JPH04216319A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH04216319A JPH04216319A JP40207090A JP40207090A JPH04216319A JP H04216319 A JPH04216319 A JP H04216319A JP 40207090 A JP40207090 A JP 40207090A JP 40207090 A JP40207090 A JP 40207090A JP H04216319 A JPH04216319 A JP H04216319A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は固定磁気ディスク装置等
に用いられる磁気記録媒体に関する。
に用いられる磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録媒体 （以下、単に媒体とも称
する） の強磁性合金薄膜磁性層の製造方法は、γ−Ｆ
ｅ２ Ｏ３ 系の磁性粒子を樹脂バインダに分散した塗
布膜を磁性層とする塗布法から、Ｃｏ系合金などの強磁
性合金の連続薄膜を磁性層とするメッキ法、さらにスパ
ッタ法へと移行してきた。これは、情報処理システムの
周辺記憶装置として主流を占める固定磁気ディスク装置
の大容量化，小型化に伴ない、これに搭載される媒体の
高記録密度化が近年ますます要望されているが、スパッ
タ法により製造される強磁性合金の連続薄膜を磁性層と
する薄膜媒体は高保磁力を付与することが可能であり、
また、磁気ヘッドと磁性層との距離を小さくすることも
可能となり、高密度記録の要望に応ずることができるか
らである。
する） の強磁性合金薄膜磁性層の製造方法は、γ−Ｆ
ｅ２ Ｏ３ 系の磁性粒子を樹脂バインダに分散した塗
布膜を磁性層とする塗布法から、Ｃｏ系合金などの強磁
性合金の連続薄膜を磁性層とするメッキ法、さらにスパ
ッタ法へと移行してきた。これは、情報処理システムの
周辺記憶装置として主流を占める固定磁気ディスク装置
の大容量化，小型化に伴ない、これに搭載される媒体の
高記録密度化が近年ますます要望されているが、スパッ
タ法により製造される強磁性合金の連続薄膜を磁性層と
する薄膜媒体は高保磁力を付与することが可能であり、
また、磁気ヘッドと磁性層との距離を小さくすることも
可能となり、高密度記録の要望に応ずることができるか
らである。
【０００３】上述のようなスパッタ法で製造される媒体
では、合金薄膜である磁性層を腐食から保護する必要が
あり、固定磁気ディスク装置では一般にＣＳＳ方式が採
用されており、媒体表面を磁気ヘッドのＣＳＳによる摩
耗，摩擦係数の上昇もしくは磁気ヘッドの吸着から保護
するために、薄膜媒体では磁性層上に化学的に安定で、
しかも潤滑性が良く耐摩耗性の大きい良質の膜からなる
保護層が設けられている。従来、一般に炭素（Ｃ）保護
層を形成してあり、潤滑性能を高めるために、その上に
さらに液体潤滑剤を塗布して液体潤滑層を設けることが
行なわれている。また、磁性層上にスピンコート法でＳ
ｉＯ２ 保護層を形成し、その上に液体潤滑層を設ける
ことも行なわれている。
では、合金薄膜である磁性層を腐食から保護する必要が
あり、固定磁気ディスク装置では一般にＣＳＳ方式が採
用されており、媒体表面を磁気ヘッドのＣＳＳによる摩
耗，摩擦係数の上昇もしくは磁気ヘッドの吸着から保護
するために、薄膜媒体では磁性層上に化学的に安定で、
しかも潤滑性が良く耐摩耗性の大きい良質の膜からなる
保護層が設けられている。従来、一般に炭素（Ｃ）保護
層を形成してあり、潤滑性能を高めるために、その上に
さらに液体潤滑剤を塗布して液体潤滑層を設けることが
行なわれている。また、磁性層上にスピンコート法でＳ
ｉＯ２ 保護層を形成し、その上に液体潤滑層を設ける
ことも行なわれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】磁気ヘッドの材質は現
在硬質化の方向に進んでいる。Ｃ保護層やこれに液体潤
滑層を付加した保護層は、Ｍｎ−Ｚｎフェライトからな
るスライダーの磁気ヘッドに対しては有効であるが、セ
ラミック （例えばＡｌ２ ／ＴｉＣ） のような硬質
の材料からなるスライダーの磁気ヘッドに対しては、摩
耗が激しく保護層として適さず、しかも高密度記録を指
向して磁性層の薄膜化を進めると、保護層の摩耗の問題
も大きくなる。
在硬質化の方向に進んでいる。Ｃ保護層やこれに液体潤
滑層を付加した保護層は、Ｍｎ−Ｚｎフェライトからな
るスライダーの磁気ヘッドに対しては有効であるが、セ
ラミック （例えばＡｌ２ ／ＴｉＣ） のような硬質
の材料からなるスライダーの磁気ヘッドに対しては、摩
耗が激しく保護層として適さず、しかも高密度記録を指
向して磁性層の薄膜化を進めると、保護層の摩耗の問題
も大きくなる。
【０００５】一方、液体潤滑層を付加したスピンコート
法によるＳｉＯ２ 保護層は、硬質スライダーの磁気ヘ
ッドに対しても十分な耐摩耗性を有するが、表面の突起
品質が良くないという欠点がある。保護層表面、即ち媒
体表面の突起品質が悪いと、磁気ヘッドの浮上走行時に
磁気ヘッドと媒体表面の突起とが接触する頻度が多くな
るという不具合が生じ、ヘッドクラッシュを引き起こす
原因にもなる。高密度記録のために磁気ヘッドの浮上量
を少なくする程、上述の不都合な現象が発生しやすくな
り、液体潤滑層を付加したスピンコート法によるＳｉＯ
２ 保護層は適用することができなくなる。
法によるＳｉＯ２ 保護層は、硬質スライダーの磁気ヘ
ッドに対しても十分な耐摩耗性を有するが、表面の突起
品質が良くないという欠点がある。保護層表面、即ち媒
体表面の突起品質が悪いと、磁気ヘッドの浮上走行時に
磁気ヘッドと媒体表面の突起とが接触する頻度が多くな
るという不具合が生じ、ヘッドクラッシュを引き起こす
原因にもなる。高密度記録のために磁気ヘッドの浮上量
を少なくする程、上述の不都合な現象が発生しやすくな
り、液体潤滑層を付加したスピンコート法によるＳｉＯ
２ 保護層は適用することができなくなる。
【０００６】また、磁気ヘッドが媒体表面で良好なＣＳ
Ｓ方式を繰り返すためには、媒体表面の潤滑性が良好で
、磁気ヘッドの吸着が生じないことが必要であり、媒体
表面が均一に粗され、適切な粗さを持つ表面形状となっ
ていなければならないが、スピンコート法により表面粗
さを適切に制御したＳｉＯ２ 保護層を形成することは
困難である。磁気ヘッドの浮上量を小さくしようとする
と、より精度高く表面粗さを制御して保護層を形成しな
ければならなくなり、さらに困難になってくる。
Ｓ方式を繰り返すためには、媒体表面の潤滑性が良好で
、磁気ヘッドの吸着が生じないことが必要であり、媒体
表面が均一に粗され、適切な粗さを持つ表面形状となっ
ていなければならないが、スピンコート法により表面粗
さを適切に制御したＳｉＯ２ 保護層を形成することは
困難である。磁気ヘッドの浮上量を小さくしようとする
と、より精度高く表面粗さを制御して保護層を形成しな
ければならなくなり、さらに困難になってくる。
【０００７】本発明の目的は、上述の問題点を解消し、
高密度記録に対して好適に対応することができる保護層
を備えた磁気記録媒体を提供することにある。
高密度記録に対して好適に対応することができる保護層
を備えた磁気記録媒体を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上述の課題を解決するた
めに、本発明の磁気記録媒体は、保護層としてスパッタ
法で形成した酸化物または窒化物に、Ｃ，Ａｌ，Ｃｕ，
Ｃｒ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａｕのうちの少なくとも一つを含み
、これら添加元素の総量を３〜２０原子％の範囲とし、
ヘッド・バニッシュ処理後の保護層の表面粗さＲａ を
２０〜６０Å， 最大高さＲｍａｘ を ５００〜８５
０ Å， 相対負荷曲線の相対負荷長さ１０％における
カッティング深さから相対負荷長さ１％におけるカッテ
ィング深さを差し引いた値ΔＣＶ （１０％−１％）
を８０〜１５０ Åに設定したものである。
めに、本発明の磁気記録媒体は、保護層としてスパッタ
法で形成した酸化物または窒化物に、Ｃ，Ａｌ，Ｃｕ，
Ｃｒ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａｕのうちの少なくとも一つを含み
、これら添加元素の総量を３〜２０原子％の範囲とし、
ヘッド・バニッシュ処理後の保護層の表面粗さＲａ を
２０〜６０Å， 最大高さＲｍａｘ を ５００〜８５
０ Å， 相対負荷曲線の相対負荷長さ１０％における
カッティング深さから相対負荷長さ１％におけるカッテ
ィング深さを差し引いた値ΔＣＶ （１０％−１％）
を８０〜１５０ Åに設定したものである。
【０００９】
【作用】本発明の磁気記録媒体は上記のように構成した
ために、硬質で耐摩耗性に優れた保護層を形成すること
ができ、セラミック等の硬質スライダーの磁気ヘッドに
対しても、十分な耐摩耗性を有する媒体となる。しかも
、この保護層はスパッタ法で薄膜として成膜されるので
、その表面は磁性層表面と同じく非磁性基板の表面粗さ
に対応する表面粗さとなる。また、この保護層は添加元
素としてＣ，Ａｌ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａｕのう
ちの少なくとも一つを含むので、ヘッド・バニッシュ処
理の際、薄膜成長過程で薄膜表面に形成された異常突起
の除去が容易であり、保護層表面は適切な粗さで均一に
粗された表面形状を持ち、微小突起のみが存在するよう
になって突起品質も良好となる。さらに、添加元素は少
なくとも一つ保護層形成用ターゲット中に含まれるから
、酸化物， 窒化物の如何にかかわらずＤＣスパッタ法
による成膜が可能である。このため、磁性層， 保護層
を連続成膜しても、これら各層の安定した膜質を容易に
得ることができる。
ために、硬質で耐摩耗性に優れた保護層を形成すること
ができ、セラミック等の硬質スライダーの磁気ヘッドに
対しても、十分な耐摩耗性を有する媒体となる。しかも
、この保護層はスパッタ法で薄膜として成膜されるので
、その表面は磁性層表面と同じく非磁性基板の表面粗さ
に対応する表面粗さとなる。また、この保護層は添加元
素としてＣ，Ａｌ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａｕのう
ちの少なくとも一つを含むので、ヘッド・バニッシュ処
理の際、薄膜成長過程で薄膜表面に形成された異常突起
の除去が容易であり、保護層表面は適切な粗さで均一に
粗された表面形状を持ち、微小突起のみが存在するよう
になって突起品質も良好となる。さらに、添加元素は少
なくとも一つ保護層形成用ターゲット中に含まれるから
、酸化物， 窒化物の如何にかかわらずＤＣスパッタ法
による成膜が可能である。このため、磁性層， 保護層
を連続成膜しても、これら各層の安定した膜質を容易に
得ることができる。
【００１０】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づき説明する。
【００１１】Ｎｉ−Ｐめっきを施した直径３．５ イン
チのＡｌ合金基板の表面をポリッシングして平滑な状態
とし、その後研磨テープにより基板表面を粗面とした、
このとき、研磨条件を変えることにより種々の表面粗さ
の基板を作製した。これらの基板上にＤＣスパッタ法に
よりＣｒ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金，ＳｉＯ２ −Ｃの各
層をこの順に連続成膜した。スパッタ条件を下記に示す
。
チのＡｌ合金基板の表面をポリッシングして平滑な状態
とし、その後研磨テープにより基板表面を粗面とした、
このとき、研磨条件を変えることにより種々の表面粗さ
の基板を作製した。これらの基板上にＤＣスパッタ法に
よりＣｒ，Ｃｏ−Ｎｉ−Ｃｒ合金，ＳｉＯ２ −Ｃの各
層をこの順に連続成膜した。スパッタ条件を下記に示す
。
【００１２】
Ａｒガス圧
１０ｍＴｏｒｒ 基板加熱温度
２２０℃ 基板加熱時間
７分 各層膜厚
Ｃｒ：１５００Å
Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｃｒ： ４５０Å
ＳｉＯ２ −Ｃ
： ２００Å
１０ｍＴｏｒｒ 基板加熱温度
２２０℃ 基板加熱時間
７分 各層膜厚
Ｃｒ：１５００Å
Ｃ
ｏ−Ｎｉ−Ｃｒ： ４５０Å
ＳｉＯ２ −Ｃ
： ２００Å
【００１３】次に、このＳｉＯ２ −Ｃの
保護層表面をＡｌ２ Ｏ３ ／ＴｉＣからなる硬質スラ
イダーの磁気ヘッドを用い、０．１２５ μｍ浮上させ
てヘッド・パニッシュ処理を行なう。その後、このＳｉ
Ｏ２ −Ｃの保護層上にフロロカーボン系の液体潤滑剤
を浸漬法で塗布して、膜厚１５Åの液体潤滑層を形成し
て媒体とした。
保護層表面をＡｌ２ Ｏ３ ／ＴｉＣからなる硬質スラ
イダーの磁気ヘッドを用い、０．１２５ μｍ浮上させ
てヘッド・パニッシュ処理を行なう。その後、このＳｉ
Ｏ２ −Ｃの保護層上にフロロカーボン系の液体潤滑剤
を浸漬法で塗布して、膜厚１５Åの液体潤滑層を形成し
て媒体とした。
【００１４】このようにして作製した媒体について、媒
体表面の潤滑性能および突起品質を評価した。表面粗さ
には種々の規定の仕方があり、次に示す評価量が媒体表
面としては有効であるが、それぞれが交絡しながら重要
な意味を持つため、一つの評価量のみで表面粗さを特定
するには無理がある。したがって、ここでは次の三つの
評価量の値を勘案している。
体表面の潤滑性能および突起品質を評価した。表面粗さ
には種々の規定の仕方があり、次に示す評価量が媒体表
面としては有効であるが、それぞれが交絡しながら重要
な意味を持つため、一つの評価量のみで表面粗さを特定
するには無理がある。したがって、ここでは次の三つの
評価量の値を勘案している。
【００１５】
Ｒａ ：ＪＩＳに「中心線平均粗さ」として規定されて
いるもので、表面の平均的な粗さを示す一般的な量。
いるもので、表面の平均的な粗さを示す一般的な量。
【００１６】
Ｒｍａｘ ：ＪＩＳに「最大高さ」として規定されてい
るもので、表面の突起品質に関係する量。
るもので、表面の突起品質に関係する量。
【００１７】
ΔＣｖ （１０ ％−１％） ：相対負荷曲線の相対負
荷長さ１０％におけるカッティング深さから、相対負荷
長さ１％におけるカッティング深さを差し引いた量で、
表面の凹凸の中でも突起品質に関係する量。
荷長さ１０％におけるカッティング深さから、相対負荷
長さ１％におけるカッティング深さを差し引いた量で、
表面の凹凸の中でも突起品質に関係する量。
【００１８】潤滑性能は、磁気ヘッドが浮上しない程度
の低速で媒体を回転させ、一種の加速試験として磁気ヘ
ッドを媒体上で摺動させる摺動摩擦摩耗試験を行なった
ときの摩擦係数により評価した。このとき、磁気ヘッド
はＡｌ２ Ｏ３ ／ＴｉＣからなる硬質スライダーの磁
気ヘッドを用いた。また、突起品質はＧＨＴ （グライ
ド・ハイト・テスト） で突起個数をカウントすること
により評価した。磁気ヘッドの浮上量は０．１ μｍで
ある。
の低速で媒体を回転させ、一種の加速試験として磁気ヘ
ッドを媒体上で摺動させる摺動摩擦摩耗試験を行なった
ときの摩擦係数により評価した。このとき、磁気ヘッド
はＡｌ２ Ｏ３ ／ＴｉＣからなる硬質スライダーの磁
気ヘッドを用いた。また、突起品質はＧＨＴ （グライ
ド・ハイト・テスト） で突起個数をカウントすること
により評価した。磁気ヘッドの浮上量は０．１ μｍで
ある。
【００１９】以上による評価結果を表１に示す。表１は
ヘッド・バニッシュ処理前後の媒体各５個について、Ｓ
ｉＯ２ −Ｃ保護膜のＣ添加量を変えたときの媒体表面
粗さとともに、潤滑性能， 突起品質に対応するよう総
合的な評価を示す表として示してある。総合評価の○は
良好、Δは実用上問題なく、×は不可であることを表わ
す。
ヘッド・バニッシュ処理前後の媒体各５個について、Ｓ
ｉＯ２ −Ｃ保護膜のＣ添加量を変えたときの媒体表面
粗さとともに、潤滑性能， 突起品質に対応するよう総
合的な評価を示す表として示してある。総合評価の○は
良好、Δは実用上問題なく、×は不可であることを表わ
す。
【００２０】
【表１】
【００２１】表１からヘッド・バニッシュ処理後は、Ｃ
添加量が５〜２０原子％の範囲の媒体が好適であるが、
Ｃ添加量が３〜２０原子％の範囲で、実用上問題のない
潤滑性能， 突起品質が得られることがわかる。また、
ヘッド・バニッシュ処理後における媒体表面粗さは、Ｒ
ａ が２０〜４０Å， 最大高さＲｍａｘ が５００
〜７００ Å、ΔＣｖ （１０％−１％） が８０〜１
２０ Åのとき最も良好であるが、Ｒａ が２０〜６０
Å， Ｒｍａｘ が５００ 〜８５０ Å， ΔＣｖ
（１０ ％−１％） が８０〜１５０ Åであれば、実
用上問題のない潤滑性能， 突起品質が得られる。これ
らのことから、本発明により、良好な突起品質を持ち、
硬質スライダーの磁気ヘッドによるＣＳＳにおいて優れ
た耐摩耗性，潤滑性を発揮し、磁気ヘッドの低浮上走行
に対応して十分に高密度記録の可能な磁気記録媒体を得
ることができた。
添加量が５〜２０原子％の範囲の媒体が好適であるが、
Ｃ添加量が３〜２０原子％の範囲で、実用上問題のない
潤滑性能， 突起品質が得られることがわかる。また、
ヘッド・バニッシュ処理後における媒体表面粗さは、Ｒ
ａ が２０〜４０Å， 最大高さＲｍａｘ が５００
〜７００ Å、ΔＣｖ （１０％−１％） が８０〜１
２０ Åのとき最も良好であるが、Ｒａ が２０〜６０
Å， Ｒｍａｘ が５００ 〜８５０ Å， ΔＣｖ
（１０ ％−１％） が８０〜１５０ Åであれば、実
用上問題のない潤滑性能， 突起品質が得られる。これ
らのことから、本発明により、良好な突起品質を持ち、
硬質スライダーの磁気ヘッドによるＣＳＳにおいて優れ
た耐摩耗性，潤滑性を発揮し、磁気ヘッドの低浮上走行
に対応して十分に高密度記録の可能な磁気記録媒体を得
ることができた。
【００２２】以上の実施例では、保護層への添加元素と
してＣを用いた場合で説明したが、この添加元素はＣに
限ることなく、その他Ａｌ， Ｃｕ，Ｃｒ， Ａｇ，
Ｐｔ， Ａｕのうちの少なくとも一つを、添加量の合計
が３〜２０原子％の範囲となるように加えても、上記と
同様の結果を得ることが確認されている。また、保護層
の基材であるＳｉＯ２ についても、ＺｒＯ２ など他
の酸化物でもよく、保護層の基材としてはＳｉ３ Ｎ４
等の窒化物を使用しても有効であり、上記と同様の結
果が得られる。
してＣを用いた場合で説明したが、この添加元素はＣに
限ることなく、その他Ａｌ， Ｃｕ，Ｃｒ， Ａｇ，
Ｐｔ， Ａｕのうちの少なくとも一つを、添加量の合計
が３〜２０原子％の範囲となるように加えても、上記と
同様の結果を得ることが確認されている。また、保護層
の基材であるＳｉＯ２ についても、ＺｒＯ２ など他
の酸化物でもよく、保護層の基材としてはＳｉ３ Ｎ４
等の窒化物を使用しても有効であり、上記と同様の結
果が得られる。
【００２３】さらに本発明では、Ｃ， Ａｌ， Ｃｕ，
Ｃｒ， Ａｇ， Ｐｔ， Ａｕのうちの少なくとも一
つの元素が、保護層形成時にターゲツト中に含まれるか
ら、保護層の基材が酸化物， 窒化物の如何にかかわら
ず、ＤＣスパッタ法により成膜が可能となる。したがっ
て、本発明の媒体は磁性層と保護層を連続成膜した場合
でも、安定な磁気特性を有する磁性層と、安定した膜組
成とヘッド・バニッシュ特性を持つ保護層が得られるこ
とから、高い量産性が実現されるという利点もある。
Ｃｒ， Ａｇ， Ｐｔ， Ａｕのうちの少なくとも一
つの元素が、保護層形成時にターゲツト中に含まれるか
ら、保護層の基材が酸化物， 窒化物の如何にかかわら
ず、ＤＣスパッタ法により成膜が可能となる。したがっ
て、本発明の媒体は磁性層と保護層を連続成膜した場合
でも、安定な磁気特性を有する磁性層と、安定した膜組
成とヘッド・バニッシュ特性を持つ保護層が得られるこ
とから、高い量産性が実現されるという利点もある。
【００２４】
【発明の効果】この発明によれば、強磁性合金薄膜磁性
層上に、スパッタ法で成膜したＣ， Ａｌ， Ｃｕ，
Ｃｒ， Ａｇ， Ｐｔ， Ａｕのうちの少なくとも一つ
の元素が適当な添加量で含まれる酸化膜または窒化膜の
保護層と、さらにその上に液体潤滑層を備え、ヘッド・
バニッシュ処理を施して適切な表面粗さを持つように磁
気記録媒体を構成したために、硬質スライダーの磁気ヘ
ッドによるＣＳＳにおいても優れた耐摩耗性， 潤滑性
を示し、また、突起品質も良好であり、磁気ヘッドの低
浮上走行にも対応することが可能な高密度記録媒体とし
ての有用性が大きい。この磁気記録媒体を用いることに
より、固定磁気ディスク装置の大容量化， 小型化が実
現される。
層上に、スパッタ法で成膜したＣ， Ａｌ， Ｃｕ，
Ｃｒ， Ａｇ， Ｐｔ， Ａｕのうちの少なくとも一つ
の元素が適当な添加量で含まれる酸化膜または窒化膜の
保護層と、さらにその上に液体潤滑層を備え、ヘッド・
バニッシュ処理を施して適切な表面粗さを持つように磁
気記録媒体を構成したために、硬質スライダーの磁気ヘ
ッドによるＣＳＳにおいても優れた耐摩耗性， 潤滑性
を示し、また、突起品質も良好であり、磁気ヘッドの低
浮上走行にも対応することが可能な高密度記録媒体とし
ての有用性が大きい。この磁気記録媒体を用いることに
より、固定磁気ディスク装置の大容量化， 小型化が実
現される。
Claims (4)
- 【請求項１】非磁性基板上にスパッタ法で成膜した強磁
性合金薄膜磁性層と、この磁性層上に形成した保護層，
液体潤滑層を有する磁気記録媒体において、前記保護層
はスパッタ法で形成した酸化物または窒化物に、添加元
素としてＣ，Ａｌ，Ｃｕ，Ｃｒ，Ａｇ，Ｐｔ，Ａｕのう
ちの少なくとも一つを含むことを特徴とする磁気記録媒
体。 - 【請求項２】請求項１記載の磁気記録媒体において、保
護層に含まれる添加元素は総量で３〜２０原子％である
ことを特徴とする磁気記録媒体。 - 【請求項３】請求項１または２記載の磁気記録媒体にお
いて、ヘッド・バニッシュ処理後の保護層の表面粗さＲ
ａ が２０〜６０Å， 最大高さＲｍａｘ が ５００
〜８５０Å， 相対負荷曲線の相対負荷長さ１０％にお
けるカッティング深さから相対負荷長さ１％におけるカ
ッティング深さを差し引いた値ΔＣｖ （１０ ％−１
％） が８０〜１５０ Åであることを特徴とする磁気
記録媒体。 - 【請求項４】請求項１ないし３記載の磁気記録媒体にお
いて、磁性層と保護層とをいずれもＤＣスパッタ法を用
いて連続成膜したことを特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40207090A JPH04216319A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP40207090A JPH04216319A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04216319A true JPH04216319A (ja) | 1992-08-06 |
Family
ID=18511878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP40207090A Pending JPH04216319A (ja) | 1990-12-14 | 1990-12-14 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04216319A (ja) |
-
1990
- 1990-12-14 JP JP40207090A patent/JPH04216319A/ja active Pending
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