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JPH0416040B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0416040B2
JPH0416040B2 JP18109085A JP18109085A JPH0416040B2 JP H0416040 B2 JPH0416040 B2 JP H0416040B2 JP 18109085 A JP18109085 A JP 18109085A JP 18109085 A JP18109085 A JP 18109085A JP H0416040 B2 JPH0416040 B2 JP H0416040B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
holes
ceramic
wiring board
multilayer wiring
insulating material
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP18109085A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS6242598A (en
Inventor
Akira Enomoto
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibiden Co Ltd filed Critical Ibiden Co Ltd
Priority to JP18109085A priority Critical patent/JPS6242598A/en
Publication of JPS6242598A publication Critical patent/JPS6242598A/en
Publication of JPH0416040B2 publication Critical patent/JPH0416040B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、セラミツク多層配線板およびその製
造方法に関するものであり、特にハイブリツト
ICおよびLSIを実装するのに適したセラミツク多
層配線板とその製造方法に関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a ceramic multilayer wiring board and a method for manufacturing the same, and in particular to a ceramic multilayer wiring board and a method for manufacturing the same.
The present invention relates to a ceramic multilayer wiring board suitable for mounting ICs and LSIs, and a method for manufacturing the same.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、電子技術の進歩にともない電子機器に対
する高密度化あるいは演算機能の高速化が進めら
れている。その結果、配線板においても高密度化
を目的とし、配線回路が多層に形成されたセラミ
ツク多層配線板が使用されている。
2. Description of the Related Art In recent years, as electronic technology has progressed, electronic devices have been made to have higher densities and faster calculation functions. As a result, ceramic multilayer wiring boards, in which wiring circuits are formed in multiple layers, are being used for the purpose of increasing the density of wiring boards.

前記セラミツク多層配線板としては、厚膜多層
法によるもの、グリーンシート積層法によつて製
作されるものおよび特開昭55−133597号公報に記
載されている如く「セラミツク基板上に導体回路
パターンを形成して得た回路板の複数枚を、電記
絶縁性かつ熱伝導性接着剤層を介して積層し接着
してなる多層配線回路板」などが知られている。
The ceramic multilayer wiring board is manufactured by a thick film multilayer method, a green sheet lamination method, and a method in which a conductive circuit pattern is formed on a ceramic substrate as described in Japanese Patent Application Laid-open No. 133597/1983. A "multilayer wiring circuit board" is known, in which a plurality of circuit boards obtained by forming the circuit board are laminated and bonded via an electrically insulating and thermally conductive adhesive layer.

〔発明が解決しようとする問題点〕[Problem that the invention seeks to solve]

しかしながら、前記厚膜多層法によつて製造さ
れる多層配線板は印加される配線回路の厚みに基
因する凹凸が生ずるため、積層数が余り多くなる
と厚膜を印刷することが困難であり、通常3〜4
層までが限界で高密度化には適さない。また、前
記グリーンシート積層法によつて製造されるセラ
ミツク多層配線板ほ焼成収縮の制御などが困難で
あり、寸法が悪く、かつ歩留りが低いという問題
がある。前記特開昭55−133597号公報に記載のセ
ラミツク多層配線板は、各基板毎にグリーンシー
トを打抜くための金型を製作するか、セラミツク
基板に炭酸ガスレーザを用いて孔をあける必要が
あるため、コストが極めて高くなる欠点があるば
かりでなく、貫通スルーホール部を塞いでいる接
着剤層をレーザによつて穴をあけることが記載さ
れているが、このような方法ではスルーホール部
の接着剤を確実に除去することは困難であり、多
層配線板で最も重要なスルーホール内の導体と各
基板上の内層回路と接続が不良となり易く信頼性
に欠けるという問題点があつた。
However, since the multilayer wiring board manufactured by the thick film multilayer method has unevenness due to the thickness of the applied wiring circuit, it is difficult to print a thick film when the number of laminated layers is too large. 3-4
It is not suitable for high density because it has a limit of up to layers. Furthermore, it is difficult to control firing shrinkage of ceramic multilayer wiring boards manufactured by the green sheet lamination method, resulting in poor dimensions and low yields. The ceramic multilayer wiring board described in JP-A-55-133597 requires the production of a mold for punching out green sheets for each board, or the need to drill holes in the ceramic board using a carbon dioxide laser. Therefore, not only does it have the disadvantage of extremely high costs, but it is also described that the adhesive layer that covers the through-hole part is used to make a hole using a laser, but such a method It is difficult to remove the adhesive reliably, and the connection between the conductor in the through hole, which is the most important part of a multilayer wiring board, and the inner layer circuit on each board is likely to become defective, resulting in a lack of reliability.

〔問題点を解決するための手段〕[Means for solving problems]

本発明は、前記従来のセラミツク多層配線板お
よびその製造方法が有する問題点を解決したセラ
ミツク多層配線板とその製造方法を提供すること
を目的とするものであつて、特許請求の範囲に記
載のセラミツク多層配線板とその製造方法を提供
することによつて前記目的を達成することができ
る。
An object of the present invention is to provide a ceramic multilayer wiring board and a method for manufacturing the same that solve the problems of the conventional ceramic multilayer wiring board and method for manufacturing the same. The above object can be achieved by providing a ceramic multilayer wiring board and a method for manufacturing the same.

本発明者は、前記の如く諸問題点を解決すべく
種々研究した結果、所定のピツチ間隔の規則性に
より配設された複数個の孔を有し、かつ前記複数
個の孔のうちから選ばれるいずれか少なくとも1
部の孔には電気絶縁材料が充填されているセラミ
ツク基板が、それぞれ配設された孔の位置が対応
するように接着剤により複数枚積層された多層板
であつて、前記多層板の前記電気絶縁材料が充填
された孔のうちから選ばれるいずれか少なくとも
1部の孔を貫通するように開孔されてなるスルー
ホールならびにそれぞれのセラミツク基板上に導
体回路が形成されてなるセラミツク多層配線板と
その製造方法によつて、前記諸問題点を一挙に解
決することができることに想到して本発明を完成
したものである。
As a result of various studies to solve the above-mentioned problems, the inventor of the present invention has discovered that the present inventor has a plurality of holes arranged with a regularity of predetermined pitch intervals, and that a hole is selected from among the plurality of holes. at least 1
A multilayer board in which a plurality of ceramic substrates each having a hole filled with an electrically insulating material are laminated with an adhesive so that the positions of the holes correspond to each other, and A ceramic multilayer wiring board comprising through holes formed so as to penetrate at least one part of the holes selected from among the holes filled with an insulating material, and a conductor circuit formed on each ceramic substrate. The present invention was completed based on the idea that the above-mentioned problems could be solved all at once by the manufacturing method.

以下、本発明を詳細に説明する。 The present invention will be explained in detail below.

本発明の多層配線板を構成する個々のセラミツ
ク基板として、所定のピツチ間隔の規則性により
配設された複数個の孔を有し、かつ前記複数個の
孔のうちから選ばれるいずれか少なくとも1部の
孔には電気絶縁材料が充填されているセラミツク
基板を用いる。
Each ceramic substrate constituting the multilayer wiring board of the present invention has a plurality of holes arranged with a regularity of predetermined pitch intervals, and at least one selected from the plurality of holes A ceramic substrate is used in which the holes in the section are filled with an electrically insulating material.

一方、従来のスルーホールを有するセラミツク
基板は、グリーンシートの段階で目的とする箇所
にだけ専用の金型を用いて孔を打抜いた後、焼成
することにより製造されるので、配線回路の異な
る基板毎に専用の金型を製作して、この金型を用
いて孔の打抜き加工をする必要があるばかりでな
く、グリーンシートの焼成収縮状態によつて金型
の寸法や孔の配置を適宜設計変更する必要が生じ
る場合があつた。
On the other hand, conventional ceramic substrates with through-holes are manufactured by punching holes only in the desired locations using a special mold at the green sheet stage and then firing them. Not only is it necessary to create a special mold for each board and use this mold to punch out the holes, but it is also necessary to adjust the dimensions of the mold and the arrangement of the holes as appropriate depending on the state of shrinkage of the green sheet during firing. There were times when it was necessary to make design changes.

ところで、最近このような配線板においてはコ
ンピユータを使つて配線回路が設計されることが
多くなり、そのためスルーホールの位置および配
線パターンは一定の規則性をもつて設計される傾
向が強くなつている。したがつて、この規則性の
ある配線設計に対応して、あらかじめ所定のピツ
チ間隔で規則的に配設された複数個の孔を有する
セラミツク基板の孔のうち、配線回路のスルーホ
ールとして使用されない孔が電気絶縁材料で充填
されている本発明のセラミツク基板を使用するこ
とによつて、配線回路の異なる基板毎に専用の金
型を製作する必要がなくなり、規格化された汎用
の金型を使用することができ、しかも本発明のセ
ラミツク基板は所定のピツチ間隔の複数個の孔が
規則的に配設されているので焼成した状態で在庫
品として保有することができるため、スルーホー
ルが配設されたセラミツク多層配線板を極めて短
い納期で、かつ低コストで製造でき、金型や焼成
された基板の在庫管理も大幅に改善され、さらに
本発明のセラミツク基板は所定のピツチ間隔で規
則的に複数個の孔が配設されているため、焼成収
縮が均一となり高い寸法精度が得られるという多
くの特徴を有する。
By the way, recently, wiring circuits on such wiring boards are often designed using computers, and as a result, there is a strong tendency for through-hole positions and wiring patterns to be designed with a certain regularity. . Therefore, in response to this regular wiring design, among the holes of the ceramic substrate, which has a plurality of holes arranged regularly at predetermined pitch intervals, are not used as through holes for the wiring circuit. By using the ceramic substrate of the present invention in which the holes are filled with an electrically insulating material, it is no longer necessary to manufacture a special mold for each board with a different wiring circuit, and a standardized general-purpose mold can be used. Moreover, since the ceramic substrate of the present invention has a plurality of holes regularly arranged at a predetermined pitch interval, it can be kept as an inventory item in the fired state. The ceramic multilayer wiring board according to the present invention can be manufactured in an extremely short delivery time and at low cost, and the inventory management of molds and fired boards can be greatly improved. Since a plurality of holes are provided, the firing shrinkage becomes uniform and high dimensional accuracy can be obtained.

本発明のセラミツク基板は、108Ω−cm以上の
電気抵抗(体積抵抗率)を有することが好まし
い。その理由は、前記電気抵抗が108Ω−cmより
も低いとスルーホールの電気絶縁性を確保するた
めの絶縁化処理が必要となるので、工程が繁雑に
なるととともに高密度化が困難になるからであ
る。
The ceramic substrate of the present invention preferably has an electrical resistance (volume resistivity) of 10 8 Ω-cm or more. The reason is that if the electrical resistance is lower than 10 8 Ω-cm, insulation treatment is required to ensure the electrical insulation of the through holes, which makes the process complicated and makes it difficult to increase density. It is from.

本発明のセラミツク基板の材質は、アルミナ、
ベリリウム、ムライト、低温焼成セラミツク(ア
ルミナなどをベースに低融点成分を添加したり、
結晶化ガラスや結晶性セラミツクからなり、低温
で焼結させることのできるセラミツク)、チタン
酸バリウムなどの誘電体セラミツク、窒化アルミ
ニウム、炭化ケイ素などから選ばれる少なくとも
1種を使用することが好ましく、なかでもアルミ
ナ、低温焼成セラミツクおよび窒化アルミニウム
は諸特性のバランスがよく、グリーンシートで焼
成せることができ加工性と量産性に優れているた
め有利に使用することができる。
The material of the ceramic substrate of the present invention is alumina,
Beryllium, mullite, low-temperature fired ceramics (based on alumina, etc., with low melting point components added,
It is preferable to use at least one selected from the group consisting of crystallized glass and crystalline ceramic (ceramics that can be sintered at low temperatures), dielectric ceramics such as barium titanate, aluminum nitride, silicon carbide, etc. However, alumina, low-temperature fired ceramics, and aluminum nitride can be advantageously used because they have a good balance of properties, can be fired in green sheets, and are excellent in workability and mass production.

本発明のセラミツク基板に配設された複数個の
孔はスルーホールを形成するために所定のピツチ
間隔の規則性を有していることが必要であり、よ
り具体的には少なくとも何れかの方向に平行で所
定のピツチ間隔を有する線上に配設されているこ
とが好ましく、例えば第1図のA〜Fに示した如
き配置およびそれらの複合された配置とすること
ができ、孔の大きさを適宜変えることもできる。
特に複数個の孔のうちの大部分が第1図Aのよう
な正方格子状あるいは同図Cのような千鳥格子状
に配設されていると配線設計が容易で汎用性に優
れている。前記正方格子状のピツチ間隔としては
電子部品のリードのピツチ間隔である2.54mm
(100mil)あるいは1.27mm(50mil)にすることが
好ましい。
The plurality of holes arranged in the ceramic substrate of the present invention need to have a regularity of a predetermined pitch interval in order to form a through hole, and more specifically, it is necessary to have a regularity of a predetermined pitch interval. It is preferable that the holes be arranged on a line parallel to the hole and having a predetermined pitch interval.For example, the arrangement can be as shown in A to F in FIG. 1 or a combination thereof, and the size of the hole can be changed as appropriate.
In particular, if most of the holes are arranged in a square lattice pattern as shown in Figure 1A or in a houndstooth lattice pattern as shown in Figure 1C, wiring design is easy and the versatility is excellent. . The pitch spacing of the square grid is 2.54 mm, which is the pitch spacing of electronic component leads.
(100mil) or 1.27mm (50mil) is preferable.

本発明の多層配線板を構成する複数枚のセラミ
ツク基板にあつては、それぞれ配設された孔のう
ち多層板を貫通するように開孔される孔の配置は
同一である必要があり、かつその他の孔の配置に
ついても同一であることが好ましい。
In the case of the plurality of ceramic substrates constituting the multilayer wiring board of the present invention, the arrangement of the holes that are drilled through the multilayer board among the holes provided therein must be the same, and It is preferable that the arrangement of other holes is also the same.

本発明の多層配線板を構成する個々のセラミツ
ク基板にあつては、前記複数個の孔のうちから選
ばれるいずれか少なくとも1部の孔には電気絶縁
材料が充填されている。前記セラミツク基板に配
設された複数個の孔のうち、インナーバイアホー
ルやブラインドスルーホールが形成される孔につ
いては電気絶縁材料が充填されない場合がある
が、少なくとも積層された多層板を貫通するよう
に開孔される孔については電気絶縁材料が充填さ
れている。
In each ceramic substrate constituting the multilayer wiring board of the present invention, at least one selected from the plurality of holes is filled with an electrically insulating material. Among the plurality of holes arranged in the ceramic substrate, the holes in which inner via holes and blind through holes are formed may not be filled with an electrically insulating material, but the holes may not be filled with an electrically insulating material so as to at least penetrate the laminated multilayer board. The holes drilled in are filled with an electrically insulating material.

前記電気絶縁材料は、前記絶縁性、熱的特性お
よびスルーホール内への充填性などに優れた材料
であれば好適に使用でき、特に耐熱性樹脂、耐熱
性樹脂とフイラーの混合物、ガラスのなからら選
ばれるいずれか1種を使用することが好ましく、
前記耐熱性樹脂としては、例えばエポキシ樹脂、
耐熱エポキシ樹脂、エポキシ変性ポリイミド樹
脂、ポリイミド樹脂、フエノール樹脂、トリアジ
ン樹脂など、またフイラーとしては例えばアルミ
ナ、ベリリア、シリカ、ガラス、シリコンナイト
ライド、ボロンナイトライド、窒化アルミニウ
ム、炭化ケイ素などの粉末を有利に用いることが
でき、ガラスとしては市販されている誘電ペース
トを使用することが有利である。
The electrically insulating material can be suitably used as long as it has excellent insulation properties, thermal properties, and ability to fill through holes, and in particular, heat-resistant resins, mixtures of heat-resistant resins and fillers, glass, etc. It is preferable to use any one selected from
Examples of the heat-resistant resin include epoxy resin,
Heat-resistant epoxy resins, epoxy-modified polyimide resins, polyimide resins, phenolic resins, triazine resins, etc. Also, as fillers, powders such as alumina, beryllia, silica, glass, silicon nitride, boron nitride, aluminum nitride, silicon carbide, etc. are advantageous. It is advantageous to use a commercially available dielectric paste as the glass.

本発明のセラミツク多層配線板に用いる多層配
線板は、前記セラミツク基板がそれぞれ配設され
た孔の位置が対応するように接着剤により複数枚
積層された多層板である。前記セラミツク基板の
それぞれ配設された孔の位置が対応するように複
数枚積層されている理由は、多層板を貫通するス
ルーホールを例えばNC多軸ドリル加工機などを
用いて容易に削孔して開孔できるからである。
The multilayer wiring board used in the ceramic multilayer wiring board of the present invention is a multilayer board in which a plurality of the ceramic substrates are laminated with an adhesive so that the positions of the holes in which they are disposed correspond to each other. The reason why multiple ceramic substrates are stacked so that the positions of the holes correspond to each other is that through-holes penetrating the multilayer board can be easily drilled using, for example, an NC multi-axis drilling machine. This is because the hole can be opened by

前記接着剤は、電気絶縁性、熱的特性および接
着性などに優れた材料であれば好適に使用でき、
特に耐熱性樹脂を主体として使用することが好ま
しい。耐熱性樹脂としては、例えばエポキシ樹
脂、耐熱エポキシ樹脂、エポキシ変成ポリイミド
樹脂、ポリイミド樹脂、フエノール樹脂、トリア
ジン樹脂などを有利に使用することができ、シリ
カ、アルミナ、ガラスなどの粉末からなる無機フ
イラーあるいはガラス繊維を耐熱性樹脂中に含有
させることができる。
The adhesive can be suitably used as long as it is a material with excellent electrical insulation, thermal properties, adhesive properties, etc.
In particular, it is preferable to use a heat-resistant resin as a main component. As the heat-resistant resin, for example, epoxy resin, heat-resistant epoxy resin, epoxy-modified polyimide resin, polyimide resin, phenol resin, triazine resin, etc. can be advantageously used, and inorganic filler made of powder of silica, alumina, glass, etc. Glass fibers can be incorporated into the heat-resistant resin.

本発明のセラミツク多層配線板は、前記多層板
の前記電気絶縁材料が充填された孔のうちから選
ばれるいずれか少なくとも1部の孔を貫通するよ
うに開孔されてなるスルーホールならびにそれぞ
れのセラミツク基板上に導体回路が形成されたも
のである。その理由は、前記電気絶縁材料が充填
された孔を貫通するように開孔することによつ
て、スルーホールの内壁面に内層の導体回路を確
実に露出させることができるため、例えばスルー
ホールメツキによる各基板上の導体回路との接続
の信頼性が著しく高い多層配線板が得られるから
である。
The ceramic multilayer wiring board of the present invention includes through-holes formed to penetrate through at least a portion of the holes selected from the holes filled with the electrically insulating material of the multilayer board, and each ceramic multilayer wiring board. A conductor circuit is formed on a substrate. The reason for this is that by drilling the hole through the hole filled with the electrically insulating material, the conductor circuit in the inner layer can be reliably exposed on the inner wall surface of the through hole. This is because a multilayer wiring board can be obtained in which the reliability of connection with conductor circuits on each board is extremely high.

前記セラミツク基板上に導体回路を形成する方
法としては、プリント配線板あるいはハイブリツ
トIC配線板で一般的に行なわれている各種の方
法を採用することができ、例えばメツキ法、金属
箔接着法、レジン系導体ペースト法、蒸着法、厚
膜導体ペースト法およびそれらの複合された方法
を利用することができる。従来のセラミツク配線
板に通常使用されている厚膜導体はシート抵抗が
高く、高周波伝送損失が大きく、フアインライン
性が低いため高密度化が難しく、さらにマイグレ
ーシヨンに対する注意を要するなどの問題がある
のに対して主としてメツキ法によれば前記厚膜導
体が有する諸問題を解決することができるため特
に有利に使用することができる。なおこのメツキ
法としてはテンテイング法、パネルパターン混合
法、フルアデイテイブ法、セミアデイテイブ法を
用い、その他に導体回路を形成する方法としては
マルチワイヤ法などを用いることもできる。
As a method for forming a conductor circuit on the ceramic substrate, various methods commonly used for printed wiring boards or hybrid IC wiring boards can be adopted, such as plating method, metal foil bonding method, resin method, etc. A system conductor paste method, a vapor deposition method, a thick film conductor paste method, and a combination thereof can be used. Thick-film conductors commonly used in conventional ceramic wiring boards have high sheet resistance, large high-frequency transmission loss, and low fine line properties, making it difficult to increase density, and furthermore, there are problems such as the need to be careful about migration. In contrast, the plating method can be used particularly advantageously because it can solve the problems associated with the thick film conductor. The plating method may be a tenting method, a panel pattern mixing method, a full additive method, or a semi-additive method, and a multi-wire method may also be used as a method for forming a conductive circuit.

次に本発明のセラミツク多層配線板の製造方法
を第2図および第3図によつて説明する。
Next, a method of manufacturing a ceramic multilayer wiring board according to the present invention will be explained with reference to FIGS. 2 and 3.

第2図A〜Eは、複数個の孔が所定のピツチ間
隔の規則性をもつて配設されたセラミツク基板を
製作する工程;前記複数個の孔のうちから選ばれ
るいずれか少なくとも1部の孔を電気絶縁材料を
用いて充填する工程;前記セラミツク基板に導体
回路を形成する工程;前記導体回路を形成したセ
ラミツク基板の1枚もしくは複数枚を内層板と
し、前記電気絶縁材料が充填されたセラミツク基
板を両外層板として、それぞれ配設された孔の位
置が対応するように接着剤を用いて積層する工
程;前記積層された多層板の前記電気絶縁材料が
充填された孔のうちから選ばれるいずれか少なく
とも1部の孔を貫通するように開孔する工程;お
よび前記貫通された孔ならびに両外層基板上に導
体回路を形成する工程を経て製作されるセラミツ
ク多層配線板の製造方法に係る工程説明図であ
る。
2A to 2E show a process of manufacturing a ceramic substrate in which a plurality of holes are arranged with a regularity of a predetermined pitch; at least one selected from the plurality of holes; a step of filling the hole with an electrically insulating material; a step of forming a conductor circuit on the ceramic substrate; one or more of the ceramic substrates on which the conductor circuit has been formed is used as an inner layer plate, and the ceramic substrate is filled with the electrically insulating material. A process of laminating ceramic substrates as both outer layers using an adhesive so that the positions of the holes corresponding to each other; A method for manufacturing a ceramic multilayer wiring board manufactured through the steps of: forming a hole through at least one of the holes; and forming a conductor circuit on the through hole and both outer layer substrates. It is a process explanatory diagram.

第2図Aは複数個の孔2,2が所定のピツチ間
隔の規則性をもたせて配設されたセラミツク基板
1の断面図であり、このセラミツク基板の製作方
法としては種々の方法があり、例えばグリーンシ
ートに金型で孔を打抜き加工した後に焼成する方
法、孔を形成するための機構を有した金型を用い
て粉末プレスして焼成する方法、粉末プレス体を
ドリルで孔あけ加工した後に焼成する方法あるい
はあらかじめ焼成されたセラミツク板をCO2レー
ザ、超音波加工、ダイヤモンドドリルなどを用い
て孔あけ加工する方法などが適用できる。これら
のうち、グリーンシートに金型で孔を打抜き加工
した後に焼成する方法は量産性に優れているので
最も実用的である。
FIG. 2A is a cross-sectional view of a ceramic substrate 1 in which a plurality of holes 2, 2 are arranged with a regularity of predetermined pitch intervals, and there are various methods for manufacturing this ceramic substrate. For example, a method of punching holes in a green sheet with a mold and then firing it, a method of pressing powder using a mold with a mechanism for forming holes and firing it, and a method of drilling holes in a powder press body with a drill. A method in which the ceramic plate is fired later or a method in which holes are formed in a pre-fired ceramic plate using a CO 2 laser, ultrasonic processing, a diamond drill, etc. can be applied. Among these, the method of punching holes in the green sheet with a mold and then firing it is the most practical because it is excellent in mass production.

第2図Bは前記複数個の孔2のうちから選ばれ
るいずれか少なくとも1部の孔を電気絶縁材料3
で充填したセラミツク基板の断面図である。この
電気絶縁材料を所定の孔を充填する方法として
は、例えばスクリーン、メタルマスクあるいは感
光性ドライフイルムなどのマスクを用いて所定の
孔にのみ電気絶縁材料をスキージなどにより圧入
充填したり、ピンを用いた自動孔埋め機あるいは
厚膜用直接描画を使用して所定の孔にのみ電気絶
縁材料を充填する方法があり、また全ての孔に電
気絶縁材料を充填する場合には、前述した方法の
ほかに例えばマスクを使用せずに直接スキージで
圧入充填したり、ローラ式の孔埋め機を使用する
こともできる。なお、電気絶縁材料を充填しない
孔は、例えばインナーバイアホールやブラインド
スルーホールを形成したり、あるいは位置合せ用
ガイドピンを挿入する孔などとして利用すること
ができ、電気絶縁材料を充填した後に充填された
孔のうちから選ばれる少なくとも1部の孔を例え
ばドリルで削孔する方法などにより開孔してこれ
らの開孔された孔の前記目的のために利用するこ
ともできる。
FIG. 2B shows that at least one of the holes 2 selected from the plurality of holes 2 is connected to an electrically insulating material 3.
1 is a cross-sectional view of a ceramic substrate filled with Methods for filling predetermined holes with this electrically insulating material include, for example, using a mask such as a screen, metal mask, or photosensitive dry film, and press-fitting the electrically insulating material only into the predetermined holes with a squeegee or the like, or using a pin. There is a method of filling electrically insulating material only into predetermined holes using an automatic hole filling machine or direct writing for thick films.Also, when filling all holes with electrically insulating material, the method described above can be used. In addition, for example, it is also possible to directly press-fill with a squeegee without using a mask, or use a roller-type hole filling machine. Note that holes that are not filled with electrically insulating material can be used, for example, to form inner via holes or blind through holes, or as holes for inserting alignment guide pins, and can be filled after filling with electrically insulating material. It is also possible to drill at least some of the holes selected from the holes, for example by drilling, and use these drilled holes for the purpose described above.

前記孔2に充填された電気絶縁材料が、耐熱性
樹脂あるいは耐熱性樹脂とフイラーの混合物の場
合には約100〜300℃の温度で加熱硬化され、ガラ
スの場合には500℃以上に加熱して溶融固化され
る。セラミツク基板1の孔からはみ出した余分な
電気絶縁材料は研摩除去してセラミツク基板の表
面を平滑にしておくことが好ましい。
If the electrical insulating material filled in the holes 2 is a heat-resistant resin or a mixture of a heat-resistant resin and a filler, it is heated and hardened at a temperature of approximately 100 to 300°C, and in the case of glass, it is heated to a temperature of 500°C or higher. It is melted and solidified. It is preferable that the excess electrically insulating material protruding from the holes of the ceramic substrate 1 be removed by polishing to make the surface of the ceramic substrate smooth.

第2図Cは導体回路4を形成したセラミツク基
板の断面図である。前に述べたセラミツク基板へ
導体回路を形成する方法のうち、無電解メツキし
てからエツチングする方法、銅箔を接着してから
エツチングする方法、あるいは無電解メツキで直
接導体回路を形成する方法は、シート抵抗が低く
かつフアインパターンが得られやすいため、本発
明のセラミツク多層配線板の導体回路の形成方法
としては特に有利である。前記無電解メツキとし
ては、無電解銅メツキ、無電解ニツケルメツキ、
無電解スズメツキ、無電解金メツキなどを挙げる
ことができ、それらを組合せたりあるいは無電解
メツキしてから電気メツキを行なうこともでき
る。
FIG. 2C is a sectional view of the ceramic substrate on which the conductor circuit 4 is formed. Among the methods mentioned above for forming conductor circuits on a ceramic substrate, there are three methods: electroless plating and then etching, bonding copper foil and then etching, and direct electroless plating to form conductor circuits. Since the sheet resistance is low and a fine pattern can be easily obtained, this method is particularly advantageous as a method for forming conductor circuits of the ceramic multilayer wiring board of the present invention. The electroless plating includes electroless copper plating, electroless nickel plating,
Examples include electroless tin plating and electroless gold plating, and they may be combined, or electroless plating may be followed by electroplating.

無電解メツキを施す場合には、無電解メツキと
セラミツク基板との密着性を向上させるために、
例えばセラミツク基板の表面を直接に物理的ある
いは化学的に粗化させるか、あるいは無電解メツ
キ用接着層を設けてその表面を粗化する方法を行
なうことが好ましい。特に本発明によれば耐熱性
樹脂とシリカ微粉の混合物を基板に塗布した後に
シリカ微粉を露出させてフツ化水素酸で溶解除去
して接着層の方面を粗化するか、耐熱性樹脂と予
め硬化処理された耐熱性樹脂微粉末からなる接着
層を形成し微粉末をクロム酸で溶解除去して接着
層の表面を粗化する方法を施すことは無電解メツ
キとの密着性との密着の信頼性を向上させること
ができるので好適である。なおセラミツク基板と
無電解メツキ用接着層との密着性を向上させるた
めに、基板表面を化学的あるいは物理的に粗化し
たり、カツプリング剤を用いて処理することもで
きる。
When applying electroless plating, in order to improve the adhesion between the electroless plating and the ceramic substrate,
For example, it is preferable to directly roughen the surface of the ceramic substrate physically or chemically, or to roughen the surface by providing an adhesive layer for electroless plating. In particular, according to the present invention, after applying a mixture of heat-resistant resin and silica fine powder to a substrate, the silica fine powder is exposed and dissolved and removed with hydrofluoric acid to roughen the adhesive layer, or the heat-resistant resin and fine silica powder are coated on the substrate in advance. Forming an adhesive layer made of hardened heat-resistant resin fine powder and roughening the surface of the adhesive layer by dissolving and removing the fine powder with chromic acid improves the adhesion with electroless plating. This is preferable because reliability can be improved. In order to improve the adhesion between the ceramic substrate and the adhesive layer for electroless plating, the surface of the substrate can be chemically or physically roughened or treated with a coupling agent.

なお、本発明において、このように導体回路が
形成されたセラミツク基板に、例えば印刷抵抗
体、メツキ抵抗体あるいは厚膜コンデンサを形成
したりすることも可能である。
In the present invention, it is also possible to form, for example, a printed resistor, a plated resistor, or a thick film capacitor on the ceramic substrate on which the conductive circuit is formed.

第2図Dは、前記半導体回路の形成されたセラ
ミツク基板を内層板として、第2図Bに示したセ
ラミツク基板を両外層板として、それぞれ配設さ
れた孔の位置が対応するように接着剤5を用いて
積層せしめた多層板の断面図である。セラミツク
基板のそれぞれ配設された孔の位置を対応させる
方法としては、セラミツク基板の端面を利用する
方法あるいはガイドピンを用いる方法などを挙げ
ることができる。
In FIG. 2D, the ceramic substrate on which the semiconductor circuit is formed is used as an inner layer plate, and the ceramic substrate shown in FIG. 2B is used as both outer layer plates. 5 is a sectional view of a multilayer board laminated using No. 5. As a method for making the positions of the holes arranged in the ceramic substrate correspond to each other, there are a method using the end face of the ceramic substrate, a method using a guide pin, and the like.

前記接着剤5としては、耐熱性樹脂を半硬化さ
せた接着シート、耐熱性樹脂をガラスクロスに含
浸したプリプレグなどを使用したり、液状の接着
剤を用いて前記セラミツク基板の接合させる側の
いずれかの面に塗布することができる。このよう
に主として耐熱性樹脂からなる接着剤を使用し、
積層プレスを用いて加熱圧着して多層板とするこ
とが好ましい。なお、前記導体回路の形成された
セラミツク基板は、積層する際して予め導体回路
の表面を例えば黒化処理などにより粗化して接着
性を向上させておくことが有利である。
As the adhesive 5, an adhesive sheet made of semi-cured heat-resistant resin, a prepreg made of glass cloth impregnated with heat-resistant resin, etc. may be used, or a liquid adhesive may be used to bond the ceramic substrates to each other. It can be applied to any surface. In this way, adhesives mainly made of heat-resistant resin are used,
It is preferable to heat and press the plate using a lamination press to form a multilayer board. Note that it is advantageous to roughen the surface of the conductive circuit in advance by, for example, blackening treatment, to improve adhesiveness of the ceramic substrate on which the conductive circuit is formed, before laminating the ceramic substrate.

第2図Eは、前記積層された多層板の前記電気
絶縁材料が充填された孔のうちから選ばれるいず
れか少なくとも1部の孔を貫通するように開孔し
てから、前記貫通された孔6ならびに両外層基板
上に導体回路7を形成したセラミツク多層配線板
の断面図である。前記電気絶縁材料が充填された
孔を貫通するスルーホールを開孔する方法として
は、NC多軸ドリル加工機を用いて削孔する方法
は孔の形状と位置精度がよく、生産性にも優れて
いるので有利である。また、前記貫通された孔な
らびに両外層基板上に導体回路を形成する方法と
しては、前述した如くの方法を利用することがで
きるが、なかでもメツキ法によれば内層回路なら
びに外層回路との高い接続の信頼性が得られるの
で特に有利に使用することができる。
FIG. 2E shows a method in which at least one hole selected from among the holes filled with the electrically insulating material of the laminated multilayer board is opened so as to pass through the hole, and then the through hole is opened. 6 is a sectional view of a ceramic multilayer wiring board in which conductor circuits 7 are formed on both outer layer substrates. As for the method of drilling a through hole that penetrates the hole filled with the electrically insulating material, the method of drilling the hole using an NC multi-axis drilling machine has good hole shape and positional accuracy, and is also excellent in productivity. It is advantageous because In addition, as a method for forming conductor circuits on the through holes and both outer layer substrates, the methods described above can be used, but among them, the plating method is used to form conductor circuits on the inner layer circuits and the outer layer circuits. It can be used particularly advantageously since it provides a reliable connection.

第3図A〜Eは、複数個の孔が所定のピツチ間
隔の規則性をもつて配設されたセラミツク基板を
製作する工程;前記複数個の孔のうちから選ばれ
るいずれか少なくとも1部の孔を電気絶縁材料を
用いて充填する工程;前記セラミツク基板に導体
回路を形成する工程;前記導体回路が形成された
複数枚のセラミツク基板を、それぞれ配設された
孔の位置が対応するように接着剤を用いて積層す
る工程;前記積層された多層板の前記電気絶縁材
料が充填された孔のうちから選ばれる少なくとも
1部の孔を貫通するように開孔する工程;および
前記貫通された孔に導体回路を形成する工程:を
経て製作されるセラミツク多層配線板の製造方法
に係る工程説明図である。
3A to 3E show a process of manufacturing a ceramic substrate in which a plurality of holes are arranged with a regularity of a predetermined pitch; at least one selected from the plurality of holes; a step of filling the holes with an electrically insulating material; a step of forming a conductor circuit on the ceramic substrate; a step of laminating using an adhesive; a step of opening holes so as to penetrate at least some of the holes selected from among the holes filled with the electrically insulating material of the laminated multilayer board; FIG. 2 is a process explanatory diagram of a method for manufacturing a ceramic multilayer wiring board manufactured through the step of forming a conductor circuit in a hole.

第3図Aは第2図Aと同様の複数個の孔2,2
が所定のピツチ間隔の規則性をもつて配設された
セラミツク基板1の断面図である。
Figure 3A shows a plurality of holes 2, 2 similar to Figure 2A.
FIG. 1 is a cross-sectional view of a ceramic substrate 1 in which ceramics are arranged with a regularity of a predetermined pitch interval.

第3図Bは第2図Bと同様に前記複数個の孔の
うちから選ばれるいずれか少なくとも1部の孔2
を電気絶縁材料3で充填し固化させてから基板1
を表面を研摩除去して平滑にしたセラミツク基板
1の断面図である。
Similar to FIG. 2B, FIG. 3B shows at least one hole 2 selected from the plurality of holes.
is filled with electrical insulating material 3 and solidified, and then the substrate 1
1 is a sectional view of a ceramic substrate 1 whose surface has been polished and smoothed.

第3図Cは、第2図Cと同様に前記セラミツク
基板に導体回路4を形成したセラミツク基板1の
断面図である。通常内層板とする基板には両面あ
るいは片面に導体回路4が形成され、外層板とす
る基板には片面に導体回路4が形成される。
FIG. 3C is a sectional view of the ceramic substrate 1 on which the conductive circuit 4 is formed on the ceramic substrate, similar to FIG. 2C. Usually, a conductor circuit 4 is formed on both sides or one side of a substrate used as an inner layer board, and a conductor circuit 4 is formed on one side of a substrate used as an outer layer board.

第3図Dは、前記導体回路が形成された複数枚
のセラミツク基板を、それぞれ配設された孔の位
置が対応するように接着剤5を用いて積層した多
層板の断面図である。
FIG. 3D is a cross-sectional view of a multilayer board in which a plurality of ceramic substrates on which the conductor circuits are formed are laminated using an adhesive 5 so that the positions of the holes correspond to each other.

第3図Eは、前記積層された多層板の前記電気
絶縁材料が充填された孔のうちから選ばれる少な
くとも1部の孔を貫通するように開孔してから、
前記貫通された孔6に導体回路を形成したセラミ
ツク多層配線板の断面図である。
FIG. 3E shows that after opening at least one hole selected from among the holes filled with the electrically insulating material of the laminated multilayer board,
FIG. 3 is a sectional view of a ceramic multilayer wiring board in which a conductive circuit is formed in the through hole 6. FIG.

なお、第2図Eと第3図Eに示したセラミツク
多層配線板は4層の導体回路を有するセラミツク
多層配線板であるが、内層板に形成する基板を複
数枚とすることによつて更に多層に導体回路を形
成させたセラミツク多層配線板を製造することが
できる。
The ceramic multilayer wiring boards shown in FIG. 2E and FIG. A ceramic multilayer wiring board with conductor circuits formed in multiple layers can be manufactured.

次に本発明を実施例によつて説明する。 Next, the present invention will be explained with reference to examples.

実施例 1 下記(1)〜(6)の工程によつてセラミツク多層配線
板を製作した。
Example 1 A ceramic multilayer wiring board was manufactured through the following steps (1) to (6).

(1) α−アルミナ微粉を主原料とするグリーンシ
ートを、規格された汎用金型を用いて孔の打抜
き加工してから焼成して、第1図Aに示すよう
な2.54mmピツチ間隔の格子状に1.2mmφの孔を
配設した96%アルミナ・セラミツク基板(外形
寸法50.8×50.8mm、厚さ0.635mm)を製作した。
(1) A green sheet made of α-alumina fine powder as the main raw material is punched with holes using a standardized general-purpose mold, and then fired to form a lattice with a pitch of 2.54 mm as shown in Figure 1A. A 96% alumina ceramic substrate (external dimensions 50.8 x 50.8 mm, thickness 0.635 mm) with 1.2 mmφ holes arranged in a shape was fabricated.

(2) 耐熱エポキシ樹脂(三井石油化学工業製、
TA−1850)固形分100重量部に、シランカツ
プリング処理した粒径1〜5μmのα−アルミ
ナ微粉300重量部を均一に分散した電気絶縁材
料を、メタルマスクを用いてスクリーン印刷機
でセラミツク基板の全ての孔に充填し、180℃
で20分間熱硬化させてから、孔からはみ出した
余分な電気絶縁材料を研摩除去して第2図Bに
示すようにセラミツク基板の表面を平滑にし
た。
(2) Heat-resistant epoxy resin (manufactured by Mitsui Petrochemical Industries, Ltd.)
TA-1850) An electrical insulating material made by uniformly dispersing 300 parts by weight of α-alumina fine powder with a particle size of 1 to 5 μm treated with silane coupling in 100 parts by weight of solid content is printed onto a ceramic substrate using a screen printing machine using a metal mask. Fill all pores of and heat to 180℃
After heat curing for 20 minutes, excess electrical insulating material protruding from the holes was removed by polishing to smooth the surface of the ceramic substrate as shown in FIG. 2B.

(3) 前記耐熱エポキシ樹脂固形分100重量部に対
して、シランカツプリング処理した粒径1〜
3μmのシリカ微粉80重量部を均一に混合した
無電解メツキ用接着剤を、ロールコーターを使
用してシランカツプリング処理したセラミツク
基板の表面に塗布した後、180℃で1時間加熱
硬化させて厚さ約8μmの無電解メツキ用接着
層を形成し、前記接着層の表面を軽く研摩して
から濃度25%フツ化水素酸水溶液に2分間浸漬
して前記接着層の表面を粗化した。このセラミ
ツク基板の表面にパラジウム触媒(SHIPLEY
社製、キヤタポジツト44)を付与して活性化さ
せ、厚付け用無電解銅メツキ液に浸漬してメツ
キ厚さ18μmのパネルメツキを行い、次いで感
光性ドラムフイルム(E・I・Du Pont製、リ
ストン1015)をエツチングレジストとして用い
て塩化第2銅エツチング液で銅メツキ膜の一部
をエツチングして内層の導体回路を形成した。
(3) Based on 100 parts by weight of the solid content of the heat-resistant epoxy resin, the particle size of the silane coupling treatment is 1 to 1.
An electroless plating adhesive uniformly mixed with 80 parts by weight of 3 μm fine silica powder was applied using a roll coater to the surface of a ceramic substrate treated with silane coupling, and then heated and cured at 180°C for 1 hour to form a thick layer. An adhesive layer for electroless plating with a thickness of approximately 8 μm was formed, and the surface of the adhesive layer was lightly polished and then immersed in a 25% aqueous solution of hydrofluoric acid for 2 minutes to roughen the surface of the adhesive layer. A palladium catalyst (SHIPLEY) is applied to the surface of this ceramic substrate.
The panel was plated with a plating thickness of 18 μm by immersing it in an electroless copper plating solution for thickening, and then using a photosensitive drum film (manufactured by E. 1015) as an etching resist, a part of the copper plating film was etched with a cupric chloride etching solution to form an inner layer conductor circuit.

(4) 工程(3)を経て作られたかつ銅メツキ表面を黒
化処理したセラミツク基板を内層板とし、耐熱
エポキシ樹脂をガラスクロスに含浸したプリプ
レグ(利晶工業製、厚さ80μm)を介して、工
程(2)を経て作られたセラミツク基板を両外層板
として重ね合せ、各基板の端面を基準とするこ
とによりそれぞれ配設された孔の位置を対応さ
せながら、積層プレスによつて温度170℃、圧
力20Kg/cm2の条件で60分間加熱圧着して第2図
Dに示すような多層板とした。
(4) The ceramic substrate made through step (3) and with a blackened copper plating surface is used as the inner layer, and a prepreg (manufactured by Risho Kogyo, 80 μm thick), which is made by impregnating glass cloth with heat-resistant epoxy resin, is used as the inner layer. Then, the ceramic substrates made through step (2) are stacked together as both outer layer plates, and the holes are placed in correspondence with each other by using the end faces of each substrate as a reference. A multilayer plate as shown in FIG. 2D was obtained by heat-pressing for 60 minutes at 170° C. and a pressure of 20 kg/cm 2 .

(5) 前記多層板の両表面に、工程(2)と同様にして
無電解メツキ用接着層を形成してから、多層板
の前記電気絶縁材料が充填された孔のうちの所
定の孔を、NC多軸ドリル加工機(Excellon
Automation社製、Mark V Driller)を用い
て0.8mmφのドリルで多層板を貫通するように
開孔してスルーホールを形成した。
(5) After forming an adhesive layer for electroless plating on both surfaces of the multilayer board in the same manner as in step (2), predetermined holes of the holes filled with the electrically insulating material of the multilayer board are filled. , NC multi-axis drilling machine (Excellon
A through hole was formed by drilling a hole through the multilayer board using a 0.8 mmφ drill using a Mark V Driller (manufactured by Automation).

(6) 前記スルーホールを形成した多層板に、工程
(3)と同様の方法で無電解銅メツキにより厚さ
18μmのパネルメツキしてから感光性ドライフ
イルムを用いてテンテイング法でエツチングし
て、貫通された孔ならびに両外層基板上に導体
回路を形成し、第2図Eのようなセラミツク多
層配線板を得た。
(6) A process is applied to the multilayer board in which the through holes are formed.
Thickness is increased by electroless copper plating in the same manner as (3).
After plating the panel with a thickness of 18 μm, etching was performed using a tenting method using a photosensitive dry film to form the through holes and conductor circuits on both outer layer substrates to obtain a ceramic multilayer wiring board as shown in Figure 2E. .

以上のようにして製作されたセラミツク多層配
線板は、温度サイクルテスト(MIL−STD−
202E107D Cond B)で多層回路の接続信頼性を
調べた結果、200サイクル後においても故障の発
生は認められず、高い信頼性を示した。
The ceramic multilayer wiring board manufactured as described above was subjected to a temperature cycle test (MIL-STD-
As a result of examining the connection reliability of the multilayer circuit using 202E107D Cond B), no failures were observed even after 200 cycles, indicating high reliability.

実施例 2 本実施例(1)〜(3)の工程は実施例1の(1)〜(3)の工
程と同様ではあるが、以下に示す(4)〜(6)工程を経
てセラミツク多層配線板を製作した。
Example 2 The steps (1) to (3) of this example are similar to the steps (1) to (3) of Example 1, but the ceramic multilayer is formed through the steps (4) to (6) shown below. I made a wiring board.

(4) 実施例1の工程(3)を経て作られた3枚のセラ
ミツク基板を用い、両面に導体回路を形成し銅
メツキ表面を黒化処理したセラミツク基板を内
層板とし、前記プリプレグを介して、片面の導
体回路を形成したセラミツク基板を両外層板と
して重ね合せ、それぞれ配設された孔の位置を
対応させながら積層プレスによつて前記条件で
加熱圧着して、第3図Dに示すような多層板と
した。
(4) Using three ceramic substrates made through step (3) of Example 1, a ceramic substrate with conductive circuits formed on both sides and blackened copper plating surfaces was used as an inner layer plate, and the prepreg was Then, the ceramic substrates with conductor circuits formed on one side were stacked together as both outer layer plates, and heated and pressed under the above conditions using a lamination press while matching the positions of the respective holes, as shown in FIG. 3D. It was made into a multilayer board like this.

(5) この多層板の前記電気絶縁材料が充填された
孔のうちの所定の孔を、前記多軸ドリル加工機
を用いて0.8mmφのドリルで多層板を貫通する
ように開孔してスルーホールを形成した。
(5) Use the multi-axis drilling machine to drill a predetermined hole of the multilayer board filled with the electrically insulating material so as to penetrate the multilayer board with a 0.8 mmφ drill. A hole was formed.

(6) 前記貫通された孔を形成した多層板に、アデ
イテイブ用感光性ドライフイルム(E.I.Dupont
社製、リストンT−168)をメツキレジストと
して用いて、無電解銅メツキで貫通された孔に
厚さ約18μmのスルーホールメツキを行なつ
て、第3図Dのようなセラミツク多層配線板を
製作した。
(6) Additive photosensitive dry film (EIDupont
Using Riston T-168 (manufactured by Co., Ltd.) as a plating resist, the holes penetrated by electroless copper plating were plated with a through-hole of about 18 μm in thickness to form a ceramic multilayer wiring board as shown in Figure 3D. Manufactured.

以上のように製作されたセラミツク多層配線板
は実施例1により製作された多層配線板と同様に
高い接続の信頼性が得られた。
The ceramic multilayer wiring board manufactured as described above had the same high connection reliability as the multilayer wiring board manufactured in Example 1.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上述べた如く、本発明のセラミツク多層配線
板は、従来のセラミツク多層配線板の如く配線回
路の異なる基板毎に専用の金型の製作する必要が
なくなり、規格化された汎用金型を使用すること
ができ、しかも本発明のセラミツク多層基板は所
定のピツチ間隔の複数個の孔が規則的に配設され
ているので焼成された状態で在庫品として保有で
きるため、スルーホールが配設されたセラミツク
多層配線板を極めて短い納期で、かつ低コストで
製造することができ、金型や焼成された基板の在
庫管理も大幅に改善される。
As described above, the ceramic multilayer wiring board of the present invention eliminates the need to manufacture a dedicated mold for each board with a different wiring circuit, unlike conventional ceramic multilayer wiring boards, and uses a standardized general-purpose mold. Moreover, since the ceramic multilayer substrate of the present invention has a plurality of holes regularly arranged at a predetermined pitch interval, it can be kept as an inventory item in the fired state. Ceramic multilayer wiring boards can be manufactured in an extremely short lead time and at low cost, and inventory management of molds and fired substrates can also be greatly improved.

さらに本発明のセラミツク多層配線板には上述
の如く多層配線板として最も重要である接続信頼
性の高い多層回路を形成させることができ、また
本発明によればパターン精度とフアインライン性
に優れた導体回路を高密度な多層配線板を高収率
で製作することができる。
Furthermore, the ceramic multilayer wiring board of the present invention can form a multilayer circuit with high connection reliability, which is the most important aspect of a multilayer wiring board, as described above. Multilayer wiring boards with high density conductor circuits can be manufactured with high yield.

このように利点から、本発明のセラミツク多層
配線板は高密度なハイブリツトIC配線板、LSIや
セラミツクパツケージを表面実装する配線板、大
型コンピユータ用配線板、納期の短いハイブリツ
トICの開発試作用配線板などの用途に適してお
り、産業上極めて有用である。
Due to these advantages, the ceramic multilayer wiring board of the present invention can be used as a high-density hybrid IC wiring board, a wiring board for surface mounting LSI or ceramic packages, a wiring board for large computers, and a hybrid IC development prototype wiring board with a short delivery time. It is suitable for applications such as, and is extremely useful industrially.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図A〜Fは本発明のセラミツク基板に設け
られる孔の配設状態の数例を示す平面図、第2図
A〜Eおよび3図A〜Eはそれぞれ本発明のセラ
ミツク多層配線板の製造工程を説明する断面図で
ある。 1……セラミツク基板、2……孔、3……電気
絶縁材料、4,7……導体回路、5……接着剤、
6……スルーホール。
FIGS. 1A to 1F are plan views showing several examples of the arrangement of holes provided in the ceramic substrate of the present invention, and FIGS. It is a sectional view explaining a manufacturing process. 1... Ceramic substrate, 2... Hole, 3... Electrical insulating material, 4, 7... Conductor circuit, 5... Adhesive,
6...Through hole.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 所定のピツチ間隔の規則性により配設された
複数個の孔を有し、かつ前記複数個の孔のうちか
ら選ばれるいずれか少なくとも1部の孔には電気
絶縁材料が充填されているセラミツク基板が、そ
れぞれ配設された孔の位置が対応するように接着
剤により複数枚積層された多層板であつて、前記
多層板の前記電気絶縁材料が充填された孔のうち
から選ばれていずれか少なくとも1部の孔を貫通
するように開孔されてなるスルーホールならびに
それぞれのセラミツク基板上に導体回路が形成さ
れてなるセラミツク多層配線板。 2 前記セラミツク基板の電気抵抗が108Ω−cm
以上である特許請求の範囲第1項記載の多層配線
板。 3 前記セラミツク基板の材質はアルミナ、ベリ
リア、ムライト、低温焼成セラミツク、窒化アル
ミニウム、炭化ケイ素のなかから選ばれる少なく
とも1種である特許請求の範囲第1あるいは第2
項記載の多層配線板。 4 前記複数個の孔のうち大部分の孔は格子状に
配置されている特許請求の範囲第1〜3項のいず
れかに記載の多層配線板。 5 前記電気絶縁材料は耐熱性樹脂、耐熱性樹脂
とフイラーの混合物、ガラスのなかから選ばれる
何れか1種の材料である特許請求の範囲第1〜4
項のいずれかに記載の多層配線板。 6 前記接着剤は主として耐熱性樹脂からなる特
許請求の範囲第1〜5項のいずれかに記載の多層
配線板。 7 前記導体回路は主としてメツキ法によつて形
成されてなる回路である特許請求の範囲第1〜6
項のいずれかに記載の多層配線板。 8 下記(イ)〜(ヘ)の工程を経て製作されるセラミツ
ク多層配線板の製造方法。 (イ) 複数個の孔が所定のピツチ間隔の規則性をも
つて配設されたセラミツク基板を製作する工
程; (ロ) 前記複数個の孔のうちから選ばれるいずれか
少なくとも1部の孔を電気絶縁材料を用いて充
填する工程; (ハ) 前記セラミツク基板に導体回路を形成する工
程; (ニ) 前記(ハ)工程を経て作られたセラミツク基板の
1枚もしくは複数枚を内層板とし、前記(ロ)工程
を経て作られたセラミツク基板を両外層板とし
て、それぞれ配設されている孔の位置が対応す
るように接着剤を用いて積層する工程; (ホ) 前記積層された多層板の前記電気絶縁材料が
充填された孔のうちから選ばれるいずれか少な
くとも1部の孔を貫通するように開孔する工
程; (ヘ) 前記貫通された孔ならびに両外層基板上に導
体回路を形成する工程。 9 下記(イ)〜(ヘ)の工程を経て製作されるセラミツ
ク多層配線板の製造方法。 (イ) 複数個の孔が所定のピツチ間隔の規則性をも
つて配設されたセラミツク基板を製作する工
程; (ロ) 前記複数個の孔のうちから選ばれるいずれか
少なくとも1部の孔を電気絶縁材料を用いて充
填する工程; (ハ) 前記セラミツク基板に導体回路を形成する工
程; (ニ) 前記導体回路が形成された複数枚のセラミツ
ク基板を、それぞれ配設されている孔の位置が
対応するように接着剤を用いて積層する工程; (ホ) 前記積層された多層板の前記電気絶縁材料が
充填された孔のうちから選ばれる少なくとも1
部の孔を貫通するように開孔する工程; (ヘ) 前記貫通された孔に導体回路を形成する工
程。
[Scope of Claims] 1. It has a plurality of holes arranged with regularity of predetermined pitch intervals, and at least one selected from the plurality of holes is made of an electrically insulating material. A multilayer board in which a plurality of ceramic substrates filled with the electrically insulating material are laminated with adhesive so that the positions of the holes in each board correspond to each other, and the holes in the multilayer board are filled with the electrically insulating material. A ceramic multilayer wiring board comprising through holes formed to penetrate at least one part of the holes selected from among them, and a conductor circuit formed on each ceramic substrate. 2 The electric resistance of the ceramic substrate is 10 8 Ω-cm
The multilayer wiring board according to claim 1, which is the above. 3. The material of the ceramic substrate is at least one selected from alumina, beryllia, mullite, low-temperature fired ceramic, aluminum nitride, and silicon carbide.
Multilayer wiring board as described in section. 4. The multilayer wiring board according to claim 1, wherein most of the holes among the plurality of holes are arranged in a grid pattern. 5. Claims 1 to 4, wherein the electrically insulating material is any one material selected from heat-resistant resin, a mixture of heat-resistant resin and filler, and glass.
The multilayer wiring board according to any one of paragraphs. 6. The multilayer wiring board according to any one of claims 1 to 5, wherein the adhesive is mainly made of a heat-resistant resin. 7 Claims 1 to 6, wherein the conductor circuit is a circuit formed mainly by a plating method.
The multilayer wiring board according to any one of paragraphs. 8. A method for manufacturing a ceramic multilayer wiring board manufactured through the steps (a) to (f) below. (b) A step of manufacturing a ceramic substrate in which a plurality of holes are arranged with regularity at a predetermined pitch interval; (b) A step of forming at least one hole selected from the plurality of holes. a step of filling with an electrically insulating material; (c) a step of forming a conductor circuit on the ceramic substrate; (d) using one or more of the ceramic substrates produced through the step (c) as an inner layer plate; A step of laminating the ceramic substrates produced through the above step (B) as both outer layer boards using an adhesive so that the positions of the respective holes correspond; (E) the laminated multilayer board; (f) forming a conductive circuit on the penetrated hole and both outer layer substrates; The process of doing. 9. A method for manufacturing a ceramic multilayer wiring board manufactured through the following steps (a) to (f). (b) A step of manufacturing a ceramic substrate in which a plurality of holes are arranged with regularity at a predetermined pitch interval; (b) A step of forming at least one hole selected from the plurality of holes. a step of filling with an electrically insulating material; (c) a step of forming a conductor circuit on the ceramic substrate; (d) a step of positioning a plurality of ceramic substrates on which the conductor circuits are formed, respectively, in holes in which they are disposed; (e) At least one hole selected from among the holes filled with the electrically insulating material of the laminated multilayer board.
(f) forming a conductor circuit in the through hole;
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