JPH04329845A - 補助電子部品材料 - Google Patents
補助電子部品材料Info
- Publication number
- JPH04329845A JPH04329845A JP3104862A JP10486291A JPH04329845A JP H04329845 A JPH04329845 A JP H04329845A JP 3104862 A JP3104862 A JP 3104862A JP 10486291 A JP10486291 A JP 10486291A JP H04329845 A JPH04329845 A JP H04329845A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thermal expansion
- coefficient
- graphite
- alloy
- passive electronic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 51
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 27
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 claims abstract description 26
- 239000010439 graphite Substances 0.000 claims abstract description 26
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 24
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 24
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 18
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 12
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 11
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 19
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 3
- 229910000861 Mg alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 21
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 4
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 3
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 3
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N ferric oxide Chemical compound O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 2
- 229910001338 liquidmetal Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N [Fe].[Co].[Ni] Chemical compound [Fe].[Co].[Ni] KGWWEXORQXHJJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 238000005495 investment casting Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005693 optoelectronics Effects 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 1
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
- 238000005496 tempering Methods 0.000 description 1
- 238000005382 thermal cycling Methods 0.000 description 1
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/373—Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
- H01L23/3736—Metallic materials
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/373—Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
- H01L23/3731—Ceramic materials or glass
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Manufacture Of Alloys Or Alloy Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、高い熱伝導率と、低い
密度と、低い熱膨張率とを有する受動電子部品材料に係
わる。
密度と、低い熱膨張率とを有する受動電子部品材料に係
わる。
【0002】本明細書中で“受動電子部品”という語は
、電子装置の構成要素であって電子的活動に直接関与し
ないものを意味する。本発明は特に、パワー回路の放熱
部、支持部及び磁極片、レーザダイオードの支持部、混
成超小型パワー回路及びマイクロ波回路の放熱板及びパ
ッケージといった構造体の製造材料に係わる。本明細書
中に用いた“電子(工学)”という語はオプトエレクト
ロニクスの分野も包含する。
、電子装置の構成要素であって電子的活動に直接関与し
ないものを意味する。本発明は特に、パワー回路の放熱
部、支持部及び磁極片、レーザダイオードの支持部、混
成超小型パワー回路及びマイクロ波回路の放熱板及びパ
ッケージといった構造体の製造材料に係わる。本明細書
中に用いた“電子(工学)”という語はオプトエレクト
ロニクスの分野も包含する。
【0003】
【従来の技術】受動電子部品において上記のような材料
は通常、アルミナなどの絶縁体セラミックやシリコンま
たはガリウムヒ素といった半導体から成る基板と結合さ
れることが知られている。
は通常、アルミナなどの絶縁体セラミックやシリコンま
たはガリウムヒ素といった半導体から成る基板と結合さ
れることが知られている。
【0004】受動電子部品がパワー素子を含む場合、パ
ワー素子動作時に大量の熱が発せられる。この熱は、過
剰な加熱による受動電子部品の損傷を回避するべく可能
なかぎり迅速に発散されなければならない。従って、可
能なかぎり高い熱伝導率を有する材料が受動電子部品材
料として用いられる。
ワー素子動作時に大量の熱が発せられる。この熱は、過
剰な加熱による受動電子部品の損傷を回避するべく可能
なかぎり迅速に発散されなければならない。従って、可
能なかぎり高い熱伝導率を有する材料が受動電子部品材
料として用いられる。
【0005】とはいえ温度上昇は不可避であり、受動電
子部品材料の熱膨張率が基板材料である絶縁体セラミッ
クや半導体の熱膨張率とあまりに異なると、基板中に生
じる応力が基板材料にとって耐えがたい大きさとなる。 その結果基板材料は破断し、ユニット全体の効率が低下
する。
子部品材料の熱膨張率が基板材料である絶縁体セラミッ
クや半導体の熱膨張率とあまりに異なると、基板中に生
じる応力が基板材料にとって耐えがたい大きさとなる。 その結果基板材料は破断し、ユニット全体の効率が低下
する。
【0006】即ち、受動電子部品材料はアルミナやシリ
コンの熱膨張率と適合し得る熱膨張率を有することも必
要であり、この熱膨張率は好ましくは温度30〜400
℃で16×10−6/K以下である。
コンの熱膨張率と適合し得る熱膨張率を有することも必
要であり、この熱膨張率は好ましくは温度30〜400
℃で16×10−6/K以下である。
【0007】上記回路はエネルギ源によって駆動される
乗物に用いられ得ることから、乗物の推進に必要なエネ
ルギ消費を最小限とするべく可能なかぎり低く、好まし
くは3100kg/m3以下である密度を有する受動電
子部品材料が求めらる。
乗物に用いられ得ることから、乗物の推進に必要なエネ
ルギ消費を最小限とするべく可能なかぎり低く、好まし
くは3100kg/m3以下である密度を有する受動電
子部品材料が求めらる。
【0008】また、上記回路はその周囲の環境の影響を
受けるので、受動電子部品材料は適当な非磁性と優れた
環境抵抗性とを有するべきである。
受けるので、受動電子部品材料は適当な非磁性と優れた
環境抵抗性とを有するべきである。
【0009】これらの特性の総てを折衷して具えた材料
を見いだすための研究が盛んに行なわれ、多少とも興味
深い成果が得られた。
を見いだすための研究が盛んに行なわれ、多少とも興味
深い成果が得られた。
【0010】即ち、鋼、ベリリウム、及び或る種のアル
ミニウム合金といった材料が熱伝導率が優れているとい
うので試されたが、これらの材料は弾性率及び熱膨張率
が比較的高いので、アルミナの熱膨張率との相違を調整
する目地または接着剤が用いられなければならず、この
ことはユニット全体の熱伝導率を低下させる。
ミニウム合金といった材料が熱伝導率が優れているとい
うので試されたが、これらの材料は弾性率及び熱膨張率
が比較的高いので、アルミナの熱膨張率との相違を調整
する目地または接着剤が用いられなければならず、この
ことはユニット全体の熱伝導率を低下させる。
【0011】そこで、コーバル(鉄−ニッケル−コバル
ト合金)や、モリブデンや、銅/アンバー/銅型の多層
金属材料、及びチタンとその合金など、熱膨張率の低い
材料が研究対象とされた。しかし、これらの材料はモリ
ブデン以外は総て、特に基板の面に対して垂直な方向で
の熱伝導率が低いという欠点を有する。また、いずれの
低熱膨張率材料も密度が高く、最も低いチタンの密度で
約4500kg/m3に達する。更に、モリブデンは高
価であり、かつ酸化しやすいので用いにくく、またコー
バルは内部応力によって捩れるので機械加工に手際を要
し、コーバルを正確に加工しようとすると多くの焼なま
し工程が必要となる。
ト合金)や、モリブデンや、銅/アンバー/銅型の多層
金属材料、及びチタンとその合金など、熱膨張率の低い
材料が研究対象とされた。しかし、これらの材料はモリ
ブデン以外は総て、特に基板の面に対して垂直な方向で
の熱伝導率が低いという欠点を有する。また、いずれの
低熱膨張率材料も密度が高く、最も低いチタンの密度で
約4500kg/m3に達する。更に、モリブデンは高
価であり、かつ酸化しやすいので用いにくく、またコー
バルは内部応力によって捩れるので機械加工に手際を要
し、コーバルを正確に加工しようとすると多くの焼なま
し工程が必要となる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】上述のような研究成果
から、本出願人は、従来用いられてきた材料には欠陥が
存在することに気付いた。そこで本出願人は、有利な諸
特性を折衷して具えた新規な材料、即ち400℃までの
温度変化でアルミナのようなセラミック、シリコンまた
はガリウムヒ素の熱膨張率と適合し得る低い熱膨張率を
有し、熱伝導率は可能なかぎり高く、密度は可能なかぎ
り低く、環境に対して抵抗性であり、耐食性に優れ、適
当に機械加工され得、ニッケル、銀または金めっきに適
し、溶接に適し、非磁性である材料の開発に努めた。
から、本出願人は、従来用いられてきた材料には欠陥が
存在することに気付いた。そこで本出願人は、有利な諸
特性を折衷して具えた新規な材料、即ち400℃までの
温度変化でアルミナのようなセラミック、シリコンまた
はガリウムヒ素の熱膨張率と適合し得る低い熱膨張率を
有し、熱伝導率は可能なかぎり高く、密度は可能なかぎ
り低く、環境に対して抵抗性であり、耐食性に優れ、適
当に機械加工され得、ニッケル、銀または金めっきに適
し、溶接に適し、非磁性である材料の開発に努めた。
【0013】
【課題を解決するための手段】その結果、等方性の受動
電子部品材料、即ちあらゆる方向において30〜250
℃での平均熱膨張率が2×10−6/K〜13×10−
6/Kであり、密度は3100kg/m3以下であり、
熱伝導率は100W/m/K以上である受動電子部品材
料を開発した。この材料は複合構造を有し、アルミニウ
ムとその合金及びマグネシウムとその合金の中から選択
された金属と、緑色炭化ケイ素粒子または多粒子状黒鉛
であるセラミックとによって構成されており、その際セ
ラミックは50〜90体積%の比率で用いられている。
電子部品材料、即ちあらゆる方向において30〜250
℃での平均熱膨張率が2×10−6/K〜13×10−
6/Kであり、密度は3100kg/m3以下であり、
熱伝導率は100W/m/K以上である受動電子部品材
料を開発した。この材料は複合構造を有し、アルミニウ
ムとその合金及びマグネシウムとその合金の中から選択
された金属と、緑色炭化ケイ素粒子または多粒子状黒鉛
であるセラミックとによって構成されており、その際セ
ラミックは50〜90体積%の比率で用いられている。
【0014】非常に高い、即ち150W/m/K以上の
熱伝導率と、7×10−6/K〜13×10−6/Kの
熱膨張率と、120GPa以上のヤング率とを有する材
料を得るためには、体積比率50〜75%の緑色炭化ケ
イ素粒子を用いることが好ましい。
熱伝導率と、7×10−6/K〜13×10−6/Kの
熱膨張率と、120GPa以上のヤング率とを有する材
料を得るためには、体積比率50〜75%の緑色炭化ケ
イ素粒子を用いることが好ましい。
【0015】100W/m/K以上の熱伝導率を維持し
つつ4×10−6/K〜10×10−6/Kのより低い
熱膨張率と、2300kg/m3以下のより低い密度と
、50GPa以下のヤング率とが達成されなければなら
ない場合は、多粒子状黒鉛が65〜90体積%の比率で
用いられるべきである。
つつ4×10−6/K〜10×10−6/Kのより低い
熱膨張率と、2300kg/m3以下のより低い密度と
、50GPa以下のヤング率とが達成されなければなら
ない場合は、多粒子状黒鉛が65〜90体積%の比率で
用いられるべきである。
【0016】このように、本発明の材料は、サンドイッ
チ状に配置された1種以上の金属から成るのではなく、
等方性の物理特性を実現する構造を有する金属−セラミ
ック多相混合物から成る点で従来の材料に異なる。
チ状に配置された1種以上の金属から成るのではなく、
等方性の物理特性を実現する構造を有する金属−セラミ
ック多相混合物から成る点で従来の材料に異なる。
【0017】金属は、純アルミニウム、アルミニウム合
金、純マグネシウムまたはマグネシウム合金であり得る
。これらの金属は実際上、優れた熱伝導率と、低い密度
と、低い融点とを併せ持つ。
金、純マグネシウムまたはマグネシウム合金であり得る
。これらの金属は実際上、優れた熱伝導率と、低い密度
と、低い融点とを併せ持つ。
【0018】合金は、その熱伝導率が添加元素の特性及
び量次第で低下し、しかも添加元素が固溶状態で存在す
ると析出物の形態で存在する場合より甚だしく低下する
ことを考慮して選択される。
び量次第で低下し、しかも添加元素が固溶状態で存在す
ると析出物の形態で存在する場合より甚だしく低下する
ことを考慮して選択される。
【0019】アルミニウム合金の場合、添加元素を僅か
にしか含有しないものが用いられる。亜鉛、銅、マグネ
シウム、鉄及びニッケルは少量なら許容され得るが、マ
ンガン、チタン、バナジウム及びリチウムの使用は回避
されなければならない。
にしか含有しないものが用いられる。亜鉛、銅、マグネ
シウム、鉄及びニッケルは少量なら許容され得るが、マ
ンガン、チタン、バナジウム及びリチウムの使用は回避
されなければならない。
【0020】好ましくは、Aluminium As
sociation規格の1000、5000及び60
00シリーズの合金並びに鋳物合金が用いられる。鋳物
合金であればA356、A357及びA413.2のよ
うな、シリコンを7、10及び13%含有する合金が、
またAluminium Association規
格合金であれば6000シリーズの合金6061及び6
101が特に好ましい。
sociation規格の1000、5000及び60
00シリーズの合金並びに鋳物合金が用いられる。鋳物
合金であればA356、A357及びA413.2のよ
うな、シリコンを7、10及び13%含有する合金が、
またAluminium Association規
格合金であれば6000シリーズの合金6061及び6
101が特に好ましい。
【0021】本発明による材料は、等軸粒子の形態、ま
たは多孔質の多粒子体(polygranular
bodiesもしくはpolygranular p
iles)の形態のセラミック成分も含有する。
たは多孔質の多粒子体(polygranular
bodiesもしくはpolygranular p
iles)の形態のセラミック成分も含有する。
【0022】あらゆるセラミックが同様に有効なわけで
はなく、低い熱膨張率と、高い熱伝導率と、低い密度と
を有するセラミックが用いられることが好ましい。
はなく、低い熱膨張率と、高い熱伝導率と、低い密度と
を有するセラミックが用いられることが好ましい。
【0023】特に好ましくは、諸特性を有利に折衷して
有する炭化ケイ素や多粒子状黒鉛が用いられる。
有する炭化ケイ素や多粒子状黒鉛が用いられる。
【0024】炭化ケイ素(SiC)粒子が用いられる場
合、その粒径は0.5〜400ミクロン、好ましくは3
〜50ミクロンである。
合、その粒径は0.5〜400ミクロン、好ましくは3
〜50ミクロンである。
【0025】得られる複合材料が高い熱伝導率を有する
べきである場合、SiC粒子は必ずきわめて純粋であっ
て、99質量%以上のSiCを含有しなければならない
。この種のSiCを普通“緑色SiC”と呼称する。 “GMELIN Handbook of In
organic Chemistry,” 8th
edition, Supplement Vol
. B3, p.60, ed. Sprin
ger Verlag, 1986によれば、緑色
SiCの組成は次のとおりである。
べきである場合、SiC粒子は必ずきわめて純粋であっ
て、99質量%以上のSiCを含有しなければならない
。この種のSiCを普通“緑色SiC”と呼称する。 “GMELIN Handbook of In
organic Chemistry,” 8th
edition, Supplement Vol
. B3, p.60, ed. Sprin
ger Verlag, 1986によれば、緑色
SiCの組成は次のとおりである。
【0026】
重量% SiC
99.0
0〜99.4 遊離C
0
.05〜 0.10 SiO2
0.40〜 0.60 Fe2O3
0.10〜 0.20 Al2O3
0.05〜 0.10これに
比較して、従来の技術で通常用いられている“黒色Si
C”の組成は次のとおりである。
重量% SiC
99.0
0〜99.4 遊離C
0
.05〜 0.10 SiO2
0.40〜 0.60 Fe2O3
0.10〜 0.20 Al2O3
0.05〜 0.10これに
比較して、従来の技術で通常用いられている“黒色Si
C”の組成は次のとおりである。
【0027】
重量% SiC
98.7
5〜99.2 遊離C
0
.10〜 0.15 SiO2
0.50〜 0.70 Fe2O3
0.10〜 0.20 Al2O3
0.25〜 0.35黒鉛の
場合は、個々の粒子の粒径が20ミクロン以下である多
孔質多粒子体状のものが用いられる。黒鉛粒子は等軸形
状を有し、黒鉛多粒子体は、生産される複合材料の等方
性が維持されるようにいかなる特定の方向性も持たない
。そのために、特に黒鉛繊維が一切排除される。
重量% SiC
98.7
5〜99.2 遊離C
0
.10〜 0.15 SiO2
0.50〜 0.70 Fe2O3
0.10〜 0.20 Al2O3
0.25〜 0.35黒鉛の
場合は、個々の粒子の粒径が20ミクロン以下である多
孔質多粒子体状のものが用いられる。黒鉛粒子は等軸形
状を有し、黒鉛多粒子体は、生産される複合材料の等方
性が維持されるようにいかなる特定の方向性も持たない
。そのために、特に黒鉛繊維が一切排除される。
【0028】セラミックは多孔質プレフォームとして公
知である様々な形態で用いられ得、特に炭化ケイ素の場
合は凝集粒子の形態で、また黒鉛の場合は多粒子体の形
態で用いられ得る。
知である様々な形態で用いられ得、特に炭化ケイ素の場
合は凝集粒子の形態で、また黒鉛の場合は多粒子体の形
態で用いられ得る。
【0029】本発明にはセラミックの多孔質プレフォー
ムを、セラミック相の体積分率が50%以上90%以下
となるように用いた。実際のところ、上記体積分率が5
0%以下であると複合材料の熱膨張率が高くなりすぎて
13×10−6/K以上となり、一方90%以上である
と生産上技術的な問題が出来する。
ムを、セラミック相の体積分率が50%以上90%以下
となるように用いた。実際のところ、上記体積分率が5
0%以下であると複合材料の熱膨張率が高くなりすぎて
13×10−6/K以上となり、一方90%以上である
と生産上技術的な問題が出来する。
【0030】プレフォームに液体金属を、加圧及び/ま
たは予熱を含み得る当業者に公知の方法で浸透させる(
例えばA. G. KELLY and G.
I. DAVIES, Metallurgi
cal Reviews, 1965, Vol
. 10, No. 37参照)が、他の任意の
公知含浸法または鋳造法を用いることも可能である(例
えば米国特許第4376804号並びにヨーロッパ特許
第0105890号及び同第045510号参照)。
たは予熱を含み得る当業者に公知の方法で浸透させる(
例えばA. G. KELLY and G.
I. DAVIES, Metallurgi
cal Reviews, 1965, Vol
. 10, No. 37参照)が、他の任意の
公知含浸法または鋳造法を用いることも可能である(例
えば米国特許第4376804号並びにヨーロッパ特許
第0105890号及び同第045510号参照)。
【0031】金属成分が6000シリーズ合金か、合金
A356またはA357か、構造的焼入れが起こり得る
任意合金である場合、鋳造後の材料に、その機械特性を
改善するべく焼なましまたは焼戻しのような熱処理が施
される。
A356またはA357か、構造的焼入れが起こり得る
任意合金である場合、鋳造後の材料に、その機械特性を
改善するべく焼なましまたは焼戻しのような熱処理が施
される。
【0032】このようにして得られる複合材料は付加的
な機械加工及び表面処理(ニッケル、銀または金めっき
)を必要とし得、それらの工程は当業者には公知である
。
な機械加工及び表面処理(ニッケル、銀または金めっき
)を必要とし得、それらの工程は当業者には公知である
。
【0033】
【作用】本発明の材料は、該材料と関係付けられる能動
及び/または受動電子部品に結合機能(支持部の場合)
、結合及び放熱機能(放熱板の場合)、結合、放熱及び
接続機能(パッケージの場合)、あるいはまた結合、放
熱、接続、及び環境の影響からの保護機能(密閉型パッ
ケージの場合)を付与する。
及び/または受動電子部品に結合機能(支持部の場合)
、結合及び放熱機能(放熱板の場合)、結合、放熱及び
接続機能(パッケージの場合)、あるいはまた結合、放
熱、接続、及び環境の影響からの保護機能(密閉型パッ
ケージの場合)を付与する。
【0034】密閉型パッケージが必要とされる特定の事
例では、まずパッケージ本体が形成され、その内部に半
導体素子や絶縁体及び能動回路を配置してからこの本体
はカバーで蓋され、カバーはレーザはんだ溶接で固定さ
れる。
例では、まずパッケージ本体が形成され、その内部に半
導体素子や絶縁体及び能動回路を配置してからこの本体
はカバーで蓋され、カバーはレーザはんだ溶接で固定さ
れる。
【0035】最後に、放熱板または支持部のような構造
体は適宜ワニスまたは樹脂によって保護され得る。
体は適宜ワニスまたは樹脂によって保護され得る。
【0036】
【実施例】本発明は、添付図面を参照することによって
より良く理解されよう。
より良く理解されよう。
【0037】図1に、本発明による材料から成る放熱板
1を示す。放熱板1上にはアルミナ層によって構成され
た絶縁体2が位置し、このアルミナ2上に、入力/出力
接続端子4によって周囲の部品と接続される能動回路3
が配置されている。
1を示す。放熱板1上にはアルミナ層によって構成され
た絶縁体2が位置し、このアルミナ2上に、入力/出力
接続端子4によって周囲の部品と接続される能動回路3
が配置されている。
【0038】図2は、図1に示した放熱板1及び絶縁体
2を具備した能動回路3の上面図である。能動回路3は
サイリスタ5と、導電トラック6と、トラック6の接続
端子4とによって構成されている。
2を具備した能動回路3の上面図である。能動回路3は
サイリスタ5と、導電トラック6と、トラック6の接続
端子4とによって構成されている。
【0039】図3には、本発明による材料から成るパッ
ケージ7を示す。パッケージ7の本体はベース8と、ベ
ース8上に位置するフレーム9とによって構成されてい
る。フレーム9は孔10を具え、この孔10を能動回路
のための接続端子11が貫通する。フレーム9上部の内
側に、カバー12が取り付けられている。
ケージ7を示す。パッケージ7の本体はベース8と、ベ
ース8上に位置するフレーム9とによって構成されてい
る。フレーム9は孔10を具え、この孔10を能動回路
のための接続端子11が貫通する。フレーム9上部の内
側に、カバー12が取り付けられている。
【0040】図4は、ベース8、フレーム9及び接続端
子11を有するパッケージ7の内部を示す上面図である
。ベース8上に絶縁体13が位置し、絶縁体13上に導
電トラック15を含む能動回路14が配置されている。 接続端子11と能動回路14との接続は図示しない。
子11を有するパッケージ7の内部を示す上面図である
。ベース8上に絶縁体13が位置し、絶縁体13上に導
電トラック15を含む能動回路14が配置されている。 接続端子11と能動回路14との接続は図示しない。
【0041】上述のような集合体の相互接続部分が熱サ
イクル下でも安定した外形寸法と一体性とを維持するこ
とが保証されるには、複合材料があらゆる方向において
同じ熱膨張率を有することが重要である。従って、等方
性の複合材料のみを本発明の範囲内とした。
イクル下でも安定した外形寸法と一体性とを維持するこ
とが保証されるには、複合材料があらゆる方向において
同じ熱膨張率を有することが重要である。従って、等方
性の複合材料のみを本発明の範囲内とした。
【0042】本発明を、以下の実施例によって詳述する
。
。
【0043】実施例1
合金AA1050またはA357である金属と、大量の
格子不純物を含有する純度99%以下の黒色SiCか、
または僅かな格子不純物しか含有しない純度99%以上
の緑色SiCである粒状セラミックとから成る複合材料
を、次の方法で製造する。凝集するようにコロイドシリ
カを含有させた、平均粒径44.5ミクロンのSiC粒
子の懸濁液を濾別することによって直径120mmのプ
レフォームを得る。プレフォームを、SiC粒子含量が
55体積%、シリカ含量が9.5体積%となるように乾
燥する。乾燥したプレフォームに、ロストワックス鋳造
法で液体金属を浸透させる。固化させ、型抜きして得ら
れる複合材料は、理論値に対応する値2975kg/m
3の密度を有する。平均熱膨張率は30〜250℃で1
0.5×10−6/Kである。この熱膨張率はあらゆる
方向において同じである。ヤング率は125GPa、曲
げ強さは307MPaである。電気抵抗率は11μΩc
mである。この複合材料の熱伝導率は、フラッシュ法で
熱拡散率及び単位体積当たりの熱を測定することにより
算出される。得られた実験値(単位はW/m/K)を、
SiC粒子及び合金の種類と共に次の表1に示す。
格子不純物を含有する純度99%以下の黒色SiCか、
または僅かな格子不純物しか含有しない純度99%以上
の緑色SiCである粒状セラミックとから成る複合材料
を、次の方法で製造する。凝集するようにコロイドシリ
カを含有させた、平均粒径44.5ミクロンのSiC粒
子の懸濁液を濾別することによって直径120mmのプ
レフォームを得る。プレフォームを、SiC粒子含量が
55体積%、シリカ含量が9.5体積%となるように乾
燥する。乾燥したプレフォームに、ロストワックス鋳造
法で液体金属を浸透させる。固化させ、型抜きして得ら
れる複合材料は、理論値に対応する値2975kg/m
3の密度を有する。平均熱膨張率は30〜250℃で1
0.5×10−6/Kである。この熱膨張率はあらゆる
方向において同じである。ヤング率は125GPa、曲
げ強さは307MPaである。電気抵抗率は11μΩc
mである。この複合材料の熱伝導率は、フラッシュ法で
熱拡散率及び単位体積当たりの熱を測定することにより
算出される。得られた実験値(単位はW/m/K)を、
SiC粒子及び合金の種類と共に次の表1に示す。
【0044】
表 1
熱伝導率(W/m/K)
黒色SiC
緑色SiC 合金AA1050
122
170 合金
A357
113
171 複合材料の熱伝導率には合金の選択よりSiC粒子の純
度の方がはるかに大きく影響することが知見される。従
って、150W/m/K以上の熱伝導率を達成するため
には、格子不純物含量が制御され、SiC含量が99質
量%以上であるSiC粒子(緑色SiC)を選択しなけ
ればならない。
表 1
熱伝導率(W/m/K)
黒色SiC
緑色SiC 合金AA1050
122
170 合金
A357
113
171 複合材料の熱伝導率には合金の選択よりSiC粒子の純
度の方がはるかに大きく影響することが知見される。従
って、150W/m/K以上の熱伝導率を達成するため
には、格子不純物含量が制御され、SiC含量が99質
量%以上であるSiC粒子(緑色SiC)を選択しなけ
ればならない。
【0045】実施例2
合金AA1090と、2600℃で黒鉛化されたP.A
.N.(ポリアクリロニトリル)由来の炭素繊維18体
積%とを含有し、密度が約2500kg/m3であり、
繊維平面に垂直な軸方向での熱伝導率が164W/m/
Kであり、繊維平面内で測定される接線方向熱膨張率が
30℃で約19×10−6/K、30〜250℃で約6
.4×10−6/K、30〜400℃で約3×10−6
/Kである複合材料を製造する。この複合材料の、繊維
平面に垂直な軸方向で測定される熱膨張率は30〜25
0℃で55.5×10−6/Kである。
.N.(ポリアクリロニトリル)由来の炭素繊維18体
積%とを含有し、密度が約2500kg/m3であり、
繊維平面に垂直な軸方向での熱伝導率が164W/m/
Kであり、繊維平面内で測定される接線方向熱膨張率が
30℃で約19×10−6/K、30〜250℃で約6
.4×10−6/K、30〜400℃で約3×10−6
/Kである複合材料を製造する。この複合材料の、繊維
平面に垂直な軸方向で測定される熱膨張率は30〜25
0℃で55.5×10−6/Kである。
【0046】この実施例は、繊維状のセラミック相を用
いることは複合材料の熱膨張率を甚だしく異方性とする
ので好ましくないことを示している。
いることは複合材料の熱膨張率を甚だしく異方性とする
ので好ましくないことを示している。
【0047】この例で、繊維平面に垂直な軸方向での熱
膨張率は繊維平面内での熱膨張率のほぼ10倍にも達す
る。
膨張率は繊維平面内での熱膨張率のほぼ10倍にも達す
る。
【0048】実施例3
多粒子状黒鉛(Carbone Lorraineの
参照番号S2457)と、様々な金属とを含有する複合
材料を製造する。用いる金属は、純度99.7%以上の
アルミニウム(AA1070)、マグネシウム5%含有
のアルミニウム合金(AG5)、ニッケル5%含有のア
ルミニウム合金(AN5)、シリコン7%及びマグネシ
ウム0.6%含有のアルミニウム合金(A357)、並
びに亜鉛5%及び希土類金属約1%含有のマグネシウム
合金(RZ5)である。
参照番号S2457)と、様々な金属とを含有する複合
材料を製造する。用いる金属は、純度99.7%以上の
アルミニウム(AA1070)、マグネシウム5%含有
のアルミニウム合金(AG5)、ニッケル5%含有のア
ルミニウム合金(AN5)、シリコン7%及びマグネシ
ウム0.6%含有のアルミニウム合金(A357)、並
びに亜鉛5%及び希土類金属約1%含有のマグネシウム
合金(RZ5)である。
【0049】得られる複合材料を固化させ、型抜きして
から該材料の熱膨張率、熱伝導率、密度、場合によって
は更に弾性率、剛性率及び電気抵抗率の諸特性を測定す
る。得られる特性値は総て等方性である。
から該材料の熱膨張率、熱伝導率、密度、場合によって
は更に弾性率、剛性率及び電気抵抗率の諸特性を測定す
る。得られる特性値は総て等方性である。
【0050】上記測定の結果を表2に示す。
【0051】
表 2 30〜
250℃での 熱伝導率 密度 ヤング率 曲
げ強さ 電気抵抗率 熱膨張率 母材 ×10−6/K W
/m/K kg/m3 GPa
MPa μΩcm AA1070
6.0 133
2200 20 58
125 A357 7.4
142 2200
23 128 150 AG
5 7.9 1
24 2200 −
− − AN5
5.3 124 2200
− − − R
Z5 6.5
128 1700 −
− −複合材料のアルミニウム及びマ
グネシウム含量が合金組成に基づき様々となることによ
って、諸特性同士の兼ね合いも様々となる。非常に高い
熱伝導率を維持しつつアルミナやガリウムヒ素の熱膨張
率にきわめて近似する熱膨張率を達成し得ることが特に
留意される。
表 2 30〜
250℃での 熱伝導率 密度 ヤング率 曲
げ強さ 電気抵抗率 熱膨張率 母材 ×10−6/K W
/m/K kg/m3 GPa
MPa μΩcm AA1070
6.0 133
2200 20 58
125 A357 7.4
142 2200
23 128 150 AG
5 7.9 1
24 2200 −
− − AN5
5.3 124 2200
− − − R
Z5 6.5
128 1700 −
− −複合材料のアルミニウム及びマ
グネシウム含量が合金組成に基づき様々となることによ
って、諸特性同士の兼ね合いも様々となる。非常に高い
熱伝導率を維持しつつアルミナやガリウムヒ素の熱膨張
率にきわめて近似する熱膨張率を達成し得ることが特に
留意される。
【0052】実施例4
密度の異なる様々な多粒子状黒鉛(Carbone
Lorraineの参照番号S2512、S2457及
びS2545)と純度99.7%以上のアルミニウムと
を含有する複合材料を製造する。複合材料中の黒鉛の比
率は50〜90体積%とする。
Lorraineの参照番号S2512、S2457及
びS2545)と純度99.7%以上のアルミニウムと
を含有する複合材料を製造する。複合材料中の黒鉛の比
率は50〜90体積%とする。
【0053】含浸及び型抜き後に得られる複合材料の熱
膨張率、熱伝導率、密度、場合によっては更に弾性率、
剛性率及び電気抵抗率を測定する。得られる特性値は総
て等方性である。
膨張率、熱伝導率、密度、場合によっては更に弾性率、
剛性率及び電気抵抗率を測定する。得られる特性値は総
て等方性である。
【0054】測定結果を表3に示す。
【0055】
表 3 黒鉛 黒鉛 30
〜250℃で 熱伝導率 密度 ヤング 曲げ
強さ 電気抵抗 含量 参照 の熱膨張率
率
率 番号 体積% ×10−6/K
W/m/K kg/m3 GPa
MPa μΩcm 82 S25
12 2.9 113
2200 18 72
− 69 S2457
6.0 133 2200
20 58 125 5
9 S2545 10.0
129 2300 25
32 25 黒鉛の種類が異なれば、諸特性同士の兼ね合いも様
々となる。黒鉛S2512を用いると、例えばシリコン
や窒化アルミニウムの熱膨張率に等価の熱膨張率が達成
されることが特に知見される。
表 3 黒鉛 黒鉛 30
〜250℃で 熱伝導率 密度 ヤング 曲げ
強さ 電気抵抗 含量 参照 の熱膨張率
率
率 番号 体積% ×10−6/K
W/m/K kg/m3 GPa
MPa μΩcm 82 S25
12 2.9 113
2200 18 72
− 69 S2457
6.0 133 2200
20 58 125 5
9 S2545 10.0
129 2300 25
32 25 黒鉛の種類が異なれば、諸特性同士の兼ね合いも様
々となる。黒鉛S2512を用いると、例えばシリコン
や窒化アルミニウムの熱膨張率に等価の熱膨張率が達成
されることが特に知見される。
【0056】実施例1〜4に説明した本発明による複合
材料とこれらの材料から成る構造体はいずれも、あらゆ
る方向において30〜250℃での平均熱膨張率が13
×10−6/K以下2×10−6/K以上であり、また
熱伝導率は100W/m/K以上である。
材料とこれらの材料から成る構造体はいずれも、あらゆ
る方向において30〜250℃での平均熱膨張率が13
×10−6/K以下2×10−6/K以上であり、また
熱伝導率は100W/m/K以上である。
【0057】これらの特性を表4に示す。
【0058】
表 4
等方性の物理特性を有する材料
30〜250℃での熱膨張率
熱伝導率 複合材料
×10−6/K
W/m/K 緑色SiC粒
子/AA1050
10.5
170多粒子状黒鉛S2457/AG5
7.9
124多粒子状黒鉛S
2457/A357
7.4
142多粒子状黒鉛S2457/RZ5
6.5
128多粒子状黒鉛S245
7/AA1070
6 13
3多粒子状黒鉛S2457/AN5
5.3
124多粒子状黒鉛S2512/A
A1070 2.9
113
表 4
等方性の物理特性を有する材料
30〜250℃での熱膨張率
熱伝導率 複合材料
×10−6/K
W/m/K 緑色SiC粒
子/AA1050
10.5
170多粒子状黒鉛S2457/AG5
7.9
124多粒子状黒鉛S
2457/A357
7.4
142多粒子状黒鉛S2457/RZ5
6.5
128多粒子状黒鉛S245
7/AA1070
6 13
3多粒子状黒鉛S2457/AN5
5.3
124多粒子状黒鉛S2512/A
A1070 2.9
113
【図1】パワー回路用の放熱板の形態の構造体を含む電
子部品の側面図である。
子部品の側面図である。
【図2】図1の部品の上面図である。
【図3】接続端子及びカバーを具備したパッケージの形
態の構造体を含む電子部品の側面図である。
態の構造体を含む電子部品の側面図である。
【図4】パッケージからカバーを外したところを示す図
3の部品の上面図である。
3の部品の上面図である。
7 パッケージ
8 ベース
9 フレーム
11 接続端子
13 絶縁体
14 能動回路
15 導電トラック
Claims (4)
- 【請求項1】 受動電子部品の製造材料であって、1
3×10−6/K以下の熱膨張率と3100kg/m3
以下の密度とを有し、その構造は等方性の物理特性を実
現し、アルミニウムとその合金及びマグネシウムとその
合金の中から選択された金属と、緑色炭化ケイ素粒子ま
たは多粒子状黒鉛であるセラミックとによって構成され
ており、セラミックは50〜90体積%の比率で用いら
れている受動電子部品材料。 - 【請求項2】 7×10−6/K〜13×10−6/
Kの熱膨張率と、150W/m/K以上の熱伝導率と、
120GPa以上のヤング率とを有し、緑色炭化ケイ素
粒子が50〜75体積%の比率で用いられていることを
特徴とする請求項1に記載の材料。 - 【請求項3】 4×10−6/K〜10×10−6/
Kの熱膨張率と、2300kg/m3以下の密度と、1
00W/m/K以上の熱伝導率と、50GPa以下のヤ
ング率とを有し、多粒子状黒鉛が65〜85体積%の比
率で用いられていることを特徴とする請求項1に記載の
材料。 - 【請求項4】 金属がアルミニウム合金A356また
はA357であることを特徴とする請求項1に記載の材
料。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CA002038832A CA2038832C (fr) | 1991-03-22 | 1991-03-22 | Materiau pour composants electroniques passifs |
EP91420097A EP0504532A1 (fr) | 1991-03-22 | 1991-03-22 | Matériau pour composants électroniques passifs |
JP3104862A JPH0726174B2 (ja) | 1991-03-22 | 1991-04-10 | 補助電子部品材料 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CA002038832A CA2038832C (fr) | 1991-03-22 | 1991-03-22 | Materiau pour composants electroniques passifs |
EP91420097A EP0504532A1 (fr) | 1991-03-22 | 1991-03-22 | Matériau pour composants électroniques passifs |
JP3104862A JPH0726174B2 (ja) | 1991-03-22 | 1991-04-10 | 補助電子部品材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04329845A true JPH04329845A (ja) | 1992-11-18 |
JPH0726174B2 JPH0726174B2 (ja) | 1995-03-22 |
Family
ID=27168885
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3104862A Expired - Lifetime JPH0726174B2 (ja) | 1991-03-22 | 1991-04-10 | 補助電子部品材料 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP0504532A1 (ja) |
JP (1) | JPH0726174B2 (ja) |
CA (1) | CA2038832C (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001048816A1 (en) * | 1999-12-24 | 2001-07-05 | Ngk Insulators, Ltd. | Heat sink material and method of manufacturing the heat sink material |
JP2022091435A (ja) * | 2020-12-09 | 2022-06-21 | アドバンスコンポジット株式会社 | 易切削性金属基複合材料及び易切削性金属基複合材料の製造方法 |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0798393B1 (en) * | 1996-03-29 | 2001-11-21 | Hitachi Metals, Ltd. | Method of producing aluminum composite material of low-thermal expansion and high-thermal conductivity |
JP5677685B2 (ja) | 2011-01-28 | 2015-02-25 | 株式会社日立製作所 | 回路基板、及びそれを用いた半導体装置 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS55143042A (en) * | 1979-04-25 | 1980-11-08 | Hitachi Ltd | Semiconductor device |
JPS57179075A (en) * | 1981-04-30 | 1982-11-04 | Hitachi Ltd | Mixture for electric insulating silicon carbide sintering material and manufacture of sintering material |
US4569692A (en) * | 1983-10-06 | 1986-02-11 | Olin Corporation | Low thermal expansivity and high thermal conductivity substrate |
CH656022A5 (en) * | 1984-02-17 | 1986-05-30 | Battelle Memorial Institute | Composite support for semiconductive units or electrical components |
US4649990A (en) * | 1985-05-06 | 1987-03-17 | Hitachi, Ltd. | Heat-conducting cooling module |
GB2206451A (en) * | 1987-04-09 | 1989-01-05 | Reginald John Glass | Substrates for circuit panels |
-
1991
- 1991-03-22 EP EP91420097A patent/EP0504532A1/fr not_active Ceased
- 1991-03-22 CA CA002038832A patent/CA2038832C/fr not_active Expired - Fee Related
- 1991-04-10 JP JP3104862A patent/JPH0726174B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001048816A1 (en) * | 1999-12-24 | 2001-07-05 | Ngk Insulators, Ltd. | Heat sink material and method of manufacturing the heat sink material |
KR100460585B1 (ko) * | 1999-12-24 | 2004-12-09 | 니뽄 가이시 가부시키가이샤 | 히트 싱크재 및 그 제조 방법 |
US6933531B1 (en) | 1999-12-24 | 2005-08-23 | Ngk Insulators, Ltd. | Heat sink material and method of manufacturing the heat sink material |
JP2022091435A (ja) * | 2020-12-09 | 2022-06-21 | アドバンスコンポジット株式会社 | 易切削性金属基複合材料及び易切削性金属基複合材料の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0726174B2 (ja) | 1995-03-22 |
EP0504532A1 (fr) | 1992-09-23 |
CA2038832C (fr) | 1995-09-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5347426A (en) | Electronic device including a passive electronic component | |
JP3493844B2 (ja) | 半導体基板材料とその製造方法及び該基板を用いた半導体装置 | |
US4651192A (en) | Ceramic packaged semiconductor device | |
US20040131835A1 (en) | Structure for heat dissipation | |
JPH10335538A (ja) | 半導体基板材料、半導体基板、半導体装置、及びその製造方法 | |
JP2000303126A (ja) | ダイヤモンド−アルミニウム系複合材料およびその製造方法 | |
JPS631267B2 (ja) | ||
JPS63156075A (ja) | 半導体素子搭載用電気絶縁性窒化アルミニウム基板及びその製造方法 | |
JPH04329845A (ja) | 補助電子部品材料 | |
JP2001335859A (ja) | アルミニウム−炭化珪素系複合材料及びその製造方法 | |
KR100519063B1 (ko) | 진공아아크 용해법에 의한 고규소 Al-Si합금전자패키징용 소재 및 그 제조방법 | |
JP3449683B2 (ja) | セラミックス回路基板とその製造方法 | |
JP4314675B2 (ja) | 炭化珪素粉末とそれを用いた複合材料およびそれらの製造方法 | |
JP3371874B2 (ja) | パワーモジュール | |
JP3655207B2 (ja) | 電子機器用放熱部材およびその製造方法 | |
KR950012940B1 (ko) | 수동전자 소자용 재료 | |
JP4407858B2 (ja) | モジュール構造体 | |
JP3814924B2 (ja) | 半導体装置用基板 | |
JP2019141879A (ja) | アルミニウム−セラミックス接合基板およびその製造方法 | |
JP4461513B2 (ja) | アルミニウム−炭化珪素系複合材料およびその製造方法 | |
JP4119024B2 (ja) | 金属ボールの製造方法 | |
JP2002299532A (ja) | Al−SiC系複合体および放熱部品 | |
JPH1017959A (ja) | 複合材及びその製造方法 | |
JP2001284509A (ja) | Al−SiC複合体 | |
JP3837474B2 (ja) | 高熱伝導性複合材料及びその製造方法 |