JPH0429998B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は、基板にフアイバープレート（光学
繊維束板）を用いその面上に螢光体層を形成した
螢光スクリーン及びその製造方法の改良に関す
る。 〔発明の技術的背景及び問題点〕 一般に螢光スクリーンを内蔵するイメージ管例
えばＸ線螢光増倍管は、医療用を主に工業用非破
壊検査などＸ線工業テレビを併用して広範囲に応
用されている。この種のＸ線螢光増倍管は第１図
に示すように構成され、主としてガラス、一部は
金属薄板よりなる真空外囲器１の入力側内部に入
力面２が配設されている。一方、真空外囲器１の
出力側内部には、陽極３が配設されると共に出力
面４が設けられ、更に真空外囲器１内部の側壁に
沿つて集束電極５が配設されている。前記入力面
２は球面状のAlからなる基板６の出力側（凹面
側）にC_SＩ／Naの入力螢光体層７が形成され、
この入力螢光体層７の上に更に光電面８が形成さ
れている。又、出力面４は基板９に出力螢光体層
１０を形成してなつている。そして動作時には、
Ｘ線（図示せず）は被写体（図示せず）を通過す
る際、被写体のＸ線透過率によつて変調されて、
入力螢光体層７を励起する。入力螢光体層７の励
起光は入力螢光体層７の内面に形成されている光
電面８にエネルギーを与え、光電面８より電子を
放出させる。この電子は陽極３、集束電極５で構
成される電子レンズ作用により出力螢光体層１０
上に加速集束し、出力螢光体層１０を発光させ
る。このような過程で電子の増倍が行なわれ、入
力螢光体層７で得られる光像より格段に明るい像
が出力螢光体層１０に得られ、この光像により被
写体の観察を容易に行なうことができる。 ところで、上記のようなＸ線螢光増倍管の出力
螢光体層１０の保持基板９としてフアイバープレ
ートを用いる例は、下記のように幾つか開示され
ている。先ず、特開昭53−24770号公報に開示さ
れたように、フアイバープレートに出力螢光体層
を形成してコントラストを改善する提案がある。
この提案によると、第２図に示すようにフアイバ
ープレート１１は芯材１０１、被覆材１０２及び
吸収体１０３からなる単繊維が多数集つて構成さ
れ、芯材１０１、被覆材１０２の屈折率の相違を
利用して、出力螢光体層の発光を制限されたある
範囲内にて反射を繰り返し光出力面１０５に取出
し、フアイバープレート１１内の側方光散乱を防
止することにより、コントラスト向上を図るもの
である。 ここで、フアイバープレート１１の芯材１０１
の屈折率をn₁、被覆材１０２の屈折率をn₂とし、
真空の屈折率をn₀とする。又、フアイバープレー
ト１１への光入射角をθ₀とすると、θ₀は次の式で
表わされる。 n₀sinθ₀＝√₁ ²−₂ ²（一般にn₁＞n₂） 更に、芯材１０１と被覆材１０２の境界面に達
した光の入射角をφ₁とする。このような関係式
の中で、フアイバープレート１１に入射した光が
光入射面１０４を経て芯材１０１と被覆材１０２
の境界面で全反射角（臨界角）φ_cを満たすように
入射角φ₁がなつた場合、フアイバープレート１
１内の光は全反射をしながらフアイバープレート
１１の単繊維内を伝幡し、反射面である光出力面
１０５に伝わる。 又、フアイバープレート１１には各単繊維の周
囲に吸収体１０３を設け、隣接する繊維内に光の
入射するのを防止する種類のものが多い。そし
て、第３図ａに示すように、フアイバープレート
１１上に螢光体粒子２０１とメタルバツク層２０
２からなる出力螢光体層１０を形成した場合の光
の伝達は、上記の説明のような理論的な考察と若
干相違し、光入射面１０４即ち螢光体層１０との
境界面での光学的な接触度合によつて、全反射角
φ_cを満たさない光がフアイバープレート１１内に
入射することがあり得る。 このような光は同図に示すように、光が入射し
た単繊維内にはとどまらず、被覆材１０２に侵入
し、光強度が強い場合には更に吸収体１０３をも
突き抜け相接する単繊維内にも入射してしまう。
このとき、フアイバープレート１１は本来の原理
的な機能を充分発揮できず、光出力面１０５にお
ける出力光像は鮮鋭度の悪い低コントラストの像
となる。 更に改良したフアイバープレートに螢光体層を
形成する他の提案として実公昭40−19855号公報、
USP4264408号明細書に開示された技術がある。
これらは第３図ｂに示すように、光入射面１０４
に凹み２０３を設け、この凹み２０３中に螢光体
粒子２０１を埋め込むという内容であり、これは
螢光体粒子２０１とフアイバープレート特に芯材
１０１、被覆材１０２の接触度が大きいため、コ
ントラストが悪い。 まとめると、上記提案はいずれも螢光体層１０
の発光をフアイバープレート１１内に入射させる
ために、特に光入射面１０４の形状や光入射時の
入射角度θ₀に注目し、できるだけ単繊維内に入射
した光は、その単繊維内に相当する光出力面１０
５から光を取出し、出力光像を得ようとするもの
である。 ところがフアイバープレート１１は、第２図、
第３図に示されているように、多数の単繊維から
なり、各単繊維は芯材１０１、被覆材１０２及び
吸収体１０３から形成されており、ガラス系の場
合、添加成分の配合によつて屈折率を変えたり着
色したりしている。即ち、第３図から明らかなよ
うにフアイバープレート１１への入射光は、単繊
維内のみの反射によつて光出力面１０５に到達す
るのではなく、隣接する複数の単繊維内にも入射
することがある。従つて、１つの単繊維から取出
される光は、その単繊維内のみを通過してきた行
路の短い強い光と、他の単繊維内から侵入してき
た行路の長い微弱な光の和として考えることがで
きる。このことは第４図ａ，ｂに示すように、光
の進路を矢印の線で表わすと、フアイバープレー
ト１１が完全な横方向への光散乱を防止すること
が難しく、特に１mm以下の面欠点の非常に少ない
フアイバープレートを実用化する際には（t₁≦１
mm、t₂＞１mm）、フアイバープレート１１内部の
全反射回数が少ないまま、光強度の大きい光が他
の単繊維内に侵入し、その部分のバツクグランド
光を上げてしまう。又、その光出力面１０５にお
ける距離は短いため（d₁＜d₂）、フアイバープレ
ート１１全体にその現象が表われ、フアイバープ
レート１１を使用しているにも拘らず、低コント
ラストの出力光像となつてしまう欠点がある。フ
アイバープレートの芯材１０１は１つの画素を構
成するが、今までは芯材１０１の光出力面１０５
から放射される光の内容を説明してきたが、芯材
１０１とそれ以外の部分の光出力面１０５から放
射される光を比較してみると、芯材１０１画上か
らは明るくコントラストの良い像が得られ、それ
以外の面上からは暗くコントラストの悪い散乱光
が放射される。フアイバープレート１１の板厚が
１mm以下となると後者の面上からは明るくコント
ラストの悪い散乱光が放射され、芯材１０１面上
から得られる像の周縁部を取り囲み、相互の影響
によつてここでも低コントラストの出力光像とな
つてしまう。 〔発明の目的〕 この発明の目的は、螢光体層を形成する基板に
改良されたフアイバープレートを用いて、コント
ラストの優れた高品位の画像が得られる螢光スク
リーン及びその製造方法を提供することである。 〔発明の概要〕 この発明は、フアイバープレートの少なくとも
光出力面に、少なくとも芯材部の大部分の面を除
いて光遮断吸収膜を形成し、少なくとも芯材部分
以外から光が入射又は出力されることのないよう
にしてコントラストを大幅に向上させた螢光スク
リーン及びその製造方法である。 〔発明の実施例〕 出力螢光体層を有する螢光スクリーンの基板と
してフアイバープレートを使用し、前述の如きイ
メージ管に適用する場合には、いずれの例におい
てもコントラストの向上をそれぞれの構成の差に
よるが主目的としている。しかし一般に、フアイ
バープレートには製造上に起因する光学的な欠陥
が存在し、例えば黒点、繊維の失透、繊維束の配
列の乱れ等があり、画像の面欠点となる。この光
学的欠陥は、フアイバープレートを薄く研磨する
ことにより改善され、薄くなればなるほどフアイ
バープレートの光透過率は向上し、螢光体層の発
光を有効に生かし高輝度な画像が得られる２つの
利点がある。その反面、最大の目的であるコント
ラストの向上は前述の如く望めず、高価なフアイ
バープレートを用いた意味を失なつてしまう。 そこで、この発明の螢光スクリーンは第５図ａ
に示すように構成され、従来例と同一箇所は同一
符号を付すことにすると、フアイバープレート１
１の光出力面１０５の表面には、少なくとも芯材
１０１の表面を除いて、光を通過させることのな
い光遮断吸収膜３０１が形成されている。この光
遮断吸収膜３０１は、通常金属の蒸着によりその
膜厚が100Å〜1μｍの範囲に形成されるため、用
いた材料の固有な色を呈している。より効果的に
は、光遮断吸収膜３０１が光吸収膜となる黒色に
近い方が、この部位に到達した微弱な光は全て吸
収されるので、光出力面１０５にて反射されるこ
とがなくなり、コントラスト低下を引き起さな
い。このように光遮断吸収膜３０１は、形成する
材料の色に応じて光遮断と光吸収との両機能を有
し、被覆材１０２又は吸収体１０３の光出力面１
０５より、この面における光のフアイバープレー
ト１１内面への戻り反射及び外部への放射をほぼ
完全に近く防ぐことができる。この他に、金属蒸
着膜から光遮断吸収膜３０１が形成される場合、
金属色の反射率の高い膜ともなりうるが、光反射
と光遮断の機能を有することになり、これは光出
力面１０５での戻り反射の低減に役立たないので
なるべく避けた方が良い。 この事実は、フアイバープレート１１の単繊維
について輝度に関して検討してみると、単繊維上
の光出力面１０５に相当する面から外部へ放射さ
れる光は、芯材１０１の光出力面１０５からのみ
であるため、光の量即ちフアイバープレート１１
を通過した螢光体の発光量、輝度はほぼ被覆材１
０２の部分だけ低下することになる。単に光出力
面１０５上の表面積を同心柱状の単繊維として比
較すると、芯材１０１の直径を10μｍ、被覆材１
０２の直径を13μｍとして、芯材１０１以外に光
遮断吸収膜３０１を設けると、その表面積の差は
54.2μm²であり、光遮断吸収膜３０１を設けない
場合より40.8％減ることになる。これは、フアイ
バープレート１１内の光が、外部へ放射できうる
面積が、この例ではほぼ６割になつてしまうこと
を示している。但し、被覆材１０２の周囲には吸
収体１０３があるため、フアイバープレート１１
内の光の均一性は仮定できない故に６割より若干
増加することは考えられることはあるにせよ、外
部へ取出し得る面積が、光遮断吸収膜３０１を設
けることによつて減少するので、結果的に輝度低
下をもたらす。この輝度低下を補償する方法とし
ては、光遮断吸収膜３０１を設けるとフアイバー
プレート１１自体の板厚を薄くすることが可能と
なり、フアイバープレート１１素材の光透過率を
上昇させる方法がある。尚、フアイバープレート
１１の素材分析例を示すと下表のようになり、こ
の他、添加物を入れて着色している。 【表】 なお、芯材１０１と被覆材１０２とからなるフ
アイバープレートを用いる場合にも成分の違いに
よる屈折率の相違があればフアイバープレートの
機能上、差支えないので吸収体１０３がない場合
もしくは点在するフアイバープレートであつても
少なくとも芯材上を除いて光遮断吸収膜を形成す
ることができる。 又、他の実施例としては、第５図ｂに示すよう
に、光遮断吸収膜３０１を光入射面１０４上の少
なくとも芯材１０１の表面部を除いたフアイバー
プレート１１の表面上にも形成することができ
る。この場合、光遮断吸収膜３０１が光入射面１
０４上にも形成されるため、この部分に到達する
螢光体層１０からの発光は吸収体１０３には全く
入射せず、被覆材１０２にも殆ど入射しない。即
ち、両者からフアイバープレート１１内に入射す
る光は遮断され、芯材１０１に入射するのを防止
できる。そして、フアイバープレート１１内にて
拡がる光は、前述の如く光出力面１０５上の光遮
断吸収膜３０１によつて微弱な光は外部へ放射さ
れなくなる。 又、フアイバープレート１１上に形成される光
遮断吸収膜３０１は上記の２つの実施例の他に、
フアイバープレート１１の光入射面１０４上のみ
に形成してもよいが、入射する螢光体層１０の光
を少なくとも芯材１０１に限るもので、フアイバ
ープレート１１内を拡がる光のうち、単繊維内の
みの光と他の単繊維内からの光を遮断吸収するこ
とができない不利がある。しかし、光遮断吸収膜
３０１を形成しない従来のフアイバープレートを
用いる螢光スクリーンに対して、コントラスト向
上の効果がある。 尚、光入射面１０４上に形成される光遮断吸収
膜３０１は、螢光体層１０が形成される面ともな
り得るので、前述と同様のアルミニウム、ニツケ
ル、クロム等の安定な金属の蒸着膜が好ましく、
その膜厚は螢光体層１０を形成するのに支障とな
らない範囲であり、且つ光遮断吸収の効果を有す
る膜厚以上が必要であり、200Å〜1μｍが最適で
ある。反面、金属蒸着膜の他に、光遮断吸収の機
能を有し、且つ螢光体層形成の主に化学薬品、熱
処理に耐え得る材料を用いて上記螢光スクリーン
を形成できることは言う迄もない。 さて、光遮断吸収膜３０１の形成は、次に記述
する各工程の製造方法により行なわれる。 先ず、フアイバープレート１１の表面を清浄
にし、光出力面１０５となる片面に光感応樹脂
の薄層を全面均一に塗布する。 次に、上記光感応樹脂を塗布した面の反対の
面から、タングステンランプ光等の光を照射し
てフアイバープレート１１の芯材１０１の上面
部に位置する光感応樹脂を光化学的に変化させ
る。このとき、樹脂の種類、厚さ、塗膜条件、
更には照射光の光強度等の条件によつて、芯材
１０１に近い光透過率を有する被覆材１０２の
上面部に位置する樹脂にも相当量の照射光が到
達し、樹脂の光化学的変化を生ぜしめる可能性
がある。ここにあげた複数の条件を厳しく選択
することによつて、次の樹脂の溶解の工程で、
芯材１０１同様固着しないようにすることがで
きる。 次に、フアイバープレート１１内を通過した
照射光によつて、感光された塗膜樹脂以外の部
分（吸収体１０３上、被覆材１０２上の殆ど）
の樹脂を溶剤によつて溶出させ、フアイバープ
レート１１の光出力面１０５を表面に露出させ
る。 次に、この光出力面１０５上に、真空蒸着法
によつてアルミニウム、ニツケル、クロム等の
安定金属を1μｍを限度として膜形成し、光遮
断吸収膜３０１とする。 次に、芯材１０１、被覆材１０２の一部の上
面に固着している樹脂を全て取除く。 次に、上記光遮断吸収膜３０１が形成された
フアイバープレート１１の反対面上に、螢光体
粒子２０１を懸濁液中の沈降被着や強制遠心法
被着によつて、所望の厚さに形成し、最後にメ
タルバツク層２０２を形成して螢光体層１０と
する。 以上により、光出力面１０５上に光遮断吸収膜
３０１を有する螢光スクリーンが得られるが、前
述の他の実施例に示されているように、フアイバ
ープレート１１の両面あるいは光入射面１０４上
に同様の光遮断吸収膜３０１を設ける場合には、
上記製造方法の工程〜の組合せ乃至は小変更
によつて、前述の如き光遮断吸収膜３０１を有す
る螢光スクリーンを得ることができる。 尚、上記実施例では光遮断吸収膜３０１は、軽
金属の蒸着膜としたが、光の吸収効果を高めるた
めに、黒化蒸着法を採用しても良い。又、上記
の工程において樹脂と一緒に溶け出すものでな
く、且つイメージ管の管内材料として適するもの
であれば、既述の如く他の材料例えば金属酸化
物、顔料を用いて光遮断吸収膜３０１の機能を有
する製造方法を採用できることは言う迄もない。 この他に、光遮断吸収膜３０１が第５図ａ，ｂ
に示すように、少なくとも芯材１０１を除く面上
を覆つて形成される構造がコントラスト向上に最
も良いが、ホトエツチングプロセスの一部を用い
る製造上の問題即ち光感応樹脂のミクロン単位で
の解像力の点から、第６図に示すように被覆材１
０２の芯材１０１側に一部光遮断吸収膜３０１が
欠ける場合も発生する。これは、第５図の場合よ
りコントラストに対する寄与は低下するので、高
度な微細加工技術を用いて、極力、この発生を避
けるようにしている。しかしながら、フアイバー
プレート１１にはその製造技術に起因する欠陥が
あること、この発明のようにイメージ管の出力面
として用いる場合、出力画像の径は20mmとフアイ
バープレートの単繊維の５〜15μｍに比較して広
大であるため、やむを得ず部分的に欠けることが
ある。又、逆に上記の工程で樹脂の光化学変化
した部分を完全に除去できない場合には、結果と
して光遮断吸収膜３０１は芯材１０１の面上の周
縁部に形成されることもあり得る。このような製
造上のバラツキの発生は避けることが望ましい
が、発明者らの実験によると、確率的には小さい
が、これらの問題は発生することが判り、これら
の謂わば光遮断吸収膜３０１とフアイバープレー
ト１１の位置ずれを有するフアイバープレート１
１上に螢光体層１０を形成し、そのコントラスト
特性を比較したところ、性能面の大きな相異は見
られなかつた。 他の製造法としては、芯材１０１とそれ以外を
区別するマスク材を用いて芯材１０１面以外に光
遮断吸収膜３０１を形成することができる。この
場合、芯材１０１個々は独立しているためマスク
材は芯材１０１を覆う部分とそれを連結する部分
とからなり、フアイバープレートに密着させて前
述の金属の蒸着膜形成によつて光遮断吸収膜３０
１を形成した後、マスク材を取り除けば良く作業
が簡単である。 既に公知例において記述した如く、フアイバー
プレート１１に凹み２０３を形成して螢光スクリ
ーンを得る技術を紹介したが、基板９と螢光体層
１０の間に隙間を形成し、螢光体層１０の発光を
ほぼ完全拡散面として基板９内に入射させるもの
で、この発明では上述の如く加工されたフアイバ
ープレートを用いても実用に供することができ
る。 又、イメージ管では、第１図に示されているよ
うに、フアイバープレートを真空外囲器１内に配
設する構成と、第７図に示すようにフアイバープ
レートを真空外囲器の一部として用いる構造があ
るが、これは同時に螢光スクリーンを構成してい
るので、この発明の光遮断吸収膜３０１を第５図
又は第６図の如く形成できることが判る。 〔発明の効果〕 この発明によれば、フアイバープレート固有の
性能を一層発揮させることができ、これによつて
コントラスト特性が格段と向上するので、高品位
の画像を提供できる螢光スクリーンが得られる。 この優れたコントラスト特性が得られる理由
を、フアイバープレート１１内の光伝播図を用
い、第５図ａではａ，ｂ，ｃ，ｄ，ｅの５方向の
光、第５図ｂではａ，ｂ，ｃ，ｆの４方向の光、
第６図ではａ，ｂ，ｃ，ｄの４方向の光について
説明する。先ず、ａの方向の光は、芯材１０１を
通過する。ｂの方向をもつ光は、単繊維の中で全
反射を繰り返しながら伝播して、光出力面１０５
から取出される。ｃ，ｅの方向の光は、被覆材１
０２、吸収体１０３を通過して隣接する単繊維内
に光は侵入し、コントラスト低下の原因となる
が、光出力面１０５に達したときに光遮断吸収膜
３０１があるために、再びフアイバープレート１
１内へ、あるいは光出力面１０５から外へ光が進
行するのを防止できる。次にｄの方向の光は、螢
光体粒子２０１からの発光がフアイバープレート
１１内に入射したときに、現在のフアイバープレ
ートの製造技術では完全な吸収体１０３を設ける
ことが難しいため、やむを得ず発生する光出力面
１０５での反射光であるが、フアイバープレート
１１を薄くしたり、光遮断吸収膜３０１を芯材１
０１へ拡げることにより、この方向の長行路を経
た光損失した微弱な光の量を低減し、コントラス
ト低下を防止することができる。最後にｆの方向
をもつ螢光体層の発光は第６図のｄの方向の光の
如き吸収体１０３又は被覆材１０２に入射し、そ
の素材による光吸収のための光強度は弱まるが、
主たる光伝播部となる芯材１０１内の光と重なり
合い、コントラスト低下の原因となるため、光遮
断吸収膜３０１によつて遮断吸収されるので、こ
のような螢光スクリーンはより鮮鋭な画像を提供
するのに寄与できる。 又、この発明では、光遮断吸収膜３０１をフア
イバープレート１１の光出力面１０５上に設けて
いるので、被覆材１０２、吸収体１０３の光出力
面１０５からのフアイバープレート１１外への光
の放射を遮断することと同時に、フアイバープレ
ート内での光の反射を防ぐ光の吸収をすることの
２つの効果がある。これは、フアイバープレート
１１の固有の機能であるコントラスト特性をより
一層優れたものとすると共に、フアイバープレー
ト１１の有する面欠点を減らし、良好な画像を明
るく得るために１mm以下の薄板化も実施すること
ができる。更に、光遮断吸収膜３０１を設けるこ
とにより生ずる軽度の輝度低下は、イメージ管の
輝度構成要素である入力面、光電面、出力螢光体
の改良技術により補完することができる。 従つて、この発明の技術を用いることにより、
従来にはない極めてコントラスト特性の優れた螢
光スクリーンを実用に供することが可能となり、
医療用に使用されるＸ線螢光増倍管の画像の診断
能の進歩に大きく貢献し得る。 具体的な効果を、螢光スクリーンのコントラス
ト測定法によつて比較すると、下表の通り大きな
効果が得られた。即ち、板厚0.5mmのフアイバー
プレート１１を用い、螢光体層１０の発光径を20
mmとし、全面均一に電子ビームによつて螢光体粒
子２０１を発光させる。発光径の中心部に面積比
で10％（直径約6.3mm）の電子ビーム遮蔽板を密
着させる。そして、遮蔽板を置かないときと、置
いたときの輝度比でコントラストを定義する。 【表】 尚、上記実施例ではイメージ管用出力面につい
て述べたが、この発明は出力面に限定されるもの
ではなく、フアイバープレートの面上に螢光体層
を形成する構造のスクリーンに広く適用できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は一般的なイメージ管（Ｘ線螢光増倍
管）を示す概略構成図、第２図はフアイバープレ
ートの光伝達状態を示す断面図、第３図ａ，ｂは
従来の螢光スクリーンの２例を示す断面図、第４
図ａ，ｂは厚さの異なるフアイバープレートにお
ける光伝達の範囲を説明する断面図、第５図ａ，
ｂはこの発明の一実施例及び他の実施例に係る螢
光スクリーンを示す断面図、第６図及び第７図は
この発明の別の他の実施例を示す断面図である。 １０……螢光体層、１１……フアイバープレー
ト、１０１……芯材、１０２……被覆材、１０３
……吸収体、１０４……光入射面、１０５……光
出力面、２０１……螢光体粒子、２０２……メタ
ルバツク層、２０３……凹み、３０１……光遮断
吸収膜。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 単繊維が芯材、被覆材及び吸収体からなり、
   一面が光入射面にして他面が光出力面であるフア
   イバープレートの上記光入射面に螢光体層を形成
   してなる螢光スクリーンにおいて、 上記フアイバープレートの上記光入射面と光出
   力面のうち少なくとも光出力面に、上記芯材部の
   大部分を除いて光遮断吸収膜を形成したことを特
   徴とする螢光スクリーン。 ２ 上記芯材部分の直径が15μｍ以下であり、上
   記光遮断吸収膜の厚さが1μｍ以下である特許請
   求の範囲第１項記載の螢光スクリーン。 ３ 少なくとも下記工程を具備することを特徴と
   する螢光スクリーンの製造方法。 芯材、被覆材及び吸収体からなる単繊維を多
   数配列して構成されたフアイバープレートの一
   面に光感応樹脂を塗膜する。 次に、上記フアイバープレートの他面から光
   を照射し、芯材及び被覆材の一部分以外に塗膜
   された光感応樹脂を光化学的に変化させる。 次に、感光された塗膜樹脂以外を溶出させ、
   その溶出部に相当するフアイバープレート面上
   に光遮断吸収膜を形成した後、残部の樹脂を全
   て取除く。 次に、フアイバープレートの一面（光遮断吸
   収膜が形成されていない面）に螢光体層を形成
   する。 ４ 上記工程〜と同様な工程により、上記フ
   アイバープレートの両面に光遮断吸収膜を形成す
   る特許請求の範囲第３項記載の螢光スクリーンの
   製造方法。