JPH04352799A - 新規ポリペプチド化合物およびそれらの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は新規ポリペプチド化合物
およびその塩類に関する。

【０００２】より詳しくは、抗菌活性（特に抗真菌活性
）を有する新規ポリペプチド化合物およびその塩類、そ
れらの製造方法、およびそれらを含有する抗菌剤に関す
る。

【０００３】

【発明の目的】本発明の一つの目的は、ヒトおよび動物
における多数の病原性微生物に対して高い活性を有する
ポリペプチド化合物およびその塩類を提供することであ
る。

【０００４】本発明の他の目的は、前記ポリペプチド化
合物およびその塩類の製造方法を提供することである。

【０００５】本発明のさらなる目的は、前記ポリペプチ
ド化合物またはその塩類を有効成分として含有する抗菌
剤を提供することである。

【０００６】

【発明の構成】本発明の目的化合物であるポリペプチド
化合物は新規であって、下記の一般式［Ｉ］で表わすこ
とができる： ［式中、Ｒ１は水素またはアシル、Ｒ２はヒドロキシま
たはアシルオキシ、Ｒ３は水素またはヒドロキシスルホ
ニルオキシ、Ｒ４は水素またはカルバモイルをそれぞれ
意味する。（但し、（ｉ）Ｒ３が水素である場合は、Ｒ
２はアシルオキシであり、また（ｉｉ）Ｒ２がヒドロキ
シ、Ｒ３がヒドロキシスルホニルオキシおよびＲ４がカ
ルバモイルである場合は、Ｒ１はパルミトイルではない
。）］

【０００７】本発明のポリペプチド化合物［Ｉ］は下記
の方法によって製造できる。

【０００８】方法１

【０００９】方法２

【００１０】方法３

【００１１】方法４

【００１２】方法５

【００１３】［式中、Ｒ３およびＲ４はそれぞれ前と同
じ意味であり、

【００１４】原料化合物［ＩＩ］またはその塩類は新規
であり、下記の発酵法によって製造できる。

【００１５】方法Ａ

【００１６】原料化合物［ＩＶ］のあるものは新規であ
り、上記方法１ないし４に従って調整することができる
。

【００１７】目的化合物［Ｉ］の塩類の好適な例として
は、慣用的な無毒性のモノまたはジ塩であって、アルカ
リ金属塩（たとえばナトリウム塩、カリウム塩など）お
よびアルカリ土類金属塩（たとえばカルシウム塩、マグ
ネシウム塩など）などの金属塩、アンモニウム塩、有機
塩基との塩（たとえばトリメチルアミン塩、トリエチル
アミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシル
アミン塩、Ｎ，Ｎ−ジベンジルエチレンジアミン塩など
）、有機酸付加塩（たとえば蟻酸塩、酢酸塩、トリフル
オロ酢酸塩、マレイン酸塩、酒石酸塩、メタンスルホン
酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、トルエンスルホン酸塩な
ど）、無機酸付加塩（たとえば塩酸塩、臭化水素酸塩、
ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、燐酸塩など）、アミノ酸との
塩（たとえばアルギニン塩、アスパラギン酸塩、グルタ
ミン酸塩など）などが挙げられる。

【００１８】本明細書の前記および後記の記載において
、種々の定義の好適な例を次に詳細に説明する。

【００１９】「低級」なる語は、特に断わりのない限り
、炭素原子数１ないし６個を意味する。

【００２０】「高級」なる語は、特に断わりのない限り
、炭素原子数７ないし２０個を意味する。

【００２１】好適な「アシル」としては、カルボン酸、
炭酸、カルバミン酸、スルホン酸などから誘導される脂
肪族アシル、芳香族アシル、複素環アシル、アリール置
換脂肪族アシルおよび複素環置換脂肪族アシルを挙げる
ことができる。

【００２２】上記「アシル」の好適な例としては、ハロ
ゲン（たとえばフルオロ、クロロ、ブロモ、ヨード）；
ヒドロキシ、後記高級アルコキシ、上記アリールなどの
適当な置換基を１または２個以上（好ましくは１ないし
３個）有していてもよいアリール（たとえばフェニル、
ナフチル、アントリルなど）；後記低級アルコキシ；ア
ミノ；保護されたアミノ［好ましくはアシルアミノ、た
とえば、低級アルコキシカルボニルアミノ（たとえば、
メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ
、プロポキシカルボニルアミノ、ブトキシカルボニルア
ミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ペンチルオキシ
カルボニルアミノ、ヘキシルオキシカルボニルアミノ、
など）など］；ジ（低級）アルキルアミノ（たとえば、
ジメチルアミノ、Ｎ−メチルエチルアミノ、ジエチルア
ミノ、Ｎ−プロピルブチルアミノ、ジペンチルアミノ、
ジヘキシルアミノなど）；低級アルコキシイミノ（たと
えば、メトキシイミノ、エトキシイミノ、プロポキシイ
ミノ、ブトキシイミノ、ｔ−ブトキシイミノ、ペンチル
オキシイミノ、ヘキシルオキシイミノなど）；後記高級
アルコキシなどの適当な置換基を１または２個以上（好
ましくは１ないし３個）有していてもよいフェニル（低
級）アルコキシイミノなどのアル（低級）アルコキシイ
ミノ（たとえば、ベンジルオキシイミノ、フェネチルオ
キシイミノ、ベンズヒドリルオキシイミノなど）；高級
アルキル（たとえば、ヘプチル、オクチル、２−エチル
ヘキシル、ノニル、デシル、３，７−ジメチルオクチル
、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、
ペンタデシル、３−メチル−１０−エチルドデシル、ヘ
キサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル
、イコシルなど）などの適当な置換基を１または２個以
上（好ましくは１ないし３個）有していてもよい複素環
チオ（好ましくは、ピリジルチオ）；アミノ、上記保護
されたアミノ、上記高級アルキルなどの適当な置換基を
１または２個以上（好ましくは、１ないし３個）有して
いてもよい複素環基（たとえば、チエニル、イミダゾリ
ル、ピラゾリル、フリル、テトラゾリル、チアゾリル、
チアジアゾリルなど）などの適当な置換基を１または２
個以上（好ましくは、１ないし３個）有していてもよい
低級アルカノイル（例えば、ホルミル、アセチル、プロ
ピオニル、ブチリル、イソブチリル、バレリル、ヘキサ
ノイル、ピバロイル、など）；

【００２３】高級アルカ
ノイル（例えば、ヘプタノイル、オクタノイル、ノナノ
イル、デカノイル、ウンデカノイル、ラウロイル、トリ
デカノイル、ミリストイル、ペンタデカノイル、パルミ
トイル、１０，１２−ジメチルテトラデカノイル、ヘプ
タデカノイル、ステアロイル、ノナデカノイル、イコサ
ノイルなど）；

【００２４】下記高級アルコキシなどの
適当な置換基を１または２個以上（好ましくは１ないし
３個）有していてもよい上記アリールなどの適当な置換
基を１または２個以上（好ましくは１ないし３個）有し
ていてもよい低級アルケノイル（たとえば、アクリロイ
ル、メタクリロイル、クロトノイル、３−ペンテノイル
、５−ヘキセノイルなど）；

【００２５】高級アルケノイル（たとえば、４−ヘプテ
ノイル、３−オクテノイル、３，６−デカジエノイル、
３，７，１１−トリメチル−２，６，１０−ドデカトリ
エノイル、４，１０−ヘプタデカジエノイルなど）；

【
００２６】低級アルコキシカルボニル（たとえば、メト
キシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポキシカル
ボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル
、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカルボニ
ルなど）；

【００２７】高級アルコキシカルボニル（たとえば、ヘ
プチルオキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、
２−エチルヘキシルオキシカルボニル、ノニルオキシカ
ルボニル、デシルオキシカルボニル、３，７−ジメチル
オクチルオキシカルボニル、ウンデシルオキシカルボニ
ル、ドデシルオキシカルボニル、トリデシルオキシカル
ボニル、テトラデシルオキシカルボニル、ペンタデシル
オキシカルボニル、３−メチル−１０−エチルドデシル
オキシカルボニル、ヘキサデシルオキシカルボニル、ヘ
プタデシルオキシカルボニル、オクタデシルオキシカル
ボニル、ノナデシルオキシカルボニル、イコシルオキシ
カルボニルなど）；

【００２８】アリールオキシカルボニル（たとえば、フ
ェノキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニルなど）
；

【００２９】アリールグリオキシロイル（たとえば、フ
ェニルグリオキシロイル、ナフチルグリオキシロイルな
ど）；

【００３０】適当な置換基を１または２個以上有してい
てもよいアル（低級）アルコキシカルボニル、たとえば
、ニトロまたは低級アルコキシを有していてもよいフェ
ニル（低級）アルコキシカルボニル（たとえば、ベンジ
ルオキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル、ｐ
−ニトロベンジルオキシカルボニル、ｐ−メトキシベン
ジルオキシカルボニルなど）；

【００３１】低級アルキルスルホニル（たとえば、メチ
ルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニル
、イソプロピルスルホニル、ペンチルスルホニル、ブチ
ルスルホニルなど）；

【００３２】下記低級アルキル、下記高級アルコキシな
どの適当な置換基を１または２個以上（好ましくは１な
いし３個）有していてもよいアリールスルホニル（たと
えば、フェニルスルホニル、ナフチルスルホニルなど）
；

【００３３】フェニル（低級）アルキルスルホニルなど
のアル（低級）アルキルスルホニル（たとえば、ベンジ
ルスルホニル、フェネチルスルホニル、ベンズヒドリル
スルホニルなど）；

【００３４】上記ハロゲン；低級アルキル（たとえば、
メチル、エチル、プロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ペン
チル、ヘキシルなど）；上記高級アルキル；下記低級ア
ルコキシ、上記ハロゲン、上記アリールなどの適当な置
換基を１または２個以上（好ましくは１ないし１０個）
有していてもよい低級アルコキシ（たとえば、メトキシ
、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ、ｔ−ブトキシ、ペ
ンチルオキシ、ヘキシルオキシなど）；上記ハロゲンな
どの適当な置換基を１または２個以上（好ましくは１な
いし１７個）有していてもよい高級アルコキシ（たとえ
ば、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、２−エチルヘキ
シルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、３，７−ジ
メチルオクチルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオ
キシ、トリデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタ
デシルオキシ、３−メチル−１０−エチルドデシルオキ
シ、ヘキサデシルオキシ、ヘプタデシルオキシ、オクタ
デシルオキシ、ノナデシルオキシ、イコシルオキシなど
）；高級アルケニルオキシ（たとえば、３−ヘプテニル
オキシ、７−オクテニルオキシ、２，６−オクタジエニ
ルオキシ、５−ノネニルオキシ、１−デセニルオキシ、
３，７−ジメチル−６−オクテニルオキシ、３，７−ジ
メチル−２，６−オクタジエニルオキシ、８−ウンデセ
ニルオキシ、３，６，８−ドデカトリエニルオキシ、５
−トリデセニルオキシ、７−テトラデセニルオキシ、１
，８−ペンタデカジエニルオキシ、１５−ヘキサデセニ
ルオキシ、１１−ヘプタデセニルオキシ、７−オクタデ
セニルオキシ、１０−ノナデセニルオキシ、１８−イコ
セニルオキシなど）；カルボキシ；上記高級アルコキシ
などの適当な置換基を１または２個以上（好ましくは１
ないし３個）有していてもよい上記アリール；上記低級
アルコキシもしくは上記高級アルコキシなどの適当な置
換基を１または２個以上（好ましくは１ないし３個）有
していてもよいアリールオキシ（たとえば、フェノキシ
、ナフチルオキシ、アントリルオキシなど）などの適当
な置換基を１または２個以上（好ましくは１ないし５個
）有していてもよいアロイル（たとえば、ベンゾイル、
ナフトイル、アントリルカルボニルなど）；などを挙げ
ることができる。

【００３５】前記「アシル」中、好ましいものとしては
、低級アルカノイル；ハロ（低級）アルカノイル；

【０
０３６】ヒドロキシ、低級アルコキシ、高級アルコキシ
、アリール、アミノ、保護されたアミノ、ジ（低級）ア
ルキルアミノ、低級アルコキシイミノまたは高級アルコ
キシを１または２個以上（好ましくは１ないし３個）有
していてもよいアル（低級）アルコキシイミノを１また
は２個以上（好ましくは１ないし３個）有していてもよ
いアル（低級）アルカノイル；

【００３７】高級アルキルを１または２個以上（好まし
くは１ないし３個）有していてもよい複素環チオ（低級
）アルカノイル；低級アルコキシイミノ、高級アルキル
、アミノまたは保護されたアミノを１または２個以上（
好ましくは１ないし３個）有していてもよい複素環（低
級）アルカノイル；高級アルコキシを１または２個以上
（好ましくは１ないし３個）有していてもよいアル（低
級）アルコキシイミノ（低級）アルカノイル；高級アル
カノイル；

【００３８】高級アルコキシを１または２個以上（好ま
しくは１ないし３個）有していてもよいアル（低級）ア
ルケノイル；高級アルケノイル；低級アルコキシカルボ
ニル；高級アルコキシカルボニル；アリールオキシカル
ボニル；低級アルキルまたは高級アルコキシを１または
２個以上（好ましくは１ないし３個）有していてもよい
アリールスルホニル；

【００３９】ハロゲン、低級アルキル、高級アルキル、
カルボキシ、ハロゲンを１または２個以上（好ましくは
１ないし１０個）有していてもよい低級アルコキシ、低
級アルコキシ（低級）アルコキシ、アル（低級）アルコ
キシ、ハロゲンを１または２個以上（好ましくは１ない
し１７個）有していてもよい高級アルコキシ、高級アル
ケニルオキシ、高級アルコキシを１または２個以上（好
ましくは１ないし３個）有していてもよいアリールまた
は低級アルコキシもしくは高級アルコキシを１または２
個以上（好ましくは１ないし３個）有していてもよいア
リールオキシを１または２個以上（好ましくは１ないし
５個）有していてもよいアロイルを挙げることができ、
それらの中でもより好ましいものは、

【００４０】低級アルカノイル；ハロ（低級）アルカノ
イル；それぞれヒドロキシ、低級アルコキシ、高級アル
コキシ、フェニル、アミノ、低級アルコキシカルボニル
アミノ、ジ（低級）アルキルアミノ、低級アルコキシイ
ミノまたは高級アルコキシを１ないし３個有していても
よいフェニル（低級）アルコキシイミノを１ないし３個
有していてもよいフェニル（低級）アルカノイルもしく
はナフチル（低級）アルカノイル；

【００４１】高級アルキルを１ないし３個有していても
よいピリジルチオ（低級）アルカノイル；それぞれ低級
アルコキシイミノ、高級アルキル、アミノまたは低級ア
ルコキシカルボニルアミノを１ないし３個有していても
よいイミダゾリル（低級）アルカノイルもしくはチアゾ
リル（低級）アルカノイル；高級アルコキシを１ないし
３個有していてもよいフェニル（低級）アルコキシイミ
ノ（低級）アルカノイル；高級アルカノイル；高級アル
コキシを１ないし３個有していてもよいフェニル（低級
）アルケノイル；

【００４２】高級アルケノイル；低級アルコキシカルボ
ニル、高級アルコキシカルボニル；フェノキシカルボニ
ル；それぞれ低級アルキルまたは高級アルコキシを１な
いし３個有していてもよいフェニルスルホニルもしくは
ナフチルスルホニル；

【００４３】それぞれ、ハロゲン、低級アルキル、高級
アルキル、カルボキシ、ハロゲンを６ないし１０個有し
ていてもよい低級アルコキシ、低級アルコキシ（低級）
アルコキシ、フェニル（低級）アルコキシ、ハロゲンを
１２ないし１７個有していてもよい高級アルコキシ、高
級アルケニルオキシ、高級アルコキシを１ないし３個有
していてもよいフェニル、または、低級アルコキシもし
くは高級アルコキシを１ないし３個有していてもよいフ
ェノキシを１ないし５個有していてもよいベンゾイル、
ナフトイルもしくはアントリルカルボニル；を挙げるこ
とができ、さらにより好ましいものとしては、

【００４
４】「（Ｃ１−Ｃ４）アルカノイル；ハロ（Ｃ１−Ｃ４
）アルカノイル；ヒドロキシ、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキ
シ、（Ｃ７−Ｃ１６）アルコキシ、フェニル、アミノ、
（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシカルボニルアミノ、ジ（Ｃ１
−Ｃ４）アルキルアミノ、（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシイ
ミノまたは（Ｃ７−Ｃ１６）アルコキシを有していても
よいフェニル（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシイミノを１ない
し３個有していてもよいフェニル（Ｃ１−Ｃ４）アルカ
ノイル；（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシカルボニルアミノを
１ないし３個有していてもよいナフチル（Ｃ１−Ｃ４）
アルカノイル；

【００４５】１−（Ｃ７−Ｃ１６）アルキルピリジニオ
チオ（Ｃ１−Ｃ４）アルカノイル；（Ｃ７−Ｃ１６）ア
ルキルまたは（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシカルボニルアミ
ノを１ないし３個有していてもよいイミダゾリル（Ｃ１
−Ｃ４）アルカノイル；（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシイミ
ノまたはアミノを１ないし３個有していてもよいチアゾ
リル（Ｃ１−Ｃ４）アルカノイル；（Ｃ７−Ｃ１６）ア
ルコキシを１ないし３個有していてもよいフェニル（Ｃ
１−Ｃ４）アルコキシイミノ（Ｃ１−Ｃ４）アルカノイ
ル；

【００４６】（Ｃ７−Ｃ１７）アルカノイル；（Ｃ７−
Ｃ１６）アルコキシを１ないし３個有していてもよいフ
エニル（Ｃ１−Ｃ４）アルケノイル；（Ｃ７−Ｃ１８）
アルケノイル；（Ｃ３−Ｃ６）アルコキシカルボニル；
（Ｃ７−Ｃ１６）アルコキシカルボニル；フェノキシカ
ルボニル；（Ｃ１−Ｃ４）アルキルまたは（Ｃ７−Ｃ１
６）アルコキシを有していてもよいフェニルスルホニル
；（Ｃ７−Ｃ１６）アルコキシを有していてもよいナフ
チルスルホニル；

【００４７】ハロゲン、（Ｃ３−Ｃ６）アルキル、（Ｃ
７−Ｃ１６）アルキル、カルボキシ、ハロゲンを６ない
し１０個有していてもよい（Ｃ１−Ｃ６）アルコキシ、
（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ（Ｃ１−Ｃ４）アルコキシ、
フェニル（Ｃ３−Ｃ６）アルコキシ、ハロゲンを１２な
いし１７個有していてもよい（Ｃ７−Ｃ１６）アルコキ
シ、（Ｃ７−Ｃ１６）アルコキシを１ないし３個有して
いてもよいフェニルまたは（Ｃ３−Ｃ６）アルコキシも
しくは（Ｃ７−Ｃ１６）アルコキシを１ないし３個有し
ていてもよいフェノキシを１ないし５個有していてもよ
いベンゾイル；（Ｃ３−Ｃ６）アルコキシ、（Ｃ７−Ｃ
１６）アルコキシ、または（Ｃ７−Ｃ１６）アルケニル
オキシを１ないし３個有していてもよいナフトイル；ま
たは、アントリルカルボニルを挙げることができ、

【０
０４８】最も好ましいものとしては、アセチル、２−ブ
ロモアセチル、２−（４−ビフェニリル）アセチル、２
−（４−オクチルオキシフェニル）アセチル、３−（４
−オクチルオキシフェニル）プロピオニル、２−アミノ
−２−（４−オクチルオキシフェニル）アセチル、２−
（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）−２−（４−オクチ
ルオキシフェニル）アセチル、２−アミノ−３−（４−
オクチルオキシフェニル）プロピオニル、２−（ｔ−ブ
トキシカルボニルアミノ）−３−（４−オクチルオキシ
フェニル）プロピオニル、２−ジメチルアミノ−３−（
４−オクチルオキシフェニル）プロピオニル、２−（ｔ
−ブトキシカルボニルアミノ）−２−（２−ナフチル）
アセチル、２−メトキシ−２−（４−オクチルオキシフ
ェニル）アセチル、２−メトキシイミノ−２−（４−オ
クチルオキシフェニル）アセチル、２−（４−オクチル
オキシベンジルオキシイミノ）−２−（４−ヒドロキシ
フェニル）アセチル、２−（４−オクチルオキシベンジ
ルオキシイミノ）−２−フェニルアセチル、２−（４−
オクチルオキシベンジルオキシイミノ）アセチル、２−
（１−オクチル−４−ピリジニオ）チオアセチル、２−
メトキシイミノ−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）アセチル、２−（ｔ−ブトキシカルボニルアミノ）
−３−（１−オクチル−４−イミダゾリル）プロピオニ
ル、

【００４９】３−（４−オクチルオキシフェニル）アク
リロイル、３，７，１１−トリメチル−２，６，１０−
ドデカトリエノイル、ｔ−ブトキシカルボニル、オクチ
ルオキシカルボニル、フェノキシカルボニル、ｐ−トリ
ルスルホニル、４−オクチルオキシフェニルスルホニル
、６−オクチルオキシ−２−ナフチルスルホニル、

【０
０５０】４−（ｔ−ブチル）ベンゾイル、４−オクチル
ベンゾイル、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−（
２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペン
チルオキシ）ベンゾイル、４−（２−ブトキシエトキシ
）ベンゾイル、４−（４−フェニルブトキシ）ベンゾイ
ル、４−オクチルオキシベンゾイル、２−カルボキシ−
４−オクチルオキシベンゾイル、３−メトキシ−４−オ
クチルオキシベンゾイル、４−（２，２，３，３，４，
４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカ
フルオロオクチルオキシ）−２，３，５，６−テトラフ
ルオロベンゾイル、４−（４−オクチルオキシフェニル
）ベンゾイル、４−（４−ヘプチルオキシフェニル）ベ
ンゾイル、４−（４−ヘキシルオキシフェノキシ）ベン
ゾイル、４−（４−オクチルオキシフェノキシ）ベンゾ
イル、

【００５１】６−ブトキシ−２−ナフトイル、６−ヘキ
シルオキシ−２−ナフトイル、６−オクチルオキシ−２
−ナフトイル、６−（２−エチルヘキシルオキシ）−２
−ナフトイル、６−デシルオキシ−２−ナフトイル、６
−（３，７−ジメチルオクチルオキシ）−２−ナフトイ
ル、６−ドデシルオキシ−２−ナフトイル、６−（３，
７−ジメチル−６−オクテニルオキシ）−２−ナフトイ
ル、６−（３，７−ジメチル−２，６−オクタジエニル
オキシ）−２−ナフトイルおよび２−アントリルカルボ
ニルを挙げることができる。

【００５２】好適な「パルミトイル以外のアシル」とし
ては、既に例示した「アシル」のうちパルミトイル以外
のものを挙げることができる。

【００５３】「高級アルコキシおよび保護されたアミノ
を有するアル（低級）アルカノイル」および「高級アル
コキシおよびアミノを有するアル（低級）アルカノイル
」の「アル（低級）アルカノイル」部分の好適な例とし
ては、既に「アシル」に対して例示したものを、また適
置換「高級アルコキシ」および「保護されたアミノ」の
好適な例としては、既に「アシル」に対して例示したも
のを、それぞれ挙げることができる。

【００５４】好適な「ハロ（低級）アルカノイル」とし
ては、既に「アシル」に対して例示したものを挙げるこ
とができる。

【００５５】「高級アルキルを有していてもよいピリジ
ルチオ（低級）アルカノイル」における「ピリジルチオ
（低級）アルカノイル」の好適な例としては、既に「ア
シル基」に対して例示したものを、また、置換基「高級
アルキル」の好適な例としては、既に「アシル基」に対
して例示したものを、それぞれ挙げることができる。

【００５６】好適な「アシルオキシ」としては、ヒドロ
キシスルホニルオキシ、ホスホノオキシなどが挙げられ
る。

【００５７】上記で定義された目的化合物［Ｉ］のうち
、下記の化合物［Ｉｈ］が好ましいものである。 （式中、Ｒ１は水素またはアシルを意味する。但し、Ｒ
１はパルミトイルではないものとする。）

【００５８】
方法２におけるアシル化反応に好適な「アシル化剤」と
しては、導入されるアシル基に対応する酸化合物または
そのカルボキシ基における反応性誘導体またはその塩類
が挙げられるが、前記アシル化剤の好適な例としては、
式： で表わされる化合物またはそのカルボキシ基における反
応性誘導体またはそれらの塩類を挙げることができる。

【００５９】化合物［Ｖ］のうち、下記の化合物は新規
である。

【００６０】

【００６１】

【００６２】（式中、Ｒ６は低級アルコキシ、高級アル
コキシまたは高級アルケニルオキシ、Ｒ７は−ＣＯＯＨ
または−ＳＯ３Ｈ、Ｒ８は１ないし４個のハロゲン、Ｒ
９はハロゲンを１ないし２個以上有する低級アルコキシ
、ハロゲンを１ないし２個以上有する高級アルコキシを
それぞれ意味する。）

【００６３】化合物［Ｖ−１］および［Ｖ−２］は、下
記の方法によって製造できる。

【００６４】方法Ｂ

【００６５】方法Ｃ

【００６６】（式中、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９はそれぞ
れ前と同じ意味、Ｒ１０は低級アルキル、高級アルキル
または高級アルケニル、Ｒ１１はハロゲンを１または２
個以上有する低級アルキルまたはハロゲンを１または２
個以上有する高級アルキル、ＸおよびＹはそれぞれ脱離
基を意味する。）

【００６７】前記定義において、好適な「低級アルコキ
シ」、「高級アルコキシ」、「高級アルケニルオキシ」
、「ハロゲン」、「低級アルキル」および「高級アルキ
ル」としては、既に例示したものを挙げることができる
。

【００６８】好適な「高級アルケニル」としては、３−
ヘプテニル、７−オクテニル、２，６−オクタジエニル
、５−ノネニル、１−デセニル、３，７−ジメチル−６
−オクテニル、３，７−ジメチル−２，６−オクタジエ
ニル、８−ウンデセニル、３，６，８−ドデカトリエニ
ル、５−トリデセニル、７−テトラデセニル、１，８−
ペンタデカジエニル、１５−ヘキサデセニル、１１−ヘ
プタデセニル、７−オクタデセニル、１０−ノナデセニ
ル、１８−イコセニルなどが挙げられ、なかでも（Ｃ７
−Ｃ１６）アルケニルが好ましい。

【００６９】Ｒ９のうち、「低級アルコキシ」はハロゲ
ンを１または２個以上（好ましくは１なし１０個、より
好ましくは６ないし１０個）有し、「高級アルコキシ」
はハロゲンを１または２個以上（好ましくは１ないし１
７個、より好ましくは１２ないし１７個）有する。

【００７０】Ｒ１１のうち、「低級アルキル」はハロゲ
ンを１または２個以上（好ましくは１ないし１０個、よ
り好ましくは６ないし１０個）有し、「高級アルキル」
はハロゲンを１または２個以上（好ましくは１ないし１
７個、より好ましくは１２ないし１７個）有する。

【００７１】Ｒ６のうち、好ましい「低級アルコキシ」
としては（Ｃ４−Ｃ６）アルコキシが挙げられる。

【００７２】好適な「脱離基」としては、上記ハロゲン
、低級アルカノイルオキシ（たとえばアセトキシなど）
、スルホニルオキシ（たとえばメシルオキシ、トシルオ
キシなど）などを挙げることができる。

【００７３】化合物［Ｖ−１］および［Ｖ−２］の好適
な塩類およびそのカルボキシ基における反応性誘導体に
関しては、化合物［Ｖ］について後に例示するものと同
じものを挙げることができる。

【００７４】方法ＢおよびＣにおける反応は、後に述べ
る本明細書の製造例中の方法またはこれと同様の方法に
従って行うことができる。

【００７５】化合物［Ｖ］のうち、化合物［Ｖ−１］お
よび［Ｖ−２］以外に新規な化合物があるが、これらは
、例えば、後に述べる製造例中の方法によって製造する
ことができる。

【００７６】方法４の「ピリジンチオン」の好適な例と
しては、１，２−ジヒドロピリジン−２−チオン、１，
４−ジヒドロピリジン−４−チオンなどを挙げることが
でき、前記「ピリジンチオン」は上記「高級アルキル」
を有していてもよい。

【００７７】本発明の目的化合物［Ｉ］またはその塩類
の製造法を以下に詳細に説明する。 方法１ 目的化合物［Ｉａ］またはその塩類は、化合物［ＩＩ］
またはその塩類をＮ−アシル基の脱離反応に付すことに
よって製造できる。この反応は、加水分解、還元、酵素
との反応などの常法によって行うことができる。

【００７８】加水分解は、塩基またはルイス酸を含む酸
の存在下で行うのが好ましい。好適な塩基としては、ア
ルカリ金属（たとえばナトリウム、カリウムなど）、ア
ルカリ土類金属（たとえばマグネシウム、カルシウムな
ど）、それらの水酸化物または炭酸塩または重炭酸塩、
トリアルキルアミン（たとえばトリメチルアミン、トリ
エチルアミンなど）、ピコリン、１，５−ジアザビシク
ロ［４．３．０］ノン−５−エン、１，４−ジアザビシ
クロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ
［５．４．０］ウンデセン−７などの無機塩基および有
機塩基を挙げることができる。好適な酸としては、有機
酸（たとえば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリクロロ酢
酸、トリフルオロ酢酸など）および無機酸（たとえば塩
酸、臭化水素酸、硫酸、塩化水素、臭化水素など）を挙
げることができる。トリハロ酢酸（たとえばトリクロロ
酢酸、トリフルオロ酢酸など）などのルイス酸を用いる
脱離は、カチオン捕捉剤（たとえばアニソール、フェノ
ールなど）の存在下で行うのが好ましい。反応は、通常
、水、アルコール（たとえばメタノール、エタノールな
ど）、塩化メチレン、テトラヒドロフラン、それらの混
合物、その他反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行われ
る。液状の塩基または酸は溶媒としても用いることがで
きる。反応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加
温下で反応は行われる。

【００７９】本脱離反応に用いられる還元方法としては
化学還元および接触還元を挙げることができる。化学還
元に用いられる好適な還元剤としては、金属（たとえば
スズ、亜鉛、鉄など）または金属化合物（たとえば塩化
クロム、酢酸クロムなど）と有機または無機酸（たとえ
ば蟻酸、酢酸、プロピオン酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−
トルエンスルホン酸、塩酸、臭化水素酸など）との組合
わせを挙げることができる。接触還元に用いられる好適
な触媒としては、白金触媒（たとえば白金板、白金海綿
、白金黒、コロイド白金、酸化白金、白金線など）、パ
ラジウム触媒（たとえばパラジウム海綿、パラジウム黒
、酸化パラジウム、パラジウム炭、コロイドパラジウム
、パラジウム−硫酸バリウム、パラジウム−炭酸バリウ
ムなど）、ニッケル触媒（たとえば還元ニッケル、酸化
ニッケル、ラネーニッケルなど）、コバルト触媒（たと
えば還元コバルト、ラネーコバルトなど）、鉄触媒（た
とえば還元鉄、ラネー鉄など）、銅触媒（たとえば還元
銅、ラネー銅、ウルマン銅など）などの慣用のものを挙
げることができる。還元は、通常、水、メタノール、エ
タノール、プロパノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、それらの混合物など、反応に悪影響を及ぼさない慣
用の溶媒中で行われる。さらに、化学還元に用いられる
上記酸が液状の場合、これらの酸は溶媒としても使用で
きる。また、接触還元に用いられる好適な溶媒としては
、上記溶媒のほか、ジエチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフラン、それらの混合物などの慣用の溶媒を
挙げることができる。この還元の反応温度は特に限定さ
れず、通常、冷却ないし加温下で反応は行われる。

【００８０】酵素との反応は、化合物［ＩＩ］またはそ
の塩類をＮ−アシル基の脱離反応に適した酵素と反応さ
せることによって行われる。前記酵素の好適な例として
は、アクチノプラネス属に属する微生物、好ましくは、
アクチノプラネス・ユタヘンシス（Ａｃｔｉｎｏｐｌａ
ｎｅｓ　　ｕｔａｈｅｎｓｉｓ）種、アクチノプラネス
・ミズーリエンシス（Ａｃｔｉｎｏｐｌａｎｅｓ　　ｍ
ｉｓｓｏｕｒｉｅｎｓｉｓ）種に属する微生物、たとえ
ばアクチノプラネス・ユタヘンシスＩＦＯ−１３２４４
、アクチノプラネス・ユタヘンシスＡＴＣＣ１２３０１
、アクチノプラネス・ミズーリエンシスＮＲＲＬ１２０
５３などによって生産されるものを挙げることができる
。この脱離反応は、通常、燐酸緩衝液、トリス−ＨＣｌ
緩衝液、その他反応に悪影響を及ぼさない溶媒中で行わ
れる。反応温度は特に限定されず、室温または加温下で
反応は行われる。

【００８１】方法２ 目的化合物［Ｉｂ］またはその塩類は、化合物［Ｉａ］
またはその塩類をアシル化反応に付すことによって製造
できる。この方法のアシル化反応は、化合物［Ｉａ］ま
たはその塩類を前記「アシル化剤」、たとえば化合物［
Ｖ］またはそのカルボキシ基における反応性誘導体また
はその塩類と反応させることにより行われる。

【００８２】化合物［Ｖ］のカルボキシ基における反応
性誘導体の好適な例としては、酸ハライド、酸無水物、
活性アミド、活性エステルなどを挙げることができる。 反応性誘導体の好適な例としては、酸塩化物；酸アジド
；置換燐酸（たとえばジアルキル燐酸、フェニル燐酸、
ジフェニル燐酸、ジベンジル燐酸、ハロゲン化燐酸など
）、ジアルキル亜燐酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、スル
ホン酸（たとえばメタンスルホン酸など）、脂肪族カル
ボン酸（たとえば酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸
、ピバル酸、ペンタン酸、イソペンタン酸、２−エチル
酪酸、トリクロロ酢酸など）または芳香族カルボン酸（
たとえば安息香酸など）などの酸との混合酸無水物；対
称型酸無水物；イミダゾール、４−置換イミダゾール、
ジメチルピラゾール、トリアゾール、テトラゾールまた
は１−ヒドロキシ−１Ｈ−ベンゾトリアゾールとの活性
アミド；または活性エステル（たとえばシアノメチルエ
ステ ビニルエステル、プロパルギルエステル、ｐ−ニトロフ
ェニルエステル、２，４−ジニトロフェニルエステル、
トリクロロフェニルエステル、ペンタクロロフェニルエ
ステル、メシルフェニルエステル、フェニルアゾフェニ
ルエステル、フェニルチオエステル、ｐ−ニトロフェニ
ルチオエステル、ｐ−クレシルチオエステル、カルボキ
シメチルチオエステル、ピラニルエステル、ピリジルエ
ステル、ピペリジルエステル、８−キノリルチオエステ
ルなど）またはＮ−ヒドロキシ化合物（たとえばＮ，Ｎ
−ジメチルヒドロキシルアミン、１−ヒドロキシ−２−
（１Ｈ）−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、
Ｎ−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロキシ−１Ｈ−
ベンゾトリアゾールなど）などを挙げることができる。 使用する化合物［Ｖ］の種類に応じて、これらの反応性
誘導体から適当なものを選択すればよい。

【００８３】化合物［Ｖ］およびその反応性誘導体の好
適な塩類の例としては、化合物［Ｉ］で例示したものと
同じものを挙げることができる。反応は、通常、水、ア
ルコール（たとえばメタノール、エタノールなど）、ア
セトン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム、
塩化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢
酸エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ピリジン、
その他反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの慣用の
溶媒中で行われる。これらの慣用の溶媒は水との混合物
として用いることもできる。

【００８４】この反応では、化合物［Ｖ］を遊離酸また
はその塩類の形で用いる場合、反応は慣用の縮合剤、た
とえば、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド；
Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−モルホリノエチルカルボジ
イミド；Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ′−（４−ジエチルア
ミノシクロヘキシル）カルボジイミド；Ｎ，Ｎ′−ジエ
チルカルボジイミド；Ｎ，Ｎ′−ジイソプロピルカルボ
ジイミド；Ｎ−エチル−Ｎ′−（３−ジメチルアミノプ
ロピル）カルボジイミド；Ｎ，Ｎ′−カルボニルビス−
（２−メチルイミダゾール）；ペンタメチレンケテン−
Ｎ−シクロヘキシルイミン；ジフェニルケテン−Ｎ−シ
クロヘキシルイミン；エトキシアセチレン；１−アルコ
キシ−１−クロロエチレン；トリアルキルホスファイト
；ポリ燐酸エチル；ポリ燐酸イソプロピル；オキシ塩化
燐（塩化ホスホリル）；三塩化燐；エチルチオニル；塩
化オキサリル；ハロ蟻酸低級アルキル（たとえばクロロ
蟻酸エチル、クロロ蟻酸イソプロピルなど）；トリフェ
ニルホスフィン；２−エチル−７−ヒドロキシベンズイ
ソオキサゾリウム塩；水酸化２−エチル−５−（ｍ−ス
ルホフェニル）イソオキサゾリウム分子内塩；１−（ｐ
−クロロベンゼンスルホニルオキシ）−６−クロロ−１
Ｈ−ベンゾトリアゾール；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ドと塩化チオニル、ホスゲン、クロロ蟻酸トリクロロメ
チル、オキシ塩化燐、塩化メタンスルホニルなどと反応
させて製造されるいわゆるビルスマイヤー試薬などの存
在下で行うのが好ましい。

【００８５】反応はアルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属
重炭酸塩、トリ（低級）アルキルアミン、ピリジン、ジ
（低級）アルキルアミノピリジン（たとえば４−ジメチ
ルアミノピリジンなど）、Ｎ−（低級）アルキルモルホ
リン、Ｎ，Ｎ−ジ（低級）アルキルベンジルアミンなど
の無機または有機塩基の存在下で行うこともできる。反
応温度は特に限定されず、通常、冷却ないし加温下で反
応は行われる。

【００８６】方法３ 目的化合物［Ｉｄ］またはその塩類は、化合物［Ｉｃ］
またはその塩類をアミノ保護基の脱離反応に付すことに
よって製造できる。化合物［Ｉｃ］および［Ｉｄ］の好
適な塩類としては、化合物［Ｉ］で例示したものを挙げ
ることができる。本脱離反応は上記方法１で説明した常
法によって行うことができる。

【００８７】方法４ 目的化合物［Ｉｆ］またはその塩類は、化合物［Ｉｅ］
またはその塩類を化合物［ＩＩＩ］またはその塩類と反
応させることによって製造できる。化合物［Ｉｆ］の好
適な塩類としては、化合物［Ｉ］で例示したものを挙げ
ることができる。化合物［ＩＩＩ］の好適な塩類として
は、化合物［Ｉ］で例示した酸付加塩を挙げることがで
きる。

【００８８】この反応は、水、燐酸緩衝液、アセトン、
クロロホルム、アセトニトリル、ニトロベンゼン、塩化
メチレン、塩化エチレン、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、メタノール、エタノール、ジエチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド
、その他反応に悪影響を及ぼさない有機溶媒などの溶媒
、好ましくは極性の高い溶媒中で行うことができる。 前記溶媒のうち、親水性溶媒は水との混合物として用い
ることができる。化合物［ＩＩＩ］が液状の場合、これ
を溶媒としても使用できる。

【００８９】反応は塩基、たとえばアルカリ金属水酸化
物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩などの
無機塩基、トリアルキルアミンなどの有機塩基などの存
在下で行うのが好ましい。反応温度は特に限定されず、
通常、冷却下、室温、加温または加熱下で反応は行われ
る。この反応は、アルカリ金属ハロゲン化物（たとえば
ヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムなど）、アルカリ金
属チオシアン酸塩（たとえばチオシアン酸ナトリウム、
チオシアン酸カリウムなど）などの存在下で行うのが好
ましい。

【００９０】方法５ 目的化合物［Ｉｇ］またはその塩類は、化合物［ＩＶ］
またはその塩類をアシル化反応に付すことによって製造
できる。化合物［Ｉｇ］および［ＩＶ］の好適な塩類と
しては、化合物［Ｉ］で例示したものを挙げることがで
きる。この方法５の「アシル化剤」の好適な例としては
、導入されるアシルに対応する酸化合物、たとえば燐酸
およびその誘導体（たとえば塩化ホスホリル、ジフェニ
ルホスホロクロリデートなど）、硫酸およびその誘導体
［たとえば三酸化硫黄−ピリジン、三酸化硫黄−トリ（
低級）アルキルアミン（たとえばトリメチルアミン、ト
リエチルアミンなど）、クロロスルホン酸など］などを
挙げることができる。

【００９１】本発明の原料化合物［ＩＩ］の製造法を以
下詳細に説明する。 製造法Ａ 化合物［ＩＩ］またはその塩類は発酵法により製造する
ことができる。発酵法を以下詳細に説明する。この発明
の化合物［ＩＩ］またはその塩類は、コレオフォマ・エ
スピーＦ−１１８９９（Ｃｏｌｅｏｐｈｏｍａ　　ｓｐ
．Ｆ−１１８９９）のようなコレオフォマ属に属する化
合物［ＩＩ］またはその塩類−産生菌株を栄養培地中で
発酵させることにより産生することができる。

【００９２】（ｉ）微生物 化合物［ＩＩ］またはその塩類の産生に使用される微生
物の特性を以下説明する。菌株Ｆ−１１８９９は福島県
いわき市で採取された土壌試料から分離された。この菌
株は種々の培地上でやや抑制的に生育し、暗灰色ないし
褐灰色の集落を形成した。アナモルフ（分生子果）は三
浦のＬＣＡ平板１）上、または、コーンミール平板上に
置いた蒸気滅菌した葉片に、分離株を接種した場合に形
成したが、寒天培地上ではテレオモルフもアナモルフも
生成しなかった。その形態学的特徴、培養上の特徴およ
び生理学的特徴は下記のとおりである。

【００９３】種々の寒天培地上での培養上の特徴を表１
にまとめて示す。バレイショデキストロース寒天上での
培養物はやや速やかに生育し、２５℃、２週間後に直径
３．５−４．０ｃｍに達した。この集落表面は平坦でフ
ェルト状であり、やゝしわが多く、褐灰色であった。集
落中心は淡灰色ないし褐灰色であり、気菌糸で覆われて
いた。裏面の色は暗灰色であった。麦芽エキス寒天上の
集落はより抑制的に生育し、同条件で直径２．５−３．
０ｃｍに達した。表面は平坦で薄いか、ないしはフェル
ト状で、オリーブ褐色であった。集落中心は黄灰色であ
り、気菌糸で覆われていた。裏面は褐灰色であった。

【００９４】形態学的特徴は三浦のＬＣＡ平板にのせた
滅菌葉片上の培養物に基づいて決定した。分生子果は葉
片上にのみ生成した。これらは分生子殻状（ｐｙｃｈｉ
ｄｉａｌ）、表在性、単独で、円盤状ないしアンプル状
、底部で平たくなっており、単室、薄壁であり、黒色で
、直径９０−１６０（−２００）μｍ、高さ４０−７０
μｍであった。孔口はしばしば単一、円形で中心にあり
、乳頭状で、直径１０−３０μｍ、高さ１０−２０μｍ
であった。分生子柄は分生子殻内壁の下層から生成した
。これらは無色で、分枝しないか、またはごく僅かに分
枝しており、隔膜があって滑面であった。分生子形成細
胞は内生出芽型、フィアロ型、末端に分生子を有し、ア
ンプル状ないし倒西洋梨型で無色、滑面で５−８×４−
６μｍであり、カラーを有していた。カラーは鐘状ない
し筒状で１４−１８×３−５μｍであった。分生子は無
色、筒状で、薄壁であり、隔膜が無く滑面で、１４−１
６（−１８）×２−３μｍであった。栄養菌糸は隔膜が
あり、褐色、滑面で分枝していた。菌糸細胞は筒状で太
さ２−７μｍであった。厚膜胞子は無かった。菌株Ｆ−
１１８９９はバレイショデキストロース寒天上で生育温
度範囲０℃ないし３１℃、至適温度２３℃ないし２７℃
を有していた。上記特性は菌株Ｆ−１１８９９がコエロ
ミセテス（Ｃｏｅｌｏｍｙｃｅｔｅｓ）目に属すること
を示す。２），３），４）そこで、発明者らはこの菌株
を「コエロミセテス菌株Ｆ−１１８９９」と命名した。

【００９５】

【００９６】

【００９７】これらの特徴は２５℃、１４日間培養後に
観察した。色名記載はザ・メス−エン・ハンドブック・
オブ・カラー（Ｔｈｅ　　Ｍｅｔｈｕｅｎ　　Ｈａｎｄ
ｂｏｏｋｏｆ　　ｃｏｌｏｕｒ）５）に基づいた。 １）三浦、および工藤：アン・アガーメディアム・フォ
ー・アクアチック・ハイホミセテス（Ａｎ　　ａｇａｒ
−ｍｅｄｉｕｍ　　ｆｏｒ　　ａｑｕａｔｉｃ　　Ｈｙ
ｐｈｏｍｙｃｅｔｅｓ）、Ｔｒａｎｓ．Ｙｃｏｌｏ．　
　Ｓｏｃ．Ｊａｐａｎ，第１１巻、１１６−１１８頁、
１９７０年。 ２）　　アークス・ジェー・エー・フォン（Ａｒｘ，Ｊ
．Ａ．ｖｏｎ）：ザ・ジェネラ・オブ・フンジー・スポ
ルレーチング・イン・ピュア・カルチャー（ＴｈｅＧｅ
ｎｅｒａ　　ｏｆ　　Ｆｕｎｇｉ−Ｓｐｏｒｕｌａｔｉ
ｎｇ　　ｉｎ　　ＰｕｒｅＣｕｌｔｕｒｅ）第三版、３
１５頁、ジェー・クレーマー・バダズ（Ｊ．Ｃｒａｍｅ
ｒ　　Ｖａｄｕｚ）、１９７４年。 ３）サットン・ビー・シー（Ｓｕｔｔｏｎ，Ｂ．Ｃ）：
ザ・コエロミセテス−フンジー・　　インパーフェクチ
・ウイズ・ピクニディア；アセルブリ・アンド・ストロ
マータ（Ｔｈｅ　　Ｃｏｅｌｏｍｙｃｅｔｅｓ−Ｆｕｎ
ｇｉ　　Ｉｍｐｅｒｆｅｃｔｉ　　ｗｉｔｈ　　Ｐｙｃ
ｎｉｄｉａ；Ａｃｅｒｖｕｌｉ　　ａｎｄ　　Ｓｔｒｏ
ｍａｔｅ）、６９６頁、コモンウェルス・マイコロジカ
ル・インスチチュート、キュー（Ｃｏｍｍｏｎｗｅａｌ
ｔｈ　　Ｍｙｃｏｌｏｇｉｃａｌ　　Ｉｎｓｔｉｔｕｔ
ｅ，Ｋｅｗ）、１９８０年。 ４）　　ホークスウォース・デー・エル（Ｈａｗｋｓｗ
ｏｒｔｈ，Ｄ，Ｌ．）ビー・シー・サットン（Ｂ．Ｃ．
Ｓｕｔｔｏｎ）およびジー・シー・エインスウォース（
Ｇ．Ｃ．Ａｉｎｓｗｏｒｔｈ）：ディクショナリー・オ
ブ・ザ・フンジー（Ｄｉｃｔｉｏｎａｒｙ　　ｏｆ　　
ｔｈｅ　　Ｆｕｎｇｉ）第７版、４４５頁、コモンウェ
ルス・マイコロジカル・インスチチュート、キュー（Ｃ
ｏｍｍｏｎｗｅａｌｔｈ　　Ｍｙｃｏｌｏｇｉｃａｌ　
　Ｉｎｓｔｉｔｕｔｅ，Ｋｅｗ）、１９８３年。 ５）コーネラップ・エー（Ｋｏｒｎｅｒｕｐ　　Ａ．）
およびワンシャー・ジェー・エイチ（Ｗａｎｓｃｈｅｒ
　　Ｊ．Ｈ．）：メスーエン・ハンドブック・オブ・カ
ラー（Ｍｅｔｈｕｅｎ　　Ｈａｎｄｂｏｏｋ　　ｏｆ　
　Ｃｏｌｏｕｒ）第三版、２５２頁、メスーエン、ロン
ドン（Ｍｅｔｈｕｅｎ，Ｌｏｎｄｏｎ）、１９８３年。

【００９８】コエロミセテス　　菌株Ｆ−１１８９９は
茨城県つくば市東１丁目１−３に所在の工業技術院微生
物工業技術研究所に微工研条寄第２６３５号（ＦＥＲＭ
　　ＢＰ−２６３５）として１９８９年１０月２６日付
で寄託された。しかしながらその後、発明者らはさらに
菌株Ｆ−１１８９９の分類の研究を行って、菌株Ｆ−１
１８９９がコエロミセテス目に属するコレオフォマ・エ
ンペトリ（ロストラップ）ペトラーク［Ｃｏｌｅｏｐｈ
ｏｍａ　　ｅｍｐｅｔｒｉ（Ｒｏｓｔｒｕｐ）Ｐｅｔｒ
ａｋ］１９２９年２），３），４）に類似しているが、
ただ、分生子殻の特徴、すなわち、丸味を帯びているか
底部が平らであること、埋没していることおよび乳頭状
の孔口部がないことの点で幾つか異なることを見出した
。これらの特徴を考慮して、発明者らはこの菌株をさら
に詳しく分類し、「コレオフォマ・エスピーＦ−１１８
９９（Ｃｏｌｅｏｐｈｏｍａ　　ｓｐ．Ｆ−１１８９９
）」と命名した。これに関連して、発明者らは工業技術
院微生物工業技術研究所に１９９０年９月２１日付で、
「コエロミセテス　　菌株Ｆ−１１８９９」という名前
を「コレオフォマ・エスピーＦ−１１８９９」に訂正す
る手続を取った。

【００９９】（ｉｉ）化合物［ＩＩ］またはその塩類の
産生 この発明の化合物［ＩＩ］またはその塩類は、コレオフ
ォマ属に属する化合物［ＩＩ］またはその塩類−産生菌
株を、同化し得る炭素源および窒素源を含む栄養培地中
、例えば振とう培養、深部培養等の好気条件下に生育せ
しめる時に産生される。栄養培地中の好ましい炭素源は
、グルコース、スクロース、デンプン、フルクトースま
たはグリセリン等のような炭水化物である。

【０１００】好ましい窒素源は酵母エキス、ペプトン、
グルテン粉、綿実粉、大豆粉、コーン・スティープ・リ
カー、乾燥酵母、小麦胚芽等並びに、例えば硝酸アンモ
ニウム、硫酸アンモニウム、リン酸アンモニウム等のア
ンモニウム塩類、尿素、アミノ酸等のような無機および
有機窒素化合物である。炭素源および窒素源は組合わせ
て使用すると有利ではあるが、痕跡程度の生育因子およ
びかなりの量の無機栄養素を含む低純度のものも使用に
適しているので、それらの純粋な形で使用する必要はな
い。

【０１０１】所望に応じて、培地に炭酸ナトリウムまた
は炭酸カルシウム、リン酸ナトリウムまたはリン酸カリ
ウム、塩化ナトリウムまたは塩化カリウム、沃化ナトリ
ウム、または沃化カリウム、マグネシウム塩類、銅塩類
、亜鉛塩類、またはコバルト塩類等のような無機塩類を
加えてもよい。必要に応じて、とりわけ培養培地が激し
く発泡する場合には、流動パラフィン、脂肪油、植物油
、鉱油またはシリコン等のような消泡剤を加えてもよい
。

【０１０２】他の生物学的活性物質の大量生産のために
使用される望ましい方法の場合のように、化合物［ＩＩ
］またはその塩類の大量生産には深部好気培養条件が望
ましい。少量産生の場合には、フラスコ中またはビン中
の振とう培養または表面培養が行われる。さらに、生育
を大型タンク内で行う場合には、化合物［ＩＩ］または
その塩類の生産工程における生育遅延を回避するために
、生産タンクに接種するのに菌を栄養細胞の形で使用す
るのが望ましい。すなわち、まず比較的少量の培養培地
に菌の胞子または菌糸体を接種し、その接種培地を培養
することにより栄養細胞を生産し、これを大型タンクに
移すのが望ましい。栄養細胞を生産する培地は化合物［
ＩＩ］またはその塩類の生産に利用する培地と実質的に
同じであるかまたは異なってもよい。

【０１０３】培養混合物の攪拌および通気は種々の方法
で行えばよい。攪拌はプロペラまたはこれに類似の機械
的撹拌装置、回転または振とう発酵装置、種々のポンプ
装置、または培地中の滅菌空気の通過によって行えばよ
い。通気は発酵混合物中を滅菌空気を通過させることに
より行えばよい。発酵は通常約１０℃と４０℃との間の
温度、好ましくは２０℃ないし３０℃で、約５０時間な
いし１５０時間行われるが、発酵条件と規模とに従って
変化させてもよい。発酵が完了すれば、培養ブロスは次
いで化合物［ＩＩ］またはその塩類を回収するために、
例えば適切な溶媒または数種の溶媒の混合物による溶媒
抽出、クロマトグラフィー、または適切な溶媒または数
種の溶媒の混合物からの再結晶等の、生物学的活性物質
の回収および精製に常用される種々の操作法に付される
。

【０１０４】この発明によれば、化合物［ＩＩ］または
その塩類は一般的に培養菌糸体中および培養ブロス中の
両方に見出される。従って、化合物［ＩＩ］またはその
塩類はブロス全体からアセトンまたは酢酸エチル、また
はこれらの溶媒の混合物等のような適切な有機溶媒を用
いる抽出によって抽出される。抽出液は化合物［ＩＩ］
またはその塩類を得られるような常法、例えば抽出液を
溶媒留去または蒸留により濃縮して少量とし、活性物質
、すなわち化合物［ＩＩ］またはその塩類を含む残渣を
、例えばクロマトグラフィーまたは適切な溶媒または数
種の溶媒の混合物からの再結晶により精製することによ
り処理され、目的物が得られる。化合物［ＩＩ］がその
塩類として単離された場合には、常法により遊離の化合
物［ＩＩ］または化合物［ＩＩ］の別の塩類に導くこと
ができる。

【０１０５】

【発明の効果】本発明のポリペプチド化合物［Ｉ］の生
物学的性質 本発明のポリペプチド化合物［Ｉ］の有用性を示すため
に、代表的化合物の若干の生物学的データを以下に説明
する。

【０１０６】試験１　　抗菌活性（１）：後記において
開示する実施例２の化合物（以下ＦＲ１３１５３５物質
と呼ぶ）の抗菌活性を、酵母の窒素を基礎としたデキス
トロース培地（ＹＮＢＤ培地）を用いて、９６ウエルマ
ルチトレイ中でのマイクロブロス希釈法によって測定し
た。倍々希釈系列の試料溶液５０μｌに、微生物の生理
食塩水中懸濁液５０μｌを加えて、最終濃度を１×１０
５コロニー形成単位／ｍｌとした。カンジダの培養物を
３７℃で２２時間インキュベートした。インキュベーシ
ョン後、各ウエル中の微生物の生育を比濁法によって求
めた。結果は、濁度が無試料ウエルの半分となる濃度を
ＩＣ５０値として示した。結果を第２表に示す。

【０１０７】

【０１０８】試験２　　ＦＲ１３１５３５物質の急性毒
性： ＦＲ１３１５３５物質の急性毒性を、ＩＣＲマウス（雌
性、４週令）で静脈内一回投与により求めた。用量５０
０ｍｇ／ｋｇで毒性症状は観察されなかった。

【０１０９】試験３　　抗菌活性（２）：後記において
開示する実施例１２の化合物（以下ＦＲ１３９６８７物
質と呼ぶ）の試験管内抗菌活性を、下記の寒天平板２倍
希釈法によって求めた。２％グルコースを含有するサブ
ローブロス（Ｓａｂｏｕｒａｕｄ　　ｂｒｏｔｈ）中で
各試験微生物を一夜培養したもの（生菌数１０５／ｍｌ
）の一白金耳を、ＦＲ１３９６８７物質を各種段階濃度
で含有する酵母の窒素を基礎としたデキストロース寒天
（ＹＮＢＤＡ）上に画線し、最小発育阻止濃度（ＭＩＣ
）を、３０℃で２４時間インキュベーション後μｇ／ｍ
ｌ単位で表わした。

【０１１０】

【０１１１】試験結果から、本発明のポリペプチド化合
物［Ｉ］が抗菌活性（とくに抗真菌活性）を有すること
が明らかである。

【０１１２】この発明の製剤は、有効成分としてポリペ
プチド化合物［Ｉ］またはその塩類を直腸投与、経肺（
経鼻ないしバッカル吸入）、点鼻、点眼、外用（局所）
、経口または非経口（皮下、静脈内および筋肉内を含む
）などの投与または吸入に適した有機あるいは無機担体
または賦形剤と共に含有する固形、半固形あるいは液状
の製剤の形で用いることができる。有効成分は例えば、
錠剤、ペレット剤、トローチ、カプセル剤、坐剤、クリ
ーム剤、軟膏剤、エアゾール剤、吸入用粉末薬、液剤、
乳剤、懸濁剤、その他使用に適した剤形に用いられる慣
用の無毒性の医薬として許容される担体と共に配合する
ことができる。さらに、必要に応じて補助剤、安定化剤
、粘稠化剤、着色剤および香料を使用することができる
。目的化合物［Ｉ］またはその塩類は疾患の経過または
状態に所望の治療効果を生じるに足りる量を製剤に含有
させればよい。

【０１１３】この製剤をヒトまたは動物に適用する場合
、静脈内、筋肉内または経口投与によるのが好ましい。 ポリペプチド化合物［Ｉ］の治療有効量は治療される各
患者の年令および条件によっても変動するが、一般には
ポリペプチド化合物［Ｉ］を、静脈内投与の場合にはヒ
トまたは動物体重１ｋｇ当り１日量０．０１−２０ｍｇ
、筋肉内投与の場合にはヒトまたは動物体重１ｋｇ当り
１日量０．１−２０ｍｇ、経口投与の場合にはヒトまた
は動物体重１ｋｇ当り１日量０．５−５０ｍｇで感染症
の治療または予防のために投与することができる。

【０１１４】

【実施例】以下、製造例並びに実施例により本発明を詳
述する。

【０１１５】製造例１ メタノール（５０ｍｌ）に塩化チオニル（８．７３ｍｌ
）を−５℃で加え、混合物を１０分間攪拌後、Ｄ−２−
（ｐ−ヒドロキシフェニル）グリシン（５ｇ）を氷冷下
に加える。混合物を１２時間室温で撹拌する。反応混合
物を減圧濃縮して、Ｄ−２−（ｐ−ヒドロキシフェニル
）グリシンメチルエステル塩酸塩（６．３ｇ）を得る。

【０１１６】製造例２ Ｄ−２−（ｐ−ヒドロキシフェニル）グリシンメチルエ
ステル塩酸塩（６．３ｇ）とトリエチルアミン（８．７
１ｍｌ）のテトラヒドロフラン（１００ｍｌ）溶液にジ
−ｔ−ブチル　　ジカルボネート（ｄｉ−ｔ−ｂｕｔｙ
ｌ　　ｄｉｃａｒｂｏｎａｔｅ）（６．８２ｇ）を加え
る。 混合物を室温で２時間撹拌する。反応混合物をジエチル
エーテル（１ｌ）に加え、不溶物を濾去し、濾液を減圧
下濃縮して、Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｄ−２
−（ｐ−ヒドロキシフェニル）グリシンメチルエステル
（６．８３ｇ）を得る。

【０１１７】製造例３ Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｄ−２−（ｐ−ヒド
ロキシフェニル）グリシンメチルエステル（６．８ｇ）
と重炭酸カリウム（１．８４ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（３４ｍｌ）中懸濁液に臭化オクチル（４．
１７６ｍｌ）を加える。混合物を６０℃で６時間攪拌す
る。反応混合物を水および酢酸エチルの混合物に加える
。有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸
マグネシウムを濾去し、濾液を減圧下濃縮してＮ−（ｔ
−ブトキシカルボニル）−Ｄ−２−（ｐ−オクチルオキ
シフェニル）グリシンメチルエステル（６．９６ｇ）を
得る。

【０１１８】製造例４ ４Ｎ水素化ナトリウム水溶液（８．７７ｍｌ）にＮ−（
ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｄ−２−（ｐ−オクチルオ
キシフェニル）グリシンメチルエステル（６．９ｇ）を
加え、室温で１．５時間撹拌する。反応混合物を水およ
び酢酸エチルの混合物に加え、混合物を１Ｎ塩酸でｐＨ
３に調整する。有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾
燥する。硫酸マグネシウムを濾去し、濾液を減圧下濃縮
して、Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｄ−２−（ｐ
−オクチルオキシフェニル）グリシン（３．９ｇ）を得
る。

【０１１９】製造例５ Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｄ−２−（ｐ−オク
チルオキシフェニル）グリシン（１ｇ）のアセトニトリ
ル（１０ｍｌ）溶液とピリジン（０．２１３ｍｌ）のア
セトニトリル（１０ｍｌ溶液に　　Ｎ，Ｎ′−ジスクシ
ンイミジル　　カルボネート（Ｎ，Ｎ′−ｄｉｓｕｃｃ
ｉｎｉｍｉｄｙｌ　　ｃａｒｂｏｎａｔｅ）（０．６７
５ｇ）を加える。混合物を室温で１２時間攪拌する。反
応混合物を水および酢酸エチルの混合物に加える。有機
層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネ
シウムを濾去し、濾液から溶媒を減圧下蒸発させて、Ｎ
−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｄ−２−（ｐ−オクチ
ルオキシフェニル）グリシンスクシンイミドエステル（
０．９２ｇ）を得る

【０１２０】製造例６ 製造例２と同様にして、Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル
）−Ｌ−チロシンメチルエステルを得る。

【０１２１】製造例７ 製造例３と同様にして、Ｏ４−オクチル−Ｎ−（ｔ−ブ
トキシカルボニル）−Ｌ−チロシンメチルエステルを得
る。

【０１２２】製造例８ 製造例４と同様にして、Ｏ４−オクチル−Ｎ−（ｔ−ブ
トキシカルボニル）−Ｌ−チロシンを得る。

【０１２３】製造例９ 製造例５と同様にして、　　Ｏ４−オクチル−Ｎ−（ｔ
−ブトキシカルボニル）−Ｌ−チロシンスクシンイミド
エステルを得る。

【０１２４】製造例１０ （１）スクロース４％、綿実粉２％、乾燥酵母１％、ペ
プトン１％、ＫＨ２ＰＯ４０．２％、ＣａＣＯ３０．２
％、およびツイーン８０（半井化学社製）０．１％より
なる前培養培地（１６０ｍｌ）を５００ｍｌエルレンマ
イヤーフラスコ２個それぞれに注ぎ、１２１℃、３０分
間滅菌する。コレオフォマ・エスピーＦ−１１８９９の
斜面培養物１白金耳を各培地に接種し、振とう条件下２
５℃で４日間培養する。パインデックス＃３（松谷化学
社製）３％、グルコース１％、小麦胚芽１％、綿実粉０
．５％、ＫＨ２ＰＯ４２％、Ｎａ２ＨＰＯ４・１２Ｈ２
Ｏ１．５％、ＺｎＳＯ４・７Ｈ２Ｏ０．００１％および
アデカノール（消泡剤、旭電化社製）０．０５％よりな
る生産培地（２０ｌ）を３０ｌジャーファーメンターに
注ぎ、１２１℃、３０分間滅菌する。前培養ブロス（３
２０ｍｌ）を生産培地に接種し、２００ｒｐｍの攪拌下
および毎分２０ｌの通気下２５℃、４日間培養する。こ
のようにして得られる培養ブロス（２０ｌ）に等容量の
アセトンを加える。暫時室温で時々攪拌後、ブロスを濾
過する。濾液を減圧濃縮してアセトンを留去する。水性
濾液（１０ｌ）を酢酸エチル等容量で２回洗浄し、ｎ−
ブタノール（１０ｌ）で２回抽出する。ｎ−ブタノール
層を合わせ、減圧濃縮して残渣をシリカゲル６０（Ｅ．
メルク社製）のカラム（３００ｍｌ）にかけ、ジクロロ
メタン−メタノールよりなる有機溶媒混合物で段階的に
溶出する。抗カンジダ作用を有する画分を溶媒混合物（
３：１から１：１）の範囲で溶出する。活性画分を合わ
せ、減圧下に濃縮乾固する。残渣を５０％メタノール水
溶液（１５ｍｌ）に溶解し、ＯＤＳ　　ＹＭＣ　　ＧＥ
Ｌ（山村化学研究所製）のカラム（２５０ｍｌ）にかけ
る。カラムを５０％メタノール水溶液で洗浄し、８０％
メタノール水溶液で溶出する。溶出液を濃縮し、さらに
上部固定相の溶媒系ｎ−ブタノール：メタノール：水（
４：１：５）および下降方式に底部可動相を用いて遠心
分離パーチションクロマトグラフィー（ＣＰＣ）により
精製する。目的化合物（主成分）を含む画分を集めて減
圧濃縮し、シリカゲル６０のカラム（３５ｍｌ）にかけ
る。カラムをｎ−ブタノール：酢酸：水（６：１：１）
で展開する。活性画分を合わせ、減圧下に濃縮乾固し、
少容量の５０％メタノール水溶液に溶解する。溶液をＯ
ＤＳ　　ＹＭＣ　　ＧＥＬのカラム（３．５ｍｌ）を通
過させる。カラムを５０％メタノール水溶液で洗浄し、
メタノールで溶出する。溶出液を濃縮乾固し、少容量の
水に溶解して０．０１Ｎ　　ＮａＯＨ水溶液でｐＨ７．
０に調整する。溶液を凍結乾燥して、前記化合物をナト
リウム塩（１１ｍｇ）の形で（ＦＲ９０１３７９物質と
呼称）白色粉末として得る。

【０１２５】上記で得られるＦＲ９０１３７９物質は下
記物理化学的性質を有する。 紫外吸収スペクトル： 赤外吸収スペクトル： １２４０，１０７０，１０４５，８００，７５５，７１
０ｃｍ−１ １Ｈ核磁気共鳴スペクトル：

【０１２６】上記物理的性質および化学的性質の解析お
よびさらに化学構造の同定を研究した結果から、ＦＲ９
０１３７９物質の化学構造は下記のとおりに同定された
。

【０１２７】実施例１ ＦＲ９０１３７９物質のＮ−アシル基は、酵素を用いた
脱アシル化反応によって脱離される。この脱離反応につ
いて以下に詳細に説明する。

【０１２８】（１）　　アクチノプラネス・ユタヘンシ
ス（Ａｃｔｉｎｏｐｌａｎｅｓ　　ｕｔａｈｅｎｓｉｓ
）の培養 ＦＲ９０１３７９物質のＮ−アシル基を脱離させるのに
有用な酵素がアクチノプラネス（Ａｃｔｉｎｏｐｌａｎ
ｅｓ）属に属する微生物、好ましくはアクチノプラネス
・ユタヘンシス種に属する微生物、例えば、アクチノプ
ラネス・ユタヘンシスＩＦＯ−１３２４４によって生産
される。アクチノプラネス・ユタヘンシスＩＦＯ−１３
２４４を予め培養して寒天斜面上で維持する。この斜面
培養物の一白金耳をとり、澱粉１％、庶糖１％、グルコ
ース１％、綿実粉１％、ペプトン０．５％、大豆粉０．
５％、ＣａＣＯ３０．１％からなる種培地に接種する。 回転振とう機を用い、上述の接種増殖培地を容量２２５
ｍｌの広口エルレンマイヤー・フラスコ中３０℃で約７
２時間培養する。この接種増殖培地をそのまま庶糖２％
、落花生粉１％、Ｋ２ＨＰＯ４０．１２％、ＫＨ２ＰＯ
４０．０５％、ＭｇＳＯ４・７Ｈ２Ｏ０．０２５％から
なる醗酵培地に移植する。醗酵培地は容量３０ｌのジャ
ー・ファーメンター中温度３０℃で約８０時間醗酵させ
る。醗酵培地は常用の撹拌機を用いて回転速度２５０ｒ
ｐｍで撹拌し、通気量は１分間当り２０ｌとする。醗酵
を終了した培地から基生菌糸体を濾過採取し、水で一回
洗浄する。洗浄菌糸体はそのまま酵素源としてＦＲ９０
１３７９物質のＮ−アシル基を脱離させる反応に使用す
る。

【０１２９】（２）脱離条件 ＦＲ９０１３７９物質を０．２５Ｍリン酸緩衝液（ｐＨ
６．５）に溶解して最終濃度０．９ｍｇ／ｍｌとする。 この溶液３６ｌにアクチノプラネス・ユタヘンシスＩＦ
Ｏ−１３２４４の洗浄菌糸を湿重量２ｋｇ相当量加える
。脱離反応は３７℃以下の温度で２３時間実施する。 ＦＲ９０１３７９物質の減少と脱アシルＦＲ９０１３７
９物質（以下ＦＲ１３３３０３と称する）の増加とは逆
相カラムを備えたＨＰＬＣで測定する。ＦＲ９０１３７
９物質３０ｇからＦＲ１３３３０３物質２２．２ｇが反
応系内で生成される。

【０１３０】（３）ＦＲ１３３３０３物質の単離上記の
反応混合物を濾過助剤を用いて濾過し、菌糸体をケーキ
として濾去する。得られた濾液を活性炭のカラム（２ｌ
）に通す。該カラムを６ｌの水で洗浄したのち、５０％
アセトン水溶液１２ｌで溶出させる。溶出液を真空下蒸
発させてアセトンを除去し、さらにＹＭＣ　　ＧＥＬ　
　ＯＤＳ−ＡＭ　　１２０−Ｓ５０（山村化学研究所）
のカラム（４ｌ）に通す。このカラムを水洗し、５０ｍ
Ｍ　　ＮａＨ２ＰＯ４を含む２％アセトニトリル水溶液
で溶出する。溶出は分析ＨＰＬＣでモニターする。すな
わち、カラムとしてＬｉＣｈｒｏｓｐｈｅｒ１００　　
ＲＰ−１８（Ｃｉｃａ−ＭＥＲＣＫ）を用い、溶媒とし
て、０．５％ＮＨ４Ｈ２ＰＯ４を含む３％アセトニトリ
ル水溶液を流速１ｍｌ／分で流し、ＵＶモニターを用い
て波長２１０ｎｍでＦＲ１３３３０３物質を検出する。 ＦＲ１３３３０３物質を含む画分を合わせて活性炭カラ
ム（４００ｍｌ）に通す。カラムを水洗して５０％アセ
トン水溶液で溶出する。溶出液は真空下に濃縮してアセ
トンを除き、残留物を凍結乾燥して、１６．４ｇのＦＲ
１３３３０３物質を白色粉末として得る。

【０１３１】ＦＲ１３３３０３物質の物理化学的性質は
次の通りである。 紫外吸収スペクトル： 赤外吸収スペクトル： １Ｈ核磁気共鳴スペクトル： １３Ｃ核磁気共鳴スペクトル： ＦＲ１３３３０３物質の化学構造は、次の如く同定され
る。

【０１３２】実施例２ （１）４−ヒドロキシ安息香酸（１９．２ｇ）の１０％
ＮａＯＨ（１２０ｍｌ）溶液をジメチルスルホキシド（
４８０ｍｌ）に３０分間かけて滴下する。この間反応混
合物の温度を３０−４０℃の間に保つ。添加終了後、溶
液を１７−２０℃に冷却する。この溶液に１−ブロモオ
クタン（２８．９５ｇ）を３０分間かけて滴下し、反応
混合物を室温で４時間激しく撹拌する。反応混合物を氷
水（１２００ｍｌ）中に注ぎ、濃塩酸（４０ｍｌ）で酸
性とする。さらに１時間激しく攪拌後、生成する固形物
を濾去し、アセトニトリル（６０ｍｌ）に溶解する。 溶液を３０分間還流し、室温で一夜静置して、４−オク
チルオキシ安息香酸（１３．８ｇ）を結晶として得る。 （融点：９６℃、元素分析：Ｃ１５Ｈ２２Ｏ３として：
計算値：Ｃ７１．９７，Ｈ８．８６；実測値：Ｃ７１．
３０，Ｈ８．８９）４−オクチルオキシ安息香酸（１３
．８ｇ）のジエチルエーテル（５５２ｍｌ）の溶液に２
，４，５−トリクロロフェノール（１０．８７ｇ）とＮ
，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド（１１．３７
ｇ）を加える。溶液を窒素雰囲気下室温で１８時間攪拌
する。析出物を濾去し、濾液を減圧濃縮する。残留物を
石油エーテルに溶解し、氷水冷却下で静置する。生成す
る結晶（１５．２ｇ）を濾過し、加温したｎ−ヘキサン
（１５０ｍｌ）に溶解する。室温で一夜静置後、生成す
る結晶を濾去する。濾液を濃縮して油状物を得る。これ
を酢酸エチルとｎ−ヘキサンの混合溶媒を用いるシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィーで精製して、４−オクチ
ルオキシ安息香酸２，４，５−トリクロロフェニルエス
テル（７．５８ｇ）を得る。（融点：５３℃、元素分析
：Ｃ２１Ｈ２３Ｏ３Ｃｌ３として：計算値：Ｃｌ　　２
４．７５；実測値：Ｃｌ　　２４．０５）（２）ＦＲ１
３３３０３物質（２．０４ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホル
ムアミド（６０ｍｌ）溶液に４−オクチルオキシ安息香
酸２，４，５−トリクロロフェニルエステル（２．０４
ｇ）と４−ジメチルアミノピリジン（０．２８３ｇ）を
加える。溶液を窒素雰囲気下室温で１５時間攪拌する。 この溶液に４−ジメチルアミノピリジン（０．２０ｇ）
を加え、混合物をさらに２４時間攪拌する。反応混合物
を水（６００ｍｌ）中に注ぎ、ｐＨを６．０に調整する
。混合物を等量の酢酸エチルで二回洗浄し、次いで３０
ｍｌに濃縮する。濃縮物をＤＥＡＥ−トーヨーパール（
Ｃｌ型、東ソー（株）製）のカラム（１５０ｍｌ）に付
す。カラムを５０％メタノール水溶液で洗浄し、１Ｍ塩
化ナトリウム水溶液を含む５０％メタノール水溶液で展
開する。溶出液のモニターは、溶媒中のアセトニトリル
濃度を４０％とする以外は実施例１（３）で述べたのと
同じＨＰＬＣ系で行う。目的化合物を含む画分を集め、
減圧下溶媒を留去してメタノールを除く。この溶液は、
脱塩のためにＹＭＣ　　ＧＥＬ　　ＯＤＳ−ＡＭ　　１
２０−Ｓ５０のカラム（１ｌ）に吸着させる。カラムを
水洗し、３０％アセトニトリル水溶液で溶出する。溶出
液から減圧下にアセトニトリルを除き、凍結乾燥して目
的化合物（以下ＦＲ１３１５３５物質と称する）（１．
４ｇ）を白色粉末として得る。

【０１３３】ＦＲ１３１５３５物質の物理化学的性質は
次の通りである。 赤外吸収スペクトル： １Ｈ核磁気共鳴スペクトル：

【０１３４】ＦＲ１３１５３５物質の化学構造は、次の
如く同定された。

【０１３５】実施例３ないし１ｌの化合物の化学構造を
以下に示す。

【０１３６】

【０１３７】実施例３ ＦＲ１３３３０３物質（１ｇ）とＮ−（ｔ−ブトキシカ
ルボニル）−Ｄ−２−（ｐ−オクチルオキシフェニル）
グリシンスクシンイミドエステル（０．５９６ｇ）のＮ
，Ｎ−ジメチルホルムアミド（３ｍｌ）溶液に４−ジメ
チルアミノピリジン（０．１６５ｇ）を加える。混合物
を室温で１２時間攪拌する。反応混合物を水（３０ｍｌ
）に加え、次いでｐＨ６に調整する。水溶液を酢酸エチ
ルで洗浄し、ＤＥＡＥ−トーヨーパール（Ｃｌ−）（６
０ｍｌ）イオン交換クロマトグラフィーに付し、１Ｍ塩
化ナトリウム水溶液中５０％メタノールで溶出する。目
的化合物を含む画分を合わせ、減圧下メタノールを除く
。この水溶液を１Ｎ塩酸でｐＨ４．５に調整し、ダイヤ
イオンＨＰ−２０（商標、三菱化成工業社製）（１３０
ｍｌ）カラムクロマトグラフィーに付し、８０％メタノ
ール水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ
、減圧下メタノールを除く。残留物を凍結乾燥してアシ
ル化された目的化合物（以下ＦＲ１３８２６０物質と称
する）（０．７７ｇ）を得る。

【０１３８】実施例４ 実施例３で得られたＦＲ１３８２６０物質（０．２５ｇ
）をトリフルオロ酢酸（１．２５ｍｌ）に加え、１０分
間撹拌する。反応混合物を水（３０ｍｌ）に加え、次い
で飽和重炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ４．５に調整する
。この水溶液をダイヤイオンＨＰ−２０（１００ｍｌ）
カラムクロマトグラフィーに付し、８０％メタノール水
溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧
下メタノールを除く。残留物を凍結乾燥して目的化合物
（以下ＦＲ１３８７２７物質と称する）（１５ｍｇ）を
得る。

【０１３９】実施例５ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質をＯ４−
オクチル−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−チロ
シンスクシンイミドエステルと反応させてＦＲ１３８３
６４物質を得る。

【０１４０】実施例６ ＦＲ１３３３０３物質（０．５ｇ）を水（５ｍｌ）とテ
トラヒドロフラン（５ｍｌ）の混合物に溶解し、溶液を
飽和重炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ７に調整後、ジ−ｔ
−ブチルカルボネート（０．１１４ｇ）を室温で加える
。混合物を飽和重炭酸ナトリウム水溶液でｐＨ７に保ち
ながら室温で５時間攪拌する。反応混合物を水に加え、
ｐＨ６に調整する。この水溶液を酢酸エチルで洗浄し、
ＤＥＡＥ−トーヨーパール（Ｃｌ−）（３０ｍｌ）イオ
ン交換クロマトグラフィーに付し、１Ｍ塩化ナトリウム
水溶液中５０％メタノールで溶出する。目的化合物を含
む画分を合わせ、減圧下メタノールを除く。水溶液を１
Ｎ塩酸でｐＨ４．５に調整し、ダイヤイオンＨＰ−２０
（１００ｍｌ）カラムクロマトグラフィーに付し、８０
％メタノール水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分
を合わせ、減圧下メタノールを除く。残留物を凍結乾燥
して、アシル化された目的化合物（以下ＦＲ１３８２６
１物質と称する）（０．１４５ｇ）を得る。

【０１４１】実施例７ 実施例６と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を塩化ア
セチルと反応させてＦＲ１３８３６３物質を得る。

【０１４２】実施例８ 実施例６と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を塩化２
−ブロモアセチルと反応させてＦＲ１３８７２８物質を
得る。

【０１４３】実施例９ 実施例６と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を塩化ベ
ンゾイルと反応させてＦＲ１３８５３８物質を得る。

【０１４４】実施例１０ 実施例６と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を２−（
２−アミノチアゾール−４−イル）−２−メトキシイミ
ノ酢酸と反応させてＦＲ１３８５３９物質を得る。

【０１４５】実施例１１ 実施例６と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を塩化ト
シルと反応させてＦＲ１３８３６５物質を得る。

【０１４６】製造例１１ ６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸（１ｇ）を１０％水酸
化ナトリウム水溶液（４．２５ｍｌ）とジメチルスルホ
キシド（１７ｍｌ）の混合物に溶解し、これに臭化オク
チル（０．９１８ｍｌ）を加える。混合物を６０℃で６
時間撹拌する。反応混合物を水と酢酸エチルの混合物に
加え、濃塩酸でｐＨ３に調整する。有機層を分取し、硫
酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウムを濾去し
、濾液から減圧下溶媒を留去して、６−オクチルオキシ
−２−ナフトエ酸（０．９１ｇ）を得る。

【０１４７】製造例１２ １−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カル
ボジイミド塩酸塩（０．７０３ｇ）を６−オクチルオキ
シ−２−ナフトエ酸（０．８５ｇ）と１−ヒドロキシ−
１Ｈ−ベンゾトリアゾール（０．３８２ｇ）の酢酸エチ
ル（２６ｍｌ）溶液に加える。混合物を室温で２時間攪
拌する。反応混合物を水に加え、分取した有機層を水お
よび塩化ナトリウム水溶液で洗浄する。次いで有機層を
硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸マグネシウムを濾去
し、濾液から減圧下溶媒を留去して、１−（６−オクチ
ルオキシ−２−ナフトイル）−１Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル−３−オキシド（０．７４ｇ）を得る。

【０１４８】実施例１２の化合物の化学構造を以下に示
す。

【０１４９】

【０１５０】実施例１２ ＦＲ１３３３０３物質（０．５ｇ）および１−（６−オ
クチルオキシ−２−ナフトイル）−１Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−３−オキシド（０．２７１ｇ）のＮ，Ｎ−ジメ
チルホルムアミド（１．５ｍｌ）溶液に４−ジメチルア
ミノピリジン（０．０８２８ｇ）を加える。混合物を１
２時間室温で攪拌する。反応混合物を水に加え、ｐＨ６
に調整する。水溶液を酢酸エチルで洗浄し、ＤＥＡＥ−
トーヨーパール（Ｃｌ−）（３０ｍｌ）イオン交換クロ
マトグラフィーに付し、１Ｍ塩化ナトリウム溶液中５０
％メタノールで溶出する。目的化合物を含む画分を合わ
せ、減圧下メタノールを除く。水溶液を１Ｎ塩酸でｐＨ
４．５に調整し、ダイヤイオンＨＰ−２０（６５ｍｌ）
カラムクロマトグラフィーに付し、８０％メタノール水
溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧
下メタノールを除く。残留物を凍結乾燥して、アシル化
された目的化合物（以下ＦＲ１３９６８７物質と称する
）（０．２１４ｇ）を得る。

【０１５１】製造例５と同様にして、下記の化合物（製
造例１３ないし１６）を得る。

【０１５２】製造例１３ Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−２−（２−ナフ
チル）グリシンスクシンイミドエステル

【０１５３】製
造例１４ ２−（４−ビフェニリル）酢酸スクシンイミドエステル

【０１５４】製造例１５ ４−ｔ−ブチル安息香酸スクシンイミドエステル

【０１
５５】製造例１６ ４−（４−フェニルブトキシ）安息香酸スクシンイミド
エステル

【０１５６】製造例１７ ３，７−ジメチルオククノール（５ｍｌ）に三臭化燐（
１．０１ｍｌ）を加える。混合物を６０℃で４時間攪拌
する。反応混合物を水とｎ−ヘキサンの混合物に加える
。有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥する。硫酸
マグネシウムを濾去し、濾液から減圧下溶媒を留去して
、臭化３，７−ジメチルオクチル（４．４０ｇ）を得る
。

【０１５７】製造例１１と同様にして、下記の化合物（
製造例１８ないし２３）を得る。

【０１５８】製造例１８ ４−［４−（オクチルオキシ）フェノキシ］安息香酸

【
０１５９】製造例１９ ６−（ブトキシ）−２−ナフトエ酸

【０１６０】製造例２０ ６−デシルオキシ−２−ナフトエ酸

【０１６１】製造例２１ ６−ヘキシルオキシ−２−ナフトエ酸

【０１６２】製造例２２ ６−ドデシルオキシ−２−ナフトエ酸

【０１６３】製造例２３ ６−（３，７−ジメチルオクチルオキシ）−２−ナフト
エ酸

【０１６４】製造例１２と同様にして、下記の化合物（
製造例２４ないし３１）を得る。

【０１６５】製造例２４ １−［４−（４−オクチルオキシ）フェノキシ］ベンゾ
イル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシド

【０１
６６】製造例２５ １−（６−ブトキシ−２−ナフトイル）−１Ｈ−ベンゾ
トリアゾール−３−オキシド

【０１６７】製造例２６ １−（６−デシルオキシ−２−ナフトイル）−１Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール−３−オキシド

【０１６８】製造例２７ １−（６−ヘキシルオキシ−２−ナフトイル）−１Ｈ−
ベンゾトリアゾール−３−オキシド

【０１６９】製造例２８ １−（６−ドデシルオキシ−２−ナフトイル）−１Ｈ−
ベンゾトリアゾール−３−オキシド

【０１７０】製造例２９ １−［６−（３，７−ジメチルオクチルオキシ）−２−
ナフトイル］−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシ
ド

【０１７１】製造例３０ １−［（２Ｅ，６Ｅ）−３，７，１１−トリメチル−２
，６，１０−ドデカトリエノイル］−１Ｈ−ベンゾトリ
アゾール−３−オキシド

【０１７２】製造例３１ 製造例１７と同様にして、臭化３，７−ジメチル−６−
オクテニルを得る。

【０１７３】製造例３２ 水素化ナトリウム（２．０４ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（５０ｍｌ）中懸濁液に４−ヒドロキシピリ
ジン（５ｇ）を室温で加える。これに臭化オクチル（９
．０８ｍｌ）を加える。混合物を５０℃で２時間攪拌す
る。反応混合物を食塩水（１００ｍｌ）、テトラヒドロ
フラン（１００ｍｌ）および酢酸エチル（１００ｍｌ）
の混合物に加える。有機層を分取し、硫酸マグネシウム
で乾燥する。硫酸マグネシウムを濾去し、濾液から減圧
下溶媒を留去して、１−オクチル−４−ピリドン（１４
．７ｇ）を得る。

【０１７４】製造例３３ １−オクチル−４−ピリドン（１０．９ｇ）のピリジン
（１００ｍｌ）溶液に五硫化燐（８．６５ｇ）を室温で
加える。混合物を８０℃で３時間攪拌する。反応混合物
を水（２００ｍｌ）と塩化メチレン（２００ｍｌ）の混
合物に加える。有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾
燥する。硫酸マグネシウムを濾去し、濾液から減圧下溶
媒を留去して、１−オクチル−１，４−ジヒドロピリジ
ン−４−チオンを得る。

【０１７５】製造例１と同様にして、下記の化合物（製
造例３４ないし３６）を得る。

【０１７６】製造例３４ ２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシ酢酸メ
チルエステル

【０１７７】製造例３５ Ｄ−チロシンメチルエステル塩酸塩

【０１７８】製造例３６ （４−ヒドロキシフェニル）グリオキシル酸メチルエス
テル

【０１７９】製造例３７ 製造例２と同様にして、Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル
）−Ｄ−チロシンメチルエステルを得る。

【０１８０】製造例３８ Ｌ−チロシンメチルエステル塩酸塩（１ｇ）の水（１．
５ｍｌ）溶液に重炭酸ナトリウム（０．３６３ｇ）を氷
冷下に加え、１０分間撹拌し、次いでアセトニトリル（
７ｍｌ）、３７％ホルムアルデヒド水溶液（０．６３７
ｍｌ）および水素化シアノ硼素ナトリウム（ｓｏｄｉｕ
ｍ　　ｃｙａｎｏｂｏｒｏｈｙｄｒｉｄｅ）（０．１８
２ｇ）を−５℃で加える。混合物を−５℃で２時間攪拌
する。生成する不溶物を濾去し、濾液を酢酸エチルで抽
出する。有機層を分取し、硫酸マグネシウムで乾燥する
。硫酸マグネシウムを濾去し、濾液から減圧下溶媒を留
去して、Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｌ−チロシンメチルエステ
ル（０．２１ｇ）を得る。

【０１８１】製造例３と同様にして、下記の化合物（製
造例３９ないし４４）を得る。

【０１８２】製造例３９ ２−（４−オクチルオキシフェニル）酢酸メチルエステ
ル

【０１８３】製造例４０ ３−（４−オクチルオキシフェニル）プロピオン酸エチ
ルエステル

【０１８４】製造例４１ ２−（４−オクチルオキシフェニル）−２−メトキシ酢
酸メチルエステル

【０１８５】製造例４２ Ｏ４−オクチル−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｄ
−チロシンメチルエステル

【０１８６】製造例４３ Ｏ４−オクチル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｌ−チロシンメチ
ルエステル

【０１８７】製造例４４ （４−オクチルオキシフェニル）グリオキシル酸メチル
エステル

【０１８８】製造例４と同様にして、下記の化合物（製
造例４５ないし５１）を得る。

【０１８９】製造例４５ ４−（２−ブトキシエトキシ）安息香酸

【０１９０】製
造例４６ ２−（４−オクチルオキシフェニル）酢酸

【０１９１】
製造例４７ ３−（４−オクチルオキシフェニル）プロピオン酸

【０
１９２】製造例４８ ２−（４−オクチルオキシフェニル）−２−メトキシ酢
酸

【０１９３】製造例４９ Ｏ４−オクチル−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｄ
−チロシン

【０１９４】製造例５０ Ｏ４−オクチル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｌ−チロシン

【０
１９５】製造例５１ （４−オクチルオキシフェニル）グリオキシル酸

【０１
９６】製造例５２ 製造例３および４と同様にして、Ｎ−（ｔ−ブトキシカ
ルボニル）−Ｌ−ヒスチジンメチルエステルからＮτ−
オクチル−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−ヒス
チジンを得る。 製造例１１と同様にして、下記の化合物（製造例５３な
いし６０）を得る。

【０１９７】製造例５３ ４−オクチルオキシフタル酸

【０１９８】製造例５４ ３−メトキシ−４−オクチルオキシ安息香酸

【０１９９
】製造例５５ ４−（４−オクチルオキシフェニル）安息香酸

【０２０
０】製造例５６ ６−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ナフトエ酸

【
０２０１】製造例５７ ６−（３，７−ジメチル−６−オクテニルオキシ）ナフ
トエ酸

【０２０２】製造例５８ ６−（３，７−ジメチル−２，６−オクタジエニルオキ
シ）ナフトエ酸

【０２０３】製造例５９ （２Ｅ）−３−（４−オクチルオキシフェニル）アクリ
ル酸

【０２０４】製造例６０ ６−オクチルオキシ−２−ナフタレンスルホン酸ナトリ
ウム

【０２０５】製造例６１ 塩化チオニル（０．６９２ｍｌ）のＮ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド（０．０２２ｍｌ）溶液に６−オクチルオキ
シ−２−ナフタレンスルホン酸ナトリウム（１ｇ）を氷
冷下に加え、９５℃で１．５時間攪拌する。反応混合物
から減圧下溶媒を留去して、６−オクチルオキシ−２−
ナフチルスルホニルクロリド（１ｇ）を得る。

【０２０６】製造例１２と同様にして、下記の化合物（
製造例６２ないし７１）を得る。

【０２０７】製造例６２ １−（４−オクチルベンゾイル）−１Ｈ−ベンゾトリア
ゾール−３−オキシド

【０２０８】製造例６３ １−［４−（４−オクチルオキシフェニル）ベンゾイル
］−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシド

【０２０
９】製造例６４ １−［６−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ナフト
イル］−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシド

【０
２１０】製造例６５ １−［６−（３，７−ジメチル−６−オクテニルオキシ
）−２−ナフトイル］−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３
−オキシド

【０２１１】製造例６６ １−［６−｛（Ｅ）−３，７−ジメチル−２，６−オク
タジエニルオキシ−２−ナフトイル］−１Ｈ−ベンゾト
リアゾール−３−オキシド

【０２１２】製造例６７ １−（２−アントリルカルボニル）−１Ｈ−ベンゾトリ
アゾール−３−オキシド

【０２１３】製造例６８ １−［２−（４−オクチルオキシフェニル）アセチル］
−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシド

【０２１４
】製造例６９ １−［３−（４−オクチルオキシフェニル）プロピオニ
ル］−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシド

【０２
１５】製造例７０ １−［（Ｅ）−３−（４−オクチルオキシフェニル）ア
クリロイル］−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシ
ド

【０２１６】製造例７１ １−（Ｏ４−オクチル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｌ−チロシ
ル）−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシド

【０２
１７】製造例７２ 水素化アルミニウムリチウム（４．０５ｇ）のテトラヒ
ドロフラン（４７５ｍｌ）中懸濁液に４−オクチルオキ
シベンズアルデヒド（２５ｇ）のテトラヒドロフラン（
２５ｍｌ）溶液を５５−６０℃で滴下する。反応混合物
を１時間還流下攪拌し、これにフッ化ナトリウム（３５
．８４ｇ）と水（１１．５２ｍｌ）を氷冷下に加える。 混合物を３０分間攪拌後、濾過する。濾液から減圧下溶
媒を留去して、４−オクチルオキシベンジルアルコール
（２５．１ｇ）を結晶として得る。

【０２１８】製造例７３ ４−オクチルオキシベンジルアルコール（２５ｇ）、Ｎ
−ヒドロキシフタルイミド（１７．１５ｇ）およびトリ
フェニルホスフィン（２７．７４ｇ）のテトラヒドロフ
ラン（２５０ｍｌ）中懸濁液にアゾジカルボン酸ジエチ
ル（１８．４ｇ）を氷冷下に滴下する。反応混合物を室
温で２時間攪拌し、減圧下溶媒を留去する。残留物をシ
リカゲルクロマトグラフィーで精製して、Ｎ−（４−オ
クチルオキシベンジルオキシ）フタルイミド（３３．４
５ｇ）を結晶として得る。

【０２１９】製造例７４ Ｎ−（４−オクチルオキシベンジルオキシ）フタルイミ
ド（４．１３ｇ）のテトラヒドロフラン（１６ｍｌ）溶
液にヒドラジン水和物（０．５３ｍｌ）を室温で加える
。混合物を同温で１時間攪拌後、析出物を濾去する。 濾液に水（６ｍｌ）と４−ヒドロキシフェニルグリオキ
シル酸（１．５ｇ）を室温で加える。混合物を重炭酸ナ
トリウム水溶液でｐＨ４−４．５に２時間保ち、これに
酢酸エチルを加え、１Ｎ塩酸でｐＨ２に調整する。分取
した有機層を食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥
する。有機溶媒を減圧留去して２−（４−ヒドロキシフ
ェニル）−２−（４−オクチルオキシベンジルオキシイ
ミノ）酢酸（３．４ｇ）を得る。

【０２２０】製造例７４と同様にして、下記の化合物（
製造例７５および７６）を得る。

【０２２１】製造例７５ ２−フェニル−２−（４−オクチルオキシベンジルオキ
シイミノ）酢酸

【０２２２】製造例７６ ２−（４−オクチルオキシベンジルオキシイミノ）酢酸

【０２２３】製造例７７ ４−オクチルオキシフェニルグリオキシル酸（０．９３
５ｇ）を水（９ｍｌ）とテトラヒドロフラン（１８ｍｌ
）の混合物に溶解し、溶液を１Ｎ塩酸でｐＨ３．５−４
に調整し、これにメトキシアミン塩酸塩（０．３３７ｇ
）を室温で加える。混合物を１Ｎ塩酸でｐＨ３．５−４
に保ちながら室温で２時間攪拌する。反応混合物を酢酸
エチルに加える。有機層を分取し、硫酸マグネシウムで
乾燥する。硫酸マグネシウムを濾去し、濾液から減圧下
溶媒を留去して、２−（４−オクチルオキシフェニル）
−２−メトキシイミノ酢酸（０．５７ｇ）を得る。

【０２２４】製造例７８ ２，３，４，５，６−ペンタフルオロ安息香酸（１ｇ）
と２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペ
ンタノール（１．１８ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムア
ミド（５ｍｌ）中混合物に６２％水素化ナトリウム（０
．３９ｇ）を室温で加える。混合物を同温で１時間攪拌
後、これに水と酢酸エチルの混合物を加える。分取した
有機層を水および食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで
乾燥し、減圧下溶媒を留去する。残留物をシリカゲルク
ロマトグラフィーで精製して、４−（２，２，３，３，
４，４，５，５−オクタフルオロペンチルオキシ）−２
，３，５，６−テトラフルオロ安息香酸（９２３．０ｍ
ｇ）を得る。

【０２２５】製造例７９ ４−（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチルオキシ）
−２，３，５，６−テトラフルオロ安息香酸

【０２２６
】製造例５と同様にして、下記の化合物（製造例８０な
いし９０）を得る。

【０２２７】製造例８０ ２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−オクチル
オキシベンジルオキシイミノ）酢酸スクシンイミドエス
テル

【０２２８】製造例８１ ２−フェニル−２−（４−オクチルオキシベンジルオキ
シイミノ）酢酸スクシンイミドエステル

【０２２９】製
造例８２ ２−（４−オクチルオキシベンジルオキシイミノ）酢酸
スクシンイミドエステル

【０２３０】製造例８３ ４−（２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオ
ロペンチルオキシ）−２，３，５，６−テトラフルオロ
安息香酸スクシンイミドエステル

【０２３１】製造例８４ ４−（２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチルオキシ）
−２，３，５，６−テトラフルオロ安息香酸スクシンイ
ミドエステル

【０２３２】製造例８５ ３−メトキシ−４−オクチルオキシ安息香酸スクシンイ
ミドエステル

【０２３３】製造例８６ ４−（２−ブトキシエトキシ）安息香酸スクシンイミド
エステル

【０２３４】製造例８７ ２−（４−オクチルオキシフェニル）−２−メトキシ酢
酸スクシンイミドエステル

【０２３５】製造例８８ Ｏ４−オクチル−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｄ
−チロシンスクシンイミドエステル

【０２３６】製造例８９ ２−（４−オクチルオキシフェニル）−２−メトキシイ
ミノ酢酸スクシンイミドエステル

【０２３７】製造例９０ Ｎτ−オクチル−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ
−ヒスチジンスクシンイミドエステル

【０２３８】製造例９１ 製造例５と同様にして、４−オクチルオキシフタル酸か
ら４−オクチルオキシ無水フタル酸を得る。

【０２３９】製造例９２ 製造例５と同様にして、Ｎ−オクチルオキシカルボニル
オキシスクシンイミドエステルを得る。

【０２４０】製造例９３ オクチルフェニルエーテル（１．５３ｇ）のクロロホル
ム（６ｍｌ）溶液にクロロスルホン酸を０℃で加える。 混合物を室温で３０分間撹拌後、水とテトラヒドロフラ
ンの混合物中に注ぐ。分取した有機層を食塩水で洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧留去する。 残留物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付して
、４−オクチルオキシフェニルスルホニルクロリド（１
．２５ｇ）を得る。

【０２４１】実施例１３ないし５３の化合物の化学構造
を以下に示す。

【０２４２】以下の式において、ｔＢｕは、ｔ−ブチル
基を、ｐ−ＴｓＯＨは、ｐ−トルエンスルホン酸を意味
する。

【０２４３】

【０２４４】

【０２４５】

【０２４６】

【０２４７】

【０２４８】

【０２４９】

【０２５０】

【０２５１】実施例１３ 実施例３と同様にし、ＦＲ１３３３０３物質をＮ−オク
チルオキシカルボニルオキシスクシンイミドと反応させ
て、ＦＲ１３９８３５物質を得る。

【０２５２】実施例１４ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を４−ｔ
−ブチル安息香酸スクシンイミドエステルと反応させて
ＦＲ１３９５３７物質を得る。

【０２５３】実施例１５ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を４−（
２−ブトキシエトキシ）安息香酸スクシンイミドエステ
ルと反応させてＦＲ１４１１４５物質を得る。

【０２５４】実施例１６ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を４−（
４−フェニルブトキシ）安息香酸スクシンイミドエステ
ルと反応させてＦＲ１３９５３８物質を得る。

【０２５５】実施例１７ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を４−オ
クチルオキシ無水フタル酸と反応させてＦＲ１４０２１
５物質を得る。

【０２５６】実施例１８ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を３−メ
トキシ−４−オクチルオキシ安息香酸スクシンイミドエ
ステルと反応させてＦＲ１４０２１６物質を得る。

【０２５７】実施例１９ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を４−（
２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペン
チルオキシ）−２，３，５，６−テトラフルオロ安息香
酸スクシンイミドエステルと反応させてＦＲ１４０７２
７物質を得る。

【０２５８】実施例２０ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を４−（
２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８
，８，８−ペンタデカフルオロオクチルオキシ）−２，
３，５，６−テトラフルオロ安息香酸スクシンイミドエ
ステルと反応させてＦＲ１４３３０１物質を得る。

【０２５９】実施例２１ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を２−（
４−ビフェニリル）酢酸スクシンイミドエステルと反応
させてＦＲ１４０４９５物質を得る。

【０２６０】実施例２２ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を２−（
４−オクチルオキシフェニル）−２−メトキシ酢酸スク
シンイミドエステルと反応させてＦＲ１３９５０３物質
を得る。

【０２６１】実施例２３ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質をＯ４−
オクチル−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｄ−チロ
シンスクシンイミドエステルと反応させてＦＲ１３９５
００物質を得る。

【０２６２】実施例２４ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質をＮ−（
ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−２−（２−ナフチル）
グリシンスクシンイミドエステルと反応させてＦＲ１３
９５０１物質を得る。

【０２６３】実施例２５ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質をＮτ−
オクチル−Ｎ−（ｔ−ブトキシカルボニル）−Ｌ−ヒス
チジンスクシンイミドエステルと反応させてＦＲ１３９
５０２物質を得る。

【０２６４】実施例２６ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を２−（
４−オクチルオキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢
酸スクシンイミドエステルと反応させてＦＲ１３８９５
９物質を得る。

【０２６５】実施例２７ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を２−（
４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−オクチルオキシ
ベンジルオキシイミノ）酢酸スクシンイミドエステルと
反応させてＦＲ１４０２９１物質を得る。

【０２６６】実施例２８ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を２−フ
ェニル−２−（４−オクチルオキシベンジルオキシイミ
ノ）酢酸スクシンイミドエステルと反応させてＦＲ１４
１５８０物質を得る。

【０２６７】実施例２９ 実施例３と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を２−（
４−オクチルオキシベンジルオキシイミノ）酢酸スクシ
ンイミドエステルと反応させてＦＲ１４１５７９物質を
得る。

【０２６８】実施例３０ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
［（２Ｅ，６Ｅ）−３，７，１１−トリメチル−２，６
，１０−ドデカトリエノイル］−１Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール−３−オキシドと反応させてＦＲ１４１１４６物質
を得る。

【０２６９】実施例３１ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
（４−オクチルベンゾイル）−１Ｈ−ベンゾトリアゾー
ル−３−オキシドと反応させてＦＲ１４０７３１物質を
得る。

【０２７０】実施例３２ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
［４−（４−オクチルオキシ）フェノキシ］ベンゾイル
−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシドと反応させ
てＦＲ１４０２１７物質を得る。

【０２７１】実施例３３ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
［４−（４−オクチルオキシフェニル）ベンゾイル］−
１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシドと反応させて
ＦＲ１４２４７２物質を得る。

【０２７２】実施例３４ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
（６−ブトキシ−２−ナフトイル）−１Ｈ−ベンゾトリ
アゾール−３−オキシドと反応させてＦＲ１４０４９６
物質を得る。

【０２７３】実施例３５ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
（６−ヘキシルオキシ−２−ナフトイル）−１Ｈ−ベン
ゾトリアゾール−３−オキシドと反応させてＦＲ１４０
４９７物質を得る。

【０２７４】実施例３６ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
［６−（２−エチルヘキシルオキシ）−２−ナフトイル
］−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシドと反応さ
せてＦＲ１４３４８３物質を得る。

【０２７５】実施例３７ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
（６−デシルオキシ−２−ナフトイル）−１Ｈ−ベンゾ
トリアゾール−３−オキシドと反応させてＦＲ１４０７
２８物質を得る。

【０２７６】実施例３８ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
［６−（３，７−ジメチルオクチルオキシ）−２−ナフ
トイル］−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシドと
反応させてＦＲ１４２１７２物質を得る。

【０２７７】実施例３９ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
［６−（３，７−ジメチル−６−オクテニルオキシ）−
２−ナフトイル］−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オ
キシドと反応させてＦＲ１４３３２６物質を得る。

【０２７８】実施例４０ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
［６−｛（Ｅ）−３，７−ジメチル−２，６−オクタジ
エニルオキシ｝−２−ナフトイル］−１Ｈ−ベンゾトリ
アゾール−３−オキシドと反応させてＦＲ１４２３９０
物質を得る。

【０２７９】実施例４１ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
（６−ドデシルオキシ−２−ナフトイル）−１Ｈ−ベン
ゾトリアゾール−３−オキシドと反応させてＦＲ１４０
７２９物質を得る。

【０２８０】実施例４２ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
（２−アントリルカルボニル）−１Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール−３−オキシドと反応させてＦＲ１４０７３０物質
を得る。

【０２８１】実施例４３ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
［２−（４−オクチルオキシフェニル）アセチル］−１
Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシドと反応させてＦ
Ｒ１４３０２０物質を得る。

【０２８２】実施例４４ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
［３−（４−オクチルオキシフェニル）プロピオニル］
−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシドと反応させ
てＦＲ１４３０２１物質を得る。

【０２８３】実施例４５ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
［（Ｅ）−３−（４−オクチルオキシフェニル）アクリ
ロイル］−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−３−オキシドと
反応させてＦＲ１４１３１５物質を得る。

【０２８４】実施例４６ 実施例１２と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を１−
（Ｏ４−オクチル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｌ−チロシル）
−１Ｈ−ペンゾトリアゾール−３−オキシドと反応させ
てＦＲ１４０１０５物質を得る。

【０２８５】実施例４７ 実施例６と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を塩化４
−オクチルオキシフェニルスルホニルと反応させてＦＲ
１４１５６４物質を得る。

【０２８６】実施例４８ 実施例６と同様にして、ＦＲ１３３３０３物質を塩化６
−オクチルオキシ−２−ナフチルスルホニルと反応させ
てＦＲ１４３１７０物質を得る。

【０２８７】実施例４９ 実施例５で得られたＦＲ１３８３６４物質（０．２４ｇ
）のアセトニトリル（５ｍｌ）溶液にｐ−トルエンスル
ホン酸（０．１３２ｇ）を加え、室温で８時間攪拌する
。反応混合物を水に加え、飽和重炭酸ナトリウム水溶液
でｐＨ４．５に調整する。水溶液をダイヤイオンＨＰ−
２０カラムクロマトグラフィーに付し、８０％メタノー
ル水溶液で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、
減圧下メタノールを除く。残留物を凍結乾燥して、ＦＲ
１３８９１２物質（０．１５ｇ）を得る。

【０２８８】実施例５０ 実施例８で得られたＦＲ１３８７２８物質（０．１５ｇ
）と１−オクチル−１，４−ジヒドロピリジン−４−チ
オン（０．０３１ｇ）のＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
中混合物を氷冷下１．５時間攪拌する。反応混合物をジ
エチルエーテル（５０ｍｌ）で粉末化する。析出物を濾
過し、五酸化燐で減圧下乾燥する。粉末を水（３００ｍ
ｌ）に加え、ｐＨ４．５に調製する。水溶液をダイヤイ
オンＨＰ−２０（５０ｍｌ）カラムクロマトグラフィー
に付し、８０％メタノール水溶液で溶出する。目的化合
物を含む画分を合わせ、減圧下メタノールを除く。残留
物を凍結乾燥して、ＦＲ１３８９６０物質（０．１５ｇ
）を得る。

【０２８９】実施例３と同様にして、下記の化合物（実
施例５１ないし５３）を得る。

【０２９０】実施例５１

【０２９１】実施例５２ ＦＲ１３８９１２物質

【０２９２】実施例５３ ＦＲ１３８９６０物質 製造例５と同様にして、下記の化合物（製造例９４およ
び９５）を得る。 製造例９４ ４−（４−ヘプチルオキシフェニル）安息香酸スクシン
イミドエステル 製造例９５ ４−（４−ヘキシルオキシフェノキシ）安息香酸スクシ
ンイミドエステル 実施例５４および５５の化合物の化学構造を以下に示す
。 実施例３と同様にして、下記の化合物（実施例５４およ
び５５）を得る。 実施例５４ 実施例５５

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】　　式： ［式中、Ｒ１は水素またはアシル、Ｒ２はヒドロキシま
   たはアシルオキシ、Ｒ３は水素またはヒドロキシスルホ
   ニルオキシ、およびＲ４は水素またはカルバモイルをそ
   れぞれ意味する。（但し、（ｉ）Ｒ３が水素である場合
   は、Ｒ２はアシルオキシであり、また（ｉｉ）Ｒ２がヒ
   ドロキシ、Ｒ３がヒドロキシスルホニルオキシおよびＲ
   ４がカルバモイルである場合は、Ｒ１はパルミトイルで
   はない。）］で表わされるポリペプチド化合物およびそ
   の塩類。 【請求項２】　　式： （式中、Ｒ１は前と同じ意味。）で表わされる請求項１
   に記載のポリペプチド化合物。 【請求項３】　　Ｒ１が適当な置換基を１または２個以
   上有していてもよい低級アルカノイル；高級アルカノイ
   ル；適当な置換基を１または２個以上有していてもよい
   低級アルケノイル；高級アルケノイル；低級アルコキシ
   カルボニル；高級アルコキシカルボニル；アリールオキ
   シカルボニル；アリールグリオキシロイル；適当な置換
   基を１または２個以上有していてもよいアル（低級）ア
   ルコキシカルボニル；低級アルキルスルホニル；適当な
   置換基を１または２個以上有していてもよいアリールス
   ルホニル；アル（低級）アルキルスルホニル；または適
   当な置換基を１または２個以上有していてもよいアロイ
   ルである請求項２に記載の化合物。 【請求項４】　　Ｒ１が低級アルカノイル；ハロ（低級
   ）アルカノイル；ヒドロキシ、低級アルコキシ、高級ア
   ルコキシ、アリール、アミノ、保護されたアミノ、ジ（
   低級）アルキルアミノ、低級アルコキシイミノ、および
   高級アルコキシを１ないし３個有していてもよいアル（
   低級）アルコキシイミノからなる群より選ばれた適当な
   置換基を１ないし３個有していてもよいアル（低級）ア
   ルカノイル；高級アルキルを１ないし３個有していても
   よい複素環チオ（低級）アルカノイル；低級アルコキシ
   イミノ、高級アルキル、アミノおよび保護されたアミノ
   からなる群より選ばれた適当な置換基を１ないし３個有
   していてもよい複素環（低級）アルカノイル；高級アル
   コキシを１ないし３個有していてもよいアル（低級）ア
   ルコキシイミノ（低級）アルカノイル；高級アルカノイ
   ル；高級アルコキシを１ないし３個有していてもよいア
   ル（低級）アルケノイル；高級アルケノイル；低級アル
   コキシカルボニル；高級アルコキシカルボニル；アリー
   ルオキシカルボニル；低級アルキルおよび高級アルコキ
   シからなる群より選ばれた適当な置換基を１ないし３個
   有していてもよいアリールスルホニル；またはハロゲン
   、低級アルキル、高級アルキル、カルボキシ、ハロゲン
   を１ないし１０個有していてもよい低級アルコキシ、低
   級アルコキシ（低級）アルコキシ、アル（低級）アルコ
   キシ、ハロゲンを１ないし１７個有していてもよい高級
   アルコキシ、高級アルケニルオキシ、高級アルコキシを
   １ないし３個有していてもよいアリールおよび低級アル
   コキシもしくは高級アルコキシを１ないし３個有してい
   てもよいアリールオキシからなる群より選ばれた適当な
   置換基を１ないし５個有していてもよいアロイルである
   請求項３に記載の化合物。 【請求項５】　　Ｒ１が低級アルカノイル；ハロ（低級
   ）アルカノイル；それぞれヒドロキシ、低級アルコキシ
   、高級アルコキシ、フェニル、アミノ、低級アルコキシ
   カルボニルアミノ、ジ（低級）アルキルアミノ、低級ア
   ルコキシイミノおよび高級アルコキシを１ないし３個有
   していてもよいフェニル（低級）アルコキシイミノから
   なる群より選ばれた適当な置換基を１ないし３個有して
   いてもよいフェニル（低級）アルカノイルもしくはナフ
   チル（低級）アルカノイル；高級アルキルを１ないし３
   個有していてもよいピリジルチオ（低級）アルカノイル
   ；それぞれ低級アルコキシイミノ、高級アルキル、アミ
   ノおよび低級アルコキシカルボニルアミノからなる群よ
   り選ばれた適当な置換基を１ないし３個有していてもよ
   いイミダゾリル（低級）アルカノイルもしくはチアゾリ
   ル（低級）アルカノイル；高級アルコキシを１ないし３
   個有していてもよいフェニル（低級）アルコキシイミノ
   （低級）アルカノイル；高級アルカノイル；高級アルコ
   キシを１ないし３個有していてもよいフェニル（低級）
   アルケノイル；高級アルケノイル；低級アルコキシカル
   ボニル；高級アルコキシカルボニル；フェノキシカルボ
   ニル；それぞれ低級アルキルおよび高級アルコキシから
   なる群より選ばれた適当な置換基を１ないし３個有して
   いてもよいフェニルスルホニルもしくはナフチルスルホ
   ニル；またはそれぞれハロゲン、低級アルキル、高級ア
   ルキル、カルボキシ、ハロゲンを６ないし１０個有して
   いてもよい低級アルコキシ、低級アルコキシ（低級）ア
   ルコキシ、フェニル（低級）アルコキシ、ハロゲンを１
   ２ないし１７有していてもよい高級アルコキシ、高級ア
   ルケニルオキシ、高級アルコキシを１ないし３個有して
   いてもよいフェニルおよび低級アルコキシもしくは高級
   アルコキシを１ないし３個有していてもよいフェノキシ
   からなる群より選ばれた適当な置換基を１ないし５個有
   していてもよいベンゾイル、ナフトイルもしくはアント
   リルカルボニルである請求項４に記載の化合物。 【請求項６】　　Ｒ１が高級アルコキシを１ないし３個
   有していてもよいフェニル（低級）アルケノイル；また
   は、それぞれハロゲン、低級アルキル、高級アルキル、
   カルボキシ、ハロゲンを６ないし１０個有していてもよ
   い低級アルコキシ、低級アルコキシ（低級）アルコキシ
   、フェニル（低級）アルコキシ、ハロゲンを１２ないし
   １７個有していてもよい高級アルコキシ、高級アルケニ
   ルオキシ、高級アルコキシを１ないし３個有していても
   よいフェニルおよび低級アルコキシもしくは高級アルコ
   キシを１ないし３個有していてもよいフェノキシからな
   る群より選ばれた適当な置換基を１ないし５個有してい
   てもよいベンゾイル、ナフトイルもしくはアントリルカ
   ルボニルである請求項５に記載の化合物。 【請求項７】　　Ｒ１が高級アルコキシを有していても
   よいフェニル（低級）アルケノイル；またはそれぞれ高
   級アルコキシ、高級アルケニルオキシまたは高級アルコ
   キシを有していてもよいフェニルを有していてもよいベ
   ンゾイルもしくはナフトイルである請求項６に記載の化
   合物。 【請求項８】　　Ｒ１が高級アルコキシを有するベンゾ
   イルである請求項７に記載の化合物。 【請求項９】　　Ｒ１が４−オクチルオキシベンゾイル
   である請求項８に記載の化合物。 【請求項１０】　　Ｒ１が高級アルコキシを有するフェ
   ニル（低級）アルケノイル；または高級アルコキシまた
   は高級アルケニルオキシを有するナフトイルである請求
   項７に記載の化合物。 【請求項１１】　　式： ［式中、Ｒ６は（Ｃ４−Ｃ６）アルコキシ、高級アルコ
   キシまたは高級アルケニルオキシ、Ｒ７は−ＣＯＯＨま
   たは−ＳＯ３Ｈを意味する。］で表わされる化合物また
   はそのカルボキシ基における反応性誘導体またはその塩
   類。 【請求項１２】　　式： （式中、Ｒ８は１ないし４個のハロゲン、Ｒ９がハロゲ
   ンを１または２個以上有する低級アルコキシ、ハロゲン
   を１または２個以上有する高級アルコキシを意味する）
   で表わされる化合物またはそのカルボキシ基における反
   応性誘導体またはその塩類。 【請求項１３】　　式［ＩＩ］： で表わされる化合物またはその塩類をＮ−アシル基の脱
   離反応に付して、式［Ｉａ］ で表わされる化合物またはその塩類を得るか、ｉｉ）上
   記で得られた化合物［Ｉａ］またはその塩類をアシル化
   反応に付して、式［Ｉｂ］： で表わされる化合物またはその塩類を得るか、ｉｉｉ）
   式［Ｉｃ］： ルカノイルを意味する）で表わされる化合物またはその
   塩類をアミノ保護基の脱離反応に付して、式［Ｉｄ］：
   を意味する）で表される化合物またはその塩類を得るか
   、 ｉｖ）式［Ｉｅ］： で表わされる化合物またはその塩類を高級アルキルを有
   していてもよいピリジンチオンまたはその塩類と反応さ
   せて、式［Ｉｆ］： イルを意味する）で表わされる化合物またはその塩類を
   得るか、 ｖ）式［ＩＶ］： （式中、Ｒ３は水素またはヒドロキシスルホニルオキシ
   、Ｒ４は水素またはカルバモイル、およびＲ５はアシル
   をそれぞれ意味する）で表わされる化合物またはその塩
   類をアシル化反応に付して、式［Ｉｇ］：（式中、Ｒ３
   およびＲ４はそれぞれ前と同じ意味、で表わされる化合
   物またはその塩類を得て、［式中、Ｒ１は水素またはア
   シル、Ｒ２はヒドロキシまたはアシルオキシ、Ｒ３およ
   びＲ４はそれぞれ前と同じ意味である。（但し、（ｉ）
   Ｒ３が水素である場合は、Ｒ２はアシルオキシであり、
   また（ｉｉ）Ｒ２がヒドロキシ、Ｒ３がヒドロキシスル
   ホニルオキシ、およびＲ４がカルバモイルである場合は
   、Ｒ１はパルミトイルではない）］で表わされる化合物
   またはその塩類を得ることを特徴とする新規ポリペプチ
   ド化合物の製造方法。 【請求項１５】　　請求項１に記載の化合物またはその
   塩類を有効成分として、医薬として許容される担体また
   は賦形剤と共に含有する抗菌剤。