JPH04369822A - 乱気流防止具付設機器 - Google Patents
乱気流防止具付設機器Info
- Publication number
- JPH04369822A JPH04369822A JP14720691A JP14720691A JPH04369822A JP H04369822 A JPH04369822 A JP H04369822A JP 14720691 A JP14720691 A JP 14720691A JP 14720691 A JP14720691 A JP 14720691A JP H04369822 A JPH04369822 A JP H04369822A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dryer
- equipment
- turbulence
- clean room
- turbulent air
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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- 230000001154 acute effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000001035 drying Methods 0.000 abstract 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 13
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 10
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 6
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- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
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- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Ventilation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、気流を一定方向に流
すクリーンルーム内で使用される機器に関するものであ
る。
すクリーンルーム内で使用される機器に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】図２は従来の乾燥機の一例を模式的に示
す正面図であり、図において１はクリーンルーム内で使
用される乾燥機であり、この乾燥機１はその辺および隅
がほぼ直角に形成されている。２はクリーンルーム内の
空気の気流、２ａは気流２の乱気流である渦である。
す正面図であり、図において１はクリーンルーム内で使
用される乾燥機であり、この乾燥機１はその辺および隅
がほぼ直角に形成されている。２はクリーンルーム内の
空気の気流、２ａは気流２の乱気流である渦である。
【０００３】つぎに、クリーンルーム内での上記従来の
乾燥機１の使用状態について説明する。クリーンルーム
（図示せず）は、温度、湿度の調整された空気を天井か
ら室内に強制的に送り込み、床から回収して循環させる
もので（全面ダウンフロー方式）、この気流中に含まれ
る塵埃をフィルターを通して除去し、室内の清浄度を高
めており、作業者は防塵着を着用して室内の清浄度を維
持している。乾燥機１はクリーンルーム内に配置され、
半導体素子のフォトリソ工程において、フォトレジスト
が塗布された半導体素子を収納し、このフォトレジスト
をプレベークする。プレベークされた半導体素子は、露
光工程に送られる。
乾燥機１の使用状態について説明する。クリーンルーム
（図示せず）は、温度、湿度の調整された空気を天井か
ら室内に強制的に送り込み、床から回収して循環させる
もので（全面ダウンフロー方式）、この気流中に含まれ
る塵埃をフィルターを通して除去し、室内の清浄度を高
めており、作業者は防塵着を着用して室内の清浄度を維
持している。乾燥機１はクリーンルーム内に配置され、
半導体素子のフォトリソ工程において、フォトレジスト
が塗布された半導体素子を収納し、このフォトレジスト
をプレベークする。プレベークされた半導体素子は、露
光工程に送られる。
【０００４】ここで、クリーンルームの天井から強制的
に送り込まれた空気の気流２は、乾燥機１に当たり、乾
燥機１の壁面に沿って流れ、鋭角部分で渦２ａを発生し
ている。この気流２の渦２ａにより、ゴミ等の微粒子が
浮遊され、乾燥機１への半導体素子の出し入れの際に、
微粒子が半導体素子上のフォトレジストに付着してしま
い、このフォトレジストに付着した微粒子は露光工程に
おいて欠陥の発生の原因となる。
に送り込まれた空気の気流２は、乾燥機１に当たり、乾
燥機１の壁面に沿って流れ、鋭角部分で渦２ａを発生し
ている。この気流２の渦２ａにより、ゴミ等の微粒子が
浮遊され、乾燥機１への半導体素子の出し入れの際に、
微粒子が半導体素子上のフォトレジストに付着してしま
い、このフォトレジストに付着した微粒子は露光工程に
おいて欠陥の発生の原因となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来の乾燥機１は以上
のように、辺および隅が鋭角に形成されていたので、一
定方向に流れる気流２が乾燥機１の周辺で渦２ａを発生
し、ゴミ等の微粒子を浮遊させ、半導体素子上に付着し
、半導体素子の歩留まりを低下させるという課題があっ
た。
のように、辺および隅が鋭角に形成されていたので、一
定方向に流れる気流２が乾燥機１の周辺で渦２ａを発生
し、ゴミ等の微粒子を浮遊させ、半導体素子上に付着し
、半導体素子の歩留まりを低下させるという課題があっ
た。
【０００６】この発明は、上記のような課題を解決する
ためになされたもので、一定方向に流れる気流中で使用
しても機器周辺の気流の渦をなくし、ゴミ等の微粒子の
浮遊を低減し、製品の歩留まりを向上させる機器を得る
ことを目的とする。
ためになされたもので、一定方向に流れる気流中で使用
しても機器周辺の気流の渦をなくし、ゴミ等の微粒子の
浮遊を低減し、製品の歩留まりを向上させる機器を得る
ことを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明に係る乱気流防
止具付設機器は、機器の鋭角部分で発生する乱気流を防
止する乱気流防止具を具備したものである。
止具付設機器は、機器の鋭角部分で発生する乱気流を防
止する乱気流防止具を具備したものである。
【０００８】
【作用】この発明においては、機器に取り付けられた乱
気流防止具が、機器周辺の気流の流れをスムーズな流れ
とし、機器の鋭角部分での乱気流の発生を防止し、微粒
子の浮遊を低減する。
気流防止具が、機器周辺の気流の流れをスムーズな流れ
とし、機器の鋭角部分での乱気流の発生を防止し、微粒
子の浮遊を低減する。
【０００９】
【実施例】以下、この発明の実施例を図について説明す
る。 実施例１．図１はこの発明の一実施例を模式的に示す正
面図であり、図において３は乱気流防止具としての乱気
流除去キャップである。
る。 実施例１．図１はこの発明の一実施例を模式的に示す正
面図であり、図において３は乱気流防止具としての乱気
流除去キャップである。
【００１０】つぎに、図１に示したこの発明の一実施例
の動作について説明する。乾燥機１には、乱気流除去キ
ャップ３が取り付けられ、乾燥機１の辺および隅の鋭角
部分にまるみをもたせている。クリーンルーム内に設置
した乾燥機１に当たった気流２は、乱気流除去キャップ
３でスムーズに流れ、乾燥機１の周囲で渦２ａの発生を
防止している。このように、上記実施例では、乾燥機１
の周辺で渦２ａの発生を防止しているので、ゴミ等の微
粒子の浮遊が低減でき、乾燥機１への半導体素子の出し
入れの際に半導体素子上に微粒子が付着せず、フォトリ
ソ工程における歩留まりを大きく向上できる。
の動作について説明する。乾燥機１には、乱気流除去キ
ャップ３が取り付けられ、乾燥機１の辺および隅の鋭角
部分にまるみをもたせている。クリーンルーム内に設置
した乾燥機１に当たった気流２は、乱気流除去キャップ
３でスムーズに流れ、乾燥機１の周囲で渦２ａの発生を
防止している。このように、上記実施例では、乾燥機１
の周辺で渦２ａの発生を防止しているので、ゴミ等の微
粒子の浮遊が低減でき、乾燥機１への半導体素子の出し
入れの際に半導体素子上に微粒子が付着せず、フォトリ
ソ工程における歩留まりを大きく向上できる。
【００１１】実施例２．上記実施例１では、フォトリソ
工程において、半導体素子に塗布されたフォトレジスト
をプレベークする乾燥機１に乱気流除去キャップ３を取
り付けているが、この実施例２では、半導体素子上に薄
膜を形成する縦型のＣＶＤ装置に乱気流除去キャップ３
を取り付けるものとし、乱気流除去キャップ３により気
流２の渦２ａの発生を防止し、ＣＶＤ装置への半導体素
子の出し入れの際に、半導体素子上へのゴミ等の微粒子
の付着を防止し、半導体素子上に形成される薄膜の膜欠
陥を低減している。
工程において、半導体素子に塗布されたフォトレジスト
をプレベークする乾燥機１に乱気流除去キャップ３を取
り付けているが、この実施例２では、半導体素子上に薄
膜を形成する縦型のＣＶＤ装置に乱気流除去キャップ３
を取り付けるものとし、乱気流除去キャップ３により気
流２の渦２ａの発生を防止し、ＣＶＤ装置への半導体素
子の出し入れの際に、半導体素子上へのゴミ等の微粒子
の付着を防止し、半導体素子上に形成される薄膜の膜欠
陥を低減している。
【００１２】なお、上記各実施例では、クリーンルーム
内で使用される乱気流防止具付設機器として、乾燥機１
およびＣＶＤ装置を用いて説明しているが、この発明は
これらに限定されるものではない。
内で使用される乱気流防止具付設機器として、乾燥機１
およびＣＶＤ装置を用いて説明しているが、この発明は
これらに限定されるものではない。
【００１３】
【発明の効果】以上のようにこの発明によれば、機器に
乱気流防止具を取り付けたので、一定方向に流れる気流
中で使用しても機器周辺の気流の渦をなくし、ゴミ等の
微粒子の浮遊を低減し、製品の歩留まりを向上させる機
器が得られる効果がある。
乱気流防止具を取り付けたので、一定方向に流れる気流
中で使用しても機器周辺の気流の渦をなくし、ゴミ等の
微粒子の浮遊を低減し、製品の歩留まりを向上させる機
器が得られる効果がある。
【図１】この発明の一実施例を模式的に示す正面図であ
る。
る。
【図２】従来の乾燥機を模式的に示す正面図である。
【符号の説明】
１ 乾燥機
２ 気流
２ａ 渦
Claims (1)
- 【請求項１】 気流を一定方向に流すクリーンルーム
内で使用される機器において、前記機器の鋭角部分で発
生する乱気流を防止するために乱気流防止具を具備した
ことを特徴とする定方向気流中で使用される乱気流防止
具付設機器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14720691A JPH04369822A (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 乱気流防止具付設機器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14720691A JPH04369822A (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 乱気流防止具付設機器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04369822A true JPH04369822A (ja) | 1992-12-22 |
Family
ID=15424967
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14720691A Pending JPH04369822A (ja) | 1991-06-19 | 1991-06-19 | 乱気流防止具付設機器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04369822A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0972587A (ja) * | 1995-09-08 | 1997-03-18 | Shin Nippon Kucho Kk | クリーンルームにおける気流制御構造 |
| JP2021058714A (ja) * | 2014-09-08 | 2021-04-15 | ベクトン・ディキンソン・アンド・カンパニーＢｅｃｔｏｎ， Ｄｉｃｋｉｎｓｏｎ Ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙ | 薬剤調合システムの入力装置のための空気力学的に流線形化されたエンクロージャ |
-
1991
- 1991-06-19 JP JP14720691A patent/JPH04369822A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0972587A (ja) * | 1995-09-08 | 1997-03-18 | Shin Nippon Kucho Kk | クリーンルームにおける気流制御構造 |
| JP2021058714A (ja) * | 2014-09-08 | 2021-04-15 | ベクトン・ディキンソン・アンド・カンパニーＢｅｃｔｏｎ， Ｄｉｃｋｉｎｓｏｎ Ａｎｄ Ｃｏｍｐａｎｙ | 薬剤調合システムの入力装置のための空気力学的に流線形化されたエンクロージャ |
| US11341641B2 (en) | 2014-09-08 | 2022-05-24 | Becton, Dickinson And Company | Aerodynamically streamlined enclosure for input devices of a medication preparation system |
| JP2022107051A (ja) * | 2014-09-08 | 2022-07-20 | ベクトン・ディキンソン・アンド・カンパニー | 薬剤調合システムの入力装置のための空気力学的に流線形化されたエンクロージャ |
| US12283042B2 (en) | 2014-09-08 | 2025-04-22 | Becton, Dickinson And Company | Aerodynamically streamlined enclosure for input devices of a medication preparation system |
| US12315156B2 (en) | 2014-09-08 | 2025-05-27 | Becton, Dickinson And Company | Enhanced platen for pharmaceutical compounding |
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