JPH04221747A - Method and device for inspecting through-hole - Google Patents
Method and device for inspecting through-holeInfo
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Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、不透明基材上に半透明
層が積層されこの半透明層にスルーホールが形成された
試料について、スルーホールを検査する方法及び装置に
関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and apparatus for inspecting through holes in a sample in which a semitransparent layer is laminated on an opaque substrate and through holes are formed in the semitransparent layer.
【0002】0002
【従来の技術】図4は従来のスルーホール検査原理を示
す。2. Description of the Related Art FIG. 4 shows a conventional through-hole inspection principle.
【0003】試料10は、半透明基板12に垂直に、層
間の配線パターン16を接続するためのスルーホール1
4A、14Bが設けられている。スルーホール14A、
14Bの壁面に形成された孔等の欠陥を検出するために
、従来では、検査対象のスルーホール14A、14Bに
相対して遮光板18を配置し、試料10に対し垂直上方
向に照明光20を投射し、スルーホール14A、14B
から漏光22が出てくるかどうかを調べていた。すなわ
ち、スルーホール14Aのように欠陥がない場合には、
遮光板18で照明光20が遮光されてスルーホール14
A内には光が入射しないが、スルーホール14Bのよう
に孔等の破れ欠陥がある場合には、半透明基板12内に
滲み込んだ散乱光がこの欠陥部を通ってスルーホール1
4B内に入射し、スルーホール14B内から上方に漏光
22が射出されて不図示の光検出器で検出される。The sample 10 has a through hole 1 perpendicular to a semitransparent substrate 12 for connecting an interlayer wiring pattern 16.
4A and 14B are provided. Through hole 14A,
Conventionally, in order to detect defects such as holes formed in the wall surface of the sample 14B, a light shielding plate 18 is placed opposite the through holes 14A and 14B to be inspected, and illumination light 20 is directed upward perpendicularly to the sample 10. through holes 14A and 14B.
I was investigating whether leakage light 22 would come out from the. That is, if there is no defect like through hole 14A,
The illumination light 20 is blocked by the light shielding plate 18 and the through hole 14
Although no light enters the inside of the through hole 1, if there is a tear defect such as a hole as in the through hole 14B, the scattered light seeping into the semitransparent substrate 12 passes through this defect and enters the through hole 1.
4B, leaked light 22 is emitted upward from the through hole 14B and detected by a photodetector (not shown).
【0004】0004
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような透
過法によりスルーホールの欠陥を検出していたので、半
透明基板12が不透明なセラミック等の基板上に積層さ
れていた場合には、スルーホールの検査を行うことがで
きなかった。[Problems to be Solved by the Invention] However, since through-hole defects have been detected using such a transmission method, if the semi-transparent substrate 12 is laminated on an opaque substrate such as ceramic, through-hole defects cannot be detected. It was not possible to inspect the hall.
【0005】本発明の目的は、このような問題点に鑑み
、不透明基材に半透明層が積層されていてもスルーホー
ルの破れ欠陥を検査することが可能なスルーホール検査
方法及び装置を提供することにある。SUMMARY OF THE INVENTION In view of these problems, it is an object of the present invention to provide a through-hole inspection method and apparatus that can inspect for tear defects in through-holes even when a translucent layer is laminated on an opaque base material. It's about doing.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段及びその作用】図1は、本
発明に係るスルーホール検査原理を示す。Means for Solving the Problems and Their Effects FIG. 1 shows the through-hole inspection principle according to the present invention.
【0007】試料10Aは、不透明基材24上に半透明
層122が積層され、内壁面が金属のスルーホール14
Cが半透明層122に形成されている。本方法発明では
、このような試料10Aに対し、該内壁面に照明光21
を照射し、スルーホール14C付近の半透明層122か
らの漏光22Aを検出することにより、スルーホール1
4Cの破れ欠陥を検出する。Sample 10A has a through hole 14 in which a translucent layer 122 is laminated on an opaque base material 24, and the inner wall surface is metal.
C is formed on the semi-transparent layer 122. In this method invention, illumination light 21 is applied to the inner wall surface of such a sample 10A.
The through hole 1 is detected by irradiating the through hole 1 with
Detects tear defects of 4C.
【0008】スルーホール14Cの内壁に孔等の破れ欠
陥があると、この欠陥部を通って半透明層122内に光
が入り込み、半透明層122内で拡散して、半透明層1
22の表面から漏光22Aが出てくる。したがって、本
方法発明によれば、不透明基材24に半透明層122が
積層されていても、スルーホールの破れ欠陥を検査する
ことができる。If there is a tear or other defect in the inner wall of the through-hole 14C, light enters the semi-transparent layer 122 through this defect, diffuses within the semi-transparent layer 122, and causes the light to pass through the defect.
Light leakage 22A comes out from the surface of 22. Therefore, according to the present method invention, even if the translucent layer 122 is laminated on the opaque base material 24, it is possible to inspect tear defects in through holes.
【0009】スルーホール14Cの欠陥部からの漏光2
2Aは微弱光であるが、半透明層122が蛍光物質であ
る場合に、照明光21の反射光を遮断し半透明層122
からの蛍光のみを透過させるフィルター54を通して、
漏光22Aを検出すれば、SN比が向上し、スルーホー
ル14Cの欠陥を正確に検出することができる。Light leakage from defective part of through hole 14C 2
2A is weak light, but when the semitransparent layer 122 is made of fluorescent material, it blocks the reflected light of the illumination light 21 and the semitransparent layer 122
Through a filter 54 that transmits only fluorescence from
Detecting the light leakage 22A improves the signal-to-noise ratio and enables accurate detection of defects in the through-holes 14C.
【0010】次に、本装置発明を、実施例図面を参照し
て説明する。Next, the present invention will be explained with reference to the drawings.
【0011】本装置発明では、図2に示す如く、光源、
例えばレーザ28と、光源28からの入射光束を透過光
束と反射光束とに分割する半透鏡36と、上記のような
試料10Aに対し該内壁面を照明する対物光学素子、例
えば対物レンズ34と、光検出器、例えば光電子増倍管
42と、試料10Aからの光が対物光学素子34を通し
て半透鏡36で反射または透過したものを光検出器42
の受光面に集光させる集光手段、例えば結像レンズ38
又は対物レンズ34と、光検出器42と半透鏡36との
間の光路中に配置され、試料10Aからの正反射光を遮
光してスルーホール14C付近の半透明層122からの
漏光22Aを通す部分遮光体、例えば遮光板40とを備
えている。In the present device invention, as shown in FIG.
For example, a laser 28, a semi-transparent mirror 36 that divides the incident light beam from the light source 28 into a transmitted light beam and a reflected light beam, and an objective optical element such as an objective lens 34 that illuminates the inner wall surface of the sample 10A as described above. A photodetector, for example, a photomultiplier tube 42, and a photodetector 42 detecting light from the sample 10A reflected or transmitted by a semi-transparent mirror 36 through an objective optical element 34.
A condensing means, for example, an imaging lens 38, condenses the light onto the light receiving surface of the
Alternatively, it is placed in the optical path between the objective lens 34, the photodetector 42, and the semi-transparent mirror 36, and blocks the specularly reflected light from the sample 10A and allows the leaked light 22A from the semi-transparent layer 122 near the through hole 14C to pass through. A partial light shielding body, for example, a light shielding plate 40 is provided.
【0012】この装置発明の作用は、上記方法発明の作
用と同一である。The operation of this device invention is the same as that of the method invention described above.
【0013】半透明層122が蛍光物質である場合には
、前記部分遮光体40の代りに、図3に示すような、光
検出器42と半透鏡36との間の光路中に配置され試料
10Aからの正反射光を遮断しスルーホール14C付近
の半透明層122からの漏光(蛍光)22を透過させる
フィルター54を用いることができる。When the semi-transparent layer 122 is made of a fluorescent substance, it is placed in the optical path between the photodetector 42 and the semi-transparent mirror 36, as shown in FIG. A filter 54 can be used that blocks specularly reflected light from 10A and transmits leaked light (fluorescence) 22 from semi-transparent layer 122 near through hole 14C.
【0014】また、部分遮光体40とフィルター54の
両方を用いれば、例え漏光22A以外の迷光が部分遮光
体40を通っても、フィルター54で遮光されて光検出
器42に到達することができないので、より正確にスル
ーホール14Cの破れ欠陥を検出することができる。Furthermore, if both the partial light shield 40 and the filter 54 are used, even if stray light other than the leaked light 22A passes through the partial light shield 40, it will be blocked by the filter 54 and will not reach the photodetector 42. Therefore, the tear defect of the through hole 14C can be detected more accurately.
【0015】[0015]
【実施例】以下、図面に基づいて本発明の実施例を説明
する。Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be explained based on the drawings.
【0016】(1)第1実施例 図2は第1実施例のスルーホール検査装置を示す。(1) First embodiment FIG. 2 shows a through-hole inspection device according to the first embodiment.
【0017】試料10Aは多層プリント配線基板であり
、セラミック等の不透明基材24上に、高密度配線が可
能なポリイミド樹脂やエポキシ樹脂等の第1半透明層1
21及び第2半透明層122が積層されている。この第
1半透明層121と第2半透明層122との間に配設さ
れた配線パターン16と、第2半透明層122の表面に
配設された配線パターンとを接続するために、直径30
〜100μm程度の孔の壁面を鍍金したスルーホール1
4Cが、第2半透明層122に設けられている。第2半
透明層122の表面には、スルーホール14Cと連続し
たリング状のスルーホールランド15が被着されている
。Sample 10A is a multilayer printed wiring board, in which a first semitransparent layer 1 made of polyimide resin, epoxy resin, etc., which allows high-density wiring, is formed on an opaque base material 24 made of ceramic or the like.
21 and a second semi-transparent layer 122 are laminated. A diameter of 30
Through hole 1 with plated hole wall of ~100μm
4C is provided on the second semi-transparent layer 122. A ring-shaped through-hole land 15 continuous with the through-hole 14C is attached to the surface of the second semi-transparent layer 122.
【0018】このような試料10Aは、その全てのスル
ーホール14Cを検査するために、走査用のX−Yステ
ージ26上に載置されている。The sample 10A is placed on a scanning X-Y stage 26 in order to inspect all of its through holes 14C.
【0019】試料10Aの上方には、スルーホール検査
装置の光学系が固定配置されている。すなわち、上方か
ら試料10Aに向かって、レーザ28、ビームエクスパ
ンダ30、部分遮光板32及び対物レンズ34が、これ
らの光軸を同心にし、かつ、試料10Aに垂直にして配
置されている。部分遮光板32と対物レンズ34との間
には、この光軸と45度傾斜させて半透鏡36が配置さ
れている。半透鏡36の側方には、結像レンズ38、部
分遮光板40及び光電子増倍管42が、これらの光軸を
同心にして配置されている。An optical system of a through-hole inspection device is fixedly arranged above the sample 10A. That is, the laser 28, beam expander 30, partial light shielding plate 32, and objective lens 34 are arranged from above toward the sample 10A with their optical axes concentric and perpendicular to the sample 10A. A semi-transparent mirror 36 is arranged between the partial light-shielding plate 32 and the objective lens 34 so as to be inclined at 45 degrees with respect to the optical axis. On the side of the semi-transparent mirror 36, an imaging lens 38, a partial light shielding plate 40, and a photomultiplier tube 42 are arranged with their optical axes concentric.
【0020】対物レンズ34の焦点位置は、照明光21
の断面直径がスルーホールランド15の位置でスルーホ
ール14Cの内径に等しくなるように、試料10Aの上
方位置に設定されている。部分遮光板32は、その中央
部に円形の黒色遮光部が形成されている。スルーホール
14Cの底部(スルーホール14Cで囲まれた配線パタ
ーン16の部分)全体が影になるように、部分遮光板3
2の遮光部直径が選定されている。また、部分遮光板4
0は、結像レンズ38の焦点位置に配置されている。部
分遮光板40は、その中央部に円形の黒色遮光部が形成
されている。スルーホール14Cの内径や高さのばらつ
きにより前記条件が満たされないために生ずる配線パタ
ーン16上からの強い正反射光を確実に遮光するために
、部分遮光板40の遮光部直径は、部分遮光板40上に
おけるスルーホールランド15の像の直径に等しくなる
ように選定されている。The focal position of the objective lens 34 is the illumination light 21
is set above the sample 10A so that the cross-sectional diameter of the through-hole land 15 is equal to the inner diameter of the through-hole 14C. The partial light shielding plate 32 has a circular black light shielding portion formed in its center. Partial light shielding plate 3 is placed so that the entire bottom of through hole 14C (the portion of wiring pattern 16 surrounded by through hole 14C) is in the shadow.
A light shielding portion diameter of 2 is selected. In addition, the partial light shielding plate 4
0 is located at the focal position of the imaging lens 38. The partial light shielding plate 40 has a circular black light shielding portion formed in its center. In order to reliably block the strong specular reflection light from the wiring pattern 16 that occurs when the above conditions are not satisfied due to variations in the inner diameter and height of the through holes 14C, the diameter of the light shielding part of the partial light shielding plate 40 is set to the diameter of the light shielding part of the partial light shielding plate 40. It is selected to be equal to the diameter of the image of the through-hole land 15 on the through-hole land 40.
【0021】上記構成において、レーザ28からレーザ
ビームを射出すると、これがビームエクスパンダ30で
拡径され、部分遮光板32によりその中央部が遮光され
て、横断面がドーナッツ状の光束となる。この光束は、
対物レンズ34を通って、試料10Aの上方位置で収束
した後、発散して、スルーホール14Cの内壁全体を照
明する。部分遮光板32を配置しているので、スルーホ
ール14Cの底部には殆ど光が当たらない。In the above configuration, when a laser beam is emitted from the laser 28, the diameter of the laser beam is expanded by the beam expander 30, and its central portion is blocked by the partial light shielding plate 32, resulting in a light beam having a donut-shaped cross section. This luminous flux is
The light passes through the objective lens 34, converges at a position above the sample 10A, and then diverges to illuminate the entire inner wall of the through hole 14C. Since the partial light shielding plate 32 is arranged, almost no light hits the bottom of the through hole 14C.
【0022】スルーホール14Cの内壁に孔等の破れ欠
陥があると、この欠陥部を通って第2半透明層122内
に光が入り込み、第2半透明層122内で拡散して第2
半透明層122の表面から漏光22Aが出てくる。この
漏光22Aは、対物レンズ34を通り、半透鏡36で反
射され、結像レンズ38を通って集光される。漏光22
Aは、対物レンズ34を通ってもその殆どが平行化され
ないので、結像レンズ38で集光された光の大部分は、
部分遮光板40の遮光部から外れて光電子増倍管42に
到達し、検出される。If there is a tear or other defect in the inner wall of the through hole 14C, light enters the second semi-transparent layer 122 through this defect, is diffused within the second semi-transparent layer 122, and is exposed to the second semi-transparent layer 122.
Light leakage 22A comes out from the surface of the semi-transparent layer 122. This leaked light 22A passes through the objective lens 34, is reflected by the semi-transparent mirror 36, passes through the imaging lens 38, and is condensed. Light leakage 22
Most of the light A is not collimated even though it passes through the objective lens 34, so most of the light focused by the imaging lens 38 is
The light leaves the light-shielding portion of the partial light-shielding plate 40, reaches the photomultiplier tube 42, and is detected.
【0023】一方、スルーホール14Cの底面に入射光
の一部が当った場合には、その正反射光が対物レンズ3
4を通って平行化され、半透鏡36で反射され、結像レ
ンズ38を通るが、部分遮光板40の遮光部で遮られる
ため、光電子増倍管42には到達しない。On the other hand, when a part of the incident light hits the bottom surface of the through hole 14C, the specularly reflected light is reflected by the objective lens 3.
4, is parallelized by the semi-transparent mirror 36, and passes through the imaging lens 38, but does not reach the photomultiplier tube 42 because it is blocked by the light shielding part of the partial light shielding plate 40.
【0024】光電子増倍管42の出力は、2値化回路4
4を介してアンドゲート46の一方の入力端子に供給さ
れる。他方、スルーホール位置メモリ48には、試料1
0Aの設計データに基づいた各スルーホール14Cの位
置が格納されている。スルーホール位置判定回路50は
、スルーホール位置メモリ48からこのスルーホール位
置を読み出し、この位置がX−Yステージ26の位置に
一致しているかどうかを判定し、一致しているときのみ
出力を高レベルにする。スルーホール位置判定回路50
の出力は、アンドゲート46の他方の入力端子に供給さ
れる。したがって、アンドゲート46の出力は、スルー
ホール14Cの欠陥が検出されたときのみ高レベルにな
る。レコーダ52は、アンドゲート46の出力が高レベ
ルになると、X−Yステージ26の位置をスルーホール
欠陥位置として記録する。The output of the photomultiplier tube 42 is transmitted to the binarization circuit 4.
4 to one input terminal of the AND gate 46. On the other hand, the sample 1 is stored in the through-hole position memory 48.
The position of each through hole 14C based on the design data of 0A is stored. The through-hole position determination circuit 50 reads this through-hole position from the through-hole position memory 48, determines whether this position matches the position of the X-Y stage 26, and increases the output only when the position matches. level. Through-hole position determination circuit 50
The output of is supplied to the other input terminal of AND gate 46. Therefore, the output of AND gate 46 goes high only when a defect in through hole 14C is detected. When the output of the AND gate 46 becomes high level, the recorder 52 records the position of the XY stage 26 as a through-hole defect position.
【0025】なお、上記構成では、出来るだけSN比を
向上させるために部分遮光板32と部分遮光板40の両
方を用いた場合を説明したが、原理的には、部分遮光板
32は必須ではない。また、部分遮光板40は、半透鏡
36と結像レンズ38との間に配置してもよい。レーザ
28、ビームエクスパンダ30及び部分遮光板32と、
結像レンズ38、部分遮光板40及び光電子増倍管42
とを互いに入れ換えた光学配置であってもよい。また、
対物レンズ34の代りに凹面鏡又はカセグレン鏡を用い
、結像レンズ38の代りに凹面鏡を用いることもできる
。さらに、対物レンズ34に入射する光束を発散光束と
すれば、結像レンズ38を用いなくても部分遮光板40
上に結像させることができる。Note that in the above configuration, a case has been described in which both the partial light shielding plate 32 and the partial light shielding plate 40 are used in order to improve the S/N ratio as much as possible, but in principle, the partial light shielding plate 32 is not essential. do not have. Further, the partial light shielding plate 40 may be arranged between the semi-transparent mirror 36 and the imaging lens 38. A laser 28, a beam expander 30, and a partial light shielding plate 32,
Imaging lens 38, partial light shielding plate 40, and photomultiplier tube 42
An optical arrangement may also be used in which the two are interchanged. Also,
A concave mirror or a Cassegrain mirror may be used instead of the objective lens 34, and a concave mirror may be used instead of the imaging lens 38. Furthermore, if the light beam incident on the objective lens 34 is a diverging light beam, the partial light shielding plate 40 can be used without using the imaging lens 38.
It can be imaged on top.
【0026】(2)第2実施例
図3は第2実施例のスルーホール検査方法及び装置を示
す。(2) Second Embodiment FIG. 3 shows a through-hole inspection method and apparatus according to a second embodiment.
【0027】第2半透明層122の材料としては、ポリ
イミド樹脂またはエポキシ樹脂などが用いられるが、ポ
リイミド樹脂及びエポキシ樹脂はいずれも蛍光性を有し
ており、これに波長300〜400nmの紫外線を照射
すると、オレンジ色の蛍光を発する。一方、スルーホー
ル14Cの欠陥部からの漏光22Aは微弱光であるため
、SN比を向上させてスルーホール14Cの欠陥を正確
に検出する必要がある。Polyimide resin or epoxy resin is used as the material for the second semi-transparent layer 122. Both polyimide resin and epoxy resin have fluorescence, and when exposed to ultraviolet light with a wavelength of 300 to 400 nm. When irradiated, it emits orange fluorescence. On the other hand, since the light leakage 22A from the defective portion of the through hole 14C is weak light, it is necessary to improve the S/N ratio to accurately detect the defect in the through hole 14C.
【0028】そこで、本第2実施例では、部分遮光板4
0と光電子増倍管42との間に、干渉フィルター等の光
バンドパスフィルター54を配置している。この光バン
ドパスフィルター54の透過中心波長は、漏光22Aの
中心波長に一致しており、例え漏光22A以外の迷光が
部分遮光板40を通っても、光バンドパスフィルター5
4で遮光されて光電子増倍管42に到達することができ
ない。したがって、第1実施例の場合よりも正確にスル
ーホール14Cの欠陥を検出することができる。Therefore, in the second embodiment, the partial light shielding plate 4
0 and the photomultiplier tube 42, an optical bandpass filter 54 such as an interference filter is disposed. The transmission center wavelength of the optical bandpass filter 54 matches the center wavelength of the leaked light 22A, and even if stray light other than the leaked light 22A passes through the partial light shielding plate 40, the optical bandpass filter 54
4, the light cannot reach the photomultiplier tube 42. Therefore, defects in the through hole 14C can be detected more accurately than in the first embodiment.
【0029】なお、本第2実施例では、SN比をできる
だけ向上させるために、光バンドパスフィルター54に
加えて部分遮光板32及び40を用いているが、原理的
には部分遮光板32及び40は必須ではない。また、光
バンドパスフィルター54の代りに、光ローパスフィル
ターを用いてもよい。In the second embodiment, in order to improve the S/N ratio as much as possible, partial light shielding plates 32 and 40 are used in addition to the optical bandpass filter 54, but in principle, partial light shielding plates 32 and 40 are used. 40 is not required. Furthermore, an optical low-pass filter may be used instead of the optical band-pass filter 54.
【0030】[0030]
【発明の効果】以上説明した如く、本発明に係るスルー
ホール検査方法及び装置では、試料のスルーホール内壁
面に照明光を照射し、スルーホール付近の半透明層から
の漏光を検出するので、不透明基材に半透明層が積層さ
れていても、すなわち、不透明基材の有無を問わず、ス
ルーホールの破れ欠陥を検査することができるという優
れた効果を奏し、検査対象の拡大に寄与するところが大
きい。As explained above, in the through-hole inspection method and apparatus according to the present invention, illumination light is irradiated onto the inner wall surface of the through-hole of the sample and light leakage from the semi-transparent layer near the through-hole is detected. Even if a semi-transparent layer is laminated on an opaque base material, in other words, regardless of the presence or absence of an opaque base material, it has the excellent effect of being able to inspect tear defects in through-holes, contributing to the expansion of inspection targets. However, it is large.
【0031】スルーホールの欠陥部からの漏光は微弱光
であるが、半透明層が蛍光物質である場合には、照明光
の反射光を遮断し半透明層からの蛍光のみを透過させる
フィルターを通して漏光を検出すれば、SN比が向上し
、スルーホールの破れ欠陥をより正確に検出することが
できるという効果を奏する。The light leaking from the defective part of the through hole is weak light, but if the semi-transparent layer is made of fluorescent material, it passes through a filter that blocks the reflected light of the illumination light and transmits only the fluorescence from the semi-transparent layer. Detecting light leakage has the effect of improving the signal-to-noise ratio and making it possible to more accurately detect through-hole tear defects.
【0032】また、部分遮光体とフィルターの両方を用
いれば、例え漏光以外の迷光が部分遮光体を通っても、
フィルターで遮光されて光検出器に到達することができ
ないので、さらに正確にスルーホールの破れ欠陥を検出
することができるという効果を奏する。Furthermore, if both a partial light shield and a filter are used, even if stray light other than leaked light passes through the partial light shield,
Since the light is blocked by the filter and cannot reach the photodetector, it is possible to more accurately detect through-hole tear defects.
【図1】本発明に係るスルーホール検査原理説明図であ
る。FIG. 1 is an explanatory diagram of the through-hole inspection principle according to the present invention.
【図2】第1実施例のスルーホール検査装置の構成図で
ある。FIG. 2 is a configuration diagram of a through-hole inspection device according to a first embodiment.
【図3】第2実施例のスルーホール検査装置の構成図で
ある。FIG. 3 is a configuration diagram of a through-hole inspection device according to a second embodiment.
【図4】従来のスルーホール検査原理説明図である。FIG. 4 is an explanatory diagram of a conventional through-hole inspection principle.
10、10A 試料
121 第1半透明層
122 第2半透明層
14A、14B、14C スルーホール15 スル
ーホールランド
16 配線パターン
18 遮光板
20、21 照明光
22、22A 漏光
24 不透明基材
32、40 部分遮光板
34 対物レンズ
36 半透鏡
38 結像レンズ
42 光電子増倍管
54 光バンドパスフィルター10, 10A Sample 121 First semi-transparent layer 122 Second semi-transparent layer 14A, 14B, 14C Through-hole 15 Through-hole land 16 Wiring pattern 18 Light-shielding plates 20, 21 Illumination light 22, 22A Light leakage 24 Opaque base material 32, 40 Part Light shielding plate 34 Objective lens 36 Semi-transparent mirror 38 Imaging lens 42 Photomultiplier tube 54 Optical bandpass filter
Claims (5)
22)が積層され、内壁面が金属のスルーホール(14
C)が該半透明層に形成された試料(10A)に対し、
該内壁面に照明光(21)を照射し、該スルーホール付
近の該半透明層からの漏光(22A)を検出することに
より、該スルーホールの破れ欠陥を検出することを特徴
とするスルーホール検査方法。Claim 1: A translucent layer (1) on an opaque substrate (24).
22) are laminated, and the inner wall surface is a metal through hole (14).
For the sample (10A) in which C) was formed on the semi-transparent layer,
A through hole characterized in that a tear defect in the through hole is detected by irradiating the inner wall surface with illumination light (21) and detecting light leakage (22A) from the semitransparent layer near the through hole. Inspection method.
ある場合に、前記照明光(21)の反射光を遮断し該半
透明層からの蛍光のみを透過させるフィルター(54)
を通して、前記漏光(22A)を検出することを特徴と
する請求項1記載のスルーホール検査方法。2. When the semi-transparent layer (122) is a fluorescent substance, a filter (54) blocks reflected light of the illumination light (21) and transmits only fluorescence from the semi-transparent layer.
The through-hole inspection method according to claim 1, characterized in that the leakage light (22A) is detected through the hole.
束を透過光束と反射光束とに分割する半透鏡(36)と
、該透過光束と該反射光束の一方が入射され、入射光を
集光して、不透明基材(24)上に半透明層(122)
が積層され内壁面が金属のスルーホール(14C)が該
半透明層に形成された試料(10A)に対し、該内壁面
を照明する対物光学素子(34)と、光検出器(42)
と、該試料からの光が該対物光学素子を通して該半透鏡
で反射または透過したものを該光検出器の受光面に集光
させる集光手段(38)と、該光検出器と該半透鏡との
間の光路中に配置され、該試料からの正反射光を遮光し
て該スルーホール付近の該半透明層からの漏光(22A
)を通す部分遮光体(40)と、を有することを特徴と
するスルーホール検査装置。3. A light source (28), a semi-transparent mirror (36) that divides the incident light beam from the light source into a transmitted light beam and a reflected light beam; A translucent layer (122) is collected on the opaque substrate (24).
For a sample (10A) in which a through hole (14C) with a metal inner wall surface is formed in the translucent layer, an objective optical element (34) that illuminates the inner wall surface, and a photodetector (42) are used.
a condensing means (38) for condensing light from the sample reflected or transmitted by the semi-transparent mirror through the objective optical element onto a light-receiving surface of the photodetector; the photodetector and the semi-transparent mirror; is placed in the optical path between the sample and the specularly reflected light from the sample to block light leakage from the semi-transparent layer near the through hole (22A
) A through-hole inspection device characterized by having a partial light shielding member (40) that allows the light to pass through.
束を透過光束と反射光束とに分割する半透鏡(36)と
、該透過光束と該反射光束の一方が入射され、入射光を
集光して、不透明基材(24)上に蛍光性半透明層(1
22)が積層され内壁面が金属のスルーホール(14C
)が該半透明層に形成された試料(10A)に対し、該
内壁面を照明する対物光学素子(34)と、光検出器(
42)と、該試料からの光が該対物光学素子を通して該
半透鏡で反射または透過したものを該光検出器の受光面
に集光させる集光手段(38)と、該光検出器と該半透
鏡との間の光路中に配置され、該試料からの正反射光を
遮断し該スルーホール付近の該半透明層からの漏光(2
2A)である蛍光を透過させるフィルター(54)と、
を有することを特徴とするスルーホール検査装置。4. A light source (28), a semi-transparent mirror (36) that divides the incident light beam from the light source into a transmitted light beam and a reflected light beam; The light is collected to form a fluorescent semi-transparent layer (1) on an opaque substrate (24).
22) are laminated and the inner wall surface is metal through hole (14C
) is formed on the semitransparent layer, an objective optical element (34) that illuminates the inner wall surface, and a photodetector (
42), a condensing means (38) for condensing the light from the sample reflected or transmitted by the semi-transparent mirror through the objective optical element onto the light receiving surface of the photodetector; It is placed in the optical path between the semi-transparent mirror and blocks specularly reflected light from the sample and blocks light leakage from the semi-transparent layer near the through-hole (2
2A), a filter (54) that transmits fluorescence;
A through-hole inspection device characterized by having the following.
36)との間の光路中に、前記試料(10A)からの正
反射光を遮光して前記スルーホール(14C)付近の前
記半透明層(122)からの漏光(22A)を通す部分
遮光体(40)が配置されていることを特徴とする請求
項4記載のスルーホール検査装置。5. The photodetector (42) and the semi-transparent mirror (
36), a partial light shielding member that blocks specularly reflected light from the sample (10A) and allows leakage light (22A) from the semi-transparent layer (122) near the through hole (14C) to pass through. 5. The through-hole inspection device according to claim 4, further comprising: (40).
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40584590A JPH04221747A (en) | 1990-12-25 | 1990-12-25 | Method and device for inspecting through-hole |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP40584590A JPH04221747A (en) | 1990-12-25 | 1990-12-25 | Method and device for inspecting through-hole |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04221747A true JPH04221747A (en) | 1992-08-12 |
Family
ID=18515454
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP40584590A Withdrawn JPH04221747A (en) | 1990-12-25 | 1990-12-25 | Method and device for inspecting through-hole |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04221747A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010266447A (en) * | 2009-05-15 | 2010-11-25 | G D Spa | Method and device for controlling integrity of multilayer sheet of packing material in partial notch |
JP2011106815A (en) * | 2009-11-12 | 2011-06-02 | Arc Harima Kk | Surface inspection method and surface inspection system |
JP2012159488A (en) * | 2011-01-28 | 2012-08-23 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | Inspection apparatus for printed board |
-
1990
- 1990-12-25 JP JP40584590A patent/JPH04221747A/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010266447A (en) * | 2009-05-15 | 2010-11-25 | G D Spa | Method and device for controlling integrity of multilayer sheet of packing material in partial notch |
JP2011106815A (en) * | 2009-11-12 | 2011-06-02 | Arc Harima Kk | Surface inspection method and surface inspection system |
JP2012159488A (en) * | 2011-01-28 | 2012-08-23 | Samsung Electro-Mechanics Co Ltd | Inspection apparatus for printed board |
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