JPH04327521A - 洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、アニオン系グリコシド
誘導体を含有する洗浄剤組成物に関し、詳しくは、クリ
ーミィーで良好な泡立ちを有し、皮膚及び毛髪に対して
低刺激性で角質洗浄性に優れた、シャンプー、洗顔料、
身体用洗浄剤等として有用な洗浄剤組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り洗浄剤の界面活性剤としては、アルキル硫酸塩、ポリ
オキシエチレンアルキル硫酸塩、アルキルベンゼンスル
ホン酸塩、アルファオレフィンスルホン酸塩等のアニオ
ン性界面活性剤が広く用いられてきた。

【０００３】ところが、このような界面活性剤はいずれ
も皮膚に対し累積的に処理されると、皮膚表層に吸着残
留し皮膚角層を主体とした乾燥落屑性変化（いわゆる皮
膚荒れ）を起こすことが知られており、洗浄剤等を使用
する際に、手荒れ等の皮膚障害を起こしやすい。またこ
の皮膚荒れはより強い皮膚障害、例えば主婦湿疹等の前
段階ともなりうるもので早急な解決が望まれている。

【０００４】一方、エチレンオキサイド付加型の非イオ
ン性界面活性剤は低刺激性であるが起泡性に劣るため、
シャンプーや身体用洗浄剤のような起泡性が要求される
洗浄剤組成物には多くの量が配合されていないのが現状
である。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる課
題を解決するために鋭意研究した結果、特定のアニオン
系グリコシド誘導体を含有する洗浄剤組成物が、高起泡
性でかつ角質洗浄性に優れており、陰イオン性界面活性
剤でありながら低刺激性であることを見出し本発明を完
成するに至った。

【０００６】即ち、本発明は、下記一般式（Ｉ）で表さ
れるアニオン系グリコシド誘導体を含有することを特徴
とする洗浄剤組成物を提供するものである。

【０００７】Ａ（Ｇｍ）〔（Ｒ１Ｏ）ｘＢ〕ｙ　　　　
　（Ｉ）〔但し式中 Ｇｍ：炭素数５〜６を有する還元糖又はその縮合体（但
しｍ　はその縮合度を示し、平均値が１〜１０の数を示
す）におけるすべての非グリコシド性水酸基の水素原子
及びグリコシド性水酸基の水素原子を除いたあとに残る
糖残基を示す。

【０００８】Ａ　：Ａ　基は糖残基ＧｍとＯ−グリコシ
ド結合で結合し、Ｒ２（ＯＲ３）ｚ基を示す。ここでＲ
２は直鎖または分岐鎖の炭素数６〜２２のアルキル基、
アルケニル基又はアルキルフェニル基を示し、Ｒ３は炭
素数２〜４のアルキレン基を示し、ｚ　は平均値が０〜
２０の数を示す。

【０００９】Ｒ１：炭素数２〜４のアルキレン基であり
、その一方の末端は糖残基Ｇｍにおける非グリコシド性
水酸基由来の酸素原子とエーテル結合し、他の末端はＢ
　基とエーテル結合している。

【００１０】ｘ　：（炭素数５〜６を有する還元糖又は
その縮合体における非グリコシド性水酸基に対するアル
キレンオキシド全付加モル数）／ｙ　を示し、０〜１０
の数である。

【００１１】ｙ　：炭素数５〜６を有する還元糖又はそ
の縮合体における非グリコシド性水酸基の数を示す。

【００１２】Ｂ　：水素原子、−（ＣＨ２）ｎＣＯＯＭ
基、−ＳＯ３Ｍ基、

【００１３】

【化２】

【００１４】ここで、Ｍ　は同一又は異なる水素原子、
アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、炭素
数２〜３のモノ，ジ若しくはトリアルカノールアンモニ
ウム、炭素数１〜５のアルキル基置換アンモニウム、ア
ルキル基置換ピリジニウム、又は塩基性アミノ酸基を示
し、Ｍ’は同一又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、
置換基を有してもよいフェニル基又は置換基を有しても
よいベンジル基を示し、Ｄ　は−ＣＨ２ＣＨ２−基又は
−ＣＨ＝ＣＨ−　基を示し、ｎ　は１〜３の数を示し、
ｐ　は１〜８の数を示す。〕 上記一般式（Ｉ）においてＧｍで表される糖残基の例示
をすれば次の通りである。

【００１５】

【化３】

【００１６】〔ｍ　は糖縮合度を示し平均値が１〜１０
の数を示す。〕 本発明に係わる前記一般式（Ｉ）で表されるアニオン系
グリコシド誘導体は、下記の一般式（ＩＩ）Ａ（Ｇｍ）
〔（Ｒ１Ｏ）ｘＨ〕ｙ　　　　　　　　　（ＩＩ）（式
中、Ａ　、　Ｇｍ　、ｘ　、ｙ　は前記の意味を示し、
Ｒ１は炭素数２〜４のアルキレン基であり、その一方の
末端は糖残基Ｇｍにおける非グリコシド性水酸基由来の
酸素原子とエーテル結合し、他の末端は水酸基と結合し
ている。）で示される長鎖の炭化水素基を有するグリコ
シド化合物又はそのアルキレンオキシド付加体又はこれ
らの混合物と、■　Ｘ（ＣＨ２）ｎＣＯＯＭ　　で示さ
れるカルボキシアルキル化剤、■　ＸＳＯ３Ｈ、ＳＯ３
　、Ｈ２ＮＳＯ３Ｈ　及びこれらとルイス塩基との付加
体よりなる群から選ばれる硫酸化剤、■オルトリン酸、
五酸化リン、ポリリン酸、ハロゲン化ピロリン酸、オキ
シハロゲン化リン、オキシハロゲン化リンの部分水和物
などのリン酸化剤、■オキシハロゲン化リン、又は

【００１７】

【化４】

【００１８】で表される化合物などのリン酸化剤、又は
■無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸等の環
状無水物を反応させることにより、あるいは■マレイン
酸無水物を反応させて、下記の一般式（ＩＩＩ）

【００
１９】

【化５】

【００２０】で示されるマレイン酸ハーフエステルを生
成させ、必要に応じてアルカリ性物質で中和させた後、
亜硫酸アルカリ金属塩及び／又はアルカリ金属水酸化物
を含有する酸性亜硫酸アルカリ金属塩でスルホン化する
ことにより、あるいは■ＸＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｓ
Ｏ３Ｍ　を塩基性物質の存在下に反応させることにより
得られる。

【００２１】但し、上記式中、Ａ　、Ｇｍ、Ｍ、Ｍ’、
ｘ、ｙ、ｎは前記の意味を示し、Ｘ　はハロゲン原子を
示し、Ｒ４は炭素数２〜４のアルキレン基であり、その
一方の末端は糖残基Ｇｍにおける非グリコシド性水酸基
由来の酸素原子とエーテル結合し、他の末端はマレイン
酸基とエステル結合している。

【００２２】本発明に於いて使用される前記一般式（Ｉ
Ｉ）で示されるグリコシド化合物は公知の方法（特公昭
４７−２４５３２　号、米国特許第３８３９３１８　号
、欧州特許第０９２３５５号、特開昭５９−１３９３９
７号、特開昭５８−１８９１９５号など）で合成される
ものであって糖類と高級アルコールとを酸触媒の存在下
に直接反応させる方法、あるいは予め糖類をメタノール
、エタノール、プロパノール又はブタノールなどの低級
アルコールと反応させたのち高級アルコールと反応させ
る方法のいずれでも得られるものである。 また、このようにして得られた原料グリコシドに炭素数
２〜４のアルキレンオキシドを付加したものも原料とし
て使用され得る。

【００２３】前記一般式（ＩＩ）で示されるグリコシド
化合物の合成に使用される糖類としては、単糖類、オリ
ゴ糖類あるいは多糖類が使用される。単糖類の具体例と
してはアルドース類、例えばアロース、アルトロース、
グルコース、マンノース、グロース、イドース、ガラク
トース、タロース、リボース、アラビノース、キシロー
ス、リキソース、及びケトース類であるフルクトースな
どが挙げられる。オリゴ糖類の具体例としては、マルト
ース、ラクトース、マルトトリオースなどが挙げられる
。多糖類の具体例としてはヘミセルロース、イヌリン、
デキストリン、デキストラン、キシラン、デンプン、加
水分解デンプンなどが挙げられる。

【００２４】また一般式（ＩＩ）で示されるグリコシド
化合物の合成に使用されるアルコールは直鎖型又は分岐
型の炭素数６〜２２のアルコールである。これらのアル
コールの具体例としては、例えばヘキサノール、ヘプタ
ノール、オクタノール、ノナノール、デカノール、ドデ
カノール、トリデカノール、テトラデカノール、ペンタ
デカノール、ヘキサデカノール、ヘプタデカノール、オ
クタデカノール、メチルペンタノール、メチルヘキサノ
ール、メチルヘプタノール、メチルオクタノール、メチ
ルデカノール、メチルウンデカノール、メチルトリデカ
ノール、メチルヘプタデカノール、エチルヘキサノール
、エチルオクタノール、エチルデカノール、エチルドデ
カノール、２−ヘプタノール、２−ノナノール、２−ウ
ンデカノール、２−トリデカノール、２−ペンタデカノ
ール、２−ヘプタデカノール、２−ブチルオクタノール
、２−ヘキシルオクタノール、２−オクチルオクタノー
ル、２−ヘキシルデカノール、２−オクチルデカノール
などの飽和脂肪族アルコール、ヘキセノール、ヘプテノ
ール、オクテノール、ノネノール、デセノール、ウンデ
セノール、ドデセノール、トリデセノール、テトラデセ
ノール、ペンタデセノール、ヘキサデセノール、ヘプタ
デセノール、オクタデセノール等の不飽和脂肪族アルコ
ール、オクチルフェノール、ノニルフェノールなどのア
ルキルフェノールが挙げられる。さらには前記の飽和又
は不飽和脂肪族アルコール又はアルキルフェノールの炭
素数２〜４のアルキレンオキシド付加体も使用される。

【００２５】本発明の洗浄剤組成物中の前記一般式（Ｉ
）で表されるアニオン系グリコシド誘導体の含有量は０
．１　〜９０重量％が好ましく、更に好ましくは１〜３
０重量％である。

【００２６】本発明の洗浄剤組成物には更に泡質の改良
、使用感の向上等を目的として陰イオン性界面活性剤、
両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、陽イオン性界
面活性剤等の各種の界面活性剤を併用することもできる
。

【００２７】陰イオン性界面活性剤としては、陰イオン
性基がサルフェート、スルホネート、カルボキシレート
、ホスフェート及びこれらの混合物からなる群より選ば
れたものであることが好ましい。例えばサルフェート、
スルホネート系としては、アルキル硫酸塩、ポリオキシ
エチレンアルキル硫酸塩、スルホコハク酸系、タウレー
ト系、イセチオネート系、α−オレフィンスルホン酸系
等の界面活性剤が挙げられ、カルボキシレート系として
は、脂肪酸石鹸、脂肪酸塩、エーテルカルボン酸系界面
活性剤、アシル化アミノ酸系界面活性剤等が挙げられ、
ホスフェート系としては、アルキルリン酸エステル系界
面活性剤等が挙げられ、特にスルホコハク酸系、ホスフ
ェート系の界面活性剤が好ましく用いられる。

【００２８】両性界面活性剤としてはカルボベタイン系
、スルホベタイン系、イミダゾリニウムベタイン系等の
両性界面活性剤が挙げられ、ヒドロキシプロピルスルホ
ベタイン、特開昭６３−１３０１２９号公報に記載の脱
塩処理した２級のイミダゾリニウムベタイン等が好まし
く用いられる。

【００２９】非イオン性界面活性剤としては、ポリオキ
シアルキレン付加型、アミンオキサイド系、モノ或いは
ジエタノールアミド系、その他ソルビタン脂肪酸エステ
ル、グリセリン脂肪酸エステル、蔗糖脂肪酸エステル、
アルキルサッカライド系、　Ｎ−ポリヒドロキシアルキ
ル脂肪酸アミド系等の多価アルコール型等が挙げられ、
特にポリオキシアルキレン付加型、アルキルサッカライ
ド系等が好ましく用いられる。

【００３０】陽イオン性界面活性剤としては、直鎖もし
くは分岐鎖のアルキル基を有するモノもしくはジアルキ
ル付加型第４級アンモニウム塩及びそのアルキル基にア
ルキレンオキサイドを付加したもの等が挙げられ、特に
炭素数１２〜１６の直鎖モノアルキル第４級アンモニウ
ム塩、炭素数２０〜２８の分岐アルキル基を有する第４
級アンモニウム塩等が好ましく用いられる。

【００３１】本発明においては、目的とする製品の性能
に応じて上述の界面活性剤の１種又は２種以上を組み合
わせて用いることができる。これら界面活性剤のうち、
ヒドロキシスルホベタイン系、脱塩した２級のイミダゾ
リニウムベタイン系等のベタイン系両性界面活性剤、ス
ルホコハク酸系、タウレート系、イセチオネート系、エ
ーテルカルボン酸系、アシル化アミノ酸系、アルキルリ
ン酸エステル系のアニオン界面活性剤、アルキルサッカ
ライド系、　Ｎ−ポリヒドロキシアルキル脂肪酸アミド
系の非イオン性界面活性剤等を、上記一般式（Ｉ）で示
されるアニオン系グリコシド誘導体と併用してなる洗浄
剤組成物が、刺激の低減及び使用感の点から特に好まし
い。この場合の洗浄剤組成物中の界面活性剤の配合総量
は０．０１〜９０重量％、好ましくは０．１　〜６０重
量％、特に好ましくは１．０　〜３０重量％である。

【００３２】本発明の洗浄剤組成物は一般に、前記一般
式（Ｉ）で示されるアニオン系グリコシド誘導体又はこ
れと界面活性剤を主成分とし、固形状、ペースト状、液
状等、任意の剤型で洗浄剤組成物として調製される。

【００３３】本発明組成物は通常の洗浄剤組成物に用い
られる公知の酸性もしくはアルカリ性薬剤により、ｐＨ
３〜１０、特にｐＨ４〜８に調整されることが好ましい
。

【００３４】上記一般式（Ｉ）で示されるアニオン系グ
リコシド誘導体と他の界面活性剤を併用した洗浄剤組成
物の場合、低刺激性、低温安定性に加え、皮膚、毛髪に
対しぬるつきのないさらっとした使用感を得ることがで
きる。

【００３５】尚、本発明の洗浄剤組成物には上記必須成
分の他に、洗浄剤に通常使用される洗浄剤成分を配合し
得る。例えば毛髪や皮膚の感触を向上させるためのカチ
オン化セルロース等のカチオン性ポリマー、カルボキシ
メチルセルロース等のアニオン性ポリマー、ポリエチレ
ングリコール等の非イオン性ポリマー、更にはジメチル
ポリシロキサン等のシリコーン誘導体や両性ポリマー等
の１種又は２種以上の洗浄剤成分；プロピレングリコー
ル、グリセリン、ジエチレングリコールモノエチルエー
テル、ソルビトール等の保湿剤；メチルセルロース、カ
ルボキシビニルポリマー、ヒドロキシエチルセルロース
、ポリオキシエチレングリコールジステアレート、エタ
ノール等の粘度調整剤；パール化剤；香料；色素；紫外
線吸収剤；酸化防止剤；トリクロサン、トリクロロカル
バン等の殺菌剤；グリチルリチン酸カリウム、酢酸トコ
フェロール等の抗炎症剤；ジンクピリチオン、オクトピ
ロックス等の抗フケ剤；メチルパラベン、ブチルパラベ
ン等の防腐剤及び下記一般式（ａ）

【００３６】

【化６】

【００３７】〔式中、Ｒ５は炭素数１０〜２６の直鎖も
しくは分岐鎖の飽和もしくは不飽和の炭化水素基、Ｒ６
は炭素数９〜２５の直鎖もしくは分岐鎖の飽和もしくは
不飽和の炭化水素基を示し、Ｒ７は　　−（ＣＨ２）ｍ
−　（ここで　ｍは２〜６の整数を示す）　を示す。〕
で表されるアミド誘導体等を本発明の効果を損なわない
範囲において任意に添加することも可能である。

【００３８】

【発明の効果】本発明の洗浄剤組成物は、皮膚や毛髪に
対する刺激が低く、高起泡性を有し、かつ角質洗浄性が
良好で、皮膚・毛髪に適用される洗浄剤、衣料用洗浄剤
及び食器用洗浄剤等として極めて有用である。

【００３９】

【実施例】以下に合成例及び実施例を挙げ、本発明を具
体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定される
ものではない。尚、例中の％は特記しない限り重量基準
である。

【００４０】合成例１ （ａ）　テトラデシルグルコシドの合成テトラデシルア
ルコール４２８０ｇ（２０．０ｍｏｌ）、無水グルコー
ス７２０ｇ（４．０　ｍｏｌ）　及びパラトルエンスル
ホン酸１水和物１１．２ｇ（０．０６ｍｏｌ）を１０リ
ットルフラスコ中で加熱攪拌した。　１００℃まで昇温
の後、系内圧力を４０ｍｍＨｇとして脱水反応を開始し
た。この際、反応混合液中に窒素を０．１Ｎｍ３／ｈｒ
で吹き込み、生成する水を効率よく除去する様にした。 反応開始　７．５時間でグルコースが消費されたことを
目視にて確認し、減圧を解除し冷却の後ＮａＯＨ水を加
えて中和した。副生する多糖を濾別し、次いで、濾液を
　１８０℃、　０．３ｍｍＨｇの条件で蒸留してテトラ
デシルグルコシド　１２９３ｇを得た。得られたテトラ
デシルグルコシドは表１に示す様な糖オリゴマー分布を
有しており平均の糖オリゴマー化度は１．２６であった
。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／１であっ
た。

【００４１】

【表１】

【００４２】（ｂ）　テトラデシルグルコシド・サルフ
ェート・Ｎａ塩の合成 （ａ）　で得られたテトラデシルグルコシド１６７ｇ　
（０．４０ｍｏｌ）をトルエン　１０００ｇ（溶液濃度
１４重量％）に加温溶解し、無水ピリジン３７．９ｇ（
０．４８ｍｏｌ）を加えて、常圧、６０℃にて加熱攪拌
した。系が均一なのを確認後Ｈ２ＮＳＯ３Ｈ　７７．６
ｇ（０．８ｍｏｌ）　を加え６０℃より　１００℃まで
昇温後５０分間加熱攪拌した。反応液を冷却後多量のメ
タノールを加え、未反応のスルファミン酸を含む塩類等
を除去後、系内を弱アルカリとするため希薄ＮａＯＨ水
を加えた。この反応終了溶液を７０℃にて２時間加熱後
、トルエン、メタノール、水、ピリジン、アンモニア等
の揮発成分を留去し、２４２ｇの硫酸化グルコシド粗生
成物を得た。硫酸化グルコシド粗生成物２４２ｇに２リ
ットルのエタノールを加え、不溶の無機塩類を除去し、
エタノールを留去し、テトラデシルグルコシド・サルフ
ェート・Ｎａ塩１９１ｇ（テトラデシルグルコシド基準
収率９２％）を得た（白色乃至淡褐色粉末）。

【００４３】合成例２ （ａ）　デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル付
加体の合成 デシルアルコール３４６０ｇ（２１．９ｍｏｌ）、無水
グルコース７８９ｇ（４．３８ｍｏｌ）　及びパラトル
エンスルホン酸１水和物１１．７ｇ（０．０６ｍｏｌ）
を１０リットルフラスコ中で加熱攪拌した。　１００℃
まで昇温の後、系内圧力を４０ｍｍＨｇとして脱水反応
を開始した。この際、反応混合液中に窒素を０．１Ｎｍ
３／ｈｒで吹き込み、生成する水を効率よく除去する様
にした。反応開始　７．５時間でグルコースが消費され
たことを目視にて確認し、減圧を解除し冷却の後ＮａＯ
Ｈ水を加えて中和した。副生する多糖を濾別し、次いで
、濾液を１８０℃、０．３ｍｍＨｇの条件で蒸留してデ
シルグルコシド１２００ｇ　を得た。 得られたデシルグルコシドは表２に示す様な糖オリゴマ
ー分布を有しており平均の糖オリゴマー化度は１．２６
であった。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／
１であった。

【００４４】

【表２】

【００４５】上記で得られたデシルグルコシド５２１ｇ
（１．４４ｍｏｌ）　をジオキサン５２１ｇに溶解し、
ＮａＯＨ粉末０．５７ｇ　を添加した後、オートクレー
ブ密閉下１５０　℃にてエチレンオキシド１９０ｇ（４
．３２ｍｏｌ）　と７時間反応した。冷却後希硫酸で中
和し、ジオキサンを減圧下留去して、デシルグルコシド
・エチレンオキシド３モル付加体（平均値）７１０ｇを
得た。

【００４６】（ｂ）　デシルグルコシド・エチレンオキ
シド３モル付加体・サルフェートの合成 （ａ）で得られたデシルグルコシド・エチレンオキシド
３モル付加体１２４ｇ（０．２５ｍｏｌ）をトルエン１
０００ｇ（溶液濃度１１重量％）　に溶解し、無水ピリ
ジン２３．７ｇ（０．３０ｍｏｌ）を加えて常圧、６０
℃にて加熱攪拌した。系が均一であることを確認後、Ｈ
２ＮＳＯ３Ｈ　４８．５ｇ（０．５０ｍｏｌ）を加え６
０℃より　１００℃まで昇温後３０分間加熱攪拌した。 反応液を冷却後多量のメタノールを加え未反応のスルフ
ァミン酸を含む塩類等を除去後系内を弱アルカリ性とす
る為、希ＮａＯＨ水を反応系へ加えた。この反応終了溶
液を約７０℃にて１〜２時間加熱後、トルエン、メタノ
ール、水、ピリジン、アンモニア等の揮発成分を留去し
、１８０ｇの硫酸化グリコシド粗生成物を得た。この粗
生成物についてエタノールを使用して脱塩した後、１３
４ｇ（デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル付加
体基準収率９０％）のデシルグルコシド・エチレンオキ
シド３モル付加体・サルフェート（白色乃至淡褐色粉末
）を得た。

【００４７】合成例３ （ａ）　デシルグルコシドの合成 デシルアルコール３４６０ｇ（２１．９ｍｏｌ）、無水
グルコース７８９ｇ（４．３８ｍｏｌ）　及びパラトル
エンスルホン酸１水和物１１．７ｇ（０．０６ｍｏｌ）
を１０リットルフラスコ中で加熱攪拌した。１００　℃
まで昇温の後、系内圧力を４０ｍｍＨｇとして脱水反応
を開始した。この際、反応混合液中に窒素を０．１Ｎｍ
３／ｈｒで吹き込み生成する水を効率よく除去する様に
した。反応開始７．５　時間でグルコースが消費された
ことを目視にて確認し、減圧を解除し冷却した後ＮａＯ
Ｈ水を加えて中和した。副生する多糖を濾別し、次いで
、濾液を１８０℃、０．３ｍｍＨｇの条件で蒸留してデ
シルグルコシド１２００ｇ　を得た。 得られたデシルグルコシドは表３に示す様な糖オリゴマ
ー分布を有しており平均の糖オリゴマー化度は１．２６
であった。また糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／
１であった。

【００４８】

【表３】

【００４９】（ｂ）　デシルグルコシドカルボキシメチ
ルナトリウム塩の合成 上記デシルグルコシド１９６ｇ（０．５４ｍｏｌ）　を
１８００ｇ　ジオキサンに溶解した溶液にモノクロロ酢
酸ナトリウム１９０ｇ（１．６３ｍｏｌ）　を加えて常
圧で加熱攪拌した。ジオキサンの蒸留が始まると同時に
４８％ＮａＯＨ水溶液１３６ｇ（１．６３　ｍｏｌ）を
１０分間で滴下した。ジオキサン１０００ｇ　を留去し
たところ水分４１ｇ　を含有していた。滴下終了後４時
間加熱還流し、冷却して希硫酸により中和した。反応終
了時のカルボキシメチル化転化率は６０％であった。ジ
オキサンを減圧下で留去し水により希釈した。希釈水溶
液を電気透析脱塩し水を減圧下留去して粗カルボキシメ
チル化物２４０ｇを得た。

【００５０】次に、上記粗カルボキシメチル化物の１５
０ｇを取り、メタノール、酢酸エチルより２回再結晶を
行い、精製カルボキシメチル化物５７ｇ　を無色粉末と
して得た。尚、このカルボキシメチル化物の糖鎖長の分
布は表４に示すようであり、糖縮合度は１．６０であっ
た。又、１Ｈ−ＮＭＲよりカルボキシメチル置換度は約
２．７　であることが判明した。

【００５１】

【表４】

【００５２】合成例４ （ａ）　ラウリルグルコシドの合成 ラウリルアルコール４８９０ｇ（２６．３ｍｏｌ）、無
水グルコース７８９ｇ（４．３８ｍｏｌ）　及びパラト
ルエンスルホン酸１水和物１１．７ｇ（０．０６ｍｏｌ
）を１０リットルフラスコ中で加熱攪拌した。　１００
℃まで昇温の後、系内圧力を４０ｍｍＨｇとして脱水反
応を開始した。この際、反応混合液中に窒素を０．１Ｎ
ｍ３／ｈｒで吹き込み生成する水を効率よく除去する様
にした。反応開始　７．５時間でグルコースが消費され
たことを目視にて確認し、減圧を解除し冷却した後Ｎａ
ＯＨ水を加えて中和した。副生する多糖を濾別し、次い
で、濾液を　１８０℃、　０．３ｍｍＨｇの条件で蒸留
してラウリルグルコシド　１４００ｇを得た。得られた
ラウリルグルコシドの平均糖縮合度は１．２　であった
。

【００５３】（ｂ）　ラウリルグルコシドスルホコハク
酸ジナトリウム塩の合成 上記ラウリルグルコシド　５０ｇ（０．１３１ｍｏｌ）
をＤＭＦ　５０ｍｌに溶解させ、細かく粉砕した無水マ
レイン酸１２．９ｇ（０．１３１ｍｏｌ）　を加えて６
０℃で２時間攪拌した。この反応混合物中に亜硫酸ナト
リウム１６．５ｇ（０．１３１ｍｏｌ）　を含む水溶液
２００　ｍｌを添加し８０℃で約３時間攪拌した。この
混合物から水及びＤＭＦ　をエバポレーターを用いて、
減圧下に加熱して留去した。残留固体をエタノール約５
００　ｍｌで洗浄し、乾燥させることによって、白色粉
末のラウリルグルコシドスルホコハク酸ジナトリウム塩
７０ｇ　（ラウリルグルコシド基準収率８５．６％）を
得た。

【００５４】合成例５ （ａ）　デシルグルコシドの合成 デシルアルコール３４６０ｇ（２１．９ｍｏｌ）、無水
グルコース７８９ｇ（４．３８ｍｏｌ）　及びパラトル
エンスルホン酸１水和物１１．７ｇ（０．０６ｍｏｌ）
を１０リットルフラスコ中で加熱攪拌した。　１００℃
まで昇温の後、系内圧力を４０ｍｍＨｇとして脱水反応
を開始した。この際、反応混合液中に窒素を０．１Ｎｍ
３／ｈｒで吹き込み、生成する水を効率よく除去する様
にした。反応開始　７．５時間でグルコースが消費され
たことを目視にて確認し、減圧を解除し冷却の後ＮａＯ
Ｈ水を加えて中和した。副生する多糖を濾別し、次いで
、濾液を１８０℃、０．３ｍｍＨｇの条件で蒸留してデ
シルグルコシド１２００ｇ　を得た。 得られたデシルグルコシドは表５に示す様な糖オリゴマ
ー分布を有しており平均の糖オリゴマー化度は１．２６
であった。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／
１であった。

【００５５】

【表５】

【００５６】（ｂ）　デシルグルコシド・ホスフェート
・Ｎａ塩の合成 （ａ）　で得られたデシルグルコシド９１ｇ（０．２５
ｍｏｌ）をクロロホルム　１０００ｇ（溶液濃度８重量
％）に溶解し、無水ピリジン４７．４ｇ（０．６ｍｏｌ
）を加えドライアイスメタノール浴にて−２０℃まで冷
却した。攪拌下オキシ塩化リン７７ｇ（０．５ｍｏｌ）
　をゆっくりと滴下する。反応液の温度は０〜２℃に保
った。滴下終了後同温度で４時間熟成させた。

【００５７】熟成後、多量の氷水中に注ぎ加水分解する
。系内を均一にすべくエタノールを加えた後、系内を弱
アルカリとすべく、希薄ＮａＯＨ水を加えた。この反応
終了液より揮発成分（クロロホルム、エタノール、水、
ピリジン）を留去し１９７ｇのリン酸化グルコシド粗生
成物を得た。

【００５８】このリン酸化グルコシド粗生成物について
エタノールを使用して脱塩した後、デシルグルコシド・
ホスフェート・Ｎａ塩１１０ｇ（デシルグルコシド基準
収率９５％）を得た。

【００５９】合成例６ （ａ）　デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル付
加体の合成 デシルアルコール３４６０ｇ（２１．９ｍｏｌ）、無水
グルコース７８９ｇ（４．３８ｍｏｌ）　及びパラトル
エンスルホン酸１水和物１１．７ｇ（０．０６ｍｏｌ）
を１０リットルフラスコ中で加熱攪拌した。１００　℃
まで昇温の後、系内圧力を４０ｍｍＨｇとして脱水反応
を開始した。この際、反応混合液中に窒素を０．１Ｎｍ
３／ｈｒで吹き込み、生成する水を効率よく除去する様
にした。反応開始　７．５時間でグルコースが消費され
たことを目視にて確認し、減圧を解除し冷却の後ＮａＯ
Ｈ水を加えて中和した。副生する多糖を濾別し、次いで
、濾液を１８０℃、０．３ｍｍＨｇの条件で蒸留してデ
シルグルコシド１２００ｇ　を得た。 得られたデシルグルコシドは表６に示す様な糖オリゴマ
ー分布を有しており平均の糖オリゴマー化度は１．２６
であった。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／
１であった。

【００６０】

【表６】

【００６１】上記で得られたデシルグルコシド５２１ｇ
（１．４４ｍｏｌ）　をジオキサン５２１ｇに溶解し、
ＮａＯＨ粉末０．５７ｇ　を添加した後、オートクレー
ブ密閉下　１５０℃にてエチレンオキシド１９０ｇ（４
．３２ｍｏｌ）　と７時間反応した。冷却後希硫酸で中
和しジオキサンを減圧下留去してデシルグルコシド・エ
チレンオキシド３モル付加体（平均値）７１０ｇを得た
。

【００６２】（ｂ）　デシルグルコシド・エチレンオキ
シド３モル付加体・ホスフェート・Ｎａ塩の合成（ａ）
で得られたデシルグルコシド・エチレンオキシド３モル
付加体１２４ｇ（０．２５ｍｏｌ）をクロロホルム　１
０００ｇ（溶液濃度１１重量％）に溶解し、無水ピリジ
ン４７．４ｇ　（０．６ｍｏｌ）を加えドライアイス−
メタノール浴にて−２０℃まで冷却した。攪拌下オキシ
塩化リン７７ｇ（０．５ｍｏｌ）　をゆっくりと滴下す
る。反応液の温度は０〜２℃に保った。滴下終了後同温
度で４時間熟成させた。

【００６３】熟成後、多量の氷水中に注ぎ加水分解する
。系内を均一にすべくエタノールを加えた後、系内を弱
アルカリとすべく、希薄ＮａＯＨ水を加えた。この反応
終了液より揮発成分（クロロホルム、エタノール、水、
ピリジン）を留去し２６０ｇのリン酸化グルコシド粗生
成物を得た。

【００６４】このリン酸化グルコシド粗生成物について
エタノールを使用して脱塩した後、デシルグルコシド・
エチレンオキシド３モル付加体・ホスフェート・Ｎａ塩
１４２ｇ（デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル
付加体基準収率９５％）を得た。

【００６５】合成例７ （ａ）　デシルグルコシドの合成 デシルアルコール３４６０ｇ（２１．９ｍｏｌ）、無水
グルコース７８９ｇ（４．３８ｍｏｌ）　及びパラトル
エンスルホン酸１水和物１１．７ｇ（０．０６ｍｏｌ）
を１０リットルフラスコ中で加熱攪拌した。　１００℃
まで昇温の後、系内圧力を４０ｍｍＨｇとして脱水反応
を開始した。この際、反応混合液中に窒素を０．１Ｎｍ
３／ｈｒで吹き込み、生成する水を効率よく除去する様
にした。反応開始　７．５時間でグルコースが消費され
たことを目視にて確認し、減圧を解除し冷却の後ＮａＯ
Ｈ水を加えて中和した。副生する多糖を濾別し、次いで
、濾液を１８０℃、０．３ｍｍＨｇの条件で蒸留してデ
シルグルコシド１２００ｇ　を得た。 得られたデシルグルコシドは表７に示す様な糖オリゴマ
ー分布を有しており平均の糖オリゴマー化度は１．２６
であった。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／
１であった。

【００６６】

【表７】

【００６７】（ｂ）　ジエチルホスホリル化デシルグル
コシドの合成 （ａ）　で得られたデシルグルコシド９１ｇ　（０．２
５ｍｏｌ）　を無水ピリジン１０００ｇ　（溶液濃度８
重量％）に溶解しドライアイス−メタノール浴にて−１
０℃まで冷却した。攪拌下、ジエチルリン酸クロライド
９５ｇ（０．５５ｍｏｌ）をゆっくりと滴下する。反応
液の温度は０℃以下に保った。滴下終了後同温度で４時
間熟成後、反応液の温度を室温とし２４時間熟成させた
。

【００６８】熟成後、多量の氷水中に注ぎ、系内を弱ア
ルカリとすべく希薄ＮａＯＨ水を加えた後、揮発成分（
ピリジン、水）を留去し、１９８ｇのリン酸化グリコシ
ド粗生成物を得た。リン酸グリコシド粗生成物１９８ｇ
に２リットルのエタノールを加え不溶の無機塩類を除去
し、エタノールを留去してジエチルホスホリル化デシル
グルコシド１２３ｇ（デシルグルコシド基準収率９９％
）を得た。

【００６９】合成例８ （ａ）　ラウリルグルコシドの合成 ラウリルアルコール４８９０ｇ（２６．３ｍｏｌ）、無
水グルコース７８９ｇ（４．３８ｍｏｌ）　及びパラト
ルエンスルホン酸１水和物１１．７ｇ（０．０６ｍｏｌ
）を１０リットルフラスコ中で加熱攪拌した。　１００
℃まで昇温の後、系内圧力を４０ｍｍＨｇとして脱水反
応を開始した。この際、反応混合液中に窒素を０．１Ｎ
ｍ３／ｈｒ　で吹き込み、生成する水を効率よく除去す
る様にした。反応開始　７．５時間でグルコースが消費
されたことを目視にて確認し、減圧を解除し、冷却の後
、ＮａＯＨ水を加えて中和した。副生する多糖を濾別し
、次いで濾液を　１８０℃、０．３ｍｍＨｇ　の条件で
蒸留して、ラウリルグルコシド１４００ｇを得た。得ら
れたラウリルグルコシドの平均糖縮合度は　１．２であ
った。又、水酸基価をＡＯＣＳ法で測定したところ　６
７８．５であった。

【００７０】（ｂ）　ラウリルグルコシドのマレイン酸
ハーフエステルＮａ塩の合成 上記ラウリルグルコシド５０ｇ（０．１３１ｍｏｌ）　
をＤＭＦ　５０ｍｌに溶解させ、細かく粉砕した無水マ
レイン酸１２．９ｇ（０．１３１ｍｏｌ）　を加えて６
０℃で２時間攪拌した。次いで炭酸水素ナトリウム　　
１１．０ｇ（０．１３１ｍｏｌ）　を含む水溶液　１０
０ｇを約３０分かけて滴下しＮａ塩とした。この反応混
合物から水及び　ＤＭＦをエパポレーターを用い減圧下
に加熱して留去した。残留物をメタノール５０ｍｌに溶
解させ、この溶液をアセトン　５００ｍｌ中に加えた。 生成した沈殿を濾取し、乾燥させることによって、白色
粉末約５７ｇを得た。得られたラウリルグルコシドのマ
レイン酸ハーフエステルＮａ塩の水酸基価は３８４．２
、又ケン化価は　１０３．９であった。

【００７１】合成例９ （ａ）　デシルグルコシド・エチレンオキシド３モル付
加体の合成 デシルアルコール３４６０ｇ（２１．９ｍｏｌ）、無水
グルコース７８９ｇ（４．３８ｍｏｌ）　及びパラトル
エンスルホン酸１水和物１１．７ｇ（０．０６ｍｏｌ）
を１０リットルフラスコ中で加熱攪拌した。　１００℃
まで昇温の後、系内圧力を４０ｍｍＨｇとして脱水反応
を開始した。この際、反応混合液中に窒素を０．１Ｎｍ
３／ｈｒ　で吹き込み、生成する水を効率よく除去する
様にした。反応開始　７．５時間でグルコースが消費さ
れたことを目視にて確認し、減圧を解除し、冷却の後Ｎ
ａＯＨ水を加えて中和した。副生する多糖を濾別し、次
いで、濾液を　１８０℃、０．３ｍｍＨｇ　の条件で蒸
留してデシルグルコシド１２００ｇを得た。得られたデ
シルグルコシドは表８に示す様な糖オリゴマー分布を有
しており、平均の糖オリゴマー化度は１．２６であった
。又、糖のアノマー比率はα体／β体＝約２／１　であ
った。

【００７２】

【表８】

【００７３】上記で得られたデシルグルコシド５２１ｇ
（１．４４ｍｏｌ）　をジオキサン５２１ｇに溶解し、
ＮａＯＨ粉末０．５７ｇを添加した後、オートクレーブ
密閉下　１５０℃にてエチレンオキシド１９０ｇ（４．
３２ｍｏｌ）　と７時間反応した。冷却後希硫酸で中和
し、ジオキサンを減圧下留去して、デシルグルコシド・
エチレンオキシド３モル付加体（平均値）７１０ｇを得
た。

【００７４】（ｂ）　デシルグルコシド・エチレンオキ
シド３モル付加体・ヒドロキシプロパンスルホン酸ナト
リウムの合成 （ａ）で得られたデシルグルコシド・エチレンオキシド
３モル付加体１２４ｇ（０．２５ｍｏｌ）をトルエン１
０００ｇ（溶液濃度１１重量％）　に溶解し、４７％　
ＢＦ３・（Ｅｔ２Ｏ）　３．８ｇ（０．０１２５ｍｏｌ
）を加えた後、エピクロルヒドリン４５．８ｇ（０．５
０ｍｏｌ）を室温にて加えた。滴下後室温にて１時間反
応し、希ＮａＯＨ水を反応系に加え系を中性とした。

【００７５】エピクロルヒドリンの付加反応終了後、溶
媒（トルエン）及び未反応エピクロルヒドリンを留去し
、粗生β−ヒドロキシクロロプロピル体１７０　ｇを得
た。このβ−ヒドロキシクロロプロピル体の水酸基価及
びＣｌ含量は表９に示す通りである。

【００７６】

【表９】

【００７７】この水酸基価及びＣｌ含量はデシルグルコ
シド（糖縮合度＝１．２６）　のエチレンオキシド３モ
ル付加体について平均　１．５個の水酸基がβ−ヒドロ
キシクロロプロピル体となっていることを示す。

【００７８】この粗生β−ヒドロキシクロロプロピル体
１６０　ｇをエタノール２００ｇに溶解後、水１０００
ｇに溶解させたＮａ２ＳＯ３　６３ｇ（０．５ｍｏｌ）
と混合した。７５℃にて１０時間反応し、希　ＨＣｌ水
を反応系へ加え系を中性とし、水、エタノール等の揮発
成分を留去し、２１５ｇのスルホン化グルコシド粗生成
物を得た。この粗生成物を酢酸エチル抽出にて未反応物
を除去後、水層を電気透析により脱塩し、乾燥後、デシ
ルグルコシド・エチレンオキシド３モル付加体・ヒドロ
キシプロパンスルホン酸ナトリウム１８０ｇ（白色粉末
）を得た。この化合物の水酸基価及び元素分析値は表１
０に示す通りである。

【００７９】

【表１０】

【００８０】この水酸基価及び元素分析値はデシルグル
コシド（糖縮合度＝１．２６）　のエチレンオキシド３
モル付加体について平均して　１．５個の水酸基がヒド
ロキシスルホン化されていることを示す。

【００８１】実施例１ 下記処方のシャンプー組成物を調製した。得られたシャ
ンプー組成物は、泡立ちがよいものであった。

【００８２】 　　・合成例１に準じて合成したテトラデシルグルコシ
ド　　　　硫酸エステルナトリウム（糖縮合度１．７　
）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０
．０％　　・ラウリルアミンオキシド　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　２．０％　　・カチオン化セルロース（ポ
リマーＪＲ−４００，　ＵＣＣ　社製）　　　　　　　
　　　　　　０．３％　　・メチルパラベン　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　０．２％　　・香
料　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　適量　　・色素　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　適
量　　・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　バランス。

【００８３】実施例２ 下記処方のシャンプー組成物を調製した。得られたシャ
ンプー組成物は、泡立ちがよく、クリーミーであった。

【００８４】 　　・合成例３に準じて合成したラウリルグルコシド　
　　　カルボキシメチルナトリウム塩（糖縮合度１．３
　）　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０％　　
・ポリオキシエチレン（２ＥＯ）　ラウリル硫酸ナトリ
ウム　　　　　　　　　　　　　　　５．０％　　・ヤ
シ油脂肪酸モノエタノールアミド　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．０％　　
・ヤシ油脂肪酸ジエタノールアミド　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．０
％　　・ヒドロキシエチルセルロース　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　０．３％　　・香料　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３％　　・
色素　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　適量　　・水　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　バラン
ス。

【００８５】実施例３ 下記処方の抗フケシャンプー組成物を調製した。得られ
たシャンプー組成物は、洗い上がりもサラサラした良好
なものであった。

【００８６】 　　・合成例４に準じて合成したラウリルグルコシド　
　　　スルホコハク酸ジナトリウム塩（糖縮合度１．３
　）　　　　　　　　　　　　　　　　１２．０％　　
・ヤシ油脂肪酸モノエタノールアミド　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２．０％
　　・ジンクピリチオン（Ｚｐｔ）　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　１．０％　　・ポリビニルアルコール　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　１．０％　　・尿素　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　５．０％　　・香料　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３％　
　・色素　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　適量　　・水　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　バ
ランス。

【００８７】実施例４ 下記処方のペースト状洗顔料組成物を調製した。得られ
た洗顔料組成物は、泡立ちがよく、洗浄性の良いもので
あった。

【００８８】 　　・合成例５に準じて合成したミリスチルグルコシド
　　　　リン酸エステルジナトリウム塩（糖縮合度１．
９　）　　　　　　　　　　　　　　　　２０．０％　
　・ラウリルアミンオキシド　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　２．０％　　・ポリエチレングリコール（１６０）
　ジステアレート　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　１．０％　　・グリチルリチン酸ジカリウム塩　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　０．５％　　・香料　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３
％　　・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　バランス。

【００８９】実施例５ 表１１に示す種々の組成の台所用洗剤組成物を調製し、
以下の方法によってそれぞれの起泡力及び手肌へのマイ
ルド性を評価した。尚、表中の配合成分の数字は重量％
を示す。

【００９０】（１）　起泡力試験 汚れ成分として市販のバターを洗浄剤組成物濃度１．０
　重量％の洗剤溶液（用水：硬度３．５　°ＤＨの水）
に１．０　重量％添加した時の起泡力を測定する。測定
法は直径５ｃｍのガラス円筒にバターを添加した上記洗
剤溶液を４０ｍｌ入れ、４０℃で１５分間回転攪拌を行
い、停止直後の泡高さを測定し、下記の評価基準で採点
する。

【００９１】Ａ：５０ｍｍ以上 Ｂ：２０ｍｍ以上５０ｍｍ未満 Ｃ：２０ｍｍ未満 （２）　手肌へのマイルド性の評価 表１１に示す組成物を調製した後、５重量％の洗剤溶液
を調製し、液温を３５℃に保ち、左右の手を本発明品と
対照品それぞれに２０分間、手を手首まで浸すように浸
漬後、充分に水洗する。この操作を３日間繰り返した後
の各試験につき被験者１２人に下記の基準により手肌の
状態を採点してもらった。尚、本試験においては、手荒
れは一般にきき手において顕著であるので、本発明品と
対照品が一群の試験において均等にきき手とそうでない
方の手に対応するよう留意した。つまり、一群の被験者
１２人のうち、きき手を本発明品の溶液に浸漬する人を
６人、そうでない方の手を本発明品に浸漬する人を６人
というように配分した。

【００９２】手肌の状態についての基準５点：手荒れが
殆ど認められない ４点：手荒れがほんの僅かに認められる３点：手荒れが
若干認められる ２点：手荒れがかなり認められる １点：手荒れが著しく認められる 上記基準によって採点された１２人の平均点を次の基準
で評価した。 Ａ：３．５　点以上 Ｂ：１．８　点以上３．５　点未満 Ｃ：１．８　点未満

【００９３】

【表１１】

【００９４】実施例５ 表１２に示す種々の組成の衣料用洗剤組成物を調製した
。 これらの衣料用洗剤組成物は泡立ちもよく、手洗いの際
の肌の感触も良好なものであった。尚、表中の配合成分
の数字は重量％を示す。

【００９５】

【表１２】

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　下記一般式（Ｉ）で表されるアニオン
   系グリコシド誘導体を含有することを特徴とする洗浄剤
   組成物。 Ａ（Ｇｍ）〔（Ｒ１Ｏ）ｘＢ〕ｙ　　　　　　　　　　
   　（Ｉ）〔但し式中 Ｇｍ：炭素数５〜６を有する還元糖又はその縮合体（但
   しｍ　はその縮合度を示し、平均値が１〜１０の数を示
   す）におけるすべての非グリコシド性水酸基の水素原子
   及びグリコシド性水酸基の水素原子を除いたあとに残る
   糖残基を示す。 Ａ　：Ａ　基は糖残基ＧｍとＯ−グリコシド結合で結合
   し、Ｒ２（ＯＲ３）ｚ基を示す。ここでＲ２は直鎖また
   は分岐鎖の炭素数６〜２２のアルキル基、アルケニル基
   又はアルキルフェニル基を示し、Ｒ３は炭素数２〜４の
   アルキレン基を示し、ｚ　は平均値が０〜２０の数を示
   す。 Ｒ１：炭素数２〜４のアルキレン基であり、その一方の
   末端は糖残基Ｇｍにおける非グリコシド性水酸基由来の
   酸素原子とエーテル結合し、他の末端はＢ　基とエーテ
   ル結合している。 ｘ　：（炭素数５〜６を有する還元糖又はその縮合体に
   おける非グリコシド性水酸基に対するアルキレンオキシ
   ド全付加モル数）／ｙ　を示し、０〜１０の数である。 ｙ　：炭素数５〜６を有する還元糖又はその縮合体にお
   ける非グリコシド性水酸基の数を示す。 Ｂ　：水素原子、−（ＣＨ２）ｎＣＯＯＭ基、−ＳＯ３
   Ｍ基、【化１】 ここで、Ｍ　は同一又は異なる水素原子、アルカリ金属
   、アルカリ土類金属、アンモニウム、炭素数２〜３のモ
   ノ，ジ若しくはトリアルカノールアンモニウム、炭素数
   １〜５のアルキル基置換アンモニウム、アルキル基置換
   ピリジニウム、又は塩基性アミノ酸基を示し、Ｍ’は同
   一又は異なる炭素数１〜４のアルキル基、置換基を有し
   てもよいフェニル基又は置換基を有してもよいベンジル
   基を示し、Ｄ　は−ＣＨ２ＣＨ２−基又は−ＣＨ＝ＣＨ
   −　基を示し、ｎ　は１〜３の数を示し、ｐ　は１〜８
   の数を示す。〕
2. 【請求項２】 （ａ）　前記一般式（Ｉ）で表されるアニオン系グリコ
   シド誘導体　０．１〜９０重量％（ｂ）　前記一般式（
   Ｉ）で表されるアニオン系グリコシド誘導体　　　　を
   除く界面活性剤の１種又は２種以上　　　　　　　　　
   　　　　　　　　　０．０１〜９０重量％（ｃ）　水　
   　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
   　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　
   　バランス量を含有する請求項１記載の洗浄剤組成物。