JPH04217389A - 厚膜多層回路基板及びその製造方法 - Google Patents
厚膜多層回路基板及びその製造方法Info
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- JPH04217389A JPH04217389A JP41142390A JP41142390A JPH04217389A JP H04217389 A JPH04217389 A JP H04217389A JP 41142390 A JP41142390 A JP 41142390A JP 41142390 A JP41142390 A JP 41142390A JP H04217389 A JPH04217389 A JP H04217389A
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title abstract 5
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- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、スルーホールが形成
された回路基板の多層化に用いられる厚膜多層回路基板
及びその製造方法に関する。
された回路基板の多層化に用いられる厚膜多層回路基板
及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】アルミナ等の絶縁材料で形成された回路
基板では、その表裏面に種々の回路パターンが形成され
、複数の電子部品が実装されている。このような回路基
板では、表裏面間の回路パターンの電気的な接続を図る
技術としてスルーホールを通した導体接続が行われてい
る。
基板では、その表裏面に種々の回路パターンが形成され
、複数の電子部品が実装されている。このような回路基
板では、表裏面間の回路パターンの電気的な接続を図る
技術としてスルーホールを通した導体接続が行われてい
る。
【0003】また、独立した回路パターンが形成された
回路基板を積層した多層回路基板も実用化されている。 このような多層回路基板では、複雑な回路のコンパクト
化とともに、電子部品の高密度実装が可能になり、複雑
な機能回路の実現に向け、大きな期待が寄せられている
。
回路基板を積層した多層回路基板も実用化されている。 このような多層回路基板では、複雑な回路のコンパクト
化とともに、電子部品の高密度実装が可能になり、複雑
な機能回路の実現に向け、大きな期待が寄せられている
。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、スルーホー
ルが形成された回路基板を積層した場合、回路基板に形
成されているスルーホールが、積層された絶縁層や導体
パターンに凹凸を生じさせ、多層化を妨げる。また、絶
縁層で閉じ込められたスルーホール内に空気が残留した
場合、その空気の膨張、収縮が導体パターンとの剥離の
原因になる等、回路基板の信頼性を低下させる原因にな
る。
ルが形成された回路基板を積層した場合、回路基板に形
成されているスルーホールが、積層された絶縁層や導体
パターンに凹凸を生じさせ、多層化を妨げる。また、絶
縁層で閉じ込められたスルーホール内に空気が残留した
場合、その空気の膨張、収縮が導体パターンとの剥離の
原因になる等、回路基板の信頼性を低下させる原因にな
る。
【0005】そこで、この発明は、スルーホールが形成
された回路基板の多層化における凹凸の発生を防止する
とともに、スルーホール内の空気の残留を阻止した厚膜
多層回路基板及びその製造方法の提供を目的とする。
された回路基板の多層化における凹凸の発生を防止する
とともに、スルーホール内の空気の残留を阻止した厚膜
多層回路基板及びその製造方法の提供を目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】即ち、この発明の厚膜多
層回路基板は、表裏面に形成された第1の導体パターン
(6a、6b、6c、6d)がスルーホール(4a、4
b)を介して接続された回路基板(2)と、この回路基
板の前記スルーホールに充填された絶縁物(レジスト8
)と、前記導体パターンを覆って形成された絶縁層(レ
ジスト12a、12b)と、この絶縁層上に形成された
第2の導体パターン(14a、14b、14c、14d
)とを備えたことを特徴とする。
層回路基板は、表裏面に形成された第1の導体パターン
(6a、6b、6c、6d)がスルーホール(4a、4
b)を介して接続された回路基板(2)と、この回路基
板の前記スルーホールに充填された絶縁物(レジスト8
)と、前記導体パターンを覆って形成された絶縁層(レ
ジスト12a、12b)と、この絶縁層上に形成された
第2の導体パターン(14a、14b、14c、14d
)とを備えたことを特徴とする。
【0007】また、この発明の厚膜多層回路基板の製造
方法は、表裏面に形成された第1の導体パターン(6a
、6b、6c、6d)がスルーホール(4a、4b)を
介して接続された回路基板(2)の前記スルーホールに
絶縁物(レジスト8)を充填した後、前記回路基板の表
面を覆う絶縁層(レジスト12a、12b)を形成し、
この絶縁層の上に第2の導体パターン(14a、14b
、14c、14d)を形成することを特徴とする。
方法は、表裏面に形成された第1の導体パターン(6a
、6b、6c、6d)がスルーホール(4a、4b)を
介して接続された回路基板(2)の前記スルーホールに
絶縁物(レジスト8)を充填した後、前記回路基板の表
面を覆う絶縁層(レジスト12a、12b)を形成し、
この絶縁層の上に第2の導体パターン(14a、14b
、14c、14d)を形成することを特徴とする。
【0008】
【作用】また、この発明の厚膜多層回路基板では、スル
ーホールに絶縁物が埋め込まれ、そのスルーホールによ
る凹部の発生がなく、回路基板表面が平坦化するため、
導体パターンと絶縁層との多層化が可能であり、しかも
、スルーホールを通して回路基板の表裏面側の回路パタ
ーンを導通させることができ、両面多層化が実現される
。
ーホールに絶縁物が埋め込まれ、そのスルーホールによ
る凹部の発生がなく、回路基板表面が平坦化するため、
導体パターンと絶縁層との多層化が可能であり、しかも
、スルーホールを通して回路基板の表裏面側の回路パタ
ーンを導通させることができ、両面多層化が実現される
。
【0009】また、この発明の厚膜多層回路基板の製造
方法では回路基板に形成されたスルーホールに絶縁物が
充填され、その絶縁物によってスルーホールが隠蔽され
る。その上に絶縁層が形成され、この絶縁層の上に第2
の導体パターンが積層されるので、その平坦化が図られ
るとともに、スルーホール内の空気は絶縁物によって排
除され、平坦な厚膜多層回路基板が得られる。
方法では回路基板に形成されたスルーホールに絶縁物が
充填され、その絶縁物によってスルーホールが隠蔽され
る。その上に絶縁層が形成され、この絶縁層の上に第2
の導体パターンが積層されるので、その平坦化が図られ
るとともに、スルーホール内の空気は絶縁物によって排
除され、平坦な厚膜多層回路基板が得られる。
【0010】
【実施例】図1はこの発明の厚膜多層回路基板の一実施
例を示し、図2及び図3はこの発明の厚膜多層回路基板
の製造方法の一実施例を示す。この厚膜多層回路基板に
は、図2の(A)に示すように、アルミナやセラミック
等の絶縁材料で形成された回路基板2が用いられ、この
回路基板2にはその表裏面側に実装すべき回路間を導通
させるためのスルーホール4a、4bが形成されている
。
例を示し、図2及び図3はこの発明の厚膜多層回路基板
の製造方法の一実施例を示す。この厚膜多層回路基板に
は、図2の(A)に示すように、アルミナやセラミック
等の絶縁材料で形成された回路基板2が用いられ、この
回路基板2にはその表裏面側に実装すべき回路間を導通
させるためのスルーホール4a、4bが形成されている
。
【0011】この回路基板2の表裏面には、図2の(B
)及び図4に示すように、導体ペーストの印刷等により
第1の導体パターン6a、6b、6c、6dが形成され
、各導体パターン6a〜6dはスルーホール4a、4b
の内壁部を通して接続されている。この実施例の場合で
は、各スルーホール4a、4bを以て2回路間の電気的
な接続が行われている。
)及び図4に示すように、導体ペーストの印刷等により
第1の導体パターン6a、6b、6c、6dが形成され
、各導体パターン6a〜6dはスルーホール4a、4b
の内壁部を通して接続されている。この実施例の場合で
は、各スルーホール4a、4bを以て2回路間の電気的
な接続が行われている。
【0012】そして、各スルーホール4a、4bには、
図2の(C)に示すように、絶縁物としてレジスト8が
印刷やディスペンサによって充填され、このレジスト8
で各スルーホール4a、4bが埋め尽くされて導体パタ
ーン6a〜6dと同一平面を成している。
図2の(C)に示すように、絶縁物としてレジスト8が
印刷やディスペンサによって充填され、このレジスト8
で各スルーホール4a、4bが埋め尽くされて導体パタ
ーン6a〜6dと同一平面を成している。
【0013】また、この各スルーホール4a、4bにレ
ジスト8を充填した後、回路基板2の表裏面側の導体パ
ターン6a〜6dから露出する部分には、図2の(D)
に示すように、レジスト10a、10bが印刷によって
設置され、このレジスト10a、10bは導体パターン
6a〜6dと同様の厚さに設定されている。したがって
、各スルーホール4a、4bがレジスト8で充填されて
いるとともに、導体パターン6a〜6d以外の部分がレ
ジスト10a、10bで覆われているため、回路基板2
の表裏面は多層化に理想的な平坦面を成している。
ジスト8を充填した後、回路基板2の表裏面側の導体パ
ターン6a〜6dから露出する部分には、図2の(D)
に示すように、レジスト10a、10bが印刷によって
設置され、このレジスト10a、10bは導体パターン
6a〜6dと同様の厚さに設定されている。したがって
、各スルーホール4a、4bがレジスト8で充填されて
いるとともに、導体パターン6a〜6d以外の部分がレ
ジスト10a、10bで覆われているため、回路基板2
の表裏面は多層化に理想的な平坦面を成している。
【0014】この回路基板2の表裏面には、図3の(E
)に示すように、絶縁層としてのレジスト12a、12
bが一様に形成され、各導体パターン6a〜6dの絶縁
が図られる。
)に示すように、絶縁層としてのレジスト12a、12
bが一様に形成され、各導体パターン6a〜6dの絶縁
が図られる。
【0015】このレジスト12a、12bの表面には、
図3の(F)に示すように、特定の回路を形成するため
の第2の導体パターン14a、14b、14c、14d
が選択的に形成され、各導体パターン14a〜14dの
間隔内には、図3の(G)に示すように、導体パターン
14a〜14dと同一の厚さで絶縁層としてのレジスト
16a、16bが形成され、導体パターン14a〜14
dとレジスト12a、12bとの凹凸が補償される結果
、回路基板2の平坦化が図られる。図示しないが、導体
パターン14a〜14dと回路基板2に直に形成されて
いる導体パターン6a〜6dは必要に応じて電気的に接
続され、その接続はレジスト12a、12bを貫通する
導体パターンによって行われる。
図3の(F)に示すように、特定の回路を形成するため
の第2の導体パターン14a、14b、14c、14d
が選択的に形成され、各導体パターン14a〜14dの
間隔内には、図3の(G)に示すように、導体パターン
14a〜14dと同一の厚さで絶縁層としてのレジスト
16a、16bが形成され、導体パターン14a〜14
dとレジスト12a、12bとの凹凸が補償される結果
、回路基板2の平坦化が図られる。図示しないが、導体
パターン14a〜14dと回路基板2に直に形成されて
いる導体パターン6a〜6dは必要に応じて電気的に接
続され、その接続はレジスト12a、12bを貫通する
導体パターンによって行われる。
【0016】このように多層化された回路基板2の表面
には、図1に示すように、絶縁層としてのレジスト18
a、18bが印刷によって形成され、回路基板2の外表
面の電気的な絶縁が図られている。
には、図1に示すように、絶縁層としてのレジスト18
a、18bが印刷によって形成され、回路基板2の外表
面の電気的な絶縁が図られている。
【0017】以上のように、スルーホール4a、4bの
部分に絶縁物が充填されて回路基板2の平坦化が図られ
ているとともに、スルーホール4a、4b内の空気が絶
縁物によって排除されてレジスト12a、12b及び導
体パターン14a〜14d等が積層され、回路が多層化
されている。
部分に絶縁物が充填されて回路基板2の平坦化が図られ
ているとともに、スルーホール4a、4b内の空気が絶
縁物によって排除されてレジスト12a、12b及び導
体パターン14a〜14d等が積層され、回路が多層化
されている。
【0018】また、スルーホール4a、4bによる凹凸
がレジスト8によって補償され、回路基板2の平坦化が
図られるので、各導体パターン14a〜14dが平板状
となり、パターン印刷の精度が高められ、信頼性の高い
回路パターンが得られるものである。
がレジスト8によって補償され、回路基板2の平坦化が
図られるので、各導体パターン14a〜14dが平板状
となり、パターン印刷の精度が高められ、信頼性の高い
回路パターンが得られるものである。
【0019】なお、実施例では、回路基板の表裏面側に
各2層、即ち、4層の回路パターンが形成された場合に
ついて説明したが、回路基板が平坦化されるので5層以
上の多層化も可能であり、この発明の厚膜多層回路基板
は、実施例の4層のものに限定されるものではない。
各2層、即ち、4層の回路パターンが形成された場合に
ついて説明したが、回路基板が平坦化されるので5層以
上の多層化も可能であり、この発明の厚膜多層回路基板
は、実施例の4層のものに限定されるものではない。
【0020】
【発明の効果】この発明の厚膜多層回路基板によれば、
スルーホールに絶縁物を充填して回路基板が平坦化され
るため、スルーホールによって部分的に回路基板の厚さ
が変化することがなく、平坦化によって積層段数を増加
することができ、しかも、多層化とともにスルーホール
を通して回路基板の表裏面側の回路パターン間の接続が
できるため、表裏面側を多層化した厚膜多層回路基板が
提供できる。
スルーホールに絶縁物を充填して回路基板が平坦化され
るため、スルーホールによって部分的に回路基板の厚さ
が変化することがなく、平坦化によって積層段数を増加
することができ、しかも、多層化とともにスルーホール
を通して回路基板の表裏面側の回路パターン間の接続が
できるため、表裏面側を多層化した厚膜多層回路基板が
提供できる。
【0021】また、この発明の厚膜多層回路基板の製造
方法によれば、スルーホールが形成されている回路基板
に絶縁物を充填した後、絶縁層を形成し、その上に導体
パターンを形成するので、スルーホールによる凹凸を防
止して平坦化でき、絶縁層及び導体パターンの積層段数
を増加させることができるとともに、スルーホール内の
空気を絶縁物の充填によって排除でき、高密度化ととも
に信頼性を高めることができる。
方法によれば、スルーホールが形成されている回路基板
に絶縁物を充填した後、絶縁層を形成し、その上に導体
パターンを形成するので、スルーホールによる凹凸を防
止して平坦化でき、絶縁層及び導体パターンの積層段数
を増加させることができるとともに、スルーホール内の
空気を絶縁物の充填によって排除でき、高密度化ととも
に信頼性を高めることができる。
【図1】この発明の厚膜多層回路基板の一実施例を示す
断面図である。
断面図である。
【図2】この発明の厚膜多層回路基板の製造方法の一実
施例を示す断面図である。
施例を示す断面図である。
【図3】この発明の厚膜多層回路基板の製造方法の一実
施例を示す断面図である。
施例を示す断面図である。
【図4】図2に示した厚膜多層回路基板の製造方法の一
実施例における回路基板を示す部分斜視図である。
実施例における回路基板を示す部分斜視図である。
Claims (2)
- 【請求項1】 表裏面に形成された第1の導体パター
ンがスルーホールを介して接続された回路基板と、この
回路基板の前記スルーホールに充填された絶縁物と、前
記導体パターンを覆って形成された絶縁層と、この絶縁
層上に形成された第2の導体パターンと、を備えたこと
を特徴とする厚膜多層回路基板。 - 【請求項2】 表裏面に形成された第1の導体パター
ンがスルーホールを通して接続された回路基板の前記ス
ルーホールに絶縁物を充填した後、前記回路基板の表面
を覆う絶縁層を形成し、この絶縁層の上に第2の導体パ
ターンを形成することを特徴とする厚膜多層回路基板の
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP41142390A JP3057766B2 (ja) | 1990-12-18 | 1990-12-18 | 厚膜多層回路基板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP41142390A JP3057766B2 (ja) | 1990-12-18 | 1990-12-18 | 厚膜多層回路基板及びその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04217389A true JPH04217389A (ja) | 1992-08-07 |
JP3057766B2 JP3057766B2 (ja) | 2000-07-04 |
Family
ID=18520435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP41142390A Expired - Fee Related JP3057766B2 (ja) | 1990-12-18 | 1990-12-18 | 厚膜多層回路基板及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3057766B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997016056A1 (fr) * | 1995-10-23 | 1997-05-01 | Ibiden Co., Ltd. | Resine de remplissage et carte de circuits imprimes multicouche |
EP1198000A1 (en) * | 1994-04-28 | 2002-04-17 | Fujitsu Limited | Semiconductor device and assembly board |
JP2007535143A (ja) * | 2004-04-29 | 2007-11-29 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | プリント配線板および/または相応の構造物を製造するための方法 |
-
1990
- 1990-12-18 JP JP41142390A patent/JP3057766B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1198000A1 (en) * | 1994-04-28 | 2002-04-17 | Fujitsu Limited | Semiconductor device and assembly board |
EP1715512A3 (en) * | 1994-04-28 | 2013-02-13 | Fujitsu Semiconductor Limited | Semiconductor device and method of forming the same |
WO1997016056A1 (fr) * | 1995-10-23 | 1997-05-01 | Ibiden Co., Ltd. | Resine de remplissage et carte de circuits imprimes multicouche |
EP1318708A3 (en) * | 1995-10-23 | 2003-06-18 | Ibiden Co., Ltd. | Resin filler and multilayer printed wiring board |
EP1445996A3 (en) * | 1995-10-23 | 2004-08-18 | Ibiden Co., Ltd. | Build-up multilayer printed circuit board |
JP2007535143A (ja) * | 2004-04-29 | 2007-11-29 | シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト | プリント配線板および/または相応の構造物を製造するための方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3057766B2 (ja) | 2000-07-04 |
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---|---|---|---|
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