状とし、この上に転写層を積層した
本発明サンプルと、最初から反っている基板をそのまま
用いて、基板の凹面側に転写層を積層した比較サンプル
とを作製した。これらの両サンプルについて、転写層の
半径方向の厚さを測定したところ、図５のグラフに示さ
れるような結果が得られた。このグラフに示されるよう
に本発明サンプルのものは、比較サンプルに比べて転写
層の半径方向の厚さ分布がきわめて均一であることが確
認された。
【００２２】
【発明の効果】上記実験例の結果から、本発明の効果は
明らかである。すなわち、本発明は、転写層を形成する
前に、予め基板中央から基板外周にかけて略円錐状凸部
形状となるように基板を強制的に変形し、しかる後、こ
の基板の略円錐状凸部形状側に転写層を形成するので、
実用に耐え得る程度の均一厚さの転写層が得られる。
明らかである。すなわち、本発明は、転写層を形成する
前に、予め基板中央から基板外周にかけて略円錐状凸部
形状となるように基板を強制的に変形し、しかる後、こ
の基板の略円錐状凸部形状側に転写層を形成するので、
実用に耐え得る程度の均一厚さの転写層が得られる。
【図１】本発明の光記録ディスク製造装置の概略斜視図
である。
である。
【図２】本発明の光記録ディスク製造装置の正面図であ
る。
る。
【図３】基板を強制的に変形させる状態を示す断面図で
ある。
ある。
【図４】（ａ）および（ｂ）は、それぞれ紫外線硬化性
樹脂溶液の硬化前および後の状態を示す概念図である。
樹脂溶液の硬化前および後の状態を示す概念図である。
【図５】転写層の半径方向の厚さ分布を示すグラフであ
る。
る。
【図６】紫外線硬化性樹脂溶液の滴下状態を示す概略断
面図である。
面図である。
【図７】紫外線露光工程の概略断面図である。
【図８】転写複製工程の、特に、剥離の状態を示す概略
断面図である。
断面図である。
【図９】光記録ディスク用基体の断面図である。
【図１０】光記録ディスクの断面図である。
１１…基板
１２…転写層
１２ａ…紫外線硬化性樹脂溶液
３０…スタンパ
６０…第一の支持体
８０…第二の支持体
Claims (3)
- 【請求項１】 スタンパ又は光透過性のディスク状基
板の上に紫外線硬化性樹脂溶液を、中心軸に対して同心
円状に塗布した後、スタンパと基板とを圧接し、しかる
後、基板を通して紫外線を照射することにより、紫外線
硬化性樹脂溶液を硬化させて転写層を形成させる工程を
含む光記録ディスク用基体の製造方法であって、前記基
板は、転写層を形成する前に、予め、基板中央から基板
外周にかけて略円錘状凸部形状となるように強制的に変
形させられ、しかる後、この基板の略円錘状凸部形状側
に転写層を積層して形成したことを特徴とする光記録デ
ィスク用基体の製造方法。 - 【請求項２】 前記略円錘状凸部形状の傾斜は、０．
０１〜１ｍｒａｄ（ミリラジアン）であることを特徴と
する請求項１記載の光記録ディスク用基体の製造方法。 - 【請求項３】 光透過性の基板を載置する第一の支持
体と、前記基板と対向するように設けられたスタンパを
載置する第二の支持体と、前記第一の支持体と第二の支
持体とを相対的に接近せしめる駆動装置とを備える光記
録ディスク用基体の製造装置であって、前記第一の支持
体は、中心シャフトと、この中心シャフトの上部に設け
られ、基板のセンターホールの内周面と当接するテーパ
面を有する係止部材とを備え、前記第二の支持体は、前
記中心シャフトを包囲するような筒状形状をなし、前記
基板のセンターホール内周周縁部近傍と当接する当接リ
ング部を備えることを特徴とする光記録ディスク用基体
の製造装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3148643A JPH04370548A (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | 光記録ディスク用基体の製造方法およびそれを実施するための装置 |
| US07/822,749 US5292550A (en) | 1991-06-20 | 1992-01-21 | Manufacturing method of substrate means for optical recording disk and apparatus therefor |
| DE4203590A DE4203590A1 (de) | 1991-06-20 | 1992-02-07 | Herstellungsverfahren fuer eine substrateinrichtung fuer eine optische aufzeichnungsdiskette und zugehoerige vorrichtung |
| US08/153,959 US5417182A (en) | 1991-06-20 | 1993-11-18 | Apparatus for manufacturing a substrate means for an optical recording disk |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3148643A JPH04370548A (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | 光記録ディスク用基体の製造方法およびそれを実施するための装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04370548A true JPH04370548A (ja) | 1992-12-22 |
Family
ID=15457387
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3148643A Pending JPH04370548A (ja) | 1991-06-20 | 1991-06-20 | 光記録ディスク用基体の製造方法およびそれを実施するための装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5292550A (ja) |
| JP (1) | JPH04370548A (ja) |
| DE (1) | DE4203590A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5665520A (en) * | 1994-06-13 | 1997-09-09 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Optical recording medium |
| EP1006518B1 (en) * | 1994-09-27 | 2004-03-17 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Production process of optical information recording medium and production apparatus thereof |
| EP0706179B1 (en) * | 1994-09-27 | 2002-12-11 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Production process of optical information recording medium and production apparatus therefor |
| US5831963A (en) * | 1994-11-16 | 1998-11-03 | Mitsubishi Chemical Corporation | Optical recording medium having zones wherein the number of sectors per track is constant and method of injection-molding the same |
| DE19542810A1 (de) * | 1994-11-16 | 1996-05-23 | Mitsubishi Chem Corp | Optisches Aufzeichnungsmedium und Verfahren zur Herstellung desselben |
| US5804017A (en) * | 1995-07-27 | 1998-09-08 | Imation Corp. | Method and apparatus for making an optical information record |
| WO1998010934A1 (en) * | 1996-09-16 | 1998-03-19 | Stomp, Inc. | Optical disc adhesive label applicator |
| US7179551B2 (en) | 1999-02-12 | 2007-02-20 | General Electric Company | Poly(arylene ether) data storage media |
| JP2002536778A (ja) * | 1999-02-12 | 2002-10-29 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | データ記憶媒体 |
| US6484777B1 (en) * | 2000-09-29 | 2002-11-26 | Belkin Corporation | Compact disc labeler |
| US7407698B2 (en) * | 2003-05-07 | 2008-08-05 | Ricoh Company, Ltd. | Flexible optical disk |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| NL7611395A (nl) * | 1976-10-15 | 1978-04-18 | Philips Nv | Werkwijze voor het vermenigvuldigen van kunst- stof informatiedragers alsmede een in deze werkwijze toegepaste giethars, substraat en matrijs. |
| JPS59203280A (ja) * | 1983-05-02 | 1984-11-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気デイスクカ−トリツジの製造方法 |
| US4577307A (en) * | 1984-09-27 | 1986-03-18 | Storage Technology Partners Ii | Optical disk magnetic load/unload mechanism |
| US4723648A (en) * | 1985-03-14 | 1988-02-09 | Hi-Tec Seiko Company Ltd. | High speed rotational supporting device |
| JPS62250554A (ja) * | 1986-04-24 | 1987-10-31 | Canon Inc | 磁気デイスク装置 |
| US4708041A (en) * | 1986-08-26 | 1987-11-24 | Granger Robert A | Lathe mounting apparatus |
-
1991
- 1991-06-20 JP JP3148643A patent/JPH04370548A/ja active Pending
-
1992
- 1992-01-21 US US07/822,749 patent/US5292550A/en not_active Expired - Fee Related
- 1992-02-07 DE DE4203590A patent/DE4203590A1/de not_active Withdrawn
-
1993
- 1993-11-18 US US08/153,959 patent/US5417182A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5292550A (en) | 1994-03-08 |
| US5417182A (en) | 1995-05-23 |
| DE4203590A1 (de) | 1992-12-24 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| WO1998057806A1 (en) | Compact disc tack curing assembly line | |
| JPH04370548A (ja) | 光記録ディスク用基体の製造方法およびそれを実施するための装置 | |
| KR20040090394A (ko) | 광학 기록 매체 및 그 제조 방법 | |
| WO2000070608A1 (fr) | Support d'enregistrement d'informations multicouche du type disque et son procede de production | |
| JPH02126434A (ja) | 光デイスク基板成形方法 | |
| EP1361041B1 (en) | Method of and apparatus for manufacturing multi-layer optical information recording medium | |
| US20040219326A1 (en) | Method of manufacturing multilayer optical recording medium and multilayer optical recording medium | |
| JPH10275362A (ja) | 光学式貼り合わせディスク及びその成形金型 | |
| JPS5836417A (ja) | 情報担体の製造方法 | |
| JP2638224B2 (ja) | 光学的記録担体の複製方法および複製装置 | |
| WO2003028024A1 (fr) | Procede de production d'un support d'enregistrement optique multicouche et systeme de production d'un support d'enregistrement optique multicouche | |
| JP2003022586A (ja) | 光情報媒体の製造方法 | |
| JPH10320850A (ja) | 光記録媒体の製造方法 | |
| JPH052782A (ja) | 光記録デイスク用基体の製造方法およびそれを実施するための装置 | |
| JP2003016702A (ja) | 光情報媒体の製造方法 | |
| JP2673965B2 (ja) | 光ディスク基板製造用スタンパの裏打ち補強方法および光ディスク基板の製造方法 | |
| JP4112423B2 (ja) | 多層光情報記録媒体の製造方法 | |
| US5217850A (en) | Optical recording disk and manufacturing method thereof | |
| JPH04370540A (ja) | 光記録ディスク | |
| JP2811337B2 (ja) | ディスク製造方法 | |
| JP2004039050A (ja) | 光記録媒体、光記録媒体の製造方法及び製造装置 | |
| JP2003296977A (ja) | 光学記録媒体の製造方法 | |
| JPH04321947A (ja) | 光記録ディスク | |
| JPH08329532A (ja) | 光ディスクの製造方法 | |
| JPH08321082A (ja) | 光ディスクにおける塗布材のコーティング方法 |